JPH11316178A - ガス評価装置及びガス評価方法 - Google Patents
ガス評価装置及びガス評価方法Info
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- JPH11316178A JPH11316178A JP5317499A JP5317499A JPH11316178A JP H11316178 A JPH11316178 A JP H11316178A JP 5317499 A JP5317499 A JP 5317499A JP 5317499 A JP5317499 A JP 5317499A JP H11316178 A JPH11316178 A JP H11316178A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 44
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 90
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 22
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 8
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 5
- 239000004566 building material Substances 0.000 abstract description 58
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 130
- 239000000463 material Substances 0.000 description 48
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 10
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 8
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- 238000010206 sensitivity analysis Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 2
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 229910001872 inorganic gas Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 被評価物の加工が不要であり、低コストで、
実際のガスの発生状況と同様の状況で被評価物からの発
生ガスを正確に評価することができるガス評価装置及び
ガス評価方法を提供する。 【解決手段】 チャンバ１を、外筒部２と内筒部３の二
重管で構成する。外筒部２及び内筒部３は下端部が開口
しており、内筒部３の下端部は外筒部２の下端部より内
側に位置している。建材４の表面の発生ガスを評価する
際には、チャンバ１を直接建材４の表面に配置する。外
筒部２の上部側面には清浄空気を供給する給気管６、内
筒部３の上部には内筒部３の空気を排気する排気管８が
取り付けられており、それぞれ給気バルブ５及び排気バ
ルブ７によって流量が調整される。
実際のガスの発生状況と同様の状況で被評価物からの発
生ガスを正確に評価することができるガス評価装置及び
ガス評価方法を提供する。 【解決手段】 チャンバ１を、外筒部２と内筒部３の二
重管で構成する。外筒部２及び内筒部３は下端部が開口
しており、内筒部３の下端部は外筒部２の下端部より内
側に位置している。建材４の表面の発生ガスを評価する
際には、チャンバ１を直接建材４の表面に配置する。外
筒部２の上部側面には清浄空気を供給する給気管６、内
筒部３の上部には内筒部３の空気を排気する排気管８が
取り付けられており、それぞれ給気バルブ５及び排気バ
ルブ７によって流量が調整される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、クリーンルーム等
を構成する材料から発生するガスを分析するためのガス
評価装置及びガス評価方法に関する。
を構成する材料から発生するガスを分析するためのガス
評価装置及びガス評価方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体製造工場その他のクリー
ンルームでは、壁、床、及び天井等の建築材料をはじ
め、多種多様な材料が使用されている。従来から、これ
らの材料から発生するガス（有機系ガス及び無機系ガ
ス）が、クリーンルームにおける化学汚染の発生源の１
つとして問題視されてきている。そのため、そのような
ガスの発生が少ない材料を選択するように、各材料から
発生するガスを分析及び評価する方法が研究されてい
る。
ンルームでは、壁、床、及び天井等の建築材料をはじ
め、多種多様な材料が使用されている。従来から、これ
らの材料から発生するガス（有機系ガス及び無機系ガ
ス）が、クリーンルームにおける化学汚染の発生源の１
つとして問題視されてきている。そのため、そのような
ガスの発生が少ない材料を選択するように、各材料から
発生するガスを分析及び評価する方法が研究されてい
る。
【０００３】そういったガスの評価方法としては、その
材料が使用される環境よりも減圧・加熱された環境を設
定することによって、材料から加速的にガスを発生さ
せ、そのガスを捕集して分析・評価する方法が多く用い
られている。その中で特に採用されているのが、スタテ
ィックヘッドスペース法(Static Headspace)とダイナミ
ックヘッドスペース法(Dynamic Headspace) である。
材料が使用される環境よりも減圧・加熱された環境を設
定することによって、材料から加速的にガスを発生さ
せ、そのガスを捕集して分析・評価する方法が多く用い
られている。その中で特に採用されているのが、スタテ
ィックヘッドスペース法(Static Headspace)とダイナミ
ックヘッドスペース法(Dynamic Headspace) である。
【０００４】スタティックヘッドスペース法とは、試料
を密閉容器内に収納し、その容器と共に試料を加熱し
て、試料から揮発したガスを密閉容器中の気相部と共に
捕集する方法である。この方法によれば、低沸点化合物
の高感度分析を容易に行うことができる。
を密閉容器内に収納し、その容器と共に試料を加熱し
て、試料から揮発したガスを密閉容器中の気相部と共に
捕集する方法である。この方法によれば、低沸点化合物
の高感度分析を容易に行うことができる。
【０００５】また、ダイナミックヘッドスペース法と
は、一般的には窒素やヘリウム等の不活性ガスからなる
キャリアガスによって通気し、それによって試料から発
生したガスを各種の捕集方法で捕集する方法である。こ
の方法でも、デシケータやチャンバ等の容器内に試料を
収納して、加熱による加速試験を行うことがある。この
ダイナミックヘッドスペース法によれば、有機系ガスの
みならず無機系ガスをも捕集することができ、高沸点化
合物の高感度分析が可能であると共に、捕集した時にガ
スを濃縮することが可能であるため、高感度分析が可能
である。
は、一般的には窒素やヘリウム等の不活性ガスからなる
キャリアガスによって通気し、それによって試料から発
生したガスを各種の捕集方法で捕集する方法である。こ
の方法でも、デシケータやチャンバ等の容器内に試料を
収納して、加熱による加速試験を行うことがある。この
ダイナミックヘッドスペース法によれば、有機系ガスの
みならず無機系ガスをも捕集することができ、高沸点化
合物の高感度分析が可能であると共に、捕集した時にガ
スを濃縮することが可能であるため、高感度分析が可能
である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のガス評価方法では、以下のような問題があっ
た。すなわち、施工後に材料を評価する場合、容器内に
収納可能な程度に材料を切断して試験体としなければな
らないという問題があった。そのため、この切断面から
発生するガスは実際に材料の表面から発生するガスとは
状況が一致せず、正確な評価を行うことができないとい
う問題があった。
た従来のガス評価方法では、以下のような問題があっ
た。すなわち、施工後に材料を評価する場合、容器内に
収納可能な程度に材料を切断して試験体としなければな
らないという問題があった。そのため、この切断面から
発生するガスは実際に材料の表面から発生するガスとは
状況が一致せず、正確な評価を行うことができないとい
う問題があった。
【０００７】また、上記各方法では、通常、材料が実際
に使用されている空間で測定することができないため、
実際のガスの発生状況を正確に評価することができなか
った。更に、シール・パッキン材等で装置内部を気密構
造とする必要があり、それらシール・パッキン材等から
発生するガスの影響をも考慮しなければならないという
問題があった。
に使用されている空間で測定することができないため、
実際のガスの発生状況を正確に評価することができなか
った。更に、シール・パッキン材等で装置内部を気密構
造とする必要があり、それらシール・パッキン材等から
発生するガスの影響をも考慮しなければならないという
問題があった。
【０００８】また、半導体製造工場において、材料から
発生するガスのウェハに対する影響を観測するためにウ
ェハ暴露実験を行う必要があるが、上記各方法では材料
を収納する容器内にウェハも収納することができないた
め、そのような実験を行うことができなかった。
発生するガスのウェハに対する影響を観測するためにウ
ェハ暴露実験を行う必要があるが、上記各方法では材料
を収納する容器内にウェハも収納することができないた
め、そのような実験を行うことができなかった。
【０００９】一方、材料を切断して容器内に収納するの
ではなく、クリーンルーム単位でガスを捕集し、実際的
な環境影響を把握するテストルーム法も知られている。
しかしながら、この方法では、実際の現場での測定が可
能であるが、コストがかかると共に、材料毎の評価が不
可能であるという問題があった。
