JPH11337704A - Anti-reflective substrate and article using the same - Google Patents

Anti-reflective substrate and article using the same

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JPH11337704A
JPH11337704A JP10147974A JP14797498A JPH11337704A JP H11337704 A JPH11337704 A JP H11337704A JP 10147974 A JP10147974 A JP 10147974A JP 14797498 A JP14797498 A JP 14797498A JP H11337704 A JPH11337704 A JP H11337704A
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film
resin
substrate
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史子 河里
Hiroshi Shimoda
博司 下田
Ikuo Matsukura
郁生 松倉
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Abstract

(57)【要約】 【課題】表面に付着する埃などにより表示体の画像のコ
ントラストや色彩などが損なわれない反射防止性基材を
提供する。 【解決手段】透明基材、および透明基材表面側から順に
帯電防止層および非結晶性の含フッ素重合体からなる低
屈折率層を有する反射防止性基材であって、帯電防止層
の屈折率が透明基材の屈折率以下でありかつ低屈折率層
の屈折率が透明基材の屈折率より低い反射防止性基材。
(57) [Problem] To provide an antireflection base material in which the contrast and color of an image on a display body are not impaired by dust or the like adhering to the surface. An anti-reflective substrate comprising a transparent substrate, and an antistatic layer and a low refractive index layer composed of an amorphous fluoropolymer in order from the transparent substrate surface side. An antireflective substrate having a refractive index equal to or less than the refractive index of the transparent substrate and the refractive index of the low refractive index layer being lower than the refractive index of the transparent substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はポリエステルフィル
ムなどの基材上に帯電防止層および低屈折率層を有する
反射防止性基材およびそれを用いた物品に関する。
The present invention relates to an antireflective substrate having an antistatic layer and a low refractive index layer on a substrate such as a polyester film and an article using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年情報化社会の急速な発達によりパー
ソナルコンピュータ、テレビ、ビデオ再生機、ビデオ録
画機などの携帯可能な電気製品や、液晶、CRT、プラ
ズマなどの方式の大型ディスプレイが普及し、これらを
野外や照明の明るい空間で使用する場面が増加してい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, with the rapid development of the information society, portable electric products such as personal computers, televisions, video players, video recorders, and large-sized displays such as liquid crystal, CRT, and plasma have become widespread. The scenes where these are used outdoors and in brightly lit spaces are increasing.

【0003】一方、ディスプレイの最前面に位置するガ
ラスまたは樹脂などの材料を用いた光学物品は、光線の
不要反射率を低減し、透過率を向上させるために、反射
防止性であることが望ましい。
On the other hand, an optical article using a material such as glass or resin located on the frontmost surface of the display is desirably antireflective in order to reduce unnecessary reflectance of light rays and improve transmittance. .

【0004】また、光学物品の表面は絶縁物であるため
容易に帯電し、空気中のごみや埃が付着し、そのまま放
置すると堆積し、光が散乱されて白っぽくなり表示体の
画像のコントラストや色彩などを損なう問題がある。よ
って、光学物品の表面には帯電防止加工が施されている
ことが望ましい。
Also, the surface of the optical article is easily charged because it is an insulating material, dust and dirt adhere to the air, and if left as it is, it accumulates. There is a problem of impairing colors. Therefore, it is desirable that the surface of the optical article is subjected to antistatic processing.

【0005】上記の問題を解決するために、従来は透明
基材表面に導電性を有する金属酸化物の薄膜をコーティ
ングする技術が用いられている。さらにこの金属酸化物
の薄膜表面に金属酸化物より屈折率の低い薄膜をコーテ
ィングして反射防止膜を形成する技術も用いられている
ことは公知である。
In order to solve the above-mentioned problem, a technique of coating a thin film of a conductive metal oxide on the surface of a transparent substrate has conventionally been used. Further, it is known that a technique of forming an antireflection film by coating a thin film having a lower refractive index than the metal oxide on the surface of the thin film of the metal oxide is also known.

【0006】金属酸化物より屈折率の低い薄膜の材料と
して用いられるのはフッ化マグネシウム(屈折率1.3
8)、シリカ(屈折率1.44)などであるが、上記の
金属酸化物の薄膜上に塗布しても金属酸化物膜と低屈折
率膜の屈折率差が充分でないため、期待される反射防止
性能が得られない。所定の反射防止性能を得るためには
5層程度の多層膜構成にしなければならず、膜厚制御が
複雑になり、工程数も増加するので低歩留まりになった
り、コスト高になるため安価な大量生産には不向きであ
る。
Magnesium fluoride (refractive index: 1.3) is used as a material for a thin film having a lower refractive index than a metal oxide.
8), silica (refractive index: 1.44) and the like, which are expected even when coated on the above-mentioned metal oxide thin film, because the refractive index difference between the metal oxide film and the low refractive index film is not sufficient. Anti-reflection performance cannot be obtained. In order to obtain a predetermined antireflection performance, it is necessary to form a multilayer film structure of about five layers, the control of the film thickness becomes complicated, the number of steps is increased, and the yield is low, and the cost is high. Not suitable for mass production.

