JPH11337773A - 光モジュール - Google Patents
光モジュールInfo
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- JPH11337773A JPH11337773A JP14450598A JP14450598A JPH11337773A JP H11337773 A JPH11337773 A JP H11337773A JP 14450598 A JP14450598 A JP 14450598A JP 14450598 A JP14450598 A JP 14450598A JP H11337773 A JPH11337773 A JP H11337773A
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- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 使用する半導体プロセス装置によらず製造で
きる光モジュールを提供する。 【解決手段】 光モジュール100において,PD11
0は,ヘッダ130に搭載されて,基板140表面14
2の実装部142aに配置される。また,光ファイバ1
20は,カバー150に押さえられながら保持基板16
0のV溝164bに嵌め込まれて,基板140表面14
2の実装部142a以外の領域に配置される。光モジュ
ール100において,ヘッダ130と保持基板160と
は,マーカ134aとマーカ164aとを合わせること
によって精度良く位置合わせされる。また,保持基板1
60は,精度の高い張り合わせで表面142に固定され
る。結果として,PD110と光ファイバ120とのア
ラインメントが正確に実現される。
きる光モジュールを提供する。 【解決手段】 光モジュール100において,PD11
0は,ヘッダ130に搭載されて,基板140表面14
2の実装部142aに配置される。また,光ファイバ1
20は,カバー150に押さえられながら保持基板16
0のV溝164bに嵌め込まれて,基板140表面14
2の実装部142a以外の領域に配置される。光モジュ
ール100において,ヘッダ130と保持基板160と
は,マーカ134aとマーカ164aとを合わせること
によって精度良く位置合わせされる。また,保持基板1
60は,精度の高い張り合わせで表面142に固定され
る。結果として,PD110と光ファイバ120とのア
ラインメントが正確に実現される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は,光モジュールに関
する。
する。
【0002】
【従来の技術】近年,光通信システムにおいては,加入
者系やLANの普及に向けて,通信機器に使用する光モ
ジュールの小型化及び低価格化の要求が高まっている。
かかる状況において,従来,いわゆる表面実装型の光モ
ジュールが提案されている。ここで,従来の表面実装型
の光モジュールの構成について,図3及び図4に示す光
モジュール200を例示して簡単に説明する。なお,図
3は,従来の光モジュール200の概略的な分解構成を
示す斜視図であり,図4は,従来の光モジュール200
の概略的な全体構成を示す斜視図である。
者系やLANの普及に向けて,通信機器に使用する光モ
ジュールの小型化及び低価格化の要求が高まっている。
かかる状況において,従来,いわゆる表面実装型の光モ
ジュールが提案されている。ここで,従来の表面実装型
の光モジュールの構成について,図3及び図4に示す光
モジュール200を例示して簡単に説明する。なお,図
3は,従来の光モジュール200の概略的な分解構成を
示す斜視図であり,図4は,従来の光モジュール200
の概略的な全体構成を示す斜視図である。
【0003】図3及び図4に示すように,光モジュール
200においては,ヘッダ230に搭載されたPD21
0が,Si基板240に形成された深溝242上に配置
されている。光モジュール200において,かかるPD
210としては,表面入射型又は裏面入射型の受光素子
が適用される。
200においては,ヘッダ230に搭載されたPD21
0が,Si基板240に形成された深溝242上に配置
されている。光モジュール200において,かかるPD
210としては,表面入射型又は裏面入射型の受光素子
が適用される。
【0004】また,光モジュール200においては,光
ファイバ220の先端部の裸ファイバ220aがむき出
しになった光ファイバ220が,カバー250で押さえ
つけられて,Si基板240に形成されたV溝244a