ではなく、クリーンルーム単位でガスを捕集し、実際的
な環境影響を把握するテストルーム法も知られている。
しかしながら、この方法では、実際の現場での測定が可
能であるが、コストがかかると共に、材料毎の評価が不
可能であるという問題があった。
【００１０】本発明は、上記のような従来技術の問題点
を解決するために提案されたものであり、その目的は、
被評価物の切断等の加工が不要であり、低コストで、実
際のガスの発生状況と同様の状況で材料からの発生ガス
を正確に評価することができるガス評価装置及びガス評
価方法を提供することにある。
を解決するために提案されたものであり、その目的は、
被評価物の切断等の加工が不要であり、低コストで、実
際のガスの発生状況と同様の状況で材料からの発生ガス
を正確に評価することができるガス評価装置及びガス評
価方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
被評価物の表面に発生するガスを捕集して評価するガス
評価装置において、一端が開口し、内部にガスの捕集室
が形成されたチャンバと、前記チャンバ内に清浄空気を
供給する給気手段と、前記捕集室内の空気を排気する排
気手段と、前記給気手段によって供給される清浄空気の
流量と前記排気手段によって排気される空気の流量とを
調整する流量手段とを具備することを特徴としている。
被評価物の表面に発生するガスを捕集して評価するガス
評価装置において、一端が開口し、内部にガスの捕集室
が形成されたチャンバと、前記チャンバ内に清浄空気を
供給する給気手段と、前記捕集室内の空気を排気する排
気手段と、前記給気手段によって供給される清浄空気の
流量と前記排気手段によって排気される空気の流量とを
調整する流量手段とを具備することを特徴としている。
【００１２】請求項１記載の発明によれば、以下のよう
な作用が得られる。すなわち、チャンバの開口側を被評
価物の表面に設置し、チャンバの内部に清浄空気を供給
する。このとき、流量調整手段により、給気手段から供
給される清浄空気の流量が排気手段によって排気される
空気の流量より大であるように調整する。これにより、
清浄空気の一部はチャンバと被評価物の表面との間の隙
間から外部へ漏れ、これによって外部の空気がチャンバ
内に侵入しない。
な作用が得られる。すなわち、チャンバの開口側を被評
価物の表面に設置し、チャンバの内部に清浄空気を供給
する。このとき、流量調整手段により、給気手段から供
給される清浄空気の流量が排気手段によって排気される
空気の流量より大であるように調整する。これにより、
清浄空気の一部はチャンバと被評価物の表面との間の隙
間から外部へ漏れ、これによって外部の空気がチャンバ
内に侵入しない。
【００１３】従って、チャンバを被評価物の表面に設置
することができ、被評価物の表面から発生するガスを捕
集することができる。そのため、実際にガスが発生する
状況と同様の状況で発生ガスの評価を行うことができ
る。また、実際にその被評価物が使用されている場所で
ガスを捕集することができる。
することができ、被評価物の表面から発生するガスを捕
集することができる。そのため、実際にガスが発生する
状況と同様の状況で発生ガスの評価を行うことができ
る。また、実際にその被評価物が使用されている場所で
ガスを捕集することができる。
【００１４】また、清浄空気が外部に漏れることにより
外部の空気が侵入せず、チャンバ内部の気密性が不要で
あるため、チャンバと被評価物とを固定するためのシー
ル材やパッキン材等を設ける必要がない。そのため、そ
れらシール材やパッキン材等から発生するガスの影響を
受けることがない。
外部の空気が侵入せず、チャンバ内部の気密性が不要で
あるため、チャンバと被評価物とを固定するためのシー
ル材やパッキン材等を設ける必要がない。そのため、そ
れらシール材やパッキン材等から発生するガスの影響を
受けることがない。
【００１５】請求項２記載の発明は、被評価物の表面に
発生するガスを捕集して評価するガス評価装置におい
て、一端が開口した筒状の外筒部と、この外筒部の内側
に同軸方向に配置され、前記外筒部の開口側の端部が開
口した筒状の内筒部とを備え、前記内筒部内にガスの捕
集室が形成されたチャンバと、前記外筒部と内筒部との
間に形成される空間に清浄空気を供給する給気手段と、
前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記給気手
段によって供給される清浄空気の流量と前記排気手段に
よって排気される空気の流量とを調整する流量調整手段
とを具備し、前記内筒部の開口端に、前記外筒部と内筒
部との間の空間から前記捕集室内部に前記清浄空気を通
気する通気部が形成されていることを特徴としている。
発生するガスを捕集して評価するガス評価装置におい
て、一端が開口した筒状の外筒部と、この外筒部の内側
に同軸方向に配置され、前記外筒部の開口側の端部が開
口した筒状の内筒部とを備え、前記内筒部内にガスの捕
集室が形成されたチャンバと、前記外筒部と内筒部との
間に形成される空間に清浄空気を供給する給気手段と、
前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記給気手
段によって供給される清浄空気の流量と前記排気手段に
よって排気される空気の流量とを調整する流量調整手段
とを具備し、前記内筒部の開口端に、前記外筒部と内筒
部との間の空間から前記捕集室内部に前記清浄空気を通
気する通気部が形成されていることを特徴としている。
【００１６】請求項２記載の発明によれば、以下のよう
な作用が得られる。すなわち、外筒部及び内筒部の開口
側を被評価物の表面に設置し、外筒部と内筒部との間の
空間に清浄空気を供給する。このとき、流量調整手段に
より、給気手段から供給される清浄空気の流量が排気手
段によって排気される空気の流量より大であるように調
整する。そして、清浄空気は、上記空間から、内筒部の
開口側に形成された通気部を通って捕集室内部に流れ込
む。このとき、上記のように、供給される清浄空気の流
量が排気される空気の流量よりも大とするため、清浄空
気の一部は外筒部と被評価物の表面との間の隙間から外
部へ漏れ、これによって外部の空気がチャンバ内に侵入
しない。
な作用が得られる。すなわち、外筒部及び内筒部の開口
側を被評価物の表面に設置し、外筒部と内筒部との間の
空間に清浄空気を供給する。このとき、流量調整手段に
より、給気手段から供給される清浄空気の流量が排気手
段によって排気される空気の流量より大であるように調
整する。そして、清浄空気は、上記空間から、内筒部の
開口側に形成された通気部を通って捕集室内部に流れ込
む。このとき、上記のように、供給される清浄空気の流
量が排気される空気の流量よりも大とするため、清浄空
気の一部は外筒部と被評価物の表面との間の隙間から外
部へ漏れ、これによって外部の空気がチャンバ内に侵入
しない。
【００１７】そして、捕集室内部に流れ込んだ清浄空気
は、被評価物の表面近傍を通過する。このとき、被評価
物の表面近傍を通過する清浄空気の移動流に加え、ガス
捕集室の容積があることから、拡散により被評価物から
ガスが発生し、排気手段によって内筒部内部の空気とし
て排気される。
は、被評価物の表面近傍を通過する。このとき、被評価
物の表面近傍を通過する清浄空気の移動流に加え、ガス
捕集室の容積があることから、拡散により被評価物から
ガスが発生し、排気手段によって内筒部内部の空気とし
て排気される。
【００１８】一方、流量調整手段により、給気手段によ
る清浄空気の供給及び排気手段による排気を停止させ、
一定時間静置すると、被評価物からガスが発生して捕集
室内部の空間に拡散し、内部の気相と被評価物とがガス
の濃度平衡状態となる。この後、給気手段によって清浄
空気を供給し、排気手段によって捕集室内部の空気を排
気することにより、上記濃度平衡状態でのガスを捕集す
ることができる。
る清浄空気の供給及び排気手段による排気を停止させ、
一定時間静置すると、被評価物からガスが発生して捕集
室内部の空間に拡散し、内部の気相と被評価物とがガス
の濃度平衡状態となる。この後、給気手段によって清浄
空気を供給し、排気手段によって捕集室内部の空気を排
気することにより、上記濃度平衡状態でのガスを捕集す
ることができる。
【００１９】このように、本発明によれば、清浄空気を
通気して移動流及び濃度拡散により被評価物からガスを
発生させて捕集する方法と、被評価物と気相との濃度平
衡状態でのガスを捕集する方法との両方の方法を採用す
ることができる。
通気して移動流及び濃度拡散により被評価物からガスを
発生させて捕集する方法と、被評価物と気相との濃度平
衡状態でのガスを捕集する方法との両方の方法を採用す
ることができる。
【００２０】また、本発明によれば、チャンバを被評価
物の表面に設置することができ、被評価物の表面から発
生するガスを捕集することができる。そのため、実際に
ガスが発生する状況と同様の状況で発生ガスの評価を行
うことができる。また、実際にその被評価物が使用され
ている場所でガスを捕集することができる。
物の表面に設置することができ、被評価物の表面から発
生するガスを捕集することができる。そのため、実際に
ガスが発生する状況と同様の状況で発生ガスの評価を行
うことができる。また、実際にその被評価物が使用され
ている場所でガスを捕集することができる。
【００２１】また、清浄空気が外部に漏れることにより
外部の空気が侵入せず、チャンバ内部の気密性が不要で
あるため、チャンバと被評価物とを固定するためのシー
ル材やパッキン材等を設ける必要がない。そのため、そ
れらシール材やパッキン材等から発生するガスの影響を
受けることがない。
外部の空気が侵入せず、チャンバ内部の気密性が不要で
あるため、チャンバと被評価物とを固定するためのシー
ル材やパッキン材等を設ける必要がない。そのため、そ
れらシール材やパッキン材等から発生するガスの影響を
受けることがない。
【００２２】請求項３記載の発明によるガス評価装置
は、請求項２記載の発明において、前記通気部が、前記
内筒部の開口端が前記外筒部の開口端よりも軸方向の内
側に位置することによって形成されていることを特徴と
している。
は、請求項２記載の発明において、前記通気部が、前記
内筒部の開口端が前記外筒部の開口端よりも軸方向の内