【0007】一方、大型ディスプレイなどの場合には帯
電防止層は膜厚ムラが避けられないが、このために反射
色の色ムラが発生するという問題があった。
On the other hand, in the case of a large display or the like, unevenness in the film thickness of the antistatic layer is unavoidable, but this causes a problem that color unevenness of the reflected color occurs.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は前述の問題点
を解決するためになされたものであり、透明基材、およ
び透明基材表面側から順に帯電防止層および非結晶性の
含フッ素重合体からなる低屈折率層を有する反射防止性
基材であって、帯電防止層の屈折率が透明基材の屈折率
以下でありかつ低屈折率層の屈折率が透明基材の屈折率
より低いことを特徴とする反射防止性基材である。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a transparent substrate, an antistatic layer and an amorphous fluorine-containing polymer in order from the transparent substrate surface side. An antireflective substrate having a low-refractive-index layer made of a coalesced material, wherein the refractive index of the antistatic layer is equal to or less than the refractive index of the transparent substrate, and the refractive index of the low-refractive-index layer is greater than the refractive index of the transparent substrate. It is an antireflective substrate characterized by being low.

【0009】本発明における透明基材はその屈折率が帯
電防止層の屈折率より高いものであれば特に限定され
ず、広範囲のものから採用される。例えば、ポリエステ
ル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、
ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポ
リエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂など
からなる板状物、シート状物、フィルム状物などが挙げ
られる。
The transparent substrate in the present invention is not particularly limited as long as its refractive index is higher than the refractive index of the antistatic layer, and is employed from a wide range. For example, polyester resin, polycarbonate resin, polyarylate resin,
Plates, sheets, films and the like made of polyphenylene sulfide resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyetherimide resin, and the like can be given.

【0010】特にポリエステル樹脂フィルムは屈折率
1.6程度で耐薬性、低吸水性に優れ、また低価格であ
る好ましい基材である。ポリエステル樹脂フィルムとし
てはコスモシャイン(東洋紡社製商品名)シリーズ、ダ
イヤホイル(三菱樹脂社製商品名)シリーズ、ルミラー
(東レ社製商品名)シリーズなどとして市販されている
ものが使用できる。
Particularly, a polyester resin film is a preferable base material having a refractive index of about 1.6, excellent chemical resistance, low water absorption, and low cost. As the polyester resin film, those commercially available as Cosmoshine (trade name, manufactured by Toyobo) series, Diafoil (trade name, manufactured by Mitsubishi Plastics) series, Lumirror (trade name, manufactured by Toray) series and the like can be used.

【0011】また透明基材にアンチグレア加工、プリズ
ム加工が施されたもの、偏光機能、光拡散機能、位相差
機能などの各種機能を付加されたものなども使用でき
る。
Further, a transparent base material which has been subjected to anti-glare processing and prism processing, and a substrate provided with various functions such as a polarizing function, a light diffusing function and a phase difference function can be used.

【0012】本発明における帯電防止層の屈折率は透明
基材の屈折率以下である。透明基材の屈折率をn1 、帯
電防止層の屈折率をn2 と表せば、n1 とn2 の関係は
以下の式(1)〜(3)を同時に満足することが、透明
基材と帯電防止層との界面で光の干渉が起こりにくく反
射色の色ムラ発生をより抑制できるため好ましい。 (1)1.55≦n1 ≦1.70 (2)1.50≦n2 ≦1.65 (3)n1 −n2 ≦0.05
In the present invention, the refractive index of the antistatic layer is lower than that of the transparent substrate. N 1 the refractive index of the transparent substrate, if indicated a refractive index of the antistatic layer and the n 2, the relationship of n 1 and n 2 are able to satisfy the following equation (1) to (3) simultaneously, a transparent base This is preferable because light interference hardly occurs at the interface between the material and the antistatic layer, and the occurrence of color unevenness in the reflected color can be further suppressed. (1) 1.55 ≦ n 1 ≦ 1.70 (2) 1.50 ≦ n 2 ≦ 1.65 (3) n 1 −n 2 ≦ 0.05

【0013】n1 とn2 の関係は以下の式(4)〜
(6)を同時に満足することがより好ましい。 (4)1.60≦n1 ≦1.65 (5)1.57≦n2 ≦1.62 (6)n1 −n2 ≦0.03
The relationship between n 1 and n 2 is given by the following equations (4) to (4).
It is more preferable that (6) be satisfied at the same time. (4) 1.60 ≦ n 1 ≦ 1.65 (5) 1.57 ≦ n 2 ≦ 1.62 (6) n 1 −n 2 ≦ 0.03

【0014】帯電防止層の膜厚は、充分な帯電防止性能
が得られかつ着色による透過率の低下がないことから、
30〜500nmが好ましく、50〜300nmがより
好ましい。
The thickness of the antistatic layer is such that sufficient antistatic performance can be obtained and the transmittance does not decrease due to coloring.
It is preferably from 30 to 500 nm, more preferably from 50 to 300 nm.

【0015】帯電防止層は、その屈折率が透明基材の屈
折率以下となる材料から形成される。帯電防止層として
は、導電性を有する金属酸化物からなる層または導電性
を有する金属酸化物を有する樹脂の層が好ましい。
The antistatic layer is formed from a material whose refractive index is lower than that of the transparent substrate. As the antistatic layer, a layer made of a conductive metal oxide or a layer of a resin having a conductive metal oxide is preferable.

【0016】金属酸化物はその比抵抗が1×10-7〜1
×103 Ω・mであることが好ましい。金属酸化物とし
ては、Sb25 、SnO2 、In23 、TiO2
RuO2 、Ta25 、Yb23 、Ag2 O、Cu
O、FeOなどが挙げられ、透明性と造膜性が良いこと
から、Sb25 、SnO2 、In23 などが好まし
い。また、上記金属酸化物の金属とSb、Alなどの金
属との合金の酸化物からなる帯電防止層でもよく、導電
性がより高まるため好ましい。
The metal oxide has a specific resistance of 1 × 10 -7 to 1
It is preferably × 10 3 Ω · m. As the metal oxide, Sb 2 O 5 , SnO 2 , In 2 O 3 , TiO 2 ,
RuO 2 , Ta 2 O 5 , Yb 2 O 3 , Ag 2 O, Cu
Ob, Ob, and the like are preferable, and Sb 2 O 5 , SnO 2 , In 2 O 3, and the like are preferable because they have good transparency and film-forming properties. Further, an antistatic layer made of an oxide of an alloy of a metal of the above metal oxide and a metal such as Sb or Al may be used, which is preferable because conductivity is further increased.

