JPH11320556A - 光学的予備成型品製造の蒸気送出制御の方法およびシステム - Google Patents
光学的予備成型品製造の蒸気送出制御の方法およびシステムInfo
- Publication number
- JPH11320556A JPH11320556A JP11102537A JP10253799A JPH11320556A JP H11320556 A JPH11320556 A JP H11320556A JP 11102537 A JP11102537 A JP 11102537A JP 10253799 A JP10253799 A JP 10253799A JP H11320556 A JPH11320556 A JP H11320556A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor
- liquid
- bubbler
- evaporator
- carrier gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
- B01J4/008—Feed or outlet control devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma- or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/86—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid by bubbling a gas through the liquid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/87—Controlling the temperature
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、光学的予備成型品製造の蒸気送出
制御方法及びそのシステムを提供する。 【解決手段】 キャリア・ガスを泡立てる供給液体を含
み、キャリア・ガスに飛沫同伴した蒸気の流れでバブラ
ーの蒸気を送出する、バブラーからの蒸気送出を制御す
る方法およびシステムについて述べる。概して、本発明
の実施例は、製造プロセスを通して蒸気に対するキャリ
ア・ガスの濃度レベルを所望のレベルに確実に維持する
ため、モニタして制御する特定の特徴として、バブラー
から出る蒸気の圧力を用いる。本発明の実施例は、バブ
ラーからのバブラー蒸気の流路内に濃度検出器を導入
し、濃度検出器の出力を濃度制御装置に入力させる。濃
度制御装置は、濃度検出器から受信した濃度値を、シス
テムに決定された所望の濃度値と比較する。測定した濃
度レベルと所望の濃度レベルとの不一致を補正するた
め、濃度制御装置が起動して弁を開閉し、これは、濃度
検出器としてバブラーを出るバブラー蒸気の流れの中に
配置される。
制御方法及びそのシステムを提供する。 【解決手段】 キャリア・ガスを泡立てる供給液体を含
み、キャリア・ガスに飛沫同伴した蒸気の流れでバブラ
ーの蒸気を送出する、バブラーからの蒸気送出を制御す
る方法およびシステムについて述べる。概して、本発明
の実施例は、製造プロセスを通して蒸気に対するキャリ
ア・ガスの濃度レベルを所望のレベルに確実に維持する
ため、モニタして制御する特定の特徴として、バブラー
から出る蒸気の圧力を用いる。本発明の実施例は、バブ
ラーからのバブラー蒸気の流路内に濃度検出器を導入
し、濃度検出器の出力を濃度制御装置に入力させる。濃
度制御装置は、濃度検出器から受信した濃度値を、シス
テムに決定された所望の濃度値と比較する。測定した濃
度レベルと所望の濃度レベルとの不一致を補正するた
め、濃度制御装置が起動して弁を開閉し、これは、濃度
検出器としてバブラーを出るバブラー蒸気の流れの中に
配置される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は蒸気送出制御の方法
およびシステムに関する。特に、光導体ファイバを引き
抜き加工する光学的予備成型品の製造に使用する付着サ
イトに送出する蒸気の濃度レベルの制御に関する。
およびシステムに関する。特に、光導体ファイバを引き
抜き加工する光学的予備成型品の製造に使用する付着サ
イトに送出する蒸気の濃度レベルの制御に関する。
【０００２】
【従来の技術】この数年間に、光ファイバ通信システム
の使用は大幅に増加している。この通信モードの使用
は、今後も増加し続ける可能性が高い。このようなシス
テムの構成要素の製造に関与している企業が、その費用
を削減する方法を追求し続けているのは、驚くには当た
らない。一つのアプローチは、光ファイバを引き抜き加
工する光学的予備成型品の生産に関わる材料の取扱い効
率を高めることである。
の使用は大幅に増加している。この通信モードの使用
は、今後も増加し続ける可能性が高い。このようなシス
テムの構成要素の製造に関与している企業が、その費用
を削減する方法を追求し続けているのは、驚くには当た
らない。一つのアプローチは、光ファイバを引き抜き加
工する光学的予備成型品の生産に関わる材料の取扱い効
率を高めることである。
【０００３】現在、光学的予備成型品は、材料形成技術
として蒸着を含む幾つかの異なるプロセスで製造されて
いる。これらのプロセスは、光導体の光ファイバを作成
する非常に初期のステップで使用する光学的予備成型品
を製造するのに用いる。修正化学蒸着（以降ＭＣＶＤと
呼ぶ）プロセスとして知られるこのようなプロセスの一
つが、J.B.MacChesneyの"Materials and Processes for
Preform Fabrications - Modified Chemical Depositi
on"(Vol.64, IEEE議事録pp.1181-1184(1980))に記載さ
れている。
として蒸着を含む幾つかの異なるプロセスで製造されて
いる。これらのプロセスは、光導体の光ファイバを作成
する非常に初期のステップで使用する光学的予備成型品
を製造するのに用いる。修正化学蒸着（以降ＭＣＶＤと
呼ぶ）プロセスとして知られるこのようなプロセスの一
つが、J.B.MacChesneyの"Materials and Processes for
Preform Fabrications - Modified Chemical Depositi
on"(Vol.64, IEEE議事録pp.1181-1184(1980))に記載さ
れている。
【０００４】ＭＣＶＤプロセスへの入力は、通常、キャ
リア・ガスと、四塩化ゲルマニウム(GeCl4) 、四塩化シ
リコン(SiCl4) およびオキシ塩化燐(POCl3) などの反応
蒸気を備える。これらの反応蒸気は、一般に付着バブラ
ーと呼ばれる蒸発器から供給され、ガラス基質管などの
付着サイトに通される。光学的予備成型品は、基質管の
部分を１６００℃から１８００℃の範囲の温度へと順番
に加熱し、蒸気が管の内腔を流れるにつれてこれと反応
させ、基質管の内部に付着させることによって製造され
る。ＭＣＶＣ技術を用いて予備成型品を製造する際に、
（以下で述べる他の製造技術のトーチとは異なり）反応
物蒸気を正確に調合または混合して、制御された濃度レ
ベルで基質管に送出する必要がある。今日まで、このよ
うな制御された送出は、例えば酸素(O2)、アルゴン(A
r)、ヘリウム(Hr)および／または窒素(N2)などのキャリ
ア・ガスを、蒸発器中で液体の形態になっている反応材
料の加熱供給物に通して気泡にし、次に蒸気をキャリア
・ガスに飛沫同伴させて付着サイトへ通すことによって
達成されてきた。
リア・ガスと、四塩化ゲルマニウム(GeCl4) 、四塩化シ
リコン(SiCl4) およびオキシ塩化燐(POCl3) などの反応
蒸気を備える。これらの反応蒸気は、一般に付着バブラ
ーと呼ばれる蒸発器から供給され、ガラス基質管などの
付着サイトに通される。光学的予備成型品は、基質管の
部分を１６００℃から１８００℃の範囲の温度へと順番
に加熱し、蒸気が管の内腔を流れるにつれてこれと反応
させ、基質管の内部に付着させることによって製造され
る。ＭＣＶＣ技術を用いて予備成型品を製造する際に、
（以下で述べる他の製造技術のトーチとは異なり）反応
物蒸気を正確に調合または混合して、制御された濃度レ
ベルで基質管に送出する必要がある。今日まで、このよ
うな制御された送出は、例えば酸素(O2)、アルゴン(A
r)、ヘリウム(Hr)および／または窒素(N2)などのキャリ
ア・ガスを、蒸発器中で液体の形態になっている反応材
料の加熱供給物に通して気泡にし、次に蒸気をキャリア
・ガスに飛沫同伴させて付着サイトへ通すことによって
達成されてきた。
【０００５】通常、付着用蒸発器は容器を含み、その中
でキャリア・ガスの取入れ導管は、それに含まれる液体
の自由表面より下に位置するオリフィス内で終了する。
排出導管は、液体表面より上の空間と蒸気付着サイトと
の間の流体連絡を提供する。蒸発器を使用する付着シス
テムは、米国特許第3,826,560号および第4,276,243号で
例証されている。
でキャリア・ガスの取入れ導管は、それに含まれる液体
の自由表面より下に位置するオリフィス内で終了する。
排出導管は、液体表面より上の空間と蒸気付着サイトと
の間の流体連絡を提供する。蒸発器を使用する付着シス
テムは、米国特許第3,826,560号および第4,276,243号で
例証されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】付着蒸発器に含まれる
液体の蒸気が付着中に取り出されるので、補助源から蒸
発器に補給しない限り液体のレベルは低下する。用途に
よっては、蒸発器内の液体レベルの低下はほとんど影響
を与えない。しかし、光ファイバ予備成型品の製造に使
用する蒸着プロセスのように、液体レベルの変化が、付
着する蒸気の濃度レベルを変化させるなど、悪影響を与
える用途もある。
液体の蒸気が付着中に取り出されるので、補助源から蒸
発器に補給しない限り液体のレベルは低下する。用途に
よっては、蒸発器内の液体レベルの低下はほとんど影響
を与えない。しかし、光ファイバ予備成型品の製造に使
用する蒸着プロセスのように、液体レベルの変化が、付
着する蒸気の濃度レベルを変化させるなど、悪影響を与
える用途もある。
【０００７】蒸発速度は、液体を通して泡だったキャリ
ア・ガスの流れ特性など、他の幾つかの要素にも左右さ
れる。例えば、気泡が液体中を上昇する間の気泡のサイ
ズは、蒸発速度に影響を与える。蒸発器に導入されるキ
ャリア・ガスの流量も、気泡の残留時間と同様、蒸発速
度に影響を与える。気泡の残留時間は、言うまでもなく
キャリア・ガスが導入される深さによって決まり、上述
したように使用速度に対する液体補給率によっても決ま
る。もう一つの要素は、蒸発器中の液体量の有意の変化
に影響される蒸発器への熱伝達を制御することである。
