JPH11337345A - 振動するマイクロジャイロメータ - Google Patents
振動するマイクロジャイロメータInfo
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- JPH11337345A JPH11337345A JP10330254A JP33025498A JPH11337345A JP H11337345 A JPH11337345 A JP H11337345A JP 10330254 A JP10330254 A JP 10330254A JP 33025498 A JP33025498 A JP 33025498A JP H11337345 A JPH11337345 A JP H11337345A
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- microgyrometer
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- seismic mass
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- forming
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C19/00—Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
- G01C19/56—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
- G01C19/5719—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using planar vibrating masses driven in a translation vibration along an axis
- G01C19/5733—Structural details or topology
- G01C19/5755—Structural details or topology the devices having a single sensing mass
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01P—MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
- G01P15/00—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
- G01P15/02—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
- G01P15/08—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
- G01P2015/0805—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration
- G01P2015/0808—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining in-plane movement of the mass, i.e. movement of the mass in the plane of the substrate
- G01P2015/0811—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining in-plane movement of the mass, i.e. movement of the mass in the plane of the substrate for one single degree of freedom of movement of the mass
- G01P2015/0814—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining in-plane movement of the mass, i.e. movement of the mass in the plane of the substrate for one single degree of freedom of movement of the mass for translational movement of the mass, e.g. shuttle type
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 瞬間的な振動状態に対応でき、従来のジャイ
ロメータよりも低精度レベルで且つ低コストである機械
的ジャイロメータを提供する。 【解決手段】 基板表面上に位置付けられ、互いに直交
し且つ該マイクロジャイロメータの測定軸線に直交する
2つの方向に、該基板に相対して移動する地震質量体を
有効にするように配列された弾性手段と、該振動するマ
イクロジャイロメータに対する地震質量体の励振手段
と、該地震質量体で及ぼされるコリオリの力の検出手段
とによって該表面に取り付けられた地震質量体を有する
振動するマイクロジャイロメータにおいて、励振手段
は、互いに直交する2つの方向に地震質量体を励振する
ことが可能であり、検出手段は、互いに直交する2つの
方向にコリオリの力の成分を検出することが可能となる
ものである。
ロメータよりも低精度レベルで且つ低コストである機械
的ジャイロメータを提供する。 【解決手段】 基板表面上に位置付けられ、互いに直交
し且つ該マイクロジャイロメータの測定軸線に直交する
