JPH11330774A

JPH11330774A - 電磁波遮蔽体

Info

Publication number: JPH11330774A
Application number: JP13159698A
Authority: JP
Inventors: Yoshinori Suga; 義訓菅; Tomomi Nakano; 智美中野
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1998-05-14
Filing date: 1998-05-14
Publication date: 1999-11-30

Abstract

(57)【要約】【課題】電磁波遮蔽性はもとより、透視性に優れ、画
像表示装置の電磁波遮蔽フィルター等に好適に用いられ
る電磁波遮蔽体を提供する。【解決手段】透明基材表面に、透明導電性物質からな
る薄膜層と導電性物質からなる模様層とが設けられてい
る電磁波遮蔽体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本願発明は、電磁波遮蔽体に
関する。詳しくは、電磁波遮蔽性はもとより、透視性に
優れ、画像表示装置の電磁波遮蔽フィルターに好適に用
いられる電磁波遮蔽体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より透視性を保ちながら電磁波を遮
蔽する方法として、導電性繊維や金属蒸着膜のエッチン
グ等によって得られる導電性メッシュを用いる方法、酸
化インジウム錫（以下ＩＴＯと略す）等の物質を、スパ
ッタリング等によって蒸着して得られる、透明導電性薄
膜を用いる方法等が知られている。しかしながら、ＣＲ
Ｔ、プラズマディスプレー等の画像表示装置に導電性メ
ッシュからなる電磁波遮蔽体を用いた場合には、輝度値
が大幅に低下し、特に高輝度化の困難なプラズマディス
プレーでは消費電力量増加、パネル短寿命化等を招き、
好ましくない。また、同時に狭視野角化やモアレ稿の発
生など、表示画像を著しく劣化させる問題も生じる。

【０００３】一方、透明導電性薄膜による方法では表示
画像の劣化は比較的小さいものの、電磁波の遮蔽性が不
十分であり、十分な遮蔽性を得るためには膜厚を厚くす
る必要が生じ、輝度値の低下を招く問題がある。これら
の問題に対して、Ａｇ等の高導電性金属を含んだ低抵抗
薄膜を使用し、解決しようとする試みあるが、複雑な蒸
着工程を必要とするためコスト増加を招いている。ま
た、正反射性の高導電性金属は、反射率を増加させる問
題も生じるため、簡便に、高効率かつ低コストで、表示
画像を劣化させることなく、電磁波を遮蔽する技術の出
現が待ち望まれていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、電磁波遮蔽
体に関する従来技術における前述の課題を解決すべくな
されたものであって、電磁波遮蔽性はもとより、透視性
に優れ、画像表示装置の電磁波遮蔽フィルター等に好適
に用いられる電磁波遮蔽体を提供することを目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は透明基材
表面に、透明導電性物質からなる薄膜層と導電性物質か
らなる模様層とが設けられていることを特徴とする電磁
波遮蔽体に存する。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明において用いられる透明基
材としてはガラス、樹脂いずれも使用可能であるが、特
に軽量で加工性に優れた透明樹脂の利用が好適である。
具体的には、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系
樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、脂環式
ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化
ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリアリレート
系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂等の熱可塑性樹脂
が挙げられる。

【０００７】本発明における透明樹脂基材は、これらの
樹脂を押し出し成形、カレンダー成形、圧縮成形、射出
成形等により溶融成形する方法や、溶剤に溶解させてキ
ャスティングする方法等の公知の方法によりフィルム状
またはシート状に成形したもので、その厚みは１０μｍ
〜５ｍｍ程度である。なお、これら透明樹脂基材には、
一般に用いられている添加剤、例えば、フェノール系、
燐系等の酸化防止剤、ハロゲン系、燐系等の難燃剤、耐
熱安定剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、滑材、帯電防
止剤等が添加、コーティングされていても良い。