に固定されている。かかる光ファイバ220は,先端部
がPD210の受光部に突き合わされるように位置を調
節されている。結果として,光モジュール200におい
ては,PD210と光ファイバ220とから光結合系が
形成される。
ファイバ220の先端部の裸ファイバ220aがむき出
しになった光ファイバ220が,カバー250で押さえ
つけられて,Si基板240に形成されたV溝244a
に固定されている。かかる光ファイバ220は,先端部
がPD210の受光部に突き合わされるように位置を調
節されている。結果として,光モジュール200におい
ては,PD210と光ファイバ220とから光結合系が
形成される。
【0005】以上説明した光モジュール200は,概し
て,同一基板(Si基板240がこれに相当する。)上
に光素子(PD210がこれに相当する。)とライトガ
イド構造(光ファイバ220がこれに相当する。)とを
表面実装した構成であると言える。かかる構成は,比較
的低コストで小型に製造することができるため,加入者
系の普及に係る課題である光モジュールの小型化及び低
価格化の実現を可能とする。
て,同一基板(Si基板240がこれに相当する。)上
に光素子(PD210がこれに相当する。)とライトガ
イド構造(光ファイバ220がこれに相当する。)とを
表面実装した構成であると言える。かかる構成は,比較
的低コストで小型に製造することができるため,加入者
系の普及に係る課題である光モジュールの小型化及び低
価格化の実現を可能とする。
【0006】
【発明の解決しようとする課題】しかしながら,上記従
来の光モジュールは,基板表面に直接嵌装される光ファ
イバと搭載部材に搭載される光素子との高さ合わせのた
めに,基板表面にエッチングによる深溝を形成する必要
があった。したがって,従来の光モジュールには,現在
LSIの製造プロセスで扱われている標準的なものより
も厚い基板を用いる必要がある。
来の光モジュールは,基板表面に直接嵌装される光ファ
イバと搭載部材に搭載される光素子との高さ合わせのた
めに,基板表面にエッチングによる深溝を形成する必要
があった。したがって,従来の光モジュールには,現在
LSIの製造プロセスで扱われている標準的なものより
も厚い基板を用いる必要がある。
【0007】ところが,現実には半導体プロセス装置が
扱うことのできる基板の厚さには制限がある。結果とし
て,従来の光モジュールは,既存のLSI製造プロセス
装置を流用することが不可能或いは困難となる可能性が
あるため,製造装置の性能によって設計通りの精度が得
られないおそれがあった。
扱うことのできる基板の厚さには制限がある。結果とし
て,従来の光モジュールは,既存のLSI製造プロセス
装置を流用することが不可能或いは困難となる可能性が
あるため,製造装置の性能によって設計通りの精度が得
られないおそれがあった。
【0008】本発明は,従来の光モジュールが有する上
記問題点に鑑みてなされたものであり,所望の厚さの基
板を用いることができるため,完成品の性能が製造装置
の性能に左右されない,新規かつ改良された光モジュー
ルを提供することを目的とする。
記問題点に鑑みてなされたものであり,所望の厚さの基
板を用いることができるため,完成品の性能が製造装置
の性能に左右されない,新規かつ改良された光モジュー
ルを提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に,請求項1に記載の発明は:基板と,光素子と,光素
子を搭載して基板表面に固定される搭載部材と,光素子
と光結合系を形成する光ファイバとを,少なくとも備え
る,光モジュールであって;さらに,光ファイバを保持
して基板表面に固定される保持基板を備える:構成を採
用する。
に,請求項1に記載の発明は:基板と,光素子と,光素
子を搭載して基板表面に固定される搭載部材と,光素子
と光結合系を形成する光ファイバとを,少なくとも備え
る,光モジュールであって;さらに,光ファイバを保持
して基板表面に固定される保持基板を備える:構成を採
用する。
【0010】かかる構成を有する請求項1に記載の発明
においては,光素子と光ファイバとの高さ調節を,基板
表面に深溝を掘る代わりに保持基板を設けることによっ
て実現する。したがって,光学要素を実装する基板は薄
くても良く,半導体プロセス装置の性能に左右されず
に,信頼性の高い安定した光モジュールの製造が可能と
なる。
においては,光素子と光ファイバとの高さ調節を,基板
表面に深溝を掘る代わりに保持基板を設けることによっ