【0017】帯電防止層に使用される樹脂は、造膜性が
あり、透明基材と低屈折率層の密着性向上に役立つ樹脂
から選択することが好ましい。また、樹脂に対する金属
酸化物の配合量は、金属酸化物の導電性を損なわず、帯
電防止層の屈折率が透明基材の屈折率以下となるように
調整される。
The resin used for the antistatic layer is preferably selected from resins having film forming properties and useful for improving the adhesion between the transparent substrate and the low refractive index layer. The amount of the metal oxide to be added to the resin is adjusted so that the conductivity of the metal oxide is not impaired and the refractive index of the antistatic layer is equal to or less than the refractive index of the transparent substrate.

【0018】帯電防止層に使用される樹脂としては、前
述の透明基材に使用される樹脂と同様な樹脂、またはフ
ェノール樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、セルロー
ス樹脂、エポキシ樹脂、ビニル樹脂、エチレン/酢酸ビ
ニル共重合体樹脂、エチレン/ビニルアルコール共重合
体樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリルエーテル樹脂、ポ
リエチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、
シリコーン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ(o−クロロ
スチレン)樹脂、ポリ(2,6−ジクロロスチレン)樹
脂、ポリ(ブロモスチレン)樹脂、ポリ(2,6−ジブ
ロモスチレン)樹脂、芳香族ポリエステル樹脂、ポリア
リールスルホン樹脂、ポリ(ペンタブロモフェニルメタ
クリレート)樹脂、フェノキシ樹脂およびその臭素化
物、エポキシ樹脂およびその臭素化物などが挙げられ
る。
The resin used for the antistatic layer is the same as the resin used for the transparent substrate described above, or a phenol resin, an acrylic resin, a melamine resin, a cellulose resin, an epoxy resin, a vinyl resin, Vinyl acetate copolymer resin, ethylene / vinyl alcohol copolymer resin, polyamide resin, polyallyl ether resin, polyethylene resin, polyurethane resin, vinyl chloride resin,
Silicone resin, polystyrene resin, poly (o-chlorostyrene) resin, poly (2,6-dichlorostyrene) resin, poly (bromostyrene) resin, poly (2,6-dibromostyrene) resin, aromatic polyester resin, poly Examples include an aryl sulfone resin, a poly (pentabromophenyl methacrylate) resin, a phenoxy resin and a bromide thereof, and an epoxy resin and a bromide thereof.

【0019】特にフェノキシ樹脂やエポキシ樹脂は、エ
ポキシ基からなる密着性基を有し、基材と低屈折率層を
密着させやすいため好ましい。
In particular, phenoxy resins and epoxy resins are preferred because they have an adhesive group consisting of an epoxy group and can easily adhere the substrate to the low refractive index layer.

【0020】また、透明基材と低屈折率層の密着力を強
化するためシランカップリング剤や、シリコーンプライ
マーなどを帯電防止層の導電性が損なわれない程度に使
用してもよい。
Further, a silane coupling agent or a silicone primer may be used to enhance the adhesion between the transparent substrate and the low refractive index layer to such an extent that the conductivity of the antistatic layer is not impaired.

【0021】帯電防止層を形成する方法としては、成膜
コストが安く、塗工性に優れ、安定的に生産できること
から、帯電防止層に使用される樹脂の有機溶剤溶液に金
属酸化物が分散された分散液を用い、ダイコートでコー
ティングすることによる方法が好ましい。ダイコートで
コーティングする場合、有機溶剤は沸点が70℃以上、
表面張力が50dyn/cm以下であることが好まし
い。
As a method of forming the antistatic layer, the metal oxide is dispersed in an organic solvent solution of the resin used for the antistatic layer because the film formation cost is low, the coating property is excellent, and the production can be stably performed. The method of coating with a die coat using the prepared dispersion is preferable. When coating with a die coat, the organic solvent has a boiling point of 70 ° C or higher,
It is preferable that the surface tension is 50 dyn / cm or less.

【0022】具体的には、シクロヘキサノン、トルエ
ン、キシレン、イソブチルアルコール、酢酸イソブチ
ル、スチレン、ドデカン、ノナン、ジクロロペンタフル
オロプロパンなどが挙げられる。これらの有機溶剤は1
種でも2種以上の混合物としても使用できる。また、表
面張力が高くコーティングしにくい有機溶剤の場合は、
界面活性剤を配合し表面張力を下げてコーティングする
こともできる。
Specific examples include cyclohexanone, toluene, xylene, isobutyl alcohol, isobutyl acetate, styrene, dodecane, nonane, dichloropentafluoropropane and the like. These organic solvents are 1
They can be used alone or as a mixture of two or more. In the case of organic solvents that have high surface tension and are difficult to coat,
A surfactant can be blended to lower the surface tension for coating.

【0023】金属酸化物の形状は特に制限はない。球
状、板状、多角形状、針状、楕円状などいずれでもよ
く、また2種以上の形状を併用してもよい。
The shape of the metal oxide is not particularly limited. The shape may be spherical, plate-like, polygonal, needle-like, elliptical, or the like, or two or more kinds may be used in combination.

