JPH11316986A - 光ヘッド及び光磁気ディスク装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】光ヘッド及び光磁気ディスク装置に関し、特に
光ビームの照射側より光磁気ディスクに変調磁界を印加
する方式の光磁気ディスク装置に適用して、高開口数に
より所望のデータを高密度記録する場合でも、薄膜コイ
ルの熱損傷を未然に防止して確実に所望のデータを記録
できるようにする。 【解決手段】薄膜コイル４５により変調磁界を印加する
ようにし、熱伝導度の高い材質による熱伝導膜上にこの
薄膜コイル４５を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ヘッド及び光磁
気ディスク装置に関し、特に光ビームの照射側より光磁
気ディスクに変調磁界を印加する方式の光磁気ディスク
装置に適用することができる。本発明は、薄膜コイルに
より変調磁界を印加するようにし、熱伝導度の高い材料
による熱伝導膜上にこの薄膜コイルを形成することによ
り、高開口数により所望のデータを高密度記録する場合
でも、薄膜コイルの熱損傷を未然に防止して確実に所望
のデータを記録できるようにする。

【０００２】

【従来の技術】従来、光磁気ディスク装置においては、
光ビームの照射側より光磁気ディスクに変調磁界を印加
する方式のものが提案されている。この方式の光磁気デ
ィスク装置は、光磁気ディスクの情報記録層を光ビーム
の照射側に配置できることにより、光ビームを照射する
光学系を高開口数により小型に形成でき、これにより所
望のデータを高密度記録できるようになされている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところでこのように光
ヘッドにおいて、高開口数の光学系を小型に形成する
と、その分光ヘッドの光学系においては、光磁気ディス
クに近接して配置されることになる。従って光ヘッドに
おいては、変調磁界を印加する駆動コイルをその分限ら
れた空間に配置することになる。

【０００４】この場合、ハードディスク装置等に適用さ
れている薄膜ヘッドの手法を適用して、薄膜により駆動
コイルを作成する方法が考えられる。

【０００５】ところがこの種の光ヘッドにおいては、磁
気ヘッドとは異なり、情報記録層でなる光磁気ディスク
の垂直磁化膜において、光ビームの照射位置に垂直に磁
界を印加することが必要になり、光ビームを透過する部
材上に薄膜コイルを配置することになる。これにより実
験した結果によれば、このように薄膜コイルにより光ヘ
ッドを構成すると、薄膜コイルが著しく温度上昇するこ
とが判った。このように薄膜コイルが著しく温度上昇す
ると、高い周波数による変調磁界を生成する際に、効率
良く変調磁界を形成し得なくなり、確実に所望のデータ
を記録できなくなる問題がある。またこの温度上昇が極
めて著しくなると、薄膜コイル自体が損傷する問題もあ
る。

【０００６】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、高開口数により所望のデータを高密度記録する場合
でも、薄膜コイルの熱損傷を未然に防止して確実に所望
のデータを記録することがきる光ヘッドとこの光ヘッド
を用いた光磁気ディスク装置を提案しようとするもので
ある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、光ヘッドにおいて、対物レンズの
光記録媒体側に配置されて、光ビームを透過するコイル
支持部材と、このコイル支持部材の表面に形成され、コ
イル指示部材の熱伝導度より少なくとも数倍以上の熱伝
導度を有する材料による熱伝導膜と、この熱伝導膜上に
形成されて、光記録媒体における光ビームの照射位置に
所望の変調磁界を印加する薄膜コイルとを備えるように
する。

【０００８】また光ヘッドにおいて、対物レンズの光記
録媒体側の面に配置され、対物レンズの熱伝導度より少
なくとも数倍以上の熱伝導度を有する材料による熱伝導
膜と、この熱伝導膜上に形成されて、光記録媒体におけ
る光ビームの照射位置に所望の変調磁界を印加する薄膜
コイルとを備えるようにする。

【０００９】また光磁気ディスク装置において、対物レ
ンズの光記録媒体側に配置されて、光ビームを透過する
コイル支持部材と、このコイル支持部材の表面に形成さ
れ、コイル支持部材の熱伝導度より少なくとも数倍以上
の熱伝導度を有する材料による熱伝導膜と、この熱伝導
膜上に形成されて、光記録媒体における光ビームの照射
位置に所望の変調磁界を印加する薄膜コイルとを光ヘッ
ドが有するようにする。

【００１０】また光磁気ディスク装置において、対物レ
ンズの光記録媒体側の面に配置されて、対物レンズの熱
伝導度より少なくとも数倍以上の熱伝導度を有する材料
による熱伝導膜と、この熱伝導膜上に形成されて、光記
録媒体における光ビームの照射位置に所望の変調磁界を
印加する薄膜コイルとを光ヘッドが有するようにする。

