JPH11337545A - 水中の遊離残留塩素計測装置 - Google Patents
水中の遊離残留塩素計測装置Info
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Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 上下水道とか食品加工産業で用いる水中に存
在する残留塩素、特に大きな殺菌力を持つ次亜塩素酸
（ＨＯＣｌ）のみを選択的に分離測定することができる
遊離残留塩素計測装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 純水中に存在する遊離有効残留塩素とｐ
Ｈ及び水温を求めて、文中の（５）式により純水中の次
亜塩素酸の存在比Ｒ（ｐＨ，Ｔ）を算出する。算出後に
演算によりＨＯＣｌ濃度／ＯＣｌ-（次亜塩素酸イオ
ン）濃度を求める。又、水道水等の検水中に存在する遊
離有効残留塩素とｐＨ，水温，導電率を求めて、演算式
を用いて検水中の次亜塩素酸の存在比を算出することを
特徴とする水中の遊離残留塩素計測装置を提供する。更
に純水中に存在する遊離有効残留塩素から求めた次亜塩
素酸の存在比を算出するとともに検水中の次亜塩素酸の
存在比を算出する機構を組み込んだ水中の遊離残留塩素
計測装置の構成にしてある。
在する残留塩素、特に大きな殺菌力を持つ次亜塩素酸
（ＨＯＣｌ）のみを選択的に分離測定することができる
遊離残留塩素計測装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 純水中に存在する遊離有効残留塩素とｐ
Ｈ及び水温を求めて、文中の（５）式により純水中の次
亜塩素酸の存在比Ｒ（ｐＨ，Ｔ）を算出する。算出後に
演算によりＨＯＣｌ濃度／ＯＣｌ-（次亜塩素酸イオ
ン）濃度を求める。又、水道水等の検水中に存在する遊
離有効残留塩素とｐＨ，水温，導電率を求めて、演算式
を用いて検水中の次亜塩素酸の存在比を算出することを
特徴とする水中の遊離残留塩素計測装置を提供する。更
に純水中に存在する遊離有効残留塩素から求めた次亜塩
素酸の存在比を算出するとともに検水中の次亜塩素酸の
存在比を算出する機構を組み込んだ水中の遊離残留塩素
計測装置の構成にしてある。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は上下水道とか食品加
工産業，プール等で用いる水から採取した検水中に存在
する残留塩素を計測するための、遊離残留塩素計測装置
に関するものである。
工産業，プール等で用いる水から採取した検水中に存在
する残留塩素を計測するための、遊離残留塩素計測装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に上水道では、水道法により需要家
の末端供給栓で残留塩素を保持するように規定されてい
る。この残留塩素量は遊離残留塩素が０.１（ｍｇ／
ｌ）以上、又は結合残留塩素が０.４（ｍｇ／ｌ）以上
となっている。
の末端供給栓で残留塩素を保持するように規定されてい
る。この残留塩素量は遊離残留塩素が０.１（ｍｇ／
ｌ）以上、又は結合残留塩素が０.４（ｍｇ／ｌ）以上
となっている。
【０００３】遊離残留塩素は、次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）
と次亜塩素酸イオン（ＯＣｌ-）とから構成されてい
る。
と次亜塩素酸イオン（ＯＣｌ-）とから構成されてい
る。
【０００４】一方、水道水の浄水過程で消毒のために水
中に塩素ガスを注入すると、速やかに下記の不活化反応
が生じる。 Ｃｌ2 ＋ ２Ｈ2Ｏ ←→ Ｈ2Ｏ ＋ Ｃｌ- ＋ ＨＯＣｌ ・・・・（１） その結果、大概ｐＨ３以上で塩素イオン濃度が１０００
（ｍｇ／ｌ）以下の水中には遊離の塩素ガスがほとんど
存在しない。
中に塩素ガスを注入すると、速やかに下記の不活化反応
が生じる。 Ｃｌ2 ＋ ２Ｈ2Ｏ ←→ Ｈ2Ｏ ＋ Ｃｌ- ＋ ＨＯＣｌ ・・・・（１） その結果、大概ｐＨ３以上で塩素イオン濃度が１０００
（ｍｇ／ｌ）以下の水中には遊離の塩素ガスがほとんど
存在しない。
【０００５】（１）式の反応に引き続いて下記の（２）
式の反応が発生する。 ＨＯＣｌ ＋ Ｈ2Ｏ ←→ Ｈ3Ｏ+ ＋ ＯＣｌ- ・・・・・・・・・・・・（２） （２）式によれば、次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）から次亜塩
素酸イオン（ＯＣｌ-）を生じることがわかる。
式の反応が発生する。 ＨＯＣｌ ＋ Ｈ2Ｏ ←→ Ｈ3Ｏ+ ＋ ＯＣｌ- ・・・・・・・・・・・・（２） （２）式によれば、次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）から次亜塩
素酸イオン（ＯＣｌ-）を生じることがわかる。
【０００６】検水中のＨＯＣｌとＯＣｌ-の存在比は、
ｐＨ，水温，全固形物濃度（ＴＤＳ）によっても大きく
左右される。
ｐＨ，水温，全固形物濃度（ＴＤＳ）によっても大きく
左右される。
【０００７】塩素ガスに代えて次亜塩素酸ナトリウムを
溶解した場合でも、次亜塩素酸イオンは（２）式の左か
ら右への反応により発生する。次亜塩素酸イオン（ＯＣ
ｌ-）に比較して次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）は殺菌力が数
十倍〜数百倍も強いため、遊離残留塩素中のＨＯＣｌと
ＯＣｌ-の分離測定やＨＯＣｌのみの測定が可能であれ
ば、検水の衛生学的安全性が向上し、残留塩素計の有効
性が高くなることが期待される。特に近時はＯ−１５７
等の細菌性食中毒が社会問題化しており、きめの細かい
水中の残留塩素管理を行うことは、水道水の安全性のみ
ならず、給食センタその他の食品加工分野でも重要性が
増大しているものと言える。
溶解した場合でも、次亜塩素酸イオンは（２）式の左か
ら右への反応により発生する。次亜塩素酸イオン（ＯＣ