2つの方向に、該基板に相対して移動する地震質量体を
有効にするように配列された弾性手段と、該振動するマ
イクロジャイロメータに対する地震質量体の励振手段
と、該地震質量体で及ぼされるコリオリの力の検出手段
とによって該表面に取り付けられた地震質量体を有する
振動するマイクロジャイロメータにおいて、励振手段
は、互いに直交する2つの方向に地震質量体を励振する
ことが可能であり、検出手段は、互いに直交する2つの
方向にコリオリの力の成分を検出することが可能となる
ものである。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、振動するマイクロ
ジャイロメータに関し、より詳細にはシリコン上にマイ
クロ機械加工されたマイクロジャイロメータに関する。
ジャイロメータに関し、より詳細にはシリコン上にマイ
クロ機械加工されたマイクロジャイロメータに関する。
【0002】
【従来の技術】現在、クオーツ及びシリコンの加速時計
は、センサ及びアクチュエータとして商用で入手でき
る。マイクロメータ構造が、結果として低コストで且つ
小寸法にする既存の要求に適合するように表されてい
る。しかしながら、このような慣性センサは航法には不
十分であり、任意の特性の移動対象の角速度又は速度
で、情報を測定し又は得るための小さいセンサを開発す
ることが、現在のところ必要である。これらセンサは、
ジャイロメータとして公知である。
は、センサ及びアクチュエータとして商用で入手でき
る。マイクロメータ構造が、結果として低コストで且つ
小寸法にする既存の要求に適合するように表されてい
る。しかしながら、このような慣性センサは航法には不
十分であり、任意の特性の移動対象の角速度又は速度
で、情報を測定し又は得るための小さいセンサを開発す
ることが、現在のところ必要である。これらセンサは、
ジャイロメータとして公知である。
【0003】回転速度情報について、ジャイロスコープ
は、ジンバル組立体につるされたスピニングホイールの
運動モーメントを維持する原理に基づいて公知であり、
その高精度にしばし驚かされるが、結果として非常に高
コストとなるジャイロスコープは、所望の多くの用途に
それらの統合を可能としない。
は、ジンバル組立体につるされたスピニングホイールの
運動モーメントを維持する原理に基づいて公知であり、
その高精度にしばし驚かされるが、結果として非常に高
コストとなるジャイロスコープは、所望の多くの用途に
それらの統合を可能としない。
【0004】ジャイロレーザとして公知の他のジャイロ
スコープもまた、既存である。それらは、コヒーレント
光学特性を用いており、不動機械部品である。
スコープもまた、既存である。それらは、コヒーレント
光学特性を用いており、不動機械部品である。
【0005】しかしながら、前述のジャイロメータより
も低精度レベルで且つ低コストである機械的ジャイロメ
ータが要求される。これら条件は、振動するジャイロメ
ータによって十分満足される。
も低精度レベルで且つ低コストである機械的ジャイロメ
ータが要求される。これら条件は、振動するジャイロメ
ータによって十分満足される。
【0006】これら動作の原理は、以下のコリオリの力
である、ガリレイ参考システム(少なくとも実験中に固
定されたように考慮され得る参考システム)に関連する
移動フレームに結合された固体の加速度の成分に起因す
る。この原理は、シリコン又はクオーツのマイクロ構造
に十分に適しており、それらのインプリメンテーション
に用いられた技術は、マイクロ加速度計を製造するため
に用いられたものと同様にできる。多くのジャイロメー
タは、この原理、及びしばしば用いられる検出タイプに
依存して用いられる。
である、ガリレイ参考システム(少なくとも実験中に固
定されたように考慮され得る参考システム)に関連する
移動フレームに結合された固体の加速度の成分に起因す
る。この原理は、シリコン又はクオーツのマイクロ構造
に十分に適しており、それらのインプリメンテーション
に用いられた技術は、マイクロ加速度計を製造するため
に用いられたものと同様にできる。多くのジャイロメー
タは、この原理、及びしばしば用いられる検出タイプに
依存して用いられる。
【0007】どのような幾何学であっても、これら計器
は、互いにであるが、測定すべき角速度の回転軸線に対
して、即ち情報が要求されるものに対して、直交する2
つの自由度を有する機械的オシレータである。これら2
つの自由度は、同一性質周波数又は同一共振周波数にさ
らされなければならず、重要な制約を構成する。
は、互いにであるが、測定すべき角速度の回転軸線に対
して、即ち情報が要求されるものに対して、直交する2
つの自由度を有する機械的オシレータである。これら2
つの自由度は、同一性質周波数又は同一共振周波数にさ
らされなければならず、重要な制約を構成する。
【0008】これら計器の進展の原理は、以下のコリオ
リの力のベクタ式である。
リの力のベクタ式である。
【0009】
【数1】
【0010】mは弾性動作によって移動対象物につなが
る地震質量体(seismic mass)である。
る地震質量体(seismic mass)である。
【外2】 は、移動対象物の角速度のベクタ表現である。V
relativeは、移動対象物に相対する質量mの速度のベク
タ表現である。
relativeは、移動対象物に相対する質量mの速度のベク
タ表現である。
【0011】力
【外3】 は2つの速度
【外4】 に直交しており、これらが共直線でない場合にのみ存在
することを表している。従って、
することを表している。従って、
【外5】 に比例すべき信号を発生するために、
【外6】 に非共直線の方向につるされた質量体を移動するため
に、及びそれらに起因する信号を、これら2つの速度に
直交する方向で測定するために、十分となる。最良の信
号は、