【００１１】光ヘッドにおいて、対物レンズの光記録媒
体側に配置されて、光ビームを透過するコイル支持部材
と、このコイル支持部材の表面に形成され、コイル指示
部材の熱伝導度より少なくとも数倍以上の熱伝導度を有
する材料による熱伝導膜と、この熱伝導膜上に形成され
て、光記録媒体における光ビームの照射位置に所望の変
調磁界を印加する薄膜コイルとを備えるようにすれば、
対物レンズの光磁気ディスク側に配置したコイル支持部
材上に薄膜ヘッドを配置する構成において、この薄膜ヘ
ッドにおける熱を熱伝導膜を介してコイル支持部材に効
率良く伝搬することができ、その分薄膜コイルの温度上
昇が抑圧される。これにより薄膜コイルの温度上昇によ
る損傷を回避でき、また高い周波数による変調磁界を生
成する場合でも、効率良く変調磁界を形成して所望のデ
ータを確実に記録することが可能となる。

【００１２】また光ヘッドにおいて、対物レンズの光記
録媒体側の面に配置され、対物レンズの熱伝導度より少
なくとも数倍以上の熱伝導度を有する材料による熱伝導
膜と、この熱伝導膜上に形成されて、光記録媒体におけ
る光ビームの照射位置に所望の変調磁界を印加する薄膜
コイルとを備えるようにすれば、対物レンズに直接薄膜
コイルを配置する構成において、この薄膜ヘッドにおけ
る熱を熱伝導膜を介して対物レンズに効率良く伝搬する
ことができ、その分薄膜コイルの温度上昇が抑圧され
る。これにより薄膜コイルの損傷を回避でき、また高い
周波数による変調磁界を生成する場合でも、効率良く変
調磁界を形成して所望のデータを確実に記録することが
可能となる。

【００１３】これらによりこれらの光ヘッドにより光磁
気ディスク装置を構成して、高開口数により所望のデー
タを高密度記録する場合でも、薄膜コイルの熱損傷を未
然に防止して確実に所望のデータを記録することが可能
となる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、適宜図面を参照しながら本
発明の実施の形態を詳述する。

【００１５】（１）第１の実施の形態 （１−１）第１の実施の形態の構成 図２は、本発明の第１の実施の形態に係る光ディスク装
置を示すブロック図である。

【００１６】この光ディスク装置１において、光磁気デ
ィスク２は、ディスク基板上に垂直磁化膜でなる情報記
録層、透明の光透過層でなる保護膜が順次形成され、こ
の透明の保護膜が光ヘッド３側になるように光ディスク
装置１に装填される。さらに光磁気ディスク２は、この
情報記録層にレーザービームのガイド溝でなるグルーブ
が形成され、このグルーブが一定の周期より変位して蛇
行するように形成される。これにより光磁気ディスク２
は、このグルーブの蛇行を基準にして所定の角速度によ
り回転駆動できるようになされ、またこの蛇行の変位を
基準にしてレーザービーム照射位置のアドレスを検出で
きるようになされている。

【００１７】スピンドルモータ４は、サーボ回路５の制
御によりこの光磁気ディスク２を所定の回転速度により
回転駆動する。

【００１８】光ヘッド３は、内蔵の半導体レーザーより
出射されるレーザービームを対物レンズを介して光磁気
ディスク２の情報記録層に集光し、このレーザービーム
の戻り光を所定の受光素子により受光する。さらに光ヘ
ッド３は、この受光素子の出力信号を電流電圧変換処理
した後、所定のマトリックス回路により演算処理するこ
とにより、戻り光の偏波面に応じて信号レベルが変化す
る再生信号ＭＯ、戻り光の光量に応じて信号レベルが変
化する再生信号ＲＦ、フォーカスエラー量に応じて信号
レベルが変化するフォーカスエラー信号ＦＥ、グルーブ
に対するビームスポットの変位に応じて信号レベルが変
化するプッシュプル信号ＰＰを出力する。

【００１９】これらにより光ヘッド３は、光磁気ディス
ク２については、磁気カー効果を利用して光磁気ディス
ク２に記録されたデータを再生できるように構成され、
また光磁気ディスク２に代えて相変化型の光ディスク、
ピットにより所望のデータが記録された再生専用の光デ
ィスクが装填された場合、これら光ディスクに記録され
たデータを再生できるようになされている。

【００２０】また光ヘッド３は、記録時、レーザービー
ムの光量を再生時の光量から所定光量に間欠的に立ち上
げ、この状態で増幅回路６より出力される記録信号ＳＲ
によりレーザービーム照射位置に変調磁界を印加する。
これにより光ヘッド３は、記録信号ＳＲによる所望のデ
ータを熱磁気記録できるようになされている。これに対
して相変化型の光ディスクについては、記録信号ＳＲに
応じてレーザービームの光量を再生時の光量から所定光
量に立ち上げ、これによりこの種の光ディスクに順次マ
ークを形成して所望のデータを記録できるようになされ
ている。