ｌ-）に比較して次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）は殺菌力が数
十倍〜数百倍も強いため、遊離残留塩素中のＨＯＣｌと
ＯＣｌ-の分離測定やＨＯＣｌのみの測定が可能であれ
ば、検水の衛生学的安全性が向上し、残留塩素計の有効
性が高くなることが期待される。特に近時はＯ−１５７
等の細菌性食中毒が社会問題化しており、きめの細かい
水中の残留塩素管理を行うことは、水道水の安全性のみ
ならず、給食センタその他の食品加工分野でも重要性が
増大しているものと言える。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】純水中に存在する遊離
残留塩素の２成分である次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）と次亜
塩素酸イオン（ＯＣｌ-）は、ｐＨと水温の影響を大き
く受けやすく、特にｐＨが４〜５.５の範囲ではＨＯＣ
ｌとして存在する。又、ｐＨが７.５の時は２成分の存
在比は５０％づつである。
残留塩素の２成分である次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）と次亜
塩素酸イオン（ＯＣｌ-）は、ｐＨと水温の影響を大き
く受けやすく、特にｐＨが４〜５.５の範囲ではＨＯＣ
ｌとして存在する。又、ｐＨが７.５の時は２成分の存
在比は５０％づつである。
【０００９】実際の水道水のｐＨは６〜８程度の値であ
り、従って水道水のｐＨが７を超えて８に近づくほど次
亜塩素酸イオン（ＯＣｌ-）の存在割合が増大し、水道
水の殺菌力が低下することになる。しかし大きな殺菌力
を持つ次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）のみを選択的に分離測定
することができる残留塩素計は存在しない。
り、従って水道水のｐＨが７を超えて８に近づくほど次
亜塩素酸イオン（ＯＣｌ-）の存在割合が増大し、水道
水の殺菌力が低下することになる。しかし大きな殺菌力
を持つ次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）のみを選択的に分離測定
することができる残留塩素計は存在しない。
【００１０】現在、次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）だけを透過
可能なポーラロ電極は存在せず、仮に存在したとしても
その電極が次亜塩素酸イオン（ＯＣｌ-）を透過しない
隔膜であることを証明することが困難である。
可能なポーラロ電極は存在せず、仮に存在したとしても
その電極が次亜塩素酸イオン（ＯＣｌ-）を透過しない
隔膜であることを証明することが困難である。
【００１１】特に連続測定用ポーラロ式残留塩素計は、
検水中に結合塩素が存在すると遊離塩素の測定値に結合
塩素分が１０％程度追加されるケースが考えられ、正確
な遊離残留塩素を測定することができない。
検水中に結合塩素が存在すると遊離塩素の測定値に結合
塩素分が１０％程度追加されるケースが考えられ、正確
な遊離残留塩素を測定することができない。
【００１２】そこで本発明はこのような従来の上下水道
とか食品加工産業，プール等で採取した検水中に存在す
る残留塩素を煩瑣な手分析操作を必要とせず、大きな殺
菌力を持つ次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）のみを選択的に分離
測定することができる遊離残留塩素計測装置を提供する
ことを目的とするものである。
とか食品加工産業，プール等で採取した検水中に存在す
る残留塩素を煩瑣な手分析操作を必要とせず、大きな殺
菌力を持つ次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）のみを選択的に分離
測定することができる遊離残留塩素計測装置を提供する
ことを目的とするものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成するために、請求項１により、純水中に存在する遊離
有効残留塩素とｐＨ及び水温を求めて、下記の（５）式
により純水中の次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）の存在比Ｒ（ｐ
Ｈ，Ｔ）を算出する遊離残留塩素計測装置を提供する。 Ｒ（ｐＨ，Ｔ）＝｛ＨＯＣｌ｝／｛ＨＯＣｌ｝＋｛ＯＣｌ-｝ ＝１／（１＋Ｋｉ／｛Ｈ+｝） ＝１／〔１＋１０(pH+10・0686-0・0253T-3000/T)〕 ・・・・・・・・・・・・・・・（５） ここでＫｉ：イオン化定数＝｛Ｈ+｝・｛ＯＣｌ-｝／
｛ＨＯＣｌ｝ ｛Ｈ+｝＝１０-pH 更に請求項２により、式（５）を用いて次亜塩素酸（Ｈ
ＯＣｌ）の存在比Ｒを算出した後、演算によりＨＯＣｌ
濃度／ＯＣｌ-（次亜塩素酸イオン）濃度を求める遊離
残留塩素計測装置を提案する。
成するために、請求項１により、純水中に存在する遊離
有効残留塩素とｐＨ及び水温を求めて、下記の（５）式
により純水中の次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）の存在比Ｒ（ｐ
Ｈ，Ｔ）を算出する遊離残留塩素計測装置を提供する。 Ｒ（ｐＨ，Ｔ）＝｛ＨＯＣｌ｝／｛ＨＯＣｌ｝＋｛ＯＣｌ-｝ ＝１／（１＋Ｋｉ／｛Ｈ+｝） ＝１／〔１＋１０(pH+10・0686-0・0253T-3000/T)〕 ・・・・・・・・・・・・・・・（５） ここでＫｉ：イオン化定数＝｛Ｈ+｝・｛ＯＣｌ-｝／
｛ＨＯＣｌ｝ ｛Ｈ+｝＝１０-pH 更に請求項２により、式（５）を用いて次亜塩素酸（Ｈ
ＯＣｌ）の存在比Ｒを算出した後、演算によりＨＯＣｌ
濃度／ＯＣｌ-（次亜塩素酸イオン）濃度を求める遊離
残留塩素計測装置を提案する。
【００１４】請求項３により、水道水等の検水中に存在
する遊離有効残留塩素とｐＨ，水温，導電率を求めて、
前記（５）式と下記の（６）式及び（７）式を用いて検