に、及びそれらに起因する信号を、これら2つの速度に
直交する方向で測定するために、十分となる。最良の信
号は、
【外7】 について得られるであろうことに注目することが重要で
ある。この信号は、出力で測定することが望まれる物理
量に依存する。多くの設計者は、以下の振幅比を用いる
回転速度
ある。この信号は、出力で測定することが望まれる物理
量に依存する。多くの設計者は、以下の振幅比を用いる
回転速度
【外8】 における情報を得るように解決している。
【0012】
【数2】
【0013】Ωは回転速度であり、Qは機械的品質係数
であり、f0 は2つの方向の自然周波数であり、p=f
/f0 は励振周波数/自然周波数比である。
であり、f0 は2つの方向の自然周波数であり、p=f
/f0 は励振周波数/自然周波数比である。
【0014】この振幅比は、2つの自由度を有するオシ
レータの励振に対応しており、それらの一方の自由度
は、外部力によって励振される。最良比は、共振周波数
fr での励振によって得られる。
レータの励振に対応しており、それらの一方の自由度
は、外部力によって励振される。最良比は、共振周波数
fr での励振によって得られる。
【0015】 Aoutput/Ainput =R=(Ω・Q)/(π・fr ) (3)
【0016】この信号の最適化は、品質係数を改善し且
つ共振周波数を最小にするために合計される。
つ共振周波数を最小にするために合計される。
【0017】多数の文献は、前述した方法に基づいた振
動するマイクロジャイロメータを記載している。これら
振動するマイクロジャイロメータは、常に、2つの自由
度を有する構造であり、それらの一方のパスは1つの外
部励振力を用いる一方の速度に制限されており、コリオ
リの力によって励振された他方のパスは、検出に用いら
れる。図1は、従来技術のマイクロ整合によって得られ
た振動するマイクロジャイロメータの平面図である。マ
イクロジャイロメータは、基板1から作られており、該
基板1の上部で且つ平行に配置された移動要素2を有す
る。該移動要素2は、該基板のプレーンに平行なビーム
3によって基板1の上部に維持され、アンカポイントに
よって該基板に接続される。その方向が軸線yに平行で
ある移動要素2及びビーム3が、基板を覆う犠牲層の除
去に続いて得られる。ビーム3は、移動要素の矩形フレ
ーム5の角に取り付けられており、第2のオシレータと
して公知の矩形部分6をそのセンタで支持する。第2の
オシレータは、ビーム7によってフレーム5に接続され
ており、その方向は軸線xに平行である。フレーム5及
び第2のオシレータ6を合体する移動要素2は、従って
軸線x及びyのプレーンに平行で且つ軸線zに垂直なプ
レーンの中にある。
動するマイクロジャイロメータを記載している。これら
振動するマイクロジャイロメータは、常に、2つの自由
度を有する構造であり、それらの一方のパスは1つの外
部励振力を用いる一方の速度に制限されており、コリオ
リの力によって励振された他方のパスは、検出に用いら
れる。図1は、従来技術のマイクロ整合によって得られ
た振動するマイクロジャイロメータの平面図である。マ
イクロジャイロメータは、基板1から作られており、該
基板1の上部で且つ平行に配置された移動要素2を有す
る。該移動要素2は、該基板のプレーンに平行なビーム
3によって基板1の上部に維持され、アンカポイントに
よって該基板に接続される。その方向が軸線yに平行で
ある移動要素2及びビーム3が、基板を覆う犠牲層の除
去に続いて得られる。ビーム3は、移動要素の矩形フレ
ーム5の角に取り付けられており、第2のオシレータと
して公知の矩形部分6をそのセンタで支持する。第2の
オシレータは、ビーム7によってフレーム5に接続され
ており、その方向は軸線xに平行である。フレーム5及
び第2のオシレータ6を合体する移動要素2は、従って
軸線x及びyのプレーンに平行で且つ軸線zに垂直なプ
レーンの中にある。
【0018】マイクロジャイロメータは、インターデジ
タルなトランスデューサの形態で、電極を用いて容量性
励振手段を有しており、基板1は固定された励振電極8
を支持し、一方でフレーム2は移動する励振電極9を支
持する。マイクロジャイロメータはまた、インターデジ
タルなトランスデューサの形態で、電極を通って容量性
検出手段を有する。基板1は、固定された検出電極10
を支持しており、一方で第2のオシレータは、移動する
検出電極11を支持する。
タルなトランスデューサの形態で、電極を用いて容量性
励振手段を有しており、基板1は固定された励振電極8
を支持し、一方でフレーム2は移動する励振電極9を支
持する。マイクロジャイロメータはまた、インターデジ
タルなトランスデューサの形態で、電極を通って容量性
検出手段を有する。基板1は、固定された検出電極10
を支持しており、一方で第2のオシレータは、移動する
検出電極11を支持する。
【0019】図1のマイクロジャイロメータは、2つの
自由度を有するオシレータを構成しており、一方のパス
自由度を有するオシレータを構成しており、一方のパス
【外9】 は、エアギャップ変化によって静電検出(容量測定)に
用いられる。他のパス
用いられる。他のパス
【外10】 は、エアギャップ変化によって静電検出(キャパシタン
ス測定)に用いられる。組立体は、軸線
ス測定)に用いられる。組立体は、軸線
【外11】 に対して回転速度Ωにさらされる。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】このタイプのマイクロ
ジャイロメータは、以下の欠点を有する。それは、小さ
い回転速度に対して非常に弱い信号を供給する。関連式
(3)によって表された比は周波数に反比例し、これが
欠点となる。装置の応答は、瞬間的な振動状態に対して
満足されない。
ジャイロメータは、以下の欠点を有する。それは、小さ