【0024】分散液にする際の金属酸化物の1次粒子の
平均粒径は10〜100nmが好ましく、20〜70n
mがより好ましい。平均粒径が小さすぎると分散液状態
で凝集、沈殿が起こりやすく不安定であり、また、帯電
防止層を形成した際金属酸化物粒子間の非接触点数が増
え導電性が損なわれることがあり好ましくない。平均粒
径が大きすぎるとレイリー散乱がおこりヘイズが増加し
透過光量が低下したり、膜厚制御が容易でなくなるため
好ましくない。
The average particle size of the primary particles of the metal oxide in the dispersion is preferably from 10 to 100 nm, preferably from 20 to 70 n.
m is more preferred. If the average particle size is too small, aggregation and precipitation are likely to occur in a dispersion state, which is unstable, and the number of non-contact points between metal oxide particles increases when an antistatic layer is formed, and conductivity may be impaired. Not preferred. If the average particle size is too large, Rayleigh scattering occurs, haze increases, the amount of transmitted light decreases, and film thickness control is not easy.

【0025】また、金属酸化物粒子のみで分散させる湿
式成膜法の場合、正極、負極に帯電した粒子同士が凝集
したり、沈殿したりすることがある。その場合は金属酸
化物の表面をシランカップリング剤で処理することによ
り、分散性、均一性を長期に渡り維持することができ
る。さらにエポキシ基、アミノ基のような官能基を有す
るシランカップリングを用いると透明基材や低屈折率層
との密着力を強化することもできる。
In the case of a wet film-forming method in which only the metal oxide particles are dispersed, the particles charged on the positive electrode and the negative electrode may aggregate or precipitate. In that case, dispersibility and uniformity can be maintained over a long period of time by treating the surface of the metal oxide with a silane coupling agent. Further, when a silane coupling having a functional group such as an epoxy group or an amino group is used, the adhesion to a transparent substrate or a low refractive index layer can be enhanced.

【0026】低屈折率層を形成する非結晶性の含フッ素
重合体としては、結晶による光の散乱が実質的にないた
めに、透明性に優れる含フッ素重合体であれば何ら限定
されない。例えば、テトラフルオロエチレン/ビニリデ
ンフルオリド/ヘキサフルオロプロピレン=37〜48
重量%/15〜35重量%/26〜44重量%の3元共
重合体などの非結晶性のフルオロオレフィン系共重合
体、含フッ素脂肪族環構造を有する重合体などがある。
特に、含フッ素脂肪族環構造を有する重合体が耐クリー
プ性などの機械的特性に優れるため好ましく採用され
る。
The non-crystalline fluorine-containing polymer forming the low refractive index layer is not particularly limited as long as the polymer is excellent in transparency because the light is not substantially scattered by crystals. For example, tetrafluoroethylene / vinylidene fluoride / hexafluoropropylene = 37-48
Non-crystalline fluoroolefin-based copolymers such as terpolymers of 15% by weight / 15-35% by weight / 26-44% by weight, and polymers having a fluorinated aliphatic ring structure.
In particular, a polymer having a fluorinated aliphatic ring structure is preferably employed because of its excellent mechanical properties such as creep resistance.

【0027】含フッ素脂肪族環構造を有する重合体とし
ては、含フッ素環構造を有するモノマーを重合して得ら
れるものや、少なくとも2つの重合性二重結合を有する
含フッ素モノマーを環化重合して得られる主鎖に含フッ
素脂肪族環構造を有する重合体が好適である。
Examples of the polymer having a fluorinated aliphatic ring structure include those obtained by polymerizing a monomer having a fluorinated ring structure and those obtained by cyclopolymerizing a fluorinated monomer having at least two polymerizable double bonds. The polymer having a fluorinated aliphatic ring structure in the main chain obtained by the above method is preferred.

【0028】主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有すると
は、肪肪族環を構成する炭素原子の1以上が主鎖を構成
する炭素連鎖中の炭素原子であり、かつ肪肪族環を構成
する炭素原子の少なくとも一部にフッ素原子またはフッ
素含有基が結合している構造を有していることを意味す
る。
Having a fluorinated aliphatic ring structure in the main chain means that at least one carbon atom constituting the aliphatic ring is a carbon atom in the carbon chain constituting the main chain, and It has a structure in which a fluorine atom or a fluorine-containing group is bonded to at least a part of the constituent carbon atoms.

【0029】含フッ素環構造を有するモノマーを重合し
て得られる主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体
は、特公昭63−18964などにより知られている。
すなわち、パーフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−
ジオキソール)などの含フッ素環構造を有するモノマー
の単独重合体、このモノマーとテトラフルオロエチレン
などのラジカル重合性モノマーとの共重合体などが挙げ
られる。
A polymer having a fluorinated aliphatic ring structure in the main chain obtained by polymerizing a monomer having a fluorinated ring structure is known from JP-B-63-18964.
That is, perfluoro (2,2-dimethyl-1,3-
Homopolymers of a monomer having a fluorinated ring structure such as dioxol), and copolymers of this monomer and a radical polymerizable monomer such as tetrafluoroethylene.

