JPH11340574A - 光半導体装置およびその装置に組み込まれる光半導体素子 - Google Patents
光半導体装置およびその装置に組み込まれる光半導体素子Info
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- JPH11340574A JPH11340574A JP14681898A JP14681898A JPH11340574A JP H11340574 A JPH11340574 A JP H11340574A JP 14681898 A JP14681898 A JP 14681898A JP 14681898 A JP14681898 A JP 14681898A JP H11340574 A JPH11340574 A JP H11340574A
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- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/02208—Mountings; Housings characterised by the shape of the housings
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体レーザ素子の両端面から出射したレー
ザ光を共に出力光として使用する。 【解決手段】 レーザ光を放射する光透過窓を有するパ
ッケージと、前記パッケージ内に配置されかつ両端面か
らレーザ光を出射する半導体レーザ素子と、前記パッケ
ージの内外に亘って形成されるリードと、前記光半導体
素子の電極と前記リードとを電気的に接続するワイヤと
を有し、前記レーザ光を光透過窓から外部に放射する光
半導体装置であって、前記パッケージ内には前記光半導
体素子の両端から出射したレーザ光の光路を変換する一
対の平面鏡が配置され、2本のレーザ光を光透過窓から
外に放射させるように構成されている。たとえば、レー
ザ光は平行光となって放射される。
ザ光を共に出力光として使用する。 【解決手段】 レーザ光を放射する光透過窓を有するパ
ッケージと、前記パッケージ内に配置されかつ両端面か
らレーザ光を出射する半導体レーザ素子と、前記パッケ
ージの内外に亘って形成されるリードと、前記光半導体
素子の電極と前記リードとを電気的に接続するワイヤと
を有し、前記レーザ光を光透過窓から外部に放射する光
半導体装置であって、前記パッケージ内には前記光半導
体素子の両端から出射したレーザ光の光路を変換する一
対の平面鏡が配置され、2本のレーザ光を光透過窓から
外に放射させるように構成されている。たとえば、レー
ザ光は平行光となって放射される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光半導体装置および
その装置に組み込まれる光半導体素子に係わり、特にレ
ーザ光が2ビームまたは高光出力になる半導体レーザ装
置の製造技術に適用して有効な技術に関する。
その装置に組み込まれる光半導体素子に係わり、特にレ
ーザ光が2ビームまたは高光出力になる半導体レーザ装
置の製造技術に適用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体レーザは光通信用光源や情報機器
用光源として多用されている。
用光源として多用されている。
【0003】端面発光型光素子であるファブリペロー型
半導体レーザは、半導体レーザ素子(半導体レーザチッ
プ)の両端からレーザ光を出射する構造になっている。
半導体レーザは、半導体レーザ素子(半導体レーザチッ
プ)の両端からレーザ光を出射する構造になっている。
【0004】一方、半導体レーザの一つとして、複数本
のレーザ光を出射する半導体レーザアレイ(マルチビー
ムレーザ)が知られている。半導体レーザアレイ装置
は、化合物半導体基板(以下単に半導体基板とも呼称す
る)にモノリシックに形成される半導体レーザチップ半
導体チップや複数の半導体レーザチップを単一のパッケ
ージに組み込んだ構造になっている。
のレーザ光を出射する半導体レーザアレイ(マルチビー
ムレーザ)が知られている。半導体レーザアレイ装置
は、化合物半導体基板(以下単に半導体基板とも呼称す
る)にモノリシックに形成される半導体レーザチップ半
導体チップや複数の半導体レーザチップを単一のパッケ
ージに組み込んだ構造になっている。
【0005】半導体レーザアレイについては、たとえ
ば、工業調査会発行「電子材料」1987年6月号、P107〜
P111に記載されている。この文献には、モノリシック形
3ビーム半導体レーザ素子が開示されている。この文献
には、CD,VD機器,レーザプリンタ,POS,バー
コードリーダをはじめ、文書ファイルシステムなどに使
用される信号読み取り用光源としての可視光半導体レー
ザについて記載されている。
ば、工業調査会発行「電子材料」1987年6月号、P107〜
P111に記載されている。この文献には、モノリシック形
3ビーム半導体レーザ素子が開示されている。この文献
には、CD,VD機器,レーザプリンタ,POS,バー
コードリーダをはじめ、文書ファイルシステムなどに使
用される信号読み取り用光源としての可視光半導体レー
ザについて記載されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】光導波路が1本のモノ
リシックな半導体レーザチップの場合、チップの一端の
出射面から出射されるレーザ光(前方出射光:出力光)
を各種機器の光源として使用し、他面の出射面から出射
されるレーザ光(後方出射光)をモニター光として使用
している。
リシックな半導体レーザチップの場合、チップの一端の
出射面から出射されるレーザ光(前方出射光:出力光)
を各種機器の光源として使用し、他面の出射面から出射
されるレーザ光(後方出射光)をモニター光として使用
している。
【0007】本発明者は、後方出射光も各種機器の光源
として使用できないかを検討した結果本発明をなした。
として使用できないかを検討した結果本発明をなした。
【0008】本発明の目的は、出力光の増大が達成でき
る半導体レーザ素子およびその半導体レーザ素子を組み