て実現する。したがって,光学要素を実装する基板は薄
くても良く,半導体プロセス装置の性能に左右されず
に,信頼性の高い安定した光モジュールの製造が可能と
なる。
【0011】さらに,半導体プロセス装置による制限が
無くなることによって,完成品の歩留まり向上も期待で
きる。また,深溝を形成するエッチング工程が省略され
ることにより,製造工程数の減少による製造コストの削
減を図ることができる。結果として,請求項1に記載の
発明によれば,光モジュールのイニシャルコストを削減
することが可能となる。
無くなることによって,完成品の歩留まり向上も期待で
きる。また,深溝を形成するエッチング工程が省略され
ることにより,製造工程数の減少による製造コストの削
減を図ることができる。結果として,請求項1に記載の
発明によれば,光モジュールのイニシャルコストを削減
することが可能となる。
【0012】以上説明した請求項1に記載の発明におい
て,保持基板と搭載部材とは,請求項2に記載の発明の
ように:前記光結合系が形成されるように保持基板と搭
載部材とを相互にアライメントするためのアライメント
マークがそれぞれ形成されている:構成とすることが好
適である。
て,保持基板と搭載部材とは,請求項2に記載の発明の
ように:前記光結合系が形成されるように保持基板と搭
載部材とを相互にアライメントするためのアライメント
マークがそれぞれ形成されている:構成とすることが好
適である。
【0013】かかる構成においては,光素子と光ファイ
バとの基板表面方向の位置合わせ精度が上がり,光モジ
ュールの設計通りの性能が実現される。したがって,請
求項2に記載の発明によれば,性能が向上した廉価な光
モジュールを提供することができる。
バとの基板表面方向の位置合わせ精度が上がり,光モジ
ュールの設計通りの性能が実現される。したがって,請
求項2に記載の発明によれば,性能が向上した廉価な光
モジュールを提供することができる。
【0014】ここで,保持基板は,請求項3の発明のよ
うに:光ファイバを保持するためのV溝が形成されてい
る:構成とすることが好適である。請求項3に記載の発
明においては,光ファイバを,V溝に嵌装して基板上に
しっかりと固定することができる。
うに:光ファイバを保持するためのV溝が形成されてい
る:構成とすることが好適である。請求項3に記載の発
明においては,光ファイバを,V溝に嵌装して基板上に
しっかりと固定することができる。
【0015】したがって,光結合系が形成された光モジ
ュールに某かの物理的な衝撃が加わったとしても,光素
子と光ファイバとのアラインメントずれを防ぐことがで
きる。結果として,請求項3に記載の発明によれば,光
モジュールの強度を向上させることができる。
ュールに某かの物理的な衝撃が加わったとしても,光素
子と光ファイバとのアラインメントずれを防ぐことがで
きる。結果として,請求項3に記載の発明によれば,光
モジュールの強度を向上させることができる。
【0016】さらに,保持基板は,請求項4に記載の発
明のように:所定のフィラー径を有する銀ペーストによ
って基板表面に固定される:構成や,請求項5に記載の
発明のように:所定のフィラー径を有する樹脂によって
基板表面に固定される:構成,或いは請求項6に記載の
発明のように:高精度に厚さの制御された半田によって
基板表面に固定される:構成とすることが好適である。
かかる請求項4又は請求項5或いは請求項6に記載の発
明によれば,保持基板の高さ調節を確実に行うことがで
きるため,光素子と光ファイバとのアラインメント精度
が増す。
明のように:所定のフィラー径を有する銀ペーストによ
って基板表面に固定される:構成や,請求項5に記載の
発明のように:所定のフィラー径を有する樹脂によって
基板表面に固定される:構成,或いは請求項6に記載の
発明のように:高精度に厚さの制御された半田によって
基板表面に固定される:構成とすることが好適である。
かかる請求項4又は請求項5或いは請求項6に記載の発
明によれば,保持基板の高さ調節を確実に行うことがで
きるため,光素子と光ファイバとのアラインメント精度
が増す。
【0017】
【発明の実施の形態】以下に,添付図面を参照しなが
ら,本発明の好適な一実施の形態について詳細に説明す
る。なお,以下の説明及び添付図面において,略同一の
機能及び構成を有する構成要素については,同一符号を
付することにより,重複説明を省略する。また,添付図
面中には図の向きを示す座標が定義されているが,以下
の説明においては適宜かかる座標を用いる。
ら,本発明の好適な一実施の形態について詳細に説明す