【０００８】本発明において用いられる透明導電性物質
からなる薄膜層として、代表的には酸化錫、酸化インジ
ウム、酸化アンチモン錫、アルミニウム酸化亜鉛、フッ
化酸化錫等の金属酸化物、金、銀、白金−パラジウム合
金等の金属からなる薄膜等を挙げることが出来る。コー
ティング法としては抵抗加熱蒸着、スパッタリング、イ
オンプレーティング、ケミカルベーパーデポジション等
の乾式プロセスを用いた薄膜、導電性微粒子分散液のス
プレーコーティング、スピンコーティング、ディップコ
ーティング、マイヤーバーコーティング、ロールコーテ
ィング等による湿式プロセスを用いた薄膜等いずれも使
用可能である。

【０００９】特に、電磁波遮蔽性に優れた、低抵抗の、
均質な薄膜層を得るためには、乾式プロセスの利用が好
適である。透明導電性物質からなる薄膜層の膜厚は、要
求される物性、用途などにより異なるが、透明性から１
０〜５００ｎｍ、より好ましくは５０〜３００ｎｍであ
る。またスパッタリング等による薄膜の形成に際して、
透明基材との密着性を向上させるため、予め被薄膜形成
面にベースコート剤をコーティングしておくことが望ま
しい。

【００１０】本発明における導電性物質からなる模様は
金、銀、白金、パラジウム、ニッケル、銅、アルミニウ
ム等の金属単体、および、カーボンブラック、グラファ
イト等の炭素材等が用いられ、模様を構成する線の幅は
５〜５００μｍ、より好ましくは５〜１００μｍ、さら
に好ましくは５〜２５μｍ、模様のピッチは１０〜５０
００μｍ、より好ましくは３０〜３０００μｍ、さらに
好ましくは５０〜２０００μｍである。

【００１１】また、これらの線の高さは、２〜１５μｍ
程度であるのが、電磁波遮蔽性の面から好ましい。模様
の形成法は特に限定されず、導電性ペーストや導電性イ
ンキからなる塗料の印刷、導電性繊維の貼付、蒸着膜の
エッチング等を用いることが出来るが、特に、導電性微
粉末とバインダー樹脂からなる導電性塗料のスクリーン
印刷が模様の均一性、制御性に優れ、生産性に優れるこ
とから最も好適である。ここで、導電性微粉末としては
前記の材質が用いられ、これらの平均粒径は、通常、
０．０１〜１０μｍ程度である。

【００１２】また、バインダー樹脂としては、アクリル
系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂等
が用いられ、この導電部における導電性微粉末の含有量
は、バインダー樹脂との合計量に対して７５〜９５重量
％程度である。スクリーン印刷は、例えば、前記導電性
微粉末７５〜９５重量％、前記バインダー樹脂２５〜５
重量％と、それらの１００重量部に対して、トルエン、
キシレン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等の
溶媒３〜６５重量部、および、アニオン系、ノニオン系
界面活性剤等の分散剤１〜１０重量部とから、１０００
〜１０００００ｃｐｓ、好ましくは３０００〜２０００
０ｃｐｓ程度の粘度の導電性塗料を調製し、前記線幅お
よび模様ピッチの角形状等模様を焼き付けたレジスト被
膜を有するスクリーンを用いて、前記透明基材上に印刷
するという方法で行うことが出来る。

【００１３】なお、この際、印刷に先立ち、透明基材表
面に、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、火炎処理、
化学薬品処理、およびプライマー処理等の公知の表面処
理を施すことも出来る。薄膜と模様はいずれを先に設け
ても良い。本発明において、用いられている導電性物質
からなる模様とは、１つ以上の直線、または曲線から構
成される、前記の線幅、ピッチを有したものであれば、
パターンが見えず、表示画像に悪影響がないため、この
範囲において特に制限は無い。

【００１４】一例としては、図１、図２に示す、複数の
交差しない直線群または直線群が交差して得られるメッ
シュ状の模様が挙げられ、メッシュ状の模様は低抵抗の
導電性物質からなる領域が遮蔽体全面に渡って連続した
導電層を形成するため、高い電磁波遮蔽性を有した遮蔽
体を得るのに特に好適である。勿論直線のみならず曲線
群を用いても良い。