側に位置することによって形成されていることを特徴と
している。
【００２３】請求項３記載の発明によれば、内筒部の開
口端が外筒部の開口端より内側に位置するため、チャン
バを被評価物の表面に設置した際に、外筒部のみが被評
価物の表面に接触し、内筒部は被評価物の表面に接触し
ない。すなわち、内筒部の開口端と被評価物の表面との
間に間隙が形成される。そのため、内筒部と外筒部との
間の空間から、この間隙を通って捕集室内部に清浄空気
が流れ込む。
口端が外筒部の開口端より内側に位置するため、チャン
バを被評価物の表面に設置した際に、外筒部のみが被評
価物の表面に接触し、内筒部は被評価物の表面に接触し
ない。すなわち、内筒部の開口端と被評価物の表面との
間に間隙が形成される。そのため、内筒部と外筒部との
間の空間から、この間隙を通って捕集室内部に清浄空気
が流れ込む。
【００２４】請求項４記載の発明によるガス評価装置
は、請求項１乃至３のいずれか１項記載の発明におい
て、前記給気手段が給気管を有し、前記排気手段が排気
管を有し、前記流量調整手段が、前記給気管を流れる清
浄空気の流量を調整する給気バルブと、前記排気手段を
流れる空気の流量を調整する排気バルブとからなること
を特徴としている。
は、請求項１乃至３のいずれか１項記載の発明におい
て、前記給気手段が給気管を有し、前記排気手段が排気
管を有し、前記流量調整手段が、前記給気管を流れる清
浄空気の流量を調整する給気バルブと、前記排気手段を
流れる空気の流量を調整する排気バルブとからなること
を特徴としている。
【００２５】請求項４記載の発明によれば、給気バルブ
と排気バルブとを制御することにより、清浄空気の流量
と排気される空気の流量とを調整し、外筒部と内筒部と
の圧力のバランスを制御することができる。また、給気
バルブと排気バルブとを全閉とすることにより、被評価
物と気相とのガスの濃度平衡状態におけるガスの捕集が
可能となる。
と排気バルブとを制御することにより、清浄空気の流量
と排気される空気の流量とを調整し、外筒部と内筒部と
の圧力のバランスを制御することができる。また、給気
バルブと排気バルブとを全閉とすることにより、被評価
物と気相とのガスの濃度平衡状態におけるガスの捕集が
可能となる。
【００２６】請求項５記載の発明によるガス評価装置
は、請求項１乃至４のいずれか１項記載の発明におい
て、前記チャンバが、透明のガラス製であることを特徴
としている。請求項５記載の発明によれば、チャンバの
外側にヒータ等の加熱手段を設置して被評価物の表面を
加熱することができるため、従来のように被評価物の裏
面等から加熱する必要がない。
は、請求項１乃至４のいずれか１項記載の発明におい
て、前記チャンバが、透明のガラス製であることを特徴
としている。請求項５記載の発明によれば、チャンバの
外側にヒータ等の加熱手段を設置して被評価物の表面を
加熱することができるため、従来のように被評価物の裏
面等から加熱する必要がない。
【００２７】請求項６記載の発明によるガス評価装置
は、請求項１乃至５のいずれか１項において、前記捕集
室内に加熱手段を組み込んだことを特徴としている。請
求項７記載の発明によるガス評価装置は、請求項２乃至
５のいずれか１項記載の発明において、前記内筒部の表
面に、前記捕集室内の物質が付着しないようにコーティ
ングを施したことを特徴としている。請求項６及び７記
載の発明によれば、例えば発生したガスが凝縮してチャ
ンバ又は内筒部の表面等に付着するといったことを防止
することができる。
は、請求項１乃至５のいずれか１項において、前記捕集
室内に加熱手段を組み込んだことを特徴としている。請
求項７記載の発明によるガス評価装置は、請求項２乃至
５のいずれか１項記載の発明において、前記内筒部の表
面に、前記捕集室内の物質が付着しないようにコーティ
ングを施したことを特徴としている。請求項６及び７記
載の発明によれば、例えば発生したガスが凝縮してチャ
ンバ又は内筒部の表面等に付着するといったことを防止
することができる。
【００２８】請求項８記載の発明によるガス評価装置
は、請求項１乃至７のいずれか１項において、前記チャ
ンバ、前記給気手段、前記排気手段、及び前記流量調整
手段を搭載した台車を具備し、前記台車は、前記チャン
バの開口側が自在に向きを変えることができるように該
チャンバを支持する支持手段と、前記チャンバを上下に
移動可能に支持する昇降手段とを備えたことを特徴とし
ている。
は、請求項１乃至７のいずれか１項において、前記チャ
ンバ、前記給気手段、前記排気手段、及び前記流量調整
手段を搭載した台車を具備し、前記台車は、前記チャン
バの開口側が自在に向きを変えることができるように該
チャンバを支持する支持手段と、前記チャンバを上下に
移動可能に支持する昇降手段とを備えたことを特徴とし
ている。
【００２９】請求項８記載の発明によれば、台車を移動
させ、昇降手段によってチャンバを上下に移動し、支持
手段によってチャンバの向きを変えることにより、壁
面、天井面等、あらゆる方向及び高さの被評価物につい
て評価することができる。また、台車を自動で運転する
ことにより、複数箇所の評価を効率よく行うことができ
る。
させ、昇降手段によってチャンバを上下に移動し、支持
手段によってチャンバの向きを変えることにより、壁
面、天井面等、あらゆる方向及び高さの被評価物につい
て評価することができる。また、台車を自動で運転する
ことにより、複数箇所の評価を効率よく行うことができ
る。
【００３０】請求項９記載の発明は、請求項１乃至８の
いずれか１項記載の発明において、赤外線を熱源とし、
前記被評価物を加熱して該被評価物からのガス発生を促
進する被評価物加熱手段を具備することを特徴としてい
る。請求項１０記載の発明は、請求項９記載の発明にお
いて、前記被評価物加熱手段が、赤外線ランプからなる
ことを特徴としている。請求項１１記載の発明は、請求
項９記載の発明において、前記被評価物加熱手段が、輻
射パネルからなることを特徴としている。
いずれか１項記載の発明において、赤外線を熱源とし、
前記被評価物を加熱して該被評価物からのガス発生を促
進する被評価物加熱手段を具備することを特徴としてい
る。請求項１０記載の発明は、請求項９記載の発明にお
いて、前記被評価物加熱手段が、赤外線ランプからなる
ことを特徴としている。請求項１１記載の発明は、請求
項９記載の発明において、前記被評価物加熱手段が、輻
射パネルからなることを特徴としている。
【００３１】請求項９、１０、又は１１記載の発明によ
れば、以下のような作用効果が得られる。すなわち、低
発ガス性の被評価物を用いる場合、または、従来の被評
価物で時間の経過によりガス発生量が減少してきた場合
であっても、捕集時間を短縮することができる。また、
赤外線を熱源とするため、被評価物の下部にホットプレ
ートを直接設置する等、直接熱エネルギーを入力する方
法のように、被評価物内部の物質の拡散に影響を与える
ことが無い。そのため、実際に被評価物が設置されてい
る状況を考慮して温度による脱ガス特性を検証する場
合、例えば、室内に加熱源がある状況で被評価物から発
生するガスを評価する場合等に、対応することができ
る。すなわち、実際に熱エネルギーが入力される場合と
同じ条件で、脱ガス特性を検証することが可能となる。
れば、以下のような作用効果が得られる。すなわち、低
発ガス性の被評価物を用いる場合、または、従来の被評
価物で時間の経過によりガス発生量が減少してきた場合
であっても、捕集時間を短縮することができる。また、
赤外線を熱源とするため、被評価物の下部にホットプレ
ートを直接設置する等、直接熱エネルギーを入力する方
法のように、被評価物内部の物質の拡散に影響を与える
ことが無い。そのため、実際に被評価物が設置されてい
る状況を考慮して温度による脱ガス特性を検証する場
合、例えば、室内に加熱源がある状況で被評価物から発
生するガスを評価する場合等に、対応することができ
る。すなわち、実際に熱エネルギーが入力される場合と
同じ条件で、脱ガス特性を検証することが可能となる。
【００３２】請求項１２記載の発明は、請求項９乃至１
１のいずれか１項記載の発明において、前記被評価物加
熱手段が、前記チャンバ自体に組み込まれていることを
特徴としている。請求項１３記載の発明は、請求項９乃
至１１のいずれか１項記載の発明において、前記被評価
物加熱手段が、前記チャンバの内部に設置されているこ
とを特徴としている。
１のいずれか１項記載の発明において、前記被評価物加
熱手段が、前記チャンバ自体に組み込まれていることを
特徴としている。請求項１３記載の発明は、請求項９乃
至１１のいずれか１項記載の発明において、前記被評価
物加熱手段が、前記チャンバの内部に設置されているこ
とを特徴としている。
【００３３】請求項１４記載の発明は、請求項９乃至１
１のいずれか１項記載の発明において、前記チャンバ
が、透明のガラス製であり、前記被評価物加熱手段が、
前記チャンバの外部に設置されていることを特徴として
いる。請求項１２、１３、又は１４記載の発明によれ
ば、簡単な構成で上述した請求項９、１０、又は１１記
載の発明による作用効果を得ることができる。
１のいずれか１項記載の発明において、前記チャンバ
が、透明のガラス製であり、前記被評価物加熱手段が、
前記チャンバの外部に設置されていることを特徴として
いる。請求項１２、１３、又は１４記載の発明によれ
ば、簡単な構成で上述した請求項９、１０、又は１１記
載の発明による作用効果を得ることができる。
【００３４】請求項１５記載の発明は、請求項９乃至１
４のいずれか１項記載の発明において、前記排気手段か
ら排気される前記捕集室内の空気を冷却する冷却手段を
具備することを特徴としている。請求項１５記載の発明
によれば、排気手段から排気された空気を冷却すること
により、温度が高いことによる捕集率の低下を防止する
ことができる。
４のいずれか１項記載の発明において、前記排気手段か
ら排気される前記捕集室内の空気を冷却する冷却手段を
具備することを特徴としている。請求項１５記載の発明
によれば、排気手段から排気された空気を冷却すること
により、温度が高いことによる捕集率の低下を防止する
ことができる。
【００３５】請求項１６記載の発明は、被評価物の表面
に発生するガスを捕集して評価するガス評価方法におい
