JPH11320262A - 放電加工制御方法および制御装置 - Google Patents
放電加工制御方法および制御装置Info
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- JPH11320262A JPH11320262A JP10128822A JP12882298A JPH11320262A JP H11320262 A JPH11320262 A JP H11320262A JP 10128822 A JP10128822 A JP 10128822A JP 12882298 A JP12882298 A JP 12882298A JP H11320262 A JPH11320262 A JP H11320262A
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- B23H7/00—Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
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- B23H7/00—Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 放電加工面積が小さい場合にも、放電加工プ
ロセスを常に最適な状態とすることにより加工速度の改
善が可能な放電加工制御方法および制御装置を実現す
る。 【解決手段】 目標値と加工状態の検出量から差信号を
求め、差信号に比例ゲインをかけた量と差信号に第１の
積分ゲインをかけて積分して得られる量を加算した量を
第１の制御量として求め、指令値に第２の積分ゲインを
かけて積分して得られる量を第２の制御量として求め、
第１の制御量と第２の制御量とを加算して加工軌跡ベク
トルをかけて求めた量を、電極と被加工物との距離を調
整する駆動装置の制御量とする。
ロセスを常に最適な状態とすることにより加工速度の改
善が可能な放電加工制御方法および制御装置を実現す
る。 【解決手段】 目標値と加工状態の検出量から差信号を
求め、差信号に比例ゲインをかけた量と差信号に第１の
積分ゲインをかけて積分して得られる量を加算した量を
第１の制御量として求め、指令値に第２の積分ゲインを
かけて積分して得られる量を第２の制御量として求め、
第１の制御量と第２の制御量とを加算して加工軌跡ベク
トルをかけて求めた量を、電極と被加工物との距離を調
整する駆動装置の制御量とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、加工液中に電極と
被加工物を配置し、電極と被加工物の間に電圧を印加し
て放電を発生させて加工を行う放電加工制御方法および
制御装置に関するものである。
被加工物を配置し、電極と被加工物の間に電圧を印加し
て放電を発生させて加工を行う放電加工制御方法および
制御装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】加工液中に電極と被加工物を配置し、そ
れらの間に電圧を印加し、放電を発生させ加工を行う放
電加工機では、安定な加工状態を維持するために電極と
被加工物の距離を調整する極間制御系が構成されてい
る。図１１は例えば「放電加工のしくみと１００％活用
法」（技術評論社）、ｐ８８〜９０において説明されて
いる従来の極間制御系を含む加工制御系の構成を示す図
である。図において、１０１は放電加工プロセス、１０
２は加工状態検出部、１０３は目標値設定部、１０４は
差信号演算部、１０９は加工軌跡設定部、１１０は電極
駆動装置、１１１は加工パルス条件設定部、１１２は加
工電源、１１０１は制御量演算部である。また、ｙは放
電加工プロセス１０１の状態量、ｙｍは加工状態検出部
１０２により検出される状態量ｙの検出値、ｒは目標値
設定部１０３で設定されている加工状態の目標値、ｅは
差信号演算部１０４により検出値ｙｍと目標値ｒから求
められる差信号、Ｒｖは加工軌跡設定部１０９で設定さ
れている加工軌跡指令値、Ｕｐは制御量演算部１１０１
により差信号ｅと加工軌跡指令値Ｒｖから求められる制
御量、Ｍｐは電極駆動装置１１０により制御量Ｕｐにも
とづいて操作される電極操作量、Ｒｓは加工パルス条件
設定部１１１で設定されている加工パルス条件指令値、
Ｍｓは加工電源１１２により指令値Ｒｓにもとづいて操
作される加工パルス操作量である。なお、加工軌跡指令
値Ｒｖ、制御量ＵｐはＸＹＺ軸に対応するベクトル量、
電極駆動装置１１０はＸＹＺ軸駆動装置であり、電極操
作量ＭｐによりＸＹＺ軸方向に極間距離が制御される。
また、加工パレス条件指令値Ｒｓはオープン電圧、ピー
ク電流、パルスオンタイム、パルスオフタイムなどから
なる。
れらの間に電圧を印加し、放電を発生させ加工を行う放
電加工機では、安定な加工状態を維持するために電極と
被加工物の距離を調整する極間制御系が構成されてい
る。図１１は例えば「放電加工のしくみと１００％活用
法」（技術評論社）、ｐ８８〜９０において説明されて
いる従来の極間制御系を含む加工制御系の構成を示す図
である。図において、１０１は放電加工プロセス、１０
２は加工状態検出部、１０３は目標値設定部、１０４は
差信号演算部、１０９は加工軌跡設定部、１１０は電極
駆動装置、１１１は加工パルス条件設定部、１１２は加
工電源、１１０１は制御量演算部である。また、ｙは放
電加工プロセス１０１の状態量、ｙｍは加工状態検出部
１０２により検出される状態量ｙの検出値、ｒは目標値
設定部１０３で設定されている加工状態の目標値、ｅは
差信号演算部１０４により検出値ｙｍと目標値ｒから求
められる差信号、Ｒｖは加工軌跡設定部１０９で設定さ
れている加工軌跡指令値、Ｕｐは制御量演算部１１０１
により差信号ｅと加工軌跡指令値Ｒｖから求められる制
御量、Ｍｐは電極駆動装置１１０により制御量Ｕｐにも
とづいて操作される電極操作量、Ｒｓは加工パルス条件
設定部１１１で設定されている加工パルス条件指令値、
Ｍｓは加工電源１１２により指令値Ｒｓにもとづいて操
作される加工パルス操作量である。なお、加工軌跡指令
値Ｒｖ、制御量ＵｐはＸＹＺ軸に対応するベクトル量、
電極駆動装置１１０はＸＹＺ軸駆動装置であり、電極操
作量ＭｐによりＸＹＺ軸方向に極間距離が制御される。
また、加工パレス条件指令値Ｒｓはオープン電圧、ピー
ク電流、パルスオンタイム、パルスオフタイムなどから
なる。
【０００３】図１２は放電加工プロセス１０１を摸式的
に示す図である。図において、１２０１は電極、１２０
２は被加工物、１２０３は加工液、１２０４は電極１２
０１と被加工物１２０２の間に起きている放電、１２０
５は放電により加工されている放電面である。放電加工
機では、要求される加工精度、加工面粗さを満足し、加
工速度を最適にするために、次に説明するような極間制
御系が構成されている。
に示す図である。図において、１２０１は電極、１２０
２は被加工物、１２０３は加工液、１２０４は電極１２
０１と被加工物１２０２の間に起きている放電、１２０
５は放電により加工されている放電面である。放電加工
機では、要求される加工精度、加工面粗さを満足し、加
工速度を最適にするために、次に説明するような極間制
御系が構成されている。
【０００４】図１３は従来の極間制御系の動作内容を示
す図である。極間制御アルゴリズムの実行は一般にマイ
クロコンピュータによるソフトウエア処理で行われ、図
ではｋ回目の処理を示している。Ｓ２０１は加工状態検
出部１０２の処理であり、放電加工プロセスの加工状態
を例えば極間平均電圧ｙｍ（ｋ）として検出する。Ｓ２
０２は差信号演算部１０４の処理であり、極間平均電圧
の目標値ｒと該検出値ｙｍ（ｋ）から差信号ｅ（ｋ）を
求める。Ｓ１３０１は制御量演算部１１０１の処理であ
り、加工軌跡設定部１０９で設定されている加工軌跡指
令値Ｒｖと該差信号ｅ（ｋ）から制御量Ｕｐ（ｋ）を求
め、該制御量Ｕｐ（ｋ）を電極駆動装置１１０へ指令す
る。Ｋｐは比例ゲイン、Ｋｉは積分ゲインであり、一般
によく知られているＰＩ補償（比例＋積分補償）により
該検出値ｙｍ（ｋ）が該目標値ｒと一致するように電極
が操作される。
す図である。極間制御アルゴリズムの実行は一般にマイ
クロコンピュータによるソフトウエア処理で行われ、図
ではｋ回目の処理を示している。Ｓ２０１は加工状態検
出部１０２の処理であり、放電加工プロセスの加工状態
を例えば極間平均電圧ｙｍ（ｋ）として検出する。Ｓ２
０２は差信号演算部１０４の処理であり、極間平均電圧
の目標値ｒと該検出値ｙｍ（ｋ）から差信号ｅ（ｋ）を
求める。Ｓ１３０１は制御量演算部１１０１の処理であ
り、加工軌跡設定部１０９で設定されている加工軌跡指
令値Ｒｖと該差信号ｅ（ｋ）から制御量Ｕｐ（ｋ）を求
め、該制御量Ｕｐ（ｋ）を電極駆動装置１１０へ指令す
る。Ｋｐは比例ゲイン、Ｋｉは積分ゲインであり、一般
によく知られているＰＩ補償（比例＋積分補償）により
該検出値ｙｍ（ｋ）が該目標値ｒと一致するように電極
が操作される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】近年、単純な形状の電
極を用い、該電極をＮＣ制御により走査することにより
３次元形状の放電加工を行う加工方法が提案されてい
る。また、放電加工により微細加工を行う例が増えつつ