【0030】また、少なくとも2つの重合性二重結合を
有する含フッ素モノマーを環化重合して得られる主鎖に
含フッ素脂肪族環構造を有する重合体は、特開昭63−
238111や特開昭63−238115などにより知
られている。すなわち、パーフルオロ(アリルビニルエ
ーテル)やパーフルオロ(ブテニルビニルエーテル)な
どの少なくとも2つの重合性二重結合を有する含フッ素
モノマーの環化重合体、または少なくとも2つの重合性
二重結合を有する含フッ素モノマーとテトラフルオロエ
チレンなどのラジカル重合性モノマーとの共重合体が挙
げられる。
A polymer having a fluorinated aliphatic ring structure in the main chain obtained by cyclopolymerization of a fluorinated monomer having at least two polymerizable double bonds is disclosed in
238111 and JP-A-63-238115. That is, a cyclized polymer of a fluorinated monomer having at least two polymerizable double bonds such as perfluoro (allyl vinyl ether) or perfluoro (butenyl vinyl ether), or a fluorinated polymer having at least two polymerizable double bonds Copolymers of a monomer and a radical polymerizable monomer such as tetrafluoroethylene are exemplified.

【0031】また、パーフルオロ(2,2−ジメチル−
1,3−ジオキソール)などの含フッ素環構造を有する
モノマーとパーフルオロ(アリルビニルエーテル)やパ
ーフルオロ(ブテニルビニルエーテル)などの少なくと
も2つの重合性二重結合を有する含フッ素モノマーを共
重合して得られる重合体でもよい。
Further, perfluoro (2,2-dimethyl-
A monomer having a fluorinated ring structure such as 1,3-dioxole) is copolymerized with a fluorinated monomer having at least two polymerizable double bonds such as perfluoro (allyl vinyl ether) and perfluoro (butenyl vinyl ether). The obtained polymer may be used.

【0032】含フッ素脂肪族環構造を有する重合体は、
主鎖に環構造を有する重合体が好適であるが、環構造を
有する重合単位を20モル%以上含有するものが透明
性、機械的特性などの面から好ましい。
The polymer having a fluorinated aliphatic ring structure is
Polymers having a ring structure in the main chain are preferred, but those containing 20 mol% or more of polymerized units having a ring structure are preferred in terms of transparency, mechanical properties, and the like.

【0033】本発明において、低屈折率層を形成する方
法は特に制約はなく、任意の加工法を選択できる。例え
ば、含フッ素脂肪族環構造を有する重合体は、パーフル
オロオクタン、CF3 (CF2n CH=CH2 (nは
5〜11の整数)、CF3 (CF2m CH2 CH3
(mは5〜11の整数)、ヒドロキシフルオロエーテル
などのフッ素系溶剤に可溶であり、この重合体の溶液を
塗布し溶剤を乾燥させることによって容易に所定の膜厚
を塗工できる。低屈折率層の膜厚は、50〜200nm
が好ましく、80〜150nmがより好ましい。
In the present invention, the method of forming the low refractive index layer is not particularly limited, and an arbitrary processing method can be selected. For example, polymers having a fluorinated aliphatic ring structure include perfluorooctane, CF 3 (CF 2 ) n CH = CH 2 (n is an integer of 5 to 11), and CF 3 (CF 2 ) m CH 2 CH 3
(M is an integer of 5 to 11), and is soluble in a fluorine-based solvent such as hydroxyfluoroether, and a predetermined thickness can be easily applied by applying a solution of this polymer and drying the solvent. The thickness of the low refractive index layer is 50 to 200 nm.
Is preferable, and 80 to 150 nm is more preferable.

【0034】透明基材表面と帯電防止層の密着性または
帯電防止層と低屈折率層の密着性を強化するために、ア
ミノシランカップリング剤、エポキシシランカップリン
グ剤、アミノ基、エポキシ基などの官能基を有するシリ
コーンプライマー(例えば、信越化学工業社製PC−7
A)などで透明基材表面または帯電防止層表面を光学的
影響が少ない薄膜10nm以下で処理してもよい。
In order to enhance the adhesion between the surface of the transparent substrate and the antistatic layer or the adhesion between the antistatic layer and the low refractive index layer, aminosilane coupling agents, epoxysilane coupling agents, amino groups, epoxy groups, etc. Silicone primer having a functional group (for example, PC-7 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
In A) or the like, the surface of the transparent substrate or the surface of the antistatic layer may be treated with a thin film having a small optical influence of 10 nm or less.

【0035】また、前記密着性強化のための処理前にま
たは帯電防止層形成前に、透明基材表面にコロナ放電処
理、紫外線処理などの活性エネルギー線処理を施しても
よい。帯電防止層表面に低屈折率層を形成する際も密着
性を強化するため、帯電防止層表面にコロナ放電処理、
紫外線処理などの活性エネルギー線処理を施してもよ
い。
Before the treatment for enhancing the adhesion or before forming the antistatic layer, the surface of the transparent substrate may be subjected to an active energy ray treatment such as a corona discharge treatment or an ultraviolet treatment. When forming a low refractive index layer on the surface of the antistatic layer, the surface of the antistatic layer is subjected to corona discharge treatment in order to enhance adhesion.
Active energy ray treatment such as ultraviolet treatment may be performed.

【0036】低屈折率層のコーティング後においては、
塗布用溶剤を完全に蒸発させかつ、形成された塗膜層の
密着性を上げるため透明基材フィルムと塗膜層が耐え得
る温度で焼成するか、遠赤外線照射、電子ビームなどの
熱エネルギーを与えるとよい。
After coating the low refractive index layer,
In order to completely evaporate the coating solvent and increase the adhesion of the formed coating layer, bake it at a temperature that the transparent substrate film and the coating layer can withstand, or radiate thermal energy such as far-infrared irradiation, electron beam, etc. Good to give.