【００２１】サーボ回路５は、プッシュプル信号ＰＰを
帯域制限することにより、グルーブの蛇行に応じて信号
レベルが変化するウォウブル信号を生成する。サーボ回
路５は、このウォウブル信号の信号レベルの変位が所定
の基本周期を中心にして変位するようにスピンドルモー
タ４を駆動し、これにより光磁気ディスク２を所定の回
転速度により回転駆動する。またサーボ回路５は、この
ウォウブル信号を周波数復調することにより、グルーブ
の蛇行により光磁気ディスク２に記録されたアドレスを
検出し、このアドレスを図示しないシステム制御回路に
出力する。

【００２２】さらにサーボ回路５は、フォーカスエラー
信号ＦＥの信号レベルが所定の信号レベルになるよう
に、光ヘッド３の対物レンズを光磁気ディスク２に接離
し、これにより光ヘッド３をフォーカス制御する。また
サーボ回路５は、プッシュプル信号ＰＰを帯域制限する
ことにより、トラッキングエラー量に応じて信号レベル
が変化するトラッキングエラー信号を生成し、このトラ
ッキングエラー信号の信号レベルが所定の信号レベルに
なるように光ヘッド３の対物レンズを光磁気ディスク２
の半径方向に可動し、これにより光ヘッド３をトラッキ
ング制御する。

【００２３】再生信号処理回路７は、再生信号ＭＯ、Ｒ
Ｆを選択的に処理することにより光磁気ディスク２に記
録されたデータＤ１を再生し、この再生したデータＤ１
を外部機器に出力する。データ処理回路８は、これとは
逆に外部機器より入力される入力データＤ２を所定の処
理手順により処理して記録信号ＳＲを生成する。増幅回
路６はこの記録信号ＳＲを増幅して光ヘッド３に内蔵の
変調コイルを駆動する。

【００２４】図３は、光ヘッド３の光学系を示す模式図
である。光ヘッド３において、半導体レーザー１３は、
所定の駆動信号ＳＬにより駆動されて、所定波長のレー
ザービームを射出する。このとき半導体レーザー１３
は、再生時においては、一定の光量によりレーザービー
ムを射出し、記録時においては、間欠的に光量を立ち上
げてレーザービームを射出する。

【００２５】続くコリメータレンズ１４は、半導体レー
ザー１３より射出されたレーザービームを平行光線に変
換し、続く整形レンズ１５は、このレーザービームの非
点収差を補正し、ビームスプリッタ１６を透過させて対
物レンズ１７に出射する。

【００２６】対物レンズ１７は、このレーザービームを
光ディスク１２の情報記録面に集光し、その戻り光を受
光する。これにより光ディスク装置１では、光ディスク
２が再生専用の光ディスクの場合、この戻り光の光量の
変化に応じて光ディスク２に記録されたデータを再生で
きるようになされている。また光ディスク２が相変化型
の光ディスクの場合、レーザービーム照射位置の結晶構
造を局所的に変化させて所望のデータを記録し、また戻
り光の光量変化に応じて記録したデータを再生できるよ
うになされている。

【００２７】さらに光ディスク２が追記型の光ディスク
の場合、レーザービーム照射位置を局所的に破壊して所
望のデータを記録し、また戻り光の光量変化に応じて記
録したデータを再生できるようになされている。これに
対して光ディスク２が光磁気ディスクの場合、対物レン
ズ１７に近接して配置した変調コイル１８を増幅回路６
より出力される記録信号ＳＲで駆動し、レーザービーム
照射位置に所定の変調磁界を印加することにより、熱磁
気記録の手法を適用して所望のデータを記録し、また戻
り光の偏光面の変化を検出して記録したデータを再生で
きるようになされている。

【００２８】これによりビームスプリッタ１６は、整形
レンズ１５より入射するレーザービームを透過して対物
レンズ１７に出射するのに対し、対物レンズ１７より入
射する戻り光を反射して光路を分離し、ビームスプリッ
タ２０に出射する。

【００２９】ビームスプリッタ２０は、この戻り光を透
過及び反射することにより、戻り光を２条の光束に分離
して出射する。

【００３０】レンズ２１は、ビームスプリッタ２０で反
射された戻り光を入射し、この戻り光を収束光束に変換
する。シリンドリカルレンズ２２は、レンズ２１より出
射される戻り光に非点収差を与える。光検出器２３は、
このシリンドリカルレンズ２２より出射される戻り光を
受光する。

【００３１】ここで光検出器２３は、受光面を所定形状
に分割し、分割した各受光面の受光結果を出力できるよ
うになされている。これにより光検出器２３は、図示し
ない電流電圧変換回路により各受光面の受光結果を電流
電圧変換した後、マトリックス回路により加減算処理す
ることにより、再生信号ＲＦ、プッシュプル信号ＰＰ、
フォーカスエラー信号ＦＥを検出できるようになされて
いる。

【００３２】これに対して１／２波長板２５は、ビーム
スプリッタ２０を透過した戻り光を入射し、この戻り光
の偏光面を変化させて、後述する偏光ビームスプリッタ
２７における戻り光の分離に適した偏光面により出射す
る。レンズ２６は、１／２波長板２５より出射する戻り
光を収束光束に変換する。偏光ビームスプリッタ２７
は、この戻り光を受け、所定の偏光成分を反射すると共
に残りを透過し、これにより偏光面に応じて相補的に光
量の変化する２条の光束に戻り光を分離する。

