JPH11335383A - 環状ビス―ホスファイトおよび組成物 - Google Patents
環状ビス―ホスファイトおよび組成物Info
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- JPH11335383A JPH11335383A JP11056699A JP5669999A JPH11335383A JP H11335383 A JPH11335383 A JP H11335383A JP 11056699 A JP11056699 A JP 11056699A JP 5669999 A JP5669999 A JP 5669999A JP H11335383 A JPH11335383 A JP H11335383A
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/6564—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
- C07F9/6571—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07F9/6574—Esters of oxyacids of phosphorus
- C07F9/65746—Esters of oxyacids of phosphorus the molecule containing more than one cyclic phosphorus atom
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F9/02—Phosphorus compounds
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- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
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- C08K5/52—Phosphorus bound to oxygen only
- C08K5/527—Cyclic esters
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】新規なビス‐環状ホスファイト化合物とそれに
より熱誘発の酸化劣化に対し安定化されたポリマー材料
を提供する。 【解決手段】たとえば４，４′‐６，６′‐テトラ‐ｔ
ｅｒｔ‐ブチル‐２，２′‐ビフェノールまたは２，
２′‐メチレン‐ビス‐（４，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチ
ルフェノール）およびこれらの同族体と、対応する１，
３‐グリコールのクロロホスファイト誘導体とから誘導
される一般式１の環状ビス‐ホスファイト。 ［Ｒ１とＲ２は独立して水素、Ｃ１〜約１７のアルキル
基、またはＲ１とＲ２は結合して置換されてもよい５〜
７員のシクロアルキル環を形成し、Ｒ３はＣ１〜約１２
個のアルキリデン基または炭素−炭素直接結合である］
より熱誘発の酸化劣化に対し安定化されたポリマー材料
を提供する。 【解決手段】たとえば４，４′‐６，６′‐テトラ‐ｔ
ｅｒｔ‐ブチル‐２，２′‐ビフェノールまたは２，
２′‐メチレン‐ビス‐（４，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチ
ルフェノール）およびこれらの同族体と、対応する１，
３‐グリコールのクロロホスファイト誘導体とから誘導
される一般式１の環状ビス‐ホスファイト。 ［Ｒ１とＲ２は独立して水素、Ｃ１〜約１７のアルキル
基、またはＲ１とＲ２は結合して置換されてもよい５〜
７員のシクロアルキル環を形成し、Ｒ３はＣ１〜約１２
個のアルキリデン基または炭素−炭素直接結合である］
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ある種の新規なビ
ス‐環状ホスファイト化合物およびそれによって安定化
されたポリマー材料に関する。特に、本発明は、たとえ
ば４，４′‐６，６′‐テトラ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐
２，２′‐ビフェノールまたは２，２′‐メチレン‐ビ
ス‐（４，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェノール）およ
びこれらの同族体と、対応する１，３‐グリコールのク
ロロホスファイト誘導体とから誘導されるある種の環状
ビス‐ホスファイトに関する。また、本発明は、これら
環状ビス‐ホスファイトを少なくとも１種存在させるこ
とによって、熱により誘発される酸化劣化に対して安定
化されたポリマー材料、およびそのようなポリマー材料
から作成される物品も包含する。
ス‐環状ホスファイト化合物およびそれによって安定化
されたポリマー材料に関する。特に、本発明は、たとえ
ば４，４′‐６，６′‐テトラ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐
２，２′‐ビフェノールまたは２，２′‐メチレン‐ビ
ス‐（４，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェノール）およ
びこれらの同族体と、対応する１，３‐グリコールのク
ロロホスファイト誘導体とから誘導されるある種の環状
ビス‐ホスファイトに関する。また、本発明は、これら
環状ビス‐ホスファイトを少なくとも１種存在させるこ
とによって、熱により誘発される酸化劣化に対して安定
化されたポリマー材料、およびそのようなポリマー材料
から作成される物品も包含する。
【０００２】
【従来の技術】ポリアミド、ポリエステル、ポリスチレ
ンおよびポリオレフィン、特にポリプロピレンのような
合成ポリマー材料は、溶融加工中にこれらポリマー材料
の特性が大きく変化しないように、熱劣化に対して安定
化する必要がある。たとえば、ポリプロピレンは、適切
に安定化しないと、各種配合物や製品のコンパウンディ
ングの際の押出中にメルトフローレートが大きく変化す
る。各種環状ホスファイトとこれをポリオレフィン中に
使用することはよく知られている。たとえば、米国特許
第３，４４１，６３３号、同第３，４６７，７３３号、
同第３，４８８，４０７号、同第３，７１４，３０２
号、同第４，２５２，７５０号、同第４，６７３，７０
１号、同第４，９５６，４０６号および同第５，５９
４，０５３号、ならびに欧州特許出願公開第０６３５５
１１号参照。本発明によって提供される新規な環状ホス
ファイトは非揮発性であり、ポリマー材料に対して有効
な加工安定剤である。また、本発明のホスファイトは、
ビス‐芳香環の４，４′位が置換されている対応するホ
スファイトより融点が低い。
ンおよびポリオレフィン、特にポリプロピレンのような
合成ポリマー材料は、溶融加工中にこれらポリマー材料
の特性が大きく変化しないように、熱劣化に対して安定
化する必要がある。たとえば、ポリプロピレンは、適切
に安定化しないと、各種配合物や製品のコンパウンディ
ングの際の押出中にメルトフローレートが大きく変化す
る。各種環状ホスファイトとこれをポリオレフィン中に
使用することはよく知られている。たとえば、米国特許
第３，４４１，６３３号、同第３，４６７，７３３号、
同第３，４８８，４０７号、同第３，７１４，３０２
号、同第４，２５２，７５０号、同第４，６７３，７０
１号、同第４，９５６，４０６号および同第５，５９
４，０５３号、ならびに欧州特許出願公開第０６３５５
１１号参照。本発明によって提供される新規な環状ホス
ファイトは非揮発性であり、ポリマー材料に対して有効
な加工安定剤である。また、本発明のホスファイトは、
ビス‐芳香環の４，４′位が置換されている対応するホ
スファイトより融点が低い。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明によって提供さ
れる新規な環状ビス‐ホスファイトはポリマー材料に対
して有効な加水分解・熱安定剤である。
れる新規な環状ビス‐ホスファイトはポリマー材料に対
して有効な加水分解・熱安定剤である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の環状ビス‐ホス
ファイトは次式（Ｉ）の化合物である。
ファイトは次式（Ｉ）の化合物である。
【０００５】
【化１２】
【０００６】ここで、Ｒ1 とＲ2 は各々がそれぞれ独立
して、水素、炭素原子１〜約１７個のアルキル基の中か
ら選択されるか、または、Ｒ1 とＲ2 は結合して、５
員、６員もしくは７員のシクロアルキル環または置換さ
れている５員、６員もしくは７員のシクロアルキル環を
形成し、Ｒ3 は炭素原子１〜約１２個のアルキリデン基
または炭素‐炭素直接結合である。
して、水素、炭素原子１〜約１７個のアルキル基の中か
ら選択されるか、または、Ｒ1 とＲ2 は結合して、５
員、６員もしくは７員のシクロアルキル環または置換さ
れている５員、６員もしくは７員のシクロアルキル環を
形成し、Ｒ3 は炭素原子１〜約１２個のアルキリデン基
または炭素‐炭素直接結合である。
【０００７】Ｒ1 とＲ2 によって表される基の代表的な
例は水素、メチル、エチルおよびプロピルであり、また
は、Ｒ1 とＲ2 が結合してシクロペンチル基、シクロヘ
キシル基もしくはシクロヘプチル基またはこれら環状残
基の対応する低級アルキル置換類似体を形成している。
Ｒ3 の代表例にはメチレン、イソプロピレンおよびエチ
レンが包含される。
例は水素、メチル、エチルおよびプロピルであり、また
は、Ｒ1 とＲ2 が結合してシクロペンチル基、シクロヘ
キシル基もしくはシクロヘプチル基またはこれら環状残
基の対応する低級アルキル置換類似体を形成している。
Ｒ3 の代表例にはメチレン、イソプロピレンおよびエチ
レンが包含される。
【０００８】
【発明の実施の形態】簡単にいって、式Ｉの環状ビス‐
ホスファイト化合物を製造する方法は、酸受容体として
化学量論量のアミン、好ましくは第三級アミンを存在さ
せて、下記式（II）を有するクロロホスファイトを、た
とえば４，４′，６，６′‐テトラ‐ｔｅｒｔ‐ブチル
‐２，２′‐ビフェノールのようなビス‐フェノールと
反応させることからなる。
ホスファイト化合物を製造する方法は、酸受容体として
化学量論量のアミン、好ましくは第三級アミンを存在さ
せて、下記式（II）を有するクロロホスファイトを、た
とえば４，４′，６，６′‐テトラ‐ｔｅｒｔ‐ブチル
‐２，２′‐ビフェノールのようなビス‐フェノールと
反応させることからなる。
【０００９】
【化１３】
【００１０】ここで、Ｒ1 とＲ2 はすでに定義した通り
である。本発明のいくつかの態様では、式（II）の種々
のクロロホスファイトを用いることによって、Ｒ1 とＲ
2 がすべて互いに異なっている各種ビス‐ホスファイ
ト、またはＲ1 は同じであるがＲ 2 が互いに異なってい
る各種ビス‐ホスファイトを製造することができる。好
ましいビスホスファイトとして次のものがある。
である。本発明のいくつかの態様では、式（II）の種々
のクロロホスファイトを用いることによって、Ｒ1 とＲ
2 がすべて互いに異なっている各種ビス‐ホスファイ
ト、またはＲ1 は同じであるがＲ 2 が互いに異なってい
る各種ビス‐ホスファイトを製造することができる。好
ましいビスホスファイトとして次のものがある。
【００１１】
【化１４】
【００１２】ここで、Ｒ1 とＲ2 は各々が独立してメチ
ル、エチルであるか、あるいは、Ｒ1とＲ2 が結合し
て、５員、６員もしくは７員のシクロアルキル環または
置換されている５員、６員もしくは７員のシクロアルキ
ル環を形成しており、Ｒ3 は炭素‐炭素結合、メチレン
基、エチレン基、１，１‐エチル基またはイソプロピレ
ン基である。
ル、エチルであるか、あるいは、Ｒ1とＲ2 が結合し
て、５員、６員もしくは７員のシクロアルキル環または
置換されている５員、６員もしくは７員のシクロアルキ
ル環を形成しており、Ｒ3 は炭素‐炭素結合、メチレン
基、エチレン基、１，１‐エチル基またはイソプロピレ
ン基である。
【００１３】特定の好ましい具体例としては次のビスホ
スファイトがある。
スファイトがある。
【００１４】
【化１５】
【００１５】ここで、Ｒ3 は炭素‐炭素結合、メチレン
基、エチレン基、１，１‐エチル基またはイソプロピレ
ン基である。本発明の利点のひとつは、分子の独特な結
晶化度と周囲が立体的に密集されたリンとにより、従来
のものと比べて加水分解安定性が改良されるということ
である。
基、エチレン基、１，１‐エチル基またはイソプロピレ
ン基である。本発明の利点のひとつは、分子の独特な結
晶化度と周囲が立体的に密集されたリンとにより、従来
のものと比べて加水分解安定性が改良されるということ
である。
【００１６】本発明のその他の利点としては、熱安定性
がより良好であること、および揮発性が低減することが
ある。また、分子の高い分子量、高いリン含量および良
好な対称性のため、良好なポリマー能力が得られると期
待される。式（Ｉ）の環状ビス‐ホスファイト化合物
は、熱および／または放射線（可視光と紫外光を含む）
にさらされたときに劣化を受ける広範囲の合成ポリマー
材料中で使用できる。このようなポリマー材料の例とし
ては、α‐オレフィンのホモポリマーとコポリマー、た
とえば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、
ポリ‐３‐メチルブテン、エチレン‐プロピレンコポリ
マー、エチレン‐酢酸ビニルコポリマー、ポリスチレ
ン、スチレンと他のエチレン性不飽和モノマー（無水マ
レイン酸、ブタジエン、アクリロニトリルなど）とのコ
ポリマー、ポリ酢酸ビニル、アクリロニトリル‐ブタジ
エン‐スチレンポリマー、ポリメタクリレートポリマ
ー、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポ
リカプロラクタム（ナイロン６）のようなポリアミド、
ポリカーボネート、不飽和ポリエステルならびにポリ塩
化ビニリデンがある。本発明の安定化された好ましい組
成物は、式（Ｉ）の化合物を１種以上安定化量で含有す
る炭素原子２〜４個のα‐オレフィンのホモポリマーか
コポリマー、特にポリプロピレンからなる。
がより良好であること、および揮発性が低減することが
ある。また、分子の高い分子量、高いリン含量および良
好な対称性のため、良好なポリマー能力が得られると期
待される。式（Ｉ）の環状ビス‐ホスファイト化合物
は、熱および／または放射線（可視光と紫外光を含む）
にさらされたときに劣化を受ける広範囲の合成ポリマー
材料中で使用できる。このようなポリマー材料の例とし
ては、α‐オレフィンのホモポリマーとコポリマー、た
とえば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、
ポリ‐３‐メチルブテン、エチレン‐プロピレンコポリ
マー、エチレン‐酢酸ビニルコポリマー、ポリスチレ
ン、スチレンと他のエチレン性不飽和モノマー（無水マ
レイン酸、ブタジエン、アクリロニトリルなど）とのコ
ポリマー、ポリ酢酸ビニル、アクリロニトリル‐ブタジ
エン‐スチレンポリマー、ポリメタクリレートポリマ
ー、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポ
リカプロラクタム（ナイロン６）のようなポリアミド、
ポリカーボネート、不飽和ポリエステルならびにポリ塩
化ビニリデンがある。本発明の安定化された好ましい組
成物は、式（Ｉ）の化合物を１種以上安定化量で含有す
る炭素原子２〜４個のα‐オレフィンのホモポリマーか
コポリマー、特にポリプロピレンからなる。
【００１７】このポリマーはまた、業界で公知のいかな
る熱可塑性樹脂でもよく、たとえば、ポリエステル、ポ
リウレタン、ポリアルキレンテレフタレート、ポリスル
ホン、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル、スチレン
ポリマー、ポリカーボネート、アクリルポリマー、ポリ
アミド、ポリアセタール、ハライド含有ポリマーならび
にポリオレフィンホモポリマーおよびコポリマーがあ
る。いろいろなポリマーの混合物、たとえば、ポリフェ
ニレンエーテル／スチレン樹脂ブレンド、ポリ塩化ビニ
ル／ＡＢＳ、その他の耐衝撃性が改良されたポリマえば
ＡＢＳを含有するメタクリロニトリルおよびα‐メチル
スチレン、ポリエステル／ＡＢＳまたはポリカーボネー
ト／ＡＢＳおよびポリエステル＋耐衝撃性改良剤のいず
れかも使用することができる。このようなポリマーは市
販されているか、あるいは業界で周知の手段により作成
できる。しかしながら、本発明のホスファイトは、熱可
塑性ポリマーが加工および／または使用されることの多
い極端な温度のため、ポリオレフィン、ポリカーボネー
ト、ポリエステル、ポリフェニレンエーテルおよびスチ
レンポリマーのような熱可塑性ポリマーで特に有用であ
る。
る熱可塑性樹脂でもよく、たとえば、ポリエステル、ポ
リウレタン、ポリアルキレンテレフタレート、ポリスル
ホン、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル、スチレン
ポリマー、ポリカーボネート、アクリルポリマー、ポリ
アミド、ポリアセタール、ハライド含有ポリマーならび
にポリオレフィンホモポリマーおよびコポリマーがあ
る。いろいろなポリマーの混合物、たとえば、ポリフェ
ニレンエーテル／スチレン樹脂ブレンド、ポリ塩化ビニ
ル／ＡＢＳ、その他の耐衝撃性が改良されたポリマえば
ＡＢＳを含有するメタクリロニトリルおよびα‐メチル
スチレン、ポリエステル／ＡＢＳまたはポリカーボネー
ト／ＡＢＳおよびポリエステル＋耐衝撃性改良剤のいず
れかも使用することができる。このようなポリマーは市
販されているか、あるいは業界で周知の手段により作成
できる。しかしながら、本発明のホスファイトは、熱可
塑性ポリマーが加工および／または使用されることの多
い極端な温度のため、ポリオレフィン、ポリカーボネー
ト、ポリエステル、ポリフェニレンエーテルおよびスチ
レンポリマーのような熱可塑性ポリマーで特に有用であ
る。
【００１８】モノオレフィンやジオレフィンのポリマ
ー、たとえば、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポ
リブテン‐１、ポリメチルペンテン‐１、ポリイソプレ
ンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィン、
たとえばシクロペンテンやノルボルネンのポリマー、ポ
リエチレン（架橋されていてもよい）、たとえば高密度
ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤ
ＰＥ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）を
使用してもよい。これらのポリマーの混合物、たとえば
ポリプロピレンとポリイソブチレンの混合物、ポリプロ
ピレンとポリエチレンの混合物（ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ
／ＬＤＰＥなど）、および異なるタイプのポリエチレン
の混合物（ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥなど）も使用できる。ま
た、モノオレフィンやジオレフィンのコポリマーまたは
これと他のビニルモノマーとのコポリマー、たとえば、
エチレン／プロピレン、ＬＬＤＰＥおよびこれとＬＤＰ
Ｅとの混合物、プロピレン／ブテン‐１、エチレン／ヘ
キセン、エチレン／エチルペンテン、エチレン／ヘプテ
ン、エチレン／オクテン、プロピレン／イソブチレン、