て、一端が開口し、内部にガスの捕集室が形成されたチ
ャンバと、前記チャンバ内に清浄空気を供給する給気手
段と、前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記
給気手段によって供給される清浄空気の流量と前記排気
手段によって排気される空気の流量とを調整する流量調
整手段とを具備するガス評価装置を使用して、前記チャ
ンバの開口端側が前記被評価物の表面に接触するように
配置し、前記流量調整手段により、前記給気手段から供
給される清浄空気の流量が前記排気手段によって排気さ
れる空気の流量より大であるように調整することを特徴
としている。
に発生するガスを捕集して評価するガス評価方法におい
て、一端が開口し、内部にガスの捕集室が形成されたチ
ャンバと、前記チャンバ内に清浄空気を供給する給気手
段と、前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記
給気手段によって供給される清浄空気の流量と前記排気
手段によって排気される空気の流量とを調整する流量調
整手段とを具備するガス評価装置を使用して、前記チャ
ンバの開口端側が前記被評価物の表面に接触するように
配置し、前記流量調整手段により、前記給気手段から供
給される清浄空気の流量が前記排気手段によって排気さ
れる空気の流量より大であるように調整することを特徴
としている。
【００３６】請求項１６記載の発明によれば、以下のよ
うな作用が得られる。すなわち、捕集室内に送り込まれ
た清浄空気は、被評価物の表面近傍を通過する。このと
き、被評価物の表面近傍を通過する清浄空気の移動流に
加え、濃度拡散により被評価物からガスが発生し、排気
手段によってチャンバ内部の空気として排気される。
うな作用が得られる。すなわち、捕集室内に送り込まれ
た清浄空気は、被評価物の表面近傍を通過する。このと
き、被評価物の表面近傍を通過する清浄空気の移動流に
加え、濃度拡散により被評価物からガスが発生し、排気
手段によってチャンバ内部の空気として排気される。
【００３７】請求項１７記載の発明は、被評価物の表面
に発生するガスを捕集して評価するガス評価方法におい
て、一端が開口した筒状の外筒部と、この外筒部の内側
に同軸方向に配置され、前記外筒部の開口側の端部が開
口した筒状の内筒部とを備え、前記内筒部内にガスの捕
集室が形成されたチャンバと、前記外筒部と内筒部との
間に形成される空間に清浄空気を供給する給気手段と、
前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記給気手
段によって供給される清浄空気の流量と前記排気手段に
よって排気される空気の流量とを調整する流量調整手段
とを具備し、前記内筒部の開口端に、前記外筒部と内筒
部との間の空間から前記捕集室内部に前記清浄空気を通
気する通気部が形成されているガス評価装置を使用し
て、前記外筒部の開口端側が前記被評価物の表面に接触
するように前記チャンバを配置し、前記流量調整手段に
より、前記給気手段から供給される清浄空気の流量が前
記排気手段によって排気される空気の流量より大である
ように調整し、前記給気手段によって前記外筒部と内筒
部との間に形成される空間に清浄空気を供給することに
より該清浄空気を前記捕集室内に送り込み、前記排気手
段によって前記捕集室内の空気を排気することを特徴と
している。
に発生するガスを捕集して評価するガス評価方法におい
て、一端が開口した筒状の外筒部と、この外筒部の内側
に同軸方向に配置され、前記外筒部の開口側の端部が開
口した筒状の内筒部とを備え、前記内筒部内にガスの捕
集室が形成されたチャンバと、前記外筒部と内筒部との
間に形成される空間に清浄空気を供給する給気手段と、
前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記給気手
段によって供給される清浄空気の流量と前記排気手段に
よって排気される空気の流量とを調整する流量調整手段
とを具備し、前記内筒部の開口端に、前記外筒部と内筒
部との間の空間から前記捕集室内部に前記清浄空気を通
気する通気部が形成されているガス評価装置を使用し
て、前記外筒部の開口端側が前記被評価物の表面に接触
するように前記チャンバを配置し、前記流量調整手段に
より、前記給気手段から供給される清浄空気の流量が前
記排気手段によって排気される空気の流量より大である
ように調整し、前記給気手段によって前記外筒部と内筒
部との間に形成される空間に清浄空気を供給することに
より該清浄空気を前記捕集室内に送り込み、前記排気手
段によって前記捕集室内の空気を排気することを特徴と
している。
【００３８】請求項１７記載の発明によれば、以下のよ
うな作用が得られる。すなわち、捕集室内に送り込まれ
た清浄空気は、被評価物の表面近傍を通過する。このと
き、被評価物の表面近傍を通過する清浄空気の移動流に
加え、濃度拡散により被評価物からガスが発生し、排気
手段によって内筒部内部の空気として排気される。
うな作用が得られる。すなわち、捕集室内に送り込まれ
た清浄空気は、被評価物の表面近傍を通過する。このと
き、被評価物の表面近傍を通過する清浄空気の移動流に
加え、濃度拡散により被評価物からガスが発生し、排気
手段によって内筒部内部の空気として排気される。
【００３９】請求項１８記載の発明は、被評価物の表面
に発生するガスを捕集して評価するガス評価方法におい
て、一端が開口した筒状の外筒部と、この外筒部の内側
に同軸方向に配置され、前記外筒部の開口側の端部が開
口した筒状の内筒部とを備え、前記内筒部内にガスの捕
集室が形成されたチャンバと、前記外筒部と内筒部との
間に形成される空間に清浄空気を供給する給気手段と、
前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記給気手
段によって供給される清浄空気の流量と前記排気手段に
よって排気される空気の流量とを調整する流量調整手段
とを具備し、前記内筒部の開口端に、前記外筒部と内筒
部との間の空間から前記捕集室内部に前記清浄空気を通
気する通気部が形成されているガス評価装置を使用し
て、前記流量調整手段によって前記給気手段による清浄
空気の供給及び前記排気手段による排気を停止させ、前
記外筒部の開口端側が前記被評価物の表面に接触するよ
うに前記チャンバを配置し、前記被評価物の表面から発
生するガスが前記捕集室内で拡散してこの捕集室内の気
相と前記被評価物とがガスの濃度平衡状態となるまで静
置し、その後前記給気手段によって清浄空気を供給する
ことにより該清浄空気を前記捕集室内に送り込み、前記
排気手段によって前記捕集室内の空気を排気することを
特徴としている。
に発生するガスを捕集して評価するガス評価方法におい
て、一端が開口した筒状の外筒部と、この外筒部の内側
に同軸方向に配置され、前記外筒部の開口側の端部が開
口した筒状の内筒部とを備え、前記内筒部内にガスの捕
集室が形成されたチャンバと、前記外筒部と内筒部との
間に形成される空間に清浄空気を供給する給気手段と、
前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記給気手
段によって供給される清浄空気の流量と前記排気手段に
よって排気される空気の流量とを調整する流量調整手段
とを具備し、前記内筒部の開口端に、前記外筒部と内筒
部との間の空間から前記捕集室内部に前記清浄空気を通
気する通気部が形成されているガス評価装置を使用し
て、前記流量調整手段によって前記給気手段による清浄
空気の供給及び前記排気手段による排気を停止させ、前
記外筒部の開口端側が前記被評価物の表面に接触するよ
うに前記チャンバを配置し、前記被評価物の表面から発
生するガスが前記捕集室内で拡散してこの捕集室内の気
相と前記被評価物とがガスの濃度平衡状態となるまで静
置し、その後前記給気手段によって清浄空気を供給する
ことにより該清浄空気を前記捕集室内に送り込み、前記
排気手段によって前記捕集室内の空気を排気することを
特徴としている。
【００４０】請求項１８記載の発明によれば、給気手段
による清浄空気の供給及び排気手段による排気を停止さ
せて一定時間静置すると、被評価物からガスが発生して
捕集室内部の空間に拡散し、内部の気相と被評価物とが
ガスの濃度平衡状態となる。この後、給気手段によって
清浄空気を供給し、排気手段によって内筒部の内部の空
気を排気することにより、上記濃度平衡状態でのガスを
捕集することができる。
による清浄空気の供給及び排気手段による排気を停止さ
せて一定時間静置すると、被評価物からガスが発生して
捕集室内部の空間に拡散し、内部の気相と被評価物とが
ガスの濃度平衡状態となる。この後、給気手段によって
清浄空気を供給し、排気手段によって内筒部の内部の空
気を排気することにより、上記濃度平衡状態でのガスを
捕集することができる。
【００４１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態を図面を参照して説明する。
態を図面を参照して説明する。
【００４２】［１．構成］図１は、本発明の実施の形態
によるガス評価装置の構成を示す断面図である。同図に
示すように、本実施の形態によるガス評価装置は、略円
筒状の外筒部２と内筒部３の二重管からなるチャンバ１
で構成されている。これら外筒部２及び内筒部３は、耐
熱ガラスもしくは石英ガラス等から形成されており、そ
の下端部が開口している。また、外筒部２は、上面の中
央が突出した形状となっている。更に、内筒部３は、内
側に広い空間Ｓ1 を有すると共に、外筒部２との間に一
定の空間Ｓ2 を設けて配置されている。
によるガス評価装置の構成を示す断面図である。同図に
示すように、本実施の形態によるガス評価装置は、略円
筒状の外筒部２と内筒部３の二重管からなるチャンバ１
で構成されている。これら外筒部２及び内筒部３は、耐
熱ガラスもしくは石英ガラス等から形成されており、そ
の下端部が開口している。また、外筒部２は、上面の中
央が突出した形状となっている。更に、内筒部３は、内
側に広い空間Ｓ1 を有すると共に、外筒部２との間に一
定の空間Ｓ2 を設けて配置されている。
【００４３】上記チャンバ１は、その開口した一端が被
評価材料である建材４の表面に接するように設置される
ようになっており、外筒部２の下端部のみが建材４に接