【００３３】光検出器２８及び２９は、この偏光ビーム
スプリッタ２７により分離された２条の光束をそれぞれ
受光し、受光光量に応じて信号レベルの変化する受光結
果を出力する。差動アンプ３０は、電流電圧変換回路を
介して、この２つの光検出器２８及び２９の受光結果を
受け、その差動増幅結果を得ることにより、戻り光の偏
光面に応じて信号レベルが変化する再生信号ＭＯを出力
する。

【００３４】これらにより光ヘッド３は、各種の光ディ
スク２を対象にして、所望のデータを記録し、また記録
したデータを再生できるようになされている。

【００３５】図１は、この光ヘッド３の対物レンズ１７
の周辺構成を示す断面図である。この対物レンズ１７
は、先玉レンズ１７Ａ及び後玉レンズ１７Ｂにより構成
される。ここでこの先玉レンズ１７Ａ及び後玉レンズ１
７Ｂは、共にレーザービームに対して透明な白板ガラ
ス、青板ガラス又は石英ガラス等を所定の形状に加工し
て形成され、それぞれレンズホルダー４１及び４２に保
持され、これらレンズホルダー４１及び４２により同軸
状に保持された状態で、図示しない駆動アクチュエータ
により図面上にて上下左右に可動できるようになされて
いる。これにより光ディスク装置１では、先玉レンズ１
７Ａ及び後玉レンズ１７Ｂを一体に可動してトラッキン
グ制御及びフォーカス制御できるようになされている。
なお、フォーカス制御において、先玉レンズ１７Ａ及び
後玉レンズ１７Ｂは、間隔が変化するように制御され、
これにより球面収差を補正するようになされている。

【００３６】さらにこの先玉レンズ１７Ａ及び後玉レン
ズ１７Ｂは、レーザービームの入射側でなる後玉レンズ
１７Ｂが比較的大口径に形成されるのに対し、光ディス
ク２側の先玉レンズ１７Ａが小口径により形成され、対
物レンズ１７全体として大きな開口数になるように各焦
点距離及び間隔が設定されるようになされている。これ
により光ヘッド３は、充分なマージンを確保して、所望
のデータを高密度記録できるようになされている。さら
に先玉レンズ１７Ａ及び後玉レンズ１７Ｂは、光磁気デ
ィスク２に近接して配置し得るように各焦点距離及び間
隔が設定され、これらにより光ヘッド３は、先玉レンズ
１７Ａ及び後玉レンズ１７Ｂを小型に形成して高開口数
を得ることができるように構成され、その分全体形状を
小型化できるようになされている。

【００３７】このように形成される対物レンズ１７にお
いて、先玉レンズ１７Ａは、光磁気ディスク２側のレン
ズ面が平坦に形成される。

【００３８】コイル支持部材４３は、この先玉レンズ１
７Ａの平坦な面と平行に、ホルダー４４を介してホルダ
ー４１に配置される。ここでコイル支持部材４３は、レ
ーザービームに対して透明な白板ガラス、青板ガラス又
は石英ガラス等が平板状に成形されてなり、その光磁気
ディスク２と対向する面に薄膜コイル４５が配置される
ようになされている。これにより光ヘッド３は、この薄
膜コイル４５によりレーザービーム照射位置に変調磁界
を印加するようになされている。

【００３９】図４に光磁気ディスク２側より見て詳細に
薄膜コイル４５を示すように、またこの図４をＡ−Ａ線
により断面を取って図５に示すように、薄膜コイル４５
は、熱伝導膜４６、磁性層４７、絶縁層４８を順次介し
てコイル支持部材４３上に形成される。

【００４０】ここで熱伝導膜４６は、スパッタにより、
レーザービームに対して透明で、かつコイル支持部材４
３を構成するガラス材に比べて熱伝導率の高い部材であ
る酸化アルミニウム（Ａｌ₂ Ｏ₃ ）膜、窒化アルミニウ
ム（ＡｌＮ）膜又は窒化ホウ素（ＢＮ）膜をコイル支持
部材４３の薄膜コイル４５側面に成膜して形成され、薄
膜コイル４５による熱をコイル支持部材４３に効率良く
伝導する。熱伝導膜４６は、レーザービームの複屈折を
実用上充分に小さな範囲に留めることができるように、
５〔μｍ〕以下の範囲で、好ましくは１〔μｍ〕の膜厚
により形成される。