液体レベルの変化は継続的にモニタされるので、その変
動の一部を担うヒータのコントローラをプログラムする
ことは可能であるが、このアプローチは複雑で、蒸気送
出に必要とされる制御を完全には満たさない。
ア・ガスの流れ特性など、他の幾つかの要素にも左右さ
れる。例えば、気泡が液体中を上昇する間の気泡のサイ
ズは、蒸発速度に影響を与える。蒸発器に導入されるキ
ャリア・ガスの流量も、気泡の残留時間と同様、蒸発速
度に影響を与える。気泡の残留時間は、言うまでもなく
キャリア・ガスが導入される深さによって決まり、上述
したように使用速度に対する液体補給率によっても決ま
る。もう一つの要素は、蒸発器中の液体量の有意の変化
に影響される蒸発器への熱伝達を制御することである。
液体レベルの変化は継続的にモニタされるので、その変
動の一部を担うヒータのコントローラをプログラムする
ことは可能であるが、このアプローチは複雑で、蒸気送
出に必要とされる制御を完全には満たさない。
【０００８】蒸気の参考文献に加えて、米国特許第4,23
5,829号を明記しておく。その特許では、蒸発器と、蒸
発器と流体連絡するリザーバとに含まれる液体から蒸気
を生成し、これを送出するようになっている付着蒸発器
を備える蒸気送出システムが示されている。蒸発器に含
まれる液体のレベルを感知し、感知された液体レベルに
応じた大きさのガス頭部圧力をリザーバ内に提供する設
備を設ける。液体が蒸発し、蒸発器から取り出されるに
つれ、蒸発器の液体レベルは低下し、そこでリザーバ内
に圧力水頭を上昇させて液体を蒸発器に供給することに
より、レベルを調節する。システムはうまく働くが、リ
ザーバ内の圧力変化による液体レベルの上下によって生
じる付着蒸発器の摂動が、ある程度、蒸発速度に悪影響
を与え、したがって蒸発の濃度レベルに悪影響を与える
ことがある。このようなレベルの変化は、付着速度とと
もに増大し、したがって蒸気を取り出す速度が上がる。
5,829号を明記しておく。その特許では、蒸発器と、蒸
発器と流体連絡するリザーバとに含まれる液体から蒸気
を生成し、これを送出するようになっている付着蒸発器
を備える蒸気送出システムが示されている。蒸発器に含
まれる液体のレベルを感知し、感知された液体レベルに
応じた大きさのガス頭部圧力をリザーバ内に提供する設
備を設ける。液体が蒸発し、蒸発器から取り出されるに
つれ、蒸発器の液体レベルは低下し、そこでリザーバ内
に圧力水頭を上昇させて液体を蒸発器に供給することに
より、レベルを調節する。システムはうまく働くが、リ
ザーバ内の圧力変化による液体レベルの上下によって生
じる付着蒸発器の摂動が、ある程度、蒸発速度に悪影響
を与え、したがって蒸発の濃度レベルに悪影響を与える
ことがある。このようなレベルの変化は、付着速度とと
もに増大し、したがって蒸気を取り出す速度が上がる。
【０００９】また、共通譲渡人の米国特許第4,276,243
号は、濃度レベルを所望の値に制御するためモニタし、
操作すべき特徴として液体の温度を使用する、同様の蒸
気送出システムを開示している。しかし、このシステム
は効果的であるが、全体的な液体温度を変化させる、特
に冷却するには時間がかかり、所望の濃度レベル補正を
達成するには、望ましくない遅延を生じることが多い。
号は、濃度レベルを所望の値に制御するためモニタし、
操作すべき特徴として液体の温度を使用する、同様の蒸
気送出システムを開示している。しかし、このシステム
は効果的であるが、全体的な液体温度を変化させる、特
に冷却するには時間がかかり、所望の濃度レベル補正を
達成するには、望ましくない遅延を生じることが多い。
【００１０】例えば、１つの蒸発器を別の蒸発器の中に
配置し、両方の蒸発器をほぼ順番に減少させるシステム
も存在する。このタイプの例証的なシステムが、米国特
許第4,582,480号に記載されている。
配置し、両方の蒸発器をほぼ順番に減少させるシステム
も存在する。このタイプの例証的なシステムが、米国特
許第4,582,480号に記載されている。
【００１１】光学的予備成型品の製造に使用する基質管
などの付着サイトに送出されるキャリア・ガスおよび蒸
気の濃度レベルを、正確かつ迅速な応答時間で制御する
という問題を満足のいくように解決すると、極めて有利
である。
などの付着サイトに送出されるキャリア・ガスおよび蒸
気の濃度レベルを、正確かつ迅速な応答時間で制御する
という問題を満足のいくように解決すると、極めて有利
である。
【００１２】
【課題を解決するための手段】蒸気の問題は、本発明の
方法およびシステムによって克服されている。本発明の
実施例によると、供給液体を含む蒸発器からの蒸気の送
出を制御する方法およびシステムが記載され、供給ガス
を通してキャリア・ガスを泡立て、そこからキャリア・
ガスに飛沫同伴する蒸気の流れで、蒸発器の蒸気が送出
される。概して、本発明の実施例は、蒸気に対するキャ
リア・ガスの濃度レベルが製造プロセスを通じて所望の
レベルに確実に維持されるよう、モニタし制御すべき特
定の特性として、蒸発器を出るガスの圧力を使用する。
方法およびシステムによって克服されている。本発明の
実施例によると、供給液体を含む蒸発器からの蒸気の送
出を制御する方法およびシステムが記載され、供給ガス
を通してキャリア・ガスを泡立て、そこからキャリア・
ガスに飛沫同伴する蒸気の流れで、蒸発器の蒸気が送出
される。概して、本発明の実施例は、蒸気に対するキャ
リア・ガスの濃度レベルが製造プロセスを通じて所望の
レベルに確実に維持されるよう、モニタし制御すべき特
定の特性として、蒸発器を出るガスの圧力を使用する。
【００１３】本発明の態様においては、蒸発器からの蒸
発器蒸気の流路に濃度検出器を導入し、濃度検出器の出
力を濃度制御装置に入力する。濃度制御装置は、濃度検
出器から受信した濃度値と、そのシステムに決定された
所望の濃度値と比較する。測定濃度レベルと所望の濃度
レベルとの間の不一致を修正するため、濃度制御装置は
弁の開閉などで、圧力変更装置の操作を作動させる。本
発明のその他の特徴は、添付図面と組み合わせて個々の
実施例に関する以下の詳細な記述を読むことによって、
さらに容易に理解される。
発器蒸気の流路に濃度検出器を導入し、濃度検出器の出
力を濃度制御装置に入力する。濃度制御装置は、濃度検
出器から受信した濃度値と、そのシステムに決定された
所望の濃度値と比較する。測定濃度レベルと所望の濃度
レベルとの間の不一致を修正するため、濃度制御装置は
弁の開閉などで、圧力変更装置の操作を作動させる。本
発明のその他の特徴は、添付図面と組み合わせて個々の
実施例に関する以下の詳細な記述を読むことによって、
さらに容易に理解される。
【００１４】
【発明の実施の形態】概して、本発明の実施例は、光導
管の光ファイバを引き抜き加工する光学的予備成型品の
製造に使用する蒸気送出システムを含む。システムは、
リザーバおよび蒸発器システムに含まれる蒸発可能な液
体の蒸気流を提供するよう設計される。リザーバは、蒸
気送出システムに恒久的に接続する必要がない輸送用容
器でよい。例えば酸素(O2)、アルゴン(Ar)、ヘリウム(H
e)および／または窒素(N2)などのキャリア・ガスを、蒸
発器システムの液体に通して泡立て、ガスを液体の蒸気
と飛沫同伴させ、ＭＣＶＤシステムの旋盤（図示せず）
などの蒸着システムに供給する。例えば、米国特許第4,
217,027号を参照のこと。
管の光ファイバを引き抜き加工する光学的予備成型品の
製造に使用する蒸気送出システムを含む。システムは、
リザーバおよび蒸発器システムに含まれる蒸発可能な液
体の蒸気流を提供するよう設計される。リザーバは、蒸
気送出システムに恒久的に接続する必要がない輸送用容
器でよい。例えば酸素(O2)、アルゴン(Ar)、ヘリウム(H
e)および／または窒素(N2)などのキャリア・ガスを、蒸
発器システムの液体に通して泡立て、ガスを液体の蒸気
と飛沫同伴させ、ＭＣＶＤシステムの旋盤（図示せず）
などの蒸着システムに供給する。例えば、米国特許第4,
217,027号を参照のこと。
【００１５】ＭＣＶＤプロセスは、本明細書では最初
に、コア領域と被覆領域とを有する光学製品を生成する
付着サイトに使用する製造技術として開示しているが、
軸蒸着（ＶＡＤ）および外部蒸着（ＯＶＤ）などの他に
知られている方法も、本発明の蒸気送出システムを利用
することができる。しかし、操作上の違いの一つは、Ｖ
ＡＤおよびＯＶＤのプロセスでは両方とも、反応物蒸気
をトーチに送出するが、ＭＣＶＤプロセスでは基質管に
送出する。
に、コア領域と被覆領域とを有する光学製品を生成する
付着サイトに使用する製造技術として開示しているが、
軸蒸着（ＶＡＤ）および外部蒸着（ＯＶＤ）などの他に
知られている方法も、本発明の蒸気送出システムを利用
することができる。しかし、操作上の違いの一つは、Ｖ
ＡＤおよびＯＶＤのプロセスでは両方とも、反応物蒸気
をトーチに送出するが、ＭＣＶＤプロセスでは基質管に
送出する。
【００１６】本発明の実施例によると、蒸発器システム
からの出力蒸気導管内に、圧力弁、または圧力に作用す
る他の手段を使用して、キャリア・ガスに飛沫同伴する
蒸気の濃度レベルを制御し、最終的に作成される光ファ
イバに必要な所望の濃度レベルを維持する。濃度レベル
を説明するのに使用する特定の単位は、不可欠なもので
はないが、便宜上、本明細書で使用する濃度レベルは、
液体の蒸気およびキャリア・ガスのモル濃度を指す。
からの出力蒸気導管内に、圧力弁、または圧力に作用す
る他の手段を使用して、キャリア・ガスに飛沫同伴する
蒸気の濃度レベルを制御し、最終的に作成される光ファ
イバに必要な所望の濃度レベルを維持する。濃度レベル
を説明するのに使用する特定の単位は、不可欠なもので
はないが、便宜上、本明細書で使用する濃度レベルは、
液体の蒸気およびキャリア・ガスのモル濃度を指す。
【００１７】図１に示すように、本発明の実施例による
一つのシステムは、リザーバ４と蒸発器システム１０と
の間の流体連絡を提供する導管２を含む。リザーバ４と
蒸発器システム１０との間の導管２に、弁６を挿入す
る。リザーバ４は、蒸発器システム１０より数桁大きい
容量を有するような寸法にする。リザーバ４、蒸発器シ
ステム１０および導管２は、例えばガラスまたは金属な
ど、水およびＯＨが不浸透性の材料で構築される。ガス
取入れライン８は、リザーバ４の頂部から上方向に延
び、弁および圧力調整器９を通って、キャリア・ガスと
同じでもよい圧縮ガスの源（図示せず）に至る。ガスの
圧力は、液体をリザーバ４から蒸発器システム１０に移
動するか、リザーバの頭部圧力を維持するため、必要に
応じて調節される。
一つのシステムは、リザーバ４と蒸発器システム１０と
の間の流体連絡を提供する導管２を含む。リザーバ４と
蒸発器システム１０との間の導管２に、弁６を挿入す
る。リザーバ４は、蒸発器システム１０より数桁大きい
容量を有するような寸法にする。リザーバ４、蒸発器シ
ステム１０および導管２は、例えばガラスまたは金属な