触し、内筒部３の下端部は接触せず、建材４に対して所
定の間隙を有する構造となっている。このため、この間
隙を介して、空間Ｓ1 と空間Ｓ2 との間で空気が移動可
能となっている。また、チャンバ１は、図１に示すよう
に、シール材やパッキン材等を使用せずに建材４の表面
に配置されるようになっている。
評価材料である建材４の表面に接するように設置される
ようになっており、外筒部２の下端部のみが建材４に接
触し、内筒部３の下端部は接触せず、建材４に対して所
定の間隙を有する構造となっている。このため、この間
隙を介して、空間Ｓ1 と空間Ｓ2 との間で空気が移動可
能となっている。また、チャンバ１は、図１に示すよう
に、シール材やパッキン材等を使用せずに建材４の表面
に配置されるようになっている。
【００４４】また、外筒部２の上述した突出部分の側面
には、給気バルブ５が取り付けられた給気管６が設けら
れており、この給気管６によって、活性炭等で処理した
清浄空気が上記空間Ｓ2 内に供給されるようになってい
る（矢印Ａ）。更に、内筒部３の上部には、排気バルブ
７が取り付けられた排気管８が接続されており、この排
気管８によって、内筒部３内の空気が排気されて（矢印
Ｂ）、図示しない捕集材に供給されるようになってい
る。
には、給気バルブ５が取り付けられた給気管６が設けら
れており、この給気管６によって、活性炭等で処理した
清浄空気が上記空間Ｓ2 内に供給されるようになってい
る（矢印Ａ）。更に、内筒部３の上部には、排気バルブ
７が取り付けられた排気管８が接続されており、この排
気管８によって、内筒部３内の空気が排気されて（矢印
Ｂ）、図示しない捕集材に供給されるようになってい
る。
【００４５】このような構成により、給気管６から供給
される清浄空気は、給気量と排気量の差だけ外筒部２か
ら外部へ漏れ（矢印Ｃ）、排気量分が内筒部３と建材４
との間隙を通って内筒部３内に流れ込むようになってい
る（矢印Ｄ）。
される清浄空気は、給気量と排気量の差だけ外筒部２か
ら外部へ漏れ（矢印Ｃ）、排気量分が内筒部３と建材４
との間隙を通って内筒部３内に流れ込むようになってい
る（矢印Ｄ）。
【００４６】また、上記チャンバ１は、例えば図２に示
すような治具１０ａ，１０ｂによって支持する。すなわ
ち、チャンバ１をクリーンルーム内の壁面に配置する場
合は、図２（ａ）に示すようにチャンバ１の側面を治具
１０ａによって支持し、天井に配置する場合は、同図
（ｂ）に示すようにチャンバ１の上部を治具１０ｂによ
って支持する。
すような治具１０ａ，１０ｂによって支持する。すなわ
ち、チャンバ１をクリーンルーム内の壁面に配置する場
合は、図２（ａ）に示すようにチャンバ１の側面を治具
１０ａによって支持し、天井に配置する場合は、同図
（ｂ）に示すようにチャンバ１の上部を治具１０ｂによ
って支持する。
【００４７】または、図３に示すような装置を用いて、
自動運転等によりガスを捕集するようにしてもよい。す
なわち、図３に示す装置では、台車１１上に、チャンバ
１、給気管６を介して清浄空気を供給するためのポンプ
１２、及び排気管８から排気される空気を捕集する捕集
材１３等が設置されており、それらがリフト１４によっ
て上下に移動可能となっている。また、チャンバ１は、
その外周の一部が把持部材１５によって把持されてお
り、その把持部材１５が軸１６を介して支持部材１７に
より回転可能に支持されている。これにより、チャンバ
１が矢印Ｅ方向に回転し、クリーンルーム内の各方向に
向くことができるようになっている。
自動運転等によりガスを捕集するようにしてもよい。す
なわち、図３に示す装置では、台車１１上に、チャンバ
１、給気管６を介して清浄空気を供給するためのポンプ
１２、及び排気管８から排気される空気を捕集する捕集
材１３等が設置されており、それらがリフト１４によっ
て上下に移動可能となっている。また、チャンバ１は、
その外周の一部が把持部材１５によって把持されてお
り、その把持部材１５が軸１６を介して支持部材１７に
より回転可能に支持されている。これにより、チャンバ
１が矢印Ｅ方向に回転し、クリーンルーム内の各方向に
向くことができるようになっている。
【００４８】[２．作用効果]次に、上述した構成を有す
る本実施の形態の作用効果について説明する。ここで
は、図２に示す治具１０ａもしくは１０ｂによってチャ
ンバ１を支持するか、もしくは、図３に示す装置を移動
させるかにより、チャンバ１を評価対象の建材の表面に
設置する。
る本実施の形態の作用効果について説明する。ここで
は、図２に示す治具１０ａもしくは１０ｂによってチャ
ンバ１を支持するか、もしくは、図３に示す装置を移動
させるかにより、チャンバ１を評価対象の建材の表面に
設置する。
【００４９】[ ダイナミックヘッドスペース法的な使用
の場合]まず、ダイナミックヘッドスペース法的な使用
の場合について、図１を参照して説明する。この場合、
給気バルブ５及び排気バルブ７を、給気量Ｑ0 と排気量
Ｑ1 との関係がＱ0 ＞Ｑ1 であるように調整して開き、
清浄空気を通気させる。すなわち、給気量Ｑ0 を排気量
Ｑ1 より大とすることにより、矢印Ｃに示すように清浄
空気が外部へ漏れることによって、外部の空気がチャン
バ１内に侵入しないようにする。そして、矢印Ａに示す
ように給気管６から清浄空気を供給し、空間Ｓ2 を介し
て矢印Ｄに示すように清浄空気を内筒部３内に供給し、
建材４から発生するガスを含む空間Ｓ1 内の空気を矢印
Ｂに示すように排気管８から排気させる。なお、このと
き、スタティックヘッドスペース法的な使用の場合と同
様に、ヒータ等によって建材４を加熱するようにしても
よい。この加熱の方法は、後述するスタティックヘッド
スペース法的な方法の場合と同様とする。
の場合]まず、ダイナミックヘッドスペース法的な使用
の場合について、図１を参照して説明する。この場合、
給気バルブ５及び排気バルブ７を、給気量Ｑ0 と排気量
Ｑ1 との関係がＱ0 ＞Ｑ1 であるように調整して開き、
清浄空気を通気させる。すなわち、給気量Ｑ0 を排気量
Ｑ1 より大とすることにより、矢印Ｃに示すように清浄
空気が外部へ漏れることによって、外部の空気がチャン
バ１内に侵入しないようにする。そして、矢印Ａに示す
ように給気管６から清浄空気を供給し、空間Ｓ2 を介し
て矢印Ｄに示すように清浄空気を内筒部３内に供給し、
建材４から発生するガスを含む空間Ｓ1 内の空気を矢印
Ｂに示すように排気管８から排気させる。なお、このと
き、スタティックヘッドスペース法的な使用の場合と同
様に、ヒータ等によって建材４を加熱するようにしても
よい。この加熱の方法は、後述するスタティックヘッド
スペース法的な方法の場合と同様とする。
【００５０】そして、一定時間経過した後に、図示しな
い捕集材によってガスを捕集する。このとき、建材４の
表面近傍を通過する清浄空気の移動流に加え、濃度拡散
により建材４からガスが発生し、そのガスを含む内筒部
３内部の空気が排気管８から排気される。
い捕集材によってガスを捕集する。このとき、建材４の
表面近傍を通過する清浄空気の移動流に加え、濃度拡散
により建材４からガスが発生し、そのガスを含む内筒部
３内部の空気が排気管８から排気される。
【００５１】[スタティックヘッドスペース法的な使用
の場合]次に、スタティックヘッドスペース法的な使用
の場合について、図４を参照して説明する。まず、給気
バルブ５及び排気バルブ７を全て閉じて、チャンバ１を
建材４の上に設置する。そして、一定の時間静置する。
このとき、図４に示すように、輻射パネル等のヒータ１
８をチャンバ１の近辺に配置して放射熱によってチャン
バ１内を加熱してもよい。
の場合]次に、スタティックヘッドスペース法的な使用
の場合について、図４を参照して説明する。まず、給気
バルブ５及び排気バルブ７を全て閉じて、チャンバ１を
建材４の上に設置する。そして、一定の時間静置する。
このとき、図４に示すように、輻射パネル等のヒータ１
８をチャンバ１の近辺に配置して放射熱によってチャン
バ１内を加熱してもよい。
【００５２】この間、建材４の表面から揮発するガス
は、空間Ｓ1 内に拡散し、一定の時間が経過すると建材
４と空間Ｓ1 内の気相との間でガスの濃度平衡状態とな
る。その後、給気バルブ５及び排気バルブ７を開き、給
気管６から清浄空気を供給し、空間Ｓ2 を介して内筒部
３内に供給する。そして、空間Ｓ1 内の空気を排気管８
から排気させて、図示しない捕集材によって捕集する。
なお、給気管６からの給気量Ｑ0 と排気管８からの排気
量Ｑ1 との関係がＱ0 ＞Ｑ1 であるように、給気バルブ
５と排気バルブ７とを調整する。
は、空間Ｓ1 内に拡散し、一定の時間が経過すると建材
４と空間Ｓ1 内の気相との間でガスの濃度平衡状態とな
る。その後、給気バルブ５及び排気バルブ７を開き、給
気管６から清浄空気を供給し、空間Ｓ2 を介して内筒部
３内に供給する。そして、空間Ｓ1 内の空気を排気管８
から排気させて、図示しない捕集材によって捕集する。
なお、給気管６からの給気量Ｑ0 と排気管８からの排気
量Ｑ1 との関係がＱ0 ＞Ｑ1 であるように、給気バルブ
５と排気バルブ７とを調整する。
【００５３】［実施の形態の効果］以上のように本実施
の形態によれば、チャンバ１を建材の表面に設置するだ
けでよいため、実際に建材を使用する現場での測定が可
能である。また、建材を切断等して加工せず、実際のガ
ス発生状況と同一の状況でガスを発生させることができ
るため、正確な評価を行うことができる。更に、内筒部
３の内部に広い空間Ｓ1 が形成されており、かつ、給気
バルブ５及び排気バルブ７を全閉にして清浄空気による
通気を行わないようにすることができるため、ダイナミ
ックヘッドスペース法的な使用のみならず、スタティッ
クヘッドスペース法的な使用も可能である。
の形態によれば、チャンバ１を建材の表面に設置するだ
けでよいため、実際に建材を使用する現場での測定が可
能である。また、建材を切断等して加工せず、実際のガ
ス発生状況と同一の状況でガスを発生させることができ
るため、正確な評価を行うことができる。更に、内筒部
３の内部に広い空間Ｓ1 が形成されており、かつ、給気
バルブ５及び排気バルブ７を全閉にして清浄空気による
通気を行わないようにすることができるため、ダイナミ
ックヘッドスペース法的な使用のみならず、スタティッ