い回転速度に対して非常に弱い信号を供給する。関連式
(3)によって表された比は周波数に反比例し、これが
欠点となる。装置の応答は、瞬間的な振動状態に対して
満足されない。
【0021】これら欠点を取り除くために、本発明は、
以下の検討点に基づいた振動するジャイロメータを提案
する。
以下の検討点に基づいた振動するジャイロメータを提案
する。
【0022】
【課題を解決するための手段】コリオリの力は、ガリレ
イ参考システム(又は実験中のこのような結果として考
慮されて)に対して参考の移動フレームに結合された固
体の加速度の成分に起因する。互いに、及び測定すべき
回転速度の軸に、即ち情報が所望されるところに、直交
する2つの自由度を有するオシレータで相互作用するコ
リオリの力を開始点として用いることにおいて、2つの
自由度によって構成された2つのパスに従って移動する
質量体速度に分け与えることを妨げることなく、相対速
度で2つの成分を与えて合計しており、即ちVx 及びV
y は、軸線
イ参考システム(又は実験中のこのような結果として考
慮されて)に対して参考の移動フレームに結合された固
体の加速度の成分に起因する。互いに、及び測定すべき
回転速度の軸に、即ち情報が所望されるところに、直交
する2つの自由度を有するオシレータで相互作用するコ
リオリの力を開始点として用いることにおいて、2つの
自由度によって構成された2つのパスに従って移動する
質量体速度に分け与えることを妨げることなく、相対速
度で2つの成分を与えて合計しており、即ちVx 及びV
y は、軸線
【外12】 に沿うそれぞれ前記2つの成分である。参考の固定フレ
ームに対する参照の移動フレームが軸線
ームに対する参照の移動フレームが軸線
【外13】 について回転速度Ωを有するように想定される。続い
て、コリオリの力は、パス
て、コリオリの力は、パス
【外14】 に沿ったFx Coriolis=−2・m・Ω・Vy と、パス
【外15】 に沿ったFy Coriolis=2・m・Ω・Vx との2つの成
分を有することになる。それゆえ、パス
分を有することになる。それゆえ、パス
【外16】 に沿った振幅は、それを減少しようとする力によって逆
となり、その一方でパス
となり、その一方でパス
【外17】 は増加される。
【0023】2つのパス
【外18】 の各々が外部で励振されるならば、励振力及び結果とし
て生じる振幅は、パスの各々で測定され(装置は回転速
度にさらされる)、振幅比
て生じる振幅は、パスの各々で測定され(装置は回転速
度にさらされる)、振幅比
【数3】 は、以下の式にもたらされ得る。
【0024】
【数4】
【0025】fはパス
【外19】 の自然周波数及び共振周波数であり、Qは機械的品質係
数であり、Ωは測定すべき回転速度である。
数であり、Ωは測定すべき回転速度である。
【0026】高係数Qを得るために高真空にすることが
必要となる。同じ低回転速度について、本発明によって
提案されたように、2つの励振されたパスを有する動作
に対して検出された信号は、振動するジャイロメータ
を、従来技術で供給されたおよそ2倍の値を有する。加
えて、安定状態形態の発展したオシレータと共に、それ
は、ストレス又は動作(回転速度)に瞬間に応答し、こ
れは特定の利点となる。
必要となる。同じ低回転速度について、本発明によって
提案されたように、2つの励振されたパスを有する動作
に対して検出された信号は、振動するジャイロメータ
を、従来技術で供給されたおよそ2倍の値を有する。加
えて、安定状態形態の発展したオシレータと共に、それ
は、ストレス又は動作(回転速度)に瞬間に応答し、こ
れは特定の利点となる。
【0027】従って、本発明は、振動するマイクロジャ
イロメータに関しており、基板表面上に位置付けられ、
互いに直交し且つ該マイクロジャイロメータの測定軸線
に直交する2つの方向に、該基板に相対して移動する地
震質量体を有効にするように配列された弾性手段と、該
振動するマイクロジャイロメータに対して地震質量体の
励振手段と、該地震質量体で及ぼされるコリオリの力の
検出手段とによって該表面に取り付けられた地震質量体
を有する振動するマイクロジャイロメータにおいて、励
振手段は、互いに直交する2つの方向に地震質量体を励
振することが可能であり、検出手段は、互いに直交する
2つの方向にコリオリの力の成分を検出することが可能
となることを特徴とする。
イロメータに関しており、基板表面上に位置付けられ、
互いに直交し且つ該マイクロジャイロメータの測定軸線
に直交する2つの方向に、該基板に相対して移動する地
震質量体を有効にするように配列された弾性手段と、該
振動するマイクロジャイロメータに対して地震質量体の
励振手段と、該地震質量体で及ぼされるコリオリの力の
検出手段とによって該表面に取り付けられた地震質量体
を有する振動するマイクロジャイロメータにおいて、励
振手段は、互いに直交する2つの方向に地震質量体を励
振することが可能であり、検出手段は、互いに直交する
2つの方向にコリオリの力の成分を検出することが可能
となることを特徴とする。
【0028】有利な点として、励振手段は静電励振手段
であり、検出手段は容量性検出手段である。
であり、検出手段は容量性検出手段である。
【0029】有利な点として、弾性手段は、2つの相互
に直交方向に同一機械硬度を有するように設計されてい
る。
に直交方向に同一機械硬度を有するように設計されてい
る。
【0030】地震質量体及び弾性手段は、基板の前記表
面に平行で且つ該基板の上部に位置付けられたプレート
に作られた凹部によって規定される。また、弾性手段は
可撓ストリップである。
面に平行で且つ該基板の上部に位置付けられたプレート
に作られた凹部によって規定される。また、弾性手段は
可撓ストリップである。
【0031】励振手段は静電励振キャパシタを含むこと