水中の次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）の存在比Ｒ（ｐＨ，Ｔ，
ＴＤＳ）を算出する。
する遊離有効残留塩素とｐＨ，水温，導電率を求めて、
前記（５）式と下記の（６）式及び（７）式を用いて検
水中の次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）の存在比Ｒ（ｐＨ，Ｔ，
ＴＤＳ）を算出する。
【００１５】 Ｋｉ（ＴＤＳ）＝｛ｆH+｛Ｈ+｝｝・｛ｆOCl-｛ＯＣｌ-｝｝／｛ＨＯＣｌ｝ ・・・・・・・・・・・・・・・（６） ｛ｆH+｝，｛ｆOCl-｝：Ｈ+，ＯＣｌ-の活動度係数 −ｌｏｇｆｉ＝Ａ・Ｚｉ2・Ｉ0・5／〔１＋Ｂ・αｉ・Ｉ0・5〕 ・・・・・・・・・・・・・・・（７） Ａ，Ｂ：水温によって決まる定数 Ｉ：イオン強度（Ｉ＝０.５・ＳＵＭ（ｎｉ・Ｚｉ2）） Ｚｉ：ｉのイオン価数（Ｈ+で１，ＯＣｌ-で−１） αｉ：水溶液中の有効イオン半径。
【００１６】請求項４により、純水中に存在する遊離有
効残留塩素とｐＨ及び水温から次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）
の存在比Ｒ（ｐＨ，Ｔ）を算出する遊離残留塩素計測装
置と、検水中に存在する遊離有効残留塩素とｐＨ，水
温，導電率から検水中の次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）の存在
比Ｒ（ｐＨ，Ｔ，ＴＤＳ）を算出する遊離残留塩素計測
装置を組み込んだ水中の遊離残留塩素計測装置を提供す
る。
効残留塩素とｐＨ及び水温から次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）
の存在比Ｒ（ｐＨ，Ｔ）を算出する遊離残留塩素計測装
置と、検水中に存在する遊離有効残留塩素とｐＨ，水
温，導電率から検水中の次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）の存在
比Ｒ（ｐＨ，Ｔ，ＴＤＳ）を算出する遊離残留塩素計測
装置を組み込んだ水中の遊離残留塩素計測装置を提供す
る。
【００１７】更に請求項５により、浄水場もしくは送配
水施設に設置した水質モニタに内蔵した残留塩素計と、
ｐＨ，水温，導電率の各測定信号を用いて検水中の次亜
塩素酸（ＨＯＣｌ）存在比Ｒを算出し、このＨＯＣｌ存
在比Ｒから水質モニタに内蔵したシーケンサにより遊離
有効塩素の成分ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-を分離測定する装置
と、請求項６に記載したように水質モニタ内に結合塩素
影響除去装置を付加して、有試薬式残留塩素計を利用し
て結合塩素の影響を排除した遊離有効残留塩素濃度の信
号を入力信号とし、遊離有効塩素の成分ＨＯＣｌ／ＯＣ
ｌ-を分離測定する遊離残留塩素計測装置を提供する。
水施設に設置した水質モニタに内蔵した残留塩素計と、
ｐＨ，水温，導電率の各測定信号を用いて検水中の次亜
塩素酸（ＨＯＣｌ）存在比Ｒを算出し、このＨＯＣｌ存
在比Ｒから水質モニタに内蔵したシーケンサにより遊離
有効塩素の成分ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-を分離測定する装置
と、請求項６に記載したように水質モニタ内に結合塩素
影響除去装置を付加して、有試薬式残留塩素計を利用し
て結合塩素の影響を排除した遊離有効残留塩素濃度の信
号を入力信号とし、遊離有効塩素の成分ＨＯＣｌ／ＯＣ
ｌ-を分離測定する遊離残留塩素計測装置を提供する。
【００１８】請求項７により、遠隔地にある水質モニタ
に純水中と検水中のｐＨ，水温，導電率及び遊離有効残
留塩素を入力し、回線を用いて中央に設置した水質情報
管理システム内で次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）存在比Ｒを求
め、演算により遊離有効塩素の成分ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-
濃度の出力表示を行うようにした水中の遊離残留塩素計
測装置の構成を実現している。
に純水中と検水中のｐＨ，水温，導電率及び遊離有効残
留塩素を入力し、回線を用いて中央に設置した水質情報
管理システム内で次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）存在比Ｒを求
め、演算により遊離有効塩素の成分ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-
濃度の出力表示を行うようにした水中の遊離残留塩素計
測装置の構成を実現している。
【００１９】かかる遊離残留塩素計測装置によれば、従
来遊離残留塩素の総量として計測している次亜塩素酸
（ＨＯＣｌ）と次亜塩素酸イオン（ＯＣｌ-）を分離測
定することが可能となり、特に水中に存在する残留塩素
中の大きな殺菌力を持つ次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）のみを
選択的に分離測定することができるため、上下水道とか
食品加工産業で使用する水中の遊離残留塩素の計測に利
用して有用である。
来遊離残留塩素の総量として計測している次亜塩素酸
（ＨＯＣｌ）と次亜塩素酸イオン（ＯＣｌ-）を分離測
定することが可能となり、特に水中に存在する残留塩素
中の大きな殺菌力を持つ次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）のみを
選択的に分離測定することができるため、上下水道とか
食品加工産業で使用する水中の遊離残留塩素の計測に利
用して有用である。
【００２０】又、浄水場もしくは送配水施設に設置した
水質モニタに内蔵した残留塩素計とシーケンサを用いて
遊離有効塩素の成分ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-を分離測定する