エチレン／ブタン‐１、プロピレン／ブタジエン、イソ
ブチレン／イソプレン、エチレン／アクリル酸アルキ
ル、エチレン／メタクリル酸アルキル、エチレン／酢酸
ビニル（ＥＶＡ）またはエチレン／アクリル酸コポリマ
ー（ＥＡＡ）およびこれらの塩（アイオノマー）、なら
びにエチレンとプロピレンとジエン（ヘキサジエン、ジ
シクロペンタジエン、エチリデン‐ノルボルネンなど）
とのターポリマー、ならびにこのようなコポリマーの混
合物およびそれらと上記ポリマーとの混合物、たとえば
ポリプロピレン／エチレン‐プロピレンコポリマー、Ｌ
ＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＤＰＥ／ＥＡＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＶ
ＡおよびＬＬＤＰＥ／ＥＡＡも有用である。
ー、たとえば、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポ
リブテン‐１、ポリメチルペンテン‐１、ポリイソプレ
ンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィン、
たとえばシクロペンテンやノルボルネンのポリマー、ポ
リエチレン（架橋されていてもよい）、たとえば高密度
ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤ
ＰＥ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）を
使用してもよい。これらのポリマーの混合物、たとえば
ポリプロピレンとポリイソブチレンの混合物、ポリプロ
ピレンとポリエチレンの混合物（ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ
／ＬＤＰＥなど）、および異なるタイプのポリエチレン
の混合物（ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥなど）も使用できる。ま
た、モノオレフィンやジオレフィンのコポリマーまたは
これと他のビニルモノマーとのコポリマー、たとえば、
エチレン／プロピレン、ＬＬＤＰＥおよびこれとＬＤＰ
Ｅとの混合物、プロピレン／ブテン‐１、エチレン／ヘ
キセン、エチレン／エチルペンテン、エチレン／ヘプテ
ン、エチレン／オクテン、プロピレン／イソブチレン、
エチレン／ブタン‐１、プロピレン／ブタジエン、イソ
ブチレン／イソプレン、エチレン／アクリル酸アルキ
ル、エチレン／メタクリル酸アルキル、エチレン／酢酸
ビニル（ＥＶＡ）またはエチレン／アクリル酸コポリマ
ー（ＥＡＡ）およびこれらの塩（アイオノマー）、なら
びにエチレンとプロピレンとジエン（ヘキサジエン、ジ
シクロペンタジエン、エチリデン‐ノルボルネンなど）
とのターポリマー、ならびにこのようなコポリマーの混
合物およびそれらと上記ポリマーとの混合物、たとえば
ポリプロピレン／エチレン‐プロピレンコポリマー、Ｌ
ＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＤＰＥ／ＥＡＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＶ
ＡおよびＬＬＤＰＥ／ＥＡＡも有用である。
【００１９】オレフィンポリマーは、場合によりたとえ
ばＭｇＣｌ2 などのような担体に担持されていてもよい
チーグラー‐ナッタ(Ziegler-Natta) 触媒、または場合
によりシリカなどの材料に担持されていてもよいクロム
塩またはその錯体の存在下でオレフィンを重合させるこ
とによって製造できる。また、金属（典型的にはＴｉま
たはＺｒ）のシクロペンタジエン錯体を主材とする触媒
を利用しても製造できる。有用なポリオレフィンは、ガ
リ(P. Galli)およびハロック(J.C. Halock) 、「反応器
顆粒−新世代のポリマーブレンドの特異な製造法(React
or Granule-A Unique Technology for the Production
of a New Generation of Polymer Blends)」、プラスチ
ックエンジニア協会(Society of Plastics Engineers)
、第三回ポリオレフィン国際会議(Polyolefin III Int
ernational Conference) 、１９９１年２月２４〜２７
日に開示され、またペドラッチィー(Pedrazzeth)らの米
国特許第４，７０８，９７９号に開示されている「反応
器顆粒法(Reactor Granule Technology)」を使用すると
いったようなプロセスで製造できる。これら２件の文献
はここで引用したことにより、本明細書に含まれている
ものとする。粒子の生成はチーグラー‐ナッタ(Ziegler
-Natta) 触媒系によって達成できる。適切な商用プロセ
スは、スフェリポール(Spheripol) 、アジポール(Addip
ol) およびスフェリレン(Spherilene)の商標で知られて
いる。
ばＭｇＣｌ2 などのような担体に担持されていてもよい
チーグラー‐ナッタ(Ziegler-Natta) 触媒、または場合
によりシリカなどの材料に担持されていてもよいクロム
塩またはその錯体の存在下でオレフィンを重合させるこ
とによって製造できる。また、金属（典型的にはＴｉま
たはＺｒ）のシクロペンタジエン錯体を主材とする触媒
を利用しても製造できる。有用なポリオレフィンは、ガ
リ(P. Galli)およびハロック(J.C. Halock) 、「反応器
顆粒−新世代のポリマーブレンドの特異な製造法(React
or Granule-A Unique Technology for the Production
of a New Generation of Polymer Blends)」、プラスチ
ックエンジニア協会(Society of Plastics Engineers)
、第三回ポリオレフィン国際会議(Polyolefin III Int
ernational Conference) 、１９９１年２月２４〜２７
日に開示され、またペドラッチィー(Pedrazzeth)らの米
国特許第４，７０８，９７９号に開示されている「反応
器顆粒法(Reactor Granule Technology)」を使用すると
いったようなプロセスで製造できる。これら２件の文献
はここで引用したことにより、本明細書に含まれている
ものとする。粒子の生成はチーグラー‐ナッタ(Ziegler
-Natta) 触媒系によって達成できる。適切な商用プロセ
スは、スフェリポール(Spheripol) 、アジポール(Addip
ol) およびスフェリレン(Spherilene)の商標で知られて
いる。
【００２０】熱可塑性ポリマーにはスチレンポリマーも
含まれており、たとえば、ポリスチレン、ポリ‐（ｐ‐
メチルスチレン）、ポリ‐（α‐メチルスチレン）、ス
チレンまたはα‐メチルスチレンとジエンまたはアクリ
ル誘導体とのコポリマー、たとえばスチレン／ブタジエ
ン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／メタクリ
ル酸アルキル、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／
ブタジエン／アクリル酸エチル、スチレン／アクリロニ
トリル／アクリル酸メチル、スチレンコポリマーおよび
他のポリマー（たとえば、ポリアクリレート、ジエンポ
リマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポリマ
ーなど）から得られる耐衝撃性の混合物、ならびにスチ
レンのブロックコポリマー（たとえば、スチレン／ブタ
ジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、
スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンまたはスチレ
ン／エチレン／プロピレン／スチレンなど）がある。さ
らにまたは代替として、スチレンポリマーには、スチレ
ンまたはα‐メチルスチレンのグラフトコポリマーが包
含され、たとえば、ポリブタジエンにグラフトしたスチ
レン、ポリブタジエン‐スチレンまたはポリブタジエン
‐アクリロニトリルにグラフトしたスチレン、ポリブタ
ジエンにグラフトしたスチレンおよびアクリロニトリル
（またはメタクリロニトリル）ならびにこれらのコポリ
マー、ポリブタジエンにグラフトしたスチレンおよび無
水マレイン酸またはマレイミド、ポリブタジエンにグラ
フトしたスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイ
ン酸またはマレイミド、ポリブタジエンにグラフトした
スチレン、アクリロニトリルおよびメタクリル酸メチ
ル、ポリブタジエンにグラフトしたスチレンおよびアク
リル酸アルキルまたはメタクリル酸アルキル、エチレン
／プロピレン／ジエンターポリマーにグラフトしたスチ
レンおよびアクリロニトリル、ポリアクリレートまたは
ポリメタクリレートにグラフトしたスチレンおよびアク
リロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーに
グラフトしたスチレンおよびアクリロニトリル、ならび
に以上に挙げたスチレンコポリマーとの混合物がある。
含まれており、たとえば、ポリスチレン、ポリ‐（ｐ‐
メチルスチレン）、ポリ‐（α‐メチルスチレン）、ス
チレンまたはα‐メチルスチレンとジエンまたはアクリ
ル誘導体とのコポリマー、たとえばスチレン／ブタジエ
ン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／メタクリ
ル酸アルキル、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／
ブタジエン／アクリル酸エチル、スチレン／アクリロニ
トリル／アクリル酸メチル、スチレンコポリマーおよび
他のポリマー（たとえば、ポリアクリレート、ジエンポ
リマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポリマ
ーなど）から得られる耐衝撃性の混合物、ならびにスチ
レンのブロックコポリマー（たとえば、スチレン／ブタ
ジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、
スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンまたはスチレ
ン／エチレン／プロピレン／スチレンなど）がある。さ
らにまたは代替として、スチレンポリマーには、スチレ
ンまたはα‐メチルスチレンのグラフトコポリマーが包
含され、たとえば、ポリブタジエンにグラフトしたスチ
レン、ポリブタジエン‐スチレンまたはポリブタジエン
‐アクリロニトリルにグラフトしたスチレン、ポリブタ
ジエンにグラフトしたスチレンおよびアクリロニトリル
（またはメタクリロニトリル）ならびにこれらのコポリ
マー、ポリブタジエンにグラフトしたスチレンおよび無
水マレイン酸またはマレイミド、ポリブタジエンにグラ
フトしたスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイ
ン酸またはマレイミド、ポリブタジエンにグラフトした
スチレン、アクリロニトリルおよびメタクリル酸メチ
ル、ポリブタジエンにグラフトしたスチレンおよびアク
リル酸アルキルまたはメタクリル酸アルキル、エチレン
／プロピレン／ジエンターポリマーにグラフトしたスチ
レンおよびアクリロニトリル、ポリアクリレートまたは
ポリメタクリレートにグラフトしたスチレンおよびアク
リロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーに
グラフトしたスチレンおよびアクリロニトリル、ならび
に以上に挙げたスチレンコポリマーとの混合物がある。
【００２１】ニトリルポリマーも本発明のポリマー組成
物で有用である。例としては、アクリロニトリルやその
類似体のホモポリマーとコポリマーがあり、たとえば、
ポリメタクリロニトリル、ポリアクリロニトリル、アク
リロニトリル／ブタジエンポリマー、アクリロニトリル
／アクリル酸アルキルポリマー、アクリロニトリル／メ
タクリル酸アルキル／ブタジエンポリマー、およびスチ
レンに関して上記した各種ＡＢＳ組成物がある。
物で有用である。例としては、アクリロニトリルやその
類似体のホモポリマーとコポリマーがあり、たとえば、
ポリメタクリロニトリル、ポリアクリロニトリル、アク
リロニトリル／ブタジエンポリマー、アクリロニトリル
／アクリル酸アルキルポリマー、アクリロニトリル／メ
タクリル酸アルキル／ブタジエンポリマー、およびスチ
レンに関して上記した各種ＡＢＳ組成物がある。
【００２２】アクリル酸類（たとえば、アクリル酸、メ
タクリル酸、メチルメタクリル酸およびエタクリル酸な
らびにこれらのエステル）をベースとするポリマーも使
用できる。このようなポリマーとしては、ポリメタクリ
ル酸メチル、およびアクリロニトリル型のモノマーのす
べてまたは一部がアクリル酸エステルまたはアクリル酸
アミドで置換されているＡＢＳタイプのグラフトコポリ
マーがある。アクロレイン、メタクロレイン、アクリル
アミドまたはメタクリルアミドのような他のアクリル型
モノマーを含むポリマーも使用できる。
タクリル酸、メチルメタクリル酸およびエタクリル酸な
らびにこれらのエステル）をベースとするポリマーも使
用できる。このようなポリマーとしては、ポリメタクリ
ル酸メチル、およびアクリロニトリル型のモノマーのす
べてまたは一部がアクリル酸エステルまたはアクリル酸
アミドで置換されているＡＢＳタイプのグラフトコポリ
マーがある。アクロレイン、メタクロレイン、アクリル
アミドまたはメタクリルアミドのような他のアクリル型
モノマーを含むポリマーも使用できる。
【００２３】ハロゲンを含有するポリマーも有用であろ
う。これらの例としては、ポリクロロプレン、エピクロ
ロヒドリンのホモポリマーとコポリマー、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、
フッ素化ポリビニリデン、臭素化ポリエチレン、塩素化
ゴム、塩化ビニル‐酢酸ビニルコポリマー、塩化ビニル
‐エチレンコポリマー、塩化ビニル‐プロピレンコポリ
マー、塩化ビニル‐スチレンコポリマー、塩化ビニル‐
イソブチレンコポリマー、塩化ビニル‐塩化ビニリデン
コポリマー、塩化ビニル‐スチレン‐無水マレイン酸コ
ポリマー、塩化ビニル‐スチレン‐アクリロニトリルコ
ポリマー、塩化ビニル‐ブタジエンコポリマー、塩化ビ
ニル‐イソプレンコポリマー、塩化ビニル‐塩素化プロ
ピレンコポリマー、塩化ビニル‐塩化ビニリデン‐酢酸
ビニルコポリマー、塩化ビニル‐アクリル酸エステルコ
ポリマー、塩化ビニル‐マレイン酸エステルコポリマ
ー、塩化ビニル‐メタクリル酸エステルコポリマー、塩
化ビニル‐アクリロニトリルコポリマー、および内部可
塑化ポリ塩化ビニルのような樹脂がある。
う。これらの例としては、ポリクロロプレン、エピクロ
ロヒドリンのホモポリマーとコポリマー、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、
フッ素化ポリビニリデン、臭素化ポリエチレン、塩素化
ゴム、塩化ビニル‐酢酸ビニルコポリマー、塩化ビニル
‐エチレンコポリマー、塩化ビニル‐プロピレンコポリ
マー、塩化ビニル‐スチレンコポリマー、塩化ビニル‐
イソブチレンコポリマー、塩化ビニル‐塩化ビニリデン
コポリマー、塩化ビニル‐スチレン‐無水マレイン酸コ
ポリマー、塩化ビニル‐スチレン‐アクリロニトリルコ
ポリマー、塩化ビニル‐ブタジエンコポリマー、塩化ビ
ニル‐イソプレンコポリマー、塩化ビニル‐塩素化プロ
ピレンコポリマー、塩化ビニル‐塩化ビニリデン‐酢酸
ビニルコポリマー、塩化ビニル‐アクリル酸エステルコ
ポリマー、塩化ビニル‐マレイン酸エステルコポリマ
ー、塩化ビニル‐メタクリル酸エステルコポリマー、塩
化ビニル‐アクリロニトリルコポリマー、および内部可
塑化ポリ塩化ビニルのような樹脂がある。
【００２４】その他の有用な熱可塑性ポリマーとして、
環状エーテルのホモポリマーとコポリマー、たとえばポ
リアルキレングリコール、ポリエチレンオキサイド、ポ
リプロピレンオキサイドまたはこれらとビス‐グリシジ
ルエーテルとのコポリマー、ポリアセタール、たとえば
ポリオキシメチレンおよびコモノマーとしてエチレンオ
キサイドを含有するポリオキシメチレン、熱可塑性ポリ
ウレタン、アクリレートまたはメタクリロニトリル含有
ＡＢＳで改質されたポリアセタール、ポリフェニレンオ
キサイドおよびポリフェニレンスルフィド、ならびにポ
リフェニレンオキサイドとポリエチレンまたはポリアミ
ドとの混合物、ポリカーボネートおよびポリエステル‐
カーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンお
よびポリエーテルケトン、ならびにジカルボン酸とジオ
ールからおよび／またはヒドロキシカルボン酸または対
応するラクトンから誘導されるポリエステル、たとえば
ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレ
ート、ポリ‐１，４‐ジメチロール‐シクロヘキサンテ
レフタレート、ポリ‐２‐（２，２，４‐（４‐ヒドロ
キシフェニル）プロパン）テレフタレートおよびポリヒ
ドロキシベンゾエートならびにヒドロキシ末端基を有す
るポリエーテルから誘導されるブロック‐コポリエーテ
ルエステルがある。
環状エーテルのホモポリマーとコポリマー、たとえばポ
リアルキレングリコール、ポリエチレンオキサイド、ポ
リプロピレンオキサイドまたはこれらとビス‐グリシジ
ルエーテルとのコポリマー、ポリアセタール、たとえば
ポリオキシメチレンおよびコモノマーとしてエチレンオ
キサイドを含有するポリオキシメチレン、熱可塑性ポリ
ウレタン、アクリレートまたはメタクリロニトリル含有
ＡＢＳで改質されたポリアセタール、ポリフェニレンオ
キサイドおよびポリフェニレンスルフィド、ならびにポ
リフェニレンオキサイドとポリエチレンまたはポリアミ
ドとの混合物、ポリカーボネートおよびポリエステル‐
カーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンお
よびポリエーテルケトン、ならびにジカルボン酸とジオ
ールからおよび／またはヒドロキシカルボン酸または対
応するラクトンから誘導されるポリエステル、たとえば
ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレ
ート、ポリ‐１，４‐ジメチロール‐シクロヘキサンテ
レフタレート、ポリ‐２‐（２，２，４‐（４‐ヒドロ
キシフェニル）プロパン）テレフタレートおよびポリヒ
ドロキシベンゾエートならびにヒドロキシ末端基を有す
るポリエーテルから誘導されるブロック‐コポリエーテ
ルエステルがある。
【００２５】ジアミンとジカルボン酸からおよび／また
はアミノカルボン酸または対応するラクタムから誘導さ
れるポリアミドおよびコポリアミド、たとえば、ポリア
ミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、
６／９、６／１２および４／６、ポリアミド１１、ポリ
アミド１２、ｍ‐キシレンジアミンおよびアジピン酸の
縮合によって得られる芳香族ポリアミド、ヘキサメチレ
ンジアミンとイソフタル酸または／およびテレフタル酸
と任意成分として改質剤としてのエラストマーとから調
製されるポリアミド、たとえばポリ‐２，４，４‐トリ
メチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポリ‐ｍ