ができ、各キャパシタは、基板の要素をなす電極と、地
震質量体の要素をなす電極を形成する手段とを合体す
る。検出手段は、キャパシタを含むことができ、各キャ
パシタは、基板の要素をなす電極と、地震質量体の要素
をなす電極を形成する手段とを有する。電極を形成する
手段は、導電材料であるならば、地震質量体の材料によ
って作ることができる。基板の要素をなす電極は、基板
が空洞又は凹部内で分散され得る。
ができ、各キャパシタは、基板の要素をなす電極と、地
震質量体の要素をなす電極を形成する手段とを合体す
る。検出手段は、キャパシタを含むことができ、各キャ
パシタは、基板の要素をなす電極と、地震質量体の要素
をなす電極を形成する手段とを有する。電極を形成する
手段は、導電材料であるならば、地震質量体の材料によ
って作ることができる。基板の要素をなす電極は、基板
が空洞又は凹部内で分散され得る。
【0032】有利な点として、静電スクリーンは、基板
の要素をなす各電極が、地震質量体の要素をなす電極を
形成し且つそれに対向する単一手段を有するキャパシタ
を形成するように提供される。
の要素をなす各電極が、地震質量体の要素をなす電極を
形成し且つそれに対向する単一手段を有するキャパシタ
を形成するように提供される。
【0033】地震質量体は、該地震質量体によって占有
された表面の外側に配置されたアンカポイントによって
基板に取り付けられることができる。それはまた、該地
震質量体によって占有された表面のセンタに配置された
アンカポイントによって該基板に取り付けられることも
できる。
された表面の外側に配置されたアンカポイントによって
基板に取り付けられることができる。それはまた、該地
震質量体によって占有された表面のセンタに配置された
アンカポイントによって該基板に取り付けられることも
できる。
【0034】本発明によるマイクロジャイロメータは、
例えばシリコン基板である、半導体基板から製造され得
る。
例えばシリコン基板である、半導体基板から製造され得
る。
【0035】本発明はすぐに理解され、他の効果及び特
徴は、添付された図面を参照して、限定されない模範的
な方法で与えられた以下の説明を読むことによって明確
となる。
徴は、添付された図面を参照して、限定されない模範的
な方法で与えられた以下の説明を読むことによって明確
となる。
【0036】
【発明の実施の形態】本発明によるマイクロジャイロメ
ータの第1の実施形態は、図2において平面図で表され
ている。マイクロジャイロメータは、例えばn型にドー
プされた単結晶質シリコン層でマイクロ機械加工されて
いる。この単結晶質の絶縁層上のシリコン層は、198
6年10月15日のJ.Appl.Phys.,第60
巻(8)に記載されたM.SHIMBOらによる「シリ
コン対シリコンの直接ボンディング方法」の文献を含む
多数の文献に説明されたウェーハボンディングによって
得られる。例えばシリコンプレートの酸化物インプラン
テーションである絶縁層上のシリコン層を得るために、
又は単に犠牲層上の単結晶質又は多結晶質のシリコン層
をデポジットするために、他の方法を用いることが可能
となる。
ータの第1の実施形態は、図2において平面図で表され
ている。マイクロジャイロメータは、例えばn型にドー
プされた単結晶質シリコン層でマイクロ機械加工されて
いる。この単結晶質の絶縁層上のシリコン層は、198
6年10月15日のJ.Appl.Phys.,第60
巻(8)に記載されたM.SHIMBOらによる「シリ
コン対シリコンの直接ボンディング方法」の文献を含む
多数の文献に説明されたウェーハボンディングによって
得られる。例えばシリコンプレートの酸化物インプラン
テーションである絶縁層上のシリコン層を得るために、
又は単に犠牲層上の単結晶質又は多結晶質のシリコン層
をデポジットするために、他の方法を用いることが可能
となる。
【0037】このマイクロジャイロメータは、基板15
の上側表面上につるされた地震質量体16を含んでお
り、2つのアンカポイント20及び30によって該表面
に平行に維持される。アンカポイント20及び30は、
単結晶質シリコン層でエッチされた構造を維持する。支
持基板から単結晶質シリコン層を分離する犠牲層の除去
に続いて、単結晶質シリコン層又はプレートは、図2に
表された構造を与えるようにエッチされる。
の上側表面上につるされた地震質量体16を含んでお
り、2つのアンカポイント20及び30によって該表面
に平行に維持される。アンカポイント20及び30は、
単結晶質シリコン層でエッチされた構造を維持する。支
持基板から単結晶質シリコン層を分離する犠牲層の除去
に続いて、単結晶質シリコン層又はプレートは、図2に
表された構造を与えるようにエッチされる。
【0038】各アンカポイント20及び30は、そのセ
ンタで、ビーム21及び31のそれぞれを支持する。そ
の端の間で、各ビーム21及び31が、スプリング22
及び32それぞれを形成する可撓ストリップに対する。
可撓ストリップ又はスプリング22及び32は、方向
ンタで、ビーム21及び31のそれぞれを支持する。そ
の端の間で、各ビーム21及び31が、スプリング22
及び32それぞれを形成する可撓ストリップに対する。
可撓ストリップ又はスプリング22及び32は、方向
【外20】 に平行となる。可撓ストリップ22は、そのセンタで、
ビーム21に平行なビーム24を、横部分23を用いて
支持する。同じ方法で、可撓ストリップ32は、そのセ
ンタで、ビーム31に平行なビーム34を、横部分33
を用いて支持する。
ビーム21に平行なビーム24を、横部分23を用いて
支持する。同じ方法で、可撓ストリップ32は、そのセ
ンタで、ビーム31に平行なビーム34を、横部分33
を用いて支持する。
【0039】地震質量体16は、4つの可撓ストリッ