ことが可能となり、水質モニタの有効利用をはかること
ができるとともに、遠隔地にある水質モニタから回線を
用いて中央に設置した水質情報管理システム内で遊離有
効塩素の成分出力表示を行うことにより、中央集中型管
理システムが実現されてきめの細かい計測管理を行うこ
とができる。
水質モニタに内蔵した残留塩素計とシーケンサを用いて
遊離有効塩素の成分ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-を分離測定する
ことが可能となり、水質モニタの有効利用をはかること
ができるとともに、遠隔地にある水質モニタから回線を
用いて中央に設置した水質情報管理システム内で遊離有
効塩素の成分出力表示を行うことにより、中央集中型管
理システムが実現されてきめの細かい計測管理を行うこ
とができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下本発明にかかる水中の遊離残
留塩素計測装置の各種実施形態を詳述する。通常の浄水
場で処理された処理水に液化塩素又は次亜塩素酸ナトリ
ウムを注入すると、以下に記す塩素の反応が行われる。
留塩素計測装置の各種実施形態を詳述する。通常の浄水
場で処理された処理水に液化塩素又は次亜塩素酸ナトリ
ウムを注入すると、以下に記す塩素の反応が行われる。
【００２２】先ずイオン化定数Ｋｉは、ＨＯＣｌ ←→
Ｈ+ ＋ ＯＣｌ-の解離式により次式で与えられる。
Ｈ+ ＋ ＯＣｌ-の解離式により次式で与えられる。
【００２３】 Ｋｉ＝｛Ｈ+｝・｛ＯＣｌ-｝／｛ＨＯＣｌ｝ ・・・・・・・・・・・・・・・（３） ここでＫｉ：イオン化定数 ｛Ｈ+｝＝１０-pH ｐＫａ＝−ＬｏｇＫｉ＝３０００／Ｔ−１０.０６８６＋０.０２５３Ｔ ・・・・・・・・・・・・・・・（４） （１）純水中のＨＯＣｌの存在比Ｒの算出 純水中のＨＯＣｌの存在比Ｒ（ｐＨ，Ｔ）は次式で求め
られる。 Ｒ（ｐＨ，Ｔ）＝｛ＨＯＣｌ｝／｛ＨＯＣｌ｝＋｛ＯＣｌ-｝ ＝１／（１＋Ｋｉ／｛Ｈ+｝） ＝１／〔１＋１０(pH+10・0686-0・0253T-3000/T)〕 ・・・・・・・・・・・・・・・（５） 図１は純水中のＨＯＣｌの存在比Ｒ（ｐＨ，Ｔ）を算出
するためのブロック図であり、図示したようにステップ
１で遊離有効残留塩素を、ステップ２でｐＨと水温を求
めて演算装置３に入力し、式（５）を用いてＨＯＣｌ存
在比Ｒを算出して、ステップ４でＨＯＣｌ濃度／ＯＣｌ
-濃度を求める。
られる。 Ｒ（ｐＨ，Ｔ）＝｛ＨＯＣｌ｝／｛ＨＯＣｌ｝＋｛ＯＣｌ-｝ ＝１／（１＋Ｋｉ／｛Ｈ+｝） ＝１／〔１＋１０(pH+10・0686-0・0253T-3000/T)〕 ・・・・・・・・・・・・・・・（５） 図１は純水中のＨＯＣｌの存在比Ｒ（ｐＨ，Ｔ）を算出
するためのブロック図であり、図示したようにステップ
１で遊離有効残留塩素を、ステップ２でｐＨと水温を求
めて演算装置３に入力し、式（５）を用いてＨＯＣｌ存
在比Ｒを算出して、ステップ４でＨＯＣｌ濃度／ＯＣｌ
-濃度を求める。
【００２４】（２）実検水（水道水等）中のＨＯＣｌの
存在比Ｒの算出 ＴＤＳ（全固形物濃度）を考慮した実際の水道水等の場
合、イオン化定数は次式で算出される。 Ｋｉ（ＴＤＳ）＝｛ｆH+｛Ｈ+｝｝・｛ｆOCl-｛ＯＣｌ-｝｝／｛ＨＯＣｌ｝ ・・・・・・・・・・・・・・・（６） ここで｛ｆH+｝，｛ｆOCl-｝は、Ｈ+，ＯＣｌ-の活動度
係数である。
存在比Ｒの算出 ＴＤＳ（全固形物濃度）を考慮した実際の水道水等の場
合、イオン化定数は次式で算出される。 Ｋｉ（ＴＤＳ）＝｛ｆH+｛Ｈ+｝｝・｛ｆOCl-｛ＯＣｌ-｝｝／｛ＨＯＣｌ｝ ・・・・・・・・・・・・・・・（６） ここで｛ｆH+｝，｛ｆOCl-｝は、Ｈ+，ＯＣｌ-の活動度
係数である。
【００２５】ｆH+，ｆOCl-は次式（７）により計算でき
る。 −ｌｏｇｆｉ＝Ａ・Ｚｉ2・Ｉ0・5／〔１＋Ｂ・αｉ・Ｉ0・5〕 ・・・・・・・・・・・・・・・（７） ここでＡ，Ｂ：水温によって決まる定数 Ｉ：イオン強度（Ｉ＝０.５・ＳＵＭ（ｎｉ・Ｚｉ2）） Ｚｉ：ｉのイオン価数（Ｈ+で１，ＯＣｌ-で−１） αｉ：水溶液中の有効イオン半径。
る。 −ｌｏｇｆｉ＝Ａ・Ｚｉ2・Ｉ0・5／〔１＋Ｂ・αｉ・Ｉ0・5〕 ・・・・・・・・・・・・・・・（７） ここでＡ，Ｂ：水温によって決まる定数 Ｉ：イオン強度（Ｉ＝０.５・ＳＵＭ（ｎｉ・Ｚｉ2）） Ｚｉ：ｉのイオン価数（Ｈ+で１，ＯＣｌ-で−１） αｉ：水溶液中の有効イオン半径。
【００２６】従って式（６）によりＫｉ（ＴＤＳ）を求
め、式（５）に代入することにより実検水のＨＯＣｌ存
在比Ｒ（ｐＨ，Ｔ，ＴＤＳ）を算出することができる。
め、式（５）に代入することにより実検水のＨＯＣｌ存
在比Ｒ（ｐＨ，Ｔ，ＴＤＳ）を算出することができる。
【００２７】例えばｐＨ７.５，水温２５℃（Ｉ＝０.０
０１：ＴＤＳ＝４０ｍｇ／ｌに相当する）におけるＨＯ
Ｃｌ存在比は、Ｉ＝０.０１（ＴＤＳ＝４００ｍｇ／ｌ
に相当する）で５０％から４５％となり、５％低下する
結果が得られる。
０１：ＴＤＳ＝４０ｍｇ／ｌに相当する）におけるＨＯ
Ｃｌ存在比は、Ｉ＝０.０１（ＴＤＳ＝４００ｍｇ／ｌ
に相当する）で５０％から４５％となり、５％低下する
結果が得られる。
【００２８】（Ａ）次に検水中に結合塩素を含まない場
合には、以下の実施形態（１）〜（４）が提供される。
合には、以下の実施形態（１）〜（４）が提供される。
【００２９】〔実施形態（１）〕 ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-
分離演算測定システム 本ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-分離演算測定システムは、ｐＨ
計，水温計，導電率計で測定された各計測信号と、ＨＯ
ＣｌとＯＣｌ-を測定できる残留塩素計及びＨＯＣｌ／
ＯＣｌ-演算装置から構成される。ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-演
