JPH11329662A - サージ吸収素子 - Google Patents

サージ吸収素子

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JPH11329662A
JPH11329662A JP15527898A JP15527898A JPH11329662A JP H11329662 A JPH11329662 A JP H11329662A JP 15527898 A JP15527898 A JP 15527898A JP 15527898 A JP15527898 A JP 15527898A JP H11329662 A JPH11329662 A JP H11329662A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
surge
absorbing element
surge absorbing
conductive film
insulator
Prior art date
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Pending
Application number
JP15527898A
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsugi Kawarai
貢 川原井
Hideki Matsuzawa
秀樹 松沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokin Corp
Original Assignee
Tokin Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH11329662A publication Critical patent/JPH11329662A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 サージの印加からアーク放電までの時間を短
くして応答性を向上させ、さらに放電開始電圧を低くす
ることで、導電性被膜およびマイクロギャップがアーク
放電時に劣化しにくい、信頼性および耐久性の高いサー
ジ吸収素子を提供すること。 【解決手段】 絶縁体1の表面に形成された導電性被膜
2に、絶縁体1の表面に形成され、導電性被膜2が複数
の菱形形状をなすように、マイクロギャップ3を形成
し、あるいはさらに、これを、希ガスおよび不活性ガス
などともに、密閉空間に封入して形成したサージ吸収素
子とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子をはじ
めとする電子部品、あるいは電子回路等に印加される過
電圧を吸収するサージ吸収素子に関する。
【0002】
【従来の技術】サージ吸収素子は、電子機器の電子回路
を誘導雷等のサージから保護するために重要な素子であ
る。従来は、サージ吸収素子としては、電圧非直線特性
を有する高抵抗体素子からなるバリスタや、微小放電間
隙を気密容器内に収容したマイクロギャップ等が広く使
用されてきた。
【0003】しかし、バリスタは、サージ吸収に優れた
応答性を有するが、単位面積当たりの電流耐量が比較的
小さいため、大きなサージ電流を効率良く吸収すること
が困難である。
【0004】他方、気密容器内に収容したマイクロギャ
ップから構成されるサージ吸収素子は、その放電間隙に
アーク放電を生成することにより、電流耐量を大きくす
ることができる。しかし、マイクロギャップから構成さ
れるサージ吸収素子は、サージの印加からアーク放電ま
での時間が長く、応答性が低く、また、アーク放電によ
る導電性被膜およびマイクロギヤップの劣化等の問題が
生じていた。
【0005】気密容器内に収容したマイクロギャップか
ら構成されるサージ吸収素子は、絶縁体の表面を被覆し
た炭素被膜や金属酸化物被膜などの導電性被膜に、レー
ザーカッターやダイヤモンドカッターなどで線状にマイ
クロギャップを形成して、導電性被膜を分離独立させ、
その両端に外部接続のための端子を取り付けて構成され
ている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、サージの印
加からアーク放電までの時間を短くして応答性を向上さ
せ、さらに放電開始電圧を低くすることで、導電性被膜
およびマイクロギャップがアーク放電時に劣化しにく
い、信頼性および耐久性の高いサージ吸収素子を提供す
ることを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、マイクロギャ
ップによって分割され、マイクロギャップを隔てて対向
する導電性被膜に印加されるサージを吸収するサージ吸
収素子において、導電性被膜は、絶縁体の表面に形成さ
れ、マイクロギャップは、導電性被膜が複数の菱形形状
をなすように、等間隔で平行をなす複数の直線からなる
2組が、交差して形成されているサージ吸収素子であ
る。
【0008】本発明は、また、マイクロギャップは、菱
形形状をなす導電性被膜の長い対角線の方向と、サージ
が印加される方向が一致するように形成されているサー
ジ吸収素子である。
【0009】本発明は、また、絶縁体は、円柱形状、ま
たは円筒形状であるサージ吸収素子である。
【0010】さらに、本発明は、前記のサージ吸収素子
が、希ガスおよび不活性ガスのうち少なくとも1種類と
ともに、密閉空間に封入されて構成形成されているサー
ジ吸収素子である。
【0011】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて、図面を参照して説明する。
【0012】図1は、本発明の実施の形態によるサージ
吸収素子を示す図である。図2は、本発明によるサージ