【0037】また、低屈折率層表面の耐摩耗性を付与さ
せるため潤滑剤を反射防止性能を損なわない程度に低屈
折率層表面に塗布したり、低屈折率層形成材料中に潤滑
剤を配合してもよい。このような潤滑剤として、デュポ
ン社製の商品名クライトックス、ダイキン社製の商品名
デムナム、ダイキン社製の商品名ダイフロイル、アウジ
モント社製の商品名フォンブリン、旭硝子社製の商品名
フロンルーブなどのパーフルオロポリエーテル類が挙げ
られる。
In order to impart abrasion resistance to the surface of the low-refractive-index layer, a lubricant is applied to the surface of the low-refractive-index layer to such an extent that the antireflection performance is not impaired. You may mix. As such lubricants, such as DuPont product name Krytox, Daikin product name Demnum, Daikin product name Daifoil, Ausimont product name Fomblin, Asahi Glass product name Freonlube, etc. Perfluoropolyethers.

【0038】本発明の反射防止性基材を製造するための
コーティング方法はディップコート法、ロールコート
法、スプレーコート法、グラビアコート法、コンマコー
ト法などの方法が好ましい。これらのコート法は連続加
工が可能であり、バッチ式の蒸着法に比べて生産性が優
れる。また、生産性は若干劣るが、スピンコート法など
も採用できる。
The coating method for producing the antireflective substrate of the present invention is preferably a dip coating method, a roll coating method, a spray coating method, a gravure coating method, a comma coating method, or the like. These coating methods are capable of continuous processing, and are superior in productivity as compared with a batch type evaporation method. Although the productivity is slightly inferior, a spin coating method or the like can also be employed.

【0039】特に特開平07−151904で知られて
いるダイコートを用いると連続生産性に優れ、大型サイ
ズも成膜可能であり、膜厚偏差が小さく、小型機種から
大型機種まで容易に対応できる。
In particular, the use of a die coat known in Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-151904 is excellent in continuous productivity, can form a large-sized film, has a small thickness deviation, and can easily cope with small to large models.

【0040】本発明における反射防止性基材を用いた物
品としては、帯電防止性および低反射防止性を必要とす
る透明基材を有する物品であれば特に限定されない。例
えば、パーソナルコンピュータ、テレビ、ビデオ再生
機、ビデオ録画機、ディスプレイなどの電気製品が挙げ
られる。ディスプレイとしては、CRT、液晶ディスプ
レイ、プラズマディスプレイ、発光ダイオードディスプ
レイ、エレクトロクロミックディスプレイなどの方式か
らなるディスプレイが挙げられる。
The article using the anti-reflective substrate in the present invention is not particularly limited as long as it has a transparent substrate requiring antistatic properties and low anti-reflective properties. For example, electrical products such as a personal computer, a television, a video player, a video recorder, and a display can be used. Examples of the display include a CRT, a liquid crystal display, a plasma display, a light emitting diode display, and an electrochromic display.

【0041】本発明の反射防止性基材は偏光フィルム、
あるいは文字または画像情報表示ようディスプレイに貼
付したり、あるいは他のフィルムやシートに貼付するこ
とができる。この反射防止性基材を貼付することでディ
スプレイ本体の強度向上、あるいは飛散防止にも寄与で
きる。
The antireflective substrate of the present invention comprises a polarizing film,
Alternatively, it can be attached to a display so as to display text or image information, or can be attached to another film or sheet. By sticking this antireflective base material, it is possible to contribute to improvement of the strength of the display body or prevention of scattering.

【0042】反射防止性基材の貼付方法としては特に制
限はなく、接着、粘着、熱融着などの方法を選ぶことが
できる。本発明の反射防止性基材を他のフィルムやシー
トに貼付たものは、プロジェクション画面の前面パネ
ル、CRTフィルタ、液晶ディスプレイ保護パネルなど
のようにディスプレイの前面に配置する場合に前述のよ
うな視認性の向上に寄与でき、また、タッチパネルとし
ても有用である。
The method for attaching the antireflective substrate is not particularly limited, and a method such as adhesion, adhesion, and heat fusion can be selected. When the antireflective substrate of the present invention is attached to another film or sheet, it is visible as described above when it is disposed on the front of a display such as a front panel of a projection screen, a CRT filter, a liquid crystal display protection panel, or the like. It can contribute to improvement of the performance and is also useful as a touch panel.

【0043】[0043]

【実施例】例1(合成例) パーフルオロ(ブテニビニルエーテル)35g、イオン
交換水150gおよび重合開始剤として((CH32
CHOCOO)2 90mgを、内容積200mlの耐圧
ガラス製オートクレーブに入れた。これを3回窒素で置
換した後、40℃で22時間懸濁重合を行った。その結
果、重合体(以下、重合体Aという)を28g得た。
EXAMPLES Example 1 (Synthesis Example) 35 g of perfluoro (butenivinyl ether), 150 g of ion-exchanged water, and ((CH 3 ) 2 as a polymerization initiator)
90 mg of (CHOCOO) 2 was placed in a pressure-resistant glass autoclave having an internal volume of 200 ml. After replacing this with nitrogen three times, suspension polymerization was carried out at 40 ° C. for 22 hours. As a result, 28 g of a polymer (hereinafter, referred to as polymer A) was obtained.

【0044】重合体Aの固有粘度[η]は、パーフルオ
ロ(2−ブチルテトラヒドロフラン)中30℃で0.5
dl/gであった。重合体Aのガラス転移点は108℃
であり、室温ではタフで透明なガラス状の重合体であっ
た。また、10%熱分解温度は460℃であり、屈折率
は1.34と低く、光線透過率は95%以上と高かっ
た。重合体Aの2.0重量%パーフルオロ(2−ブチル
テチラヒドロフラン)溶液(以下、溶液Aという)を調
製した。
The intrinsic viscosity [η] of the polymer A is 0.5 at 30 ° C. in perfluoro (2-butyltetrahydrofuran).
dl / g. Glass transition point of polymer A is 108 ° C.
And at room temperature was a tough and transparent glassy polymer. The 10% thermal decomposition temperature was 460 ° C., the refractive index was as low as 1.34, and the light transmittance was as high as 95% or more. A 2.0% by weight solution of polymer A in perfluoro (2-butyltetrahydrofuran) (hereinafter referred to as solution A) was prepared.