算装置への入力信号として、測定対象実検水のｐＨ，水
温，導電率を入力し、ポーラロ式残留塩素計の遊離塩素
の測定出力を入力して、演算式（５）等からＨＯＣｌ存
在比Ｒを算出する。
分離演算測定システム 本ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-分離演算測定システムは、ｐＨ
計，水温計，導電率計で測定された各計測信号と、ＨＯ
ＣｌとＯＣｌ-を測定できる残留塩素計及びＨＯＣｌ／
ＯＣｌ-演算装置から構成される。ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-演
算装置への入力信号として、測定対象実検水のｐＨ，水
温，導電率を入力し、ポーラロ式残留塩素計の遊離塩素
の測定出力を入力して、演算式（５）等からＨＯＣｌ存
在比Ｒを算出する。
【００３０】図２は検水中のＨＯＣｌの存在比Ｒを算出
するためのブロック図であり、ステップ５で遊離有効残
留塩素を、ステップ６でｐＨ，水温，導電率を演算装置
７に入力し、式（５）〜（７）を用いてＨＯＣｌ存在比
Ｒを算出して、ステップ８でＨＯＣｌ濃度／ＯＣｌ-濃
度を求める。図３に示したように演算装置７内にステッ
プ５で用いる遊離有効残留塩素計を内蔵させてもよい。
するためのブロック図であり、ステップ５で遊離有効残
留塩素を、ステップ６でｐＨ，水温，導電率を演算装置
７に入力し、式（５）〜（７）を用いてＨＯＣｌ存在比
Ｒを算出して、ステップ８でＨＯＣｌ濃度／ＯＣｌ-濃
度を求める。図３に示したように演算装置７内にステッ
プ５で用いる遊離有効残留塩素計を内蔵させてもよい。
【００３１】〔実施形態（２）〕 導電率信号を省略し
たＨＯＣｌ／ＯＣｌ-分離演算測定システム 実施形態（１）の演算測定システムで、測定対象水の導
電率変化が小さい場合に、演算式でイオン強度を事前に
出しておくことで導電率の入力を省略したシステムであ
る。
たＨＯＣｌ／ＯＣｌ-分離演算測定システム 実施形態（１）の演算測定システムで、測定対象水の導
電率変化が小さい場合に、演算式でイオン強度を事前に
出しておくことで導電率の入力を省略したシステムであ
る。
【００３２】〔実施形態（３）〕 水質モニタ内蔵型Ｈ
ＯＣｌ／ＯＣｌ-分離測定残留塩素計 実施形態（１）のＨＯＣｌ／ＯＣｌ-演算測定システム
を水質モニタに応用した例である。水道の浄水場の浄水
や送配水施設（排水場、排水管網内）に設置する水質モ
ニタ（測定項目：残留塩素，ｐＨ，水温，導電率）に内
蔵した残留塩素計を用いて、遊離有効塩素の成分ＨＯＣ
ｌ／ＯＣｌ-を分離測定する機能を有する。
ＯＣｌ／ＯＣｌ-分離測定残留塩素計 実施形態（１）のＨＯＣｌ／ＯＣｌ-演算測定システム
を水質モニタに応用した例である。水道の浄水場の浄水
や送配水施設（排水場、排水管網内）に設置する水質モ
ニタ（測定項目：残留塩素，ｐＨ，水温，導電率）に内
蔵した残留塩素計を用いて、遊離有効塩素の成分ＨＯＣ
ｌ／ＯＣｌ-を分離測定する機能を有する。
【００３３】図４に示したステップ９でｐＨと水温（導
電率）の測定信号を、ステップ１０で遊離有効残留塩素
を夫々水質モニタ１１に内蔵された演算装置１２に入力
して、式（５）により検水中のＨＯＣｌ存在比Ｒを算出
する。次に導電率からイオン強度を推定演算して、検水
のＨＯＣｌ存在比Ｒを水質モニタに内蔵したシーケンサ
で算出する。この時、残留塩素計はポーラロ式電極によ
るＨＯＣｌとＯＣｌ-を総量で測定する機能を有し、ス
テップ１３でＨＯＣｌ濃度／ＯＣｌ-濃度を求める。
電率）の測定信号を、ステップ１０で遊離有効残留塩素
を夫々水質モニタ１１に内蔵された演算装置１２に入力
して、式（５）により検水中のＨＯＣｌ存在比Ｒを算出
する。次に導電率からイオン強度を推定演算して、検水
のＨＯＣｌ存在比Ｒを水質モニタに内蔵したシーケンサ
で算出する。この時、残留塩素計はポーラロ式電極によ
るＨＯＣｌとＯＣｌ-を総量で測定する機能を有し、ス
テップ１３でＨＯＣｌ濃度／ＯＣｌ-濃度を求める。
【００３４】〔実施形態（４）〕 導電率信号を省略し
た水質モニタ内蔵型ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-分離測定残留塩
素計 実施形態（３）のＨＯＣｌ／ＯＣｌ-分離測定残留塩素
計で、測定対象水の導電率変化が小さい場合に演算式で
イオン強度を事前に出しておくことで導電率の入力を省
略した残留塩素計である。
た水質モニタ内蔵型ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-分離測定残留塩
素計 実施形態（３）のＨＯＣｌ／ＯＣｌ-分離測定残留塩素
計で、測定対象水の導電率変化が小さい場合に演算式で
イオン強度を事前に出しておくことで導電率の入力を省
略した残留塩素計である。
【００３５】（Ｂ）次に検水中に結合塩素が存在する場
合に、遊離有効塩素を正確に計測する機構を追加した下
記の実施形態（５）〜（８）が提供される。
合に、遊離有効塩素を正確に計測する機構を追加した下
記の実施形態（５）〜（８）が提供される。
【００３６】〔実施形態（５）〜（８）〕 結合塩素影
響除去装置付きＨＯＣｌ／ＯＣｌ-分離測定残留塩素計
測システム又は水質モニタ型残留塩素計測システム 有試薬式残留塩素計等を利用して、結合塩素の影響を排
除した遊離有効残留塩素濃度の信号を入力信号として、
即ち、図５に示したように、水質モニタ１１内に結合塩
素影響除去装置１４を付加して前記（１）〜（４）の実
施形態を実現するＨＯＣｌ／ＯＣｌ-分離測定機能を有
する残留塩素計測システムである。
響除去装置付きＨＯＣｌ／ＯＣｌ-分離測定残留塩素計
測システム又は水質モニタ型残留塩素計測システム 有試薬式残留塩素計等を利用して、結合塩素の影響を排
除した遊離有効残留塩素濃度の信号を入力信号として、
即ち、図５に示したように、水質モニタ１１内に結合塩
素影響除去装置１４を付加して前記（１）〜（４）の実