吸収素子のマイクロギャップ幅と放電開始電圧の関係を
示す図である。図3は、本発明によるサージ吸収素子の
吸収波形を示す図である。
【0013】サージ吸収素子に定格電圧以上のサージが
印加された場合、まず、マイクロギャップを隔てた導電
性被膜の間に電位差が生じ、これによりマイクロギャッ
プに電子が放出されて沿面放電が発生する。次いで、こ
の沿面放電に伴って生ずる電子のプライミング効果によ
って、グロー放電へと移行する。そして、このグロー放
電が、サージ電流の増加によって主放電間隙へと転移
し、主放電としてのアーク放電に移行してサージを吸収
する。サージ吸収素子は、マイクロギャップに生ずる、
元来、応答速度の速い沿面放電をトリガ放電として利用
している。
【0014】図1に示すように、サージ吸収素子は、円
柱形状の絶縁体1を被覆する導電性被膜2にマイクロギ
ャップ3が形成されたうえ、不活性な窒素ガスとともに
ガラス管6によって密閉空間に封入された状態で構成さ
れている。サージは、二つのリード線5を通じてキャッ
プ電極4に印加され、さらに導電性被膜2に印加され
る。
【0015】絶縁体1は、ムライト粉末を円柱形状に押
し出し成型し、焼成して得た。この絶縁体1の全表面に
導電性被膜2を蒸着させ、長さ5.5mm、径1.7mm
の円柱形状絶縁体素子とした。この円柱形状絶縁体素子
の導電性被膜2にレーザー光によって、右回りおよび左
回りのスパイラル状に導電性被膜のトリミングを行い、
マイクロギャップ3を形成した。トリミングで形成した
マイクロギャップ3は、円柱形状絶縁体素子の軸に対し
て、すなわち、サージ印加による電界方向に対して、そ
れぞれ30度の角度とした。また、マイクロギャップ3
の幅は100〜400μmの範囲内で変え、マイクロギ
ャップ3のピッチは、マイクロギャップ3の幅の2倍と
した。
【0016】一様な導電性被膜に、右回りおよび左回り
のスパイラル状にマイクロギャップ3を形成して、多数
の菱形形状の導電性被膜2に分割する。マイクロギャッ
プの、サージ印加による電界方向の幅Mgapは、Mgap=
W/sinθで表される。ここで、Wはマイクロギャップ
3の幅、θは電界方向とマイクロギャップ3のなす角度
である。さきに述べたように、本実施例で、マイクロギ
ャップ3の幅は100〜400μmであるため、Mgap
は50〜200μmとなる。
【0017】次に、円柱形状絶縁体素子の両端を、キャ
ップ電極4にそれぞれ機械的に圧入し、各キャップ電極
4の端面には、ジュメット線よりなるリード線5を溶接
して接続した。さらに、円柱形状絶縁体素子を窒素ガス
と共にガラス管6内に封入し、リード線5の他端を外部
へ導出するようにして、サージ吸収素子を作製した。
【0018】図2に、本発明におけるサージ吸収素子
の、マイクロギャップ幅と放電開始電圧の関係を示す。
比較例として、図2には、本実施の形態に示す絶縁体素
子と同形で、円周方向のみに幅50〜200μmでマイ
クロギャップをトリミングして形成したサージ吸収素子
を作製し、評価した結果を併せて示した。図2から、本
発明によるサージ吸収素子は、放電開始電圧が低くなっ
ていることがわかり、さらにばらつきも小さくなってい
る。
【0019】また、図3には、本発明におけるサージ吸
収素子と、前記比較例のサージ吸収素子の吸収波形をそ
れぞれ示す。図3から、これら二つのサージ吸収素子に
同一のサージの原波形を印加した場合、本発明によるサ
ージ吸収素子は、応答性は格段に向上していることがわ
かる。
【0020】本発明によるサージ吸収素子は、導電性被
膜を分離独立させて形成するマイクロギャップを、円柱
形状絶縁体素子の軸方向、つまり、サージ印加による電
界方向に対して角度をつけて形成し、長手方向が電界方
向と一致するように、多数の菱形形状の導電性被膜2を
放電電極とするところに特徴がある。マイクロギャップ
の数が多いほど、トリガ放電となる沿面放電の発生部が
実質的に増える。このため、サージの印加から主放電間
隙に生ずる主放電たるアーク放電までの時間、つまり応
答性が向上する。さらに、放電開始電圧が低くなるた
め、導電性被膜およびマイクロギャップのアーク放電時
の劣化が低減されることとなる。
【0021】絶縁体1の形状は、円筒形状でもよい。絶
縁体1が円柱形状、あるいは円筒形状の場合には、中心
軸のまわりに回転させつつ、レーザー光によるトリミン
グによってマイクロギャップを形成することが容易にで
きる。マイクロギャップは、レーザー光のトリミングに
よるほか、ダイヤモンドブレードなどの回転砥石によっ
て形成することも可能である。なお、絶縁体1の形状
は、角柱形状や平板状であってもよい。
【0022】絶縁体1は、ムライトのほかに、アルミ
ナ、ステアタイトなどがあげられるが、これらに限定さ
れるものではない。また、封入ガスには、Ne,Ar,
He等の希ガスや窒素ガス、六フッ化硫黄等の不活性ガ
スであれば、いずれを使用してもよい。
【0023】このような構成とすることによって、応答
性が良く、かつ信頼性および耐久性の高いサージ吸収素
子が得られる。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によるサー
ジ吸収素子を用いることにより、サージの印加からアー
ク放電までの時間が短くなり、応答性が向上し、さらに
放電開始電圧が低くなって、導電性被膜およびマイクロ
ギャップがアーク放電時に劣化しにくくなり、信頼性お
よび耐久性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態によるサージ吸収素子を示
す図。
【図2】マイクロギャップ幅と放電開始電圧の関係を示
す図。
【図3】サージ吸収素子の吸収波形示す図。
【符号の説明】
1 絶縁体 2 導電性被膜 3 マイクロギャツプ 4 キャップ電極 5 リード線 6 ガラス管