る。なお,以下の説明及び添付図面において,略同一の
機能及び構成を有する構成要素については,同一符号を
付することにより,重複説明を省略する。また,添付図
面中には図の向きを示す座標が定義されているが,以下
の説明においては適宜かかる座標を用いる。
【0018】(1)まず,本実施の形態にかかる光モジ
ュール100の構成要素について,図1を参照しながら
順番に説明する。ここで,図1は,光モジュール100
の概略的な分解構成を示す斜視図である。
ュール100の構成要素について,図1を参照しながら
順番に説明する。ここで,図1は,光モジュール100
の概略的な分解構成を示す斜視図である。
【0019】図1に示すように,まず,光モジュール1
00の一構成要素である基板140は,所定位置にヘッ
ダ実装部142a及び保持基板実装部142bが形成さ
れた平坦な表面142を有している。かかる基板140
において,ヘッダ実装部142aはPD110を搭載し
たヘッダ130を設置するための領域であり,又,保持
基板実装部142bは保持基板160を設置する領域で
あり,接着手段,例えばAu等のメタライズが施され,
例えば半田等が蒸着されている。
00の一構成要素である基板140は,所定位置にヘッ
ダ実装部142a及び保持基板実装部142bが形成さ
れた平坦な表面142を有している。かかる基板140
において,ヘッダ実装部142aはPD110を搭載し
たヘッダ130を設置するための領域であり,又,保持
基板実装部142bは保持基板160を設置する領域で
あり,接着手段,例えばAu等のメタライズが施され,
例えば半田等が蒸着されている。
【0020】なお,本実施の形態において,基板140
は,例えばSiで形成することが好適である。これは,
Siは,比較的高い熱伝導率を持つためヒートシンクと
して機能させることが可能であり,光モジュールの基板
として広く用いられていることによる。すなわち,基板
140をSiで形成することによって,本実施の形態に
かかる光モジュール100は,汎用性が向上する。
は,例えばSiで形成することが好適である。これは,
Siは,比較的高い熱伝導率を持つためヒートシンクと
して機能させることが可能であり,光モジュールの基板
として広く用いられていることによる。すなわち,基板
140をSiで形成することによって,本実施の形態に
かかる光モジュール100は,汎用性が向上する。
【0021】また,光モジュール100において,PD
110は,表面に受光部110aが形成された表面入射
型の受光素子である。光モジュール100において,か
かるPD110は,ヘッダ130に搭載されて,基板1
40の実装部142aに配置される。
110は,表面に受光部110aが形成された表面入射
型の受光素子である。光モジュール100において,か
かるPD110は,ヘッダ130に搭載されて,基板1
40の実装部142aに配置される。
【0022】光モジュール100において,ヘッダ13
0は,PD110を設置する表面136と,基板140
の実装部142aに接着する接着面132と,接着面1
32に対向するマーカ面134とを,有している。ヘッ
ダ130において,表面136には,実装時にPD11
0が固定される電極136aが形成されている。かかる
電極136aは,例えば薄膜プロセス等によって,設計
通りの所定の位置に正確に形成される。さらに,マーカ
面134には,ヘッダ130の位置あわせに用いるマー
カ134aが,電極136aを基準として設計通りの所
定位置に精度良く形成されている。
0は,PD110を設置する表面136と,基板140
の実装部142aに接着する接着面132と,接着面1
32に対向するマーカ面134とを,有している。ヘッ
ダ130において,表面136には,実装時にPD11
0が固定される電極136aが形成されている。かかる
電極136aは,例えば薄膜プロセス等によって,設計
通りの所定の位置に正確に形成される。さらに,マーカ
面134には,ヘッダ130の位置あわせに用いるマー
カ134aが,電極136aを基準として設計通りの所
定位置に精度良く形成されている。
【0023】また,光モジュール100において,PD
110と光結合系を形成する光ファイバ120は,先端
部分の外皮120bが除去された裸ファイバ部120a
を有する。光モジュール100において,かかる光ファ
イバ120は,本実施の形態に係る保持基板160に固
定されて基板140表面142に配置される。
110と光結合系を形成する光ファイバ120は,先端
部分の外皮120bが除去された裸ファイバ部120a