クヘッドスペース法的な使用も可能である。
【００５４】そのため、本実施の形態では、低沸点化合
物の高感度分析、及び高沸点化合物の高感度分析の双方
を容易に行うことができる。すなわち、分析するガスの
種類によって評価方法を変えることができる。更に、発
生したガスの捕集方法として、固体捕集法及び液体捕集
法の両方を採用することができる。例えば、固体捕集法
としては吸着剤として活性炭もしくはポーラスポリマー
等を使用し、液体捕集法としては純水等を使用する。
物の高感度分析、及び高沸点化合物の高感度分析の双方
を容易に行うことができる。すなわち、分析するガスの
種類によって評価方法を変えることができる。更に、発
生したガスの捕集方法として、固体捕集法及び液体捕集
法の両方を採用することができる。例えば、固体捕集法
としては吸着剤として活性炭もしくはポーラスポリマー
等を使用し、液体捕集法としては純水等を使用する。
【００５５】また、チャンバ１内部の気密性が要求され
ないためにシール材もしくはパッキン材等を取り付ける
必要が無く、それらシール材、パッキン材等から発生す
るガスの影響を考慮する必要がない。なお、建材の形状
等に応じて、必要な場合は外筒部２の外側にシール材、
パッキン材等を装着することも可能である。
ないためにシール材もしくはパッキン材等を取り付ける
必要が無く、それらシール材、パッキン材等から発生す
るガスの影響を考慮する必要がない。なお、建材の形状
等に応じて、必要な場合は外筒部２の外側にシール材、
パッキン材等を装着することも可能である。
【００５６】また、チャンバ１がガラス製であるため、
建材４自体をその裏面から加熱するのではなく、チャン
バ１の外部から建材４の表面を加熱することができる。
更に、建材４上に設置する同一のチャンバ１の内筒部３
内の空間Ｓ1 にウェハを設置することにより、建材４か
ら発生するガスによるウェハの暴露実験を行うことがで
きる。
建材４自体をその裏面から加熱するのではなく、チャン
バ１の外部から建材４の表面を加熱することができる。
更に、建材４上に設置する同一のチャンバ１の内筒部３
内の空間Ｓ1 にウェハを設置することにより、建材４か
ら発生するガスによるウェハの暴露実験を行うことがで
きる。
【００５７】また、本実施の形態では、内筒部３の内部
に試験体を設置することにより、従来の方法と同様な方
法でガスの評価実験を行うことができる。すなわち、ク
リーンルーム内の各種材料の一部を切断等して試験体と
して内筒部３内に設置し、上述したスタティックヘッド
スペース法的もしくはダイナミックヘッドスペース法的
に使用することによって、従来と同様のサンプリングが
可能となる。
に試験体を設置することにより、従来の方法と同様な方
法でガスの評価実験を行うことができる。すなわち、ク
リーンルーム内の各種材料の一部を切断等して試験体と
して内筒部３内に設置し、上述したスタティックヘッド
スペース法的もしくはダイナミックヘッドスペース法的
に使用することによって、従来と同様のサンプリングが
可能となる。
【００５８】［３．他の実施の形態］なお、本発明は上
述した実施の形態に限定されるものではなく、以下に示
すような各種態様も可能である。すなわち、チャンバ１
の形状は、図１に示すものに限らず、例えば図５に示す
チャンバ２１のように立方体であってもよい。この場合
も、チャンバ２１は外筒部２２と内筒部２３とからな
り、スタティックヘッドスペース法的に使用することが
可能な程度に内筒部２３の内側に空間Ｓ3 が形成されて
いると共に、外筒部２２と内筒部２３との間に空間Ｓ4
が形成されている。
述した実施の形態に限定されるものではなく、以下に示
すような各種態様も可能である。すなわち、チャンバ１
の形状は、図１に示すものに限らず、例えば図５に示す
チャンバ２１のように立方体であってもよい。この場合
も、チャンバ２１は外筒部２２と内筒部２３とからな
り、スタティックヘッドスペース法的に使用することが
可能な程度に内筒部２３の内側に空間Ｓ3 が形成されて
いると共に、外筒部２２と内筒部２３との間に空間Ｓ4
が形成されている。
【００５９】更に、図１及び図５において、内筒部３，
２３の下端部は建材４から離れた形状となっているが、
外筒部２，２２と同様に建材４に接触するようにし、そ
の下端部に複数の切欠部を設けて空間Ｓ2 またはＳ4 か
らの清浄空気がその切欠部を通過して空間Ｓ1 または空
間Ｓ3 に流れ込むような構成としてもよい。
２３の下端部は建材４から離れた形状となっているが、
外筒部２，２２と同様に建材４に接触するようにし、そ
の下端部に複数の切欠部を設けて空間Ｓ2 またはＳ4 か
らの清浄空気がその切欠部を通過して空間Ｓ1 または空
間Ｓ3 に流れ込むような構成としてもよい。
【００６０】また、チャンバ１はガラス製に限らず、ス
テンレス等の金属製であってもよい。その場合、発生し
たガスの吸着等の影響を少なくするために、その内面に
対し、電解研磨、石英ライニング、石英ライニング及び
不活性化処理、フューズドシリカコーティング、もしく
はフューズドシリカ及び不活性膜コーティング等の処理
を施す。なお、このようにチャンバ１をガラス製ではな
く金属製とした場合に建材４を加熱する時は、図６に示
すように、建材４の裏面にヒータ１９を設置する。
テンレス等の金属製であってもよい。その場合、発生し
たガスの吸着等の影響を少なくするために、その内面に
対し、電解研磨、石英ライニング、石英ライニング及び
不活性化処理、フューズドシリカコーティング、もしく
はフューズドシリカ及び不活性膜コーティング等の処理
を施す。なお、このようにチャンバ１をガラス製ではな
く金属製とした場合に建材４を加熱する時は、図６に示
すように、建材４の裏面にヒータ１９を設置する。
【００６１】また、例えば発生したガスが凝縮したもの
等、チャンバ１内の空気に含まれる物質が表面に付着す
るのを防止するために、図７もしくは図８に示すような
構成としてもよい。すなわち、図７に示すように、内筒
部３及び排気管８に沿って、チャンバ１内の空気が移動
する流路にヒータ３０を組み込むようにしてもよい。あ
るいは、図８に示すように、内筒部３の表面に石英ライ
ニング、石英ライニング及び不活性化処理、ヒューズド
シリカコーティング、もしくはヒューズドシリカ及び不
活性膜コーティング等によるコーティング３１を施すよ
うにしてもよい。
等、チャンバ１内の空気に含まれる物質が表面に付着す
るのを防止するために、図７もしくは図８に示すような
構成としてもよい。すなわち、図７に示すように、内筒
部３及び排気管８に沿って、チャンバ１内の空気が移動
する流路にヒータ３０を組み込むようにしてもよい。あ
るいは、図８に示すように、内筒部３の表面に石英ライ
ニング、石英ライニング及び不活性化処理、ヒューズド
シリカコーティング、もしくはヒューズドシリカ及び不
活性膜コーティング等によるコーティング３１を施すよ
うにしてもよい。
【００６２】更に、建材４の表面に電線が設置されてい
る場合、チャンバ１の形状を図９に示すような形状とす
る。ここで、図９（ａ）はチャンバ１の断面図であり、
（ｂ）は正面図である。すなわち、外筒部２に、電線３
２の形状に対応した切欠部３３が形成されている。ま
た、このとき、内筒部３と建材４との間は、電線３２の
高さと同じかもしくはそれ以上の間隔が設けられている
ものとする。そして、評価の際には、上記切欠部１３に
電線３２がはまるようにチャンバ１を建材４の上に被せ
る。
る場合、チャンバ１の形状を図９に示すような形状とす
る。ここで、図９（ａ）はチャンバ１の断面図であり、
（ｂ）は正面図である。すなわち、外筒部２に、電線３
２の形状に対応した切欠部３３が形成されている。ま
た、このとき、内筒部３と建材４との間は、電線３２の
高さと同じかもしくはそれ以上の間隔が設けられている
ものとする。そして、評価の際には、上記切欠部１３に
電線３２がはまるようにチャンバ１を建材４の上に被せ
る。
【００６３】また、チャンバは、必ずしも外筒部と内筒
部の二重構造を用いた上記構成に限定されるものではな
く、給排気のバランスによってチャンバ内部を正圧に保
つことにより、外部からの空気の侵入を防止し、建材の
表面から発生するガスを捕集することができる構成であ
ればよい。更に、給気口及び排気口の位置は任意であっ
て、特に限定されるものではない。
部の二重構造を用いた上記構成に限定されるものではな
く、給排気のバランスによってチャンバ内部を正圧に保
つことにより、外部からの空気の侵入を防止し、建材の
表面から発生するガスを捕集することができる構成であ
ればよい。更に、給気口及び排気口の位置は任意であっ
て、特に限定されるものではない。
【００６４】また、建材４を加熱する方法として、図１
０〜図１２に示すような方法を採用してもよい。この場
合、熱源として、波長１０-6〜１０-4ｍの近赤外線域か
ら赤外線域の電磁波を用いる赤外線ランプ又は輻射パネ
ル等を使用する。なお、これらの図において、チャンバ
１は一重の場合を示しているが、上述した二重管からな
るチャンバ１にも採用することができる。
０〜図１２に示すような方法を採用してもよい。この場
合、熱源として、波長１０-6〜１０-4ｍの近赤外線域か
ら赤外線域の電磁波を用いる赤外線ランプ又は輻射パネ
ル等を使用する。なお、これらの図において、チャンバ
１は一重の場合を示しているが、上述した二重管からな
るチャンバ１にも採用することができる。
【００６５】また、図示していないが、各図におけるチ
ャンバ１には給気管が設けられており、Ｎ2 又はＨｅ等
の不活性ガスあるいは活性炭等で処理した清浄空気が、
キャリアガスとして供給される。同様に、図示しない排
気管が設けられており、チャンバ１内の空気が排気され
て、捕集材を有する図示しない捕集部に供給されるよう
になっている。
ャンバ１には給気管が設けられており、Ｎ2 又はＨｅ等
の不活性ガスあるいは活性炭等で処理した清浄空気が、
キャリアガスとして供給される。同様に、図示しない排
気管が設けられており、チャンバ１内の空気が排気され
て、捕集材を有する図示しない捕集部に供給されるよう
になっている。
【００６６】図１０に示す例では、チャンバ１自体に輻
射パネル等のヒータ４０を組込むか又は張合せた構成と
なっている。同図（ａ）では、建材４の表面にチャンバ