【００４１】これに対して磁性層４７は、例えばＮｉ−
Ｆｅ合金、Ｃｏ系アモルファス合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ
合金、Ｆｅ−Ｃ合金とＮｉ−Ｆｅ合金の積層体、Ｆｅ−
Ｔａ−Ｎ合金、Ｍｎ−Ｚｎフェライト等の磁性材料、又
はこれらの磁性材料の組み合わせによる材料をスパッタ
等により熱伝導膜４６上に成膜した後、エッチングプロ
セスによりエッチングしてリング形状に形成される。こ
れにより磁性層４７は、薄膜コイル４５より光磁気ディ
スク２に効率良く変調磁界を印加できるように、薄膜コ
イル４５の磁気回路を構成する。さらに磁性層４７は、
中心の開口４７Ａによりレーザービームを通過する窓を
形成する。なおこの開口４７Ａは、この実施の形態にお
いて、例えば直径が１１０〔μｍ〕程度に形成される。
なおこの実施の形態において、磁性層４７は、導電性を
有する磁性材料により形成される。

【００４２】絶縁層４８は、磁性層４７と薄膜コイル４
５とを絶縁するために配置される。ここで絶縁層４８
は、絶縁材料でなるレジスト材料、ポリイミド又はアク
リル樹脂等により構成される。この実施の形態におい
て、絶縁層４８は、感光性のアクリル樹脂を用いたフォ
トリソグラフィーにより、薄膜コイル４５の内周側及び
外周側の所定箇所を除く部分にて磁性層４７とほぼ重な
り合うように形成される。これにより絶縁層４８は、磁
性層４７の開口４７Ａを通過するレーザービームを遮ら
ないように、またこの薄膜コイル４５の内周側の所定箇
所にて薄膜コイル４５と磁性層４７とを導通させ、また
磁性層４７と配線パターン４９とを導通されるようにな
されている。

【００４３】薄膜コイル４５は、例えば電解メッキ等に
よりＣｕ、Ａｇ、Ａｕ等の導電性の金属材料等による薄
膜が形成された後、フォトリソグラフィー技術を用いて
磁性層４７の開口４７Ａを囲むようにスパイラル状に形
成される。これにより薄膜コイル４５は、記録信号ＳＲ
に応じて光磁気ディスク２の情報記録層を垂直に横切る
変調磁界を形成する。

【００４４】薄膜コイル４５は、このようにしてスパイ
ラル状に形成された中心側の一端４５Ａが、絶縁層４８
について上述した箇所４５Ａにて磁性層４７に接続され
る。また他端４５Ｂが幅広に拡大して磁性層４７が形成
されていない箇所にまで引き出され、これにより記録信
号ＳＲを供給するための１の電極４５Ｃが形成される。

【００４５】これに対して光ヘッド３では、この電極４
５Ｃと対を形成する電極４５Ｄの配線パターン４９が、
この薄膜コイル４５と同一工程により作成される。ここ
でこの配線パターン４９は、絶縁層４８について上述し
た外周側の箇所４５Ｅにて磁性層４７に接続され、これ
により薄膜コイル４５の内周側端を磁性層４７を介して
電極４５Ｄまで引き出すようになされている。

【００４６】光ヘッド３では、絶縁層４８と同一材質の
絶縁材料が薄膜コイル４５を覆うように、また電極４５
Ｃ及び４５Ｄが露出するように配置され、これにより薄
膜コイル４５の保護層５０が形成される。これにより光
ヘッド３では、薄膜コイル４５が絶縁材料の中に埋め込
まれた形とされて保護されるようになされている。

【００４７】（１−２）第１の実施の形態の動作 以上の構成において、この光ディスク装置１は（図
２）、外部機器より入力される入力データＤ１が光磁気
ディスク２への記録に適したフォーマットにより記録信
号ＳＲに変換される。また光ヘッド３より出射されるレ
ーザービームが、間欠的に再生時の光量より所定光量に
立ち上げられて光磁気ディスク２の情報記録面に集光さ
れ、このレーザービーム照射位置に記録信号ＳＲによる
変調磁界が印加され、これによりこのレーザービームの
走査軌跡に記録信号ＳＲに応じたマークが形成されて入
力データＤ１が熱磁気記録される。

【００４８】また再生時においては（図３）、レーザー
ビームを照射して得られる戻り光より、戻り光の偏波面
に応じて信号レベルが変化する再生信号ＭＯが生成さ
れ、この再生信号ＭＯが再生信号処理回路７により処理
され、これにより磁気カー効果を利用して光磁気ディス
ク２に記録されたデータが再生される。

【００４９】この記録再生におけるレーザービームの照
射において、光ヘッド３は、半導体レーザー１３より出
射したレーザービームを平行光線に変換した後、対物レ
ンズ１７を介して光磁気ディスク２に集光し、またこの
光磁気ディスク２より得られる戻り光を対物レンズ１７
で受光して光検出器２３、２８、２９に導き、これによ
り光磁気ディスク２の記録再生に必要な種々の信号Ｍ
Ｏ、ＲＦ等を生成する。

【００５０】この対物レンズ１７において（図１）、光
ヘッド３は、光磁気ディスク２に近接して同軸状に保持
された後玉レンズ１７Ｂ、先玉レンズ１７Ａを順次介し
て半導体レーザー１３のレーザービームを光磁気ディス
ク２に集光し、またこの光磁気ディスク２より得られる
戻り光を先玉レンズ１７Ａ、後玉レンズ１７Ｂを順次介
して受光する。光ヘッド３においては、これら先玉レン
ズ１７Ａ、後玉レンズ１７Ｂによる対物レンズ１７が大
開口数により光磁気ディスク２に近接して配置されてい
ることにより、全体として小型形状により所望のデータ
を高密度に記録し、また高密度に記録したデータを再生
することが可能となる。