を有する。光モジュール100において,かかる光ファ
イバ120は,本実施の形態に係る保持基板160に固
定されて基板140表面142に配置される。
【0024】光モジュール100において,本実施の形
態にかかる保持基板160は,光ファイバ120が固定
される表面164と基板140の表面142に張り合わ
せる裏面162とを有している。かかる保持基板160
は,例えばSiから形成することができる。
態にかかる保持基板160は,光ファイバ120が固定
される表面164と基板140の表面142に張り合わ
せる裏面162とを有している。かかる保持基板160
は,例えばSiから形成することができる。
【0025】かかる保持基板160の表面164には,
光ファイバ120を嵌め込むV溝164bが形成されて
いる。かかるV溝164bは,例えば異方性エッチング
によって,その中心が表面164の中心線上に来るよう
に正確に形成される。さらに,表面164には,ヘッダ
130の位置合わせに用いるマーカ164aが,実装後
ヘッダ130側に位置するエッジ近くに形成されてい
る。かかるマーカ164aは,V溝164bの中心を基
準として,所定の位置に精度良く形成される。
光ファイバ120を嵌め込むV溝164bが形成されて
いる。かかるV溝164bは,例えば異方性エッチング
によって,その中心が表面164の中心線上に来るよう
に正確に形成される。さらに,表面164には,ヘッダ
130の位置合わせに用いるマーカ164aが,実装後
ヘッダ130側に位置するエッジ近くに形成されてい
る。かかるマーカ164aは,V溝164bの中心を基
準として,所定の位置に精度良く形成される。
【0026】また,光モジュール100は,光ファイバ
120を保持基板160のV溝160に押さえつけて固
定するためのカバー150を備えている。かかるカバー
150は,裏面154に,V溝154bが形成されてい
る。本実施の形態において,カバー160は,例えば高
精度な型成形で加工可能な多成分ガラス等から形成する
ことができる。
120を保持基板160のV溝160に押さえつけて固
定するためのカバー150を備えている。かかるカバー
150は,裏面154に,V溝154bが形成されてい
る。本実施の形態において,カバー160は,例えば高
精度な型成形で加工可能な多成分ガラス等から形成する
ことができる。
【0027】(2)次に,以上説明した各構成要素の実
装方法について,図1及び図2を参照しながら説明す
る。ここで,図2は,光モジュール100の概略的な全
体構成を示す斜視図である。図2に示すように,光モジ
ュール100において,各構成要素は,PD110の受
光部110aに光ファイバ120の裸ファイバ部120
aの先端が突き付けられた配置関係を達成することがで
きるように実装される。
装方法について,図1及び図2を参照しながら説明す
る。ここで,図2は,光モジュール100の概略的な全
体構成を示す斜視図である。図2に示すように,光モジ
ュール100において,各構成要素は,PD110の受
光部110aに光ファイバ120の裸ファイバ部120
aの先端が突き付けられた配置関係を達成することがで
きるように実装される。
【0028】図1に示すように,そのために,まず,基
板140表面142の実装部142a以外の領域に,本
実施の形態にかかる保持基板160が,裏面162を基
板140表面142へ張り合わせることによって設置さ
れる。光モジュール100において,かかる設置は,P
D110と光ファイバ120とのY方向(高さ方向)の
アラインメント精度を左右する。したがって,裏面16
2の保持基板実装部142bへの張り合わせは,例えば
数μmの所定のフィラー径のAgペーストや,エポキシ
ボール等の樹脂又は高精度に厚さが制御された半田等を
用いて高精度に行われる。
板140表面142の実装部142a以外の領域に,本
実施の形態にかかる保持基板160が,裏面162を基
板140表面142へ張り合わせることによって設置さ
れる。光モジュール100において,かかる設置は,P
D110と光ファイバ120とのY方向(高さ方向)の
アラインメント精度を左右する。したがって,裏面16
2の保持基板実装部142bへの張り合わせは,例えば
数μmの所定のフィラー径のAgペーストや,エポキシ
ボール等の樹脂又は高精度に厚さが制御された半田等を
用いて高精度に行われる。
【0029】次に,PD110のヘッダ130への搭載
が,PD110の裏面をヘッダ130の電極136aに
設置することによって行われる。かかる搭載は,Y方向