施形態を実現するＨＯＣｌ／ＯＣｌ-分離測定機能を有
する残留塩素計測システムである。
【００３７】有試薬式残留塩素計１５はポーラログラフ
法（有試薬法）を採用し、添加した試薬により検水中の
遊離塩素及び残留塩素から電気分解しやすいヨウ素や臭
素または分子状塩素として回転白金微小電極（カソー
ド：−極）と白金対極（アノード：＋極）間に適当な電
圧を加え、その時に流れる拡散電流から遊離有効塩素濃
度１６と全残留塩素濃度１７を求め、水質モニタ１１に
より結合塩素の影響を受けない遊離有効残留塩素出力を
得て遊離塩素量を測定する。本測定法を用いることによ
り、遊離塩素測定に結合塩素の影響を除去することがで
きる。
法（有試薬法）を採用し、添加した試薬により検水中の
遊離塩素及び残留塩素から電気分解しやすいヨウ素や臭
素または分子状塩素として回転白金微小電極（カソー
ド：−極）と白金対極（アノード：＋極）間に適当な電
圧を加え、その時に流れる拡散電流から遊離有効塩素濃
度１６と全残留塩素濃度１７を求め、水質モニタ１１に
より結合塩素の影響を受けない遊離有効残留塩素出力を
得て遊離塩素量を測定する。本測定法を用いることによ
り、遊離塩素測定に結合塩素の影響を除去することがで
きる。
【００３８】以下〔実施形態３〕と同様にステップ９で
ｐＨと水温（導電率）の測定信号を、ステップ１０で遊
離有効残留塩素を水質モニタ１１に内蔵された演算装置
１２に入力して、式（５）〜（７）により検水中のＨＯ
Ｃｌ存在比Ｒを算出し、次に導電率からイオン強度を推
定演算して検水のＨＯＣｌ存在比Ｒをシーケンサで算出
し、ステップ１３でＨＯＣｌ濃度／ＯＣｌ-濃度を求め
る。
ｐＨと水温（導電率）の測定信号を、ステップ１０で遊
離有効残留塩素を水質モニタ１１に内蔵された演算装置
１２に入力して、式（５）〜（７）により検水中のＨＯ
Ｃｌ存在比Ｒを算出し、次に導電率からイオン強度を推
定演算して検水のＨＯＣｌ存在比Ｒをシーケンサで算出
し、ステップ１３でＨＯＣｌ濃度／ＯＣｌ-濃度を求め
る。
【００３９】（Ｃ）次にＨＯＣｌ／ＯＣｌ-分離測定機
能を上位の水質情報管理システム内で実現する残留塩素
計測システムが下記の実施形態（９）により提供され
る。
能を上位の水質情報管理システム内で実現する残留塩素
計測システムが下記の実施形態（９）により提供され
る。
【００４０】〔実施形態（９）〕 遠隔の水質モニタ設
置地点から回線を用いて中央にデータ伝送し、水質情報
管理システムでＨＯＣｌ存在比Ｒを算出するシステム 図６に示したように、水質モニタ１１にステップ１８で
純水中と実検水中のｐＨ，水温（導電率）及び遊離有効
残留塩素を入力し、制御装置・データ伝送装置１９に供
給する。
置地点から回線を用いて中央にデータ伝送し、水質情報
管理システムでＨＯＣｌ存在比Ｒを算出するシステム 図６に示したように、水質モニタ１１にステップ１８で
純水中と実検水中のｐＨ，水温（導電率）及び遊離有効
残留塩素を入力し、制御装置・データ伝送装置１９に供
給する。
【００４１】遠隔地にある水質モニタ１１の設置地点か
らＮＴＴ回線２０等を用いて浄水場等の中央にデータ伝
送を行い、中央に設置した水質情報管理システム２１内
でｐＨ，水温（導電率）からＨＯＣｌ存在比Ｒ（ｐＨ，
Ｔ）またはＲ（ｐＨ，Ｔ，ＴＤＳ）を求め、ＨＯＣｌ存
在比Ｒを演算により算出してＣＲＴ２２により遊離有効
塩素の成分ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-濃度の出力表示を行う。
らＮＴＴ回線２０等を用いて浄水場等の中央にデータ伝
送を行い、中央に設置した水質情報管理システム２１内
でｐＨ，水温（導電率）からＨＯＣｌ存在比Ｒ（ｐＨ，
Ｔ）またはＲ（ｐＨ，Ｔ，ＴＤＳ）を求め、ＨＯＣｌ存
在比Ｒを演算により算出してＣＲＴ２２により遊離有効
塩素の成分ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-濃度の出力表示を行う。
【００４２】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明にか
かる水中の遊離残留塩素計測装置によれば、従来は遊離
残留塩素の総量としか計測できなかった次亜塩素酸（Ｈ
ＯＣｌ）と次亜塩素酸イオン（ＯＣｌ-）を分離測定す
ることができるため、特に大きな殺菌力を持つ次亜塩素
酸のみを選択的に分離測定して、上下水道とか食品加工
産業で使用する水中に存在する残留塩素中の大きな殺菌
力を持つ次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）のみを選択的に分離測
定することができるため、各種分野における遊離残留塩
素の計測に利用して有用である。
かる水中の遊離残留塩素計測装置によれば、従来は遊離
残留塩素の総量としか計測できなかった次亜塩素酸（Ｈ
ＯＣｌ）と次亜塩素酸イオン（ＯＣｌ-）を分離測定す
ることができるため、特に大きな殺菌力を持つ次亜塩素
酸のみを選択的に分離測定して、上下水道とか食品加工
産業で使用する水中に存在する残留塩素中の大きな殺菌
力を持つ次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）のみを選択的に分離測
定することができるため、各種分野における遊離残留塩
素の計測に利用して有用である。
【００４３】又、次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）に比して数十
分の１から数百分の１の殺菌力しかない次亜塩素酸イオ
ン（ＯＣｌ-）を分離測定できることで、塩素殺菌処理
上の観点から、測定因子が遊離残留塩素でなく、次亜塩
素酸もしくは次亜塩素酸イオンによる濃度管理が可能と
なり、水道水の衛生学的な安全性を高めることができ
る。
分の１から数百分の１の殺菌力しかない次亜塩素酸イオ
ン（ＯＣｌ-）を分離測定できることで、塩素殺菌処理
上の観点から、測定因子が遊離残留塩素でなく、次亜塩
素酸もしくは次亜塩素酸イオンによる濃度管理が可能と
