JPH11323285A - 二重点法による固定のための架橋性ベ―ス層 - Google Patents

二重点法による固定のための架橋性ベ―ス層

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JPH11323285A JP11052940A JP5294099A JPH11323285A JP H11323285 A JPH11323285 A JP H11323285A JP 11052940 A JP11052940 A JP 11052940A JP 5294099 A JP5294099 A JP 5294099A JP H11323285 A JPH11323285 A JP H11323285A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 平面構造物の被覆および／または積層のため
の架橋性溶融接着剤を提供する。 【解決手段】 該接着剤は、架橋成分がポリオレフィン
マトリックスに結合されており、かつ反応性成分が溶融
物中で初めて架橋下に反応する。 【効果】 少ない被覆量で高い付着安定性、基層へのオ
ーバーポイントの良好な結合および良好な耐洗濯性およ
び耐クリーニング性を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、二重点塗布（Dopp
elpunktbeschichtung)の際の戻り遮断物(Rueckschlagsp
erre)としてのベースポイント(Basispunkt)を製造する
ための、市販のアミン末端コポリアミドまたはコポリエ
ステルおよび、アタクチックポリオレフィンと粉末状の
イソシアネートまたはエポキシドとからなる粉末化した
押出物からなる粉末混合物をベースとする、架橋性の溶
融接着剤被覆に関する。オーバーポイント(Oberpunkt)
は、アンダーポイント(Unterpunkt)への良好な結合を保
証するために、アミン制御されたコポリアミドからな
る。特に本発明は、衣料産業、特にアウターウェアのた
めの固定可能な芯材を網目状に被覆するための溶融接着
剤材料に関する。コポリアミドの代わりにＯＨ基末端コ
ポリエステルを使用することもできる。
【０００２】低い耐洗濯性および耐ドライクリーニング
性に関する問題、ならびに弱い付着に関する問題を解決
するために、改善された溶融接着剤材料、あるいはまた
改善された被覆技術が開発されてきた。デュオ−または
二重点塗布(Duo- oder Doppelpunktbeschichtung)は例
えば特許明細書ＤＥ−Ｂ２２１４２３６号、ＤＥ−Ｂ２
２３１７２３号、ＤＥ−Ｂ２５３６９１１号およびＤＥ
−Ｂ３２３０５７９号に記載されている。
【０００３】被覆支持体は、マイクロ繊維範囲までの微
細なタイターの個別繊維を有する比較的細い糸ならびに
合成糸、たとえば高フィラメント加工アクリル糸または
ポリエステル糸を使用することにより改善された。元来
使用されていた織物は、ほとんど織物ニット−およびニ
ットフリースにより取って代わられており、この場合、
最後に挙げた素材は不織布とニットとの組み合わせであ
る。この新規の組み合わせは、極めて柔軟な、しかしま
た極めて目の粗い構造につながり、このような構造は被
覆方法および溶融接着剤材料に対する高い要求を、特に
溶融接着剤材料の戻りおよびにじみに関して提示する。
【０００４】価格および品質上の理由により、芯材１ｍ
2あたりに塗布する被覆量は明らかに減少された。以前
は１８〜２５ｇ／ｍ2の塗布量が通常であったのに対
し、今日では塗布量は７〜１５ｇ／ｍ2である。
【０００５】前記の少ない量にも関わらず、十分な付着
および安定性を保証しなくてはならない、つまり溶融接
着剤は芯へ浸透してはならない。というのもそうなると
該溶融接着剤は本来の接着のためにもはや利用されない
からである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、減少させた被覆量で高い付着安定性、ベース層への
オーバーポイントの良好な結合および良好な耐洗濯性お
よび耐ドライクリーニング性を有する効果的な戻り遮断
物を見いだすことであった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】一連の戻り遮断物が公知
である：架橋性のアクリレート分散液またはポリウレタ
ン分散液あるいは高融点のコポリアミドとポリエチレン
とをベースとする粉末充填ペーストあるいは高粘度の熱
可塑性ポリウレタン粉末。
【０００８】全ての系は程度の差はあれ、適用の際に大