のPD110と光ファイバ120とのアラインメント精
度を左右するため,電極136aとPD110の裏面マ
ーカ(図示せず。)との高精度画像認識装置を用いた位
置合わせによって,正確に行われる。
が,PD110の裏面をヘッダ130の電極136aに
設置することによって行われる。かかる搭載は,Y方向
のPD110と光ファイバ120とのアラインメント精
度を左右するため,電極136aとPD110の裏面マ
ーカ(図示せず。)との高精度画像認識装置を用いた位
置合わせによって,正確に行われる。
【0030】次に,PD110を搭載したヘッダ130
が,接着面132を実装部142aに接着することによ
って,基板140上に固定される。この時,ヘッダ13
0のx方向(横方向)の位置合わせは,ヘッダ130の
マーカ134aと保持基板160のマーカ164aとの
中心出しにより行なわれる。光モジュール100におい
て,かかるx方向のヘッダ130の位置合わせは,PD
110と光ファイバ120とのx方向のアライメント精
度を左右するため,高精度画像認識装置により精度良く
行う必要がある。
が,接着面132を実装部142aに接着することによ
って,基板140上に固定される。この時,ヘッダ13
0のx方向(横方向)の位置合わせは,ヘッダ130の
マーカ134aと保持基板160のマーカ164aとの
中心出しにより行なわれる。光モジュール100におい
て,かかるx方向のヘッダ130の位置合わせは,PD
110と光ファイバ120とのx方向のアライメント精
度を左右するため,高精度画像認識装置により精度良く
行う必要がある。
【0031】また,ヘッダ130のz方向の位置合わせ
は,マーカ164aのSi基板の端に近いエッジを基準
としてヘッダ130の実装位置を決定することにより行
われる。光モジュール100において,かかる位置合わ
せは,PD110と光ファイバ120とのz方向のアラ
イメント精度を左右するため精度良く行う必要がある。
は,マーカ164aのSi基板の端に近いエッジを基準
としてヘッダ130の実装位置を決定することにより行
われる。光モジュール100において,かかる位置合わ
せは,PD110と光ファイバ120とのz方向のアラ
イメント精度を左右するため精度良く行う必要がある。
【0032】最後に,光ファイバ120の保持基板16
0への固定が行われる。かかる固定においては,まず,
光ファイバ120の裸ファイバ部120aを,保持基板
160のV溝164bとカバー150のV溝150bと
で挟み込む。次いで,光ファイバ120の先端をマーカ
164aのSi基板の端に近いエッジを基準として所定
の長さになるように調節し,光ファイバ120とPD1
10とのz方向(距離)の位置あわせを行う。最後に,
例えばUV硬化樹脂等どによりカバー150と基板14
0とを接着固定する。
0への固定が行われる。かかる固定においては,まず,
光ファイバ120の裸ファイバ部120aを,保持基板
160のV溝164bとカバー150のV溝150bと
で挟み込む。次いで,光ファイバ120の先端をマーカ
164aのSi基板の端に近いエッジを基準として所定
の長さになるように調節し,光ファイバ120とPD1
10とのz方向(距離)の位置あわせを行う。最後に,
例えばUV硬化樹脂等どによりカバー150と基板14
0とを接着固定する。
【0033】結果として,図2に示すように,PD11
0が光ファイバ120に対向するように実装された光モ
ジュール100が形成される。かかる光モジュール10
0においては,光ファイバ120とPD110の光結合
が達成されて,光ファイバ120の先端から射出された
光がPD110の受光部110aに直接入射する。
0が光ファイバ120に対向するように実装された光モ
ジュール100が形成される。かかる光モジュール10
0においては,光ファイバ120とPD110の光結合
が達成されて,光ファイバ120の先端から射出された
光がPD110の受光部110aに直接入射する。
【0034】(3)以上説明したように,本実施の形態
によれば,保持基板を設けることによって,受光素子と
光ファイバとの高さ方向の位置あわせを実現している。
したがって,光モジュールの基板自体に溝を形成する必
要がないので,通常の厚さの基板を用いることができ
る。結果として,半導体プロセス装置による製造上の制
限のない光モジュールが実現される。
によれば,保持基板を設けることによって,受光素子と
光ファイバとの高さ方向の位置あわせを実現している。
したがって,光モジュールの基板自体に溝を形成する必
要がないので,通常の厚さの基板を用いることができ