なり、水道水の衛生学的な安全性を高めることができ
る。
【００４４】更に従来のアオコ等によりｐＨが上昇して
水温の高い夏季では、配水管網末端での残塩消失のリス
クが高いという難点があるが、本発明を適用して遊離残
留塩素を次亜塩素酸による測定することにより、配水管
網末端での残塩消失のリスクを解消して水道水の管理上
からも有用である。
水温の高い夏季では、配水管網末端での残塩消失のリス
クが高いという難点があるが、本発明を適用して遊離残
留塩素を次亜塩素酸による測定することにより、配水管
網末端での残塩消失のリスクを解消して水道水の管理上
からも有用である。
【００４５】本発明の実用的な実施形態として、浄水場
もしくは送配水施設に設置した水質モニタに内蔵した残
留塩素計と、ｐＨ，水温，導電率の各測定信号を用いて
検水中の次亜塩素酸の存在比を算出し、水質モニタに内
蔵したシーケンサにより遊離有効塩素の成分ＨＯＣｌ／
ＯＣｌ-を分離測定することが可能となり、水質モニタ
の有効利用をはかることができる。又、通常検水中に結
合塩素が存在すると、遊離塩素の測定値に結合塩素分が
追加されて正確な遊離残留塩素を測定することができな
いという問題が生じるが、本発明によれば、水質モニタ
内に結合塩素影響除去装置を付加して、有試薬式残留塩
素計を利用して結合塩素の影響を排除した遊離有効残留
塩素濃度から遊離有効塩素の成分ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-を
分離測定することが可能となり、測定精度を高めること
ができる。
もしくは送配水施設に設置した水質モニタに内蔵した残
留塩素計と、ｐＨ，水温，導電率の各測定信号を用いて
検水中の次亜塩素酸の存在比を算出し、水質モニタに内
蔵したシーケンサにより遊離有効塩素の成分ＨＯＣｌ／
ＯＣｌ-を分離測定することが可能となり、水質モニタ
の有効利用をはかることができる。又、通常検水中に結
合塩素が存在すると、遊離塩素の測定値に結合塩素分が
追加されて正確な遊離残留塩素を測定することができな
いという問題が生じるが、本発明によれば、水質モニタ
内に結合塩素影響除去装置を付加して、有試薬式残留塩
素計を利用して結合塩素の影響を排除した遊離有効残留
塩素濃度から遊離有効塩素の成分ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-を
分離測定することが可能となり、測定精度を高めること
ができる。
【００４６】更に遠隔地にある水質モニタから回線を用
いて中央に設置した水質情報管理システム内で遊離有効
塩素の成分ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-濃度の出力表示を行うこ
とにより、計測上の操作が簡易化されるとともに中央集
中型管理システムが実現されてきめの細かい計測管理が
行えるという効果が得られる。
いて中央に設置した水質情報管理システム内で遊離有効
塩素の成分ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-濃度の出力表示を行うこ
とにより、計測上の操作が簡易化されるとともに中央集
中型管理システムが実現されてきめの細かい計測管理が
行えるという効果が得られる。
【図１】純水中の次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）の存在比Ｒ
（ｐＨ，Ｔ）を算出するためのブロック図。
（ｐＨ，Ｔ）を算出するためのブロック図。
【図２】実検水中の次亜塩素酸の存在比Ｒ（ｐＨ，Ｔ，
ＴＤＳ）を算出するためのブロック図。
ＴＤＳ）を算出するためのブロック図。
【図３】図２の変形例を示すブロック図。
【図４】本発明を水質モニタに内蔵した演算装置で実現
した遊離残留塩素計測装置のブロック図。
した遊離残留塩素計測装置のブロック図。
【図５】図４の遊離残留塩素計測装置に結合塩素除去装
置を付加したシステムのブロック図。
置を付加したシステムのブロック図。
【図６】遠隔の水質モニタ設置地点から回線を用いて中
央にデータ伝送して計測するブロック図。
央にデータ伝送して計測するブロック図。
１，１０…遊離有効残留塩素測定ステップ ２…ｐＨと水温測定ステップ ３，７，…演算装置 ４，８，１３…ＨＯＣｌ濃度／ＯＣｌ-濃度計測ステッ
プ ６，９…ｐＨ，水温，導電率測定ステップ １１…水質モニタ １５…有試薬型残留塩素計 １６…遊離有効塩素濃度 １７…全残留塩素濃度 １８…ｐＨ，水温，導電率，遊離有効残留塩素測定ステ
ップ １６…制御装置・データ伝送装置 ２０…回線 ２１…水質情報管理システム
プ ６，９…ｐＨ，水温，導電率測定ステップ １１…水質モニタ １５…有試薬型残留塩素計 １６…遊離有効塩素濃度 １７…全残留塩素濃度 １８…ｐＨ，水温，導電率，遊離有効残留塩素測定ステ
ップ １６…制御装置・データ伝送装置 ２０…回線 ２１…水質情報管理システム
Claims (7)
- 【請求項１】 純水中に存在する遊離有効残留塩素とｐ
Ｈ及び水温を求めて、下記の（５）式により純水中の次
亜塩素酸（ＨＯＣｌ）の存在比Ｒ（ｐＨ，Ｔ）を算出す
ることを特徴とする水中の遊離残留塩素計測装置。 Ｒ（ｐＨ，Ｔ）＝｛ＨＯＣｌ｝／｛ＨＯＣｌ｝＋｛ＯＣｌ-｝ ＝１／（１＋Ｋｉ／｛Ｈ+｝） ＝１／〔１＋１０(pH+10・0686-0・0253T-3000/T)〕 ・・・・・・・・・・・・・・・（５） ここでＫｉ：イオン化定数＝｛Ｈ+｝・｛ＯＣｌ-｝／
｛ＨＯＣｌ｝ ｛Ｈ+｝＝１０-pH - 【請求項２】 式（５）を用いて次亜塩素酸（ＨＯＣ
ｌ）の存在比Ｒを算出した後、演算によりＨＯＣｌ濃度
／ＯＣｌ-（次亜塩素酸イオン）濃度を求めることを特
徴とする請求項１に記載の水中の遊離残留塩素計測装
置。 - 【請求項３】 水道水等の検水中に存在する遊離有効残
留塩素とｐＨ，水温，導電率を求めて、前記（５）式と
下記の（６）式及び（７）式を用いて検水中の次亜塩素
酸（ＨＯＣｌ）の存在比Ｒ（ｐＨ，Ｔ，ＴＤＳ）を算出