【００５１】さらに光ヘッド３は、このように大開口数
により光磁気ディスク２に近接して配置されてなる対物
レンズ１７において、先玉レンズ１７Ａの光磁気ディス
ク２側に配置されたコイル支持部材４３に薄膜コイル４
５が配置され、記録時、この薄膜コイル４５により光磁
気ディスク２に変調磁界が印加される。これらの構成に
おいて光ヘッド３においては、変調磁界を印加するコイ
ルを薄膜により構成したことにより、先玉レンズ１７Ａ
と光磁気ディスク２との限られた空間を有効に利用して
コイルを配置することが可能となり、その分全体形状を
小型化することが可能となる。

【００５２】光ヘッド３は、この薄膜コイル４５が、ガ
ラスでなるコイル支持部材４３より熱伝導度の高い材料
による熱伝導膜４６を介してコイル支持部材４３に配置
されることにより、記録時において記録信号ＳＲにより
薄膜コイル４５を駆動して薄膜コイル４５が発熱する
と、この薄膜コイル４５の熱が熱伝導膜４６を介して効
率良くコイル支持部材４３に伝導される。これにより光
ヘッド３においては、薄膜コイル４５の温度上昇が抑圧
され、温度上昇による損傷が防止され、さらに温度上昇
による磁界発生効率の低下が有効に回避される。これら
により光ディスク装置１においては、高開口数により所
望のデータを高密度記録する場合でも、薄膜コイルの熱
損傷を未然に防止して確実に所望のデータを記録するこ
とが可能となる。

【００５３】さらにこのとき光ヘッド３は、薄膜コイル
４５の下層に配置された磁性層４７により薄膜コイル４
５の磁気回路が構成され、これにより効率良く光磁気デ
ィスク２に変調磁界が印加され、これによっても薄膜コ
イル４５の駆動電流を低減できることにより、その分薄
膜コイル４５の温度上昇が低減される。

【００５４】さらに光ヘッド３は、この薄膜コイル４５
全体が絶縁層４８、５０により保護されていることによ
り、その分誤って光磁気ディスク２に衝突した場合等の
損傷が有効に回避される。また磁性層４７（図４）を介
して、薄膜コイル４５の内側の一端が電極４５Ｄに引き
出されることにより、その分薄膜コイル４５が薄肉に形
成される。

【００５５】かくするにつき、実験した結果によれば、
図６に示すように、薄膜コイル４５の温度上昇が格段的
に低減されることを確認することができた。なおここで
符号Ｌ１は、単にコイル支持部材４３上に薄膜コイル４
５を直接配置した場合の薄膜コイル４５の温度であり、
符号Ｌ２は、Ａｌ₂ Ｏ₃ による熱伝導膜を形成した場合
の薄膜コイルの温度である。また符号Ｌ３は、ＡｌＮに
よる熱伝導膜を形成した場合の薄膜コイルの温度であ
り、符号Ｌ４は、ＢＮによる熱伝導膜を形成した場合の
薄膜コイルの温度である。

【００５６】これらは何れも薄膜コイル４５を同一形状
により形成したものであり、コイル支持部材として白板
ガラスを適用し、薄膜コイル４５に、１０ｋＡ／ｃｍ²
〜１００ｋＡ／ｃｍ² の電流密度で通電し、その時の温
度上昇を測定したものである。

【００５７】（１−３）第１の実施の形態の効果 以上の構成によれば、熱伝導度の高い材質による熱伝導
膜を介して、薄膜コイルをコイル支持部材上に形成する
ことにより、高開口数により所望のデータを高密度記録
する場合でも、薄膜コイルの熱損傷を未然に防止して確
実に所望のデータを記録することができる。

【００５８】（２）第２の実施の形態 図７は、図６との対比により本発明の第２の実施の形態
に係る光磁気ディスク装置に適用される光ヘッドを示す
断面図である。なおこの図７において、図６について上
述した実施の形態と同一の構成は、対応する符号を付し
て示し、重複した説明は省略する。

【００５９】この光ヘッドは、薄膜コイル５５を積層し
て形成する。すなわちこの光ヘッドにおいて、薄膜コイ
ル５５は、磁性層４７上に絶縁層４８を形成した後、第
１層の薄膜コイル５５Ａを形成し、続いて絶縁層を間に
挟んで、第２層の薄膜コイル５５Ｂを形成する。薄膜コ
イル５５は、これら第１層及び第２層の薄膜コイル５５
Ａ及び５５Ｂが内周側にて接続され、全体が絶縁性の樹
脂により保護される。

【００６０】図７に示す構成によれば、薄膜コイル４５
を積層して形成する場合でも、熱伝導度の高い材質によ
る熱伝導膜を介してコイル支持部材上に形成することに
より、薄膜コイルの熱損傷を未然に防止して確実に所望
のデータを記録することができる。