る。結果として,半導体プロセス装置による製造上の制
限のない光モジュールが実現される。
【0035】また,本実施の形態においては,高精度な
基板張り合わせ技術及び保持基板のV溝作製面にへッダ
の位置合わせを行うためのマーカを設けることにより,
受光素子と光ファイバとの横方向の位置あわせを実現し
ている。かかる構成においては,表面入射型PDモジュ
ールの高効率な光結合系が達成できる。
基板張り合わせ技術及び保持基板のV溝作製面にへッダ
の位置合わせを行うためのマーカを設けることにより,
受光素子と光ファイバとの横方向の位置あわせを実現し
ている。かかる構成においては,表面入射型PDモジュ
ールの高効率な光結合系が達成できる。
【0036】以上,本発明の好適な実施の形態につい
て,添付図面を参照しながら説明したが,本発明はかか
る構成に限定されない。特許請求の範囲に記載された技
術的思想の範疇において,当業者であれば,各種の変更
例及び修正例に想到し得るものであり,それら変更例及
び修正例についても本発明の技術的範囲に属するものと
了解される。
て,添付図面を参照しながら説明したが,本発明はかか
る構成に限定されない。特許請求の範囲に記載された技
術的思想の範疇において,当業者であれば,各種の変更
例及び修正例に想到し得るものであり,それら変更例及
び修正例についても本発明の技術的範囲に属するものと
了解される。
【0037】例えば,上記実施の形態においては,表面
入射型の受光素子を適用した光モジュールを例に挙げて
説明したが,本発明はかかる構成に限定されない。本発
明は,例えば裏面入射型の受光素子等を適用した光モジ
ュールに対しても適用することができる。
入射型の受光素子を適用した光モジュールを例に挙げて
説明したが,本発明はかかる構成に限定されない。本発
明は,例えば裏面入射型の受光素子等を適用した光モジ
ュールに対しても適用することができる。
【0038】また,上記実施の形態においては,受光素
子を適用した光モジュールを例に挙げて説明したが,本
発明はかかる構成に限定されない。本発明は,他の様々
な光素子を適用した光モジュールに対しても適用するこ
とができる。
子を適用した光モジュールを例に挙げて説明したが,本
発明はかかる構成に限定されない。本発明は,他の様々
な光素子を適用した光モジュールに対しても適用するこ
とができる。
【0039】さらに,上記実施の形態においては,Si
から形成された基板を適用した光モジュールを例に挙げ
て説明したが,本発明はかかる構成に限定されない。本
発明は,他の様々な材料から形成された基板を適用した
光モジュールに対しても適用することができる。
から形成された基板を適用した光モジュールを例に挙げ
て説明したが,本発明はかかる構成に限定されない。本
発明は,他の様々な材料から形成された基板を適用した
光モジュールに対しても適用することができる。
【0040】
【発明の効果】本発明によれば,例えばエッチング装置
等の使用する半導体プロセス装置の性能によらずに製造
することができる光モジュールを提供することができ
る。かかる製造上の制限の緩和により,光モジュールの
設計自由度の向上及び製造コストの削減等を図ることが
できる。結果として,本発明によれば,光通信システム
の普及に向けて,光モジュールの大きさ及び価格を下げ
ることができる。
等の使用する半導体プロセス装置の性能によらずに製造
することができる光モジュールを提供することができ
る。かかる製造上の制限の緩和により,光モジュールの
設計自由度の向上及び製造コストの削減等を図ることが
できる。結果として,本発明によれば,光通信システム
の普及に向けて,光モジュールの大きさ及び価格を下げ
ることができる。
【0041】さらに,本発明によれば,基板の張り合わ
せ精度及び保持基板の位置合わせ精度の向上を図ること
により,光素子と光ファイバとの正確なアラインメント
が実現される。すなわち,光素子と光ファイバとの光結
合を確実に実施することができるため,表面実装型の光
モジュールの歩留まりを向上させることができる。結果
として,本発明によれば,光モジュールの更なる低価格
化を実現することができる。
せ精度及び保持基板の位置合わせ精度の向上を図ること
により,光素子と光ファイバとの正確なアラインメント
が実現される。すなわち,光素子と光ファイバとの光結
合を確実に実施することができるため,表面実装型の光
モジュールの歩留まりを向上させることができる。結果
として,本発明によれば,光モジュールの更なる低価格
化を実現することができる。