ど、水およびＯＨが不浸透性の材料で構築される。ガス
取入れライン８は、リザーバ４の頂部から上方向に延
び、弁および圧力調整器９を通って、キャリア・ガスと
同じでもよい圧縮ガスの源（図示せず）に至る。ガスの
圧力は、液体をリザーバ４から蒸発器システム１０に移
動するか、リザーバの頭部圧力を維持するため、必要に
応じて調節される。
【００１８】本発明の実施例により使用できる流体移動
システムの一つの設計構成の例として、蒸発器システム
１０は、バブラー１２の形態の蒸発器を備えるよう図示
され、バブラーは、バブラー１２の外表面を被覆した抵
抗ヒータ１４を有することが好ましい。キャリア・ガス
取入れ導管１６は、図示されていない圧力ガス源から、
温度が制御されたエンクロージャ２０の上部空間２２へ
と横方向に延び、流量制御装置ユニット２８を通る。注
意点として、ヒータの制御は、従来通りの３モード電源
制御装置など、従来通りの電源制御装置である。
システムの一つの設計構成の例として、蒸発器システム
１０は、バブラー１２の形態の蒸発器を備えるよう図示
され、バブラーは、バブラー１２の外表面を被覆した抵
抗ヒータ１４を有することが好ましい。キャリア・ガス
取入れ導管１６は、図示されていない圧力ガス源から、
温度が制御されたエンクロージャ２０の上部空間２２へ
と横方向に延び、流量制御装置ユニット２８を通る。注
意点として、ヒータの制御は、従来通りの３モード電源
制御装置など、従来通りの電源制御装置である。
【００１９】図示の例証的な流体移動システムでは、導
管１６は流量制御装置ユニット２８を通過した後、下方
向を向き、エンクロージャ２０内のパーティション２６
と下部空間２４を通る。次に、導管１６はエンクロージ
ャ２０を出て、さらに下方向に延び、バブラー１２に入
って、バブラー１２の底部付近にある下部出口１８で終
わる。蒸気流導管３０は、バブラー１２の頂部に位置す
る取入れオリフィス３２から上方向に延び、温度が制御
されたエンクロージャ２０に入る。蒸発器システム１０
内で処理する結果、出力蒸気流導管３０は、旋盤などの
付着サイトに移送される液体の蒸気と飛沫同伴するキャ
リア・ガスを含む。導管３０の配向は、導管のこの部分
で生じるかもしれない凝縮やエーロゾルが重力によって
バブラーに戻るよう、バブラー１２を出るところでは垂
直であることが好ましい。また、３０のような無数の蒸
気流導管が、他の蒸発器システムからの他の図示されて
いない蒸気流導管と結合し、次にエンクロージャ２０か
ら出て選択された蒸気付着サイトまたはステーションに
向かってもよい。
管１６は流量制御装置ユニット２８を通過した後、下方
向を向き、エンクロージャ２０内のパーティション２６
と下部空間２４を通る。次に、導管１６はエンクロージ
ャ２０を出て、さらに下方向に延び、バブラー１２に入
って、バブラー１２の底部付近にある下部出口１８で終
わる。蒸気流導管３０は、バブラー１２の頂部に位置す
る取入れオリフィス３２から上方向に延び、温度が制御
されたエンクロージャ２０に入る。蒸発器システム１０
内で処理する結果、出力蒸気流導管３０は、旋盤などの
付着サイトに移送される液体の蒸気と飛沫同伴するキャ
リア・ガスを含む。導管３０の配向は、導管のこの部分
で生じるかもしれない凝縮やエーロゾルが重力によって
バブラーに戻るよう、バブラー１２を出るところでは垂
直であることが好ましい。また、３０のような無数の蒸
気流導管が、他の蒸発器システムからの他の図示されて
いない蒸気流導管と結合し、次にエンクロージャ２０か
ら出て選択された蒸気付着サイトまたはステーションに
向かってもよい。
【００２０】本発明の実施例によると、出力蒸気導管３
０内の圧力弁を使用して、キャリア・ガスと飛沫同伴し
た蒸気の濃度レベルを制御し、生成される最終的光ファ
イバに必要な所望の濃度レベルを維持する。図示のよう
に、導管３０は蒸発器システム１０から上へ延びて、温
度が制御されたエンクロージャ２０に入る。弁３４およ
び濃度レベル検出器３６は、温度を制御されたエンクロ
ージャ２０内に位置する導管３０の部分に導入される。
濃度レベル検出器３６は、キャリア・ガスに対する蒸発
液体の比率を確認し、この比率または濃度レベルを濃度
レベル制御装置３８に伝送する。濃度レベル検出器３６
は、弁３４の低圧側か高圧側に位置することができ、そ
れでも本発明の実施例によると有効である。というの
は、通常は、本明細書で述べる蒸気／キャリア・ガスの
混合物に、理想気体の挙動原理を適用することができる
からである。
０内の圧力弁を使用して、キャリア・ガスと飛沫同伴し
た蒸気の濃度レベルを制御し、生成される最終的光ファ
イバに必要な所望の濃度レベルを維持する。図示のよう
に、導管３０は蒸発器システム１０から上へ延びて、温
度が制御されたエンクロージャ２０に入る。弁３４およ
び濃度レベル検出器３６は、温度を制御されたエンクロ
ージャ２０内に位置する導管３０の部分に導入される。
濃度レベル検出器３６は、キャリア・ガスに対する蒸発
液体の比率を確認し、この比率または濃度レベルを濃度
レベル制御装置３８に伝送する。濃度レベル検出器３６
は、弁３４の低圧側か高圧側に位置することができ、そ
れでも本発明の実施例によると有効である。というの
は、通常は、本明細書で述べる蒸気／キャリア・ガスの
混合物に、理想気体の挙動原理を適用することができる
からである。
【００２１】濃度レベル制御装置３８は、所定量のキャ
リア・ガス内に飛沫同伴される蒸気量の測定値を目標値
と比較する。目標濃度レベルは、本発明の蒸気送出シス
テムを使用する蒸気付着プロセスで製造される光学的予
備成型品から引き抜き加工する最終的な光ファイバに望
ましい性能基準に基づき、確立することができる。しか
し、本発明の実施例によると、実際の濃度レベルを直接
測定する代わりに、濃度レベルの確認に使用できる別の
パラメータを測定してもよいことを認識されたい。
リア・ガス内に飛沫同伴される蒸気量の測定値を目標値
と比較する。目標濃度レベルは、本発明の蒸気送出シス
テムを使用する蒸気付着プロセスで製造される光学的予
備成型品から引き抜き加工する最終的な光ファイバに望
ましい性能基準に基づき、確立することができる。しか
し、本発明の実施例によると、実際の濃度レベルを直接
測定する代わりに、濃度レベルの確認に使用できる別の
パラメータを測定してもよいことを認識されたい。
【００２２】本発明の実施例は、蒸気導管３０内で圧力
が変化すると、その結果、導管３０内に存在する液体の
蒸気に飛沫同伴するキャリア・ガスの濃度レベルが変化
する、という原理を使用する。この原理に基づき、本発
明の一つの実施例は、濃度レベルを標的または所望の濃
度レベルと等しく維持するよう、導管３０内の圧力を制
御下で変更する手段として、弁３４を使用する。
が変化すると、その結果、導管３０内に存在する液体の
蒸気に飛沫同伴するキャリア・ガスの濃度レベルが変化
する、という原理を使用する。この原理に基づき、本発
明の一つの実施例は、濃度レベルを標的または所望の濃
度レベルと等しく維持するよう、導管３０内の圧力を制
御下で変更する手段として、弁３４を使用する。
【００２３】キャリア・ガスに対する蒸気の混合物の濃
度レベルは、液体の蒸気圧を混合物の総圧力で割った値
と比例する。これは、数学的に下式のよに表すことがで
きる。 濃度レベル≒Ｐv／Ｐtotal ここでＰv は液体の実際の蒸気圧、Ｐtotal はキャリア
・ガスおよび飛沫同伴した蒸気の混合物全体の圧力を表
し、両方ともシステムを操作する所定の環境状態、つま
り温度および圧力である。
度レベルは、液体の蒸気圧を混合物の総圧力で割った値
と比例する。これは、数学的に下式のよに表すことがで
きる。 濃度レベル≒Ｐv／Ｐtotal ここでＰv は液体の実際の蒸気圧、Ｐtotal はキャリア
・ガスおよび飛沫同伴した蒸気の混合物全体の圧力を表
し、両方ともシステムを操作する所定の環境状態、つま
り温度および圧力である。
【００２４】弁３４は、導管３０を通って流れる蒸気飛
沫同伴キャリア・ガスの圧力Ｐtotal を変化させる能力
を提供する。特に、弁３４を広く開くと、導管３０内の
圧力が低下し、最終的に付着サイトに到達する蒸気とキ
ャリア・ガスとの混合物の濃度レベルが上昇する。これ
に対して、弁３４を閉じると、導管３０を流れる蒸気飛
沫同伴キャリア・ガスの圧力が上昇し、これによって最
終的に付着サイトに到達する蒸気とキャリア・ガスとの
混合物の濃度レベルを低下させるよう作用する。
沫同伴キャリア・ガスの圧力Ｐtotal を変化させる能力
を提供する。特に、弁３４を広く開くと、導管３０内の
圧力が低下し、最終的に付着サイトに到達する蒸気とキ
ャリア・ガスとの混合物の濃度レベルが上昇する。これ
に対して、弁３４を閉じると、導管３０を流れる蒸気飛
沫同伴キャリア・ガスの圧力が上昇し、これによって最
終的に付着サイトに到達する蒸気とキャリア・ガスとの
混合物の濃度レベルを低下させるよう作用する。
【００２５】閉または静止システムでは、蒸気圧は温度
のみの関数である。しかし、本明細書で述べる蒸気送出
システムのような開放または動的システムでは、液体よ
り上の蒸気圧はキャリア・ガス流量の関数でもある。し
たがって、濃度レベルを所望の値に維持するには、液体
温度および／または液体より上の総圧力を操作して、濃
度レベルを制御してもよい。前述したように、米国特許
第4,276,243 号は、液体の温度を操作することによって
所望の濃度レベルを維持しようとし、本発明の実施例
は、導管３０を流れる蒸気飛沫同伴キャリア・ガスの圧
力を使用することによって、より迅速な応答を達成し、
所望の濃度レベルを維持する。
のみの関数である。しかし、本明細書で述べる蒸気送出
システムのような開放または動的システムでは、液体よ
り上の蒸気圧はキャリア・ガス流量の関数でもある。し
たがって、濃度レベルを所望の値に維持するには、液体
温度および／または液体より上の総圧力を操作して、濃
度レベルを制御してもよい。前述したように、米国特許
第4,276,243 号は、液体の温度を操作することによって
所望の濃度レベルを維持しようとし、本発明の実施例
は、導管３０を流れる蒸気飛沫同伴キャリア・ガスの圧
力を使用することによって、より迅速な応答を達成し、
所望の濃度レベルを維持する。
【００２６】本発明の実施例の結果、望ましくない濃度
レベルをもたらすような考慮事項の多くを、蒸発後の調
節によって回避、または修正することができる。蒸気導
出システムの操作に悪影響を与える考慮事項や態様の幾
つかは、１）蒸発器システムを通るキャリア・ガスの流
量、２）周囲大気圧、３）液体の温度、および４）例え
ば下流の圧力と温度の摂動（つまり、システムにより多
くの化学物質を導入した結果、背圧が高くなることによ
る）の変化である。
レベルをもたらすような考慮事項の多くを、蒸発後の調
節によって回避、または修正することができる。蒸気導
出システムの操作に悪影響を与える考慮事項や態様の幾