‐フェニレンイソフタルアミドも有用であろう。さら
に、上述のポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコ
ポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラ
フトしたエラストマー、またはポリエーテル（たとえ
ば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ルまたはポリテトラメチレングリコール）とのコポリマ
ー、ならびにＥＰＤＭまたはＡＢＳで改質されたポリア
ミドまたはコポリアミドも使用できる。
はアミノカルボン酸または対応するラクタムから誘導さ
れるポリアミドおよびコポリアミド、たとえば、ポリア
ミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、
６／９、６／１２および４／６、ポリアミド１１、ポリ
アミド１２、ｍ‐キシレンジアミンおよびアジピン酸の
縮合によって得られる芳香族ポリアミド、ヘキサメチレ
ンジアミンとイソフタル酸または／およびテレフタル酸
と任意成分として改質剤としてのエラストマーとから調
製されるポリアミド、たとえばポリ‐２，４，４‐トリ
メチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポリ‐ｍ
‐フェニレンイソフタルアミドも有用であろう。さら
に、上述のポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコ
ポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラ
フトしたエラストマー、またはポリエーテル（たとえ
ば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ルまたはポリテトラメチレングリコール）とのコポリマ
ー、ならびにＥＰＤＭまたはＡＢＳで改質されたポリア
ミドまたはコポリアミドも使用できる。
【００２６】ポリオレフィン、ポリアルキレンテレフタ
レート、ポリフェニレンエーテルおよびスチレン樹脂な
らびにこれらの混合物がより好ましく、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリフ
ェニレンエーテルのホモポリマーとコポリマー、ポリス
チレン、耐衝撃性ポリスチレン、ポリカーボネートおよ
びＡＢＳタイプのグラフトコポリマーならびにこれらの
混合物が特に好ましい。
レート、ポリフェニレンエーテルおよびスチレン樹脂な
らびにこれらの混合物がより好ましく、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリフ
ェニレンエーテルのホモポリマーとコポリマー、ポリス
チレン、耐衝撃性ポリスチレン、ポリカーボネートおよ
びＡＢＳタイプのグラフトコポリマーならびにこれらの
混合物が特に好ましい。
【００２７】得られた本発明の安定化されたポリマー組
成物は、場合により常用されている各種添加剤を含んで
いてもよい。その例を以下に挙げる。 １．酸化防止剤 １．１ アルキル化モノフェノール。たとえば、２，６
‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐メチルフェノール、２‐
ｔｅｒｔ‐ブチル‐４，６‐ジメチルフェノール、２，
６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐エチルフェノール、
２，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ｎ‐ブチルフェノ
ール、２，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐イソブチル
フェノール、２，６‐ジシクロペンチル‐４‐メチルフ
ェノール、２‐（α‐メチルシクロヘキシル）‐４，６
‐ジメチルフェノール、２，６‐ジオクタデシル‐４‐
メチルフェノール、２，４，６‐トリシクロヘキシルフ
ェノール、２，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐メトキ
シメチルフェノール、α‐トコフェロール、およびα‐
トコフェロールの誘導体。
成物は、場合により常用されている各種添加剤を含んで
いてもよい。その例を以下に挙げる。 １．酸化防止剤 １．１ アルキル化モノフェノール。たとえば、２，６
‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐メチルフェノール、２‐
ｔｅｒｔ‐ブチル‐４，６‐ジメチルフェノール、２，
６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐エチルフェノール、
２，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ｎ‐ブチルフェノ
ール、２，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐イソブチル
フェノール、２，６‐ジシクロペンチル‐４‐メチルフ
ェノール、２‐（α‐メチルシクロヘキシル）‐４，６
‐ジメチルフェノール、２，６‐ジオクタデシル‐４‐
メチルフェノール、２，４，６‐トリシクロヘキシルフ
ェノール、２，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐メトキ
シメチルフェノール、α‐トコフェロール、およびα‐
トコフェロールの誘導体。
【００２８】１．２ アルキル化ヒドロキノン。たとえ
ば、２，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐メトキシフェ
ノール、２，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐ヒドロキノ
ン、２，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐アミルヒドロキノン、２，
６‐ジフェニル‐４‐オクタデシルオキシフェノール。 １．３ ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル。たと
えば、２，２′‐チオ‐ビス‐（６‐ｔｅｒｔ‐ブチル
‐４‐メチルフェノール）、２，２′‐チオ‐ビス‐
（４‐オクチルフェノール）、４，４′‐チオ‐ビス‐
（６‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐３‐メチルフェノール）、
４，４′‐チオ‐ビス‐（６‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐２‐
メチルフェノール）。
ば、２，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐メトキシフェ
ノール、２，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐ヒドロキノ
ン、２，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐アミルヒドロキノン、２，
６‐ジフェニル‐４‐オクタデシルオキシフェノール。 １．３ ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル。たと
えば、２，２′‐チオ‐ビス‐（６‐ｔｅｒｔ‐ブチル
‐４‐メチルフェノール）、２，２′‐チオ‐ビス‐
（４‐オクチルフェノール）、４，４′‐チオ‐ビス‐
（６‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐３‐メチルフェノール）、
４，４′‐チオ‐ビス‐（６‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐２‐
メチルフェノール）。
【００２９】１．４ アルキリデン‐ビスフェノール。
たとえば、２，２′‐メチレン‐ビス‐（６‐ｔｅｒｔ
‐ブチル‐４‐メチルフェノール）、２，２′‐メチレ
ン‐ビス‐（６‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐エチルフェノ
ール）、２，２′‐メチレン‐ビス‐（４‐メチル‐６
‐（α‐メチルシクロヘキシル）フェノール）、２，
２′‐メチレン‐ビス‐（４‐メチル‐６‐シクロヘキ
シルフェノール）、２，２′‐メチレン‐ビス‐（６‐
ノニル‐４‐メチルフェノール）、２，２′‐メチレン
‐ビス‐（６‐ノニル‐４‐メチルフェノール）、２，
２′‐メチレン‐ビス‐（６‐（α‐メチルベンジル）
‐４‐ノニルフェノール）、２，２′‐メチレン‐ビス
‐（６‐（α，α‐ジメチルベンジル）‐４‐ノニルフ
ェノール）、２，２′‐メチレン‐ビス‐（４，６‐ジ
‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェノール）、２，２′‐エチリデ
ン‐ビス‐（６‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐イソブチルフ
ェノール）、４，４′‐メチレン‐ビス‐（２，６‐ジ
‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェノール）、４，４′‐メチレン
‐ビス‐（６‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐２‐メチルフェノー
ル）、１，１‐ビス‐（５‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒ
ドロキシ‐２‐メチルフェノール）ブタン、２，６‐ジ
‐（３‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐５‐メチル‐２‐ヒドロキ
シベンジル）‐４‐メチルフェノール、１，１，３‐ト
リス‐（５‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシ‐２‐
メチルフェニル）ブタン、１，１‐ビス‐（５‐ｔｅｒ
ｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシ‐２‐メチルフェニル）‐
３‐ドデシル‐メルカプトブタン、エチレングリコール
‐ビス‐（３，３‐ビス‐（３′‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐
４′‐ヒドロキシフェニル）‐ブチレート）‐ジ‐（３
‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシ‐５‐メチルフェ
ニル）‐ジシクロペンタジエン、ジ‐（２‐（３′‐ｔ
ｅｒｔ‐ブチル‐２′‐ヒドロキシ‐５′‐メチル‐ベ
ンジル）‐６‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐メチルフェニ
ル）テレフタレート。
たとえば、２，２′‐メチレン‐ビス‐（６‐ｔｅｒｔ
‐ブチル‐４‐メチルフェノール）、２，２′‐メチレ
ン‐ビス‐（６‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐エチルフェノ
ール）、２，２′‐メチレン‐ビス‐（４‐メチル‐６
‐（α‐メチルシクロヘキシル）フェノール）、２，
２′‐メチレン‐ビス‐（４‐メチル‐６‐シクロヘキ
シルフェノール）、２，２′‐メチレン‐ビス‐（６‐
ノニル‐４‐メチルフェノール）、２，２′‐メチレン
‐ビス‐（６‐ノニル‐４‐メチルフェノール）、２，
２′‐メチレン‐ビス‐（６‐（α‐メチルベンジル）
‐４‐ノニルフェノール）、２，２′‐メチレン‐ビス
‐（６‐（α，α‐ジメチルベンジル）‐４‐ノニルフ
ェノール）、２，２′‐メチレン‐ビス‐（４，６‐ジ
‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェノール）、２，２′‐エチリデ
ン‐ビス‐（６‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐イソブチルフ
ェノール）、４，４′‐メチレン‐ビス‐（２，６‐ジ
‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェノール）、４，４′‐メチレン
‐ビス‐（６‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐２‐メチルフェノー
ル）、１，１‐ビス‐（５‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒ
ドロキシ‐２‐メチルフェノール）ブタン、２，６‐ジ
‐（３‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐５‐メチル‐２‐ヒドロキ
シベンジル）‐４‐メチルフェノール、１，１，３‐ト
リス‐（５‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシ‐２‐
メチルフェニル）ブタン、１，１‐ビス‐（５‐ｔｅｒ
ｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシ‐２‐メチルフェニル）‐
３‐ドデシル‐メルカプトブタン、エチレングリコール
‐ビス‐（３，３‐ビス‐（３′‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐
４′‐ヒドロキシフェニル）‐ブチレート）‐ジ‐（３
‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシ‐５‐メチルフェ
ニル）‐ジシクロペンタジエン、ジ‐（２‐（３′‐ｔ
ｅｒｔ‐ブチル‐２′‐ヒドロキシ‐５′‐メチル‐ベ
ンジル）‐６‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐メチルフェニ
ル）テレフタレート。
【００３０】１．５ ベンジル化合物。たとえば、１，
３，５‐トリス‐（３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４
‐ヒドロキシシベンジル）‐２，４，６‐トリメチルベ
ンゼン、ビス‐（３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐
ヒドロキシベンジル）スルフィド、３，５‐ジ‐ｔｅｒ
ｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシベンジル‐メルカプト‐酢
酸イソオクチル、ビス‐（４‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐３‐
ヒドロキシ‐２，６‐ジメチルベンジル）ジチオテレフ
タレート、１，３，５‐トリス‐（３，５‐ジ‐ｔｅｒ
ｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５‐トリス‐（４‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐３
‐ヒドロキシ‐２，６‐ジメチルベンジル）イソシアヌ
レート、３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキ
シベンジルホスホン酸ジオクタデシル、３，５‐ジ‐ｔ
ｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシベンジルホスホン酸モ
ノエチルのカルシウム塩、１，３，５‐トリス‐（３，
５‐ジシクロヘキシル‐４‐ヒドロキシベンジル）イソ
シアヌレート。
３，５‐トリス‐（３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４
‐ヒドロキシシベンジル）‐２，４，６‐トリメチルベ
ンゼン、ビス‐（３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐
ヒドロキシベンジル）スルフィド、３，５‐ジ‐ｔｅｒ
ｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシベンジル‐メルカプト‐酢
酸イソオクチル、ビス‐（４‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐３‐
ヒドロキシ‐２，６‐ジメチルベンジル）ジチオテレフ
タレート、１，３，５‐トリス‐（３，５‐ジ‐ｔｅｒ
ｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５‐トリス‐（４‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐３
‐ヒドロキシ‐２，６‐ジメチルベンジル）イソシアヌ
レート、３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキ
シベンジルホスホン酸ジオクタデシル、３，５‐ジ‐ｔ
ｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシベンジルホスホン酸モ
ノエチルのカルシウム塩、１，３，５‐トリス‐（３，
５‐ジシクロヘキシル‐４‐ヒドロキシベンジル）イソ
シアヌレート。
【００３１】１．６ アシルアミノフェノール。たとえ
ば、４‐ヒドロキシ‐ラウリン酸アニリド、４‐ヒドロ
キシ‐ステアリン酸アニリド、２，４‐ビス‐オクチル
メルカプト‐６‐（３，５‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒ
ドロキシアニリノ）‐ｓ‐トリアジン、オクチル‐Ｎ‐
（３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシフェ
ニル）‐カーバメート。
ば、４‐ヒドロキシ‐ラウリン酸アニリド、４‐ヒドロ
キシ‐ステアリン酸アニリド、２，４‐ビス‐オクチル
メルカプト‐６‐（３，５‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒ
ドロキシアニリノ）‐ｓ‐トリアジン、オクチル‐Ｎ‐
（３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシフェ
ニル）‐カーバメート。
【００３２】１．７ β‐（３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブ
チル‐４‐ヒドロキシフェニル）‐プロピオン酸と、一
価または多価のアルコール（たとえば、メタノール、ジ
エチレングリコール、オクタデカノール、トリエチレン
グリコール、１，６‐ヘキサンジオール、ペンタエリト
リトール、ネオペンチルグリコール、イソシアヌル酸ト
リス‐ヒドロキシエチル、チオジエチレングリコール、
ジ‐ヒドロキシエチルシュウ酸ジアミド）とのエステ
ル。
チル‐４‐ヒドロキシフェニル）‐プロピオン酸と、一
価または多価のアルコール（たとえば、メタノール、ジ
エチレングリコール、オクタデカノール、トリエチレン
グリコール、１，６‐ヘキサンジオール、ペンタエリト
リトール、ネオペンチルグリコール、イソシアヌル酸ト
リス‐ヒドロキシエチル、チオジエチレングリコール、
ジ‐ヒドロキシエチルシュウ酸ジアミド）とのエステ
ル。
【００３３】１．８ β‐（５‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４
‐ヒドロキシ‐３‐メチルフェニル）‐プロピオン酸
と、一価または多価のアルコール（たとえば、メタノー