【００６１】（３）第３の実施の形態 図８は、第３の実施の形態に係る光ディスク装置に適用
される光ヘッドを示す部分拡大断面図である。この光ヘ
ッドにおいては、磁性層４７により絞りを構成する。

【００６２】図８に示す構成によれば、磁性層４７によ
り絞りを構成することにより、第１の実施の形態につい
て上述した効果に加えて、光ヘッドを簡易に組み立てる
ことができる。すなわちこのように絞りを構成すれば、
先玉レンズ１７Ａ、後玉レンズ１７Ｂの光軸の倒れによ
り、また、薄膜コイル４５の周辺部分の組立誤差によ
り、レーザビームの光軸が変位した場合でも、光磁気デ
ィスク２に形成されるビーム径の変動を低減することが
でき、その分光ヘッドを簡易に組み立てることができ
る。

【００６３】（４）他の実施の形態 なお上述の実施の形態においては、熱伝導膜としてＡｌ
₂ Ｏ₃ 、ＡｌＮ又はＢＮを適用した場合について述べた
が、本発明はこれに限らず、必要に応じて種々の材料に
よる薄膜を広く適用することができる。なおコイル支持
部材とほぼ同一の熱伝導率でなるＳｉＯ₂ により実験し
た結果によれば、熱伝送膜を形成しても殆ど薄膜コイル
の温度上昇を抑圧できないことにより、薄膜コイルの断
面形状、駆動電流等によっても種々に温度は変化するも
のの、少なくともコイル支持部材の熱伝導度より数倍以
上の熱伝導度を有する材料により熱伝導膜を形成して、
薄膜コイルの温度上昇を抑圧することができる。

【００６４】また上述の実施の形態においては、レーザ
ービームに対して透明でなるＡｌ₂Ｏ₃ 、ＡｌＮ又はＢ
Ｎにより熱伝導膜を構成する場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、レーザービームを透過しない例え
ばＣｕ等の材料により熱伝導膜を構成してもよい。なお
この場合必要に応じてレーザービームを通過させる開口
等の作成工程が必要となる。

【００６５】また上述の実施の形態においては、熱伝導
膜に直接磁性膜を形成する場合について述べたが、本発
明はこれに限らず、Ｃｒ膜等の接着層を介して熱伝導膜
上に磁性膜を形成してもよい。このようにすれば磁性膜
の密着強度を増大することができる。

【００６６】さらに上述の実施の形態においては、磁性
膜として導電性を有する材料を使用する場合について述
べたが、本発明はこれに限らず、絶縁性を有する材料に
より磁性膜を形成してもよい。

【００６７】また上述の実施の形態においては、磁性膜
により薄膜コイルの磁気回路を構成する場合について述
べたが、本発明はこれに限らず、必要に応じて磁性膜を
省略してもよい。

【００６８】また上述の実施の形態においては、先玉レ
ンズの光磁気ディスク側に配置したコイル支持部材に薄
膜コイルを配置する場合について述べたが、本発明はこ
れに限らず、先玉レンズの光磁気ディスク側に直接薄膜
コイルを配置する場合にも広く適用することができる。

【００６９】

【発明の効果】上述のように本発明によれば、薄膜コイ
ルにより変調磁界を印加するようにし、熱伝導度の高い
材質による熱伝導膜上にこの薄膜コイルを形成すること
により、高開口数により所望のデータを高密度記録する
場合でも、薄膜コイルの熱損傷を未然に防止して確実に
所望のデータを記録することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る光ディスク装
置に適用される光ヘッドを示す断面図である。

【図２】図１の光ディスク装置の全体構成を示すブロッ
ク図である。

【図３】図２の光ディスク装置の光ヘッドの光学系を示
す模式図である。

【図４】薄膜ヘッドを周辺構成と共に示す平面図であ
る。

【図５】図４をＡ−Ａ線により切り取って示す断面図で
ある。

【図６】熱伝導膜の説明に供する特性曲線図である。

【図７】第２の実施の形態に係る光ヘッドを示す断面図
である。

【図８】第３の実施の形態に係る光ヘッドを示す断面図
である。

【符号の説明】

１……光ディスク装置、２……光磁気ディスク、３……
光ヘッド、１７……対物レンズ、１７Ａ……先玉レン
ズ、１７Ｂ……後玉レンズ、４５、５５……薄膜コイ
ル、４６……熱伝導膜、４７……磁性層、４８、５０…
…絶縁層