込んだ半導体レーザ装置を提供することにある。
る半導体レーザ素子およびその半導体レーザ素子を組み
込んだ半導体レーザ装置を提供することにある。
【0009】一方、レーザビームプリンタ(LBP),
光ディスク,光磁気ディスク等の高速化を図るために、
光源となる半導体レーザをマルチビーム化することが知
られている。本発明者は前方出射光と後方出射光によっ
てマルチビーム化が達成できることに気が付き本発明を
なした。
光ディスク,光磁気ディスク等の高速化を図るために、
光源となる半導体レーザをマルチビーム化することが知
られている。本発明者は前方出射光と後方出射光によっ
てマルチビーム化が達成できることに気が付き本発明を
なした。
【0010】本発明の他の目的は、マルチビーム化が達
成できる半導体レーザ素子およびその半導体レーザ素子
を組み込んだ半導体レーザ装置を提供することにある。
成できる半導体レーザ素子およびその半導体レーザ素子
を組み込んだ半導体レーザ装置を提供することにある。
【0011】本発明の前記ならびにそのほかの目的と新
規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきら
かになるであろう。
規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきら
かになるであろう。
【0012】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
【0013】(1)光を放射する光透過窓を有するパッ
ケージと、前記パッケージ内に配置されかつ両端面から
光(レーザ光)を出射する端面発光型の光半導体素子
(半導体レーザ素子)と、前記パッケージの内外に亘っ
て形成されるリードと、前記光半導体素子の電極と前記
リードとを電気的に接続する接続手段とを有し、前記光
半導体素子の端面から出射される光を前記光透過窓から
外部に放射する光半導体装置であって、前記パッケージ
内には前記光半導体素子の両端から出射した光の光路を
変換する一対の波面変換素子(鏡)が配置され、光を前
記光透過窓から外に放射させるように構成されている。
前記一対の波面変換素子は前記光半導体素子の両端から
出射される光を平行光を含む相互に交差しない放射光と
して放射させるように構成されている。前記パッケージ
内には受光素子が配置されるとともに、前記一方の波面
変換素子は光を透過させる構造になり、前記透過光は前
記受光素子で検出されるように構成されている。前記光
透過窓から放射される2本の光の光出力は同一光出力に
なっている。
ケージと、前記パッケージ内に配置されかつ両端面から
光(レーザ光)を出射する端面発光型の光半導体素子
(半導体レーザ素子)と、前記パッケージの内外に亘っ
て形成されるリードと、前記光半導体素子の電極と前記
リードとを電気的に接続する接続手段とを有し、前記光
半導体素子の端面から出射される光を前記光透過窓から
外部に放射する光半導体装置であって、前記パッケージ
内には前記光半導体素子の両端から出射した光の光路を
変換する一対の波面変換素子(鏡)が配置され、光を前
記光透過窓から外に放射させるように構成されている。
前記一対の波面変換素子は前記光半導体素子の両端から
出射される光を平行光を含む相互に交差しない放射光と
して放射させるように構成されている。前記パッケージ
内には受光素子が配置されるとともに、前記一方の波面
変換素子は光を透過させる構造になり、前記透過光は前
記受光素子で検出されるように構成されている。前記光
透過窓から放射される2本の光の光出力は同一光出力に
なっている。
【0014】このような光半導体装置に組み込まれる光
半導体素子は、少なくとも1本の光導波路の両端から光
を出射する光半導体素子であって、前記両出射面から出
射される光の光出力は同出力になるように構成されてい
るか、または出射面には反射膜が設けられ、前記一方の
出射面の反射膜の反射率と他方の出射面の反射膜の反射
膜率は異なり、光出力をモニターする側での光出力は他
の側の光出力よりも大きくなっている。
半導体素子は、少なくとも1本の光導波路の両端から光
を出射する光半導体素子であって、前記両出射面から出
射される光の光出力は同出力になるように構成されてい
るか、または出射面には反射膜が設けられ、前記一方の
出射面の反射膜の反射率と他方の出射面の反射膜の反射
膜率は異なり、光出力をモニターする側での光出力は他
の側の光出力よりも大きくなっている。
【0015】(2)前記手段(1)の構成において、前
記光半導体素子の両端から出射される光は波面変換素子
によって集束する構成になっている。
記光半導体素子の両端から出射される光は波面変換素子
によって集束する構成になっている。
【0016】前記(1)の手段によれば、(a)半導体
レーザ素子の両端面から出射されたレーザ光は、一対の
波面変換素子(鏡)によっては同一方向に出射されるた
め、1光導波路構成でも2ビーム構成にすることができ
る。したがって、たとえば、レーザビームプリンタの光
源として使用すれば、感光ドラムにおけるレーザビーム
による顕像化幅が1本のレーザビームの倍と広くなり、
プリンタ時間の短縮が図れる。
レーザ素子の両端面から出射されたレーザ光は、一対の
波面変換素子(鏡)によっては同一方向に出射されるた
め、1光導波路構成でも2ビーム構成にすることができ
る。したがって、たとえば、レーザビームプリンタの光
源として使用すれば、感光ドラムにおけるレーザビーム
による顕像化幅が1本のレーザビームの倍と広くなり、
プリンタ時間の短縮が図れる。
【0017】(b)二つの波面変換素子のうち一方の波
面変換素子側は光を透過させる構造になり、この透過光
は受光素子で検出されることから、光出力のモニターも
可能になる。
面変換素子側は光を透過させる構造になり、この透過光
は受光素子で検出されることから、光出力のモニターも
可能になる。
【0018】(c)光半導体素子の両端面から出射され
る光を出力光とすることができるため、光出力の向上が
図れる。
る光を出力光とすることができるため、光出力の向上が
図れる。
【0019】(d)なお、複数本の光導波路を有する光
半導体素子構成にすることによって、さらに多ビーム化
が達成できる。