ル、ジエチレングリコール、オクタデカノール、トリエ
チレングリコール、１，６‐ヘキサンジオール、ペンタ
エリトリトール、ネオペンチルグリコール、イソシアヌ
ル酸トリス‐ヒドロキシエチル、チオジエチレングリコ
ール、ジヒドロキシエチルシュウ酸ジアミド）とのエス
テル。
‐ヒドロキシ‐３‐メチルフェニル）‐プロピオン酸
と、一価または多価のアルコール（たとえば、メタノー
ル、ジエチレングリコール、オクタデカノール、トリエ
チレングリコール、１，６‐ヘキサンジオール、ペンタ
エリトリトール、ネオペンチルグリコール、イソシアヌ
ル酸トリス‐ヒドロキシエチル、チオジエチレングリコ
ール、ジヒドロキシエチルシュウ酸ジアミド）とのエス
テル。
【００３４】１．９ β‐（５‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４
‐ヒドロキシ‐３‐メチルフェニル）プロピオン酸と、
一価または多価のアルコール（たとえば、メタノール、
ジエチレングリコール、オクタデカノール、トリエチレ
ングリコール、１，６‐ヘキサンジオール、ペンタエリ
トリトール、ネオペンチルグリコール、イソシアヌル酸
トリス（ヒドロキシエチル）、チオジエチレングリコー
ル、Ｎ，Ｎ‐ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド）とのエステル。
‐ヒドロキシ‐３‐メチルフェニル）プロピオン酸と、
一価または多価のアルコール（たとえば、メタノール、
ジエチレングリコール、オクタデカノール、トリエチレ
ングリコール、１，６‐ヘキサンジオール、ペンタエリ
トリトール、ネオペンチルグリコール、イソシアヌル酸
トリス（ヒドロキシエチル）、チオジエチレングリコー
ル、Ｎ，Ｎ‐ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド）とのエステル。
【００３５】１．１０ β‐（３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐
ブチル‐４‐ヒドロキシフェノール）‐プロピオン酸の
アミド。たとえば、Ｎ，Ｎ′‐ジ‐（３，５‐ジ‐ｔｅ
ｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシフェニルプロピオニル）
‐ヘキサメチレン‐ジアミン、Ｎ，Ｎ′‐ジ‐（３，５
‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′‐ジ‐
（３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル）‐ヒドラジン。
ブチル‐４‐ヒドロキシフェノール）‐プロピオン酸の
アミド。たとえば、Ｎ，Ｎ′‐ジ‐（３，５‐ジ‐ｔｅ
ｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシフェニルプロピオニル）
‐ヘキサメチレン‐ジアミン、Ｎ，Ｎ′‐ジ‐（３，５
‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′‐ジ‐
（３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル）‐ヒドラジン。
【００３６】好ましい具体例は、フェノール系酸化防止
剤として、テトラキス（メチレン‐３，５‐ジ‐ｔｅｒ
ｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト）メタン、ネオペンタンテトライルテトラキス（３，
５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシヒドロシン
ナメート）、ｎ‐オクタデシル３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐
ブチル‐４‐ヒドロキシヒドロシンナメート、１，３，
５‐トリメチル‐２，４，６‐トリス（３，５‐ジ‐ｔ
ｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシベンジル）ベンゼン、
１，３，５‐トリス（３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐
４‐ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，６‐
ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐ｐ‐クレゾール、２，２′‐エ
チリデン‐ビス（４，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェノ
ール）の少なくとも１種を有している。
剤として、テトラキス（メチレン‐３，５‐ジ‐ｔｅｒ
ｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト）メタン、ネオペンタンテトライルテトラキス（３，
５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシヒドロシン
ナメート）、ｎ‐オクタデシル３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐
ブチル‐４‐ヒドロキシヒドロシンナメート、１，３，
５‐トリメチル‐２，４，６‐トリス（３，５‐ジ‐ｔ
ｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシベンジル）ベンゼン、
１，３，５‐トリス（３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐
４‐ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，６‐
ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐ｐ‐クレゾール、２，２′‐エ
チリデン‐ビス（４，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェノ
ール）の少なくとも１種を有している。
【００３７】２．ＵＶ吸収剤および光安定剤 ２．１ ２‐（２′ヒドロキシフェニル）‐ベンゾトリ
アゾール。たとえば、５′‐メチル誘導体、３′，５′
‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル誘導体、５′‐ｔｅｒｔ‐ブチ
ル誘導体、５′‐（１，１，３，３‐テトラメチルブチ
ル）誘導体、５‐クロロ‐３′，５′‐ジ‐ｔｅｒｔ‐
ブチル誘導体、５‐クロロ‐３′‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐
５′‐メチル誘導体、３′‐ｓｅｃ‐ブチル‐５′‐ｔ
ｅｒｔ‐ブチル‐４′‐オクトキシ誘導体、３′，５′
‐ジ‐ｔｅｒｔ‐アミル誘導体、３′，５′‐ビス‐
（α，α‐ジメチルベンジル）誘導体。
アゾール。たとえば、５′‐メチル誘導体、３′，５′
‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル誘導体、５′‐ｔｅｒｔ‐ブチ
ル誘導体、５′‐（１，１，３，３‐テトラメチルブチ
ル）誘導体、５‐クロロ‐３′，５′‐ジ‐ｔｅｒｔ‐
ブチル誘導体、５‐クロロ‐３′‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐
５′‐メチル誘導体、３′‐ｓｅｃ‐ブチル‐５′‐ｔ
ｅｒｔ‐ブチル‐４′‐オクトキシ誘導体、３′，５′
‐ジ‐ｔｅｒｔ‐アミル誘導体、３′，５′‐ビス‐
（α，α‐ジメチルベンジル）誘導体。
【００３８】２．２ ２‐ヒドロキシ‐ベンゾフェノン
類。たとえば、４‐ヒドロキシ‐４‐メトキシ誘導体、
４‐オクトキシ誘導体、４‐デシルオキシ誘導体、４‐
ドデシルオキシ誘導体、４‐ベンジルオキシ誘導体、
４，２′，４′‐トリヒドロキシ誘導体および２′‐ヒ
ドロキシ‐４，４′‐ジメトキシ誘導体。 ２．３ 置換または非置換安息香酸のエステル。たとえ
ば、サリチル酸フェニル、４‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニ
ル‐サリチレート、サリチル酸オクチルフェニル、ジベ
ンゾイルレゾルシノール、ビス‐（４‐ｔｅｒｔ‐ブチ
ルベンゾイル）‐レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシ
ノール、２，４‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐フェニル‐
３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシベンゾ
エートおよびヘキサデシル‐３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブ
チル‐４‐ヒドロキシベンゾエート。
類。たとえば、４‐ヒドロキシ‐４‐メトキシ誘導体、
４‐オクトキシ誘導体、４‐デシルオキシ誘導体、４‐
ドデシルオキシ誘導体、４‐ベンジルオキシ誘導体、
４，２′，４′‐トリヒドロキシ誘導体および２′‐ヒ
ドロキシ‐４，４′‐ジメトキシ誘導体。 ２．３ 置換または非置換安息香酸のエステル。たとえ
ば、サリチル酸フェニル、４‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニ
ル‐サリチレート、サリチル酸オクチルフェニル、ジベ
ンゾイルレゾルシノール、ビス‐（４‐ｔｅｒｔ‐ブチ
ルベンゾイル）‐レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシ
ノール、２，４‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐フェニル‐
３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシベンゾ
エートおよびヘキサデシル‐３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブ
チル‐４‐ヒドロキシベンゾエート。
【００３９】２．４ アクリル酸エステル。たとえば、
α‐シアノ‐β，β‐ジフェニルアクリル酸のエチルエ
ステルまたはイソオクチルエステル、α‐カルボメトキ
シ‐ケイ皮酸メチルエステル、α‐シアノ‐β‐メチル
‐ｐ‐メトキシ‐ケイ皮酸のメチルエステルまたはブチ
ルエステル、α‐カルボメトキシ‐ｐ‐メトキシ‐ケイ
皮酸メチルエステル、Ｎ‐（β‐カルボメトキシ‐β‐
シアノ‐ビニル）‐２‐メチルインドリン。
α‐シアノ‐β，β‐ジフェニルアクリル酸のエチルエ
ステルまたはイソオクチルエステル、α‐カルボメトキ
シ‐ケイ皮酸メチルエステル、α‐シアノ‐β‐メチル
‐ｐ‐メトキシ‐ケイ皮酸のメチルエステルまたはブチ
ルエステル、α‐カルボメトキシ‐ｐ‐メトキシ‐ケイ
皮酸メチルエステル、Ｎ‐（β‐カルボメトキシ‐β‐
シアノ‐ビニル）‐２‐メチルインドリン。
【００４０】２．５ ニッケル化合物。たとえば、場合
によりｎ‐ブチルアミン、トリエタノールアミンまたは
Ｎ‐シクロヘキシルジエタノールアミンのような追加の
リガンドを伴なう２，２′‐チオ‐ビス（４‐（１，
１，１，３‐テトラメチルブチル）‐フェノール）のニ
ッケル錯体（たとえば１：１錯体または１：２錯体）、
ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル、４‐ヒドロキシ
‐３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルベンジルホスホン酸モ
ノアルキルエステル（たとえばメチル、エチルまたはブ
チルエステル）のニッケル塩、２‐ヒドロキシ‐４‐メ
チルペニルウンデシルケトオキシムのようなケトオキシ
ムのニッケル錯体、場合により追加のリガンドを伴なう
１‐フェニル‐４‐ラウロイル‐５‐ヒドロキシピラゾ
ールのニッケル錯体。
によりｎ‐ブチルアミン、トリエタノールアミンまたは
Ｎ‐シクロヘキシルジエタノールアミンのような追加の
リガンドを伴なう２，２′‐チオ‐ビス（４‐（１，
１，１，３‐テトラメチルブチル）‐フェノール）のニ
ッケル錯体（たとえば１：１錯体または１：２錯体）、
ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル、４‐ヒドロキシ
‐３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルベンジルホスホン酸モ
ノアルキルエステル（たとえばメチル、エチルまたはブ
チルエステル）のニッケル塩、２‐ヒドロキシ‐４‐メ
チルペニルウンデシルケトオキシムのようなケトオキシ
ムのニッケル錯体、場合により追加のリガンドを伴なう
１‐フェニル‐４‐ラウロイル‐５‐ヒドロキシピラゾ
ールのニッケル錯体。
【００４１】２．６ 立体障害ヒンダードアミン。たと
えば、ビス（２，２，６，６‐テトラメチルピペリジ
ル）‐セバケート、ビス（１，２，２，６，６‐ペンタ
メチルピペリジル）‐セバケート、ｎ‐ブチル‐３，５
‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシベンジルマロ
ン酸ビス（１，２，２，６，６‐ペンタメチルピペリジ
ル）エステル、１‐ヒドロキシエチル‐２，２，６，６
‐テトラメチル‐４‐ヒドロキシ‐ピペリジンとコハク
酸の縮合生成物、Ｎ，Ｎ′‐（２，２，６，６‐テトラ
メチルピペリジル）‐ヘキサメチレンジアミンと４‐ｔ
ｅｒｔ‐オクチルアミノ‐２，６‐ジクロロ‐１，３，
５‐ｓ‐トリアジンの縮合生成物、トリス‐（２，２，
６，６‐テトラメチルピペリジル）‐ニトリロトリアセ
テート、テトラキス‐（２，２，６，６‐テトラメチル
‐４‐ピペリジル）‐１，２，３，４‐ブタン‐テトラ
‐炭酸、１，１′‐（１，２‐エタンジイル）‐ビス‐
（３，３，５，５，‐テトラメチルピペラジノン）。こ
のようなアミンにはヒンダードアミンから誘導されるヒ
ドロキシアミン、たとえばジ（１‐ヒドロキシ‐２，
２，６，６‐テトラメチルピペリジン‐４‐イル）セバ
ケート、１‐ヒドロキシ‐２，２，６，６‐テトラメチ
ル‐４‐ベンゾキシピペリジン、１‐ヒドロキシ‐２，
２，６，６‐テトラメチル‐４‐（３，５‐ジ‐ｔｅｒ
ｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシヒドロシンナモイルオキ
シ）‐ピペリジン、およびＮ‐（１‐ヒドロキシ‐２，
２，６，６‐テトラメチル‐ピペリジン‐４‐イル）‐
ε‐カプロラクタムが包含される。ヒンダードアミン安
定剤のアミンオキシドも本発明に包含される。
えば、ビス（２，２，６，６‐テトラメチルピペリジ
ル）‐セバケート、ビス（１，２，２，６，６‐ペンタ
メチルピペリジル）‐セバケート、ｎ‐ブチル‐３，５
‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシベンジルマロ
ン酸ビス（１，２，２，６，６‐ペンタメチルピペリジ
ル）エステル、１‐ヒドロキシエチル‐２，２，６，６
‐テトラメチル‐４‐ヒドロキシ‐ピペリジンとコハク
酸の縮合生成物、Ｎ，Ｎ′‐（２，２，６，６‐テトラ
メチルピペリジル）‐ヘキサメチレンジアミンと４‐ｔ
ｅｒｔ‐オクチルアミノ‐２，６‐ジクロロ‐１，３，
５‐ｓ‐トリアジンの縮合生成物、トリス‐（２，２，
６，６‐テトラメチルピペリジル）‐ニトリロトリアセ
テート、テトラキス‐（２，２，６，６‐テトラメチル
‐４‐ピペリジル）‐１，２，３，４‐ブタン‐テトラ
‐炭酸、１，１′‐（１，２‐エタンジイル）‐ビス‐
（３，３，５，５，‐テトラメチルピペラジノン）。こ
のようなアミンにはヒンダードアミンから誘導されるヒ
ドロキシアミン、たとえばジ（１‐ヒドロキシ‐２，
２，６，６‐テトラメチルピペリジン‐４‐イル）セバ
ケート、１‐ヒドロキシ‐２，２，６，６‐テトラメチ
ル‐４‐ベンゾキシピペリジン、１‐ヒドロキシ‐２，
２，６，６‐テトラメチル‐４‐（３，５‐ジ‐ｔｅｒ
ｔ‐ブチル‐４‐ヒドロキシヒドロシンナモイルオキ
シ）‐ピペリジン、およびＮ‐（１‐ヒドロキシ‐２，
２，６，６‐テトラメチル‐ピペリジン‐４‐イル）‐
ε‐カプロラクタムが包含される。ヒンダードアミン安
定剤のアミンオキシドも本発明に包含される。
【００４２】２．７ シュウ酸ジアミド。たとえば、
４，４′‐ジオクチルオキシ‐オキサニリド、２，２′
‐ジ‐オクチルオキシ‐５，５′‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチ
ルオキサニリド、２，２′‐ジ‐ドデシルオキシ‐５，
５′‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐オキサニリド、２‐エト
キシ‐２′‐エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ′‐ビス（３
‐ジメチルアミノプロピル）‐オキサラミド、２‐エト
キシ‐５‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐２′‐エチルオキサニリ
ドおよびこれと２‐エトキシ‐２′‐エチル‐５，４‐
ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルオキサニリドとの混合物、ならび
にｏ‐メトキシとｐ‐メトキシ並びにｏ−およびｐ‐エ
トキシ二置換オキサニリドの混合物。
４，４′‐ジオクチルオキシ‐オキサニリド、２，２′
‐ジ‐オクチルオキシ‐５，５′‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチ
ルオキサニリド、２，２′‐ジ‐ドデシルオキシ‐５，
５′‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐オキサニリド、２‐エト
キシ‐２′‐エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ′‐ビス（３
‐ジメチルアミノプロピル）‐オキサラミド、２‐エト
キシ‐５‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐２′‐エチルオキサニリ
ドおよびこれと２‐エトキシ‐２′‐エチル‐５，４‐
ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルオキサニリドとの混合物、ならび
にｏ‐メトキシとｐ‐メトキシ並びにｏ−およびｐ‐エ
トキシ二置換オキサニリドの混合物。
【００４３】３．金属失活剤。たとえば、Ｎ，Ｎ′‐ジ
フェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ‐サリチラル‐Ｎ′‐サ
リチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′‐ビス‐サリチロイル
ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′‐ビス‐（３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ
‐ブチル‐４‐ヒドロフェニルプロピオニル）‐ヒドラ
ジン、サリチロイルアミノ‐１，２，４‐トリアゾー
ル、ビス‐ベンジリデンシュウ酸ジヒドラジド。
フェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ‐サリチラル‐Ｎ′‐サ
リチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′‐ビス‐サリチロイル
ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′‐ビス‐（３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ
‐ブチル‐４‐ヒドロフェニルプロピオニル）‐ヒドラ
ジン、サリチロイルアミノ‐１，２，４‐トリアゾー
ル、ビス‐ベンジリデンシュウ酸ジヒドラジド。
【００４４】４．ホスファイトおよびホスホナイト。た
とえば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキ
ルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、ト
リ（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホス
ファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジ（イソデ
シルオキシ）‐２，４，８，１０‐テトラオキサ‐３，
９‐ジホスファ‐［５．５］‐ウンデカンおよびトリ‐
（４‐ヒドロキシ‐３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェ
ニル）ホスファイト、および／または類似のホスホナイ
ト。特に重要な有機リン化合物としては、トリス（２，
４‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル）ホスファイト、
３，９‐ジ（２，４‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェノキ
シ）‐２，４，８，１０‐テトラオキサ‐３，９‐ジホ
スファ［５．５］ウンデカン、トリス（ｐ‐ノニルフェ
ニル）ホスファイト、３，９‐ジステアリルオキシ‐
２，４，８，１０‐テトラオキサ‐３，９‐ジホスファ
［５．５］ウンデカン、ジラウリルホスファイト、３，
９‐ジ［２，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐（２‐
（ｎ‐オクタデシルオキシカルボニル）エチル）‐フェ
ノキシ］‐２，４，８，１０‐テトラオキサ‐３，９‐
ジホスファ［５．５］ウンデカン、ならびにテトラキス
（２，４‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル）‐４，４′
‐ビス（ジフェニレン）ホスホナイト、ジステアリルペ
ンタエリトリトールジホスファイト、ジイソデシルペン
タエリトリトールジホスファイト、２，４，６‐トリ‐
ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル‐２‐ブチル‐２‐エチル‐
１，３‐プロパンジオールホスファイト、ビス（２，４
‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル）ペンタエリトリトー
ルジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホ
スファイト、 ［［２，４，８，１０‐テトラキス
（１，１‐ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，
３，２‐ジオキサホスフェピン‐６‐イル］オキシ］‐
Ｎ，Ｎ‐ビス‐［２‐［［２，４，８，１０‐テトラキ
ス（１，１‐ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］
［１，３，２‐ジオキサホスフェピン‐６‐イル］オキ
シ］‐エチル］エタンアミン（米国特許第４，３１８，
８４５号に開示されており、イルガホス(IRGAFOS) １２
として市販されている）、ビス［２‐メチル‐４，６‐
ビス（１，１‐ジメチルエチル）フェノール］亜リン酸
エチルエステル（イルガホス(IRGAFOS) ３８として市販
されている）、およびテトラキス（２，４‐ジ‐ｔｅｒ
ｔ‐ブチルフェニル）‐４，４′‐ビフェニレンジホス
ホナイトより成る群の中から選択されるものがある。ト
リス（２，４‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル）ホスフ
ァイト、２，４，６‐トリ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル
‐２‐ブチル‐２‐エチル‐１，３‐プロパンジオール
ホスファイト、ビス（２，４‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフ
ェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト、および
以上のホスファイトの少なくとも１種を含有するホスフ
ァイト混合物が特に好ましい。
とえば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキ
ルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、ト
リ（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホス
ファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジ（イソデ
シルオキシ）‐２，４，８，１０‐テトラオキサ‐３，
９‐ジホスファ‐［５．５］‐ウンデカンおよびトリ‐
（４‐ヒドロキシ‐３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェ
ニル）ホスファイト、および／または類似のホスホナイ
ト。特に重要な有機リン化合物としては、トリス（２，
４‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル）ホスファイト、
３，９‐ジ（２，４‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェノキ
シ）‐２，４，８，１０‐テトラオキサ‐３，９‐ジホ
スファ［５．５］ウンデカン、トリス（ｐ‐ノニルフェ
ニル）ホスファイト、３，９‐ジステアリルオキシ‐
２，４，８，１０‐テトラオキサ‐３，９‐ジホスファ
［５．５］ウンデカン、ジラウリルホスファイト、３，
９‐ジ［２，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐（２‐
（ｎ‐オクタデシルオキシカルボニル）エチル）‐フェ
ノキシ］‐２，４，８，１０‐テトラオキサ‐３，９‐
ジホスファ［５．５］ウンデカン、ならびにテトラキス
（２，４‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル）‐４，４′
‐ビス（ジフェニレン）ホスホナイト、ジステアリルペ
ンタエリトリトールジホスファイト、ジイソデシルペン
タエリトリトールジホスファイト、２，４，６‐トリ‐
ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル‐２‐ブチル‐２‐エチル‐
１，３‐プロパンジオールホスファイト、ビス（２，４
‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル）ペンタエリトリトー
ルジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホ
スファイト、 ［［２，４，８，１０‐テトラキス
（１，１‐ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，
３，２‐ジオキサホスフェピン‐６‐イル］オキシ］‐
Ｎ，Ｎ‐ビス‐［２‐［［２，４，８，１０‐テトラキ
ス（１，１‐ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］
［１，３，２‐ジオキサホスフェピン‐６‐イル］オキ
シ］‐エチル］エタンアミン（米国特許第４，３１８，
８４５号に開示されており、イルガホス(IRGAFOS) １２
として市販されている）、ビス［２‐メチル‐４，６‐
ビス（１，１‐ジメチルエチル）フェノール］亜リン酸
エチルエステル（イルガホス(IRGAFOS) ３８として市販
されている）、およびテトラキス（２，４‐ジ‐ｔｅｒ
ｔ‐ブチルフェニル）‐４，４′‐ビフェニレンジホス
ホナイトより成る群の中から選択されるものがある。ト
リス（２，４‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル）ホスフ
ァイト、２，４，６‐トリ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル
‐２‐ブチル‐２‐エチル‐１，３‐プロパンジオール
ホスファイト、ビス（２，４‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフ
ェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト、および
以上のホスファイトの少なくとも１種を含有するホスフ
ァイト混合物が特に好ましい。
【００４５】５．ヒドロキシルアミン。たとえば、Ｎ，
Ｎ‐ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジエチル
ヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジオクチルヒドロキシル
アミン、Ｎ，Ｎ‐ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，
Ｎ‐ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジヘ
キサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジオクタデシ
ルヒドロキシルアミン、Ｎ‐ヘキサデシル‐Ｎ‐オクタ
デシルヒドロキシルアミン、Ｎ‐ヘプタデシル‐Ｎ‐オ
クタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジオクチルヒ
ドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルヒド
ロキシルアミン、Ｎ‐シクロヘキシルヒドロキシルアミ
ン、Ｎ‐シクロドデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐
ジシクロヘキシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジベン
ジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジデシルヒドロキシ
ルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジ（ココアルキル）ヒドロキシルア
ミン、Ｎ，Ｎ‐ジ（Ｃ20〜Ｃ22アルキル）ヒドロキシル
アミン、および水素化タローアミンから誘導されるＮ，
Ｎ‐ジアルキルヒドロキシルアミン（すなわち、Ｎ，Ｎ
‐ジ（タローアルキル）ヒドロキシルアミン）、ならび
にこれらのいずれかを含有する混合物。その他の有用な
ヒドロキシルアミンは米国特許第３，６４４，２７８
号、同第３，７７８，４６４号および同第４，５９０，
２３１号などにより業界で公知である。
Ｎ‐ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジエチル
ヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジオクチルヒドロキシル
アミン、Ｎ，Ｎ‐ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，
Ｎ‐ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジヘ
キサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジオクタデシ
ルヒドロキシルアミン、Ｎ‐ヘキサデシル‐Ｎ‐オクタ
デシルヒドロキシルアミン、Ｎ‐ヘプタデシル‐Ｎ‐オ
クタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジオクチルヒ
ドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルヒド
ロキシルアミン、Ｎ‐シクロヘキシルヒドロキシルアミ
ン、Ｎ‐シクロドデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐
ジシクロヘキシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジベン
ジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジデシルヒドロキシ
ルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジ（ココアルキル）ヒドロキシルア
ミン、Ｎ，Ｎ‐ジ（Ｃ20〜Ｃ22アルキル）ヒドロキシル
アミン、および水素化タローアミンから誘導されるＮ，
Ｎ‐ジアルキルヒドロキシルアミン（すなわち、Ｎ，Ｎ
‐ジ（タローアルキル）ヒドロキシルアミン）、ならび
にこれらのいずれかを含有する混合物。その他の有用な
ヒドロキシルアミンは米国特許第３，６４４，２７８
号、同第３，７７８，４６４号および同第４，５９０，
２３１号などにより業界で公知である。
【００４６】６．第三級アミンオキシド。たとえば、ジ
オクチルメチルアミンオキシド、トリオクチルアミンオ
キシド、ジデシルメチルアミンオキシド、トリデシルア
ミンオキシド、ジ（ココアルキル）メチルアミンオキシ
ド、トリ（ココアルキル）アミンオキシド、ジ（タロー
アルキル）メチルアミンオキシド、トリ（タローアルキ
ル）アミンオキシド、トリ（ナタネ油アルキル）アミン
オキシド、ジ（ナタネ油アルキル）メチルアミンオキシ
ド、トリ（Ｃ20〜Ｃ22）アミンオキシド、およびジ（Ｃ
20〜Ｃ22アルキル）メチルアミンオキシド。立体障害第
三級アミンのアミンオキシド、ならびに−Ｏ−、−Ｓ
−、−ＳＯ−、−ＣＯ2 −、−ＣＯ−、−Ｃ＝Ｃ−また
は−ＣＯＮ−分子部分を少なくともひとつ含有するアミ
ンオキシドも有用である。水素化または非水素化トリア
ルキルアミンから誘導されるアミンオキシドおよびそれ
らの混合物も有用である。第三級アミンオキシドの熱分
解生成物および反応生成物はさらに有用な添加剤であ
る。
オクチルメチルアミンオキシド、トリオクチルアミンオ
キシド、ジデシルメチルアミンオキシド、トリデシルア
ミンオキシド、ジ（ココアルキル）メチルアミンオキシ
ド、トリ（ココアルキル）アミンオキシド、ジ（タロー
アルキル）メチルアミンオキシド、トリ（タローアルキ
ル）アミンオキシド、トリ（ナタネ油アルキル）アミン
オキシド、ジ（ナタネ油アルキル）メチルアミンオキシ
ド、トリ（Ｃ20〜Ｃ22）アミンオキシド、およびジ（Ｃ
20〜Ｃ22アルキル）メチルアミンオキシド。立体障害第
三級アミンのアミンオキシド、ならびに−Ｏ−、−Ｓ
−、−ＳＯ−、−ＣＯ2 −、−ＣＯ−、−Ｃ＝Ｃ−また
は−ＣＯＮ−分子部分を少なくともひとつ含有するアミ
ンオキシドも有用である。水素化または非水素化トリア
ルキルアミンから誘導されるアミンオキシドおよびそれ
らの混合物も有用である。第三級アミンオキシドの熱分
解生成物および反応生成物はさらに有用な添加剤であ
る。
【００４７】７．ニトロン。たとえば、ｎ‐ベンジル‐
α‐フェニルニトロン、Ｎ‐エチル‐α‐メチルニトロ
ン、Ｎ‐オクチル‐α‐ヘプチルニトロン、Ｎ‐ラウリ
ル‐α‐ウンデシルニトロン、Ｎ‐テトラデシル‐α‐
トリデシルニトロン、Ｎ‐ヘキサデシル‐α‐ペンタデ
シルニトロン、Ｎ‐オクタデシル‐α‐ヘプタデシルニ
トロン、Ｎ‐ヘキサデシル‐α‐ヘプタデシルニトロ
ン、Ｎ‐オクタデシル‐α‐ペンタデシルニトロン、Ｎ
‐ヘプタデシル‐α‐ヘプタデシルニトロン、Ｎ‐オク
タデシル‐α‐ヘキサデシルニトロン、水素化タローア
ミンから誘導されるＮ，Ｎ‐ジアルキルヒドロキシルア
ミンから誘導されるニトロン。
α‐フェニルニトロン、Ｎ‐エチル‐α‐メチルニトロ
ン、Ｎ‐オクチル‐α‐ヘプチルニトロン、Ｎ‐ラウリ
ル‐α‐ウンデシルニトロン、Ｎ‐テトラデシル‐α‐
トリデシルニトロン、Ｎ‐ヘキサデシル‐α‐ペンタデ
シルニトロン、Ｎ‐オクタデシル‐α‐ヘプタデシルニ
トロン、Ｎ‐ヘキサデシル‐α‐ヘプタデシルニトロ
ン、Ｎ‐オクタデシル‐α‐ペンタデシルニトロン、Ｎ
‐ヘプタデシル‐α‐ヘプタデシルニトロン、Ｎ‐オク
タデシル‐α‐ヘキサデシルニトロン、水素化タローア
ミンから誘導されるＮ，Ｎ‐ジアルキルヒドロキシルア
ミンから誘導されるニトロン。
【００４８】８．３‐アリールベンゾフラノン。たとえ
ば、次式の３‐アリールベンゾフラノン。
ば、次式の３‐アリールベンゾフラノン。
【００４９】
【化１６】
【００５０】ただし、ｎが１のときＲ1 は非置換または
置換された炭素環式または複素芳香族環系であり、ｎが
２のときＲ1 は非置換あるいはＣ1 〜Ｃ4 アルキルもし
くはヒドロキシで置換されたフェニレンもしくはナフチ
レンであるか、あるいは−Ｒ6−Ｘ−Ｒ7 −である。ま
た、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 は各々が互いに独立して水
素、クロロ、ヒドロキシ、Ｃ1 〜Ｃ25アルキル、Ｃ7 〜
Ｃ9 フェニルアルキル、非置換もしくはＣ1 〜Ｃ4 アル
キルで置換されたフェニル、非置換もしくはＣ1〜Ｃ4
アルキルで置換されたＣ5 〜Ｃ8 シクロアルキル、Ｃ1
〜Ｃ18アルコキシ、Ｃ1 〜Ｃ18アルキルチオ、Ｃ1 〜Ｃ
4 アルキルアミノ、ジ‐（Ｃ1 〜Ｃ4 アルキル）アミ
ノ、Ｃ1 〜Ｃ25アルカノイルオキシ、Ｃ1 〜Ｃ25アルカ
ノイルアミノ、Ｃ3 〜Ｃ25アルケノイルオキシ、酸素、
イオウもしくは＞Ｎ−Ｒ8 で中断されているＣ3 〜Ｃ25
アルカノイルオキシ、Ｃ6 〜Ｃ9 シクロアルキルカルボ
ニルオキシ、ベンゾイルオキシ、またはＣ1 〜Ｃ12アル
キルで置換されたベンゾイルオキシであるか、あるいは
置換基Ｒ2 とＲ3 またはＲ3 とＲ4 またはＲ4 とＲ5 の
各対が結合炭素原子と共にベンゼン環を形成する。さら
に、Ｒ4 は−（ＣＨ2 ）ｐ−ＣＯＲ9 または−（Ｃ
Ｈ2 ）q ＯＨであるか、Ｒ3 とＲ5 が水素のときＲ4は
次式の基である。
置換された炭素環式または複素芳香族環系であり、ｎが
２のときＲ1 は非置換あるいはＣ1 〜Ｃ4 アルキルもし
くはヒドロキシで置換されたフェニレンもしくはナフチ
レンであるか、あるいは−Ｒ6−Ｘ−Ｒ7 −である。ま
た、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 は各々が互いに独立して水
素、クロロ、ヒドロキシ、Ｃ1 〜Ｃ25アルキル、Ｃ7 〜
Ｃ9 フェニルアルキル、非置換もしくはＣ1 〜Ｃ4 アル
キルで置換されたフェニル、非置換もしくはＣ1〜Ｃ4
アルキルで置換されたＣ5 〜Ｃ8 シクロアルキル、Ｃ1
〜Ｃ18アルコキシ、Ｃ1 〜Ｃ18アルキルチオ、Ｃ1 〜Ｃ
4 アルキルアミノ、ジ‐（Ｃ1 〜Ｃ4 アルキル）アミ
ノ、Ｃ1 〜Ｃ25アルカノイルオキシ、Ｃ1 〜Ｃ25アルカ
ノイルアミノ、Ｃ3 〜Ｃ25アルケノイルオキシ、酸素、
イオウもしくは＞Ｎ−Ｒ8 で中断されているＣ3 〜Ｃ25
アルカノイルオキシ、Ｃ6 〜Ｃ9 シクロアルキルカルボ
ニルオキシ、ベンゾイルオキシ、またはＣ1 〜Ｃ12アル
キルで置換されたベンゾイルオキシであるか、あるいは
置換基Ｒ2 とＲ3 またはＲ3 とＲ4 またはＲ4 とＲ5 の