プ、即ちビーム24の端に接続されたストリップ25及
び26と、ビーム34の端に接続されたストリップ35
及び36とによって、ビーム24及び34の端で保持さ
れる。これら可撓ストリップ25、26、35及び36
は、方向
プ、即ちビーム24の端に接続されたストリップ25及
び26と、ビーム34の端に接続されたストリップ35
及び36とによって、ビーム24及び34の端で保持さ
れる。これら可撓ストリップ25、26、35及び36
は、方向
【外21】 に平行となる。これら可撓性は、ストリップ22及び3
2が方向
2が方向
【外22】 に可撓である際に、方向
【外23】 に作用を及ぼす。従って、地震質量体16は、基板15
の上側表面に垂直に規定通りの全ての方向に、即ち方向
の上側表面に垂直に規定通りの全ての方向に、即ち方向
【外24】 に規定通りの全ての方向に、配置される。
【0040】これら可撓ストリップによって構成された
弾性移動体は、これらに係合する機械的硬度が、可能と
なる範囲で同一自然周波数を方向
弾性移動体は、これらに係合する機械的硬度が、可能と
なる範囲で同一自然周波数を方向
【外25】 に与えるように設計される。
【0041】この実施形態において、地震質量体16は
十字に形成され、その各ブランチは、一連の曲がった部
分によって、隣接するブランチに接続される。2つの連
続する曲がった部分の間の各空間は、凹部又は空洞を構
成する。
十字に形成され、その各ブランチは、一連の曲がった部
分によって、隣接するブランチに接続される。2つの連
続する曲がった部分の間の各空間は、凹部又は空洞を構
成する。
【0042】基板15の要素は、マイクロジャイロメー
タのエッチング中に取り残される。地震質量体16の周
囲に、分散した第1の励振電極40がある。各電極40
は、ドープされた単結晶質シリコン即ち電気的導電材料
から形成された地震質量体16の対応する部分に対向
し、他のキャパシタ電極を構成する。これら励振キャパ
シタ電極40もまた、方向
タのエッチング中に取り残される。地震質量体16の周
囲に、分散した第1の励振電極40がある。各電極40
は、ドープされた単結晶質シリコン即ち電気的導電材料
から形成された地震質量体16の対応する部分に対向
し、他のキャパシタ電極を構成する。これら励振キャパ
シタ電極40もまた、方向
【外26】 に分散される。
【0043】次に、検出電極として公知の他の電極41
がある。それらは、地震質量体16の凹部内に配置され
る。励振電極40に関して、各電極41は、他のキャパ
シタ電極を形成する地震質量体16を、単結晶質シリコ
ンの対応する部分に対向する。電極41もまた、方向
がある。それらは、地震質量体16の凹部内に配置され
る。励振電極40に関して、各電極41は、他のキャパ
シタ電極を形成する地震質量体16を、単結晶質シリコ
ンの対応する部分に対向する。電極41もまた、方向
【外27】 に従って分散される。それらは、方向
【外28】 に対して回転速度で情報を提供するパス
【外29】 に沿って振幅の全時間で測定のために用いられる。
【0044】電極40及び41は、例えばシリカ層のよ
うな、絶縁層によって基板50から分離される。それら
はドープされた単結晶質シリコンにできる。
うな、絶縁層によって基板50から分離される。それら
はドープされた単結晶質シリコンにできる。
【0045】マイクロジャイロメータもまた、例えば、
単結晶質シリコンの静電スクリーン42を有しており、
基板15によって直接支持される。これら静電スクリー
ン42は、検出電極41の分散の作用として分散され
る。従って、各電極だけが、対向する地震質量体16の
一部分で単一キャパシタを形成する。従って、電極40
及び41の各々は、一方の影響の及ぶ方向だけを有す
る。
単結晶質シリコンの静電スクリーン42を有しており、
基板15によって直接支持される。これら静電スクリー
ン42は、検出電極41の分散の作用として分散され
る。従って、各電極だけが、対向する地震質量体16の
一部分で単一キャパシタを形成する。従って、電極40
及び41の各々は、一方の影響の及ぶ方向だけを有す
る。
【0046】励振電極40は、パス
【外30】 に沿って励振振動を供給することが可能となる。方向電
極41は、アナライザにそれを転送するために、パス
極41は、アナライザにそれを転送するために、パス
【外31】 に沿って信号を補正することが可能となる。そして、マ
イクロジャイロメータに備えられた本体の軸線
イクロジャイロメータに備えられた本体の軸線
【外32】 に対して回転速度の情報を提供する。マイクロジャイロ
メータの振幅ロッキングが所望され、回転速度の作用と
して機械的特徴を修正することは可能ではない。それゆ
え、前記速度の情報は、励振電極に供給された静電電位
の情報によって提供される。
メータの振幅ロッキングが所望され、回転速度の作用と
して機械的特徴を修正することは可能ではない。それゆ
え、前記速度の情報は、励振電極に供給された静電電位
の情報によって提供される。
【0047】本発明によるマイクロジャイロメータの第
2の実施形態が、図3及び図4に説明されており、該図
3は平面図であり、該図4は断面図である。マイクロジ
ャイロメータは、例えばn型にドープされたシリコン基
板50上にマイクロ機械加工される。それは、弾性移動
体53を用いる中央のアンカポイント52によって、基
板50の上側表面上で且つ該表面に平行につるされた地
震質量体51を備えている。第1の実施形態に関して、
振動構造は、基板の上側表面上に予めデポジットされた
犠牲層上にn型にドープされた微小結晶質シリコンをデ
ポジットすることによって得られたプレートにエッチさ
れる。
2の実施形態が、図3及び図4に説明されており、該図
3は平面図であり、該図4は断面図である。マイクロジ
ャイロメータは、例えばn型にドープされたシリコン基