１が配置されている。また、同図（ｂ）では、建材４の
端部がチャンバ１の内壁に密着するように切断されてお
り、その建材４がチャンバ１の内部に配置されている。
更に、同図（ｃ）では、適当に切断された建材４が、デ
シケータのようなチャンバ１の内部に配置されており、
建材４の切断面４ａがアルミニウム箔等の被覆材４１に
よって被覆されている。
射パネル等のヒータ４０を組込むか又は張合せた構成と
なっている。同図（ａ）では、建材４の表面にチャンバ
１が配置されている。また、同図（ｂ）では、建材４の
端部がチャンバ１の内壁に密着するように切断されてお
り、その建材４がチャンバ１の内部に配置されている。
更に、同図（ｃ）では、適当に切断された建材４が、デ
シケータのようなチャンバ１の内部に配置されており、
建材４の切断面４ａがアルミニウム箔等の被覆材４１に
よって被覆されている。
【００６７】また、図１１に示す例では、チャンバ１の
内部に赤外線ランプ５０が設置されている。この場合、
チャンバ１は、ガラス、ステンレス、又はアルミニウム
等、ガス分子が吸着しない材質からなる。また、図１０
に示す例と同様に、図１１（ａ）では建材４の表面にチ
ャンバ１が配置され、（ｂ）ではチャンバ１の内壁に密
着するよう切断された建材４がチャンバ１内に配置さ
れ、（ｃ）では適当に切断された建材４がチャンバ１の
内部に配置されている。なお、この場合、赤外線ランプ
５０の代わりに輻射パネル等を設置してもよい。
内部に赤外線ランプ５０が設置されている。この場合、
チャンバ１は、ガラス、ステンレス、又はアルミニウム
等、ガス分子が吸着しない材質からなる。また、図１０
に示す例と同様に、図１１（ａ）では建材４の表面にチ
ャンバ１が配置され、（ｂ）ではチャンバ１の内壁に密
着するよう切断された建材４がチャンバ１内に配置さ
れ、（ｃ）では適当に切断された建材４がチャンバ１の
内部に配置されている。なお、この場合、赤外線ランプ
５０の代わりに輻射パネル等を設置してもよい。
【００６８】更に、図１２に示す例では、チャンバ１の
外部に赤外線ランプ５０が設置されている。この場合、
チャンバ１は、耐熱ガラス又は石英ガラス等のガラス製
である。また、図１０及び図１１の例と同様に、図１２
（ａ）では建材４の表面にチャンバ１が配置され、
（ｂ）ではチャンバ１の内壁に密着するよう切断された
建材４がチャンバ１内に配置され、（ｃ）では適当に切
断された建材４がチャンバ１の内部に配置されている。
なお、この場合も、赤外線ランプ５０の代わりに輻射パ
ネル等を設置してもよい。
外部に赤外線ランプ５０が設置されている。この場合、
チャンバ１は、耐熱ガラス又は石英ガラス等のガラス製
である。また、図１０及び図１１の例と同様に、図１２
（ａ）では建材４の表面にチャンバ１が配置され、
（ｂ）ではチャンバ１の内壁に密着するよう切断された
建材４がチャンバ１内に配置され、（ｃ）では適当に切
断された建材４がチャンバ１の内部に配置されている。
なお、この場合も、赤外線ランプ５０の代わりに輻射パ
ネル等を設置してもよい。
【００６９】また、これらの各場合において、図示しな
い捕集部に、配管等によって冷却機構を設けてもよい。
すなわち、図示しない排気管から排出されるチャンバ１
内の空気は、捕集部の捕集材によって捕集するまでの間
において、冷却機構によって常温付近まで冷却されるよ
うにする。このように、加熱されている空気を冷却する
ことにより、捕集材による捕集率が低くなるのを防止す
ることができる。なお、予め温度による捕集特性が分か
っている場合は、それに基づいて評価を行えばよいた
め、冷却機構を設けなくてもよい。
い捕集部に、配管等によって冷却機構を設けてもよい。
すなわち、図示しない排気管から排出されるチャンバ１
内の空気は、捕集部の捕集材によって捕集するまでの間
において、冷却機構によって常温付近まで冷却されるよ
うにする。このように、加熱されている空気を冷却する
ことにより、捕集材による捕集率が低くなるのを防止す
ることができる。なお、予め温度による捕集特性が分か
っている場合は、それに基づいて評価を行えばよいた
め、冷却機構を設けなくてもよい。
【００７０】以上のような図１０〜図１２に示す構成に
より、以下のような効果が得られる。すなわち、低発ガ
ス性の建材を用いる場合、または、従来の建材で時間の
経過によりガス発生量が減少してきた場合であっても、
捕集時間を短縮することができる。また、赤外線を熱源
とするため、建材の下部にホットプレートを直接設置す
る等、直接熱エネルギーを入力する方法のように、建材
内部の物質の拡散に影響を与えることが無い。そのた
め、実際に建材が設置されている状況を考慮して温度に
よる脱ガス特性を検証する場合、例えば、室内に加熱源
がある状況で建材から発生するガスを評価する場合等
に、対応することができる。すなわち、実際に熱エネル
ギーが入力される場合と同じ条件で、脱ガス特性を検証
することが可能となる。
より、以下のような効果が得られる。すなわち、低発ガ
ス性の建材を用いる場合、または、従来の建材で時間の
経過によりガス発生量が減少してきた場合であっても、
捕集時間を短縮することができる。また、赤外線を熱源
とするため、建材の下部にホットプレートを直接設置す
る等、直接熱エネルギーを入力する方法のように、建材
内部の物質の拡散に影響を与えることが無い。そのた
め、実際に建材が設置されている状況を考慮して温度に
よる脱ガス特性を検証する場合、例えば、室内に加熱源
がある状況で建材から発生するガスを評価する場合等
に、対応することができる。すなわち、実際に熱エネル
ギーが入力される場合と同じ条件で、脱ガス特性を検証
することが可能となる。
【００７１】また、本発明は、クリーンルームにおける
材料の発生ガスの分析・評価に限らず、他の施設におけ
る有機物等の発生ガスの評価に使用してもよい。
材料の発生ガスの分析・評価に限らず、他の施設におけ
る有機物等の発生ガスの評価に使用してもよい。
【００７２】
【発明の効果】上述したように、本発明によれば、材料
に直接配置することができるため材料の切断等の加工が
不要であり、低コストで、現場での測定が可能であり、
実際のガスの発生状況と同様の状況で材料からの発生ガ
スを正確に評価することができる。そのため、発生ガス
の少ない建材を選択することができ、かつ、そのガス発
生の追跡調査を現場測定によって容易に行うことができ
る。
に直接配置することができるため材料の切断等の加工が
不要であり、低コストで、現場での測定が可能であり、
実際のガスの発生状況と同様の状況で材料からの発生ガ
スを正確に評価することができる。そのため、発生ガス
の少ない建材を選択することができ、かつ、そのガス発
生の追跡調査を現場測定によって容易に行うことができ
る。
【００７３】また、本発明によれば、チャンバを直接材
料の表面に配置するだけでよいため、その材料の単位面
積及び時間当たりで発生するガス量を容易に求めること
ができる。一般に、クリーンルームを設計する際に各材
料の表面積を算出するが、このとき、上記のように材料
の単位面積及び時間当たりで発生するガス量を把握する
ことができるため、クリーンルーム雰囲気中の化学物質
の濃度を予測することができ、クリーンルーム内に設置
するフィルタの設置計画を容易に行うことができる。
料の表面に配置するだけでよいため、その材料の単位面
積及び時間当たりで発生するガス量を容易に求めること
ができる。一般に、クリーンルームを設計する際に各材
料の表面積を算出するが、このとき、上記のように材料
の単位面積及び時間当たりで発生するガス量を把握する
ことができるため、クリーンルーム雰囲気中の化学物質
の濃度を予測することができ、クリーンルーム内に設置
するフィルタの設置計画を容易に行うことができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態によるガス評価装置
の構成を示す断面図である。
の構成を示す断面図である。
【図２】同実施の形態においてチャンバ１を支持する治
具１０ａ，１０ｂの例を示す図である。
具１０ａ，１０ｂの例を示す図である。
【図３】同実施の形態におけるガス評価装置の全体構成
例を示す概略側面図である。
例を示す概略側面図である。
【図４】同実施の形態によるガス評価装置の一使用例を
示す図である。
示す図である。
【図５】本発明の他の実施の形態によるガス評価装置の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図６】本発明の他の実施の形態によるガス評価装置の
使用例を示す図である。
使用例を示す図である。
【図７】本発明の他の実施の形態によるガス評価装置の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図８】本発明の他の実施の形態によるガス評価装置の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図９】本発明の他の実施の形態によるガス評価装置の
構成を示す図であり、（ａ）は断面図、（ｂ）は正面図
である。
構成を示す図であり、（ａ）は断面図、（ｂ）は正面図
である。
【図１０】本発明の他の実施の形態によるガス評価装置
の構成を示す図であり、（ａ）は建材４の表面にチャン
バ１を配置した図、（ｂ）は建材４をチャンバ１内部に
配置した図、及び（ｃ）は切断した建材４をチャンバ１
内部に配置した図である。
の構成を示す図であり、（ａ）は建材４の表面にチャン
バ１を配置した図、（ｂ）は建材４をチャンバ１内部に
配置した図、及び（ｃ）は切断した建材４をチャンバ１
内部に配置した図である。
【図１１】本発明の他の実施の形態によるガス評価装置
の構成を示す図であり、（ａ）は建材４の表面にチャン
バ１を配置した図、（ｂ）は建材４をチャンバ１内部に
配置した図、及び（ｃ）は切断した建材４をチャンバ１
内部に配置した図である。
の構成を示す図であり、（ａ）は建材４の表面にチャン
バ１を配置した図、（ｂ）は建材４をチャンバ１内部に
配置した図、及び（ｃ）は切断した建材４をチャンバ１
内部に配置した図である。
【図１２】本発明の他の実施の形態によるガス評価装置
の構成を示す図であり、（ａ）は建材４の表面にチャン
バ１を配置した図、（ｂ）は建材４をチャンバ１内部に
配置した図、及び（ｃ）は切断した建材４をチャンバ１