【００１５】また、表示画像に悪影響を及ぼすモアレ縞
等の発生を抑える為には、表面積１ｃｍ²以下の互いに
離散化した図形の利用が好適である。ここで言う図形と
は例えば図３、図４、図５、図６に示す様な多数の角形
または円形からなる模様のことであり、さらに詳しく
は、多数の平行な直線群とそれらに交差する多数の平行
な直線群の少なくとも二つの直線群によって、三角形、
または正方形、長方形、菱形等の四角形の角形が隣接し
て描かれたもの等の他、例えば、亀甲状の角形の各々が
隣接して描かれたものであっても良く、さらに、種々の
角形または円形の各々が独立して描かれたものも含む。

【００１６】特に、これらの模様の形状、ピッチをラン
ダムに変化させることにより、周期性を有する表示画像
の走査線縞、ストライプ等との干渉を抑え、表示画像の
品質を高く保つことが可能である。また、これらの模様
は入射電磁波に対して、一種のアンテナとしての役割を
果たし、電磁波遮蔽効果を発現しているため、サイズ、
形状を工夫することにより、特定の周波数帯域をより多
く遮蔽するように特性を変化させることも出来る。

【００１７】本発明の電磁波遮蔽体は、透明基材表面に
形成された導電性物質からなる層や模様の上に更に保護
フィルムが積層されているのが好ましく、その保護フィ
ルムとしては、前記透明樹脂基材の材料として挙げた樹
脂が好適に用いられ、それら樹脂をドライラミネート、
ウェットラミネート、押し出しラミネート等の公知の方
法により積層する。

【００１８】上記の様にして得られた、本発明における
電磁波遮蔽体は、それのみでは電磁波遮蔽性が不十分
で、抵抗率の高い透明導電性物質からなるコート層が、
電磁波遮蔽性が高い導電性物質からなる模様と、オーム
接触を果たしているために、表面輝度や画質にほとんど
影響を与えない程度の微細な模様であっても、導電層全
体で見た平均抵抗率を著しく低減させる効果を発揮し、
高い電磁波遮蔽性を発現することが可能となる。

【００１９】したがって、高い電磁波遮蔽性を備えなが
ら、透過画像への悪影響を小さく抑え、尚かつ、高い透
過性を有する電磁波遮蔽体を提供することが可能であ
り、これらの特徴は、ＣＲＴ、プラズマディスプレイ、
エレクトロルミネッセンスディスプレイ、液晶ディスプ
レイ等の画像表示装置に用いる電磁波遮蔽フィルターと
して、特に、好適に使用可能である。また、近赤外線吸
収層、反射防止層、傷つき防止層等を、適宜、積層して
さらに高機能なフィルターを提供することも可能であ
る。

【００２０】

【実施例】以下、本願発明を実施例によりさらに詳細に
説明するが、本願発明はその要旨を越えない限り、以下
の実施例に限定されるものではない。

【００２１】実施例１ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム（厚み１００
μｍ）の表面に、酸化インジウム（高純度化学社製ター
ゲット）をスパッタリングによって蒸着し、全光線透過
率８０％の透明導電性物質からなるコート層を得た。該
コート層の表面にスクリーン印刷機（マイクロテック社
製）で、ステンレス製金網スクリーン（目開き２５μ
ｍ）を用いて、金微粉末を含有するデュポン社製特殊金
インクをスクリーン印刷することにより、線幅１５μ
ｍ、模様ピッチ１０００μｍ、線高さ５μｍで正方形模
様を分散して描いた導電性物質からなるパターン（図
４）を形成した。

【００２２】さらに、導電層の上に、ポリエチレンテレ
フタレート樹脂からなる厚み１００μｍの保護フィルム
を積層して電磁波遮蔽体とした。得られた電磁波遮蔽体
について、電磁波遮蔽性と透視性を評価し、結果を表１
に示した。なお、電磁波遮蔽性は、周波数３０〜５００
ＭＨｚの範囲での減衰量（ｄＢ）を測定した。また、透
視性は立てた電磁波遮蔽体を１ｍ離れて目視で観察し、
模様が確認できない場合を○、確認できる場合を×とし
て評価した。