きな欠点、つまりオーバーポイントへの結合または洗濯
に対する安定性という問題を有している。さらに該分散
液を、毛羽のある、毛の生えた芯に使用することはでき
ない。
【０００９】自己架橋性アクリレート分散液またはポリ
ウレタン分散液の被覆の場合、すでに被覆の際に部分的
に架橋し、このことにより型が塞がれ、ひいては型の穴
の閉塞につながる。装置の高価なクリーニングが必要で
ある。製造を制限する停止状態に入ると重大な困難が生
じる。さらにベース層へのオーバーポイントの結合が問
題である。ポリアミド、ポリエチレンおよびポリウレタ
ンをベースとする、高粘度の粉末充填系は、要求される
戻りの信頼度を満足しない。
【００１０】これまで、ベースポイントのための安定し
た架橋系を製造することには成功していない。有利に使
用することができるイソシアネートは、水に対して安定
化することができない（被覆ペーストのためのマトリッ
クス）か、または架橋のための活性化温度が高すぎた
（１６０℃より高い）かのどちらかであった。
【００１１】ところで意外なことに、本発明により、特
許請求の範囲に記載の約１００〜１３０℃の範囲の活性
化温度および耐水性を有する極めて反応性の系を製造す
ることに成功した。平面構造物の被覆および／または積
層のための、本発明による架橋性溶融接着剤材料は、溶
融接着剤材料中に存在する反応性の成分が溶融物中で初
めて架橋下に反応することにより優れている。その際、
架橋成分を押出により溶融物中のポリオレフィンに組み
込む。
【００１２】有利な実施態様では、アミン末端基を有す
る市販のコポリアミドと、押出によりアタクチックポリ
オレフィンで固定化した三量化ジイソシアネートとを混
合し、かつ水性ペーストとしてロータリスクリーン印刷
インキ中に加工する。コポリアミドの代わりにコポリエ
ステルを使用することもできる。炉中約１２０℃でのそ
の後の乾燥の際に架橋は数秒以内に開始され、このこと
により二重点のための架橋した戻り遮断物が得られる。
このことにより、例えばキャップドイソシアネート（キ
ャップ剤としてのカプロラクタムまたはオキシムあるい
は二量化により得られる）が、高すぎる活性化温度を必
要とし、さらに固定の際に不純物が放出されるべきでな
いというイソシアネート含有系の通常の問題を回避する
ことができる。その他の問題はブロックされていないイ
ソシアネートがすでにペースト中で水と反応してしまう
ことであった。
【００１３】イソシアネートを水に対して、また空気湿
度の拡散に対して安定化させ、比較的低い温度での活性
化を保証しなくてはならなかった。これは意外にも、拡
散による水を吸収せず、かつ約１２０℃の融点を有し、
かつ圧縮の際にアミン制御されたコポリアミドとイソシ
アネートとの反応を達成することが可能であるような低
粘度のポリオレフィンポリマー、有利にはアタクチック
ポリプロピレン中に、押出によりイソシアネートを結合
させることにより達成された。２つより多くの遊離ＮＣ
Ｏ基および１００〜１３０℃の融点範囲を有する固体の
イソシアネートが適切である。マトリックスのポリマー
はイソシアネートと反応してはならない。架橋成分とし
て９０〜１３０℃、有利には１００〜１２０℃の融点範
囲、２０００〜６０００、有利には２５００〜３０００
の分子量範囲および１分子あたり２つより多くのエポキ
シ基を有するエポキシドもまた適切であり、例としてビ
スフェノールＡがあげられる。
【００１４】ポリマーマトリックスとして有利にはアタ
クチックポリプロピレンを使用する。該ポリプロピレン
は、１９０℃で８０００〜５００００ｍＰａｓの溶融粘
度および８０〜１５０℃の軟化点範囲、有利には１９０
℃で８０００〜３００００ｍＰａｓの溶融粘度および１
００〜１４０℃の軟化点範囲を有するべきである。市販
の製品として例えば、ヒュルス（Huels)社のＶＥＳＴＯ
ＰＬＡＳＴ４０８、３０８、５０８、５２０、７０３、
７０４、７０８および７５０が適切である。ポリオレフ
ィンは、アタクチックα−オレフィン−コポリマーまた
は上記の特性を有するエテン、プロペンおよび１−ブテ
ンをベースとするターポリマーであってもよい。ベース
ポイントへのオーバーポイントの特に良好な結合を達成
するために、アミン制御されたコポリアミドをオーバー
ポイント材料として使用することが推奨される。ベース
ポイントおよびオーバーポイントのための適切な生成物
は、低粘度で、低融点のタイプである。融点は９０〜１
５０℃、有利には１１５〜１３０℃、溶液粘度ηｒｅｌ
は１．２〜１．７、有利には１．２５〜１．４の範囲で
あるほうがよい。このことにより境界層がイソシアネー