各対が結合炭素原子と共にベンゼン環を形成する。さら
に、Ｒ4 は−（ＣＨ2 ）ｐ−ＣＯＲ9 または−（Ｃ
Ｈ2 ）q ＯＨであるか、Ｒ3 とＲ5 が水素のときＲ4は
次式の基である。
【００５１】
【化１７】
【００５２】ここで、Ｒ1 はｎ＝１の場合に上記に定義
した通りである。Ｒ6 とＲ7 は各々が互いに独立して非
置換またはＣ1 〜Ｃ4 アルキルで置換されたフェニレン
もしくはナフチレンであり、Ｒ8 は水素またはＣ1 〜Ｃ
8 アルキルであり、Ｒ9 はヒドロキシ、（−Ｏ−１／ｒ
Ｍr+）、Ｃ1 〜Ｃ18アルコキシまたは
した通りである。Ｒ6 とＲ7 は各々が互いに独立して非
置換またはＣ1 〜Ｃ4 アルキルで置換されたフェニレン
もしくはナフチレンであり、Ｒ8 は水素またはＣ1 〜Ｃ
8 アルキルであり、Ｒ9 はヒドロキシ、（−Ｏ−１／ｒ
Ｍr+）、Ｃ1 〜Ｃ18アルコキシまたは
【００５３】
【化１８】
【００５４】であり、Ｒ10とＲ11は各々が互いに独立し
て水素、ＣＦ3 、Ｃ1 〜Ｃ12アルキルまたはフェニルで
あり、あるいはＲ10とＲ11が結合炭素原子と共に非置換
または１〜３個のＣ1 〜Ｃ4 アルキル基で置換されたＣ
5 〜Ｃ8 シクロアルキリデン環を形成し、Ｒ14は水素ま
たはＣ1 〜Ｃ18アルキルであり、Ｍは原子価ｒの金属カ
チオンであり、Ｘは直接結合、酸素、イオウまたはＮＲ
14であり、ｎは１または２であり、ｐは０、１または２
であり、ｑは１、２、３、４、５または６であり、ｒは
１、２または３である。その製造プロセスは、次式の化
合物を、式［Ｈ］ n −Ｒ1 の化合物と反応させることか
らなる。
て水素、ＣＦ3 、Ｃ1 〜Ｃ12アルキルまたはフェニルで
あり、あるいはＲ10とＲ11が結合炭素原子と共に非置換
または１〜３個のＣ1 〜Ｃ4 アルキル基で置換されたＣ
5 〜Ｃ8 シクロアルキリデン環を形成し、Ｒ14は水素ま
たはＣ1 〜Ｃ18アルキルであり、Ｍは原子価ｒの金属カ
チオンであり、Ｘは直接結合、酸素、イオウまたはＮＲ
14であり、ｎは１または２であり、ｐは０、１または２
であり、ｑは１、２、３、４、５または６であり、ｒは
１、２または３である。その製造プロセスは、次式の化
合物を、式［Ｈ］ n −Ｒ1 の化合物と反応させることか
らなる。
【００５５】
【化１９】
【００５６】ここで、Ｒ15はハロゲンまたは−ＯＲ′15
であり、Ｒ′15は水素、Ｃ1 〜Ｃ25アルカノイル、Ｃ3
〜Ｃ25アルケノイル、酸素、イオウもしくは
であり、Ｒ′15は水素、Ｃ1 〜Ｃ25アルカノイル、Ｃ3
〜Ｃ25アルケノイル、酸素、イオウもしくは
【００５７】
【化２０】
【００５８】で中断されているＣ3 〜Ｃ25アルカノイ
ル、Ｃ6 〜Ｃ9 シクロアルキルカルボニル、テノイル、
フロイル、ベンゾイルもしくはＣ1 〜Ｃ12アルキルで置
換されたベンゾイル、ナフトイルもしくはＣ1 〜Ｃ12ア
ルキルで置換されたナフトイル、Ｃ1 〜Ｃ25アルカンス
ルホニル、フルオロで置換されたＣ1 〜Ｃ25アルカンス
ルホニル、フェニルスルホニルもしくはＣ1 〜Ｃ12アル
キルで置換されたフェニルスルホニル、または
ル、Ｃ6 〜Ｃ9 シクロアルキルカルボニル、テノイル、
フロイル、ベンゾイルもしくはＣ1 〜Ｃ12アルキルで置
換されたベンゾイル、ナフトイルもしくはＣ1 〜Ｃ12ア
ルキルで置換されたナフトイル、Ｃ1 〜Ｃ25アルカンス
ルホニル、フルオロで置換されたＣ1 〜Ｃ25アルカンス
ルホニル、フェニルスルホニルもしくはＣ1 〜Ｃ12アル
キルで置換されたフェニルスルホニル、または
【００５９】
【化２１】
【００６０】である。ただし、Ｒ16は直接結合、Ｃ1 〜
Ｃ18アルキレン、酸素、イオウもしくは
Ｃ18アルキレン、酸素、イオウもしくは
【００６１】
【化２２】
【００６２】で中断されているＣ2 〜Ｃ18アルキレン、
Ｃ2 〜Ｃ18アルケニレン、Ｃ2 〜Ｃ20アルキリデン、Ｃ
7 〜Ｃ20フェニルアルキリデン、Ｃ5 〜Ｃ8 シクロアル
キレン、Ｃ7 〜Ｃ8 ビシクロアルキレン、非置換もしく
はＣ1 〜Ｃ4 アルキルで置換されたフェニレン、
Ｃ2 〜Ｃ18アルケニレン、Ｃ2 〜Ｃ20アルキリデン、Ｃ
7 〜Ｃ20フェニルアルキリデン、Ｃ5 〜Ｃ8 シクロアル
キレン、Ｃ7 〜Ｃ8 ビシクロアルキレン、非置換もしく
はＣ1 〜Ｃ4 アルキルで置換されたフェニレン、
【００６３】
【化２３】
【００６４】であり、Ｒ17は酸素、−ＮＨ−または
【００６５】
【化２４】
【００６６】であり、Ｒ18はＣ1 〜Ｃ18アルキルまたは
フェニルである。有用な３‐アリールベンゾフラノンは
公知の化合物であり、米国特許第４，３２５，８６３
号、同第４，３３８，２４４号、同第５，１７５，３１
２号および同第５，６０７，６２４号に記載されている
ものがある。本発明で使用するのに特に好ましい３‐ア
リールベンゾフラノンは５，７‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル
‐３‐（３，４‐ジ‐メチルフェニル）‐３Ｈ‐ベンゾ
フラン‐２‐オンである。
フェニルである。有用な３‐アリールベンゾフラノンは
公知の化合物であり、米国特許第４，３２５，８６３
号、同第４，３３８，２４４号、同第５，１７５，３１
２号および同第５，６０７，６２４号に記載されている
ものがある。本発明で使用するのに特に好ましい３‐ア
リールベンゾフラノンは５，７‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル
‐３‐（３，４‐ジ‐メチルフェニル）‐３Ｈ‐ベンゾ
フラン‐２‐オンである。
【００６７】９．過酸化物捕捉剤。たとえば、β‐チオ
ジプロピオン酸のエステル、たとえばラウリルエステ
ル、ステアリルエステル、ミリスチルエステルもしくは
トリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾールも
しくは２‐メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジ
ブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスル
フィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β‐ドデシ
ルメルカプト）‐プロピオネート。
ジプロピオン酸のエステル、たとえばラウリルエステ
ル、ステアリルエステル、ミリスチルエステルもしくは
トリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾールも
しくは２‐メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジ
ブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスル
フィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β‐ドデシ
ルメルカプト）‐プロピオネート。
【００６８】１０．ポリアミド安定剤。たとえば、ヨウ
化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩および二
価マンガンの塩。 １１．塩基性補助安定剤。たとえば、メラミン、ポリビ
ニルピロリドン、ジシアンジアミド、シアヌル酸トリア
リル、ＤＨＴ−４Ａ、ハイドロタルサイト、尿素誘導
体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレ
タン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類
金属塩、たとえばステアリン酸Ｃａ、ステアロイル乳酸
カルシウム、乳酸カルシウム、ステアリン酸Ｚｎ、ステ
アリン酸Ｍｇ、リシノール酸Ｎａおよびパルピチン酸
Ｋ、アンチモンピロカテコラートまたは亜鉛ピロカテコ
ラート。
化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩および二
価マンガンの塩。 １１．塩基性補助安定剤。たとえば、メラミン、ポリビ
ニルピロリドン、ジシアンジアミド、シアヌル酸トリア
リル、ＤＨＴ−４Ａ、ハイドロタルサイト、尿素誘導
体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレ
タン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類
金属塩、たとえばステアリン酸Ｃａ、ステアロイル乳酸
カルシウム、乳酸カルシウム、ステアリン酸Ｚｎ、ステ
アリン酸Ｍｇ、リシノール酸Ｎａおよびパルピチン酸
Ｋ、アンチモンピロカテコラートまたは亜鉛ピロカテコ
ラート。
【００６９】１２．核剤。たとえば、安息香酸ナトリウ
ム、アルキル安息香酸ナトリウム、ビス（アルキルフェ
ニル）ホスフェートのナトリウム塩、４‐ｔｅｒｔ‐ブ
チル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、メチレン
ビス‐２，４‐ジブチルフェニルのナトリウム塩、環状
リン酸エステル、ソルビトールトリス‐ベンズアルデヒ
ドアセタール、およびビス（２，４‐ジ‐ｔ‐ブチルフ
ェニル）ホスフェートのナトリウム塩またはエチリデン
ビス（２，４‐ジ‐ｔ‐ブチルフェニル）ホスフェート
のＮａ塩。
ム、アルキル安息香酸ナトリウム、ビス（アルキルフェ
ニル）ホスフェートのナトリウム塩、４‐ｔｅｒｔ‐ブ
チル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、メチレン
ビス‐２，４‐ジブチルフェニルのナトリウム塩、環状
リン酸エステル、ソルビトールトリス‐ベンズアルデヒ
ドアセタール、およびビス（２，４‐ジ‐ｔ‐ブチルフ
ェニル）ホスフェートのナトリウム塩またはエチリデン
ビス（２，４‐ジ‐ｔ‐ブチルフェニル）ホスフェート
のＮａ塩。
【００７０】１３．清澄剤。たとえば、ベンズアルデヒ
ドとソルビトールから調製されるアセタール。 １４．充填材および強化材。たとえば、炭酸カルシウ
ム、シリケート、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カ
オリン、雲母、硫酸バリウム、金属の酸化物および水酸
化物、カーボンブラックおよび黒鉛。
ドとソルビトールから調製されるアセタール。 １４．充填材および強化材。たとえば、炭酸カルシウ
ム、シリケート、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カ
オリン、雲母、硫酸バリウム、金属の酸化物および水酸
化物、カーボンブラックおよび黒鉛。
【００７１】１５．本発明はまた、アミノキシプロパノ
エート誘導体、たとえばメチル‐３‐（Ｎ，Ｎ‐ジベン
ジルアミノキシ）プロパノエート、エチル‐３‐（Ｎ，
Ｎ‐ジベンジルアミノキシ）プロパノエート、１，６‐
ヘキサメチレン‐ビス（３‐Ｎ，Ｎ‐ジベンジルアミノ
キシ）プロパノエート、メチル‐（２‐（メチル）‐３
‐（Ｎ，Ｎ‐ジベンジルアミノキシ）プロパノエー
ト）、オクタデシル‐３‐（Ｎ，Ｎ‐ジベンジルアミノ
キシ）プロパン酸、テトラキス（Ｎ，Ｎ‐ジベンジルア
ミノキシ）エチルカルボニルオキシメチル）メタン、オ
クタデシル‐３‐（Ｎ，Ｎ‐ジエチルアミノキシ）‐プ
ロパノエート、３‐（Ｎ，Ｎ‐ジベンジルアミノキシ）
プロパン酸カリウム塩、および１，６‐ヘキサメチレン
ビス（３‐（Ｎ‐アリル‐Ｎ‐ドデシルアミノキシ）プ
ロパノエート）と一緒に使用することもできる。
エート誘導体、たとえばメチル‐３‐（Ｎ，Ｎ‐ジベン
ジルアミノキシ）プロパノエート、エチル‐３‐（Ｎ，
Ｎ‐ジベンジルアミノキシ）プロパノエート、１，６‐
ヘキサメチレン‐ビス（３‐Ｎ，Ｎ‐ジベンジルアミノ
キシ）プロパノエート、メチル‐（２‐（メチル）‐３
‐（Ｎ，Ｎ‐ジベンジルアミノキシ）プロパノエー
ト）、オクタデシル‐３‐（Ｎ，Ｎ‐ジベンジルアミノ
キシ）プロパン酸、テトラキス（Ｎ，Ｎ‐ジベンジルア
ミノキシ）エチルカルボニルオキシメチル）メタン、オ
クタデシル‐３‐（Ｎ，Ｎ‐ジエチルアミノキシ）‐プ
ロパノエート、３‐（Ｎ，Ｎ‐ジベンジルアミノキシ）
プロパン酸カリウム塩、および１，６‐ヘキサメチレン
ビス（３‐（Ｎ‐アリル‐Ｎ‐ドデシルアミノキシ）プ
ロパノエート）と一緒に使用することもできる。
【００７２】１６．他の添加剤。たとえば、可塑剤、潤
滑剤、乳化剤、顔料、蛍光増白剤、防炎加工剤、帯電防
止剤、発泡剤およびチオ相乗剤、たとえばジラウリルチ
オジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオ
ネート。ひとつの態様において、本発明のビス‐ホスフ
ァイト化合物は、アミン化合物、好ましくはポリアミン
と共に使用される。このアミン化合物を利用する組合せ
により、ビス‐ホスファイト化合物の加水分解安定性が
改善される。ビス‐ホスファイト化合物が固体として単
離される場合、本発明はこの化合物を固体の非晶質形態
で利用することを包含する。この非晶質のホスファイト
組成物は、ホスファイトの溶融物を急速冷却することに
よって形成される。そのような溶融物はビス‐ホスファ
イト化合物とポリアミンの混合物でよく、これを急速に
冷却すると固体の非晶質ホスファイト組成物が生成す
る。この組成物の非晶質という性質により、同じ成分を
含有する結晶質の組成物と比べて前記組成物の加水分解
安定性が向上する。このような組成物はそれぞれの量で
アミン、好ましくは脂肪族ポリアミンを含有し得る。
滑剤、乳化剤、顔料、蛍光増白剤、防炎加工剤、帯電防
止剤、発泡剤およびチオ相乗剤、たとえばジラウリルチ
オジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオ
ネート。ひとつの態様において、本発明のビス‐ホスフ
ァイト化合物は、アミン化合物、好ましくはポリアミン
と共に使用される。このアミン化合物を利用する組合せ
により、ビス‐ホスファイト化合物の加水分解安定性が
改善される。ビス‐ホスファイト化合物が固体として単
離される場合、本発明はこの化合物を固体の非晶質形態
で利用することを包含する。この非晶質のホスファイト
組成物は、ホスファイトの溶融物を急速冷却することに
よって形成される。そのような溶融物はビス‐ホスファ
イト化合物とポリアミンの混合物でよく、これを急速に
冷却すると固体の非晶質ホスファイト組成物が生成す
る。この組成物の非晶質という性質により、同じ成分を
含有する結晶質の組成物と比べて前記組成物の加水分解
安定性が向上する。このような組成物はそれぞれの量で
アミン、好ましくは脂肪族ポリアミンを含有し得る。
【００７３】この非晶質組成物を製造するには、結晶質
のビス‐ホスファイト化合物、または結晶質のビス‐ホ
スファイト化合物とアミンその他の所望の成分とのブレ
ンドを溶融してメルトブレンドを形成する。得られたメ
ルトブレンドを冷却して非晶質の固体ビス‐ホスファイ
ト化合物組成物を形成する。また、このプロセスでは、
ビス‐ホスファイト化合物を、１０日を超える期間にわ
たって周囲温度に（おそらくは湿潤条件（相対湿度＞６
０％）で）貯蔵した後、そのビス‐ホスファイト化合物
組成物を熱酸化安定性のためポリオレフィン、たとえば
ポリプロピレンのような熱可塑性ポリマーと配合しても
よい。
のビス‐ホスファイト化合物、または結晶質のビス‐ホ
スファイト化合物とアミンその他の所望の成分とのブレ
ンドを溶融してメルトブレンドを形成する。得られたメ
ルトブレンドを冷却して非晶質の固体ビス‐ホスファイ
ト化合物組成物を形成する。また、このプロセスでは、
ビス‐ホスファイト化合物を、１０日を超える期間にわ
たって周囲温度に（おそらくは湿潤条件（相対湿度＞６
０％）で）貯蔵した後、そのビス‐ホスファイト化合物
組成物を熱酸化安定性のためポリオレフィン、たとえば
ポリプロピレンのような熱可塑性ポリマーと配合しても
よい。
【００７４】本発明の非晶質安定剤組成物は、安定剤組
成物の総重量に対して、少なくとも５０重量％のビス‐
ホスファイト化合物を含むのが好ましく、８０〜９９．
９重量％のビス‐ホスファイト化合物を含むのがより好
ましく、９０〜９９．８重量％がさらに好ましく、９５
〜９９．５重量％含むのがより好ましく、９７〜９９重
量％が最も好ましい。
成物の総重量に対して、少なくとも５０重量％のビス‐
ホスファイト化合物を含むのが好ましく、８０〜９９．
９重量％のビス‐ホスファイト化合物を含むのがより好
ましく、９０〜９９．８重量％がさらに好ましく、９５
〜９９．５重量％含むのがより好ましく、９７〜９９重
量％が最も好ましい。
【００７５】アミンは、安定剤組成物の総重量に対し
て、０．１〜１０重量％のレベルで存在するのが好まし
く、０．２〜１０重量％がより好ましく、０．６〜５重
量％のレベルがさらに好ましく、１〜３重量％が最も好
ましい。このような安定剤アミン組成物は非晶質（非結
晶質）粒子、たとえば粉末やペレットの形態であるのが
好ましい。
て、０．１〜１０重量％のレベルで存在するのが好まし
く、０．２〜１０重量％がより好ましく、０．６〜５重
量％のレベルがさらに好ましく、１〜３重量％が最も好
ましい。このような安定剤アミン組成物は非晶質（非結
晶質）粒子、たとえば粉末やペレットの形態であるのが
好ましい。
【００７６】好ましいアミン添加剤はポリアミンであ
り、脂肪族ポリアミンがより好ましい。この脂肪族ポリ
アミンは沸点が１７５℃より高いのが好ましく、１９０
℃より高いとさらに好ましく、２００℃より高いと最も
好ましい。脂肪族ポリアミンは第一級、第二級または第
三級のアミン基を含有していてよい。このアミン基は第
一級のアミン基であるのが好ましい。ポリアミンは２
個、３個、またはそれ以上のアミン基を含有し得、言い
換えればジアミン、トリアミンまたはより高級なポリア
ミンアミンであり得る。好ましいポリアミンは次式の脂
肪族第一級ジアミンである。
り、脂肪族ポリアミンがより好ましい。この脂肪族ポリ
アミンは沸点が１７５℃より高いのが好ましく、１９０
℃より高いとさらに好ましく、２００℃より高いと最も
好ましい。脂肪族ポリアミンは第一級、第二級または第
三級のアミン基を含有していてよい。このアミン基は第
一級のアミン基であるのが好ましい。ポリアミンは２
個、３個、またはそれ以上のアミン基を含有し得、言い
換えればジアミン、トリアミンまたはより高級なポリア
ミンアミンであり得る。好ましいポリアミンは次式の脂
肪族第一級ジアミンである。
【００７７】
【化２５】
【００７８】ここで、Ｒ10はＣ6 〜Ｃ10で二価のアルキ
ル基の中から選択されるが、このジアミンは１，６‐ジ
アミノヘキサンおよび１，１０‐ジアミノデカンの中か
ら選択されるのが好ましい。適切な脂肪族第二級ジアミ
ンは次の一般式で表し得る。
ル基の中から選択されるが、このジアミンは１，６‐ジ
アミノヘキサンおよび１，１０‐ジアミノデカンの中か
ら選択されるのが好ましい。適切な脂肪族第二級ジアミ
ンは次の一般式で表し得る。
【００７９】
【化２６】
【００８０】ここで、Ｒ11はＣ1 〜Ｃ10で二価のアルキ
ル基の中から選択され、Ｒ12はＣ1 〜Ｃ30で一価のアル
キル基の中から選択される。適切な脂肪族第三級ジアミ
ンは次の一般式で表し得る。
ル基の中から選択され、Ｒ12はＣ1 〜Ｃ30で一価のアル
キル基の中から選択される。適切な脂肪族第三級ジアミ
ンは次の一般式で表し得る。
【００８１】
【化２７】
【００８２】ここで、Ｒ11とＲ12は上で定義した通りで
ある。ポリアミンは脂肪族の第一級ジアミンであるのが
最も好ましい。またアミンはモノアミン、またはトリイ
ソプロパノールアミンのようなヒドロキシルアミン、Ｒ
12ＮＨ2 、（Ｒ12）2 ＮＨ、（Ｒ12）3 Ｎ、（Ｒ12）2
ＮＯＨでもよい。ポリマー材料中でポリマーの劣化を有
効に阻止するビス‐ホスファイト化合物の濃度は、安定