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マイクロギャップによって分割され、該
    マイクロギャップを隔てて対向する導電性被膜に印加さ
    れるサージを吸収するサージ吸収素子において、前記導
    電性被膜は絶縁体の表面に形成され、前記マイクロギャ
    ップは、前記導電性被膜が複数の菱形形状をなすよう
    に、等間隔で平行をなす複数の直線からなる2組が、交
    差して形成されていることを特徴とするサージ吸収素
    子。
  2. 【請求項2】 前記マイクロギャップは、前記導電性被
    膜がなす菱形形状の長い対角線の方向と、前記サージが
    印加される方向が一致するように形成されていることを
    特徴とする請求項1記載のサージ吸収素子。
  3. 【請求項3】 前記絶縁体は、円柱形状、または円筒形
    状であることを特徴とする請求項1記載のサージ吸収素
    子。
  4. 【請求項4】 請求項1ないし請求項3記載のサージ吸
    収素子が、希ガスおよび不活性ガスのうち少なくとも1
    種類とともに、密閉空間に封入されて構成されているこ
    とを特徴とするサージ吸収素子。
JP15527898A 1998-05-19 1998-05-19 サージ吸収素子 Pending JPH11329662A (ja)

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JP15527898A JPH11329662A (ja) 1998-05-19 1998-05-19 サージ吸収素子

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JP15527898A JPH11329662A (ja) 1998-05-19 1998-05-19 サージ吸収素子

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JPH11329662A true JPH11329662A (ja) 1999-11-30

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JP15527898A Pending JPH11329662A (ja) 1998-05-19 1998-05-19 サージ吸収素子

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