【0045】例2(合成例) Sn−Sb合金の酸化物のシクロヘキサノン分散液(触
媒化成工業社製ELCOM−P3580、固形分濃度5
重量%)70部にシクロヘキサノンで希釈した臭素化エ
ポキシ樹脂(東都化成社製フェノトート、固形分濃度5
重量%)を30部添加してコーティング溶液(以下、溶
液Bという)を得た。溶液Bをガラス面にスピンコート
し120℃で10分加熱することにより帯電防止層を形
成した。帯電防止層の屈折率は1.63であった。
Example 2 (Synthesis Example) Cyclohexanone dispersion of Sn-Sb alloy oxide (ELCOM-P3580, manufactured by Kasei Kagaku Kogyo Co., Ltd., solid content concentration: 5)
70% by weight of brominated epoxy resin diluted with cyclohexanone (phenotote, manufactured by Toto Kasei Co.,
(% By weight) was added to obtain a coating solution (hereinafter referred to as solution B). The solution B was spin-coated on a glass surface and heated at 120 ° C. for 10 minutes to form an antistatic layer. The refractive index of the antistatic layer was 1.63.

【0046】例3(実施例) ダイコート法で「屈折率1.63のポリエチレンテレフ
タレートフィルム[東洋紡社製A4100、フィルム厚
100μm]」(以下、PETフィルムCと略す)に溶
液Bを膜厚100nmになるようにコーティングし、続
いて溶液Aを膜厚104nmになるようにコーティング
し、120℃のオーブンを通過させ、「帯電防止層と低
屈折率層を有するPETフィルム」(以下、PETフィ
ルムDと略す)を得た。
Example 3 (Example) A solution B was applied to a polyethylene terephthalate film having a refractive index of 1.63 [A4100 manufactured by Toyobo Co., film thickness 100 μm] (hereinafter abbreviated as PET film C) to a film thickness of 100 nm by a die coating method. And then coated with solution A to a thickness of 104 nm, and passed through an oven at 120 ° C. to obtain a “PET film having an antistatic layer and a low refractive index layer” (hereinafter referred to as PET film D). Abbreviated).

【0047】PETフィルムDの可視光線(波長400
〜700nm)の片面平均反射率(以下、400〜70
0nmの平均反射率と略す)は0.3%であった。PE
TフィルムDの裏面を液晶ディスプレイ(LCD)に貼
付したところ、外光の映り込みが低減し、視認性が向上
した。
The visible light of the PET film D (wavelength 400
To 700 nm) (hereinafter, 400 to 70).
The average reflectance at 0 nm was abbreviated to 0.3%. PE
When the back surface of the T film D was attached to a liquid crystal display (LCD), reflection of external light was reduced and visibility was improved.

【0048】例4(比較例) PETフィルムCの片面平均反射率は6.0%であっ
た。また、PETフィルムCの裏面をLCD表面に貼付
したところ外光の映り込みは激しく、視認性は損なわれ
ていることを確認した。
Example 4 (Comparative Example) The average reflectance on one side of PET film C was 6.0%. Further, when the back surface of the PET film C was attached to the LCD surface, reflection of outside light was intense, and it was confirmed that visibility was impaired.

【0049】例5(比較例) ダイコート法でPETフィルムCに溶液Aを膜厚104
nmになるようにコーティングし、120℃のオーブン
を通過させ、「低屈折率層のみを有するPETフィル
ム」(以下、PETフィルムEと略す)を得た。PET
フィルムEの可視光線(波長400〜700nm)の片
面平均反射率は0.3%であった。PETフィルムEの
裏面をLCDに貼付したところ、外光の映り込みが低減
し、視認性が向上した。
Example 5 (Comparative Example) Solution A was applied to PET film C by die coating method to a film thickness of 104.
nm, and passed through an oven at 120 ° C. to obtain “PET film having only low refractive index layer” (hereinafter abbreviated as PET film E). PET
The single-sided average reflectance of the film E for visible light (wavelength 400 to 700 nm) was 0.3%. When the rear surface of the PET film E was attached to the LCD, reflection of external light was reduced, and visibility was improved.

【0050】例6(比較例) 例3におけるPETフィルムCの代わりに「屈折率1.
49のポリメチルメタクリレートフィルム[フィルム厚
100μm](以下、アクリルフィルムFと略す)を使
用する以外、例3と同様にして「帯電防止層と低屈折率
層を有するアクリルフィルム」(以下、アクリルフィル
ムGと略す)を得た。
Example 6 (Comparative Example) In place of the PET film C in Example 3, "refractive index 1.
"Acrylic film having antistatic layer and low refractive index layer" (hereinafter acrylic film) in the same manner as in Example 3, except that a polymethyl methacrylate film [film thickness of 100 µm] (hereinafter abbreviated as acrylic film F) is used. G).