トペーストと反応し、かつ両方の点の極めて安定した結
合が達成される。ベースポイントのための被覆量は、２
〜５ｇ／ｍ2、有利には２．５〜４ｇ／ｍ2、適用に応じ
てオーバーポイントのための被覆量は４〜８ｇ／ｍ2、
特に５〜７ｇ／ｍ2であるとよい。コポリアミドの代わ
りに、テレフタル酸、イソフタル酸およびブタンジオー
ルまたはブタンジオールを少量の他のジオール、例えば
ヘキサンジオールまたはポリエチレングリコールと組み
合わせたものをベースとし、１００〜１５０℃の融点を
有するＯＨ基末端コポリエステルを使用することもでき
る。
【００１５】ベースポイントはペーストとして網目状に
塗布することもできる。同様に反応性粉末混合物を散布
法により適用することもできる。
【００１６】
【実施例】ＶＥＳＴＡＮＡＴ Ｔ １８９０ ３３．３
重量％を押出機中１２５℃で、ＶＥＳＴＯＰＬＡＳＴ
４０８ ６６．６重量％と均質に混合し、粒状化し、常
温粉砕し、かつ５０μｍのふるいを介して分級した。
【００１７】上記の粉末２５重量％とＶＥＳＴＡＭＥＬ
Ｔ Ｘ １０２７−Ｐ１ ７５重量％とを高速ミキサー
中で混合した。
【００１８】前記の粉末混合物を、通例の分散剤および
増粘剤、例えばシュトックハウゼン(Stockhausen)社の
ＩＮＴＲＡＳＯＬ １２／１８／５およびＭＩＲＯＸ
ＴＸと共に、ＤＥ−Ｂ２００７９７１号、ＤＥ−Ｂ２２
２９３０８号、ＤＥ−Ｂ２４０７５０５号およびＤＥ−
Ｂ２５０７５０４号に記載されているように印刷可能な
ペーストに加工し、かつＣＰ６６型を有するロータリス
クリーン印刷装置で高フィラメント加工糸を有するポリ
エステルニット３５ｇ上に印刷した。塗布量は２ｇ／ｍ
2であった。まだ湿っているペースト点にＶＥＳＴＡＭ
ＥＬＴ Ｘ １０２７−Ｐ８１６を散布し、過剰量を吸
引し、かつ乾燥室中１３０℃で乾燥させ、かつ焼結し
た。オーバーポイントは５ｇ／ｍ2の塗布量を有してい
たので、全重量は７ｇ／ｍ2であった。
【００１９】 ベースポイントのペースト組成 水 １５００ｇ ＭＩＲＯＸ ＴＸ（ポリアクリル酸誘導体） ３５ｇ ＩＮＴＲＡＳＯＬ １２／１８／５ （エトキシル化脂肪アルコール） ４０ｇ ＶＥＳＴＯＰＬＡＳＴ ４０８とＶＥＳＴＡＮＡＴ Ｔ１８９０ とからなる反応性粉末混合物 ６００ｇ 結果：幅５ｃｍの前記の芯のストリップを綿−ポリエス
テル混合物からなるシリコーン処理したブラウス素材に
対して、１２７℃の接合温度で１０秒および４Ｎの線圧
力で固定し、引き続き該積層物を６０℃で洗浄した。
【００２０】 一次付着： １６Ｎ／５ｃｍ ６０℃洗浄： １２Ｎ／５ｃｍ 裏面リベット締め： ０．１Ｎ／１０ｃｍ比較例 同一の芯に、ポリアミド／ポリエチレンをベースとする
ペースト系を適用し、かつ同一のオーバーポイント材料
を散布し、乾燥させ、かつ焼結した。同一の量をベース
ポイントおよびオーバーポイントに塗布した。
【００２１】 ペースト処方： 水 １５００ｇ ＭＩＲＯＸ ＴＸ ３５ｇ ＩＮＴＲＡＳＯＬ １２／１８／５ ４０ｇ ＳＣＨＡＥＴＴＩＦＩＸ １８２０（ＮＤ−ポリエチレン） ４００ｇ ＶＥＳＴＡＭＥＬＴ ７５１−Ｐ１ ２００ｇ ＳＣＨＡＥＴＴＩＦＩＸ １８２０は、１２８〜１３０
℃の融点および２０ｇ／分のＭＦＲ値を有する低圧法ポ
リエチレンである。
【００２２】 結果： 一次付着： ９Ｎ／５ｃｍ ６０℃洗浄： ５Ｎ／５ｃｍ 裏面リベット締め： ０．９Ｎ／１０ｃｍ 新規の技術の利点は、すでにアンダーポイントの乾燥条
件で架橋し、かつさらにオーバーポイントの溶融の間に
そのアミン末端のためにアンダーポイントと共に架橋
し、かつこのことにより最適な結合が得られることであ
る。被覆後に、アンダーポイントが強く分子量中で構成
されているのでこれはニットの中に沈み込むことができ
ない。その後の固定の際に、オーバーポイントの低粘度
のポリアミドは、固定するべき表面素材に向かって強制
的に流される。というのもオーバーポイントは下方に流
れ去ることができないからであり、このことによりすで
にわずかな溶融接着剤の量で極めて高い付着が達成され
る。従来該系の弱点であったオーバーポイントとベース
ポイントとの間の分離層は、特に洗濯の際に、従来の公
知の系の場合ほど強く加水分解により攻撃されず、ひい
ては実質的により高い安定性を有する。
【００２３】使用された生成物： ＶＥＳＴＡＭＥＬＴ Ｘ １０２７−Ｐ１は、ＬＬ、Ｃ
ＬおよびＤＤＳ／ＭＰＤをベースとし、アミン末端基を
有し、融点１２０℃、アミン末端基１００〜４００ｍＶ
ａｌ／ｋｇ、有利には２５０〜３５０ｍＶａｌ／ｋｇ
を有する、ヒュルス社の三元性コポリアミドである。