【００２３】実施例２銀微粉末を含有する十条加工社製銀インク（ＪＥＬＣＯ
ＭＳＨ−１）を用いたこと、正方形模様を線幅２０μ
ｍ、模様ピッチ１０００μｍ、線高さ３μｍで描いたこ
との他は実施例１と同様にして電磁波遮蔽体を製造し、
電磁波遮蔽性と透視性を測定し、結果を表１に示した。

【００２４】実施例３線幅１２μｍ、ピッチ１０００μｍ、線高さ５μｍなる
直線群と、これと直交する、同一形状を有する直線群と
からなるメッシュを導電性物質からなる模様として設け
たことの他は、実施例１と同様にして電磁波遮蔽体を製
造し、電磁波遮蔽性と透視性を測定し、結果を表１に示
した。

【００２５】比較例１導電性物質からなる模様を設けなかったことの他は、実
施例１と同様にして電磁波遮蔽体を製造し、電磁波遮蔽
性と透視性を測定し、結果を表１に示した。比較例２酸化インジウム錫（高純度化学社製ターゲット）のスパ
ッタリングを行なわずに、線幅１００μｍ、模様ピッチ
を約６６７０μｍとした正方形模様を設け、他の条件に
ついては実施例１と同様にして電磁波遮蔽体を製造し、
電磁波遮蔽性と透視性を測定し、結果を表１に示した。

【００２６】

【表１】

【００２７】

【発明の効果】本発明によれば、電磁波遮蔽性はもとよ
り、透視性に優れ、画像表示装置の電磁波遮蔽フィルタ
ー等に好適に用いられる電磁波遮蔽体を提供することが
出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】導電性物質からなる模様の一例を示す。

【図２】導電性物質からなる模様の一例を示す。

【図３】導電性物質からなる模様の一例を示す。

【図４】導電性物質からなる模様の一例を示す。

【図５】導電性物質からなる模様の一例を示す。

【図６】導電性物質からなる模様の一例を示す。

【符号の説明】

１０線幅１１ピッチ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基材表面に、透明導電性物質からな
る薄膜層と導電性物質からなる模様層とが設けられてい
ることを特徴とする電磁波遮蔽体。
【請求項２】透明基材が透明樹脂であることを特徴と
する請求項１に記載の電磁波遮蔽体。
【請求項３】透明導電性物質からなる薄膜層が、透明
導電性物質の蒸着膜からなるものである請求項１又は２
に記載の電磁波遮蔽体。
【請求項４】透明導電性物質が、酸化錫、酸化インジ
ウム錫、酸化アンチモン錫、アルミニウム酸化亜鉛、お
よびフッ化酸化錫からなる金属酸化物群から選択された
少なくとも１種である請求項１ないし３のいずれかに記
載の電磁波遮蔽体。
【請求項５】導電性物質からなる模様層が、導電性微
粉末とバインダー樹脂を含有する塗料を線幅を５〜２０
μｍ、ピッチを５０〜２０００μｍとして直線又は曲線
に印刷して設けたものであることを特徴とする請求項１
ないし４のいずれかに記載の電磁波遮蔽体。
【請求項６】導電性物質からなる模様層が、導電性微
粉末とバインダー樹脂を含有する塗料を線幅を５〜２０
μｍ、模様のピッチを５０〜２０００μｍとして互いに
離散した表面積１ｃｍ²以下の図形として印刷して設け
たものであることを特徴とする請求項１ないし４に記載
の電磁波遮蔽体。
【請求項７】導電性物質からなる模様層が、スクリー
ン印刷によって形成されたものである請求項５又は６に
記載の電磁波遮蔽体。
【請求項８】導電性微粉末が、金、銀、白金、パラジ
ウム、およびニッケルからなる金属群から選択された少
なくとも１種である請求項５ないし７のいずれかに記載
の電磁波遮蔽体。
【請求項９】導電性物質からなる薄膜層と模様層の上
に、更に保護層が積層されてなる請求項１ないし８のい
ずれかに記載の電磁波遮蔽体。
【請求項１０】電磁波遮蔽体が画像表示装置用電磁波
遮蔽フィルターである請求項１ないし９のいずれかに記
載の電磁波遮蔽体。