つかは、１）蒸発器システムを通るキャリア・ガスの流
量、２）周囲大気圧、３）液体の温度、および４）例え
ば下流の圧力と温度の摂動（つまり、システムにより多
くの化学物質を導入した結果、背圧が高くなることによ
る）の変化である。
【００２７】本発明の実施例による蒸気送出システムの
その他の要素の幾つかについて、以下でさらに検討す
る。概して、流量制御装置ユニット３８は流量センサを
含む。市販されている流量センサの一つは、比較的一定
の圧力での気体の温度上昇は、加える熱の量、質量流量
および気体の他の特性の関数であるという原理を用い
る。気体が流れている時に抵抗が変化するセンサ・ユニ
ットには、一定のパワーが供給される。上流のセンサ
は、下流のセンサより高速で冷却され、ブリッジが不均
衡になる。こうすると、ブリッジの出力を、Brooks容積
計などの標準的な装置でモニタされる実際の気体流で校
正することができる。このタイプの流量センサに関する
さらに詳細な説明は、前述した米国特許第4,276,243号
で提供されている。
その他の要素の幾つかについて、以下でさらに検討す
る。概して、流量制御装置ユニット３８は流量センサを
含む。市販されている流量センサの一つは、比較的一定
の圧力での気体の温度上昇は、加える熱の量、質量流量
および気体の他の特性の関数であるという原理を用い
る。気体が流れている時に抵抗が変化するセンサ・ユニ
ットには、一定のパワーが供給される。上流のセンサ
は、下流のセンサより高速で冷却され、ブリッジが不均
衡になる。こうすると、ブリッジの出力を、Brooks容積
計などの標準的な装置でモニタされる実際の気体流で校
正することができる。このタイプの流量センサに関する
さらに詳細な説明は、前述した米国特許第4,276,243号
で提供されている。
【００２８】濃度検出器３６の詳細に関しては、直前で
参照し、米国特許第4,276,243号でさらに詳細に説明さ
れたブリッジ回路が、本発明の実施例により許容でき
る。また、共通の譲渡人の米国特許第5,051,096号は、
同様に本発明の実施例の新規の態様を実行するのに適し
た代替タイプの濃度検出器について述べている。
参照し、米国特許第4,276,243号でさらに詳細に説明さ
れたブリッジ回路が、本発明の実施例により許容でき
る。また、共通の譲渡人の米国特許第5,051,096号は、
同様に本発明の実施例の新規の態様を実行するのに適し
た代替タイプの濃度検出器について述べている。
【００２９】操作時には、リザーバ４を、光ファイバの
予備成型品または棒を作成する場所のような図示されて
ない蒸着ステーションで蒸着により付着させる液体薬品
で部分的に満たす。図１に示すように、本発明の実施例
により、リザーバ４はバブラー１２と同じ高さに取り付
けることができる。その結果、バブラー１２の液体の表
面レベルがリザーバ内の液体の表面レベルと等しくなる
まで、液体薬品はリザーバから導管２を通ってバブラー
へと流れ込む。次に、ガスが加圧され、導管８を通して
リザーバ４に導入され、バブラー１２内の液体の表面に
所望のレベルを確立する。あるいは、リザーバ４をバブ
ラー１２と異なる高さにし、弁６を使用してリザーバ４
からバブラー１２へと入る液体の流量を制御することが
できる。
予備成型品または棒を作成する場所のような図示されて
ない蒸着ステーションで蒸着により付着させる液体薬品
で部分的に満たす。図１に示すように、本発明の実施例
により、リザーバ４はバブラー１２と同じ高さに取り付
けることができる。その結果、バブラー１２の液体の表
面レベルがリザーバ内の液体の表面レベルと等しくなる
まで、液体薬品はリザーバから導管２を通ってバブラー
へと流れ込む。次に、ガスが加圧され、導管８を通して
リザーバ４に導入され、バブラー１２内の液体の表面に
所望のレベルを確立する。あるいは、リザーバ４をバブ
ラー１２と異なる高さにし、弁６を使用してリザーバ４
からバブラー１２へと入る液体の流量を制御することが
できる。
【００３０】バブラー１２の液体が所望のレベルの状態
で、例えば前述したように酸素(O2)、アルゴン(Ar)、ヘ
リウム(He)および／または窒素(N2)などのキャリア・ガ
スを、流量制御装置２８および蒸発器システム１０を通
して導入し、液体を通して泡立てる。バブラー１２中の
液体はほぼ一定に維持されるので、気泡の上昇時間とサ
イズは、導管１６の出口１８のサイズによって予め確立
されている。気体が表面へと上昇するにつれ、キャリア
・ガスの気泡の表面積およびそれが液体に露出する時間
も、予め決定される。このように、蒸気は気泡中に拡散
するとともに、バブラー１２内で液体の上の空間を占有
する。蒸発は、液体の表面でも生じる。本発明の実施例
によると、蒸発器システム１０はバブラー・タイプであ
る必要はないことに留意されたい。
で、例えば前述したように酸素(O2)、アルゴン(Ar)、ヘ
リウム(He)および／または窒素(N2)などのキャリア・ガ
スを、流量制御装置２８および蒸発器システム１０を通
して導入し、液体を通して泡立てる。バブラー１２中の
液体はほぼ一定に維持されるので、気泡の上昇時間とサ
イズは、導管１６の出口１８のサイズによって予め確立
されている。気体が表面へと上昇するにつれ、キャリア
・ガスの気泡の表面積およびそれが液体に露出する時間
も、予め決定される。このように、蒸気は気泡中に拡散
するとともに、バブラー１２内で液体の上の空間を占有
する。蒸発は、液体の表面でも生じる。本発明の実施例
によると、蒸発器システム１０はバブラー・タイプであ
る必要はないことに留意されたい。
【００３１】最後に、キャリア・ガスは、前述したよう
に、導管３０の取入れオリフィス３２を通して蒸気をバ
ブラー１２から運び出し、導管３０を上昇させて濃度レ
ベル検出器３６に入れる。濃度レベルを適切に設定し、
制御すると、導管３０内の蒸気とキャリア・ガスとの混
合物は、他の図示されていない蒸発器からのガスおよび
他の蒸気と混合することができる。
に、導管３０の取入れオリフィス３２を通して蒸気をバ
ブラー１２から運び出し、導管３０を上昇させて濃度レ
ベル検出器３６に入れる。濃度レベルを適切に設定し、
制御すると、導管３０内の蒸気とキャリア・ガスとの混
合物は、他の図示されていない蒸発器からのガスおよび
他の蒸気と混合することができる。
【００３２】上述し、図１に示したような１つのバブラ
ーを有する蒸発器システムに加えて、図２に示す代替実
施例は、２つのバブラーの配置構成を含む。図２で分か
るように、バブラー・システム１２６は、供給バブラー
１４０と、好ましくは供給バブラー１４０より小さい付
着バブラー１６０とを含む。キャリア・ガス取入れ導管
１４８が、加圧気体の図示されていない源から温度を制
御した室１５０内へと延び、その中の流量制御装置およ
びセンサ・ユニットを通る。流量制御装置とセンサ・ユ
ニット１２８は、キャリア・ガスの流量センサを含む。
例えば、米国特許第4,276,243号を参照のこと。
ーを有する蒸発器システムに加えて、図２に示す代替実
施例は、２つのバブラーの配置構成を含む。図２で分か
るように、バブラー・システム１２６は、供給バブラー
１４０と、好ましくは供給バブラー１４０より小さい付
着バブラー１６０とを含む。キャリア・ガス取入れ導管
１４８が、加圧気体の図示されていない源から温度を制
御した室１５０内へと延び、その中の流量制御装置およ
びセンサ・ユニットを通る。流量制御装置とセンサ・ユ
ニット１２８は、キャリア・ガスの流量センサを含む。
例えば、米国特許第4,276,243号を参照のこと。
【００３３】導管１４８は、ユニット１２８を通過した
後、下向きになって室１５０を出て、供給バブラー１４
０に入り、下部入口１５４で終了する。下部入口は、供
給バブラー１４０の底部に隣接することが好ましい。入
口１５４は、比較的小さい気泡を生成してキャリア・ガ
スの泡立ちを強化するのに有効なガラス・フリット部材
を備える。蒸気流導管１５６は、供給バブラー１４０の
頂部に隣接する取入れオリフィス１５８から上方向に延
びて、付着バブラー１６０に入る。導管１５６は、付着
バブラー１６０の底部に隣接する出口１６２で終了す
る。
後、下向きになって室１５０を出て、供給バブラー１４
０に入り、下部入口１５４で終了する。下部入口は、供
給バブラー１４０の底部に隣接することが好ましい。入
口１５４は、比較的小さい気泡を生成してキャリア・ガ
スの泡立ちを強化するのに有効なガラス・フリット部材
を備える。蒸気流導管１５６は、供給バブラー１４０の
頂部に隣接する取入れオリフィス１５８から上方向に延
びて、付着バブラー１６０に入る。導管１５６は、付着
バブラー１６０の底部に隣接する出口１６２で終了す
る。
【００３４】蒸気流導管１７０が、付着バブラー１６０
の頂部を通って延びる。これは、取入れ口１６８からラ
イン１７０に沿って延び、温度が制御された室１５０に
入る。単一バブラーの実施例に関して述べたように、本
発明の実施例は、導管１７０に配置された弁１８０およ
び濃度レベル検出器１８２を、濃度制御装置１８４と組
み合わせて使用し、導管内の圧力を操作して、付着バブ
ラー１６０を出るキャリア・ガスと蒸気との混合物の濃
度レベルを調節する。このような構成要素の操作は、２
つバブラーの実施例でも、単一バブラーの実施例に関し
て蒸気で非常に詳細に説明したのと同じなので、ここで
はそれ以上検討しない。
の頂部を通って延びる。これは、取入れ口１６８からラ
イン１７０に沿って延び、温度が制御された室１５０に
入る。単一バブラーの実施例に関して述べたように、本
発明の実施例は、導管１７０に配置された弁１８０およ
び濃度レベル検出器１８２を、濃度制御装置１８４と組
み合わせて使用し、導管内の圧力を操作して、付着バブ
ラー１６０を出るキャリア・ガスと蒸気との混合物の濃
度レベルを調節する。このような構成要素の操作は、２
つバブラーの実施例でも、単一バブラーの実施例に関し
て蒸気で非常に詳細に説明したのと同じなので、ここで
はそれ以上検討しない。
【００３５】操作時には、リザーバ１２４として働くこ
とができる液体輸送用容器を、弁１３３をオフ位置にし
た状態で、ライン１３２に接続する。供給および付着バ
ブラー１４０および１６３は、それぞれ弁１３３を開
き、弁１７４を開閉し、次に弁１７２を開いて、個々に
充填する。その後、弁１３３を閉じる。次に、ライン１
３４に配置した弁１３６を開いて、加圧ガスをリザーバ
１２４に入れる。
とができる液体輸送用容器を、弁１３３をオフ位置にし
た状態で、ライン１３２に接続する。供給および付着バ
ブラー１４０および１６３は、それぞれ弁１３３を開
き、弁１７４を開閉し、次に弁１７２を開いて、個々に
充填する。その後、弁１３３を閉じる。次に、ライン１
３４に配置した弁１３６を開いて、加圧ガスをリザーバ
１２４に入れる。
【００３６】ヒータ１４２および１６３を使用して、供
給および付着バブラー１４０および１６０それぞれの液
体温度を制御し、その中の液体を蒸発させる。温度制御
を特徴とする図２に示す実施例では、センサ１４６およ