内部に配置した図である。
の構成を示す図であり、（ａ）は建材４の表面にチャン
バ１を配置した図、（ｂ）は建材４をチャンバ１内部に
配置した図、及び（ｃ）は切断した建材４をチャンバ１
内部に配置した図である。
１…チャンバ ２…外筒部 ３…内筒部 ４…建材 ５…給気バルブ ６…給気管 ７…排気バルブ ８…排気管 １０ａ、１０ｂ…治具 １１…台車 １２…ポンプ １３…捕集材 １４…リフト １５…把持部材 １６…軸 １７…支持部材 ４０…ヒータ ５０…赤外線ランプ
Claims (18)
- 【請求項１】 被評価物の表面に発生するガスを捕集し
て評価するガス評価装置において、 一端が開口し、内部にガスの捕集室が形成されたチャン
バと、 前記チャンバ内に清浄空気を供給する給気手段と、 前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、 前記給気手段によって供給される清浄空気の流量と前記
排気手段によって排気される空気の流量とを調整する流
量手段とを具備することを特徴とするガス評価装置。 - 【請求項２】 被評価物の表面に発生するガスを捕集し
て評価するガス評価装置において、 一端が開口した筒状の外筒部と、この外筒部の内側に同
軸方向に配置され、前記外筒部の開口側の端部が開口し
た筒状の内筒部とを備え、前記内筒部内にガスの捕集室
が形成されたチャンバと、 前記外筒部と内筒部との間に形成される空間に清浄空気
を供給する給気手段と、 前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、 前記給気手段によって供給される清浄空気の流量と前記
排気手段によって排気される空気の流量とを調整する流
量調整手段とを具備し、 前記内筒部の開口端に、前記外筒部と内筒部との間の空
間から前記捕集室内部に前記清浄空気を通気する通気部
が形成されていることを特徴とするガス評価装置。 - 【請求項３】 前記通気部は、前記内筒部の開口端が前
記外筒部の開口端よりも軸方向の内側に位置することに
よって形成されていることを特徴とする請求項２記載の
ガス評価装置。 - 【請求項４】 前記給気手段は給気管を有し、前記排気
手段は排気管を有し、前記流量調整手段は、前記給気管
を流れる清浄空気の流量を調整する給気バルブと、前記
排気手段を流れる空気の流量を調整する排気バルブとか
らなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項
記載のガス評価装置。 - 【請求項５】 前記チャンバは、透明のガラス製である
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項記載の
ガス評価装置。 - 【請求項６】 前記捕集室内に加熱手段を組み込んだこ
とを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項記載のガ
ス評価装置。 - 【請求項７】 前記内筒部の表面に、前記捕集室内の物
質が付着しないようにコーティングを施したことを特徴
とする請求項２乃至５のいずれか１項記載のガス評価装
置。 - 【請求項８】 前記チャンバ、前記給気手段、前記排気
手段、及び前記流量調整手段を搭載した台車を具備し、 前記台車は、前記チャンバの開口側が自在に向きを変え
ることができるように該チャンバを支持する支持手段
と、前記チャンバを上下に移動可能に支持する昇降手段
とを備えたことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか
１項記載のガス評価装置。 - 【請求項９】 赤外線を熱源とし、前記被評価物を加熱
して該被評価物からのガス発生を促進する被評価物加熱
手段を具備することを特徴とする請求項１乃至８のいず
れか１項記載のガス評価装置。 - 【請求項１０】 前記被評価物加熱手段は、赤外線ラン
プからなることを特徴とする請求項９記載のガス評価装
置。 - 【請求項１１】 前記被評価物加熱手段は、輻射パネル
からなることを特徴とする請求項９記載のガス評価装
置。 - 【請求項１２】 前記被評価物加熱手段は、前記チャン
バ自体に組み込まれていることを特徴とする請求項９乃
至１１のいずれか１項記載のガス評価装置。 - 【請求項１３】 前記被評価物加熱手段は、前記チャン
バの内部に設置されていることを特徴とする請求項９乃
至１１のいずれか１項記載のガス評価装置。 - 【請求項１４】 前記チャンバは、透明のガラス製であ
り、 前記被評価物加熱手段は、前記チャンバの外部に設置さ
れていることを特徴とする請求項９乃至１１のいずれか
１項記載のガス評価装置。 - 【請求項１５】 前記排気手段から排気される前記捕集
室内の空気を冷却する冷却手段を具備することを特徴と
する請求項９乃至１４のいずれか１項記載のガス評価装
置。 - 【請求項１６】 被評価物の表面に発生するガスを捕集
して評価するガス評価方法において、 一端が開口し、内部にガスの捕集室が形成されたチャン
バと、前記チャンバ内に清浄空気を供給する給気手段
と、前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記給
気手段によって供給される清浄空気の流量と前記排気手
段によって排気される空気の流量とを調整する流量調整
手段とを具備するガス評価装置を使用して、 前記チャンバの開口端側が前記被評価物の表面に接触す
るように配置し、前記流量調整手段により、前記給気手
段から供給される清浄空気の流量が前記排気手段によっ
て排気される空気の流量より大であるように調整するこ
とを特徴とするガス評価方法。 - 【請求項１７】 被評価物の表面に発生するガスを捕集
して評価するガス評価方法において、 一端が開口した筒状の外筒部と、この外筒部の内側に同
軸方向に配置され、前記外筒部の開口側の端部が開口し
た筒状の内筒部とを備え、前記内筒部内にガスの捕集室
が形成されたチャンバと、前記外筒部と内筒部との間に
形成される空間に清浄空気を供給する給気手段と、前記
捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記給気手段に
よって供給される清浄空気の流量と前記排気手段によっ
て排気される空気の流量とを調整する流量調整手段とを
具備し、前記内筒部の開口端に、前記外筒部と内筒部と
の間の空間から前記捕集室内部に前記清浄空気を通気す
る通気部が形成されているガス評価装置を使用して、 前記外筒部の開口端側が前記被評価物の表面に接触する
ように前記チャンバを配置し、前記流量調整手段によ
り、前記給気手段から供給される清浄空気の流量が前記
排気手段によって排気される空気の流量より大であるよ
うに調整し、前記給気手段によって前記外筒部と内筒部
との間に形成される空間に清浄空気を供給することによ
り該清浄空気を前記捕集室内に送り込み、前記排気手段
によって前記捕集室内の空気を排気することを特徴とす
るガス評価方法。 - 【請求項１８】被評価物の表面に発生するガスを捕集し
て評価するガス評価方法において、 一端が開口した筒状の外筒部と、この外筒部の内側に同
軸方向に配置され、前記外筒部の開口側の端部が開口し
た筒状の内筒部とを備え、前記内筒部内にガスの捕集室
が形成されたチャンバと、前記外筒部と内筒部との間に
形成される空間に清浄空気を供給する給気手段と、前記
捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記給気手段に
よって供給される清浄空気の流量と前記排気手段によっ
て排気される空気の流量とを調整する流量調整手段とを
具備し、前記内筒部の開口端に、前記外筒部と内筒部と
の間の空間から前記捕集室内部に前記清浄空気を通気す
る通気部が形成されているガス評価装置を使用して、 前記流量調整手段によって前記給気手段による清浄空気
の供給及び前記排気手段による排気を停止させ、前記外
筒部の開口端側が前記被評価物の表面に接触するように
前記チャンバを配置し、前記被評価物の表面から発生す
るガスが前記捕集室内で拡散してこの捕集室内の気相と
前記被評価物とがガスの濃度平衡状態となるまで静置
し、その後前記給気手段によって清浄空気を供給するこ
とにより該清浄空気を前記捕集室内に送り込み、前記排
気手段によって前記捕集室内の空気を排気することを特
徴とするガス評価方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05317499A JP3839988B2 (ja) | 1998-03-02 | 1999-03-01 | ガス評価装置及びガス評価方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4955198 | 1998-03-02 | ||
| JP10-49551 | 1998-03-02 | ||
| JP05317499A JP3839988B2 (ja) | 1998-03-02 | 1999-03-01 | ガス評価装置及びガス評価方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11316178A true JPH11316178A (ja) | 1999-11-16 |
| JP3839988B2 JP3839988B2 (ja) | 2006-11-01 |
Family
ID=26389964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05317499A Expired - Fee Related JP3839988B2 (ja) | 1998-03-02 | 1999-03-01 | ガス評価装置及びガス評価方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3839988B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1999
- 1999-03-01 JP JP05317499A patent/JP3839988B2/ja not_active Expired - Fee Related
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