【図1】本発明を適用可能な光モジュールの概略的な分
解構成を示す斜視図である。
解構成を示す斜視図である。
【図2】図1に示す光モジュールの概略的な全体構成を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図3】従来の光モジュールの概略的な分解構成を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図4】図3に示す光モジュールの概略的な全体構成を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
100 光モジュール 110 PD 120 光ファイバ 130 ヘッダ 134a マーカ 140 基板 160 保持基板 164a マーカ 164b V溝
Claims (6)
- 【請求項1】 基板と,光素子と,前記光素子を搭載し
て前記基板表面に固定される搭載部材と,前記光素子と
光結合系を形成する光ファイバとを,少なくとも備え
る,光モジュールであって;さらに,前記光ファイバを
保持して前記基板表面に固定される保持基板を備えるこ
とを特徴とする,光モジュール。 - 【請求項2】 前記保持基板と前記搭載部材とのそれぞ
れには,前記光結合系が形成されるように前記保持基板
と前記搭載部材とを相互にアライメントするためのアラ
イメントマークが形成されていることを特徴とする,請
求項1に記載の光モジュール。 - 【請求項3】 前記保持基板には,前記光ファイバを保
持するためのV溝が形成されていることを特徴とする,
請求項1又は2に記載の光モジュール。 - 【請求項4】 前記保持基板は,所定のフィラー径を有
する銀ペーストによって前記基板表面に固定されること
を特徴とする,請求項1,2又は3のいずれかに記載の
光モジュール。 - 【請求項5】 前記保持基板は,所定のフィラー径を有
する樹脂によって前記基板表面に固定されることを特徴
とする,請求項1,2又は3のいずれかに記載の光モジ
ュール。 - 【請求項6】 前記保持基板は,高精度に制御された厚
さを有する半田によって前記基板表面に固定されること
を特徴とする,請求項1,2又は3のいずれかに記載の
光モジュール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14450598A JPH11337773A (ja) | 1998-05-26 | 1998-05-26 | 光モジュール |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14450598A JPH11337773A (ja) | 1998-05-26 | 1998-05-26 | 光モジュール |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11337773A true JPH11337773A (ja) | 1999-12-10 |
Family
ID=15363931
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14450598A Withdrawn JPH11337773A (ja) | 1998-05-26 | 1998-05-26 | 光モジュール |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11337773A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017111426A (ja) * | 2015-10-09 | 2017-06-22 | ティーイー コネクティビティ ネーデルランド ビーヴイTE Connectivity Nederland BV | 光学素子を取り付けるためのキャリア及び関連する製造工程 |
-
1998
- 1998-05-26 JP JP14450598A patent/JPH11337773A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017111426A (ja) * | 2015-10-09 | 2017-06-22 | ティーイー コネクティビティ ネーデルランド ビーヴイTE Connectivity Nederland BV | 光学素子を取り付けるためのキャリア及び関連する製造工程 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050802 |