化される特定のポリマーおよびその安定化されたポリマ
ー材料を使用しようとする最終用途に応じて大きく変化
し得る。通常０．００１〜５．０重量％の範囲の濃度が
使用でき、約０．０１〜０．５重量％の濃度が最も一般
的である。ポリマー粒子は、ポリマー材料の安定化のた
め、本発明のホスファイトのみをコート（塗布）しても
よく、あるいは他の慣用の安定剤と組合せてコートして
もよい。本発明により提供されるビス‐ホスファイト安
定剤は通常、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト、
ヒドロキシルアミン、３‐アリールベンゾフラノン、有
機酸の多価塩およびチオエーテルのような他の常用安定
剤と組合せて使用される。また、上述した添加剤のいず
れが存在してもよい。
ある。ポリアミンは脂肪族の第一級ジアミンであるのが
最も好ましい。またアミンはモノアミン、またはトリイ
ソプロパノールアミンのようなヒドロキシルアミン、Ｒ
12ＮＨ2 、（Ｒ12）2 ＮＨ、（Ｒ12）3 Ｎ、（Ｒ12）2
ＮＯＨでもよい。ポリマー材料中でポリマーの劣化を有
効に阻止するビス‐ホスファイト化合物の濃度は、安定
化される特定のポリマーおよびその安定化されたポリマ
ー材料を使用しようとする最終用途に応じて大きく変化
し得る。通常０．００１〜５．０重量％の範囲の濃度が
使用でき、約０．０１〜０．５重量％の濃度が最も一般
的である。ポリマー粒子は、ポリマー材料の安定化のた
め、本発明のホスファイトのみをコート（塗布）しても
よく、あるいは他の慣用の安定剤と組合せてコートして
もよい。本発明により提供されるビス‐ホスファイト安
定剤は通常、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト、
ヒドロキシルアミン、３‐アリールベンゾフラノン、有
機酸の多価塩およびチオエーテルのような他の常用安定
剤と組合せて使用される。また、上述した添加剤のいず
れが存在してもよい。
【００８３】本発明にあっては、ビス‐ホスファイト安
定剤は業界で知られたさまざまな手段のいずれかにより
製造前または製造中のいかなる時点でポリマー材料に配
合してもよい。たとえば、この安定剤は、ロールミルで
ポリマーの溶融物に直接添加してホスファイト化合物を
ポリマー全体に均一に分配することができる。あるいは
また、ビス‐ホスファイト化合物をペレットのような微
細に分割した形態のポリマーとドライブレンドした後、
そのドライミックスをエクストルーダー内でさらに混合
してエクストルーダーから押出すことができる。
定剤は業界で知られたさまざまな手段のいずれかにより
製造前または製造中のいかなる時点でポリマー材料に配
合してもよい。たとえば、この安定剤は、ロールミルで
ポリマーの溶融物に直接添加してホスファイト化合物を
ポリマー全体に均一に分配することができる。あるいは
また、ビス‐ホスファイト化合物をペレットのような微
細に分割した形態のポリマーとドライブレンドした後、
そのドライミックスをエクストルーダー内でさらに混合
してエクストルーダーから押出すことができる。
【００８４】本発明が本明細書に記載したビス‐ホスフ
ァイト化合物ならびにこのビス‐ホスファイト化合物を
含有するポリマー材料およびポリマー材料製の物品を包
含することは明白である。本明細書で引用した特許はす
べて本明細書に含まれているものとする。
ァイト化合物ならびにこのビス‐ホスファイト化合物を
含有するポリマー材料およびポリマー材料製の物品を包
含することは明白である。本明細書で引用した特許はす
べて本明細書に含まれているものとする。
【００８５】
【実施例】以下の実施例により、ポリマー材料用の安定
剤としてのビス‐ホスファイト化合物の有用性を例示す
る。本発明のホスファイトの製造に関して全般的な説明
をするために、以下に、クロロホスファイトとビスホス
ファイトについて製造手順を例示する。他のビスホスフ
ァイトは当業者が余分な実験をすることなく以下の一般
的手順に従って製造することができる。
剤としてのビス‐ホスファイト化合物の有用性を例示す
る。本発明のホスファイトの製造に関して全般的な説明
をするために、以下に、クロロホスファイトとビスホス
ファイトについて製造手順を例示する。他のビスホスフ
ァイトは当業者が余分な実験をすることなく以下の一般
的手順に従って製造することができる。
【００８６】実施例 １．０ ネオペンチルグリコールクロロホスファイトの
合成 還流水凝縮器と添加漏斗を備えた５００mlの三ツ首フラ
スコにネオペンチルグリコール１０４．１５ｇとメチレ
ンクロライド３００mlを入れ、フラスコを氷／塩浴に入
れることによって溶液を約０〜１０℃に冷却した。三塩
化リン１６３．６３ｇを添加漏斗に加え、温度を約１０
℃以下に保ったまま反応フラスコに約６時間かけて滴下
した後放置して、約２時間かけて反応溶液をほぼ室温ま
で暖めた。この混合物をさらに１４時間かけて一晩撹拌
した。メチレンクロライドを留去し、生成物を８０℃／
１６mmで真空蒸留して淡黄色の液体を得て純粋な無色ネ
オペンチルグリコールクロロホスファイトを１６０．８
５ｇ回収した（収率９５．４３％）。
合成 還流水凝縮器と添加漏斗を備えた５００mlの三ツ首フラ
スコにネオペンチルグリコール１０４．１５ｇとメチレ
ンクロライド３００mlを入れ、フラスコを氷／塩浴に入
れることによって溶液を約０〜１０℃に冷却した。三塩
化リン１６３．６３ｇを添加漏斗に加え、温度を約１０
℃以下に保ったまま反応フラスコに約６時間かけて滴下
した後放置して、約２時間かけて反応溶液をほぼ室温ま
で暖めた。この混合物をさらに１４時間かけて一晩撹拌
した。メチレンクロライドを留去し、生成物を８０℃／
１６mmで真空蒸留して淡黄色の液体を得て純粋な無色ネ
オペンチルグリコールクロロホスファイトを１６０．８
５ｇ回収した（収率９５．４３％）。
【００８７】１．１ ２，２′‐メチレンビス（４，６
‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニルネオペンチルグリコー
ルホスファイト）（Ｐｈｏｓ−２）の調製 温度プローブ、凝縮器および添加漏斗を備えた５００ml
の三ツ首フラスコに２，２′‐メチレン‐ビス‐（４，
６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェノール）４２．４７ｇと
トリブチルアミン１１１．２６ｇを入れた。反応混合物
を磁気撹拌棒でよく掻き混ぜ、ネオペンチルグリコール
モノクロロホスファイト３３．７１ｇを添加漏斗に入
れ、約５分間で反応混合物に加えた。反応フラスコをゆ
っくり約９５〜１０３℃に加熱し、ほぼ４時間維持し
た。反応混合物を約３５℃まで放冷したところ固形物は
生成しなかった。反応混合物にヘプタンを約１００ml加
え、撹拌し、沈殿した塩を濾過して取り、ヘプタンに溶
解したものをストリッピングして乾燥させた。油状残渣
を精製するため約１５０mlのアセトニトリルを加えゆっ
くり加熱して完全に溶解させた。室温に冷却し、得られ
た生成物を焼結ガラス漏斗を通して濾過して白色の生成
物を単離し、乾燥して融点１６６〜１６７．５℃のビス
ホスファイトを５３．００ｇ回収した（収率７６．９３
％）。ヘプタンから白色結晶質小板として結晶化させた
試料は融点が１６６〜１６７．５℃であった。
‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニルネオペンチルグリコー
ルホスファイト）（Ｐｈｏｓ−２）の調製 温度プローブ、凝縮器および添加漏斗を備えた５００ml
の三ツ首フラスコに２，２′‐メチレン‐ビス‐（４，
６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェノール）４２．４７ｇと
トリブチルアミン１１１．２６ｇを入れた。反応混合物
を磁気撹拌棒でよく掻き混ぜ、ネオペンチルグリコール
モノクロロホスファイト３３．７１ｇを添加漏斗に入
れ、約５分間で反応混合物に加えた。反応フラスコをゆ
っくり約９５〜１０３℃に加熱し、ほぼ４時間維持し
た。反応混合物を約３５℃まで放冷したところ固形物は
生成しなかった。反応混合物にヘプタンを約１００ml加
え、撹拌し、沈殿した塩を濾過して取り、ヘプタンに溶
解したものをストリッピングして乾燥させた。油状残渣
を精製するため約１５０mlのアセトニトリルを加えゆっ
くり加熱して完全に溶解させた。室温に冷却し、得られ
た生成物を焼結ガラス漏斗を通して濾過して白色の生成
物を単離し、乾燥して融点１６６〜１６７．５℃のビス
ホスファイトを５３．００ｇ回収した（収率７６．９３
％）。ヘプタンから白色結晶質小板として結晶化させた
試料は融点が１６６〜１６７．５℃であった。
【００８８】１．２ ２，２′‐ビス（４，６‐ジ‐ｔ
ｅｒｔ‐ブチルフェニルネオペンチルグリコールホスフ
ァイト）（Ｐｈｏｓ−３）の調製 温度プローブ、凝縮器および添加漏斗を備えた５００ml
の三ツ首フラスコに２，２′‐ビス‐（４，６‐ジ‐ｔ
ｅｒｔ‐ブチルフェノール）４１．２７ｇとトリブチル
アミン１１１．００ｇを入れた。反応混合物を磁気撹拌
棒でよく掻き混ぜ、ネオペンチルグリコールクロロホス
ファイト３３．７１ｇを約１０分間で添加漏斗から反応
混合物中に加えた。反応フラスコをゆっくり約９５〜１
００℃に加熱し、ほぼ５時間維持した。反応混合物を約
３５℃まで放冷したところ白色の固体が生成した。反応
混合物にイソプロパノールを約１００ml加え、撹拌し、
焼結ガラス漏斗を通して濾過し、別の約１５０mlのイソ
プロパノールで洗浄した。こうして単離した白色生成物
を７０℃／〜１mmで乾燥させて秤量したところ５３．６
３ｇであり（収率７９．２４％）、融点は１８９〜１９
１℃であった。アセトニトリルから白色結晶質小板とし
て結晶化させた試料は融点が１９０〜１９２℃であっ
た。
ｅｒｔ‐ブチルフェニルネオペンチルグリコールホスフ
ァイト）（Ｐｈｏｓ−３）の調製 温度プローブ、凝縮器および添加漏斗を備えた５００ml
の三ツ首フラスコに２，２′‐ビス‐（４，６‐ジ‐ｔ
ｅｒｔ‐ブチルフェノール）４１．２７ｇとトリブチル
アミン１１１．００ｇを入れた。反応混合物を磁気撹拌
棒でよく掻き混ぜ、ネオペンチルグリコールクロロホス
ファイト３３．７１ｇを約１０分間で添加漏斗から反応
混合物中に加えた。反応フラスコをゆっくり約９５〜１
００℃に加熱し、ほぼ５時間維持した。反応混合物を約
３５℃まで放冷したところ白色の固体が生成した。反応
混合物にイソプロパノールを約１００ml加え、撹拌し、
焼結ガラス漏斗を通して濾過し、別の約１５０mlのイソ
プロパノールで洗浄した。こうして単離した白色生成物
を７０℃／〜１mmで乾燥させて秤量したところ５３．６
３ｇであり（収率７９．２４％）、融点は１８９〜１９
１℃であった。アセトニトリルから白色結晶質小板とし
て結晶化させた試料は融点が１９０〜１９２℃であっ
た。
【００８９】１．３ ２，２′‐エチリデン‐ビス
（４，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニルネオペンチル
グリコールホスファイト）（Ｐｈｏｓ−５）の調製 温度プローブ、凝縮器および添加漏斗を備えた５００ml
の三ツ首フラスコにイソノックス(Isonox)−１２９を４
３．８７ｇとトリブチルアミンを１１１．２０ｇ入れ
た。反応混合物を磁気撹拌棒でよく掻き混ぜ、ネオペン
チルグリコールモノクロロホスファイト３３．７１ｇを
添加漏斗から約５分間で反応混合物に加え、反応フラス
コをゆっくり約１１８〜１２０℃に加熱し、ほぼ６時間
維持した。反応混合物を約３５℃まで放冷したところ白
色の固体が生成した。反応混合物にイソプロパノールを
約１００ml加え、撹拌し、焼結ガラス漏斗を通して濾過
し、別の約１５０mlのイソプロパノールで洗浄した。こ
うして単離した白色生成物を７０℃／〜１mmで乾燥させ
て秤量したところ５７．０ｇであった（収率８１％）。
乾燥した生成物をさらにアセトニトリル約１８００mlか
ら結晶化させて融点が２０８〜２１０．５℃の純粋な生
成物を４２．００ｇ回収した。
（４，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニルネオペンチル
グリコールホスファイト）（Ｐｈｏｓ−５）の調製 温度プローブ、凝縮器および添加漏斗を備えた５００ml
の三ツ首フラスコにイソノックス(Isonox)−１２９を４
３．８７ｇとトリブチルアミンを１１１．２０ｇ入れ
た。反応混合物を磁気撹拌棒でよく掻き混ぜ、ネオペン
チルグリコールモノクロロホスファイト３３．７１ｇを
添加漏斗から約５分間で反応混合物に加え、反応フラス
コをゆっくり約１１８〜１２０℃に加熱し、ほぼ６時間
維持した。反応混合物を約３５℃まで放冷したところ白
色の固体が生成した。反応混合物にイソプロパノールを
約１００ml加え、撹拌し、焼結ガラス漏斗を通して濾過
し、別の約１５０mlのイソプロパノールで洗浄した。こ
うして単離した白色生成物を７０℃／〜１mmで乾燥させ
て秤量したところ５７．０ｇであった（収率８１％）。
乾燥した生成物をさらにアセトニトリル約１８００mlか
ら結晶化させて融点が２０８〜２１０．５℃の純粋な生
成物を４２．００ｇ回収した。
【００９０】２．０ シクロヘキサン‐１，１‐ジメタ
ノールクロロホスファイト誘導体 ネオペンチルグリコールクロロホスファイトの製造に関
して記載した手順に従って、シクロヘキサン‐１，１‐
ジメタノール１０８．６９ｇ、三塩化リン１３０．６９
ｇおよびメチレンクロライド２５０ｇから、１１４〜１
１６℃／３．５mmでの真空蒸留により無色の液体として
シクロヘキサン‐１，１‐ジメタノールクロロホスファ
イト１４６．２９ｇを得た（収率９３．０４％）。
ノールクロロホスファイト誘導体 ネオペンチルグリコールクロロホスファイトの製造に関
して記載した手順に従って、シクロヘキサン‐１，１‐
ジメタノール１０８．６９ｇ、三塩化リン１３０．６９
ｇおよびメチレンクロライド２５０ｇから、１１４〜１
１６℃／３．５mmでの真空蒸留により無色の液体として
シクロヘキサン‐１，１‐ジメタノールクロロホスファ
イト１４６．２９ｇを得た（収率９３．０４％）。
【００９１】２．１ ２，２′‐メチレン‐ビス（４，
６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル‐シクロヘキシル‐
１，１‐ビス‐ヒドロキシメチルホスファイト）（Ｐｈ
ｏｓ−４）の調製 Ｐｈｏｓ−２に関して記載したのとほぼ同様な手順に従
って、２，２′‐メチレン‐ビス（４，６‐ジ‐ｔｅｒ
ｔ‐ブチルフェノール）１８．２６ｇ、トリブチルアミ
ン７９．７ｇおよびシクロヘキサン‐１，１‐ジメチル
アルコールクロロホスファイト１７．９４ｇから、ヘプ
タンで抽出した後アセトニトリル溶媒から結晶化させる
ことにより、融点が１８７〜１８９℃のビスホスファイ
ト生成物を２６．０ｇ得た（収率７８．６４％）。ヘプ
タンから結晶化させた試料は融点が１８８〜１８９℃で
あった。
６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル‐シクロヘキシル‐
１，１‐ビス‐ヒドロキシメチルホスファイト）（Ｐｈ
ｏｓ−４）の調製 Ｐｈｏｓ−２に関して記載したのとほぼ同様な手順に従
って、２，２′‐メチレン‐ビス（４，６‐ジ‐ｔｅｒ
ｔ‐ブチルフェノール）１８．２６ｇ、トリブチルアミ
ン７９．７ｇおよびシクロヘキサン‐１，１‐ジメチル
アルコールクロロホスファイト１７．９４ｇから、ヘプ
タンで抽出した後アセトニトリル溶媒から結晶化させる
ことにより、融点が１８７〜１８９℃のビスホスファイ
ト生成物を２６．０ｇ得た（収率７８．６４％）。ヘプ
タンから結晶化させた試料は融点が１８８〜１８９℃で
あった。
【００９２】３．０ ２‐ブチル‐２‐エチル‐１，３
‐プロパンジオールクロロホスファイト ネオペンチルグリコールクロロホスファイトの製造に関
して記載した手順に従って、２‐ブチル‐２‐エチル‐
１，３‐プロパンジオール２６０．７８ｇ、三塩化リン
２２３．４７ｇおよびヘプタン５００ｇから、１３９〜
１４０℃／１６mmでの真空蒸留により無色の液体として
２‐ブチル‐２‐エチル‐１，３‐プロパンジオールク
ロロホスファイト３８６．９４ｇを得た（収率９４．４
８％）。
‐プロパンジオールクロロホスファイト ネオペンチルグリコールクロロホスファイトの製造に関
して記載した手順に従って、２‐ブチル‐２‐エチル‐
１，３‐プロパンジオール２６０．７８ｇ、三塩化リン
２２３．４７ｇおよびヘプタン５００ｇから、１３９〜
１４０℃／１６mmでの真空蒸留により無色の液体として
２‐ブチル‐２‐エチル‐１，３‐プロパンジオールク
ロロホスファイト３８６．９４ｇを得た（収率９４．４
８％）。
【００９３】３．１ ２，２′‐エチリデン‐ビス
（４，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル‐２‐ブチル
‐２‐エチル‐１，３‐プロパンジオールホスファイ
ト）（Ｐｈｏｓ−６）の調製 化合物Ｐｈｏｓ−２に関して上記したのとほぼ同様な手
順に従って、イソノックス(Isonox)−１２９を４３．８
７ｇ、トリブチルアミンを１１０ｇおよび２‐エチル‐
２‐ブチル‐１，３‐プロパンジオールクロロホスファ
イトを４４．９３ｇ使用して反応を実施した。約２００
mlのヘプタン／トルエンを反応混合物に加え、焼結漏斗
により濾過した。回転蒸発器を用いてヘプタン／トルエ
ンを除去して、可能な２つの異性体から成る白色物質を
５９．００ｇ単離した（７２．３％）。この物質を熱ヘ
プタンに再溶解し、ヘプタン／イソオクタン溶媒で結晶
化して、乾燥により融点１５７〜１６３℃の白色生成物
を３６．０ｇ単離した。ヘプタン／イソオクタン可溶分
を回転蒸発させ、熱アセトニトリルに再溶解し、結晶化
させた。生成した結晶を単離したところ融点が１０８〜
１２０℃の白色の固体が１６．００ｇ得られた。
（４，６‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル‐２‐ブチル
‐２‐エチル‐１，３‐プロパンジオールホスファイ
ト）（Ｐｈｏｓ−６）の調製 化合物Ｐｈｏｓ−２に関して上記したのとほぼ同様な手
順に従って、イソノックス(Isonox)−１２９を４３．８
７ｇ、トリブチルアミンを１１０ｇおよび２‐エチル‐
２‐ブチル‐１，３‐プロパンジオールクロロホスファ
イトを４４．９３ｇ使用して反応を実施した。約２００
mlのヘプタン／トルエンを反応混合物に加え、焼結漏斗
により濾過した。回転蒸発器を用いてヘプタン／トルエ
ンを除去して、可能な２つの異性体から成る白色物質を
５９．００ｇ単離した（７２．３％）。この物質を熱ヘ
プタンに再溶解し、ヘプタン／イソオクタン溶媒で結晶
化して、乾燥により融点１５７〜１６３℃の白色生成物
を３６．０ｇ単離した。ヘプタン／イソオクタン可溶分
を回転蒸発させ、熱アセトニトリルに再溶解し、結晶化
させた。生成した結晶を単離したところ融点が１０８〜
１２０℃の白色の固体が１６．００ｇ得られた。
【００９４】本発明のビスホスファイトを含有する組成
物で得られる予想外の有利な特性の一部をさらに立証す
るために、業界で公知の方法によってさまざまな組成物
を調製した。「ＰＰ」は、モンテル社(Montel Co.)から
入手できるグレードプロファックス(Profax)６５０１の
ポリプロピレン樹脂である。
物で得られる予想外の有利な特性の一部をさらに立証す
るために、業界で公知の方法によってさまざまな組成物
を調製した。「ＰＰ」は、モンテル社(Montel Co.)から
入手できるグレードプロファックス(Profax)６５０１の
ポリプロピレン樹脂である。
【００９５】「フェノール」は、チバ‐ガイギ(Ciba-Ge
igy)からイルガノックス(IRGANOX)１０１０という商標
で市販されている立体障害ヒンダードフェノールであ