び１６６それぞれが感知した温度に対応する信号が、ヒ
ータ制御装置１４５および１６５それぞれの入力端子に
提供される。ヒータ制御装置は、例えば従来通りの３モ
ード電源制御装置などの、従来通りの電源制御装置であ
る。各制御装置は、温度の入力値を用いて、バブラーの
ヒータの一方に対する電流を制御する出力を計算する。
給および付着バブラー１４０および１６０それぞれの液
体温度を制御し、その中の液体を蒸発させる。温度制御
を特徴とする図２に示す実施例では、センサ１４６およ
び１６６それぞれが感知した温度に対応する信号が、ヒ
ータ制御装置１４５および１６５それぞれの入力端子に
提供される。ヒータ制御装置は、例えば従来通りの３モ
ード電源制御装置などの、従来通りの電源制御装置であ
る。各制御装置は、温度の入力値を用いて、バブラーの
ヒータの一方に対する電流を制御する出力を計算する。
【００３７】前述したように例えば酸素(O2)、アルゴン
(Ar)、ヘリウム(He)および／または窒素(N2) でよいキ
ャリア・ガスが、流量制御装置およびセンサ・ユニット
１２８に流入する。流量制御装置のキャリア・ガス流量
センサ（図示せず）からの信号を、設定点と比較する。
出力信号を増幅し、入力導管１４８内に位置する弁（図
示せず）に向けて、キャリア・ガスの流れを制御する。
(Ar)、ヘリウム(He)および／または窒素(N2) でよいキ
ャリア・ガスが、流量制御装置およびセンサ・ユニット
１２８に流入する。流量制御装置のキャリア・ガス流量
センサ（図示せず）からの信号を、設定点と比較する。
出力信号を増幅し、入力導管１４８内に位置する弁（図
示せず）に向けて、キャリア・ガスの流れを制御する。
【００３８】キャリア・ガスは、導管１４８を通って、
供給バブラー１４０の自由表面の下に導入され、液体の
蒸気をキャリア・ガスに飛沫同伴させる。次に、蒸気を
飛沫同伴したキャリア・ガスが、導管１５６を通って供
給バブラーから付着バブラー１６０内の液体に流入し、
付着バブラー１６０を出て付着サイトに向かう。キャリ
ア・ガスを供給バブラー１４０および付着バブラー１６
０内の液体に導入すると、気泡が形成され、液体表面へ
と上昇する。
供給バブラー１４０の自由表面の下に導入され、液体の
蒸気をキャリア・ガスに飛沫同伴させる。次に、蒸気を
飛沫同伴したキャリア・ガスが、導管１５６を通って供
給バブラーから付着バブラー１６０内の液体に流入し、
付着バブラー１６０を出て付着サイトに向かう。キャリ
ア・ガスを供給バブラー１４０および付着バブラー１６
０内の液体に導入すると、気泡が形成され、液体表面へ
と上昇する。
【００３９】蒸発速度は、液体の温度、気泡のサイズ、
および液体中の気泡の残留時間から影響を受ける。供給
バブラー１４０内の液体の量は、一般に、供給バブラー
から流出する蒸気が、キャリア・ガスに飛沫同伴して付
着バブラーから付着サイトへと流出する蒸気の総量の好
ましくは約９０から１１０％になるよう維持される。供
給バブラーからの流出が１００％であると、付着バブラ
ー内の液体レベルは変化しない。
および液体中の気泡の残留時間から影響を受ける。供給
バブラー１４０内の液体の量は、一般に、供給バブラー
から流出する蒸気が、キャリア・ガスに飛沫同伴して付
着バブラーから付着サイトへと流出する蒸気の総量の好
ましくは約９０から１１０％になるよう維持される。供
給バブラーからの流出が１００％であると、付着バブラ
ー内の液体レベルは変化しない。
【００４０】２つのバブラーを使用すると、一方の供給
バブラー１４０が総量に寄与するバブラーとして作用
し、付着バブラー１６０が蒸気の量をトリムまたは微調
整するのに使用することができる。さらに、付着バブラ
ー１６０の液体によって提供される蒸気の正味流出量が
比較的少ない、つまり流入量より流出量の方が少ないの
で、このバブラーの液体レベルは、予備成型品の製造運
転中、わずかしか上下せず、フィードバックのために
は、ほぼ一定になる。その結果、付着バブラー１６０内
の意図せぬ摂動が防止され、フィードバックへの悪影響
は最小限になる。
バブラー１４０が総量に寄与するバブラーとして作用
し、付着バブラー１６０が蒸気の量をトリムまたは微調
整するのに使用することができる。さらに、付着バブラ
ー１６０の液体によって提供される蒸気の正味流出量が
比較的少ない、つまり流入量より流出量の方が少ないの
で、このバブラーの液体レベルは、予備成型品の製造運
転中、わずかしか上下せず、フィードバックのために
は、ほぼ一定になる。その結果、付着バブラー１６０内
の意図せぬ摂動が防止され、フィードバックへの悪影響
は最小限になる。
【００４１】典型的には、付着バブラー１６０の蒸気の
流出と流入との差は比較的小さく、温度で制御すること
ができる。リザーバおよび／またはバブラー間で材料を
搬送するこのような温度操作に加えて、弁１７４を使用
して、付着バブラーに追加液体を直接導入してもよい。
しかし、既にバブラー内にあるのとは異なる温度で新し
い材料を導入すると、温度の摂動が生じることに留意さ
れたい。
流出と流入との差は比較的小さく、温度で制御すること
ができる。リザーバおよび／またはバブラー間で材料を
搬送するこのような温度操作に加えて、弁１７４を使用
して、付着バブラーに追加液体を直接導入してもよい。
しかし、既にバブラー内にあるのとは異なる温度で新し
い材料を導入すると、温度の摂動が生じることに留意さ
れたい。
【００４２】供給バブラー１４０の液体レベルは、少な
くとも、供給バブラー１４０の液量が、その液体温度を
制御できるのに十分になるようなレベルであり、これ
は、付着バブラーに流入および流出する蒸気の質量流量
を制御するのに適切である。例えば、グラム／分という
単位の質量流量は、グラム／立方センチメートル単位の
濃度と立方センチメートル／分単位の流量との積であ
る。好ましい実施例では、付着バブラーへの蒸気の質量
流量がそこから流出する蒸気の質量流量よりわずかに低
いだけの状態で、付着バブラー１６０の液体レベルはほ
ぼ一定に維持される、つまり目標レベルの約±１インチ
(2.54cm)以内になる。ヒータ１４２が液体の適切な温度
制御を提供するのに有効でないほど、供給バブラー１４
０の液体レベルが低い場合、付着バブラー１６０に出入
りする質量流量に比較的大きい不均衡が生じる。供給バ
ブラー１４０へと飛沫同伴する蒸気が少なくなるので、
付着バブラー１６０から流出する正味蒸気が、恐らく有
意に増加する。この付着バブラー１６０の摂動の結果、
送出された蒸気の濃度レベルが変化し、これによって光
学的予備成型品の付着に悪影響を与える。
くとも、供給バブラー１４０の液量が、その液体温度を
制御できるのに十分になるようなレベルであり、これ
は、付着バブラーに流入および流出する蒸気の質量流量
を制御するのに適切である。例えば、グラム／分という
単位の質量流量は、グラム／立方センチメートル単位の
濃度と立方センチメートル／分単位の流量との積であ
る。好ましい実施例では、付着バブラーへの蒸気の質量
流量がそこから流出する蒸気の質量流量よりわずかに低
いだけの状態で、付着バブラー１６０の液体レベルはほ
ぼ一定に維持される、つまり目標レベルの約±１インチ
(2.54cm)以内になる。ヒータ１４２が液体の適切な温度
制御を提供するのに有効でないほど、供給バブラー１４
０の液体レベルが低い場合、付着バブラー１６０に出入
りする質量流量に比較的大きい不均衡が生じる。供給バ
ブラー１４０へと飛沫同伴する蒸気が少なくなるので、
付着バブラー１６０から流出する正味蒸気が、恐らく有
意に増加する。この付着バブラー１６０の摂動の結果、
送出された蒸気の濃度レベルが変化し、これによって光
学的予備成型品の付着に悪影響を与える。
【００４３】蒸着プロセスに使用する液体に今回使用す
る輸送用容器は、複数の場合に予備成型品を製造するの
に十分な液体で供給バブラー１４０を満たすのに使用で
きるよう、十分に大きいので有利である。その結果、供
給バブラー１４０に充填し、弁１３３を閉じると、予備
成型品の製造運転を通して作動し続け、弁１３３を再び
開く必要がない。さらに、輸送用容器は、弁１３３でバ
ブラー・システムから切り離し、他のバブラー・システ
ムの充填に使用することができる。図２の破線１７５
は、リザーバ１２４がシステム１２０の恒久的部品であ
る必要はないことを示すために用いられている。
る輸送用容器は、複数の場合に予備成型品を製造するの
に十分な液体で供給バブラー１４０を満たすのに使用で
きるよう、十分に大きいので有利である。その結果、供
給バブラー１４０に充填し、弁１３３を閉じると、予備
成型品の製造運転を通して作動し続け、弁１３３を再び
開く必要がない。さらに、輸送用容器は、弁１３３でバ
ブラー・システムから切り離し、他のバブラー・システ
ムの充填に使用することができる。図２の破線１７５
は、リザーバ１２４がシステム１２０の恒久的部品であ
る必要はないことを示すために用いられている。
【００４４】本発明の態様により、付着バブラーを出る
導管内にあるキャリア・ガスに飛沫同伴した蒸気の濃度
レベルを、リアルタイムで調節することができる。この
点で、所望の液体レベルを維持する一つの方法として、
バブラーおよび／またはリザーバのいずれかの液体の相
対的温度を制御しようと、複雑な技術を用いる必要が少
なくなる。キャリア・ガスに所望の量の蒸気を飛沫同伴
するのに十分な液体がある限り、本発明の実施例は、材
料が実際に蒸発システムから付着サイトへと移動する
間、液体レベルおよび／または温度を操作する必要がな
い。したがって、既存の蒸気送出システムに対する本発
明の実施例の少なくとも一つの利点は、バブラーおよび
リザーバのそれぞれの液体レベルを、付着製造行程また
は運転を開始する前に設定するだけでよく、付着運転の
継続中は放置される。これに対して、既存の蒸気送出シ
ステムは、付着運転中にバブラーに追加の液体を導入
し、液体の温度が異なる結果、最終的に蒸発システムに
存在する材料の濃度レベルに悪影響を与える。
導管内にあるキャリア・ガスに飛沫同伴した蒸気の濃度
レベルを、リアルタイムで調節することができる。この
点で、所望の液体レベルを維持する一つの方法として、
バブラーおよび／またはリザーバのいずれかの液体の相
対的温度を制御しようと、複雑な技術を用いる必要が少
なくなる。キャリア・ガスに所望の量の蒸気を飛沫同伴
するのに十分な液体がある限り、本発明の実施例は、材
料が実際に蒸発システムから付着サイトへと移動する
間、液体レベルおよび／または温度を操作する必要がな
い。したがって、既存の蒸気送出システムに対する本発
明の実施例の少なくとも一つの利点は、バブラーおよび
リザーバのそれぞれの液体レベルを、付着製造行程また
は運転を開始する前に設定するだけでよく、付着運転の
継続中は放置される。これに対して、既存の蒸気送出シ
ステムは、付着運転中にバブラーに追加の液体を導入
し、液体の温度が異なる結果、最終的に蒸発システムに
存在する材料の濃度レベルに悪影響を与える。