【0051】アクリルフィルムGの可視光線(波長40
0〜700nm)の片面平均反射率(以下、400〜7
00nmの平均反射率と略す)は0.3%であった。ア
クリルフィルムGの裏面をLCDに貼付したところ、外
光の映り込みが低減し、視認性が向上したが、反射色の
色ムラが観察された。
The visible light (wavelength 40) of the acrylic film G
0 to 700 nm) (hereinafter, 400 to 7)
(Abbreviated as average reflectance at 00 nm) was 0.3%. When the back surface of the acrylic film G was attached to the LCD, reflection of external light was reduced and visibility was improved, but color unevenness of the reflected color was observed.

【0052】例3〜6におけるPETフィルムC〜Eお
よびアクリルフィルムGについて表面抵抗率測定、灰の
付着度合試験、擦傷性試験および碁盤目テープ剥離試験
を行った。結果を表1に示す。
The PET films C to E and the acrylic film G in Examples 3 to 6 were subjected to surface resistivity measurement, ash adhesion degree test, abrasion test and cross cut tape test. Table 1 shows the results.

【0053】なお、表面抵抗率はアドバンテスト社ウル
トラハイレジスタンスメーターを用いて計測した。灰の
付着度合試験は、室内で上記例3〜5の3種のフィルム
表面を乾いた布で20回摩耗した直後、乾燥した煙草の
灰に近づけ、灰の付き具合を観察した。擦傷性試験は小
津商事社製ダスパーKを用い、500gの荷重をかけて
40回往復摩耗し試験後の膜外観を観測した。碁盤目テ
ープ試験はJIS K5400碁盤目テープ法に基づい
て試験した。
The surface resistivity was measured using an Ultra High Resistance Meter manufactured by Advantest. In the ash adhesion degree test, immediately after the three types of film surfaces of Examples 3 to 5 were abraded 20 times with a dry cloth in a room, the film was brought close to dry tobacco ash and the degree of ash adhesion was observed. The abrasion test was performed by using Oda Shoji Co., Ltd.'s Dasper K under a load of 500 g and reciprocating abrasion 40 times, and the film appearance after the test was observed. The crosscut tape test was performed based on the JIS K5400 crosscut tape method.

【0054】[0054]

【表1】 [Table 1]

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明における帯電防止層の屈折率は透
明基材の屈折率以下であるため光学的には帯電防止層の
膜厚に依存せずに、低屈折率層による高い反射防止効果
が得られる。また、帯電防止層の膜厚偏差は光学ムラに
なりにくく、大型サイズの反射防止性基材も容易に製造
できる。
According to the present invention, since the refractive index of the antistatic layer in the present invention is lower than the refractive index of the transparent substrate, optically, it does not depend on the thickness of the antistatic layer, but the high antireflection effect of the low refractive index layer. Is obtained. Further, the thickness deviation of the antistatic layer hardly causes optical unevenness, and a large-sized antireflection base material can be easily manufactured.

【0056】本発明の反射防止性基材は優れた反射防止
性と帯電防止性を有し、しかも帯電防止層が基材と低屈
折率層の密着を強化し、傷発生、剥離発生を防ぐことが
できる。したがって、例えば、この反射防止性基材を表
面の保護板に用いた画像表示製品は、外光の写り込みが
外観を阻害したり、静電気により帯電して表面に埃が付
着し表示体の画像が不鮮明となったりすることがない。
The anti-reflective substrate of the present invention has excellent anti-reflective properties and anti-static properties, and the anti-static layer enhances the adhesion between the substrate and the low refractive index layer and prevents scratching and peeling. be able to. Therefore, for example, in an image display product using this antireflective base material as a protective plate on the surface, reflection of external light impairs the appearance, or dust adheres to the surface due to static electricity and the image of the display body Is not blurred.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G09F 9/00 318 G02B 1/10 Z ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G09F 9/00 318 G02B 1/10 Z

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】透明基材、および透明基材表面側から順に
帯電防止層および非結晶性の含フッ素重合体からなる低
屈折率層を有する反射防止性基材であって、帯電防止層
の屈折率が透明基材の屈折率以下でありかつ低屈折率層
の屈折率が透明基材の屈折率より低いことを特徴とする
反射防止性基材。
1. An anti-reflective substrate comprising a transparent substrate, and an antistatic layer and a low refractive index layer comprising a non-crystalline fluoropolymer in order from the transparent substrate surface side. An antireflective substrate, wherein the refractive index is lower than the refractive index of the transparent substrate and the refractive index of the low refractive index layer is lower than the refractive index of the transparent substrate.
【請求項2】透明基材の屈折率n1 および帯電防止層の
屈折率n2 が以下の式(1)〜(3)を同時に満足する
請求項1記載の反射防止基材。 (1)1.55≦n1 ≦1.70 (2)1.50≦n2 ≦1.65 (3)n1 −n2 ≦0.05
Wherein the refractive index n 2 of the following formula refractive index n 1 and an antistatic layer of a transparent substrate (1) to (3) simultaneously satisfying claim 1 antireflective substrate described. (1) 1.55 ≦ n 1 ≦ 1.70 (2) 1.50 ≦ n 2 ≦ 1.65 (3) n 1 −n 2 ≦ 0.05
【請求項3】低屈折率層の屈折率が1.36以下である
請求項1または2記載の反射防止性基材。
3. The antireflective substrate according to claim 1, wherein the low refractive index layer has a refractive index of 1.36 or less.
【請求項4】非結晶性の含フッ素重合体が含フッ素脂肪
族環構造を有する重合体である請求項1、2または3記
載の反射防止性基材。
4. The antireflective substrate according to claim 1, wherein the non-crystalline fluorine-containing polymer is a polymer having a fluorine-containing aliphatic ring structure.
【請求項5】請求項1、2、3または4記載の反射防止
性基材を用いた物品。
5. An article using the antireflective substrate according to claim 1, 2, 3, or 4.
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