Claims (20)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源から出射された光ビームを光記録媒
   体に集光する対物レンズと、 前記対物レンズの前記光記録媒体側に配置され、前記光
   ビームを透過するコイル支持部材と、 前記コイル支持部材の表面に形成され、前記コイル指示
   部材の熱伝導度より少なくとも数倍以上の熱伝導度を有
   する材料による熱伝導膜と、 前記熱伝導膜上に形成され、前記光記録媒体における前
   記光ビームの照射位置に所望の変調磁界を印加する薄膜
   コイルとを備えることを特徴とする光ヘッド。
2. 【請求項２】 前記対物レンズは、複数のレンズを組み
   合わせて形成されたことを特徴とする請求項１に記載の
   光ヘッド。
3. 【請求項３】 前記熱伝導膜の材料は、絶縁材料でなる
   ことを特徴とする請求項１に記載の光ヘッド。
4. 【請求項４】 前記熱伝導膜の材料は、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、Ａ
   ｌＮ、ＢＮからなる群から選ばれた少なくとも１種類の
   材料であることを特徴とする請求項１に記載の光ヘッ
   ド。
5. 【請求項５】 前記熱伝導膜の材料は、導電性の材料で
   あり、 前記熱伝導膜及び前記薄膜コイルの間に、絶縁材料によ
   る絶縁膜を形成したことを特徴とする請求項１に記載の
   光ヘッド。
6. 【請求項６】 前記熱伝導膜により前記光ビームの絞り
   を形成したことを特徴とする請求項１に記載の光ヘッ
   ド。
7. 【請求項７】 前記熱伝導膜及び前記薄膜コイルの間に
   磁性材料による薄膜を形成したことを特徴とする請求項
   １に記載の光ヘッド。
8. 【請求項８】 前記磁性材料による薄膜により前記光ビ
   ームの絞りを形成したことを特徴とする請求項７に記載
   の光ヘッド。
9. 【請求項９】 光源から出射された光ビームを光記録媒
   体に集光する対物レンズと、 前記対物レンズの前記光記録媒体側の面に配置され、前
   記対物レンズの熱伝導度より少なくとも数倍以上の熱伝
   導度を有する材料による熱伝導膜と、 前記熱伝導膜上に形成され、前記光記録媒体における前
   記光ビームの照射位置に所望の変調磁界を印加する薄膜
   コイルとを備えることを特徴とする光ヘッド。
10. 【請求項１０】 前記対物レンズは、複数のレンズを組
    み合わせて形成されたことを特徴とする請求項９に記載
    の光ヘッド。
11. 【請求項１１】 前記熱伝導膜の材料は、絶縁材料でな
    ることを特徴とする請求項９に記載の光ヘッド。
12. 【請求項１２】 前記熱伝導膜の材料は、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、
    ＡｌＮ、ＢＮからなる群から選ばれた少なくとも１種類
    の材料であることを特徴とする請求項９に記載の光ヘッ
    ド。
13. 【請求項１３】 前記熱伝導膜の材料は、導電性の材料
    であり、 前記熱伝導膜及び前記薄膜コイルの間に、絶縁材料によ
    る絶縁膜を形成したことを特徴とする請求項９に記載の
    光ヘッド。
14. 【請求項１４】 前記熱伝導膜により前記光ビームの絞
    りを形成したことを特徴とする請求項９に記載の光ヘッ
    ド。
15. 【請求項１５】 前記熱伝導膜及び前記薄膜コイルの間
    に磁性材料により薄膜を形成したことを特徴とする請求
    項９に記載の光ヘッド。
16. 【請求項１６】 前記磁性材料による薄膜により前記光
    ビームの絞りを形成したことを特徴とする請求項１５に
    記載の光ヘッド。
17. 【請求項１７】 光ヘッドより出射される光ビームによ
    り光磁気ディスクに所望の情報を熱磁気記録する光磁気
    ディスク装置において、 前記光ヘッドは、 光源から出射された光ビームを光記録媒体に集光する対
    物レンズと、 前記対物レンズの前記光記録媒体側に配置され、前記光
    ビームを透過するコイル支持部材と、 前記コイル支持部材の表面に形成され、前記コイル支持
    部材の熱伝導度より少なくとも数倍以上の熱伝導度を有
    する材料による熱伝導膜と、 前記熱伝導膜上に形成され、前記光記録媒体における前
    記光ビームの照射位置に所望の変調磁界を印加する薄膜
    コイルとを有することを特徴とする光磁気ディスク装
    置。
18. 【請求項１８】 前記対物レンズは、複数のレンズを組
    み合わせて形成されたことを特徴とする請求項１７に記
    載の光磁気ディスク装置。
19. 【請求項１９】 光ヘッドより出射される光ビームによ
    り光磁気ディスクに所望の情報を熱磁気記録する光磁気
    ディスク装置において、 前記光ヘッドは、 光源から出射された光ビームを光記録媒体に集光する対
    物レンズと、 前記対物レンズの前記光記録媒体側の面に配置され、前
    記対物レンズの熱伝導度より少なくとも数倍以上の熱伝
    導度を有する材料による熱伝導膜と、 前記熱伝導膜上に形成され、前記光記録媒体における前
    記光ビームの照射位置に所望の変調磁界を印加する薄膜
    コイルとを有することを特徴とする光磁気ディスク装
    置。
20. 【請求項２０】 前記対物レンズは、複数のレンズを組
    み合わせて形成されたことを特徴とする請求項１９に記
    載の光磁気ディスク装置。