【００４５】しかし、液体レベルを確立して維持するの
に使用する既知の技術には、本発明の実施例と組み合わ
せて、各付着運転の前にバブラーを充填できるものもあ
ることを認識されたい。特に、システム１２０は、弁１
３３と、供給バブラーの外側に隣接して取り付けられ
る、例えば光検出器などの１対の検出器１７６および１
７８とを含むフィードバック・ループを含んでもよい。
例えば、前述した米国特許第4,235,829号を参照された
い。供給バブラー１４０の液体レベルが低下するにつ
れ、供給バブラーにとっては低レベルにある検出器１７
８と一直線上にあるレベルに到達することがある。
に使用する既知の技術には、本発明の実施例と組み合わ
せて、各付着運転の前にバブラーを充填できるものもあ
ることを認識されたい。特に、システム１２０は、弁１
３３と、供給バブラーの外側に隣接して取り付けられ
る、例えば光検出器などの１対の検出器１７６および１
７８とを含むフィードバック・ループを含んでもよい。
例えば、前述した米国特許第4,235,829号を参照された
い。供給バブラー１４０の液体レベルが低下するにつ
れ、供給バブラーにとっては低レベルにある検出器１７
８と一直線上にあるレベルに到達することがある。
【００４６】概して、いずれかの検出器から発生する電
気信号は、供給バブラー１４０の液体レベルと機能的に
関連づけられる。供給バブラー１４０の液体レベルが検
出器１７８より下まで低下すると、弁１３３に信号が送
られ、これを開くよう作動させて、リザーバ内の液体１
２２が、圧力水頭により、開いた弁１７２を通って供給
バブラー１４０に入れるようにする。供給バブラー１４
０の液体レベルが検出器１７６のレベルまで上昇する
と、別の信号が弁１３３に送られ、これを閉じて、供給
バブラー１４０の液体の流れを中断する。上述したよう
に、液体レベルを制御するために、付着運転中にこのよ
うな温度操作を行うと、（新しく導入された液体が、バ
ブラー内に既にある液体とは異なる温度を有することが
あるので）望ましくない温度勾配が発生し、キャリア・
ガスの流れに摂動を生じることがあるのを認識された
い。
気信号は、供給バブラー１４０の液体レベルと機能的に
関連づけられる。供給バブラー１４０の液体レベルが検
出器１７８より下まで低下すると、弁１３３に信号が送
られ、これを開くよう作動させて、リザーバ内の液体１
２２が、圧力水頭により、開いた弁１７２を通って供給
バブラー１４０に入れるようにする。供給バブラー１４
０の液体レベルが検出器１７６のレベルまで上昇する
と、別の信号が弁１３３に送られ、これを閉じて、供給
バブラー１４０の液体の流れを中断する。上述したよう
に、液体レベルを制御するために、付着運転中にこのよ
うな温度操作を行うと、（新しく導入された液体が、バ
ブラー内に既にある液体とは異なる温度を有することが
あるので）望ましくない温度勾配が発生し、キャリア・
ガスの流れに摂動を生じることがあるのを認識された
い。
【００４７】上述した配置構成は、本発明を例証したも
のに過ぎないことが理解される。本発明の原理を具体化
し、本発明の精神および範囲内である他の配置構成を、
当業者なら考案することができる。
のに過ぎないことが理解される。本発明の原理を具体化
し、本発明の精神および範囲内である他の配置構成を、
当業者なら考案することができる。
【図１】本発明の原理を具体化する蒸気送出システムの
実施例の略図である。
実施例の略図である。
【図２】本発明の原理を具体化する蒸気送出システムの
代替実施例の略図である。
代替実施例の略図である。
２ 導管 ４ リザーバ ６ 弁 ８ ガス取入れライン ９ 圧力調整器 １０ 蒸発器システム １２ バブラー １４ 抵抗ヒータ １６ キャリア・ガス取入れライン １８ 下部出口 ２０ エンクロージャ ２２ 上部空間 ２４ 下部空間 ２６ パーティション ２８ 流量制御装置ユニット ３０ 蒸気流導管 ３２ 取入れオリフィス ３４ 弁 ３６ 濃度レベル検出器 ３８ 濃度レベル制御装置 １２４ リザーバ １２６ バブラー・システム １２８ センサ・ユニット １３２ ライン １３３ 弁 １３４ ライン １３６ 弁 １４０ 供給バブラー １４２ ヒータ １４５ ヒータ制御装置 １４６ センサ １４８ 導管 １５０ 室 １５４ 入口 １５６ 導管 １５８ 取入れオリフィス １６０ 付着バブラー １６２ 出口 １６３ ヒータ １６５ ヒータ制御装置 １６６ センサ １６８ 取入れ口 １７０ 導管 １７２ 弁 １７４ 弁 １７６ 検出器 １７８ 検出器 １８０ 弁 １８２ 濃度レベル検出器 １８４ 濃度制御装置
Claims (7)
- 【請求項１】 液体の蒸気を蒸気付着サイトに送出する
蒸気送出制御システムにおいて、 ある量の液体を含み、状態変化をもたらして液体の少な
くとも一部を蒸気に変化させる蒸発器（１２）と、 キャリア・ガスを蒸発器に導入する装置（１６）と、 液体の蒸気を飛沫同伴したキャリア・ガスを付着サイト
に移送する、蒸発器と付着サイトとの間の流体連絡路
（３０）と、 流体連絡路の中に位置し、キャリア・ガス中の液体蒸気
の濃度レベルを確認するのに使用できる検出器（３６）
と、 キャリア・ガス中の液体蒸気を所望の濃度レベルに維持
する方法で、流体連絡路内の圧力を制御する装置（３
８）とを備える蒸気送出制御システム。 - 【請求項２】 さらに、確認された濃度レベルを、液体
蒸気を飛沫同伴するキャリア・ガスの混合物の望ましい
濃度レベルと比較する濃度制御装置を備える、請求項１
に記載の光学製品製造システム。 - 【請求項３】 流体連絡路内の圧力を変化させる装置
が、流体連絡路内に配置された弁である、請求項１に記
載の光学製品製造システム。 - 【請求項４】 濃度検出器が、流体連絡路内に配置され
た弁の低圧側に配置される、請求項３に記載の光学製品
製造システム。 - 【請求項５】 濃度検出器が、流体連絡路内に配置され
た弁の高圧側に配置される、請求項３に記載の光学製品
製造システム。 - 【請求項６】 蒸発器がさらに、 ある量の液体を含み、付着サイトと流体連絡する付着バ
ブラーと、 ある量の液体を含み、付着バブラーと流体連絡する供給
バブラーとを備える、請求項３に記載の光学製品製造シ
ステム。 - 【請求項７】 さらに、供給バブラー内の液体の温度に
対する付着バブラーの液体の温度を制御する加熱システ
ムを備える、請求項６に記載の光学製品製造システム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/057,840 US6161398A (en) | 1998-04-09 | 1998-04-09 | Methods of and systems for vapor delivery control in optical preform manufacture |
| US09/057840 | 1998-04-09 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11320556A true JPH11320556A (ja) | 1999-11-24 |
| JP3654494B2 JP3654494B2 (ja) | 2005-06-02 |
Family
ID=22013051
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10253799A Expired - Lifetime JP3654494B2 (ja) | 1998-04-09 | 1999-04-09 | 光学的予備成型品製造の蒸気送出制御の方法およびシステム |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6161398A (ja) |
| EP (1) | EP0949212B1 (ja) |
| JP (1) | JP3654494B2 (ja) |
| CN (1) | CN1231380A (ja) |
| DE (1) | DE69922728T2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20060097425A (ko) * | 2005-03-09 | 2006-09-14 | 엘에스전선 주식회사 | 유량 제어가 가능한 ｍｃｖｄ용 버블 발생 장치 |
| KR100632879B1 (ko) * | 1999-06-03 | 2006-10-16 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 유리소재의 제조장치 및 제조방법 |
| JP2018074166A (ja) * | 2012-07-18 | 2018-05-10 | ケレス テクノロジーズ インコーポレイテッド | 蒸気送達装置、その製造方法およびその使用方法 |
| JP2021004786A (ja) * | 2019-06-26 | 2021-01-14 | 住友金属鉱山株式会社 | 四塩化ケイ素の測定ユニット、四塩化ケイ素の品質評価方法、四塩化ケイ素の品質管理方法、炭化ケイ素基板の製造方法、および、炭化ケイ素基板製造装置 |
Families Citing this family (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6311959B1 (en) * | 1999-04-22 | 2001-11-06 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for generating controlled mixture of organic vapor and inert gas |
| US6984415B2 (en) * | 1999-08-20 | 2006-01-10 | International Business Machines Corporation | Delivery systems for gases for gases via the sublimation of solid precursors |
| US6561498B2 (en) | 2001-04-09 | 2003-05-13 | Lorex Industries, Inc. | Bubbler for use in vapor generation systems |
| US7003984B2 (en) * | 2001-04-30 | 2006-02-28 | Verrillon, Inc. | Hybrid manufacturing process for optical fibers |
| KR20030005648A (ko) * | 2001-07-09 | 2003-01-23 | 주식회사 세미텔 | 자동 리필 기능을 갖는 버블러 |