板50上にマイクロ機械加工される。それは、弾性移動
体53を用いる中央のアンカポイント52によって、基
板50の上側表面上で且つ該表面に平行につるされた地
震質量体51を備えている。第1の実施形態に関して、
振動構造は、基板の上側表面上に予めデポジットされた
犠牲層上にn型にドープされた微小結晶質シリコンをデ
ポジットすることによって得られたプレートにエッチさ
れる。
【0048】弾性移動体53は、地震質量体51と同時
にエッチされた弾性ストリップである。それらは、地震
質量体の励振が、軸線
にエッチされた弾性ストリップである。それらは、地震
質量体の励振が、軸線
【外33】 によって規定されたプレーンの全ての方向に一様に起こ
るように分散される。
るように分散される。
【0049】エッチングは、基板50の他の要素、即ち
励振電極54及び検出電極55を残す。これら電極は、
地震質量体に対して交互に分散される。各電極54又は
55は、地震質量体51の対応する部分に対向し、他の
キャパシタ電極を構成する。電極54及び55は、例え
ばシリカ層のような、絶縁層56によって基板50に対
して覆われて動作する。
励振電極54及び検出電極55を残す。これら電極は、
地震質量体に対して交互に分散される。各電極54又は
55は、地震質量体51の対応する部分に対向し、他の
キャパシタ電極を構成する。電極54及び55は、例え
ばシリカ層のような、絶縁層56によって基板50に対
して覆われて動作する。
【0050】前述した他の実施形態に関して、励振電極
55は、パス
55は、パス
【外34】 に沿った励振信号を供給することが可能となる。検出電
極55は、アナライザにそれを転送するために、パス
極55は、アナライザにそれを転送するために、パス
【外35】 に沿った信号を補正することが可能となり、マイクロジ
ャイロメータに備えられた本体の軸線
ャイロメータに備えられた本体の軸線
【外36】 に対する回転速度の情報を提供する。
【0051】本発明によるマイクロジャイロメータにつ
いて、検出された信号は、従来技術によって検出される
およそ2倍である同一低回転速度について、振動するマ
イクロジャイロメータである。更に、オシレータが安定
した状態の形態において発展したように、回転速度によ
って構成されたストレス又は動作に瞬間的に応答するこ
とができる。
いて、検出された信号は、従来技術によって検出される
およそ2倍である同一低回転速度について、振動するマ
イクロジャイロメータである。更に、オシレータが安定
した状態の形態において発展したように、回転速度によ
って構成されたストレス又は動作に瞬間的に応答するこ
とができる。
【0052】本発明の見地は、説明された例えば圧電励
振手段以外の励振の手段の使用を含む。
振手段以外の励振の手段の使用を含む。
【図1】従来技術によるマイクロジャイロメータの平面
図である。
図である。
【図2】本発明によるマイクロジャイロメータの第1の
実施形態の平面図である。
実施形態の平面図である。
【図3】本発明によるマイクロジャイロメータの第2の
実施形態の平面図である。
実施形態の平面図である。
【図4】図3の軸線IV−IVに沿った断面図である。
【符号の説明】 1、15、50 基板 2 移動要素 3、7、21、24、31、34 ビーム 4、20、30、52 アンカポイント 5 矩形フレーム 6 矩形部分 8、9、40、54 励振電極 10、11 検出電極 16、51 地震質量体 22、32 スプリング 23、33 横方向部分 25、26、35、36 ストリップ 41、55 検出電極 42 静電スクリーン 53 弾性移動体 56 絶縁層
Claims (16)
- 【請求項1】 基板表面上に位置付けられ、互いに直交
し且つマイクロジャイロメータの測定軸線に直交する2
つの方向 【外1】 に、該基板に相対して移動する地震質量体を有効にする
ように配列された弾性手段と、振動するマイクロジャイ
ロメータに対する地震質量体の励振手段と、該地震質量
体で及ぼされるコリオリの力の検出手段とによって該表
面に取り付けられた地震質量体を有する振動するマイク
ロジャイロメータにおいて、 前記励振手段は、互いに直交する前記2つの方向に地震
質量体を励振することが可能であり、前記検出手段は、
互いに直交する前記2つの方向に前記コリオリの力の成
分を検出することが可能となることを特徴とするマイク
ロジャイロメータ。 - 【請求項2】 前記励振手段は、静電励振手段であるこ
とを特徴とする請求項1に記載のマイクロジャイロメー
タ。 - 【請求項3】 前記検出手段は、容量性検出手段である
ことを特徴とする請求項1に記載のマイクロジャイロメ
ータ。 - 【請求項4】 前記弾性手段は、前記2つの相互に直交
方向に同一機械硬度を有するように設計されていること
を特徴とする請求項1に記載のマイクロジャイロメー
タ。 - 【請求項5】 前記地震質量体及び弾性手段は、前記基
板の前記表面に平行で且つ該基板の上部に位置付けられ
たプレートに作られた凹部によって規定されることを特
徴とする請求項1に記載のマイクロジャイロメータ。 - 【請求項6】 前記弾性手段は、可撓手段であることを
特徴とする請求項5に記載のマイクロジャイロメータ。 - 【請求項7】 前記励振手段は、静電励振キャパシタを
含んでおり、各キャパシタは、前記基板の要素をなす電
極と、前記地震質量体の要素をなす電極を形成する手段
とを有することを特徴とする請求項5に記載のマイクロ
ジャイロメータ。 - 【請求項8】 前記電極を形成する手段は、導電材料で
ある前記地震質量体の材料によって作られていることを
特徴とする請求項7に記載のマイクロジャイロメータ。 - 【請求項9】 前記基板の要素をなす前記電極は、前記
凹部内で分散されていることを特徴とする請求項7に記
載のマイクロジャイロメータ。 - 【請求項10】 前記検出手段はキャパシタを含んでお