【００２４】ＶＥＳＴＯＰＬＡＳＴ ４０８−Ｐ１は、
１１８℃の軟化点および１９０℃で８０００ｍＰａｓの
溶融粘度を有する、ヒュルス社のアタクチックα−オレ
フィン−コ−ターポリマーである。
【００２５】ＶＥＳＴＡＮＡＴ Ｔ １８９０／１００
は、３〜４の官能価を有するポリイソシアネートであ
り、その融点は１００〜１１５℃である。これはヒュル
ス社の製品である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 トルステン グルケ ドイツ連邦共和国 ハルテルン アム テ ィールスホーフ 22 アー (72)発明者 ハンス−ヴィリ ローゼンスキー ドイツ連邦共和国 マルル カムプシュト ラーセ 90

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 平面構造物の被覆および／または積層の
    ための架橋性溶融接着剤において、架橋成分がポリオレ
    フィンマトリックスに結合されており、かつ反応性の成
    分が溶融物中で初めて架橋下に反応することを特徴とす
    る、平面構造物の被覆および／または積層のための架橋
    性溶融接着剤。
  2. 【請求項２】 架橋成分を押出により溶融物中のポリオ
    レフィンに組み込む、請求項１記載の溶融接着剤。
  3. 【請求項３】 ポリオレフィンが、８０〜１５０℃の軟
    化点を有し、８０００〜５００００ｍＰａｓ（１９０℃
    で）の溶融粘度を有するアタクチックポリプロピレンで
    ある、請求項１または２記載の溶融接着剤。
  4. 【請求項４】 ポリオレフィンが、８０００〜５０００
    ０ｍＰａｓ（１９０℃で）の溶融粘度および８０〜１５
    ０℃の軟化点を有し、エテン、プロペンおよび１−ブテ
    ンをベースとするアタクチックターポリマーである、請
    求項１から３までのいずれか１項記載の溶融接着剤。
  5. 【請求項５】 ポリオレフィンが、８０００〜３０００
    ０ｍＰａｓ（１９０℃で）の溶融粘度および１００〜１
    ４０℃の軟化点を有する、請求項１から４までのいずれ
    か１項記載の溶融接着剤。
  6. 【請求項６】 架橋成分がイソシアネートの群に由来
    し、かつ１分子あたり２つより多くの反応基を有する、
    請求項１から５までのいずれか１項記載の溶融接着剤。
  7. 【請求項７】 イソシアネートが１００〜１３０℃の融
    点範囲を有する、請求項１から６までのいずれか１項記
    載の溶融接着剤。
  8. 【請求項８】 架橋成分として９０〜１３０℃の融点範
    囲、２０００〜６０００の分子量範囲および１分子あた
    り２つより多くのエポキシ基を有するエポキシドを使用
    する、請求項１から７までのいずれか１項記載の溶融接
    着剤。
  9. 【請求項９】 架橋成分として、粉末状のイソシアネー
    トを押出によりアタクチックポリオレフィンに結合さ
    せ、かつコポリアミドまたはコポリエステルである第二
    の成分と反応させる、請求項１から８までのいずれか１
    項記載の溶融接着剤。
  10. 【請求項１０】 第二の成分が、９０〜１５０℃の融点
    範囲および１．２〜１．７の範囲の溶液粘度ηｒｅｌを
    有するアミン制御されたコポリアミドである、請求項１
    から９までのいずれか１項記載の溶融接着剤。
  11. 【請求項１１】 反応性粉末混合物を散布法により適用
    する、請求項１から１０までのいずれか１項記載の溶融
    接着剤。
  12. 【請求項１２】 反応性粉末混合物が水性ペースト中に
    分散されており、かつロータリスクリーン印刷により平
    面構造物上に適用される、請求項１から１１までのいず
    れか１項記載の溶融接着剤。
  13. 【請求項１３】 二重点法技術のためのベースポイント
    である反応性粉末混合物を、にじみ遮断物として使用す
    る、請求項１から１２までのいずれか１項記載の溶融接
    着剤。
  14. 【請求項１４】 ベースポイントが粉末混合物からな
    り、かつペーストとして網目状に塗布される、請求項１
    から１３までのいずれか１項記載の溶融接着剤。
  15. 【請求項１５】 オーバーポイントが、アミン制御され
    たコポリアミドからなる、請求項１から１４までのいず
    れか１項記載の溶融接着剤。
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