ある。このような加工においては、従来の加工に比べて
放電加工面積が小さく、その結果加工面移動速度が大き
くなるために、従来の極間制御系では定常偏差なく検出
値を目標値と一致させることが困難となる。すなわち、
放電加工プロセスの状態が最適な状態からずれることに
なり、加工速度の低下を招くという問題を生じていた。
極を用い、該電極をＮＣ制御により走査することにより
３次元形状の放電加工を行う加工方法が提案されてい
る。また、放電加工により微細加工を行う例が増えつつ
ある。このような加工においては、従来の加工に比べて
放電加工面積が小さく、その結果加工面移動速度が大き
くなるために、従来の極間制御系では定常偏差なく検出
値を目標値と一致させることが困難となる。すなわち、
放電加工プロセスの状態が最適な状態からずれることに
なり、加工速度の低下を招くという問題を生じていた。
【０００６】本発明は、かかる課題を解決するためにな
されたものであり、放電加工面積が小さい場合にも定常
偏査なく検出値を目標値と一致させ、放電加工プロセス
を常に最適な状態とすることにより加工速度の改善が可
能な放電加工制御方法および制御装置を実現することを
目的とする。
されたものであり、放電加工面積が小さい場合にも定常
偏査なく検出値を目標値と一致させ、放電加工プロセス
を常に最適な状態とすることにより加工速度の改善が可
能な放電加工制御方法および制御装置を実現することを
目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の第１の構成であ
る放電加工制御方法は、目標値と加工状態の検出量から
差信号を求め、該差信号に比例ゲインをかけた量と該差
信号に第１の積分ゲインをかけて積分して得られる量を
加算した量を第１の制御量として求め、指令値に第２の
積分ゲインをかけて積分して得られる量を第２の制御量
として求め、該第１の制御量と該第２の制御量とを加算
して加工軌跡ベクトルをかけて求めた量を、電極と被加
工物との距離を調整する駆動装置の制御量とするように
したものである。
る放電加工制御方法は、目標値と加工状態の検出量から
差信号を求め、該差信号に比例ゲインをかけた量と該差
信号に第１の積分ゲインをかけて積分して得られる量を
加算した量を第１の制御量として求め、指令値に第２の
積分ゲインをかけて積分して得られる量を第２の制御量
として求め、該第１の制御量と該第２の制御量とを加算
して加工軌跡ベクトルをかけて求めた量を、電極と被加
工物との距離を調整する駆動装置の制御量とするように
したものである。
【０００８】また、本発明の第２の構成である放電加工
制御方法は、第１の構成である放電加工制御方法におい
て、指令値は、加工パルス条件、放電面積、電極や被加
工物の材質のいずれか少なくとも一つに対応して予めデ
ータテーブルに登録されており、加工中に指令値を変更
設定するようにしたものである。
制御方法は、第１の構成である放電加工制御方法におい
て、指令値は、加工パルス条件、放電面積、電極や被加
工物の材質のいずれか少なくとも一つに対応して予めデ
ータテーブルに登録されており、加工中に指令値を変更
設定するようにしたものである。
【０００９】また、本発明の第３の構成である放電加工
制御方法は、第１の構成である放電加工制御方法におい
て、指令値は、電極または被加工物の位置信号と加工状
態の検出量、あるいは電極または被加工物の速度信号と
加工状態の検出量からプロセスパラメータを求め、該プ
ロセスパラメータにもとづいて加工中に自動調整される
ようにしたものである。
制御方法は、第１の構成である放電加工制御方法におい
て、指令値は、電極または被加工物の位置信号と加工状
態の検出量、あるいは電極または被加工物の速度信号と
加工状態の検出量からプロセスパラメータを求め、該プ
ロセスパラメータにもとづいて加工中に自動調整される
ようにしたものである。
【００１０】また、本発明の第４の構成である放電加工
制御方法は、第１の構成である放電加工制御方法におい
て、第２の積分ゲインは、加工中に作業者により調整す
るようにしたものである。
制御方法は、第１の構成である放電加工制御方法におい
て、第２の積分ゲインは、加工中に作業者により調整す
るようにしたものである。
【００１１】また、本発明の第５の構成である放電加工
制御方法は、第１の構成である放電加工制御方法におい
て、第２の制御量を、指令値に第２の積分ゲインをかけ
て積分し、積分により得られた量を少なくとも電極と被
加工物との距離を制御する駆動装置の逆システム特性を
含むフィルタによりフィルタリングして求めるようにし
たものである。
制御方法は、第１の構成である放電加工制御方法におい
て、第２の制御量を、指令値に第２の積分ゲインをかけ
て積分し、積分により得られた量を少なくとも電極と被
加工物との距離を制御する駆動装置の逆システム特性を
含むフィルタによりフィルタリングして求めるようにし
たものである。
【００１２】また、本発明の第６の構成である放電加工
制御装置は、電極と被加工物の間に電圧を印加して放電
を発生させるための加工電源、加工電源の加工パルス条
件を設定する加工パルス条件設定部、加工軌跡を設定す
る加工軌跡設定部、目標値を設定する目標設定部、加工
状態を検出する加工状態検出部、目標値と加工状態の検
出量から差信号を求める差信号演算部、差信号に比例ゲ
インをかけた量と差信号に第１の積分ゲインをかけて積
分して得られる量を加算した量を第１の制御量として求
める第１制御量演算部、指令値を設定する指令値設定
部、指令値に第２の積分ゲインをかけて積分して得られ
る量を第２の制御量として求める第２制御量演算部、第
１の制御量と第２の制御量とを加算し、加算結果に加工
軌跡設定部に設定されている軌跡ベクトルをかけ、電極
と被加工物との距離を調整する駆動装置の制御量を求め
る第３制御量演算部とを有するようにしたものである。
制御装置は、電極と被加工物の間に電圧を印加して放電
を発生させるための加工電源、加工電源の加工パルス条
件を設定する加工パルス条件設定部、加工軌跡を設定す
る加工軌跡設定部、目標値を設定する目標設定部、加工
状態を検出する加工状態検出部、目標値と加工状態の検
出量から差信号を求める差信号演算部、差信号に比例ゲ
インをかけた量と差信号に第１の積分ゲインをかけて積
分して得られる量を加算した量を第１の制御量として求
める第１制御量演算部、指令値を設定する指令値設定
部、指令値に第２の積分ゲインをかけて積分して得られ
る量を第２の制御量として求める第２制御量演算部、第
１の制御量と第２の制御量とを加算し、加算結果に加工
軌跡設定部に設定されている軌跡ベクトルをかけ、電極
と被加工物との距離を調整する駆動装置の制御量を求め
る第３制御量演算部とを有するようにしたものである。
【００１３】また、本発明の第７の構成である放電加工
制御装置は、第６の構成である放電加工制御装置におい
て、指令値は、加工条件や放電面積などに応じて予めテ
ーブルに登録されており、指令値は加工中に変更設定す
ることができる指令値設定部を有するようにしたもので
ある。
制御装置は、第６の構成である放電加工制御装置におい
て、指令値は、加工条件や放電面積などに応じて予めテ
ーブルに登録されており、指令値は加工中に変更設定す
ることができる指令値設定部を有するようにしたもので
ある。
【００１４】また、本発明の第８の構成である放電加工
制御装置は、第６の構成である放電加工制御装置におい
て、電極または被加工物の位置信号と加工状態の検出
量、あるいは電極または被加工物の速度信号と加工状態
の検出量からプロセスパラメータを求めるプロセス同定
部と、同定された該プロセスパラメータにもとづいて加
工中に該指令値を自動調整することができる指令値自動
調整部を有するようにしたものである。
制御装置は、第６の構成である放電加工制御装置におい
て、電極または被加工物の位置信号と加工状態の検出
量、あるいは電極または被加工物の速度信号と加工状態
の検出量からプロセスパラメータを求めるプロセス同定
部と、同定された該プロセスパラメータにもとづいて加
工中に該指令値を自動調整することができる指令値自動
調整部を有するようにしたものである。
【００１５】また、本発明の第９の構成である放電加工
制御装置は、第６の構成である放電加工制御装置におい
て、第２の積分ゲインを、加工中に作業者により調整で
きる積分ゲイン調整部を有するようにしたものである。
制御装置は、第６の構成である放電加工制御装置におい
て、第２の積分ゲインを、加工中に作業者により調整で
きる積分ゲイン調整部を有するようにしたものである。
【００１６】また、本発明の第１０の構成である放電加
工制御装置は、第６の構成である放電加工制御装置にお
いて、第２の制御量を、指令値に第２の積分ゲインをか
けて積分し、積分により得られた量を少なくとも電極と
被加工物との距離を制御する駆動装置の逆システム特性
を含むフィルタによりフィルタリングして求める第２制
御量演算部を有するようにしたものである。
工制御装置は、第６の構成である放電加工制御装置にお
いて、第２の制御量を、指令値に第２の積分ゲインをか
けて積分し、積分により得られた量を少なくとも電極と
被加工物との距離を制御する駆動装置の逆システム特性
を含むフィルタによりフィルタリングして求める第２制
御量演算部を有するようにしたものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】実施の形態１．図１は本発明の実