り、各キャパシタは、前記基板の要素をなす電極と、前
記地震質量体の要素をなす電極を形成する手段とを含む
ことを特徴とする請求項5に記載のマイクロジャイロメ
ータ。 - 【請求項11】 前記電極を形成する手段は、導電材料
である前記地震質量体の材料によって作られていること
を特徴とする請求項10に記載のマイクロジャイロメー
タ。 - 【請求項12】 前記基板の要素をなす前記電極は、前
記凹部内で分散されていることを特徴とする請求項10
に記載のマイクロジャイロメータ。 - 【請求項13】 前記基板の要素をなす各電極が、前記
地震質量体の要素をなす電極を形成し且つそれに対向す
る単一手段を有するキャパシタを形成するように、静電
スクリーンがあることを特徴とする請求項12に記載の
マイクロジャイロメータ。 - 【請求項14】 前記地震質量体は、該地震質量体によ
って占有された表面の外側に配置されたアンカポイント
によって基板に取り付けられていることを特徴とする請
求項1に記載のマイクロジャイロメータ。 - 【請求項15】 前記地震質量体は、該地震質量体によ
って占有された表面のセンタに配置されたアンカポイン
トによって該基板に取り付けられていることを特徴とす
る請求項1に記載のマイクロジャイロメータ。 - 【請求項16】 半導体基板から製造されることを特徴
とする請求項1に記載のマイクロジャイロメータ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9714041 | 1997-11-07 | ||
| FR9714041A FR2770899B1 (fr) | 1997-11-07 | 1997-11-07 | Microgyrometre vibrant |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11337345A true JPH11337345A (ja) | 1999-12-10 |
Family
ID=9513173
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10330254A Withdrawn JPH11337345A (ja) | 1997-11-07 | 1998-11-06 | 振動するマイクロジャイロメータ |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6089088A (ja) |
| EP (1) | EP0915323B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11337345A (ja) |
| DE (1) | DE69822756T2 (ja) |
| FR (1) | FR2770899B1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| US9939269B2 (en) | 2014-09-05 | 2018-04-10 | Seiko Epson Corporation | Physical quantity sensor element, physical quantity sensor, electronic equipment, and movable body |
| US9939268B2 (en) | 2014-09-05 | 2018-04-10 | Seiko Epson Corporation | Physical quantity sensor element, physical quantity sensor, electronic equipment, and movable body |
| US9939270B2 (en) | 2014-09-05 | 2018-04-10 | Seiko Epson Corporation | Physical quantity sensor element, physical quantity sensor, electronic equipment, and movable body |
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| KR100363786B1 (ko) * | 1999-05-13 | 2002-12-11 | 삼성전기주식회사 | 마이크로 자이로스코프 |
| KR100363785B1 (ko) * | 1999-06-04 | 2002-12-11 | 삼성전기주식회사 | 마이크로 자이로스코프 |
| FR2798993B1 (fr) | 1999-09-28 | 2001-12-07 | Thomson Csf Sextant | Gyrometre de type diapason |
| JP3525862B2 (ja) * | 2000-05-22 | 2004-05-10 | トヨタ自動車株式会社 | センサ素子及びセンサ装置 |
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| DE102009002702B4 (de) | 2009-04-28 | 2018-01-18 | Hanking Electronics, Ltd. | Mikromechanischer Sensor |
| FR2945621B1 (fr) * | 2009-05-15 | 2011-08-26 | Commissariat Energie Atomique | Structure de couplage pour gyrometre resonnant |
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