半導体素子構成にすることによって、さらに多ビーム化
が達成できる。
【0020】前記(2)の手段によれば、同一方向に放
射される光は集束する構成になっていることからスポッ
ト光として使用できるとともに、その光出力も大きくな
る。
射される光は集束する構成になっていることからスポッ
ト光として使用できるとともに、その光出力も大きくな
る。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態および実施例を詳細に説明する。なお、発明の
実施の形態および実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り
返しの説明は省略する。
施の形態および実施例を詳細に説明する。なお、発明の
実施の形態および実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り
返しの説明は省略する。
【0022】ここで、各実施形態を説明する前に、図1
(a)〜(c)を参照しながら本発明の光半導体装置の
原理構成について説明する。
(a)〜(c)を参照しながら本発明の光半導体装置の
原理構成について説明する。
【0023】図1(a)〜(c)に示すように、本発明
の光半導体装置は、端面発光型光半導体素子からなる光
半導体素子1の両端面、すなわち光導波路(共振器)4
の両端面から光2を出射するが、これら2本の光(光
束:ビーム)2を一対の波面変換素子3で反射して同一
方向に放射する構成になっている。
の光半導体装置は、端面発光型光半導体素子からなる光
半導体素子1の両端面、すなわち光導波路(共振器)4
の両端面から光2を出射するが、これら2本の光(光
束:ビーム)2を一対の波面変換素子3で反射して同一
方向に放射する構成になっている。
【0024】すなわち、光半導体素子1は、支持ブロッ
ク5の窪み6の平坦な窪み底面7に固定され、両端面か
ら前記窪み底面7に沿うように光2を出射する。また、
光2が到達する前記窪み6の側面には、傾斜してそれぞ
れ波面変換素子3が配置されている。この波面変換素子
3は、たとえば平面鏡で構成されている。
ク5の窪み6の平坦な窪み底面7に固定され、両端面か
ら前記窪み底面7に沿うように光2を出射する。また、
光2が到達する前記窪み6の側面には、傾斜してそれぞ
れ波面変換素子3が配置されている。この波面変換素子
3は、たとえば平面鏡で構成されている。
【0025】図1(a)は、2本の光2を相互に交差し
ない放射光として放射する例であり、図1(b)は平行
光とした例であり、図1(c)は集束させた例である。
ない放射光として放射する例であり、図1(b)は平行
光とした例であり、図1(c)は集束させた例である。
【0026】本発明によれば、光半導体素子1の両端面
から出射された光2を波面変換素子3を用いて同一方向
に放射させることから1本の光導波路4であっても出力
光として2ビームを得ることができる。すなわち、光導
波路4の数の倍数本のビームを出力光として得ることが
できる。そして、図1(b)の場合では平行光を得るこ
とができ、図1(c)の場合では集束光を得ることがで
きる。いずれの場合でも光出力を高めることができる。
から出射された光2を波面変換素子3を用いて同一方向
に放射させることから1本の光導波路4であっても出力
光として2ビームを得ることができる。すなわち、光導
波路4の数の倍数本のビームを出力光として得ることが
できる。そして、図1(b)の場合では平行光を得るこ
とができ、図1(c)の場合では集束光を得ることがで
きる。いずれの場合でも光出力を高めることができる。
【0027】また、端面発光型光半導体素子としては、
半導体レーザ(レーザダイオード)や発光ダイオードを
使用できる。以下の実施形態では半導体レーザに適用し
た例について説明する。
半導体レーザ(レーザダイオード)や発光ダイオードを
使用できる。以下の実施形態では半導体レーザに適用し
た例について説明する。
【0028】(実施形態1)図2乃至図4は本発明の一
実施形態(実施形態1)である半導体レーザ装置に係わ
る図であり、図2は半導体レーザ装置の一部を切り欠い
た状態を示す斜視図、図3は半導体レーザ素子,波面変
換素子および受光素子等の位置関係を示す模式図、図4
は半導体レーザ素子等の支持構造を示す拡大斜視図であ
る。
実施形態(実施形態1)である半導体レーザ装置に係わ
る図であり、図2は半導体レーザ装置の一部を切り欠い
た状態を示す斜視図、図3は半導体レーザ素子,波面変
換素子および受光素子等の位置関係を示す模式図、図4
は半導体レーザ素子等の支持構造を示す拡大斜視図であ
る。
【0029】本実施形態1では光半導体素子として、端
面発光型光半導体素子である半導体レーザ装置に本発明
を適用した例について説明する。また、本実施形態1で
は、平行光の状態で光を放射する例について説明する。
面発光型光半導体素子である半導体レーザ装置に本発明
を適用した例について説明する。また、本実施形態1で
は、平行光の状態で光を放射する例について説明する。
【0030】半導体レーザ装置10は、図2に示すよう
に、アセンブリの主体部品となるパッケージ本体(ステ
ム)11と、このステム11の表面側に取り付けられる
蓋体(キャップ)12とを有している。パッケージは、
ステム11とキャップ12によって形成される。
に、アセンブリの主体部品となるパッケージ本体(ステ
ム)11と、このステム11の表面側に取り付けられる
蓋体(キャップ)12とを有している。パッケージは、
ステム11とキャップ12によって形成される。
【0031】前記ステム11は、図4にも示すように数
mmの厚さの円形の金属板からなっている。このステム
11の上面の中央には銅製のヒートシンク13が鑞材等
で固定されている。
mmの厚さの円形の金属板からなっている。このステム
11の上面の中央には銅製のヒートシンク13が鑞材等
で固定されている。
【0032】前記ヒートシンク13の上面には、たとえ
ばシリコン等の光を透過する材質からなる支持ブロック
5が固定されている。この支持ブロック5は、窪み6を
有している。この窪み6の窪み底面7は平坦になり、半
導体レーザ素子1aが固定されている。
ばシリコン等の光を透過する材質からなる支持ブロック
5が固定されている。この支持ブロック5は、窪み6を
有している。この窪み6の窪み底面7は平坦になり、半
導体レーザ素子1aが固定されている。
【0033】半導体レーザ素子1aは、たとえば光導波
路の延在方向に沿う縦(奥行き)の長さが250μm、
横幅が300μm、厚さが100μmの矩形体からなっ
ていて、上面から数ミクロンの深さ部分に光導波路4
(図3参照)が設けられている。また、半導体レーザ素
子1aの上面と下面には、図示はしないが電極(アノー
ド電極,カソード電極)が設けられている。これらの電
極に所定の電圧が印加されると、前記光導波路4の両端
面から光2(レーザ光2a)を出射するようになってい
る。
路の延在方向に沿う縦(奥行き)の長さが250μm、
横幅が300μm、厚さが100μmの矩形体からなっ
ていて、上面から数ミクロンの深さ部分に光導波路4
(図3参照)が設けられている。また、半導体レーザ素
子1aの上面と下面には、図示はしないが電極(アノー
ド電極,カソード電極)が設けられている。これらの電
極に所定の電圧が印加されると、前記光導波路4の両端
面から光2(レーザ光2a)を出射するようになってい
る。
【0034】また、図示はしないが、前記窪み底面7に
はメタライズ層が形成され、このメタライズ層に導電性
の接着剤を介して半導体レーザ素子1aが固定されてい
る。したがって、半導体レーザ素子1aの下部電極はス
テム11と電気的に繋がることになる。
はメタライズ層が形成され、このメタライズ層に導電性
の接着剤を介して半導体レーザ素子1aが固定されてい
る。したがって、半導体レーザ素子1aの下部電極はス
テム11と電気的に繋がることになる。
【0035】また、前記ヒートシンク13を囲むよう
に、3本の金属製のリード14が貫通状態でステム11
に固定されている。これらのリード14は絶縁体15を
介してステム11に支持され、それぞれ電気的に独立し
ている。また、ステム11の裏側には機械的かつ電気的
に1本のリード14が突き合わせ状態で接続されてい
る。これらの4本のリード14は、半導体レーザ装置1
0の外部端子として使用され、2本は半導体レーザ素子
1aのアノード電極,カソード電極となり、他の2本は
光出力をモニターする受光素子のアノード電極,カソー
ド電極となる。
に、3本の金属製のリード14が貫通状態でステム11
に固定されている。これらのリード14は絶縁体15を
介してステム11に支持され、それぞれ電気的に独立し
ている。また、ステム11の裏側には機械的かつ電気的
に1本のリード14が突き合わせ状態で接続されてい
る。これらの4本のリード14は、半導体レーザ装置1
0の外部端子として使用され、2本は半導体レーザ素子
1aのアノード電極,カソード電極となり、他の2本は
光出力をモニターする受光素子のアノード電極,カソー
ド電極となる。
【0036】前記支持ブロック5の窪み6の両側面は傾
斜面となり、この傾斜面には波面変換素子3としての平
面鏡3aを構成する反射膜が蒸着されている。これら傾
斜面の窪み底面7に対する傾斜角度はα,βになってい
る。本実施形態1ではα=β=45°になっている。し
たがって両傾斜面のなす角度γは90°になり、半導体
レーザ素子1aの光導波路4の両端面から出射したレー
ザ光2aは平行光になって同一方向に放射されることに
なる。
斜面となり、この傾斜面には波面変換素子3としての平
面鏡3aを構成する反射膜が蒸着されている。これら傾
斜面の窪み底面7に対する傾斜角度はα,βになってい
る。本実施形態1ではα=β=45°になっている。し
たがって両傾斜面のなす角度γは90°になり、半導体
レーザ素子1aの光導波路4の両端面から出射したレー
ザ光2aは平行光になって同一方向に放射されることに
なる。
【0037】本実施形態1では、支持ブロック5が透明
である(上記レーザ光の波長に対する光の吸収率を少な
くとも上記平面鏡3aより低く抑えてある)ことから、
当該平面鏡3aの反射率をこれを構成する反射膜材料の
材質や厚みを適宜選択すれば、光透過が可能になる。そ
こで、光の損失を最小限とするため、一方の平面鏡3a
では反射させ、他方の平面鏡3aでは一部の光を透過さ
せる構成にしてある。そして、この透過光30を受光素
子31で受光して光出力をモニターするように構成され
ている。
である(上記レーザ光の波長に対する光の吸収率を少な
くとも上記平面鏡3aより低く抑えてある)ことから、
当該平面鏡3aの反射率をこれを構成する反射膜材料の
材質や厚みを適宜選択すれば、光透過が可能になる。そ
こで、光の損失を最小限とするため、一方の平面鏡3a
では反射させ、他方の平面鏡3aでは一部の光を透過さ
せる構成にしてある。そして、この透過光30を受光素
子31で受光して光出力をモニターするように構成され
ている。
【0038】なお、上述の反射膜による光反射及び光透
過の度合いは、例えば当該反射膜を構成する酸化シリコ
ン(SiO2)の膜厚の値の設定により調整される。
過の度合いは、例えば当該反射膜を構成する酸化シリコ
ン(SiO2)の膜厚の値の設定により調整される。
【0039】前記半導体レーザ素子1aは、光導波路4
の両端面に端面の保護や出射光の出力設定のために反射
膜9a,9bが設けられている。本実施形態1では、2
ビームのレーザ光2aは同じ出力になる。すなわち、半
導体レーザ素子1aの一方の出射面の反射膜の反射率と
他方の出射面の反射膜の反射膜率は異なり、光出力をモ
ニターする側での光出力は他の側の光出力よりも大きく
なっている。反射膜9a,9bの反射率は、光出力をモ
ニターする側(反射膜9b)では低くなり、反射膜9a
側の光出力はレーザ光2aとなり、反射膜9b側の光出
力は前記レーザ光2aと透過光30を作りだすに必要な
光出力となる。このように反射膜9a,9bは適宜選択
できる。
の両端面に端面の保護や出射光の出力設定のために反射
膜9a,9bが設けられている。本実施形態1では、2
ビームのレーザ光2aは同じ出力になる。すなわち、半
導体レーザ素子1aの一方の出射面の反射膜の反射率と
他方の出射面の反射膜の反射膜率は異なり、光出力をモ
ニターする側での光出力は他の側の光出力よりも大きく
なっている。反射膜9a,9bの反射率は、光出力をモ
ニターする側(反射膜9b)では低くなり、反射膜9a
側の光出力はレーザ光2aとなり、反射膜9b側の光出
力は前記レーザ光2aと透過光30を作りだすに必要な
光出力となる。このように反射膜9a,9bは適宜選択
できる。
【0040】光出力をモニターしない場合には、前記半
導体レーザ素子1aは、前記両出射面から出射される光
の光出力は同出力になるように構成すればよい。すなわ
ち、反射膜9a,9bの反射率は同じになる。
導体レーザ素子1aは、前記両出射面から出射される光
の光出力は同出力になるように構成すればよい。すなわ
ち、反射膜9a,9bの反射率は同じになる。
【0041】一方、前記受光素子31は、図2および図
4に示すように、ステム11の上面に突出する1本のリ
ード14の先端部分に図示しない導電性の接着剤を介し
て固定され、支持ブロック5を透過した透過光30を受
光する。受光素子31の下部電極は前記接着剤を介して
リード14に電気的にも接続される。
4に示すように、ステム11の上面に突出する1本のリ
ード14の先端部分に図示しない導電性の接着剤を介し
て固定され、支持ブロック5を透過した透過光30を受
光する。受光素子31の下部電極は前記接着剤を介して
リード14に電気的にも接続される。
【0042】また、前記半導体レーザ素子1aおよび受
光素子31の上部電極は、図4に示すように、導電性の
ワイヤ32を介してステム11の上面に突出するリード
14の端面に固定されている。
光素子31の上部電極は、図4に示すように、導電性の
ワイヤ32を介してステム11の上面に突出するリード
14の端面に固定されている。
【0043】他方、前記キャップ12は、その中央にレ
ーザ光2aを透過させる光透過窓40を有している。こ
の光透過窓40は、キャップ12に設けた穴の部分に透
明ガラス板41を重ねて固定することによって形成され
る。
ーザ光2aを透過させる光透過窓40を有している。こ
の光透過窓40は、キャップ12に設けた穴の部分に透
明ガラス板41を重ねて固定することによって形成され
る。
【0044】このような半導体レーザ装置10において
は、所定のリード14にそれぞれ所定の電圧を印加する
ことによって、半導体レーザ素子1aを動作させて相互
に平行となる2ビームのレーザ光2aを光透過窓40か
ら放射することができる。また、光出力は前記受光素子
31でモニターできることになる。
は、所定のリード14にそれぞれ所定の電圧を印加する
ことによって、半導体レーザ素子1aを動作させて相互
に平行となる2ビームのレーザ光2aを光透過窓40か
ら放射することができる。また、光出力は前記受光素子
31でモニターできることになる。
【0045】図5は本実施形態1の半導体レーザ装置を
レーザビームプリンタに組み込んだ状態を示す一部の概
略模式図である。
レーザビームプリンタに組み込んだ状態を示す一部の概
略模式図である。
【0046】半導体レーザ装置10から出射した2本の
レーザ光2aを回転制御されるポリゴンミラー50で反
射させ、fθレンズ51を通してレーザビームプリンタ
の感光ドラム52の表面に集光させる。2本のレーザ光
2aは感光ドラム52の軸方向に沿って走査される。ま
た、感光ドラム52は回転する。
レーザ光2aを回転制御されるポリゴンミラー50で反
射させ、fθレンズ51を通してレーザビームプリンタ
の感光ドラム52の表面に集光させる。2本のレーザ光
2aは感光ドラム52の軸方向に沿って走査される。ま
た、感光ドラム52は回転する。
【0047】感光ドラム52は書き込む前に一様に帯電
されていることから、レーザ光2aが照射された部分は
電位が抜け、そこにカーボン粉末(トナー)が付着して
現像されることになる。図示しない転写部分で静電力に
よって前記トナーを紙に写し取ることによってレーザビ
ームプリンタが行われる。
されていることから、レーザ光2aが照射された部分は
電位が抜け、そこにカーボン粉末(トナー)が付着して
現像されることになる。図示しない転写部分で静電力に
よって前記トナーを紙に写し取ることによってレーザビ
ームプリンタが行われる。
【0048】半導体レーザ装置10は2本のレーザ光2
a(レーザビーム)を出射することから、一回の走査で
2本のレーザビームによる幅の広い顕像化が可能にな
り、1本のレーザビームの場合よりも所定行の印刷時間
が半分になる。
a(レーザビーム)を出射することから、一回の走査で
2本のレーザビームによる幅の広い顕像化が可能にな
り、1本のレーザビームの場合よりも所定行の印刷時間
が半分になる。
【0049】本実施形態1の半導体レーザ装置によれば
以下の効果を奏する。
以下の効果を奏する。
【0050】(1)半導体レーザ素子1aの両端面から
出射されたレーザ光2aは、一対の平面鏡3aによって
は同一方向に出射されるため、1光導波路構成でも2ビ
ーム構成にすることができる。したがって、たとえば、
レーザビームプリンタの光源として使用すれば、感光ド
ラム52におけるレーザビームによる顕像化幅が1本の
レーザビームの倍と広くなり、プリンタ時間の短縮が図
れる。
出射されたレーザ光2aは、一対の平面鏡3aによって
は同一方向に出射されるため、1光導波路構成でも2ビ
ーム構成にすることができる。したがって、たとえば、
レーザビームプリンタの光源として使用すれば、感光ド
ラム52におけるレーザビームによる顕像化幅が1本の
レーザビームの倍と広くなり、プリンタ時間の短縮が図
れる。
【0051】(2)二つの平面鏡3aのうち一方の平面
鏡3aは光を透過させる構造になり、この透過光30は
受光素子31で検出されることから、光出力のモニター
も可能になる。
鏡3aは光を透過させる構造になり、この透過光30は
受光素子31で検出されることから、光出力のモニター
も可能になる。
【0052】(3)半導体レーザ素子1aの両端面から
出射されるレーザ光2aを出力光とすることができるた
め、光出力の向上が図れる。
出射されるレーザ光2aを出力光とすることができるた
め、光出力の向上が図れる。
【0053】(4)なお、複数本の光導波路を有する半
導体レーザ素子構成にすることによって、さらに多ビー
ム化が達成できる。
導体レーザ素子構成にすることによって、さらに多ビー
ム化が達成できる。
【0054】本実施形態1では2ビームのレーザ光2a
を平行光としたが、相互に交差することがない放射光と
してもよい。
を平行光としたが、相互に交差することがない放射光と
してもよい。
【0055】(実施形態2)図6は本発明の他の実施形
態(実施形態2)である半導体レーザ装置の一部を示す
模式図である。
態(実施形態2)である半導体レーザ装置の一部を示す
模式図である。
【0056】本実施形態2の半導体レーザ装置は、図6
にその一部を模式的に示すが、平面鏡3aの傾斜角度の
設定によって、半導体レーザ素子1aの両端面から出射
された2本のレーザ光2aが交差(交差部分60)する
構成になっている。この場合、交差部分60ではスポッ
ト光61となり、スポット光61を光源とする各種機器
の光源として使用できる。
にその一部を模式的に示すが、平面鏡3aの傾斜角度の
設定によって、半導体レーザ素子1aの両端面から出射
された2本のレーザ光2aが交差(交差部分60)する
構成になっている。この場合、交差部分60ではスポッ
ト光61となり、スポット光61を光源とする各種機器
の光源として使用できる。
【0057】図7は本実施形態2の半導体レーザ装置1
0を組み込んだ光ディスクシステムのピックアップ部を
示す模式図である。
0を組み込んだ光ディスクシステムのピックアップ部を
示す模式図である。
【0058】すなわち、半導体レーザ装置10から出射
した2本のレーザ光2aは集束しスポット光61を形成
する。このスポット光61はコリメートレンズ62、偏
光ビームスプリッター63、4分の1波長(λ/4)板
64、対物レンズ65を通過して、光デイスク66に到
達する。
した2本のレーザ光2aは集束しスポット光61を形成
する。このスポット光61はコリメートレンズ62、偏
光ビームスプリッター63、4分の1波長(λ/4)板
64、対物レンズ65を通過して、光デイスク66に到
達する。
【0059】光デイスク66の情報記録部にて反射した
光は、対物レンズ65、4分の1波長板64を通り、偏
光ビームスプリッター63で、光路が直角に曲げられ、
収束レンズ67、シリンドリカルレンズ68を通過後、
光検出器69に到達する。
光は、対物レンズ65、4分の1波長板64を通り、偏
光ビームスプリッター63で、光路が直角に曲げられ、
収束レンズ67、シリンドリカルレンズ68を通過後、
光検出器69に到達する。
【0060】本実施形態1の半導体レーザ装置10の使
用によって光出力の高いスポット光61を光源として使
用することができる。
用によって光出力の高いスポット光61を光源として使
用することができる。
【0061】(実施形態3)図8は本発明の他の実施形
態(実施形態3)である一部を切り欠いた半導体レーザ
装置の平面図である。
態(実施形態3)である一部を切り欠いた半導体レーザ
装置の平面図である。
【0062】本実施形態3の光半導体素子1と波面変換
素子3との関係は、図1(b)で示す平行光を放射する
構成であり、パッケージを箱型とし光通信の光源として
使用した例である。
素子3との関係は、図1(b)で示す平行光を放射する
構成であり、パッケージを箱型とし光通信の光源として
使用した例である。
【0063】パッケージは上部が開口した箱構造のパッ
ケージ本体11と、このパッケージ本体11を塞ぐ板状
の蓋体12とからなり、パッケージ本体11の一端側に
は2本の光ファイバケーブル70を案内する筒状のファ
イバガイド71が設けられている。
ケージ本体11と、このパッケージ本体11を塞ぐ板状
の蓋体12とからなり、パッケージ本体11の一端側に
は2本の光ファイバケーブル70を案内する筒状のファ
イバガイド71が設けられている。
【0064】パッケージ本体11の中央には導電性のヒ
ートシンク13が設けられ、このヒートシンク13に
は、前記実施形態1の場合と同様の構造の支持ブロック
5が固定されている。しかし、本実施形態3の場合は、
支持ブロック5に固定された半導体レーザ素子1aから
出射されるレーザ光2aが、平面鏡3aによって図中右
側に進むように、固定面が前記実施形態1の場合とは異
なっている。また、ヒートシンク13上には受光素子3
1が固定された導電性の支持体72が固定されている。
ートシンク13が設けられ、このヒートシンク13に
は、前記実施形態1の場合と同様の構造の支持ブロック
5が固定されている。しかし、本実施形態3の場合は、
支持ブロック5に固定された半導体レーザ素子1aから
出射されるレーザ光2aが、平面鏡3aによって図中右
側に進むように、固定面が前記実施形態1の場合とは異
なっている。また、ヒートシンク13上には受光素子3
1が固定された導電性の支持体72が固定されている。
【0065】パッケージ本体11の両側にはそれぞれ4
本のリード14が貫通状態で配置され、これらのリード
14のうちの所定リード14の内端は、導電性のワイヤ
32を介して前記半導体レーザ素子1aや前記受光素子
31の電極と電気的に接続されている。
本のリード14が貫通状態で配置され、これらのリード
14のうちの所定リード14の内端は、導電性のワイヤ
32を介して前記半導体レーザ素子1aや前記受光素子
31の電極と電気的に接続されている。
【0066】平行に進むレーザ光2aは、各ファイバガ
イド71に被覆される光ファイバ75の先端に進入する
ようになっている。前記光ファイバ75の先端部分は図
示しないが接合材等によってヒートシンク13に固定さ
れている。
イド71に被覆される光ファイバ75の先端に進入する
ようになっている。前記光ファイバ75の先端部分は図
示しないが接合材等によってヒートシンク13に固定さ
れている。
【0067】本実施形態3によれば、単一の光信号を二
本の光ファイバ75を介して所定箇所に伝送することが
できる。この場合、2ビームのレーザ光2aの光出力
(光強度)は同一になっている。
本の光ファイバ75を介して所定箇所に伝送することが
できる。この場合、2ビームのレーザ光2aの光出力
(光強度)は同一になっている。
【0068】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない、たとえ
ば光半導体素子としては端面発光型の発光ダイオードで
もよい。また、波面変換素子はプリズム等他の光学素子
でもよい。
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない、たとえ
ば光半導体素子としては端面発光型の発光ダイオードで
もよい。また、波面変換素子はプリズム等他の光学素子
でもよい。
【0069】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
【0070】(1)半導体レーザ素子の両端面から出射
されたレーザ光は、一対の波面変換素子によっては同一
方向に出射されるため、1光導波路構成でも2ビーム構
成にすることができる。
されたレーザ光は、一対の波面変換素子によっては同一
方向に出射されるため、1光導波路構成でも2ビーム構
成にすることができる。
【0071】(2)したがって、光導波路の数を増大す
ることによってさらに多ビームとすることができる。
ることによってさらに多ビームとすることができる。
【0072】(3)2ビームの本発明による半導体レー
ザ装置をレーザビームプリンタの光源として使用すれ
ば、感光ドラムにおけるレーザビームによる顕像化幅が
1本のレーザビームの倍と広くなり、プリンタ時間の短
縮が図れる。
ザ装置をレーザビームプリンタの光源として使用すれ
ば、感光ドラムにおけるレーザビームによる顕像化幅が
1本のレーザビームの倍と広くなり、プリンタ時間の短
縮が図れる。
【0073】(4)二つの波面変換素子のうち一方の波
面変換素子は光を透過させる構造になり、この透過光は
受光素子で検出されることから、光出力のモニターも可
能になる。
面変換素子は光を透過させる構造になり、この透過光は
受光素子で検出されることから、光出力のモニターも可
能になる。
【0074】(5)光半導体素子の両端面から出射され
る光を出力光とすることができるため、光出力の向上が
図れる。
る光を出力光とすることができるため、光出力の向上が
図れる。
【図1】本発明の光半導体装置の原理構成を示す模式図
である。
である。
【図2】本発明の一実施形態(実施形態1)である半導
体レーザ装置の一部を切り欠いた状態を示す斜視図であ
る。
体レーザ装置の一部を切り欠いた状態を示す斜視図であ
る。
【図3】本実施形態1の半導体レーザ装置における半導
体レーザ素子,波面変換素子および受光素子等の位置関
係を示す模式図である。
体レーザ素子,波面変換素子および受光素子等の位置関
係を示す模式図である。
【図4】本実施形態1の半導体レーザ装置における半導
体レーザ素子等の支持構造を示す拡大斜視図である。
体レーザ素子等の支持構造を示す拡大斜視図である。
【図5】本実施形態1の半導体レーザ装置をレーザビー
ムプリンタに組み込んだ状態を示す一部の概略斜視図で
ある。
ムプリンタに組み込んだ状態を示す一部の概略斜視図で
ある。
【図6】本発明の他の実施形態(実施形態2)である半
導体レーザ装置の一部を示す模式図である。
導体レーザ装置の一部を示す模式図である。
【図7】本実施形態2の半導体レーザ装置を組み込んだ
光ディスクシステムのピックアップ部を示す模式図であ
る。
光ディスクシステムのピックアップ部を示す模式図であ
る。
【図8】本発明の他の実施形態(実施形態3)である一
部を切り欠いた半導体レーザ装置の平面図である。
部を切り欠いた半導体レーザ装置の平面図である。
1…光半導体素子、1a…半導体レーザ素子、2…光、
2…光束:ビーム、3…波面変換素子、3a…平面鏡、
4…光導波路(共振器)、5…支持ブロック、6…窪
み、7…窪み底面、9a,9b…反射膜、10…半導体
レーザ装置、11…パッケージ本体(ステム)、12…
蓋体(キャップ)、13…ヒートシンク、14…リー
ド、15…絶縁体、30…透過光、31…受光素子、3
2…ワイヤ、40…光透過窓、41…透明ガラス板、5
0…ポリゴンミラー、51…fθレンズ、52…感光ド
ラム、60…交差部分、61…スポット光、62…コリ
メートレンズ、63…偏光ビームスプリッター、64…
4分の1波長(λ/4)板、65…対物レンズ、66…
光デイスク、67…収束レンズ、68…シリンドリカル
レンズ、69…光検出器、70…光ファイバケーブル、
71…ファイバガイド、72…支持体、75…光ファイ
バ。
2…光束:ビーム、3…波面変換素子、3a…平面鏡、
4…光導波路(共振器)、5…支持ブロック、6…窪
み、7…窪み底面、9a,9b…反射膜、10…半導体
レーザ装置、11…パッケージ本体(ステム)、12…
蓋体(キャップ)、13…ヒートシンク、14…リー
ド、15…絶縁体、30…透過光、31…受光素子、3
2…ワイヤ、40…光透過窓、41…透明ガラス板、5
0…ポリゴンミラー、51…fθレンズ、52…感光ド
ラム、60…交差部分、61…スポット光、62…コリ
メートレンズ、63…偏光ビームスプリッター、64…
4分の1波長(λ/4)板、65…対物レンズ、66…
光デイスク、67…収束レンズ、68…シリンドリカル
レンズ、69…光検出器、70…光ファイバケーブル、
71…ファイバガイド、72…支持体、75…光ファイ
バ。
Claims (7)
- 【請求項1】 光を放射する光透過窓を有するパッケー
ジと、前記パッケージ内に配置されかつ両端面から光を
出射する端面発光型の光半導体素子と、前記パッケージ
の内外に亘って形成されるリードと、前記光半導体素子
の電極と前記リードとを電気的に接続する接続手段とを
有し、前記光半導体素子の端面から出射される光を前記
光透過窓から外部に放射する光半導体装置であって、前
記パッケージ内には前記光半導体素子の両端から出射し
た光の光路を変換する一対の波面変換素子が配置され、
光を前記光透過窓から外に放射させるように構成されて
いることを特徴とする光半導体装置。 - 【請求項2】 前記一対の波面変換素子は前記光半導体
素子の両端から出射される光を平行光を含む相互に交差
しない放射光として放射させるように構成されているこ
とを特徴とする請求項1に記載の光半導体装置。 - 【請求項3】 前記一対の光路変換素子は前記光半導体
素子の両端から出射される光を集束させるように構成さ
れていることを特徴とする請求項1に記載の光半導体装
置。 - 【請求項4】 前記パッケージ内には受光素子が配置さ
れるとともに、前記一方の波面変換素子は光を透過させ
る構造になり、前記透過光は前記受光素子で検出される
ように構成されていることを特徴とする請求項1乃至請
求項3のいずれか1項に記載の光半導体装置。 - 【請求項5】 前記光透過窓から放射される2本の光の
光出力は同一光出力になっていることを特徴とする請求
項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の光半導体装
置。 - 【請求項6】 前記請求項1乃至請求項3のいずれか1
項に記載の光半導体装置に組み込まれる光半導体素子で
あり、少なくとも1本の光導波路の両端から光を出射す
る光半導体素子であって、前記両出射面から出射される
光の光出力は同出力になるように構成されていることを
特徴とする光半導体素子。 - 【請求項7】 前記請求項4または請求項5に記載の光
半導体装置に組み込まれる光半導体素子であり、両端の
出射面に反射膜が設けられた少なくとも1本の光導波路
を有する光半導体素子であって、前記一方の出射面の反
射膜の反射率と他方の出射面の反射膜の反射膜率は異な
り、光出力をモニターする側での光出力は他の側の光出
力よりも大きくなっていることを特徴とする光半導体素
子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14681898A JPH11340574A (ja) | 1998-05-28 | 1998-05-28 | 光半導体装置およびその装置に組み込まれる光半導体素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14681898A JPH11340574A (ja) | 1998-05-28 | 1998-05-28 | 光半導体装置およびその装置に組み込まれる光半導体素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11340574A true JPH11340574A (ja) | 1999-12-10 |
Family
ID=15416234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14681898A Pending JPH11340574A (ja) | 1998-05-28 | 1998-05-28 | 光半導体装置およびその装置に組み込まれる光半導体素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11340574A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006267888A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体光制御素子 |
| EP1187228A4 (en) * | 2000-02-09 | 2007-03-07 | Nippon Leiz Corp | LIGHT SOURCE |
| JP2009135312A (ja) * | 2007-11-30 | 2009-06-18 | Denso Corp | 半導体レーザ装置および半導体レーザレーダ装置。 |
| JP2009246407A (ja) * | 2009-07-31 | 2009-10-22 | Seiko Epson Corp | 発光装置 |
| JP2011071391A (ja) * | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Seiko Epson Corp | 発光素子、発光装置、およびプロジェクター |
| JP2011071390A (ja) * | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Seiko Epson Corp | 発光素子、発光装置、およびプロジェクター |
| JP2011114116A (ja) * | 2009-11-26 | 2011-06-09 | Seiko Epson Corp | 発光装置、およびプロジェクター |
-
1998
- 1998-05-28 JP JP14681898A patent/JPH11340574A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1187228A4 (en) * | 2000-02-09 | 2007-03-07 | Nippon Leiz Corp | LIGHT SOURCE |
| JP2006267888A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体光制御素子 |
| JP2009135312A (ja) * | 2007-11-30 | 2009-06-18 | Denso Corp | 半導体レーザ装置および半導体レーザレーダ装置。 |
| JP2009246407A (ja) * | 2009-07-31 | 2009-10-22 | Seiko Epson Corp | 発光装置 |
| JP2011071391A (ja) * | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Seiko Epson Corp | 発光素子、発光装置、およびプロジェクター |
| JP2011071390A (ja) * | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Seiko Epson Corp | 発光素子、発光装置、およびプロジェクター |
| JP2011114116A (ja) * | 2009-11-26 | 2011-06-09 | Seiko Epson Corp | 発光装置、およびプロジェクター |
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Legal Events
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| A02 | Decision of refusal |
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