施の形態１である放電加工制御系を表す図である。図に
おいて、１０１〜１０４、１０９〜１１２は従来例に示
したものと同じである。また、状態量ｙ、検出値ｙｍ、
加工状態の目標値ｒ１、差信号ｅ、加工軌跡指令値Ｒ
ｖ、制御量Ｕｐ、電極操作量Ｍｐ、加工パルス条件指令
値Ｒｓ、加工パルス操作量Ｍｓの意味するところは従来
例に示したものと同じである。１０５は第１制御量演算
部、１０６は指令値設定部、１０７は第２制御量演算
部、１０８は第３制御量演算部である。また、ｕ１は第
１制御量演算部１０５により差信号ｅから求められる第
１の制御量、ｒ２は指定値設定部１０６で設定されてい
る指令値、ｕ２は第２制御量演算部１０７Ｂにより指令
値ｒ２から求められる第２の制御量、Ｕｐは第３制御量
演算部１０８により第１の制御量ｕ１と第２の制御量ｕ
２から求められる。
施の形態１である放電加工制御系を表す図である。図に
おいて、１０１〜１０４、１０９〜１１２は従来例に示
したものと同じである。また、状態量ｙ、検出値ｙｍ、
加工状態の目標値ｒ１、差信号ｅ、加工軌跡指令値Ｒ
ｖ、制御量Ｕｐ、電極操作量Ｍｐ、加工パルス条件指令
値Ｒｓ、加工パルス操作量Ｍｓの意味するところは従来
例に示したものと同じである。１０５は第１制御量演算
部、１０６は指令値設定部、１０７は第２制御量演算
部、１０８は第３制御量演算部である。また、ｕ１は第
１制御量演算部１０５により差信号ｅから求められる第
１の制御量、ｒ２は指定値設定部１０６で設定されてい
る指令値、ｕ２は第２制御量演算部１０７Ｂにより指令
値ｒ２から求められる第２の制御量、Ｕｐは第３制御量
演算部１０８により第１の制御量ｕ１と第２の制御量ｕ
２から求められる。
【００１８】図２は図１に示した極間制御系の動作内容
を示す図である。極間制御アルゴリズムの実行は一般に
マイクロコンピュータによるソフトウエア処理で行わ
れ、図ではｋ回目の処理を示している。Ｓ２０１は加工
状態検出部１０２の処理である、放電加工プロセスの加
工状態を例えば極間平均電圧ｙｍ（ｋ）として検出す
る。Ｓ２０２は差信号演算部１０４の処理であり、極間
平均電圧の目標値ｒ１と該検出値ｙｍ（ｋ）から差信号
ｅ（ｋ）を求める。Ｓ２０３は第１制御量演算部の処理
であり、該差信号ｅ（ｋ）から第１の制御量ｕ１（ｋ）
を求める。ここで、Ｋｐ１は比例ゲイン、Ｋｉ１は第１
積分ゲインである。Ｓ２０４は第２制御量演算部１０７
の処理であり、指令値設定部１０６の指令値ｒ２から第
２の制御量ｕ２（ｋ）を求める。ここで、Ｋｉ２は第２
の積分ゲインである。Ｓ２０５は第３制御量演算部１０
８の処理であり、該第１の制御量ｕ１（ｋ）と該第２の
制御量ｕ２（ｋ）とを加算し、該加算値ｕ（ｋ）に該加
工軌跡設定部１０９に設定された加工軌跡指令値Ｒｖを
かけることにより制御量Ｕｐ（ｋ）を求める。いま、Ｕ
ｐ（ｋ）＝（ｕｐ＿ｘ（ｋ），ｕｐ＿ｙ（ｋ），ｕｚ＿
（ｋ））、Ｒｖ＝（ｒｖ＿ｘ，ｒｖ＿ｙ，ｒｖ＿ｚ）と
すると、制御量Ｕｐ（ｋ）は以下のような式で求められ
る。この求められた該制御量Ｕｐ（ｋ）は電極駆動装置
１１０に与えられる。
を示す図である。極間制御アルゴリズムの実行は一般に
マイクロコンピュータによるソフトウエア処理で行わ
れ、図ではｋ回目の処理を示している。Ｓ２０１は加工
状態検出部１０２の処理である、放電加工プロセスの加
工状態を例えば極間平均電圧ｙｍ（ｋ）として検出す
る。Ｓ２０２は差信号演算部１０４の処理であり、極間
平均電圧の目標値ｒ１と該検出値ｙｍ（ｋ）から差信号
ｅ（ｋ）を求める。Ｓ２０３は第１制御量演算部の処理
であり、該差信号ｅ（ｋ）から第１の制御量ｕ１（ｋ）
を求める。ここで、Ｋｐ１は比例ゲイン、Ｋｉ１は第１
積分ゲインである。Ｓ２０４は第２制御量演算部１０７
の処理であり、指令値設定部１０６の指令値ｒ２から第
２の制御量ｕ２（ｋ）を求める。ここで、Ｋｉ２は第２
の積分ゲインである。Ｓ２０５は第３制御量演算部１０
８の処理であり、該第１の制御量ｕ１（ｋ）と該第２の
制御量ｕ２（ｋ）とを加算し、該加算値ｕ（ｋ）に該加
工軌跡設定部１０９に設定された加工軌跡指令値Ｒｖを
かけることにより制御量Ｕｐ（ｋ）を求める。いま、Ｕ
ｐ（ｋ）＝（ｕｐ＿ｘ（ｋ），ｕｐ＿ｙ（ｋ），ｕｚ＿
（ｋ））、Ｒｖ＝（ｒｖ＿ｘ，ｒｖ＿ｙ，ｒｖ＿ｚ）と
すると、制御量Ｕｐ（ｋ）は以下のような式で求められ
る。この求められた該制御量Ｕｐ（ｋ）は電極駆動装置
１１０に与えられる。
【００１９】
【数１】
【００２０】図３は本発明の実施の形態１と従来例にお
ける加工中の電極平均電圧の偏差を表す図であり、図３
（ａ）は本発明の極間制御系により加工したときの極間
平均電圧の目標値と検出値との差、すなわち偏差、図３
（ｂ）は従来の極間制御系により加工したときのもので
ある。従来の極間制御系では定常偏差が発生しているの
に対して、本発明の極間制御系では定常偏差が殆どゼロ
に抑えられているのがわかる。これにより、本発明は従
来に比べて加工速度を大幅に改善することができる。
ける加工中の電極平均電圧の偏差を表す図であり、図３
（ａ）は本発明の極間制御系により加工したときの極間
平均電圧の目標値と検出値との差、すなわち偏差、図３
（ｂ）は従来の極間制御系により加工したときのもので
ある。従来の極間制御系では定常偏差が発生しているの
に対して、本発明の極間制御系では定常偏差が殆どゼロ
に抑えられているのがわかる。これにより、本発明は従
来に比べて加工速度を大幅に改善することができる。
【００２１】実施の形態２．図４は本発明の実施の形態
２である放電加工制御系を示す図である。図において、
１０１〜１０５、１０７〜１１２は実施の形態１に示し
たものと同じである。４０１は指令値設定変更部であ
り、指令値ｒ２は、加工パルス条件設定部１０５に設定
された加工パルス条件指令値Ｒｓ、ＣＡＭなどで予め求
められた放電面積、加工に使用する電極および被加工物
の材質に対応して設定変更される。ここで放電面積と
は、電極と被加工物が対向して実際に放電が発生してい
る領域であり、通常は加工深さにより変化する。したが
って、指令値ｒ２の設定変更は、加工軌跡設定部１０９
の加工軌跡指令値Ｒｖと放電面積にもとづいて加工中に
行われる。
２である放電加工制御系を示す図である。図において、
１０１〜１０５、１０７〜１１２は実施の形態１に示し
たものと同じである。４０１は指令値設定変更部であ
り、指令値ｒ２は、加工パルス条件設定部１０５に設定
された加工パルス条件指令値Ｒｓ、ＣＡＭなどで予め求
められた放電面積、加工に使用する電極および被加工物
の材質に対応して設定変更される。ここで放電面積と
は、電極と被加工物が対向して実際に放電が発生してい
る領域であり、通常は加工深さにより変化する。したが
って、指令値ｒ２の設定変更は、加工軌跡設定部１０９
の加工軌跡指令値Ｒｖと放電面積にもとづいて加工中に
行われる。
【００２２】図５は本発明の実施の形態２における指令
値ｒ２の設定変更のためのデータテーブルの一例を示す
図である。図に示すようにデータテーブルは電極／被加
工物の材質でＡ、Ｂ、Ｃ…に区分され、さらにその中で
加工パルス条件により、Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３…に区分さ
れ、それぞれのデータテーブルには放電面積と指令値の
関係が記述されている。
値ｒ２の設定変更のためのデータテーブルの一例を示す
図である。図に示すようにデータテーブルは電極／被加
工物の材質でＡ、Ｂ、Ｃ…に区分され、さらにその中で
加工パルス条件により、Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３…に区分さ
れ、それぞれのデータテーブルには放電面積と指令値の
関係が記述されている。
【００２３】図６は本発明の実施の形態２における指令
値設定変更の動作内容を示す図であり、図５に示すデー
タテーブルを利用して、指令値を求めるときの指令値設
定変更部４０６におけるｋ回目のソフトウエア処理を示
している。Ｓ６０１では加工に使用する電極／被加工物
の材質により区分Ａ、Ｂ、Ｃ…の中から一つの区分を選
択する。いま、仮にＡが選択されたとする。Ｓ６０２で
は区分Ａにおいて加工に使用する加工パルス条件より区
分Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３…の中から一つの区分を選択する。
いま、仮にＥ１が選択されたとする。Ｓ６０３では加工
軌跡指令値Ｒｖよりその時点の加工位置を検出し、放電
面積をＣＡＭデータより読み込む。Ｓ６０４では得られ
た放電面積とデータテーブルＥ１より内挿演算により指
令値ｒ２を決定する。以上のように処理することによ
り、加工に使用する電極／被加工物の材質、加工パルス
条件、放電面積の変化に対応して、適切な指令値を決定
することが可能となる。
値設定変更の動作内容を示す図であり、図５に示すデー
タテーブルを利用して、指令値を求めるときの指令値設
定変更部４０６におけるｋ回目のソフトウエア処理を示
している。Ｓ６０１では加工に使用する電極／被加工物
の材質により区分Ａ、Ｂ、Ｃ…の中から一つの区分を選
択する。いま、仮にＡが選択されたとする。Ｓ６０２で
は区分Ａにおいて加工に使用する加工パルス条件より区
分Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３…の中から一つの区分を選択する。
いま、仮にＥ１が選択されたとする。Ｓ６０３では加工
軌跡指令値Ｒｖよりその時点の加工位置を検出し、放電
面積をＣＡＭデータより読み込む。Ｓ６０４では得られ
た放電面積とデータテーブルＥ１より内挿演算により指
令値ｒ２を決定する。以上のように処理することによ
り、加工に使用する電極／被加工物の材質、加工パルス
条件、放電面積の変化に対応して、適切な指令値を決定
することが可能となる。
【００２４】以上は、データテーブルを用いた指令値決
定方法について説明したが、例えば円柱電極などを用
い、電極の消耗量を補正しながら加工を行う場合には、
加工パルス条件ごとに電極径と電極の消耗量補正のため
の電極送り勾配と指令値の関係を関数で記述しておいて
もよい。例えば、次式のように記述できる。ｒ２は指令
値、αは定数、Ｄは電極径、Ａは電極送り勾配である。
ここで、電極送り勾配Ａは電極をＸＹ平面にて単位距離
だけ送るときにＺ軸方向に距離Ａだけ送ることを意味す
る。
定方法について説明したが、例えば円柱電極などを用
い、電極の消耗量を補正しながら加工を行う場合には、
加工パルス条件ごとに電極径と電極の消耗量補正のため
の電極送り勾配と指令値の関係を関数で記述しておいて
もよい。例えば、次式のように記述できる。ｒ２は指令
値、αは定数、Ｄは電極径、Ａは電極送り勾配である。
ここで、電極送り勾配Ａは電極をＸＹ平面にて単位距離
だけ送るときにＺ軸方向に距離Ａだけ送ることを意味す
る。
【００２５】
【数２】
【００２６】なお、電極径Ｄのβ乗、電極送り勾配Ａの
γ乗の計算はテーラ展開による近似式で行っても良く、
次式のようになる。ここで、ｌｎは自然対数を意味す
る。
γ乗の計算はテーラ展開による近似式で行っても良く、
次式のようになる。ここで、ｌｎは自然対数を意味す
る。
【００２７】
【数３】
【００２８】以上のように、データテーブルに替えて関
数で記述することにより、データテーブルよりも少ない
データ量から指令値を求め、設定変更することが可能と
なる。
数で記述することにより、データテーブルよりも少ない
データ量から指令値を求め、設定変更することが可能と
なる。
【００２９】実施の形態３．図７は本発明の実施の形態
３である放電加工制御系を表す図である。図において、
１０１〜１０５、１０７〜１１２は実施の形態１に示し
たものと同じである。７０１はプロセス同定部、７０２
は指令値自動調整部である。ＵｍはＸＹＺ軸における電
極または被加工物の位置信号、あるいは速度信号を表し
ている。プロセス同定部７０１は、電極または被加工物
の位置信号と加工状態の検出量、あるいは電極または被
加工物の速度信号と加工状態の検出量からプロセスパラ
メータを演算により求める。指令値自動調整部７０２
は、求められた該プロセスパラメータにもとづいて、自
動的に指令値ｒ２を調整する。
３である放電加工制御系を表す図である。図において、
１０１〜１０５、１０７〜１１２は実施の形態１に示し
たものと同じである。７０１はプロセス同定部、７０２
は指令値自動調整部である。ＵｍはＸＹＺ軸における電
極または被加工物の位置信号、あるいは速度信号を表し
ている。プロセス同定部７０１は、電極または被加工物
の位置信号と加工状態の検出量、あるいは電極または被
加工物の速度信号と加工状態の検出量からプロセスパラ
メータを演算により求める。指令値自動調整部７０２
は、求められた該プロセスパラメータにもとづいて、自
動的に指令値ｒ２を調整する。
【００３０】プロセス同定部７０１では、例えば放電加
工プロセスモデルとして次式で記述されるＡＲＭＡＸ
（Ａｕｔｏ−Ｒｅｇｒｅｓｓｉｖｅ Ｍｏｖｉｎｇ Ａ
ｖｅｒａｇｅ ｅＸｏｇｅｎｉｏｕｓ）モデルを利用す
る。ここでＡ（ｚー1），Ｂ（ｚー1），Ｃ（ｚー1）は放電
加工プロセスの動特性を表し、ｙｍ（ｋ）は加工状態の
検出量、ｕｍ（ｋ）はＵｍ（ｋ）より求められる加工進
行方向における電極または被加工物の位置信号、あるい
は速度信号、ｗ（ｋ）は白色雑音である。
工プロセスモデルとして次式で記述されるＡＲＭＡＸ
（Ａｕｔｏ−Ｒｅｇｒｅｓｓｉｖｅ Ｍｏｖｉｎｇ Ａ
ｖｅｒａｇｅ ｅＸｏｇｅｎｉｏｕｓ）モデルを利用す
る。ここでＡ（ｚー1），Ｂ（ｚー1），Ｃ（ｚー1）は放電
加工プロセスの動特性を表し、ｙｍ（ｋ）は加工状態の
検出量、ｕｍ（ｋ）はＵｍ（ｋ）より求められる加工進
行方向における電極または被加工物の位置信号、あるい
は速度信号、ｗ（ｋ）は白色雑音である。
【００３１】
【数４】
【００３２】図８は本発明の実施の形態３におけるプロ
セス同定部７０１および指令値自動調整部７０２のｋ回
目のソフトウエア処理を示す図である。Ｓ８０１〜Ｓ８
０３はプロセス同定部７０１における処理、Ｓ８０４〜
８０７は指令値自動調整部７０２における処理である。
まず、Ｓ８０１では、ｙｍ（ｋ）とｕｍ（ｋ）を用い、
拡大最小２乗法によりＡ（ｚ-1）、Ｂ（ｚ-1）、Ｃ（ｚ
-1）の次式パラメータを逐次推定する。
セス同定部７０１および指令値自動調整部７０２のｋ回
目のソフトウエア処理を示す図である。Ｓ８０１〜Ｓ８
０３はプロセス同定部７０１における処理、Ｓ８０４〜
８０７は指令値自動調整部７０２における処理である。
まず、Ｓ８０１では、ｙｍ（ｋ）とｕｍ（ｋ）を用い、
拡大最小２乗法によりＡ（ｚ-1）、Ｂ（ｚ-1）、Ｃ（ｚ
-1）の次式パラメータを逐次推定する。
【００３３】
【数５】
【００３４】いま、前述のように放電加工プロセスを定
義すると、指令値ｒ２と定常偏差、すなわち差信号ｅ
（ｋ）の定常値との関係を解析的に求めることができ、
定常偏差をゼロとする指令値ｒ２が以下のような式で記
述できる。Ｐ1 は上述のプロセス同定部７０１において
推定された放電加工プロセスのパラメータ、Ｐ2 は電極
駆動装置１１０、第１制御演算部１０５、第２制御演算
部１０７、第３制御演算部１０８、加工状態検出部１０
２の既知パラメータである。 ｒ２＝Ｈ（Ｐ1 ，Ｐ2 ）
義すると、指令値ｒ２と定常偏差、すなわち差信号ｅ
（ｋ）の定常値との関係を解析的に求めることができ、
定常偏差をゼロとする指令値ｒ２が以下のような式で記
述できる。Ｐ1 は上述のプロセス同定部７０１において
推定された放電加工プロセスのパラメータ、Ｐ2 は電極
駆動装置１１０、第１制御演算部１０５、第２制御演算
部１０７、第３制御演算部１０８、加工状態検出部１０
２の既知パラメータである。 ｒ２＝Ｈ（Ｐ1 ，Ｐ2 ）
【００３５】したがって、プロセス同定部７０１により
精度よく放電加工プロセスのパラメータＰ1 が推定でき
るならば、指令値ｒ２はＰ1 とＰ2 を関数Ｈに代入する
ことにより決定できる。すなわち、実際の放電加工プロ
セスが線形モデルＡＲＭＡＸで記述できるならば、前述
にようなデータテーブルを予め準備しなくても、上式に
もとづく１回の調整で適切な指令値ｒ２を設定すること
が可能である。
精度よく放電加工プロセスのパラメータＰ1 が推定でき
るならば、指令値ｒ２はＰ1 とＰ2 を関数Ｈに代入する
ことにより決定できる。すなわち、実際の放電加工プロ
セスが線形モデルＡＲＭＡＸで記述できるならば、前述
にようなデータテーブルを予め準備しなくても、上式に
もとづく１回の調整で適切な指令値ｒ２を設定すること
が可能である。
【００３６】しかしながら、定常偏差が大きい加工状態
の場合には、実際の放電加工プロセスを線形モデルで記
述することは困難である。
の場合には、実際の放電加工プロセスを線形モデルで記
述することは困難である。
【００３７】そこで、Ｓ８０４では以下の式にもとづい
て複数回の調整により指令値ｒ２の修正を行う。ここ
で、λはゲイン、ｒ２（ｋー１）は（ｋー１）回目の設
定値ｒ２、Ｐ１（ｋ）はｋ回目の放電加工プロセスの推
定パラメータである。 ｒ２（ｉ）＝ｒ２（ｉ−１）＋λＨ（Ｐ1 （ｉ），Ｐ
2 ）
て複数回の調整により指令値ｒ２の修正を行う。ここ
で、λはゲイン、ｒ２（ｋー１）は（ｋー１）回目の設
定値ｒ２、Ｐ１（ｋ）はｋ回目の放電加工プロセスの推
定パラメータである。 ｒ２（ｉ）＝ｒ２（ｉ−１）＋λＨ（Ｐ1 （ｉ），Ｐ
2 ）
【００３８】Ｓ８０５では、ｒ２（ｋ）が最適な指令値
ｒ２に対して許容誤差Δε内にあるかどうかを判断す
る。もし、ｒ２ーΔε＜ｒ２（ｋ）＜ｒ２＋Δεならば
修正を終了する。もし、ｒ２ーΔε＜ｒ２（ｋ）＜ｒ２
＋ΔεでないならばＳ８０６の処理に進む。Ｓ８０６で
は、ｒ２（ｋ）が最大許容指令値ｒ２ｍａｘを越えてい
るかどうかを判断する。もし、ｒ２ｍａｘ＜ｒ２（ｋ）
ならば修正を終了する。もし、ｒ２ｍａｘ＜ｒ２（ｋ）
ならばＳ８０７の処理に進む。Ｓ８０７では、ｒ２
（ｋ）＝０とし、再び修正を開始する。
ｒ２に対して許容誤差Δε内にあるかどうかを判断す
る。もし、ｒ２ーΔε＜ｒ２（ｋ）＜ｒ２＋Δεならば
修正を終了する。もし、ｒ２ーΔε＜ｒ２（ｋ）＜ｒ２
＋ΔεでないならばＳ８０６の処理に進む。Ｓ８０６で
は、ｒ２（ｋ）が最大許容指令値ｒ２ｍａｘを越えてい
るかどうかを判断する。もし、ｒ２ｍａｘ＜ｒ２（ｋ）
ならば修正を終了する。もし、ｒ２ｍａｘ＜ｒ２（ｋ）
ならばＳ８０７の処理に進む。Ｓ８０７では、ｒ２
（ｋ）＝０とし、再び修正を開始する。
【００３９】以上のように、放電加工プロセスのパラメ
ータ同定と指令値の修正を繰り返し行うことにより、線
形モデルで記述することが困難な状態からでも最適な指
令値を求めることが可能となる。
ータ同定と指令値の修正を繰り返し行うことにより、線
形モデルで記述することが困難な状態からでも最適な指
令値を求めることが可能となる。
【００４０】なお、放電加工プロセスに変動がある場合
には、拡大最小２乗法に忘却係数を導入すればよい。ま
た、ｕｍ（ｋ）として位置信号を利用する場合には、そ
の差分信号を利用してもよい。
には、拡大最小２乗法に忘却係数を導入すればよい。ま
た、ｕｍ（ｋ）として位置信号を利用する場合には、そ
の差分信号を利用してもよい。
【００４１】実施の形態４．図９は本発明の実施の形態
４である放電加工制御系を表す図である。図において、
１０１〜１０６、１０８〜１１２は実施の形態１に示し
たものと同じである。９０１は積分ゲイン調整部、９０
２は第２制御量演算部である。積分ゲイン調整部９０１
は加工中に作業者により第２制御量演算部９０２の積分
ゲインを変更できるようにするためのものである。第２
制御量演算部９０２は積分ゲイン調整部９０１からの指
令にもとづいて変更された積分ゲインにより第２の制御
量を求める。以上により、放電加工プロセスの状況にあ
わせ、作業者が加工中に積分ゲインを調整できるため、
細かい調整が可能であり、また突発的な状況に対しても
対応が可能である。
４である放電加工制御系を表す図である。図において、
１０１〜１０６、１０８〜１１２は実施の形態１に示し
たものと同じである。９０１は積分ゲイン調整部、９０
２は第２制御量演算部である。積分ゲイン調整部９０１
は加工中に作業者により第２制御量演算部９０２の積分
ゲインを変更できるようにするためのものである。第２
制御量演算部９０２は積分ゲイン調整部９０１からの指
令にもとづいて変更された積分ゲインにより第２の制御
量を求める。以上により、放電加工プロセスの状況にあ
わせ、作業者が加工中に積分ゲインを調整できるため、
細かい調整が可能であり、また突発的な状況に対しても
対応が可能である。
【００４２】実施の形態５．図１０は本発明の実施の形
態５における極間制御アルゴリズムのｋ回目のソフトウ
エア処理を示す図である。Ｓ２０１〜Ｓ２０４の処理
は、図２に示したものと同じである。Ｓ１００１は第３
制御量演算部１０８の処理であり、まず、該第１の制御
量ｕ１（ｋ）に該加工軌跡設定部１０９に設定された加
工軌跡指令値ＲｖをかけてＵｐ１（ｋ）と、該第２の制
御量ｕ２（ｋ）に該加工軌跡設定部１０９に設定された
加工軌跡指令値ＲｖをかけてＵｐ２（ｋ）とを求める。
それぞれの演算は実施の形態１と同様である。次に、Ｘ
ＹＺ軸それぞれの駆動装置の逆システム特性を含むフィ
ルタＦ（ｚ-1）によりＵｐ２（ｋ）に対してフィルタリ
ングを行い、Ｕｐ２ｆ（ｋ）を求める。いま、Ｕｐ２
（ｋ）＝（ｕｐ２＿ｘ（ｋ），ｕｐ２＿ｙ（ｋ），ｕｐ
２＿ｚ（ｋ））、Ｕｐ２ｆ（ｋ）＝（ｕｐ２ｆ＿ｘ，ｕ
ｐ２ｆ＿ｙ，ｕｐ２ｆ＿ｚ（ｋ））、Ｆ（ｚ-1）＝（ｆ
＿ｘ（ｚー1），ｆ＿ｙ（ｚ-1），ｆ＿ｚ（ｚー1）とする
と、Ｕｐ２ｆ（ｋ）は以下のような式で求められる。最
後に、フィルタリングして得られる量Ｕｐ２ｆ（ｋ）と
Ｕｐ１（ｋ）とを加算することにより制御量Ｕｐ（ｋ）
を求める。求められた該制御量Ｕｐ（ｋ）は電極駆動装
置１１０に与えられる。 ｕｐ２ｆ＿ｘ（ｋ）＝ｆ＿ｘ（ｚー1）ｕｐ２＿ｘ（ｋ） ｕｐ２ｆ＿ｙ（ｋ）＝ｆ＿ｙ（ｚー1）ｕｐ２＿ｙ（ｋ） ｕｐ２ｆ＿ｚ（ｋ）＝ｆ＿ｚ（ｚー1）ｕｐ２＿ｚ（ｋ）
態５における極間制御アルゴリズムのｋ回目のソフトウ
エア処理を示す図である。Ｓ２０１〜Ｓ２０４の処理
は、図２に示したものと同じである。Ｓ１００１は第３
制御量演算部１０８の処理であり、まず、該第１の制御
量ｕ１（ｋ）に該加工軌跡設定部１０９に設定された加
工軌跡指令値ＲｖをかけてＵｐ１（ｋ）と、該第２の制
御量ｕ２（ｋ）に該加工軌跡設定部１０９に設定された
加工軌跡指令値ＲｖをかけてＵｐ２（ｋ）とを求める。
それぞれの演算は実施の形態１と同様である。次に、Ｘ
ＹＺ軸それぞれの駆動装置の逆システム特性を含むフィ
ルタＦ（ｚ-1）によりＵｐ２（ｋ）に対してフィルタリ
ングを行い、Ｕｐ２ｆ（ｋ）を求める。いま、Ｕｐ２
（ｋ）＝（ｕｐ２＿ｘ（ｋ），ｕｐ２＿ｙ（ｋ），ｕｐ
２＿ｚ（ｋ））、Ｕｐ２ｆ（ｋ）＝（ｕｐ２ｆ＿ｘ，ｕ
ｐ２ｆ＿ｙ，ｕｐ２ｆ＿ｚ（ｋ））、Ｆ（ｚ-1）＝（ｆ
＿ｘ（ｚー1），ｆ＿ｙ（ｚ-1），ｆ＿ｚ（ｚー1）とする
と、Ｕｐ２ｆ（ｋ）は以下のような式で求められる。最
後に、フィルタリングして得られる量Ｕｐ２ｆ（ｋ）と
Ｕｐ１（ｋ）とを加算することにより制御量Ｕｐ（ｋ）
を求める。求められた該制御量Ｕｐ（ｋ）は電極駆動装
置１１０に与えられる。 ｕｐ２ｆ＿ｘ（ｋ）＝ｆ＿ｘ（ｚー1）ｕｐ２＿ｘ（ｋ） ｕｐ２ｆ＿ｙ（ｋ）＝ｆ＿ｙ（ｚー1）ｕｐ２＿ｙ（ｋ） ｕｐ２ｆ＿ｚ（ｋ）＝ｆ＿ｚ（ｚー1）ｕｐ２＿ｚ（ｋ）
【００４３】加工中に加工パルス条件や放電面積が変化
した場合、それに応じて指令値を変更するが、その効果
は電極駆動装置の特性の影響を受けてしまう。上記のよ
うにフィルタリングを行うことにより、電極駆動装置の
特性をキャンセルすることができ、放電加工プロセスの
変動にすばやく対応することが可能となる。
した場合、それに応じて指令値を変更するが、その効果
は電極駆動装置の特性の影響を受けてしまう。上記のよ
うにフィルタリングを行うことにより、電極駆動装置の
特性をキャンセルすることができ、放電加工プロセスの
変動にすばやく対応することが可能となる。
【００４４】
【発明の効果】本発明の第１の構成である放電加工制御
方法によれば、目標値と加工状態の検出量から差信号を
求め、該差信号に比例ゲインをかけた量と該差信号に第
１の積分ゲインをかけて積分して得られる量を加算した
量を第１の制御量として求め、指令値に第２の積分ゲイ
ンをかけて積分して得られる量を第２の制御量として求
め、該第１の制御量と該第２の制御量とを加算して加工
軌跡ベクトルをかけて求めた量を、電極と被加工物との
距離を調整する駆動装置の制御量とするようにしたの
で、放電加工面積が小さい場合にも放電加工プロセスを
常に最適な状態とすることができ、加工速度の改善がで
きるという効果がある。
方法によれば、目標値と加工状態の検出量から差信号を
求め、該差信号に比例ゲインをかけた量と該差信号に第
１の積分ゲインをかけて積分して得られる量を加算した
量を第１の制御量として求め、指令値に第２の積分ゲイ
ンをかけて積分して得られる量を第２の制御量として求
め、該第１の制御量と該第２の制御量とを加算して加工
軌跡ベクトルをかけて求めた量を、電極と被加工物との
距離を調整する駆動装置の制御量とするようにしたの
で、放電加工面積が小さい場合にも放電加工プロセスを
常に最適な状態とすることができ、加工速度の改善がで
きるという効果がある。
【００４５】また、本発明の第２の構成である放電加工
制御方法によれば、上記第１の構成である放電加工制御
方法において、指令値は加工パルス条件、放電面積、電
極や被加工物の材質のいずれか少なくとも一つに応じて
予めデータテーブルに登録されており、加工中に指令値
を変更設定されるようにしたので、放電加工面積が小さ
い場合でも、しかも電極や被加工物の材質が異なる場
合、加工パルス条件や放電加工面積が加工中に変化する
ような場合においても放電加工プロセスを常に最適な状
態とすることができ、加工速度の改善ができるという効
果がある。
制御方法によれば、上記第１の構成である放電加工制御
方法において、指令値は加工パルス条件、放電面積、電
極や被加工物の材質のいずれか少なくとも一つに応じて
予めデータテーブルに登録されており、加工中に指令値
を変更設定されるようにしたので、放電加工面積が小さ
い場合でも、しかも電極や被加工物の材質が異なる場
合、加工パルス条件や放電加工面積が加工中に変化する
ような場合においても放電加工プロセスを常に最適な状
態とすることができ、加工速度の改善ができるという効
果がある。
【００４６】また、本発明の第３の構成である放電加工
制御方法によれば、上記第１の構成である放電加工制御
方法において、指令値は、電極または被加工物の位置信
号と加工状態の検出量、あるいは電極または被加工物の
速度信号と加工状態の検出量からプロセスパラメータを
求め、該プロセスパラメータにもとづいて加工中に自動
調整するようにしたので、放電加工面積が小さい場合
で、しかも放電加工プロセスが変動するような場合にお
いても放電加工プロセスを常に最適な状態とすることが
でき、加工速度の改善ができるという効果がある。
制御方法によれば、上記第１の構成である放電加工制御
方法において、指令値は、電極または被加工物の位置信
号と加工状態の検出量、あるいは電極または被加工物の
速度信号と加工状態の検出量からプロセスパラメータを
求め、該プロセスパラメータにもとづいて加工中に自動
調整するようにしたので、放電加工面積が小さい場合
で、しかも放電加工プロセスが変動するような場合にお
いても放電加工プロセスを常に最適な状態とすることが
でき、加工速度の改善ができるという効果がある。
【００４７】また、本発明の第４の構成である放電加工
制御方法によれば、上記第１の構成である放電加工制御
方法において、第２の積分ゲインは、加工中に作業者に
より調整するようにしたので、放電加工面積が小さい場
合で、しかも放電加工プロセスが突発的に変動するよう
な場合においても放電加工プロセスを常に最適な状態と
することができ、加工速度の改善ができるという効果が
ある。
制御方法によれば、上記第１の構成である放電加工制御
方法において、第２の積分ゲインは、加工中に作業者に
より調整するようにしたので、放電加工面積が小さい場
合で、しかも放電加工プロセスが突発的に変動するよう
な場合においても放電加工プロセスを常に最適な状態と
することができ、加工速度の改善ができるという効果が
ある。
【００４８】また、本発明の第５の構成である放電加工
制御方法によれば、上記第１の構成である放電加工制御
方法において、第２の制御量を、指令値に第２の積分ゲ
インをかけて積分し、積分により得られた量を少なくと
も電極と被加工物との距離を制御する駆動装置の逆シス
テム特性を含むフィルタによりフィルタリングして求め
るようにしたので、放電加工面積が小さい場合で、しか
も放電加工プロセスが変動するような場合においてもす
ばやく放電加工プロセスを最適な状態とすることがで
き、加工速度の改善ができるという効果がある。
制御方法によれば、上記第１の構成である放電加工制御
方法において、第２の制御量を、指令値に第２の積分ゲ
インをかけて積分し、積分により得られた量を少なくと
も電極と被加工物との距離を制御する駆動装置の逆シス
テム特性を含むフィルタによりフィルタリングして求め
るようにしたので、放電加工面積が小さい場合で、しか
も放電加工プロセスが変動するような場合においてもす
ばやく放電加工プロセスを最適な状態とすることがで
き、加工速度の改善ができるという効果がある。
【００４９】また、本発明の第６の構成である放電加工
制御装置によれば、電極と被加工物の間に電圧を印加し
て放電を発生させるための加工電源、加工電源の加工パ
ルス条件を設定する加工パルス条件設定部、加工軌跡を
設定する加工軌跡設定部、目標値を設定する目標値設定
部、加工状態を検出する加工状態検出部、目標値と加工
状態の検出量から差信号を求める差信号演算部、差信号
に比例ゲインをかけた量と差信号に第１の積分ゲインを
かけて積分して得られる量を加算した量を第１の制御量
として求める第１制御量演算部、指令値を設定する指令
値設定部、指令値に第２の積分ゲインをかけて積分して
得られる量を第２の制御量として求める第２制御量演算
部、第１の制御量と第２の制御量とを加算し、加算結果
に加工軌跡設定部に設定されている軌跡ベクトルをか
け、電極と被加工物との距離を調整する駆動装置の制御
量を求める第３制御量演算部とを有するようにしたの
で、放電加工面積が小さい場合にも放電加工プロセスを
常に最適な状態とすることができ、加工速度の改善がで
きるという効果がある。
制御装置によれば、電極と被加工物の間に電圧を印加し
て放電を発生させるための加工電源、加工電源の加工パ
ルス条件を設定する加工パルス条件設定部、加工軌跡を
設定する加工軌跡設定部、目標値を設定する目標値設定
部、加工状態を検出する加工状態検出部、目標値と加工
状態の検出量から差信号を求める差信号演算部、差信号
に比例ゲインをかけた量と差信号に第１の積分ゲインを
かけて積分して得られる量を加算した量を第１の制御量
として求める第１制御量演算部、指令値を設定する指令
値設定部、指令値に第２の積分ゲインをかけて積分して
得られる量を第２の制御量として求める第２制御量演算
部、第１の制御量と第２の制御量とを加算し、加算結果
に加工軌跡設定部に設定されている軌跡ベクトルをか
け、電極と被加工物との距離を調整する駆動装置の制御
量を求める第３制御量演算部とを有するようにしたの
で、放電加工面積が小さい場合にも放電加工プロセスを
常に最適な状態とすることができ、加工速度の改善がで
きるという効果がある。
【００５０】また、本発明の第７の構成である放電加工
制御装置によれば、上記第６の構成である放電加工制御
装置において、指令値は、加工条件や放電面積などに応
じて予めテーブルに登録されており、指令値は加工中に
変更設定することができる指令値設定部を有するように
したので、放電加工面積が小さい場合で、しかも電極や
被加工物の材質が異なる場合、加工パルス条件や放電加
工面積が加工中に変化するような場合においても放電加
工プロセスを常に最適な状態とすることができ、加工速
度の改善ができるという効果がある。
制御装置によれば、上記第６の構成である放電加工制御
装置において、指令値は、加工条件や放電面積などに応
じて予めテーブルに登録されており、指令値は加工中に
変更設定することができる指令値設定部を有するように
したので、放電加工面積が小さい場合で、しかも電極や
被加工物の材質が異なる場合、加工パルス条件や放電加
工面積が加工中に変化するような場合においても放電加
工プロセスを常に最適な状態とすることができ、加工速
度の改善ができるという効果がある。
【００５１】また、本発明の第８の構成である放電加工
制御装置によれば、上記第６の構成である放電加工制御
装置において、電極または被加工物の位置信号と加工状
態の検出量、あるいは電極または被加工物の速度信号と
加工状態の検出量からプロセスパラメータを求めるプロ
セス同定部と、同定された該プロセスパラメータにもと
づいて加工中に該指令値を自動調整することができる指
令値自動調整部を有するようにしたので、放電加工面積
が小さい場合で、しかも放電加工プロセスが変動するよ
うな場合においても放電加工プロセスを常に最適な状態
とすることができ、加工速度の改善ができるという効果
がある。
制御装置によれば、上記第６の構成である放電加工制御
装置において、電極または被加工物の位置信号と加工状
態の検出量、あるいは電極または被加工物の速度信号と
加工状態の検出量からプロセスパラメータを求めるプロ
セス同定部と、同定された該プロセスパラメータにもと
づいて加工中に該指令値を自動調整することができる指
令値自動調整部を有するようにしたので、放電加工面積
が小さい場合で、しかも放電加工プロセスが変動するよ
うな場合においても放電加工プロセスを常に最適な状態
とすることができ、加工速度の改善ができるという効果
がある。
【００５２】また、本発明の第９の構成である放電加工
制御装置によれば、上記第６の構成である放電加工制御
装置において、第２の積分ゲインは、加工中に作業者に
より調整することができる積分ゲイン調整部を有するよ
うにしたので、放電加工面積が小さい場合で、しかも放
電加工プロセスが突発的に変動するような場合において
も放電加工プロセスを常に最適な状態とすることがで
き、加工速度の改善ができるという効果がある。
制御装置によれば、上記第６の構成である放電加工制御
装置において、第２の積分ゲインは、加工中に作業者に
より調整することができる積分ゲイン調整部を有するよ
うにしたので、放電加工面積が小さい場合で、しかも放
電加工プロセスが突発的に変動するような場合において
も放電加工プロセスを常に最適な状態とすることがで
き、加工速度の改善ができるという効果がある。
【００５３】また、本発明の第１０の構成である放電加
工制御装置によれば、上記第６の構成である放電加工制
御装置において、第２の制御量を、指令値に第２の積分
ゲインをかけて積分し、積分により得られた量を少なく
とも電極と被加工物との距離を制御する駆動装置の逆シ
ステム特性を含むフィルタによりフィルタリングして求
める第２制御量演算部を有するようにしたので、放電加
工面積が小さい場合で、しかも放電加工プロセスが変動
するような場合においてもすばやく放電加工プロセスを
最適な状態とすることができ、加工速度の改善ができる
という効果がある。
工制御装置によれば、上記第６の構成である放電加工制
御装置において、第２の制御量を、指令値に第２の積分
ゲインをかけて積分し、積分により得られた量を少なく
とも電極と被加工物との距離を制御する駆動装置の逆シ
ステム特性を含むフィルタによりフィルタリングして求
める第２制御量演算部を有するようにしたので、放電加
工面積が小さい場合で、しかも放電加工プロセスが変動
するような場合においてもすばやく放電加工プロセスを
最適な状態とすることができ、加工速度の改善ができる
という効果がある。
【図１】 本発明の実施の形態１である放電加工制御系
を表す図である。
を表す図である。
【図２】 図１に示した極間制御系の動作内容を示す図
である。
である。
【図３】 本発明の実施の形態１と従来例における加工
中の極間平均電圧の偏差を表す図である。
中の極間平均電圧の偏差を表す図である。
【図４】 本発明の実施の形態２である放電加工制御系
を表す図である。
を表す図である。
【図５】 本発明の実施の形態２における指令値設定変
更のためのデータテーブルの一例を表す図である。
更のためのデータテーブルの一例を表す図である。
【図６】 本発明の実施の形態２における指令値設定変
更の動作内容を示す図である。
更の動作内容を示す図である。
【図７】 本発明の実施の形態３である放電加工制御系
を表す図である。
を表す図である。
【図８】 本発明の実施の形態３におけるプロセス同定
部および指令値自動調整部のｋ回目のソフトウエア処理
を示す図である。
部および指令値自動調整部のｋ回目のソフトウエア処理
を示す図である。
【図９】 本発明の実施の形態４である放電加工制御系
を表す図である。
を表す図である。
【図１０】 本発明の実施の形態５における極間制御ア
ルゴリズムのｋ回目のソフトウエア処理を示す図であ
る。
ルゴリズムのｋ回目のソフトウエア処理を示す図であ
る。
【図１１】 従来の極間制御系を含む加工制御系の構成
を示す図である。
を示す図である。
【図１２】 放電加工プロセスを摸式的に示す図であ
る。
る。
【図１３】 従来の極間制御系の動作内容を示す図であ
る。
る。
１０１ 放電加工プロセス、１０２ 加工状態検出部、
１０３ 目標値設定部、１０４ 差信号演算部、１０５
第１制御量演算部、１０６ 指令値設定部、１０７
第２制御量演算部、１０８ 第３制御量演算部、１０９
加工軌跡設定部、１１０ 電極駆動装置、１１１ 加
工パルス条件設定部、１１２ 加工電源、４０１ 指令
値設定変更部、７０１ プロセス同定部、７０２ 指令
値自動調整部、９０１ 積分ゲイン調整部、９０２ 第
２制御量演算部、１１０１ 制御量演算部、１２０１
電極、１２０２ 被加工物、１２０３ 加工液、１２０
４放電、１２０５ 放電加工面。
１０３ 目標値設定部、１０４ 差信号演算部、１０５
第１制御量演算部、１０６ 指令値設定部、１０７
第２制御量演算部、１０８ 第３制御量演算部、１０９
加工軌跡設定部、１１０ 電極駆動装置、１１１ 加
工パルス条件設定部、１１２ 加工電源、４０１ 指令
値設定変更部、７０１ プロセス同定部、７０２ 指令
値自動調整部、９０１ 積分ゲイン調整部、９０２ 第
２制御量演算部、１１０１ 制御量演算部、１２０１
電極、１２０２ 被加工物、１２０３ 加工液、１２０
４放電、１２０５ 放電加工面。
【手続補正書】
【提出日】平成１０年９月４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００２】
【従来の技術】加工液中に電極と被加工物を配置し、そ
れらの間に電圧を印加し、放電を発生させ加工を行う放
電加工機では、安定な加工状態を維持するために電極と
被加工物の距離を調整する極間制御系が構成されてい
る。図１１は例えば「放電加工のしくみと１００％活用
法」（技術評論社）、ｐ８８〜９０において説明されて
いる従来の極間制御系を含む加工制御系の構成を示す図
である。図において、１０１は放電加工プロセス、１０
２は加工状態検出部、１０３は目標値設定部、１０４は
差信号演算部、１０９は加工軌跡設定部、１１０は電極
駆動装置、１１１は加工パルス条件設定部、１１２は加
工電源、１１０１は制御量演算部である。また、ｙは放
電加工プロセス１０１の状態量、ｙｍは加工状態検出部
１０２により検出される状態量ｙの検出量、ｒは目標値
設定部１０３で設定されている加工状態の目標値、ｅは
差信号演算部１０４により検出量ｙｍと目標値ｒから求
められる差信号、Ｒｖは加工軌跡設定部１０９で設定さ
れている加工軌跡指令値、Ｕｐは制御量演算部１１０１
により差信号ｅと加工軌跡指令値Ｒｖから求められる制
御量、Ｍｐは電極駆動装置１１０により制御量Ｕｐにも
とづいて操作される電極操作量、Ｒｓは加工パルス条件
設定部１１１で設定されている加工パルス条件指令値、
Ｍｓは加工電源１１２により指令値Ｒｓにもとづいて操
作される加工パルス操作量である。なお、加工軌跡指令
値Ｒｖ、制御量ＵｐはＸＹＺ軸に対応するベクトル量、
電極駆動装置１１０はＸＹＺ軸駆動装置であり、電極操
作量ＭｐによりＸＹＺ軸方向に極間距離が制御される。
また、加工パルス条件指令値Ｒｓはオープン電圧、ピー
ク電流、パルスオンタイム、パルスオフタイムなどから
なる。
れらの間に電圧を印加し、放電を発生させ加工を行う放
電加工機では、安定な加工状態を維持するために電極と
被加工物の距離を調整する極間制御系が構成されてい
る。図１１は例えば「放電加工のしくみと１００％活用
法」（技術評論社）、ｐ８８〜９０において説明されて
いる従来の極間制御系を含む加工制御系の構成を示す図
である。図において、１０１は放電加工プロセス、１０
２は加工状態検出部、１０３は目標値設定部、１０４は
差信号演算部、１０９は加工軌跡設定部、１１０は電極
駆動装置、１１１は加工パルス条件設定部、１１２は加
工電源、１１０１は制御量演算部である。また、ｙは放
電加工プロセス１０１の状態量、ｙｍは加工状態検出部
１０２により検出される状態量ｙの検出量、ｒは目標値
設定部１０３で設定されている加工状態の目標値、ｅは
差信号演算部１０４により検出量ｙｍと目標値ｒから求
められる差信号、Ｒｖは加工軌跡設定部１０９で設定さ
れている加工軌跡指令値、Ｕｐは制御量演算部１１０１
により差信号ｅと加工軌跡指令値Ｒｖから求められる制
御量、Ｍｐは電極駆動装置１１０により制御量Ｕｐにも
とづいて操作される電極操作量、Ｒｓは加工パルス条件
設定部１１１で設定されている加工パルス条件指令値、
Ｍｓは加工電源１１２により指令値Ｒｓにもとづいて操
作される加工パルス操作量である。なお、加工軌跡指令
値Ｒｖ、制御量ＵｐはＸＹＺ軸に対応するベクトル量、
電極駆動装置１１０はＸＹＺ軸駆動装置であり、電極操
作量ＭｐによりＸＹＺ軸方向に極間距離が制御される。
また、加工パルス条件指令値Ｒｓはオープン電圧、ピー
ク電流、パルスオンタイム、パルスオフタイムなどから
なる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１８】図２は図１に示した極間制御系の動作内容
を示す図である。極間制御アルゴリズムの実行は一般に
マイクロコンピュータによるソフトウエア処理で行わ
れ、図ではｋ回目の処理を示している。Ｓ２０１は加工
状態検出部１０２の処理であり、放電加工プロセスの加
工状態を例えば極間平均電圧ｙｍ（ｋ）として検出す
る。Ｓ２０２は差信号演算部１０４の処理であり、極間
平均電圧の目標値ｒ１と該検出量ｙｍ（ｋ）から差信号
ｅ（ｋ）を求める。Ｓ２０３は第１制御量演算部の処理
であり、該差信号ｅ（ｋ）から第１の制御量ｕ１（ｋ）
を求める。ここで、ｋｐ１は比例ゲイン、ｋｉ１は第１
積分ゲインである。Ｓ２０４は第２制御量演算部１０７
の処理であり、指令値設定部１０６の指令値ｒ２から第
２の制御量ｕ２（ｋ）を求める。ここで、Ｋｉ２は第２
の積分ゲインである。Ｓ２０５は第３制御量演算部１０
８の処理であり、該第１の制御量ｕ１（ｋ）と該第２の
制御量ｕ２（ｋ）とを加算し、該加算値ｕ（ｋ）に該加
工軌跡設定部１０９に設定された加工軌跡指令値Ｒｖを
かけることにより制御量Ｕｐ（ｋ）を求める。いま、Ｕ
ｐ（ｋ）＝（ｕｐ＿ｘ（ｋ），ｕｐ＿ｙ（ｋ），ｕｐ＿
ｚ（ｋ））、Ｒｖ＝（ｒｖ＿ｘ，ｒｖ＿ｙ，ｒｖ＿ｚ）
とすると、制御量Ｕｐ（ｋ）は以下のような式で求めら
れる。この求められた該制御量Ｕｐ（ｋ）は電極駆動装
置１１０に与えられる。
を示す図である。極間制御アルゴリズムの実行は一般に
マイクロコンピュータによるソフトウエア処理で行わ
れ、図ではｋ回目の処理を示している。Ｓ２０１は加工
状態検出部１０２の処理であり、放電加工プロセスの加
工状態を例えば極間平均電圧ｙｍ（ｋ）として検出す
る。Ｓ２０２は差信号演算部１０４の処理であり、極間
平均電圧の目標値ｒ１と該検出量ｙｍ（ｋ）から差信号
ｅ（ｋ）を求める。Ｓ２０３は第１制御量演算部の処理
であり、該差信号ｅ（ｋ）から第１の制御量ｕ１（ｋ）
を求める。ここで、ｋｐ１は比例ゲイン、ｋｉ１は第１
積分ゲインである。Ｓ２０４は第２制御量演算部１０７
の処理であり、指令値設定部１０６の指令値ｒ２から第
２の制御量ｕ２（ｋ）を求める。ここで、Ｋｉ２は第２
の積分ゲインである。Ｓ２０５は第３制御量演算部１０
８の処理であり、該第１の制御量ｕ１（ｋ）と該第２の
制御量ｕ２（ｋ）とを加算し、該加算値ｕ（ｋ）に該加
工軌跡設定部１０９に設定された加工軌跡指令値Ｒｖを
かけることにより制御量Ｕｐ（ｋ）を求める。いま、Ｕ
ｐ（ｋ）＝（ｕｐ＿ｘ（ｋ），ｕｐ＿ｙ（ｋ），ｕｐ＿
ｚ（ｋ））、Ｒｖ＝（ｒｖ＿ｘ，ｒｖ＿ｙ，ｒｖ＿ｚ）
とすると、制御量Ｕｐ（ｋ）は以下のような式で求めら
れる。この求められた該制御量Ｕｐ（ｋ）は電極駆動装
置１１０に与えられる。
Claims (10)
- 【請求項１】 加工液中に電極と被加工物を配置し、該
電極と該被加工物の間に電圧を印加して放電を発生させ
加工を行う放電加工において、目標値と加工状態の検出
量から差信号を求め、該差信号に比例ゲインをかけた量
と該差信号に第１の積分ゲインをかけて積分して得られ
る量を加算した量を第１の制御量として求め、指令値に
第２の積分ゲインをかけて積分して得られる量を第２の
制御量として求め、該第１の制御量と該第２の制御量と
を加算して加工軌跡ベクトルをかけて求めた量を、電極
と被加工物との距離を調整する駆動装置の制御量とする
ことを特徴とする放電加工制御方法。 - 【請求項２】 該指令値は、加工パルス条件、放電面
積、電極や被加工物の材質のいずれか少なくとも一つに
対応して予めデータテーブルに登録されており、加工中
に該指令値を変更設定することを特徴とする請求項１記
載の放電加工制御方法。 - 【請求項３】 該指令値は、電極または被加工物の位置
信号と加工状態の検出量、あるいは電極または被加工物
の速度信号と加工状態の検出量からプロセスパラメータ
を求め、該プロセスパラメータにもとづいて加工中に自
動調整されることを特徴とする請求項１記載の放電加工
制御方法。 - 【請求項４】 該第２積分ゲインは、加工中に作業者に
より調整することを特徴とする請求項１記載の放電加工
制御方法。 - 【請求項５】 該第２の制御量を、指令値に第２の積分
ゲインをかけて積分し、該積分により得られた量を少な
くとも電極と被加工物との距離を制御する駆動装置の逆
システム特性を含むフィルタによりフィルタリングして
求めることを特徴とする請求項１記載の放電加工制御方
法。 - 【請求項６】 加工液中に電極と被加工物を配置し、該
電極と被加工物の間に電圧を印加して放電を発生させる
ための加工電源、該加工電源の加工パルス条件を設定す
る加工パルス条件設定部、加工軌跡を設定する加工軌跡
設定部、目標値を設定する目標値設定部、加工状態を検
出する加工状態検出部、該目標値と該加工状態の検出量
から差信号を求める差信号演算部、該差信号に比例ゲイ
ンをかけた量と該差信号に第１の積分ゲインをかけて積
分して得られる量を加算した量を第１の制御量として求
める第１制御量演算部、指令値を設定する指令値設定
部、該指令値に第２の積分ゲインをかけて積分して得ら
れる量を第２の制御量として求める第２制御量演算部、
該第１の制御量と該第２の制御量とを加算し、該加算結
果に該加工軌跡設定部に設定されている軌跡ベクトルを
かけ、電極と被加工物との距離を調整する駆動装置の制
御量を求める第３制御量演算部とを有することを特徴と
する放電加工制御装置。 - 【請求項７】 該指令値は、加工パルス条件、放電面
積、電極や被加工物の材質のいずれか少なくとも一つに
対応して予めデータテーブルに登録されており、加工中
に該指令値を変更設定することができる指令値設定変更
部を有することを特徴とする請求項６記載の放電加工制
御装置。 - 【請求項８】 電極または被加工物の位置信号と加工状
態の検出量、あるいは電極または被加工物の速度信号と
加工状態の検出量からプロセスパラメータを求めるプロ
セス同定部と、同定された該プロセスパラメータにもと
づいて加工中に該指令値を自動調整することができる指
令値自動調整部を有することを特徴とする請求項６記載
の放電加工制御装置。 - 【請求項９】 該第２の積分ゲインは、加工中に作業者
により調整することができる積分ゲイン調整部を有する
ことを特徴とする請求項６記載の放電加工制御装置。 - 【請求項１０】 該第２の制御量を、指令値に第２の積
分ゲインをかけて積分し、該積分により得られた量を少
なくとも電極と被加工物との距離を制御する駆動装置の
逆システム特性を含むフィルタによりフィルタリングし
て求める第２制御量演算部を有することを特徴とする請
求項６記載の放電加工制御装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12882298A JP3736118B2 (ja) | 1998-05-12 | 1998-05-12 | 放電加工制御方法および制御装置 |
| KR10-2000-7000177A KR100367368B1 (ko) | 1998-05-12 | 1998-12-04 | 방전가공 제어방법 및 방전가공 제어장치 |
| PCT/JP1998/005484 WO1999058278A1 (fr) | 1998-05-12 | 1998-12-04 | Procede de commande de l'usinage par etincelage et dispositif de commande de l'usinage par etincelage |
| EP98957174A EP1004384A4 (en) | 1998-05-12 | 1998-12-04 | CONTROL DEVICE AND CONTROL METHOD FOR A SPARK EROSION MACHINING MACHINE |
| TW087121273A TW414739B (en) | 1998-05-12 | 1998-12-19 | Method for controlling electric discharge processing and apparatus thereof |
| US09/423,388 US6385501B1 (en) | 1998-05-12 | 1999-12-04 | Electric discharge machining control method and electric discharge machining controller |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12882298A JP3736118B2 (ja) | 1998-05-12 | 1998-05-12 | 放電加工制御方法および制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11320262A true JPH11320262A (ja) | 1999-11-24 |
| JP3736118B2 JP3736118B2 (ja) | 2006-01-18 |
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ID=14994281
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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| Country | Link |
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| EP (1) | EP1004384A4 (ja) |
| JP (1) | JP3736118B2 (ja) |
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| TW (1) | TW414739B (ja) |
| WO (1) | WO1999058278A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| JP3808444B2 (ja) * | 2003-03-24 | 2006-08-09 | ファナック株式会社 | ワイヤ放電加工機の制御装置 |
| US20080314878A1 (en) * | 2007-06-22 | 2008-12-25 | General Electric Company | Apparatus and method for controlling a machining system |
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|---|---|---|---|---|
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| DE3808646C1 (ja) | 1988-03-15 | 1989-03-23 | Ag Fuer Industrielle Elektronik Agie Losone Bei Locarno, Losone, Ch | |
| JPH0649253B2 (ja) | 1988-07-27 | 1994-06-29 | 三菱電機株式会社 | 放電加工装置の電極間距離の制御装置 |
| US5310983A (en) | 1992-10-23 | 1994-05-10 | Industrial Technology Research Institute | Servo-controlled feed rate control device for CNC electric spark machines |
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| JP3279454B2 (ja) * | 1995-03-30 | 2002-04-30 | 三菱電機株式会社 | 放電加工装置 |
-
1998
- 1998-05-12 JP JP12882298A patent/JP3736118B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-04 EP EP98957174A patent/EP1004384A4/en not_active Withdrawn
- 1998-12-04 KR KR10-2000-7000177A patent/KR100367368B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-04 WO PCT/JP1998/005484 patent/WO1999058278A1/ja not_active Ceased
- 1998-12-19 TW TW087121273A patent/TW414739B/zh not_active IP Right Cessation
-
1999
- 1999-12-04 US US09/423,388 patent/US6385501B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20010021619A (ko) | 2001-03-15 |
| JP3736118B2 (ja) | 2006-01-18 |
| TW414739B (en) | 2000-12-11 |
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