る。「ＣａＳｔ」は、ステアリン酸カルシウムである。
「Ｐｈｏｓ−１」は、ジー・イー・スペシャルティー・
ケミカルズ(GE Specialty Chemicals)からウルトラノッ
クス(ULTRANOX)６４１という商標で市販されており、次
式で表される。
igy)からイルガノックス(IRGANOX)１０１０という商標
で市販されている立体障害ヒンダードフェノールであ
る。「ＣａＳｔ」は、ステアリン酸カルシウムである。
「Ｐｈｏｓ−１」は、ジー・イー・スペシャルティー・
ケミカルズ(GE Specialty Chemicals)からウルトラノッ
クス(ULTRANOX)６４１という商標で市販されており、次
式で表される。
【００９６】
【化２８】
【００９７】「Ｐｈｏｓ−２」は、次式で表される。
【００９８】
【化２９】
【００９９】「Ｐｈｏｓ−３」は、次式で表される。
【０１００】
【化３０】
【０１０１】「Ｐｈｏｓ−４」は、次式で表される。
【０１０２】
【化３１】
【０１０３】「Ｐｈｏｓ−５」は、次式で表される。
【０１０４】
【化３２】
【０１０５】「Ｐｈｏｓ−６」は、次式で表される。
【０１０６】
【化３３】
【０１０７】「Ｐｈｏｓ−７」は、次式で表される。
【０１０８】
【化３４】
【０１０９】「Ｐｈｏｓ−８」は、次式で表される。
【０１１０】
【化３５】
【０１１１】ポリプロピレンで作成した組成物の代表的
な特性を表１に示す。重量はポリプロピレン樹脂の重量
を基にした重量部である。基本の調合物は安定化されて
ないポリプロピレン１００部である。供試ホスファイト
安定剤は、タービュラブレンダー(Turbula Blender) を
用いて３０分樹脂とブレンド／混合した。こうして安定
化された樹脂調合物を１００rpm で直径１インチの単軸
キリオン(Killion) ブランドエクストルーダーから５０
０°Ｆ（２６０℃）で押し出した。
な特性を表１に示す。重量はポリプロピレン樹脂の重量
を基にした重量部である。基本の調合物は安定化されて
ないポリプロピレン１００部である。供試ホスファイト
安定剤は、タービュラブレンダー(Turbula Blender) を
用いて３０分樹脂とブレンド／混合した。こうして安定
化された樹脂調合物を１００rpm で直径１インチの単軸
キリオン(Killion) ブランドエクストルーダーから５０
０°Ｆ（２６０℃）で押し出した。
【０１１２】初回、三回および五回目の各押出しの後、
樹脂ペレットを３７０°Ｆ（１８８℃）で圧縮成形して
厚さ１２５ミル（３．２mm）のプラックとし、試験片の
黄色度指数（ＹＩ）を決定した。低いＹＩ値は黄変が少
ないことを示す。また、初回、三回および五回目の押出
し後のペレットのメルトフローレート（ｇ／１０分）を
測定した（ＡＳＴＭ−Ｄ−１２３８）。五回目の押出し
後のメルトフローレートが初回の押出し後のメルトフロ
ーレートに近ければ近い程、ポリプロピレンに対する加
工安定化が優れていることを示す。
樹脂ペレットを３７０°Ｆ（１８８℃）で圧縮成形して
厚さ１２５ミル（３．２mm）のプラックとし、試験片の
黄色度指数（ＹＩ）を決定した。低いＹＩ値は黄変が少
ないことを示す。また、初回、三回および五回目の押出
し後のペレットのメルトフローレート（ｇ／１０分）を
測定した（ＡＳＴＭ−Ｄ−１２３８）。五回目の押出し
後のメルトフローレートが初回の押出し後のメルトフロ
ーレートに近ければ近い程、ポリプロピレンに対する加
工安定化が優れていることを示す。
【０１１３】 表 １ 試料 １ ２ ３ ４ ５ ６ フェノール ８００ ８００ ８００ ８００ ８００ ８００ ＣａＳｔ ８００ ８００ ８００ ８００ ８００ ８００ Ｐｈｏｓ−１ ０ ８００ ０ ０ ０ ０ Ｐｈｏｓ−２ ０ ０ ８００ ０ ０ ０ Ｐｈｏｓ−３ ０ ０ ０ ８００ ０ ０ Ｐｈｏｓ−４ ０ ０ ０ ０ ８００ ０ Ｐｈｏｓ−５ ０ ０ ０ ０ ０ ８００ ＭＦＲ １ 4.76 3.60 3.85 3.83 3.94 4.10 ３ 5.59 3.62 4.06 3.86 3.89 4.08 ５ 6.09 3.65 4.24 3.88 3.81 4.04 色、ＹＩ １ 5.87 4.27 4.03 3.76 4.96 4.26 ３ 9.92 4.87 4.31 4.07 4.74 4.21 ５ 14.63 4.63 4.85 4.92 5.06 5.19 これらのデータから分かるように、本発明のホスファイ
ト（すなわちＰｈｏｓ−２〜５）で調製した組成物は、
押出しを繰返した後でもメルトフローレート（ＭＦＲ）
のシフトが非常に小さいことで示されているように分子
量の維持が顕著に良好である。本発明のホスファイトの
添加によって優れた保色性も保たれている。Ｐｈｏｓ−
１は従来技術の中で現在市販されている最高のホスファ
イトであるウルトラノックス(ULTRANOX)６４１を示して
いる。これらのデータは、予想外にも、本発明のホスフ
ァイトで得られる特性がウルトラノックス(ULTRANOX)６
４１に近いことを示している。
ト（すなわちＰｈｏｓ−２〜５）で調製した組成物は、
押出しを繰返した後でもメルトフローレート（ＭＦＲ）
のシフトが非常に小さいことで示されているように分子
量の維持が顕著に良好である。本発明のホスファイトの
添加によって優れた保色性も保たれている。Ｐｈｏｓ−
１は従来技術の中で現在市販されている最高のホスファ
イトであるウルトラノックス(ULTRANOX)６４１を示して
いる。これらのデータは、予想外にも、本発明のホスフ
ァイトで得られる特性がウルトラノックス(ULTRANOX)６
４１に近いことを示している。
【０１１４】熱安定性をさらによく理解するために、例
示的ないくつかのホスファイトを熱重量分析（ＴＧＡ）
によって分析した。これらの研究の結果を表２に示す。 表 ２ ブチル化されたフェノールをベースとするビスホスファイトのＴＧＡ （加熱速度２０℃／分、室温から５００℃まで、窒素中） 化合物 重量損失（％） ２％ ５％ １０％ 温度（℃） Ｐｈｏｓ−２ ２２９ ２５７ ２７７ Ｐｈｏｓ−３ ２２６ ２４７ ２６４ Ｐｈｏｓ−４ ２９５ ３１６ ３３４ Ｐｈｏｓ−５ ２３５ ２６０ ２７８ 表２のデータから分かるように、本発明のホスファイト
は熱安定性に優れている。温度が高い程、ホスファイト
の揮発性は低く、全体的な熱安定性はより大きい。
示的ないくつかのホスファイトを熱重量分析（ＴＧＡ）
によって分析した。これらの研究の結果を表２に示す。 表 ２ ブチル化されたフェノールをベースとするビスホスファイトのＴＧＡ （加熱速度２０℃／分、室温から５００℃まで、窒素中） 化合物 重量損失（％） ２％ ５％ １０％ 温度（℃） Ｐｈｏｓ−２ ２２９ ２５７ ２７７ Ｐｈｏｓ−３ ２２６ ２４７ ２６４ Ｐｈｏｓ−４ ２９５ ３１６ ３３４ Ｐｈｏｓ−５ ２３５ ２６０ ２７８ 表２のデータから分かるように、本発明のホスファイト
は熱安定性に優れている。温度が高い程、ホスファイト
の揮発性は低く、全体的な熱安定性はより大きい。
【０１１５】本発明の例示的ないくつかのホスファイト
の加水分解安定性をさまざまな温度・相対湿度の下で測
定した。結果をまとめて表３に示す。 表 ３ 加水分解安定性の研究 化合物 ＲＴ／ＲＨ〜８０％ ３０℃／ＲＨ〜７０％ Ｐｈｏｓ−２ １，３４４ｈ ５５１ｈ Ｐｈｏｓ−３ ２，０００ｈ ７３５ｈ Ｐｈｏｓ−４ ７４４ｈ ２７１ｈ Ｐｈｏｓ−５ ２，０００ｈ ９２９ｈ Ｐｈｏｓ−６ 測定せず １８６ｈ 重量が１％増大する時間を時間単位で記録した。化合物
Ｐｈｏｓ−２、Ｐｈｏｓ−３およびＰｈｏｓ−５がアミ
ンの添加なしでもこのように高い安定性をもっているこ
とは予想外であった。
の加水分解安定性をさまざまな温度・相対湿度の下で測
定した。結果をまとめて表３に示す。 表 ３ 加水分解安定性の研究 化合物 ＲＴ／ＲＨ〜８０％ ３０℃／ＲＨ〜７０％ Ｐｈｏｓ−２ １，３４４ｈ ５５１ｈ Ｐｈｏｓ−３ ２，０００ｈ ７３５ｈ Ｐｈｏｓ−４ ７４４ｈ ２７１ｈ Ｐｈｏｓ−５ ２，０００ｈ ９２９ｈ Ｐｈｏｓ−６ 測定せず １８６ｈ 重量が１％増大する時間を時間単位で記録した。化合物
Ｐｈｏｓ−２、Ｐｈｏｓ−３およびＰｈｏｓ−５がアミ
ンの添加なしでもこのように高い安定性をもっているこ
とは予想外であった。
【０１１６】本発明のホスファイトのいくつかの融点を
本発明の範囲外の他のいくつかのホスファイトの融点と
比較した。データを表４に示す。 表 ４ ホスファイト 融点（℃） Ｐｈｏ−３ １９０〜１９２ Ｐｈｏ−５ ２０８〜２１０．５ Ｐｈｏ−７ ２１２〜２１４ Ｐｈｏ−８ ＞２９０ Ｐｈｏｓ−３とＰｈｏｓ−５はビス‐芳香環の２，２′
位が置換されており、一方Ｐｈｏｓ−７とＰｈｏｓ−８
は４，４′位が置換されている。また、Ｐｈｏｓ−３の
構造はほぼＰｈｏｓ−８の構造に対応しており、分子量
も類似である。同様に、Ｐｈｏｓ−５の構造はほぼＰｈ
ｏｓ−７の構造に対応している。これらのデータから分
かるように、予想外なことに、２，２′位を置換する
と、４，４′位の類似の置換で得られる融点よりも低い
融点が得られる。融点が低めであるということは、多く
の熱可塑性樹脂に対する分散がより良好となるので望ま
しい。この点、約２１０℃以下の融点を有するホスファ
イトは特に有用であり望ましい。したがって、本発明の
ホスファイトは、所望の範囲内の融点をもち加水分解安
定性に優れたホスファイトに対する以前からのニーズを
満たすものである。
本発明の範囲外の他のいくつかのホスファイトの融点と
比較した。データを表４に示す。 表 ４ ホスファイト 融点（℃） Ｐｈｏ−３ １９０〜１９２ Ｐｈｏ−５ ２０８〜２１０．５ Ｐｈｏ−７ ２１２〜２１４ Ｐｈｏ−８ ＞２９０ Ｐｈｏｓ−３とＰｈｏｓ−５はビス‐芳香環の２，２′
位が置換されており、一方Ｐｈｏｓ−７とＰｈｏｓ−８
は４，４′位が置換されている。また、Ｐｈｏｓ−３の
構造はほぼＰｈｏｓ−８の構造に対応しており、分子量
も類似である。同様に、Ｐｈｏｓ−５の構造はほぼＰｈ
ｏｓ−７の構造に対応している。これらのデータから分
かるように、予想外なことに、２，２′位を置換する
と、４，４′位の類似の置換で得られる融点よりも低い
融点が得られる。融点が低めであるということは、多く
の熱可塑性樹脂に対する分散がより良好となるので望ま
しい。この点、約２１０℃以下の融点を有するホスファ
イトは特に有用であり望ましい。したがって、本発明の
ホスファイトは、所望の範囲内の融点をもち加水分解安
定性に優れたホスファイトに対する以前からのニーズを
満たすものである。
【０１１７】現状での好ましい態様に関して本発明を説
明して来たが、本明細書の開示内容は限定的なものと考
えるべきでないものと理解されたい。本明細書の開示内
容を参照すれば当業者にはさまざまな変更や修正が明ら
かとなることは疑いない。したがって、請求の範囲は、
本発明の思想と範囲から逸脱することのない変更や修正
を含むものと理解されたい。
明して来たが、本明細書の開示内容は限定的なものと考
えるべきでないものと理解されたい。本明細書の開示内
容を参照すれば当業者にはさまざまな変更や修正が明ら
かとなることは疑いない。したがって、請求の範囲は、
本発明の思想と範囲から逸脱することのない変更や修正
を含むものと理解されたい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 バイクンス・シッタラム・プラブフ アメリカ合衆国、ウェスト・バージニア 州、モーガンタウン、ブレットワルド・ド ライブ、1027番 (72)発明者 カルロス・エル・グレイ アメリカ合衆国、オハイオ州、ベルプレ、 ポスト・オフィス・ボックス・843、ルー ブル・アヴェニュー、754番 (72)発明者 ウィリアム・パーマー・エンロウ アメリカ合衆国、オハイオ州、ベルプレ、 ルート・２、ボックス・11
Claims (12)
- 【請求項１】 式 【化１】 ［式中、Ｒ1 およびＲ2 は各々がそれぞれ独立して、水
素、炭素原子１〜約１７個のアルキル基の中から選択さ
れるか、または、Ｒ1 およびＲ2 は結合して、５員、６
員もしくは７員のシクロアルキル環または置換されてい
る５員、６員もしくは７員のシクロアルキル環を形成
し、Ｒ3 は炭素原子１〜約１２個のアルキリデン基また
は炭素‐炭素直接結合である］を有する化合物。 - 【請求項２】 Ｒ1 およびＲ2 が各々独立してメチル、
エチルであるか、または、Ｒ1 およびＲ2 が結合して、
５員、６員もしくは７員のシクロアルキル環または置換
されている５員、６員もしくは７員のシクロアルキル環
を形成しており、Ｒ3 が炭素‐炭素結合、メチレン基、
エチレン基、１，１‐エチル基またはイソプロピレン基
である、請求項１記載の化合物。 - 【請求項３】 【化２】 【化３】 【化４】 および 【化５】 より成る群の中から選択される、請求項１記載の化合
物。 - 【請求項４】 （ａ）熱、放射線、または熱と放射線の
組合せに曝露された際に劣化し得るポリマー材料、なら
びに （ｂ）前記ポリマー材料が熱、放射線、または熱と放射
線の組合せに曝露された際の劣化を低減するのに有効な
量の、式 【化６】 ［式中、Ｒ1 およびＲ2 は各々がそれぞれ独立して、水
素、炭素原子１〜約１７個のアルキル基の中から選択さ
れるか、または、Ｒ1 およびＲ2 は結合して、５員、６
員もしくは７員のシクロアルキル環または置換されてい
る５員、６員もしくは７員のシクロアルキル環を形成
し、Ｒ3 は炭素原子１〜約１２個のアルキリデン基また
は炭素‐炭素直接結合である］を有する化合物を含む安
定化された組成物。 - 【請求項５】 Ｒ1 およびＲ2 が各々独立してメチル、
エチルであるか、または、Ｒ1 およびＲ2 が結合して、
５員、６員もしくは７員のシクロアルキル環または置換
されている５員、６員もしくは７員のシクロアルキル環
を形成しており、Ｒ3 が炭素‐炭素結合、メチレン基、
エチレン基、１，１‐エチル基またはイソプロピレン基
である、請求項４記載の安定化された組成物。 - 【請求項６】 化合物が、 【化７】 【化８】 【化９】 および 【化１０】 より成る群の中から選択される、請求項４記載の安定化
された組成物。 - 【請求項７】 化合物がポリマー材料の重量に対して約
０．０１〜約０．５重量％存在する、請求項４記載の安
定化された組成物。 - 【請求項８】 ポリマー材料がα‐オレフィンのホモポ
リマーまたはコポリマーである、請求項４記載の安定化
された組成物。 - 【請求項９】 ポリマー材料がポリプロピレンである、
請求項８記載の安定化された組成物。 - 【請求項１０】 さらに、フェノール系酸化防止剤、Ｕ
Ｖ吸収剤、光安定剤、金属失活剤、過酸化物捕捉剤、他
のホスファイト、ホスホナイト、チオ相乗剤、ヒドロキ
シルアミン、第三級アミンオキシド、中和剤、ハイドロ
タルサイト、３‐アリールベンゾフラノン、核剤、透明
化剤、充填材、強化剤、可塑剤、滑剤、顔料、防炎剤、
帯電防止剤、発泡剤、およびアミン化合物より成る群の
少なくともひとつを含む、請求項４記載の安定化された
組成物。 - 【請求項１１】 （ａ）熱、放射線、または熱と放射線
の組合せに曝露された際に劣化し得るポリマー材料、
（ｂ）前記ポリマー材料が熱、放射線、または熱と放射
線の組合せに曝露された際の劣化を低減するのに有効な
量の、式 【化１１】 ［式中、Ｒ1 およびＲ2 は各々がそれぞれ独立して、水
素、炭素原子１〜約１７個のアルキル基の中から選択さ
れるか、または、Ｒ1 およびＲ2 は結合して、５員、６
員もしくは７員のシクロアルキル環または置換されてい
る５員、６員もしくは７員のシクロアルキル環を形成
し、Ｒ3 は炭素原子１〜約１２個のアルキリデン基また
は炭素‐炭素直接結合である］を有する化合物（ｃ）ヒ
ンダードフェノール系化合物、ならびに（ｄ）ステアリ
ン酸カルシウムを含む安定化された組成物。 - 【請求項１２】 ポリマー材料がポリプロピレンであ
る、請求項４記載の安定化された組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US3620698A | 1998-03-06 | 1998-03-06 | |
| US09/036206 | 1998-03-06 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11335383A true JPH11335383A (ja) | 1999-12-07 |
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ID=21887262
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05669999A Expired - Fee Related JP4245719B2 (ja) | 1998-03-06 | 1999-03-04 | 環状ビス‐ホスファイトおよび組成物 |
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| Country | Link |
|---|---|
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| CN115246767A (zh) * | 2021-04-26 | 2022-10-28 | 惠州凯特立斯科技有限公司 | 一种大位阻螺环二酚及其双亚膦酸酯化合物的合成方法 |
| CN114644656B (zh) * | 2022-02-25 | 2023-11-24 | 江苏恒力化纤股份有限公司 | 一种环状磷硼阻燃剂及阻燃抑烟聚酯薄膜的制备方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| US4956406A (en) * | 1989-08-03 | 1990-09-11 | Eastman Kodak Company | Bis-cyclic phosphite compounds and polymeric materials stabilized therewith |
| DE4026406A1 (de) * | 1990-08-21 | 1992-02-27 | Basf Ag | Rhodiumhydroformylierungskatalysatoren mit bis-phosphit-liganden |
| US5523448A (en) * | 1993-07-22 | 1996-06-04 | General Electric Company | Diphosphites |
| US5594053A (en) * | 1996-01-22 | 1997-01-14 | General Electric Company | Aromatic cyclic bisphosphite esters and polymeric compositions thereof |
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- 1999-03-03 DE DE69913220T patent/DE69913220T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-03-03 EP EP99301608A patent/EP0940407B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-03-03 ES ES99301608T patent/ES2212466T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-03-04 JP JP05669999A patent/JP4245719B2/ja not_active Expired - Fee Related
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