| US6701066B2 (en) * | 2001-10-11 | 2004-03-02 | Micron Technology, Inc. | Delivery of solid chemical precursors |
| US20030123080A1 (en) * | 2001-12-27 | 2003-07-03 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Image forming device and method for controling the same |
| US7011299B2 (en) * | 2002-09-16 | 2006-03-14 | Matheson Tri-Gas, Inc. | Liquid vapor delivery system and method of maintaining a constant level of fluid therein |
| KR100511936B1 (ko) * | 2003-01-15 | 2005-09-02 | 엘에스전선 주식회사 | 수정화학기상증착용 광섬유 모재 제조장치 |
| US7820981B2 (en) | 2003-12-12 | 2010-10-26 | Semequip, Inc. | Method and apparatus for extending equipment uptime in ion implantation |
| DE502004012396D1 (de) * | 2004-02-20 | 2011-05-26 | Cs Clean Systems Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Nachfüllen eines Blasenverdampfers |
| EP1719739B1 (en) * | 2004-02-27 | 2013-06-19 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method and device for producing an optical fiber preform |
| TW201040306A (en) * | 2009-03-11 | 2010-11-16 | Air Liquide | Bubbling supply system for stable precursor supply |
| JP5690498B2 (ja) * | 2009-03-27 | 2015-03-25 | ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ，エル．エル．シー． | 基体上に膜を堆積する方法および気化前駆体化合物を送達する装置 |
| JP5410235B2 (ja) * | 2009-10-15 | 2014-02-05 | 小島プレス工業株式会社 | 有機高分子薄膜の形成方法及び形成装置 |
| US8997775B2 (en) * | 2011-05-24 | 2015-04-07 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Vapor delivery device, methods of manufacture and methods of use thereof |
| DE102013103603A1 (de) * | 2013-04-10 | 2014-10-16 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Verfahren zum Versorgen eines Prozesses mit einem angereicherten Trägergas |
| CN105384333A (zh) * | 2015-10-28 | 2016-03-09 | 江苏亨通光电股份有限公司 | 一种四氯化锗的鼓泡罐装置以及四氯化锗的鼓泡方法 |
| US11168394B2 (en) | 2018-03-14 | 2021-11-09 | CeeVeeTech, LLC | Method and apparatus for making a vapor of precise concentration by sublimation |
| US12104252B2 (en) | 2018-03-14 | 2024-10-01 | Ceevee Tech, Llc | Method and apparatus for making a vapor of precise concentration by sublimation |
| DE102018118771B4 (de) | 2018-08-02 | 2022-07-07 | Leoni Kabel Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum reproduzierbaren Erzeugen einer Preform für die Glasfaserherstellung |
| JP6476342B1 (ja) * | 2018-10-15 | 2019-02-27 | オリジン電気株式会社 | 還元ガス供給装置及び処理済対象物の製造方法 |
| DE102019115928B4 (de) | 2019-06-12 | 2023-07-27 | J-Fiber Gmbh | Quarzfaser mit Wasserstoff-Barriereschicht und Verfahren zu deren Herstellung |
| CN110836946B (zh) * | 2019-11-19 | 2024-03-29 | 中国科学技术大学 | 一种可定量及可控制蒸气浓度的鼓泡装置及浓度测量方法 |
| CN111153590B (zh) * | 2019-12-31 | 2022-03-25 | 江苏通鼎光棒有限公司 | 一种高精度的四氯化锗鼓泡装置 |
| DE102020100058A1 (de) | 2020-01-03 | 2021-07-08 | Leoni Kabel Gmbh | Faseroptische Temperaturmessung mit Quantendot-Nanokomposit |
| DE102024107217A1 (de) | 2024-03-13 | 2025-09-18 | Pink Gmbh Thermosysteme | Befüllvorrichtung zum Befüllen eines Bubblers, Befüllsystem und damit ausgerüstete Löt- oder Sinteranlage, sowie Verfahren zum Betreiben der Befüllvorrichtung |
| CN119198886A (zh) * | 2024-09-24 | 2024-12-27 | 上海良薇机电工程有限公司 | 一种tcs浓度检测装置、系统、方法和半导体工艺设备 |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3583685A (en) * | 1968-09-26 | 1971-06-08 | Ibm | Method and apparatus for controlling quantity of a vapor in a gas |
| US3801294A (en) * | 1971-12-15 | 1974-04-02 | Corning Glass Works | Method of producing glass |
| US3826560A (en) * | 1972-03-30 | 1974-07-30 | Corning Glass Works | Method of forming a light focusing fiber waveguide |
| US4217027A (en) * | 1974-02-22 | 1980-08-12 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Optical fiber fabrication and resulting product |
| US4194807A (en) * | 1976-04-09 | 1980-03-25 | Georg Gliemeroth | Optical fiber wave-guides for signal transmission comprising multiple component glass with an adjusted expansion co-efficient between the core and mantle |
| US4276243A (en) * | 1978-12-08 | 1981-06-30 | Western Electric Company, Inc. | Vapor delivery control system and method |
| US4220460A (en) * | 1979-02-05 | 1980-09-02 | Western Electric Company, Inc. | Vapor delivery system and method |
| US4278458A (en) * | 1979-02-07 | 1981-07-14 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Optical fiber fabrication method and apparatus |
| US4235829A (en) * | 1979-05-07 | 1980-11-25 | Western Electric Company, Inc. | Vapor delivery system and method of maintaining a constant level of liquid therein |
| JPS5934420B2 (ja) * | 1980-05-20 | 1984-08-22 | ジエイ・シ−・シユ−マ−カ−・カンパニ− | 化学蒸気分配システム |
| US5277889A (en) * | 1983-10-21 | 1994-01-11 | Corning Incorporated | Method for depositing pure metal halide compositions |
| US4582480A (en) * | 1984-08-02 | 1986-04-15 | At&T Technologies, Inc. | Methods of and apparatus for vapor delivery control in optical preform manufacture |