することを特徴とする水中の遊離残留塩素計測装置。 Ｋｉ（ＴＤＳ）＝｛ｆH+｛Ｈ+｝｝・｛ｆOCl-｛ＯＣｌ-｝｝／｛ＨＯＣｌ｝ ・・・・・・・・・・・・・・・（６） ｛ｆH+｝，｛ｆOCl-｝：Ｈ+，ＯＣｌ-の活動度係数 −ｌｏｇｆｉ＝Ａ・Ｚｉ2・Ｉ0・5／〔１＋Ｂ・αｉ・Ｉ0・5〕 ・・・・・・・・・・・・・・・（７） Ａ，Ｂ：水温によって決まる定数 Ｉ：イオン強度（Ｉ＝０.５・ＳＵＭ（ｎｉ・Ｚｉ2）） Ｚｉ：ｉのイオン価数（Ｈ+で１，ＯＣｌ-で−１） αｉ：水溶液中の有効イオン半径。 - 【請求項４】 純水中に存在する遊離有効残留塩素とｐ
Ｈ及び水温から次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）の存在比Ｒ（ｐ
Ｈ，Ｔ）を算出する遊離残留塩素計測装置と、検水中に
存在する遊離有効残留塩素とｐＨ，水温，導電率から検
水中の次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）の存在比Ｒ（ｐＨ，Ｔ，
ＴＤＳ）を算出する遊離残留塩素計測装置を組み込んだ
請求項１，２又は３の何れか１項に記載の水中の遊離残
留塩素計測装置。 - 【請求項５】 浄水場もしくは送配水施設に設置した水
質モニタに内蔵した残留塩素計と、ｐＨ，水温，導電率
の各測定信号を用いて検水中の次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）
存在比Ｒを算出し、このＨＯＣｌ存在比Ｒから水質モニ
タに内蔵したシーケンサにより遊離有効塩素の成分ＨＯ
Ｃｌ／ＯＣｌ-を分離測定することを特徴とする水中の
遊離残留塩素計測装置。 - 【請求項６】 水質モニタ内に結合塩素影響除去装置を
付加して、有試薬式残留塩素計を利用して結合塩素の影
響を排除した遊離有効残留塩素濃度の信号を入力信号と
し、遊離有効塩素の成分ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-を分離測定
することを特徴とする請求項５に記載の水中の遊離残留
塩素計測装置。 - 【請求項７】 遠隔地にある水質モニタに純水中と検水
中のｐＨ，水温，導電率及び遊離有効残留塩素を入力
し、回線を用いて中央に設置した水質情報管理システム
内で次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）存在比Ｒを求め、演算によ
り遊離有効塩素の成分ＨＯＣｌ／ＯＣｌ-濃度の出力表
示を行うことを特徴とする水中の遊離残留塩素計測装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10148759A JPH11337545A (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | 水中の遊離残留塩素計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10148759A JPH11337545A (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | 水中の遊離残留塩素計測装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11337545A true JPH11337545A (ja) | 1999-12-10 |
Family
ID=15460015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10148759A Pending JPH11337545A (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | 水中の遊離残留塩素計測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11337545A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111051859A (zh) * | 2017-08-28 | 2020-04-21 | 松下知识产权经营株式会社 | 功能水浓度传感器和计算方法 |
| JP2021056005A (ja) * | 2019-09-26 | 2021-04-08 | 大和ハウス工業株式会社 | 測定装置および測定方法 |
| JP2022187725A (ja) * | 2021-06-08 | 2022-12-20 | 東洋濾紙株式会社 | 次亜塩素酸濃度測定装置、次亜塩素酸濃度測定プログラム及び次亜塩素酸濃度測定方法 |
| CN120161001A (zh) * | 2025-05-19 | 2025-06-17 | 北京大学 | 基于紫外-可见吸收光谱定量水体中游离氯的方法及应用 |
-
1998
- 1998-05-29 JP JP10148759A patent/JPH11337545A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111051859A (zh) * | 2017-08-28 | 2020-04-21 | 松下知识产权经营株式会社 | 功能水浓度传感器和计算方法 |
| JP2021056005A (ja) * | 2019-09-26 | 2021-04-08 | 大和ハウス工業株式会社 | 測定装置および測定方法 |
| JP2022187725A (ja) * | 2021-06-08 | 2022-12-20 | 東洋濾紙株式会社 | 次亜塩素酸濃度測定装置、次亜塩素酸濃度測定プログラム及び次亜塩素酸濃度測定方法 |
| CN120161001A (zh) * | 2025-05-19 | 2025-06-17 | 北京大学 | 基于紫外-可见吸收光谱定量水体中游离氯的方法及应用 |
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