| JPH085690B2 (ja) * | 1987-01-14 | 1996-01-24 | 住友電気工業株式会社 | 原料供給方法および装置 |
| US5145508A (en) * | 1988-03-04 | 1992-09-08 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Method of making fluoride glass using barium β-diketones |
| JP2554356B2 (ja) * | 1988-05-17 | 1996-11-13 | 住友電気工業株式会社 | ガラス原料供給方法及びガラス原料供給装置 |
| US5051096A (en) * | 1989-10-23 | 1991-09-24 | International Business Machines Corp. | Planar board support structure |
| JPH04342434A (ja) * | 1991-05-17 | 1992-11-27 | Fujikura Ltd | 光ファイバ母材製造装置 |
| US5425902A (en) * | 1993-11-04 | 1995-06-20 | Tom Miller, Inc. | Method for humidifying air |
| US5392635A (en) * | 1993-12-30 | 1995-02-28 | At&T Corp. | Acoustic analysis of gas mixtures |
| US5599371A (en) * | 1994-12-30 | 1997-02-04 | Corning Incorporated | Method of using precision burners for oxidizing halide-free, silicon-containing compounds |
| US5558687A (en) * | 1994-12-30 | 1996-09-24 | Corning Incorporated | Vertical, packed-bed, film evaporator for halide-free, silicon-containing compounds |
| JP3157693B2 (ja) * | 1995-03-16 | 2001-04-16 | 信越化学工業株式会社 | シリカガラス系堆積体の製造方法 |
-
1998
- 1998-04-09 US US09/057,840 patent/US6161398A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-03-29 EP EP99302442A patent/EP0949212B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-03-29 DE DE69922728T patent/DE69922728T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-08 CN CN99104847A patent/CN1231380A/zh active Pending
- 1999-04-09 JP JP10253799A patent/JP3654494B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100632879B1 (ko) * | 1999-06-03 | 2006-10-16 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 유리소재의 제조장치 및 제조방법 |
| KR20060097425A (ko) * | 2005-03-09 | 2006-09-14 | 엘에스전선 주식회사 | 유량 제어가 가능한 ｍｃｖｄ용 버블 발생 장치 |
| JP2018074166A (ja) * | 2012-07-18 | 2018-05-10 | ケレス テクノロジーズ インコーポレイテッド | 蒸気送達装置、その製造方法およびその使用方法 |
| JP2021004786A (ja) * | 2019-06-26 | 2021-01-14 | 住友金属鉱山株式会社 | 四塩化ケイ素の測定ユニット、四塩化ケイ素の品質評価方法、四塩化ケイ素の品質管理方法、炭化ケイ素基板の製造方法、および、炭化ケイ素基板製造装置 |
| JP2023052579A (ja) * | 2019-06-26 | 2023-04-11 | 住友金属鉱山株式会社 | 四塩化ケイ素の測定ユニット、四塩化ケイ素の品質評価方法、四塩化ケイ素の品質管理方法、炭化ケイ素基板の製造方法、および、炭化ケイ素基板製造装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3654494B2 (ja) | 2005-06-02 |
| EP0949212A1 (en) | 1999-10-13 |
| US6161398A (en) | 2000-12-19 |
| EP0949212B1 (en) | 2004-12-22 |
| CN1231380A (zh) | 1999-10-13 |
| DE69922728T2 (de) | 2005-12-15 |
| DE69922728D1 (de) | 2005-01-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3654494B2 (ja) | 光学的予備成型品製造の蒸気送出制御の方法およびシステム | |
| CA1256330A (en) | Methods of and apparatus for vapor delivery control in optical preform manufacture | |
| US4276243A (en) | Vapor delivery control system and method | |
| US4235829A (en) | Vapor delivery system and method of maintaining a constant level of liquid therein | |
| US4220460A (en) | Vapor delivery system and method | |
| US4640221A (en) | Vacuum deposition system with improved mass flow control | |
| US4717596A (en) | Method for vacuum vapor deposition with improved mass flow control | |
| US4861524A (en) | Apparatus for producing a gas mixture by the saturation method | |
| US20030116019A1 (en) | High flow rate bubbler system and method | |
| KR20080042032A (ko) | 저온에서 액체 원료를 기화시킬 수 있는 액체 원료의기화방법 및 당해 방법을 사용하는 기화기 | |
| EP0200215B1 (en) | Raw material supplying device and process for using this device | |
| US7730747B2 (en) | Method for vaporizing a liquid reactant in manufacturing a glass preform | |
| JPH0620977A (ja) | 液流を気流に変換する方法及び装置 | |
| US6978984B2 (en) | Raw material providing device for chemical vapor deposition process | |
| CA2700491A1 (en) | Vapour delivery system | |
| JP2796975B2 (ja) | 液体原料気化装置 | |
| KR100378497B1 (ko) | 처리기용 가스 분배 시스템 및 반도체 기판의 처리 방법 | |
| JP2004338996A (ja) | 気体材料の供給法及び装置、並びにそれを用いたガラス微粒子堆積体及びガラス材料の製造法 | |
| JPH07171375A (ja) | バブラー原料供給装置における原料補給方法 | |
| US11702358B2 (en) | Method and apparatus for reproducibly producing a preform for glass fiber manufacture | |
| JP3192571B2 (ja) | シリカ系ガラスの製造方法 | |
| JP2000227525A (ja) | 光導波路成膜装置および光導波路成膜方法 | |
| JPH09243416A (ja) | 気化量測定方法及び気化装置 | |
| JPH02198622A (ja) | 液体ガラス原料の気化装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040531 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040728 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040922 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041004 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050202 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050224 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090311 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100311 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110311 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130311 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140311 Year of fee payment: 9 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |