JPH11343126A - プレス成形用素材の製造方法及び光学素子の製造方法 - Google Patents
プレス成形用素材の製造方法及び光学素子の製造方法Info
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- JPH11343126A JPH11343126A JP14820898A JP14820898A JPH11343126A JP H11343126 A JPH11343126 A JP H11343126A JP 14820898 A JP14820898 A JP 14820898A JP 14820898 A JP14820898 A JP 14820898A JP H11343126 A JPH11343126 A JP H11343126A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラスと型材との融着による型基材の局所的
な離脱（プルアウト）、ガラスからの揮発成分等による
成型品の曇りや型表面の荒れが生じることがないか、少
ないプレス成形用のガラス素材の製造方法、得られたガ
ラス素材を用いた光学素子の製造方法を提供すること。 【解決手段】 ガラス素材を、当該ガラス素材内部のガ
ラス組成を実質的に変化させることなく、かつ表面近傍
の水分および水酸基量を減少させるように、屈伏点(Ts)
以上に加熱するプレス成形用素材の製造方法。ガラス素
材の中心温度と表面温度とが同一にならない条件下、ガ
ラス素材を、表面近傍の水分および水酸基量を減少させ
るように、Ts以上に加熱するプレス成形用素材の製造方
法。上記製造方法により製造したプレス成形用素材をプ
レス成形する光学素子の製造方法。
な離脱（プルアウト）、ガラスからの揮発成分等による
成型品の曇りや型表面の荒れが生じることがないか、少
ないプレス成形用のガラス素材の製造方法、得られたガ
ラス素材を用いた光学素子の製造方法を提供すること。 【解決手段】 ガラス素材を、当該ガラス素材内部のガ
ラス組成を実質的に変化させることなく、かつ表面近傍
の水分および水酸基量を減少させるように、屈伏点(Ts)
以上に加熱するプレス成形用素材の製造方法。ガラス素
材の中心温度と表面温度とが同一にならない条件下、ガ
ラス素材を、表面近傍の水分および水酸基量を減少させ
るように、Ts以上に加熱するプレス成形用素材の製造方
法。上記製造方法により製造したプレス成形用素材をプ
レス成形する光学素子の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プレス成形に供せ
られるガラス素材の製造方法に関する。さらには、該製
造方法により製造したガラス素材をプレス成形すること
により、研磨などを必要としない高精度の光学素子を製
造する方法に関する。
られるガラス素材の製造方法に関する。さらには、該製
造方法により製造したガラス素材をプレス成形すること
により、研磨などを必要としない高精度の光学素子を製
造する方法に関する。
【０００２】
【従来技術】従来、非球面レンズを始めとした精密光学
素子は、素材自体（例えばガラス）を研削・研磨するこ
とで製造されていた。それに対して、近年、プレス成形
方法による大量生産が実用化され、安価に高品質の精密
光学素子が安定供給されるに至っている。一般的にプレ
ス成形方式では、適正な重量・形状に調整された成型用
素材（プリフォーム）と、所定の形状に精密加工された
成形型とを用いる。適正な温度に加熱された成形型を用
いて、所定温度のプリフォームを加圧成型し、該成形型
の所定の形状に精密加工された成形面の形状をプリフォ
ームに転写する。成形後のガラスをガラス転移点（Ｔ
ｇ）以下の低い温度まで冷却して精密光学素子が得られ
る。
素子は、素材自体（例えばガラス）を研削・研磨するこ
とで製造されていた。それに対して、近年、プレス成形
方法による大量生産が実用化され、安価に高品質の精密
光学素子が安定供給されるに至っている。一般的にプレ
ス成形方式では、適正な重量・形状に調整された成型用
素材（プリフォーム）と、所定の形状に精密加工された
成形型とを用いる。適正な温度に加熱された成形型を用
いて、所定温度のプリフォームを加圧成型し、該成形型
の所定の形状に精密加工された成形面の形状をプリフォ
ームに転写する。成形後のガラスをガラス転移点（Ｔ
ｇ）以下の低い温度まで冷却して精密光学素子が得られ
る。
【０００３】このような成形に用いられる成形型として
は、炭化ケイ素（SiC）や窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）基
材の表面にイオンプレーティング法で表面保護・融着防
止膜としてi-カーボン膜を形成した成形型（特開平２―
１９９０３６号）、タングステンカーバイド（WC）を主
成分とし、不可避成分以外の金属成分を含まない基板上
に金(Au)等を含む表面膜を形成した成形型（特開平８−
１４３３２０号）等が知られている。これら以外に、高
融点金属や硬質膜等も提案されている。
は、炭化ケイ素（SiC）や窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）基
材の表面にイオンプレーティング法で表面保護・融着防
止膜としてi-カーボン膜を形成した成形型（特開平２―
１９９０３６号）、タングステンカーバイド（WC）を主
成分とし、不可避成分以外の金属成分を含まない基板上
に金(Au)等を含む表面膜を形成した成形型（特開平８−
１４３３２０号）等が知られている。これら以外に、高
融点金属や硬質膜等も提案されている。
【０００４】上記ガラスの成形は高温下で行われる。そ
のため、ガラスと型材との融着やそれによる型基材の局
所的な離脱（プルアウト）を生じたり、ガラスからの揮
発成分等による成型品の曇りや型表面の荒れが生じる。
その結果、成形型の寿命を短縮し、かつ得られた成型品
は不良品となるという問題がある。このような問題への
対処法として、例えば、酸化ヒ素を含まないガラス乃至
は脱水ガラスを用いる方法が知られている（特開平９−
７７５１９号）。或いは、ガスを溶融されたガラス溶液
中に流通させる方法等により、ガラス製品の構造中に含
まれる水酸基および水分子の総量が、水分子に換算して
５５ppm以下のプリフォームを用いる方法も知られてい
る（特開平８−１０４５２８号）。さらには、処理用ガ
ラス素材を103pa以下の減圧下、成形温度を越える温度
に保つ方法（特開平６−３４０４３１号）や成型用型内
に収容する前にプレス成型時の温度より低い温度で予備
熱処理する方法（特開平３−１７７３２０号）等が知ら
れている。
のため、ガラスと型材との融着やそれによる型基材の局
所的な離脱（プルアウト）を生じたり、ガラスからの揮
発成分等による成型品の曇りや型表面の荒れが生じる。
その結果、成形型の寿命を短縮し、かつ得られた成型品
は不良品となるという問題がある。このような問題への
対処法として、例えば、酸化ヒ素を含まないガラス乃至
は脱水ガラスを用いる方法が知られている（特開平９−
７７５１９号）。或いは、ガスを溶融されたガラス溶液
中に流通させる方法等により、ガラス製品の構造中に含
まれる水酸基および水分子の総量が、水分子に換算して
５５ppm以下のプリフォームを用いる方法も知られてい
る（特開平８−１０４５２８号）。さらには、処理用ガ
ラス素材を103pa以下の減圧下、成形温度を越える温度
に保つ方法（特開平６−３４０４３１号）や成型用型内
に収容する前にプレス成型時の温度より低い温度で予備
熱処理する方法（特開平３−１７７３２０号）等が知ら
れている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】酸化ヒ素（As2O3）お
よび酸化アンチモン（Sb2O3）は、ガラスの清澄・脱泡
を促進させる成分として良く知られている。発明者の検
証実験によれば、前者は後者に比べ、ガラス清澄時、高
温で作用し、また、脱泡効果は、前者の方が２〜３倍程
度大きい。このことは、ガラスの清澄には両者を使用す
ることが効果的であることを示す。特開平９−７７５１
９号に記載の方法のように、後者（酸化アンチモン（Sb
2O3））だけでは、脱泡効果は低下し、かつ脱泡剤を大
量に使用する必要がある。その結果、ガラスの透過率が
低下し、あるいは分散等の特性に変化を生じる等の問題
がある。
よび酸化アンチモン（Sb2O3）は、ガラスの清澄・脱泡
を促進させる成分として良く知られている。発明者の検
証実験によれば、前者は後者に比べ、ガラス清澄時、高
温で作用し、また、脱泡効果は、前者の方が２〜３倍程
度大きい。このことは、ガラスの清澄には両者を使用す
ることが効果的であることを示す。特開平９−７７５１
９号に記載の方法のように、後者（酸化アンチモン（Sb
2O3））だけでは、脱泡効果は低下し、かつ脱泡剤を大
量に使用する必要がある。その結果、ガラスの透過率が
低下し、あるいは分散等の特性に変化を生じる等の問題
がある。
【０００６】特開平８−１０４５２８号に記載の溶融ガ
ラス溶液中にガスを流通させて脱水する方法では、ガス
を流通することにより、過剰にガス成分が泡としてガラ
ス中に残存したり、ガス成分がガラス中に熔解すること
により、光学特性が意図しないものに変化したりする場
合がある。光学特性が変化することで、所望の品質が得
られず、不良品になることが多い。また、溶融ガラス溶
液中にガスを流通させるためち、ガス供給・調整設備等
の付帯設備が必要となる。さらに、ハロゲンガス、酸素
ガス、二酸化炭素ガスは、劇物、助燃性、腐食性等の特
性を有するため、使用上の危険性があり、使いにくいと
いう問題がある。
ラス溶液中にガスを流通させて脱水する方法では、ガス
を流通することにより、過剰にガス成分が泡としてガラ
ス中に残存したり、ガス成分がガラス中に熔解すること
により、光学特性が意図しないものに変化したりする場
合がある。光学特性が変化することで、所望の品質が得
られず、不良品になることが多い。また、溶融ガラス溶
液中にガスを流通させるためち、ガス供給・調整設備等
の付帯設備が必要となる。さらに、ハロゲンガス、酸素
ガス、二酸化炭素ガスは、劇物、助燃性、腐食性等の特
性を有するため、使用上の危険性があり、使いにくいと
いう問題がある。
【０００７】特開平６−３４０４３１号に記載の方法で
は、103pa以下の減圧下に保つために適した減圧装置・
気密度の高い設備が必要であり、簡便でない。また、こ
の発明は、ガラス表面のアルカリ・鉛成分を除去するも
のであり、それを行う手段として103pa以下の減圧下に
成形温度を越える温度に保つものである。
は、103pa以下の減圧下に保つために適した減圧装置・
気密度の高い設備が必要であり、簡便でない。また、こ
の発明は、ガラス表面のアルカリ・鉛成分を除去するも
のであり、それを行う手段として103pa以下の減圧下に
成形温度を越える温度に保つものである。
【０００８】特開平３−１７７３２０号に記載の方法で
は、減圧下、プレス成形温度より比較的低い温度（３０
０〜４００℃）で予備熱処理を行う。そのため表面に付
着した有機物・吸着水等は除去できる。しかし、この方
法により得られたガラス素材では、プルアウト、成型品
の曇り及び型表面の荒れを抑制することはできなかっ
た。
は、減圧下、プレス成形温度より比較的低い温度（３０
０〜４００℃）で予備熱処理を行う。そのため表面に付
着した有機物・吸着水等は除去できる。しかし、この方
法により得られたガラス素材では、プルアウト、成型品
の曇り及び型表面の荒れを抑制することはできなかっ
た。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的
は、ガラスと型材との融着やそれによる型基材の局所的
な離脱（プルアウト）を生じたり、ガラスからの揮発成
分等による成型品の曇りや型表面の荒れが生じることが
ないか、少ないプレス成形用のガラス素材の製造方法を
提供することにある。さらに本発明の目的は、上記製造
方法に得られるプレス成形用のガラス素材を用いた、プ
ルアウトを減少させ、成形型の経時的劣化を抑制できる
光学素子の製造方法を提供することにある。
は、ガラスと型材との融着やそれによる型基材の局所的
な離脱（プルアウト）を生じたり、ガラスからの揮発成
分等による成型品の曇りや型表面の荒れが生じることが
ないか、少ないプレス成形用のガラス素材の製造方法を
提供することにある。さらに本発明の目的は、上記製造
方法に得られるプレス成形用のガラス素材を用いた、プ
ルアウトを減少させ、成形型の経時的劣化を抑制できる
光学素子の製造方法を提供することにある。
【００１０】加圧成型によるガラスと型材との融着やそ
れによる型基材の局所的にえぐり取られる（プルアウ
ト）、さらには、ガラスからの揮発成分等による成型品
の曇りや型表面の荒れ・プルアウトは、本発明者らの種
々の実験から、アルカリ・鉛成分の影響よりは、ガラス
素材表面に存在する水及び水酸基の影響が大きいことが
解明され、この知見に基づいて本発明は完成された。
れによる型基材の局所的にえぐり取られる（プルアウ
ト）、さらには、ガラスからの揮発成分等による成型品
の曇りや型表面の荒れ・プルアウトは、本発明者らの種
々の実験から、アルカリ・鉛成分の影響よりは、ガラス
素材表面に存在する水及び水酸基の影響が大きいことが
解明され、この知見に基づいて本発明は完成された。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、屈伏点（Ts）
より低い温度を有するガラス素材を、当該ガラス素材内
部のガラス組成を実質的に変化させることなく、かつ表
面近傍の水分および水酸基量を減少させるように、屈伏
点（Ts）以上に加熱することを特徴とするプレス成形用
素材の製造方法（以下、第１のプレス成形用素材の製造
方法という）に関する。
より低い温度を有するガラス素材を、当該ガラス素材内
部のガラス組成を実質的に変化させることなく、かつ表
面近傍の水分および水酸基量を減少させるように、屈伏
点（Ts）以上に加熱することを特徴とするプレス成形用
素材の製造方法（以下、第１のプレス成形用素材の製造
方法という）に関する。
【００１２】さらに本発明は、ガラス素材の中心温度と
表面温度とが同一にならない条件下、屈伏点（Ts）より
低い温度を有するガラス素材を、表面近傍の水分および
水酸基量を減少させるように、屈伏点（Ts）以上に加熱
することを特徴とするプレス成形用素材の製造方法（以
下、第２のプレス成形用素材の製造方法という）に関す
る。
表面温度とが同一にならない条件下、屈伏点（Ts）より
低い温度を有するガラス素材を、表面近傍の水分および
水酸基量を減少させるように、屈伏点（Ts）以上に加熱
することを特徴とするプレス成形用素材の製造方法（以
下、第２のプレス成形用素材の製造方法という）に関す
る。
【００１３】さらに本発明は、上記第１又は第２のプレ
ス成形用素材の製造方法により製造したプレス成形用素
材をプレス成形することを特徴とする光学素子の製造方
法に関する。
ス成形用素材の製造方法により製造したプレス成形用素
材をプレス成形することを特徴とする光学素子の製造方
法に関する。
【００１４】
【発明の実施の形態】プレス成形用素材の製造方法 本発明の第１のプレス成形用素材の製造方法は、屈伏点
（Ts）より低い温度を有するガラス素材を、当該ガラス
素材内部のガラス組成を実質的に変化させることなく、
かつ表面近傍の水分および水酸基量を減少させるよう
に、屈伏点（Ts）以上に加熱することを特徴とする。
（Ts）より低い温度を有するガラス素材を、当該ガラス
素材内部のガラス組成を実質的に変化させることなく、
かつ表面近傍の水分および水酸基量を減少させるよう
に、屈伏点（Ts）以上に加熱することを特徴とする。
【００１５】処理対象となるガラス素材は、材質や形状
には特に制限はない。ガラス素材の材質としては、例え
ば、リン酸塩ガラスを挙げることができる。また、ガラ
ス素材としては、例えば、鉛成分を含まないガラスを挙
げることもできる。また、ガラス素材は、所望のプレス
成形品を得るのに適した、形状、表面状態、光学特性に
適宜調整したものであることができる。
には特に制限はない。ガラス素材の材質としては、例え
ば、リン酸塩ガラスを挙げることができる。また、ガラ
ス素材としては、例えば、鉛成分を含まないガラスを挙
げることもできる。また、ガラス素材は、所望のプレス
成形品を得るのに適した、形状、表面状態、光学特性に
適宜調整したものであることができる。
【００１６】処理対象となるガラス素材は、屈伏点（T
s）より低い温度を有するガラス素材である。ガラスの
屈伏点（Ts）は、ガラスの材質により異なるので、処理
対象となるガラス素材の材質を考慮して、処理対象とな
るガラス素材の温度（処理前の温度）を設定する。処理
対象となるガラス素材の温度は、屈伏点（Ts）より低い
温度であれば、特に制限はないが、例えば、室温であっ
ても、あるいは、室温以上で屈伏点（Ts）より低い温度
であってもよい。但し、処理対象となるガラス素材の温
度は、ガラス素材内部のガラス組成を実質的に変化させ
ることなく、表面近傍の水分および水酸基量を減少させ
ることができるという観点から、好ましくは、室温付近
に設定する。
s）より低い温度を有するガラス素材である。ガラスの
屈伏点（Ts）は、ガラスの材質により異なるので、処理
対象となるガラス素材の材質を考慮して、処理対象とな
るガラス素材の温度（処理前の温度）を設定する。処理
対象となるガラス素材の温度は、屈伏点（Ts）より低い
温度であれば、特に制限はないが、例えば、室温であっ
ても、あるいは、室温以上で屈伏点（Ts）より低い温度
であってもよい。但し、処理対象となるガラス素材の温
度は、ガラス素材内部のガラス組成を実質的に変化させ
ることなく、表面近傍の水分および水酸基量を減少させ
ることができるという観点から、好ましくは、室温付近
に設定する。
【００１７】上記ガラス素材は、ガラス素材内部のガラ
ス組成を実質的に変化させることなく、かつ表面近傍の
水分および水酸基量を減少させるように、屈伏点（Ts）
以上に加熱する。ガラス素材の表面近傍の水分および水
酸基量は、ガラス素材の表面温度が屈伏点（Ts）以上に
なれば、減少する。また、上記加熱処理は、ガラス素材
内部のガラス組成が実質的に変化しない条件で行う。ガ
ラス素材の表面近傍の水分および水酸基の量は、例え
ば、50ppm、好ましくは10ppm以下とすることが、本発明
の効果を得るという観点から適当である。
ス組成を実質的に変化させることなく、かつ表面近傍の
水分および水酸基量を減少させるように、屈伏点（Ts）
以上に加熱する。ガラス素材の表面近傍の水分および水
酸基量は、ガラス素材の表面温度が屈伏点（Ts）以上に
なれば、減少する。また、上記加熱処理は、ガラス素材
内部のガラス組成が実質的に変化しない条件で行う。ガ
ラス素材の表面近傍の水分および水酸基の量は、例え
ば、50ppm、好ましくは10ppm以下とすることが、本発明
の効果を得るという観点から適当である。
【００１８】上記ガラス素材の加熱は、例えば、ガラス
素材の表面温度が、屈伏点（Ts）からガラス素材が１０
5.5ポアズの粘度を示す温度の範囲内となる温度で行う
ことことが好ましい。ガラス素材が、１０５.５ポアズ
より低粘度になると、熱処理中にガラス成分の選択的揮
発による光学特性の意図しない変化、意図しない変形が
進行し、初期のプレス成形に適する形状・表面状態・ガ
ラス特性が維持できなくなる場合があるからである。ま
た、熱処理する温度は、得られる成形用素材がプレス成
形される際に設定される温度以上であることが、ガラス
素材の表面から水分および水酸基が取り除かれることで
得られる改質効果が大きいことから好ましい。
素材の表面温度が、屈伏点（Ts）からガラス素材が１０
5.5ポアズの粘度を示す温度の範囲内となる温度で行う
ことことが好ましい。ガラス素材が、１０５.５ポアズ
より低粘度になると、熱処理中にガラス成分の選択的揮
発による光学特性の意図しない変化、意図しない変形が
進行し、初期のプレス成形に適する形状・表面状態・ガ
ラス特性が維持できなくなる場合があるからである。ま
た、熱処理する温度は、得られる成形用素材がプレス成
形される際に設定される温度以上であることが、ガラス
素材の表面から水分および水酸基が取り除かれることで
得られる改質効果が大きいことから好ましい。
【００１９】屈伏点（Ts）より低い温度を有するガラス
素材を、例えば、屈伏点（Ts）以上の温度を有する雰囲
気中に所定時間暴露することで行うことで、ガラス素材
内部のガラス組成を実質的に変化させることなく、かつ
表面近傍の水分および水酸基量を減少させることができ
る。雰囲気への適切な暴露時間は、ガラス素材の材質や
雰囲気温度、さらには雰囲気の組成（ガス組成）を考慮
して適宜決定できる。ガラス素材を暴露する雰囲気は、
雰囲気の組成等を考慮して、例えば、屈伏点（Ts）から
ガラス素材が１０5.5ポアズの粘度を示す温度の範囲
内、好ましくはプレス成形温度以上の温度とすることが
好ましい。
素材を、例えば、屈伏点（Ts）以上の温度を有する雰囲
気中に所定時間暴露することで行うことで、ガラス素材
内部のガラス組成を実質的に変化させることなく、かつ
表面近傍の水分および水酸基量を減少させることができ
る。雰囲気への適切な暴露時間は、ガラス素材の材質や
雰囲気温度、さらには雰囲気の組成（ガス組成）を考慮
して適宜決定できる。ガラス素材を暴露する雰囲気は、
雰囲気の組成等を考慮して、例えば、屈伏点（Ts）から
ガラス素材が１０5.5ポアズの粘度を示す温度の範囲
内、好ましくはプレス成形温度以上の温度とすることが
好ましい。
【００２０】熱処理の雰囲気は、熱処理温度でガラス素
材と不活性で、かつ清浄なガス雰囲気であることが、ガ
ラス素材に変異が生成し、あるいは異物が付着して、プ
レス成形により得られる光学素子の表面に欠陥等が形成
されることを防止できるという観点から好ましい。さら
に、熱処理の雰囲気が乾燥したガス雰囲気であること
が、プレス時のガラス型への水分付着等による品質低下
及び雰囲気が多湿である(水の分圧が高い)とガラスから
の水等の脱離が抑制されるという観点から好ましい。
材と不活性で、かつ清浄なガス雰囲気であることが、ガ
ラス素材に変異が生成し、あるいは異物が付着して、プ
レス成形により得られる光学素子の表面に欠陥等が形成
されることを防止できるという観点から好ましい。さら
に、熱処理の雰囲気が乾燥したガス雰囲気であること
が、プレス時のガラス型への水分付着等による品質低下
及び雰囲気が多湿である(水の分圧が高い)とガラスから
の水等の脱離が抑制されるという観点から好ましい。
【００２１】尚、熱処理の雰囲気は、減圧下（103paよ
り低くてもよい）、大気圧下、加圧雰囲気下のいずれで
あってもよい。ガラス表面から離脱する成分の分圧は、
熱処理を行う雰囲気に比べ小さいため、いずれの場合で
も、十分に水分及び水酸基の離脱は起こるからである。
り低くてもよい）、大気圧下、加圧雰囲気下のいずれで
あってもよい。ガラス表面から離脱する成分の分圧は、
熱処理を行う雰囲気に比べ小さいため、いずれの場合で
も、十分に水分及び水酸基の離脱は起こるからである。
【００２２】さらに、屈伏点（Ts）以上での加熱したガ
ラス素材は、ガラス素材の表面温度が屈伏点（Ts）以下
になるまで降温する。降温は、ガラス素材内部のガラス
組成を実質的に変化させることない程度に速やかに行う
ことが好ましい。降温速度が遅いと、ガラス素材内部の
温度が上がり、ガラス組成を変化させる原因となる。降
温したガラス素材の温度は、屈伏点（Ts）より低い温度
であればよいが、例えば、降温後続けてプレス成形する
場合には、プレス成形の温度とすることが適当である。
また、降温後続けてプレス成形しない場合には、室温ま
で降温することもできる。室温まで降温したガラス素材
は、熱処理による効果を維持しえるので、再度加熱し、
プレス成形に供しても、本発明の効果を得ることができ
る。
ラス素材は、ガラス素材の表面温度が屈伏点（Ts）以下
になるまで降温する。降温は、ガラス素材内部のガラス
組成を実質的に変化させることない程度に速やかに行う
ことが好ましい。降温速度が遅いと、ガラス素材内部の
温度が上がり、ガラス組成を変化させる原因となる。降
温したガラス素材の温度は、屈伏点（Ts）より低い温度
であればよいが、例えば、降温後続けてプレス成形する
場合には、プレス成形の温度とすることが適当である。
また、降温後続けてプレス成形しない場合には、室温ま
で降温することもできる。室温まで降温したガラス素材
は、熱処理による効果を維持しえるので、再度加熱し、
プレス成形に供しても、本発明の効果を得ることができ
る。
【００２３】尚、ガラス素材の加熱及び降温は、ガラス
素材を、例えば、特開平８−２５９２４２号に記載の方
法等により、気流により浮上させた状態で行うことが、
ガラス素材表面の近傍の水分および水酸基を漏れなく、
かつ速やかに減少させることができるという観点から好
ましい。あるいは、ガラス素材の加熱及び降温は、ガラ
ス素材の機能面（表面近傍の水分および水酸基を減少さ
せたい面）以外を支持部材により支持して行うこともで
きる。
素材を、例えば、特開平８−２５９２４２号に記載の方
法等により、気流により浮上させた状態で行うことが、
ガラス素材表面の近傍の水分および水酸基を漏れなく、
かつ速やかに減少させることができるという観点から好
ましい。あるいは、ガラス素材の加熱及び降温は、ガラ
ス素材の機能面（表面近傍の水分および水酸基を減少さ
せたい面）以外を支持部材により支持して行うこともで
きる。
【００２４】本発明の第２のプレス成形用素材の製造方
法は、ガラス素材の中心温度と表面温度とが同一になら
ない条件下、屈伏点（Ts）より低い温度を有するガラス
素材を、表面近傍の水分および水酸基量を減少させるよ
うに、屈伏点（Ts）以上に加熱することを特徴とする。
法は、ガラス素材の中心温度と表面温度とが同一になら
ない条件下、屈伏点（Ts）より低い温度を有するガラス
素材を、表面近傍の水分および水酸基量を減少させるよ
うに、屈伏点（Ts）以上に加熱することを特徴とする。
【００２５】処理対象となるガラス素材は、第１のプレ
ス成形用素材の製造方法と同様に、材質や形状には特に
制限はない。ガラス素材の材質としては、例えば、リン
酸塩ガラスを挙げることができる。また、ガラス素材と
しては、例えば、鉛成分を含まないガラスを挙げること
もできる。また、ガラス素材は、所望のプレス成形品を
得るのに適した、形状、表面状態、光学特性に適宜調整
したものであることができる。
ス成形用素材の製造方法と同様に、材質や形状には特に
制限はない。ガラス素材の材質としては、例えば、リン
酸塩ガラスを挙げることができる。また、ガラス素材と
しては、例えば、鉛成分を含まないガラスを挙げること
もできる。また、ガラス素材は、所望のプレス成形品を
得るのに適した、形状、表面状態、光学特性に適宜調整
したものであることができる。
【００２６】処理対象となるガラス素材は、屈伏点（T
s）より低い温度を有するガラス素材である。ガラスの
屈伏点（Ts）は、ガラスの材質により異なるので、処理
対象となるガラス素材の材質を考慮して、処理対象とな
るガラス素材の温度（処理前の温度）を設定する。処理
対象となるガラス素材の温度は、屈伏点（Ts）より低い
温度であれば、特に制限はないが、例えば、室温であっ
ても、あるいは、室温以上で屈伏点（Ts）より低い温度
であってもよい。但し、処理対象となるガラス素材の温
度は、ガラス素材の中心温度と表面温度とが同一になら
ない条件下で、表面近傍の水分および水酸基量を減少さ
せることができるという観点から、好ましくは、室温付
近に設定する。
s）より低い温度を有するガラス素材である。ガラスの
屈伏点（Ts）は、ガラスの材質により異なるので、処理
対象となるガラス素材の材質を考慮して、処理対象とな
るガラス素材の温度（処理前の温度）を設定する。処理
対象となるガラス素材の温度は、屈伏点（Ts）より低い
温度であれば、特に制限はないが、例えば、室温であっ
ても、あるいは、室温以上で屈伏点（Ts）より低い温度
であってもよい。但し、処理対象となるガラス素材の温
度は、ガラス素材の中心温度と表面温度とが同一になら
ない条件下で、表面近傍の水分および水酸基量を減少さ
せることができるという観点から、好ましくは、室温付
近に設定する。
【００２７】上記ガラス素材は、ガラス素材の中心温度
と表面温度とが同一にならない条件下、表面近傍の水分
および水酸基量を減少させるように、屈伏点（Ts）以上
に加熱する。ガラス素材の表面近傍の水分および水酸基
量は、ガラス素材の表面温度が屈伏点（Ts）以上になれ
ば、減少する。また、上記加熱処理は、ガラス素材の中
心温度と表面温度とが同一にならない条件で行う。ガラ
ス素材の表面近傍の水分および水酸基の量は、例えば、
50ppm、好ましくは10ppm以下とすることが、本発明の効
果を得るという観点から適当である。
と表面温度とが同一にならない条件下、表面近傍の水分
および水酸基量を減少させるように、屈伏点（Ts）以上
に加熱する。ガラス素材の表面近傍の水分および水酸基
量は、ガラス素材の表面温度が屈伏点（Ts）以上になれ
ば、減少する。また、上記加熱処理は、ガラス素材の中
心温度と表面温度とが同一にならない条件で行う。ガラ
ス素材の表面近傍の水分および水酸基の量は、例えば、
50ppm、好ましくは10ppm以下とすることが、本発明の効
果を得るという観点から適当である。
【００２８】上記ガラス素材の加熱は、例えば、ガラス
素材の表面温度が、屈伏点（Ts）からガラス素材が１０
5.5ポアズの粘度を示す温度の範囲内となる温度で行う
ことことが好ましい。ガラス素材が、１０５.５ポアズ
より低粘度になると、熱処理中にガラス成分の選択的揮
発による光学特性の意図しない変化、意図しない変形が
進行し、初期のプレス成形に適する形状・表面状態・ガ
ラス特性が維持できなくなる場合があるからである。ま
た、熱処理する温度は、得られる成形用素材がプレス成
形される際に設定される温度以上であることが、ガラス
素材の表面から水分および水酸基が取り除かれることで
得られる改質効果が大きいことから好ましい。
素材の表面温度が、屈伏点（Ts）からガラス素材が１０
5.5ポアズの粘度を示す温度の範囲内となる温度で行う
ことことが好ましい。ガラス素材が、１０５.５ポアズ
より低粘度になると、熱処理中にガラス成分の選択的揮
発による光学特性の意図しない変化、意図しない変形が
進行し、初期のプレス成形に適する形状・表面状態・ガ
ラス特性が維持できなくなる場合があるからである。ま
た、熱処理する温度は、得られる成形用素材がプレス成
形される際に設定される温度以上であることが、ガラス
素材の表面から水分および水酸基が取り除かれることで
得られる改質効果が大きいことから好ましい。
【００２９】屈伏点（Ts）より低い温度を有するガラス
素材を、例えば、屈伏点（Ts）以上の温度を有する雰囲
気中に所定時間暴露することで行うことで、ガラス素材
の中心温度と表面温度とが同一になることなく、かつ表
面近傍の水分および水酸基量を減少させることができ
る。雰囲気への適切な暴露時間は、ガラス素材の材質や
雰囲気温度、さらには雰囲気の組成（ガス組成）を考慮
して適宜決定できる。ガラス素材を暴露する雰囲気は、
雰囲気の組成等を考慮して、例えば、屈伏点（Ts）から
ガラス素材が１０5.5ポアズの粘度を示す温度の範囲
内、好ましくはプレス成形温度以上の温度とすることが
好ましい。
素材を、例えば、屈伏点（Ts）以上の温度を有する雰囲
気中に所定時間暴露することで行うことで、ガラス素材
の中心温度と表面温度とが同一になることなく、かつ表
面近傍の水分および水酸基量を減少させることができ
る。雰囲気への適切な暴露時間は、ガラス素材の材質や
雰囲気温度、さらには雰囲気の組成（ガス組成）を考慮
して適宜決定できる。ガラス素材を暴露する雰囲気は、
雰囲気の組成等を考慮して、例えば、屈伏点（Ts）から
ガラス素材が１０5.5ポアズの粘度を示す温度の範囲
内、好ましくはプレス成形温度以上の温度とすることが
好ましい。
【００３０】熱処理の雰囲気は、熱処理温度でガラス素
材と不活性で、かつ清浄なガス雰囲気であることが、ガ
ラス素材に変異が生成し、あるいは異物が付着して、プ
レス成形により得られる光学素子の表面に欠陥等が形成
されることを防止できるという観点から好ましい。さら
に、熱処理の雰囲気が乾燥したガス雰囲気であること
が、プレス時のガラス型への水分付着等による品質低下
及び雰囲気が多湿である(水の分圧が高い)とガラスから
の水等の脱離が抑制されるという観点から好ましい。
材と不活性で、かつ清浄なガス雰囲気であることが、ガ
ラス素材に変異が生成し、あるいは異物が付着して、プ
レス成形により得られる光学素子の表面に欠陥等が形成
されることを防止できるという観点から好ましい。さら
に、熱処理の雰囲気が乾燥したガス雰囲気であること
が、プレス時のガラス型への水分付着等による品質低下
及び雰囲気が多湿である(水の分圧が高い)とガラスから
の水等の脱離が抑制されるという観点から好ましい。
【００３１】尚、熱処理の雰囲気は、減圧下（103paよ
り低くても良い）、大気圧下、加圧雰囲気下のいずれで
あってもよい。ガラス表面から離脱する成分の分圧は、
熱処理を行う雰囲気に比べ小さいため、いずれの場合で
も、十分に水分及び水酸基の離脱は起こるからである。
り低くても良い）、大気圧下、加圧雰囲気下のいずれで
あってもよい。ガラス表面から離脱する成分の分圧は、
熱処理を行う雰囲気に比べ小さいため、いずれの場合で
も、十分に水分及び水酸基の離脱は起こるからである。
【００３２】さらに、屈伏点（Ts）以上での加熱したガ
ラス素材は、ガラス素材の表面温度が屈伏点（Ts）以下
になるまで降温する。降温は、ガラス素材内部のガラス
組成を実質的に変化させることない程度に、ガラス表面
と内部との温度差がなくならないように、速やかに行う
ことが好ましい。降温速度が遅いと、ガラス表面と内部
の温度差を維持することが難しくなる。降温したガラス
素材の温度は、屈伏点（Ts）より低い温度であればよい
が、例えば、降温後続けてプレス成形する場合には、プ
レス成形の温度とすることが適当である。また、降温後
続けてプレス成形しない場合には、室温まで降温するこ
ともできる。室温まで降温したガラス素材は、熱処理に
よる効果を維持しえるので、再度加熱し、プレス成形に
供しても、本発明の効果を得ることができる。
ラス素材は、ガラス素材の表面温度が屈伏点（Ts）以下
になるまで降温する。降温は、ガラス素材内部のガラス
組成を実質的に変化させることない程度に、ガラス表面
と内部との温度差がなくならないように、速やかに行う
ことが好ましい。降温速度が遅いと、ガラス表面と内部
の温度差を維持することが難しくなる。降温したガラス
素材の温度は、屈伏点（Ts）より低い温度であればよい
が、例えば、降温後続けてプレス成形する場合には、プ
レス成形の温度とすることが適当である。また、降温後
続けてプレス成形しない場合には、室温まで降温するこ
ともできる。室温まで降温したガラス素材は、熱処理に
よる効果を維持しえるので、再度加熱し、プレス成形に
供しても、本発明の効果を得ることができる。
【００３３】尚、ガラス素材の加熱及び降温は、ガラス
素材を、例えば、特開平８−２５９２４２号に記載の方
法等により、気流により浮上させた状態で行うことが、
ガラス素材表面の近傍の水分および水酸基を漏れなく、
かつ速やかに減少させることができるという観点から好
ましい。あるいは、ガラス素材の加熱及び降温は、ガラ
ス素材の機能面（表面近傍の水分および水酸基を減少さ
せたい面）以外を支持部材により支持して行うこともで
きる。
素材を、例えば、特開平８−２５９２４２号に記載の方
法等により、気流により浮上させた状態で行うことが、
ガラス素材表面の近傍の水分および水酸基を漏れなく、
かつ速やかに減少させることができるという観点から好
ましい。あるいは、ガラス素材の加熱及び降温は、ガラ
ス素材の機能面（表面近傍の水分および水酸基を減少さ
せたい面）以外を支持部材により支持して行うこともで
きる。
【００３４】光学素子の製造方法 本発明の光学素子の製造方法は、上記本発明の第１また
は第２のプレス成形用素材の製造方法により製造した成
形用のガラス素材をプレス成形することを特徴とする。
は第２のプレス成形用素材の製造方法により製造した成
形用のガラス素材をプレス成形することを特徴とする。
【００３５】本発明の光学素子の製造方法は、例えば、
プレス成形温度に降温したガラス素材をそのままプレス
成形することで、ガラス素材の熱処理とプレス成形とを
連続した工程で行うことができる。あるいは、プレス成
形温度より低いガラス素材を再度加熱してプレス成形温
度とした後に、プレス成形することもできる。ガラス素
材の再加熱及びプレス成形は、公知の方法及び条件で行
うことができる。例えば、特開平８−２５９２４２号等
に記載の方法を利用することができる。
プレス成形温度に降温したガラス素材をそのままプレス
成形することで、ガラス素材の熱処理とプレス成形とを
連続した工程で行うことができる。あるいは、プレス成
形温度より低いガラス素材を再度加熱してプレス成形温
度とした後に、プレス成形することもできる。ガラス素
材の再加熱及びプレス成形は、公知の方法及び条件で行
うことができる。例えば、特開平８−２５９２４２号等
に記載の方法を利用することができる。
【００３６】本発明の光学素子の製造方法では、例え
ば、上記方法により得られた加熱軟化状態のプレス成形
用素材またはプレス成形用素材を再度加熱軟化させた
後、予熱した成形型で押圧成形することによりガラス光
学素子を成形することができる。
ば、上記方法により得られた加熱軟化状態のプレス成形
用素材またはプレス成形用素材を再度加熱軟化させた
後、予熱した成形型で押圧成形することによりガラス光
学素子を成形することができる。
【００３７】この方法では、例えば、前記ガラス素材の
温度を該ガラス素材の粘度が、１０ ５〜１０１１ポアズ
に相当する温度、好ましくは１０９ポアズ未満に相当す
る温度とし、成形型の予熱の温度を前記ガラス素材の粘
度が１０９〜１０１２ポアズに相当する温度とし、前記
加熱軟化したガラス素材を前記予熱した成形型内で３〜
６０秒間初期加圧し、次いで前記成形型の成形面近傍を
２０℃／分以上の速度で冷却し、前記成形面近傍の温度
が前記ガラス素材の粘度が１０１２ポアズに相当する温
度以下になった後に成形型からガラス成形体を離型する
ことで、ガラス光学素子を得ることができる。
温度を該ガラス素材の粘度が、１０ ５〜１０１１ポアズ
に相当する温度、好ましくは１０９ポアズ未満に相当す
る温度とし、成形型の予熱の温度を前記ガラス素材の粘
度が１０９〜１０１２ポアズに相当する温度とし、前記
加熱軟化したガラス素材を前記予熱した成形型内で３〜
６０秒間初期加圧し、次いで前記成形型の成形面近傍を
２０℃／分以上の速度で冷却し、前記成形面近傍の温度
が前記ガラス素材の粘度が１０１２ポアズに相当する温
度以下になった後に成形型からガラス成形体を離型する
ことで、ガラス光学素子を得ることができる。
【００３８】本発明に用いる成形型は、従来から公知の
成形型をそまま用いることができる。但し、成形型の成
形面が非晶質及び／又は結晶質の、グラファイト及び／
又はダイヤモンドの、単一成分層又は混合層からなる炭
素膜で構成されているものを用いることが好ましい。上
記のような炭素膜で構成されている成形面を有する成形
型では、成形型の温度が、ガラス素材のガラス転移点以
上であっても、ガラスの融着（固着）が生じることはな
い。
成形型をそまま用いることができる。但し、成形型の成
形面が非晶質及び／又は結晶質の、グラファイト及び／
又はダイヤモンドの、単一成分層又は混合層からなる炭
素膜で構成されているものを用いることが好ましい。上
記のような炭素膜で構成されている成形面を有する成形
型では、成形型の温度が、ガラス素材のガラス転移点以
上であっても、ガラスの融着（固着）が生じることはな
い。
【００３９】また、成形型の材質としては炭化ケイ素を
用いることができるが、炭化ケイ素の代わりに、ケイ
素、窒化ケイ素、炭化タングステン、酸化アルミニウム
と炭化チタンのサーメットや、これらの表面にダイヤモ
ンド、耐熱金属、貴金属合金、炭化物、窒化物、硼化
物、酸化物などのセラミックスなどを被覆したものも使
用することができるが、炭化ケイ素焼結体上にＣＶＤ法
により炭化ケイ素膜を形成して、仕上がり形状に加工し
た後、イオンプレーティング法等によりｉ−カーボン膜
等の非晶質及び／又は結晶質のグラファイト及び／又は
ダイヤモンドの単一成分層又は混合層からなる炭素膜を
形成したものが特に好ましい。その理由は、成形型温度
を比較的高温にして成形しても、融着が起こらないこと
及び、離型性がよいため比較的高温で容易に離型できる
ことによる。
用いることができるが、炭化ケイ素の代わりに、ケイ
素、窒化ケイ素、炭化タングステン、酸化アルミニウム
と炭化チタンのサーメットや、これらの表面にダイヤモ
ンド、耐熱金属、貴金属合金、炭化物、窒化物、硼化
物、酸化物などのセラミックスなどを被覆したものも使
用することができるが、炭化ケイ素焼結体上にＣＶＤ法
により炭化ケイ素膜を形成して、仕上がり形状に加工し
た後、イオンプレーティング法等によりｉ−カーボン膜
等の非晶質及び／又は結晶質のグラファイト及び／又は
ダイヤモンドの単一成分層又は混合層からなる炭素膜を
形成したものが特に好ましい。その理由は、成形型温度
を比較的高温にして成形しても、融着が起こらないこと
及び、離型性がよいため比較的高温で容易に離型できる
ことによる。
【００４０】上記の炭素膜は、スパッタリング法、プラ
ズマＣＶＤ法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法等の
手段で成膜されるものである。スパッタリング法で成膜
する場合には、基盤温度２５０〜６００℃、ＲＦパワー
密度５〜１５Ｗ／ｃｍ２、スパッタリング時真空度５×
１０−４〜５×１０−１ｔｏｒｒの範囲でスパッタガス
としてＡｒの如き不活性ガスを、スパッタターゲットと
してグラファイトを用いてスパッタリングするのが好ま
しい。
ズマＣＶＤ法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法等の
手段で成膜されるものである。スパッタリング法で成膜
する場合には、基盤温度２５０〜６００℃、ＲＦパワー
密度５〜１５Ｗ／ｃｍ２、スパッタリング時真空度５×
１０−４〜５×１０−１ｔｏｒｒの範囲でスパッタガス
としてＡｒの如き不活性ガスを、スパッタターゲットと
してグラファイトを用いてスパッタリングするのが好ま
しい。
【００４１】マイクロ波プラズマＣＶＤ法により成膜す
る場合には、基盤温度６５０〜１０００℃、マイクロ波
電力２００Ｗ〜１ｋＷ、ガス圧力１０-2〜６００ｔｏｒ
ｒの条件下に、原料ガスとしてメタンガスと水素ガスを
用いて成膜するのが好ましい。
る場合には、基盤温度６５０〜１０００℃、マイクロ波
電力２００Ｗ〜１ｋＷ、ガス圧力１０-2〜６００ｔｏｒ
ｒの条件下に、原料ガスとしてメタンガスと水素ガスを
用いて成膜するのが好ましい。
【００４２】イオンプレーティング法により形成する場
合には、基盤温度を２００〜４５０℃とし、ベンゼンガ
スをイオン化するのが好ましい。
合には、基盤温度を２００〜４５０℃とし、ベンゼンガ
スをイオン化するのが好ましい。
【００４３】これらの炭素膜はＣ−Ｈ結合を有するもの
を含む。
を含む。
【００４４】本発明の成形方法においては、前記加熱軟
化したガラス素材を前記予熱した成形型内で３〜６０秒
間初期加圧する。この初期加圧が３秒未満ではガラスの
伸びが不十分であり、所望の形状のガラス光学素子を得
ることは難しい。また、初期加圧は、長くなればそれだ
け面精度等は向上するが、長すぎるとサイクル時間が短
縮できず、また、成形型の寿命にも悪影響を及ぼすこと
があり、上限は６０秒である。また、成形圧力は、ガラ
ス素材の温度及び成形型の温度等を考慮して適宜決定す
ることができ、通常３０〜２００ｋｇ／ｃｍ２の範囲の
圧力とすることが適当である。
化したガラス素材を前記予熱した成形型内で３〜６０秒
間初期加圧する。この初期加圧が３秒未満ではガラスの
伸びが不十分であり、所望の形状のガラス光学素子を得
ることは難しい。また、初期加圧は、長くなればそれだ
け面精度等は向上するが、長すぎるとサイクル時間が短
縮できず、また、成形型の寿命にも悪影響を及ぼすこと
があり、上限は６０秒である。また、成形圧力は、ガラ
ス素材の温度及び成形型の温度等を考慮して適宜決定す
ることができ、通常３０〜２００ｋｇ／ｃｍ２の範囲の
圧力とすることが適当である。
【００４５】成形後に、前記成形型の成形面近傍を２０
℃／分以上の速度で冷却する。冷却速度を２０℃／分よ
り遅くしてもかまわないが、不必要に成形のサイクルタ
イムが長くなるだけである。ガラス成形体の大きさ、形
状によって異なるが、高面精度を得るという観点から、
成形面近傍は２０〜１８０℃／分の速度で冷却すること
が好ましい。
℃／分以上の速度で冷却する。冷却速度を２０℃／分よ
り遅くしてもかまわないが、不必要に成形のサイクルタ
イムが長くなるだけである。ガラス成形体の大きさ、形
状によって異なるが、高面精度を得るという観点から、
成形面近傍は２０〜１８０℃／分の速度で冷却すること
が好ましい。
【００４６】上記のように加圧成形され、次いで冷却さ
れたガラス成形品は、成形面近傍の温度が前記ガラス素
材の粘度が１０１２ポアズに相当する温度以下になった
後に成形型から離型される。ガラス粘度が１０１２ポア
ズを超えれば、短時間では粘性流動が起こることがな
く、ほぼガラスは固結したとみなしてよい。その結果、
離型後にガラス成形体に変形等が生じることがなく、良
好な面精度が得られる。ガラス成形体の離型は、前記成
形面近傍の温度が前記ガラス素材の粘度が１０１ ２〜１
０１４．５ポアズに相当する温度で行うことが特に好ま
しい。
れたガラス成形品は、成形面近傍の温度が前記ガラス素
材の粘度が１０１２ポアズに相当する温度以下になった
後に成形型から離型される。ガラス粘度が１０１２ポア
ズを超えれば、短時間では粘性流動が起こることがな
く、ほぼガラスは固結したとみなしてよい。その結果、
離型後にガラス成形体に変形等が生じることがなく、良
好な面精度が得られる。ガラス成形体の離型は、前記成
形面近傍の温度が前記ガラス素材の粘度が１０１ ２〜１
０１４．５ポアズに相当する温度で行うことが特に好ま
しい。
【００４７】
【実施例】以下、実施例により、本発明をさらに説明す
る。 実施例１ ガラスと型材との融着やそれによる型基材の局所的な離
脱（クラック・プルアウト）は、炭化ケイ素（ＳｉＣ）
や窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）基材上に形成された表面保
護・融着防止膜の不可避な欠陥部より露呈された基材と
ガラスが反応・融着し、その部分を起点として基材の一
部が局所的にガラスにしてえぐり取られるものである
（特開平０９−７７５１９号）。
る。 実施例１ ガラスと型材との融着やそれによる型基材の局所的な離
脱（クラック・プルアウト）は、炭化ケイ素（ＳｉＣ）
や窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）基材上に形成された表面保
護・融着防止膜の不可避な欠陥部より露呈された基材と
ガラスが反応・融着し、その部分を起点として基材の一
部が局所的にガラスにしてえぐり取られるものである
（特開平０９−７７５１９号）。
【００４８】本発明の作用効果をガラスと型材との融着
やそれによる型基材の局所的な基材のえぐり取られ（ク
ラック・プルアウト）において、以下の方法で明瞭に検
証した。このためのシミュレーション方法として、鏡面
研磨した炭化珪素または窒化珪素からなる成形型上（本
テストでは炭化ケイ素を使用したが、窒化ケイ素でも同
様な傾向を呈する）に通常使用時に施すガラス融着防止
膜を形成せずにガラス成形用素材を加圧成形した。
やそれによる型基材の局所的な基材のえぐり取られ（ク
ラック・プルアウト）において、以下の方法で明瞭に検
証した。このためのシミュレーション方法として、鏡面
研磨した炭化珪素または窒化珪素からなる成形型上（本
テストでは炭化ケイ素を使用したが、窒化ケイ素でも同
様な傾向を呈する）に通常使用時に施すガラス融着防止
膜を形成せずにガラス成形用素材を加圧成形した。
【００４９】これにより、本発明の作用効果をクラック
・プルアウトの発生数の変化により、検証した。
・プルアウトの発生数の変化により、検証した。
【００５０】成形条件は、以下の通りである。
【００５１】成形用素材形状：熱間成形によりマーブル
形状にしたもの（体積２５０mm3） 成形用素材：ＳＫ５ 組成 B2O3、SiO2、BaOを主成分とする 特性：nd:1.58913、νd:61.3、Tg:514℃、Ts:545℃ 成形型：円盤形状の平板で、シミュレーションを行う観
点から、炭化珪素の表面を酸素プラズマで若干酸化さ
せ、プルアウトを生じやすくした。各成形素材に対し、
成形型を８個使用した。評価は光学顕微鏡観察により、
プルアウトおよびその前駆体と思われるクラックをカウ
ントし、算術平均した。
形状にしたもの（体積２５０mm3） 成形用素材：ＳＫ５ 組成 B2O3、SiO2、BaOを主成分とする 特性：nd:1.58913、νd:61.3、Tg:514℃、Ts:545℃ 成形型：円盤形状の平板で、シミュレーションを行う観
点から、炭化珪素の表面を酸素プラズマで若干酸化さ
せ、プルアウトを生じやすくした。各成形素材に対し、
成形型を８個使用した。評価は光学顕微鏡観察により、
プルアウトおよびその前駆体と思われるクラックをカウ
ントし、算術平均した。
【００５２】◇予備熱処理は、管状炉内（図示せず）で
行い、その条件は、以下の通りである。 処理温度：６７０℃（約１０６ｐｏｉｓｅ）、６６０
℃、６４７℃（約１０６． ５ ｐｏｉｓｅ）、６４０℃ 温度保持時間：０、1、１０、３０sec 処理雰囲気：N2、大気（フィルターによりクラス１００
０以下 の大気を導入）雰囲気は、処理温度時に成形用
素材（ガラス等）と反応等せず、ガラス素材への汚染・
変質等の悪影響を及ぼさなければ種類を拘るものではな
い。
行い、その条件は、以下の通りである。 処理温度：６７０℃（約１０６ｐｏｉｓｅ）、６６０
℃、６４７℃（約１０６． ５ ｐｏｉｓｅ）、６４０℃ 温度保持時間：０、1、１０、３０sec 処理雰囲気：N2、大気（フィルターによりクラス１００
０以下 の大気を導入）雰囲気は、処理温度時に成形用
素材（ガラス等）と反応等せず、ガラス素材への汚染・
変質等の悪影響を及ぼさなければ種類を拘るものではな
い。
【００５３】雰囲気圧力：13、1.013×105、1.922×105
Pa
Pa
【００５４】◇プレス成形条件 雰囲気：2vol%H2+98vol%N2 プレス成形温度：６４０℃（ガラス粘度が約106.9poise
に相当する温度で通常の成形条件よりやや低粘度であ
る） 成形圧力：120kg/cm2 成形時間：60秒 冷却速度：110℃/min 成形回数：5回（各８個の成形型に対し、各５回成形処
理した） 予備熱処理後、Ｔｓ温度以下に一旦降温してから、プレ
ス成形を行った。
に相当する温度で通常の成形条件よりやや低粘度であ
る） 成形圧力：120kg/cm2 成形時間：60秒 冷却速度：110℃/min 成形回数：5回（各８個の成形型に対し、各５回成形処
理した） 予備熱処理後、Ｔｓ温度以下に一旦降温してから、プレ
ス成形を行った。
【００５５】結果は、図１〜４に示すとおりである。プ
ルアウト(クラックも含む)の発生数は、未処理のものに
比べ、明らかに低減されている。その程度を左右する要
素としては、（１）処理温度、（２）処理時間、（３）
処理雰囲気、（４）処理圧力（処理雰囲気圧力）がある
が、このうち、影響度の大きいのは処理温度であり、ま
た、処理圧力は陽圧でも十分な効果が得られる。処理時
間については、処理温度に比べ影響は小さい。
ルアウト(クラックも含む)の発生数は、未処理のものに
比べ、明らかに低減されている。その程度を左右する要
素としては、（１）処理温度、（２）処理時間、（３）
処理雰囲気、（４）処理圧力（処理雰囲気圧力）がある
が、このうち、影響度の大きいのは処理温度であり、ま
た、処理圧力は陽圧でも十分な効果が得られる。処理時
間については、処理温度に比べ影響は小さい。
【００５６】また、熱処理後、Ｔｓ温度以下に降温せず
に、プレス成形した場合は、プルアウト軽減効果は低か
った。他のガラスについても概ね同様な結果が得られ
た。
に、プレス成形した場合は、プルアウト軽減効果は低か
った。他のガラスについても概ね同様な結果が得られ
た。
【００５７】実施例２ ガラスからの揮発成分等による成型品の曇りや型表面の
荒れを検証は、以下の方法でおこなった。所望の光学特
性で、研磨や熱間成形によりプレス成形品を得るのに適
した、形状・表面状態に調整されている球およびマーブ
ル状の被成形ガラスを炉内（図示せず）で、浮上状態
（浮上部材は表記しない）もしくはプレス成形後の製品
における機能部分以外を支持部材（例えば、ＷＣ含有合
金）で支持し、被加熱ガラス表面と中心部との温度差が
できるように熱処理を行った。
荒れを検証は、以下の方法でおこなった。所望の光学特
性で、研磨や熱間成形によりプレス成形品を得るのに適
した、形状・表面状態に調整されている球およびマーブ
ル状の被成形ガラスを炉内（図示せず）で、浮上状態
（浮上部材は表記しない）もしくはプレス成形後の製品
における機能部分以外を支持部材（例えば、ＷＣ含有合
金）で支持し、被加熱ガラス表面と中心部との温度差が
できるように熱処理を行った。
【００５８】熱処理後、Ｔｓ温度以下まで降温した（プ
レス温度以上の温度で熱処理した場合は、一度プレス温
度以下、望ましくはＴｓ温度以下まで降温し、再度、加
熱しプレスを行う。本試行では、プレス温度以上で熱処
理し、Ｔｓ温度以下まで降温した。） 引き続き、これを成形型に離型膜を施したもの（炭化珪
素または窒化珪素等からなる成形型上にｉ-カーボン等
の炭素系の融着防止膜を施したものおよびAuを含む貴金
属合金、例えば、Pt-Au-Re、Pt-Au-Ir-Rh）に載置し、
加熱の後に、プレスを行い、プレス後のプレス成形品の
表面を目視観察および光学顕微鏡観察により、クモリお
よび型表面の荒れを評価した。評価基準は、使用上・見
かけ上により適否判断した。
レス温度以上の温度で熱処理した場合は、一度プレス温
度以下、望ましくはＴｓ温度以下まで降温し、再度、加
熱しプレスを行う。本試行では、プレス温度以上で熱処
理し、Ｔｓ温度以下まで降温した。） 引き続き、これを成形型に離型膜を施したもの（炭化珪
素または窒化珪素等からなる成形型上にｉ-カーボン等
の炭素系の融着防止膜を施したものおよびAuを含む貴金
属合金、例えば、Pt-Au-Re、Pt-Au-Ir-Rh）に載置し、
加熱の後に、プレスを行い、プレス後のプレス成形品の
表面を目視観察および光学顕微鏡観察により、クモリお
よび型表面の荒れを評価した。評価基準は、使用上・見
かけ上により適否判断した。
【００５９】プレス・予備熱処理条件は以下の通りで、 雰囲気：N2 成形温度：約107.5poise 成形圧力：100kg/cm2 成形時間：60秒 冷却速度：60℃/min 対象ガラス：（１）リン酸系鉛含有ガラス(FD6-Pb) （２）リン酸系鉛未含有ガラス(FD6-Pb free) プレス成形レンズ：φ12、凹メニスカス形状（R1:24、R
2:10)
2:10)
【００６０】予備熱処理条件 雰囲気：N2 処理時間：5sec 処理炉内圧：13、1.013×105、1.922×105 Pa 処理粘度：105.5、106.5、107.5、108.5、10.9.5、1010
（Ts）poise
（Ts）poise
【００６１】リン酸系鉛含有ガラス(FD6-Pb) 組成：P2O5、PbO、Nb2O5を主成分とする。（Pbを含む） nd:1.80512 νd:25.45 Tg:４６６℃、Ts:５１１℃ リン酸系鉛未含有ガラス(FD6-Pb free) 組成：P2O5、Nb2O5、TiO2、WO3を主成分とする（Ｐｂを
含まない） nd:1.80533 νd:25.41 Tg:４９９℃ Ts:５４５℃
含まない） nd:1.80533 νd:25.41 Tg:４９９℃ Ts:５４５℃
【００６２】
【表１】
【００６３】結果は、上記表1に示す通りで予備熱処理
により、顕著に発泡・クモリ等が低減し、また、ガラス
の融着等が防止されることが確認される。予備熱処理を
行わない成形用ガラス素材では、プレス数回で融着防止
表面膜および型基材にガラス融着が見られる一方、予備
熱処理を施したものでは、融着等が生じず良好である。
前述の実施例１に示すように予備熱処理は、プレス温度
より高いほど効果的であり、Ts以上であれば、その効果
が明確に観られ、プレス温度が高いほど顕著化してくる
（図には示していない）。一方、２００℃付近の処理温
度では、ガラス成形体表面の水分等は離脱するものの、
構造水やイオン等の移動等が生じないため、全く効果が
無い（図には示していない）。余り高い温度での処理で
は、被加熱ガラスの均熱化が進み、表面付近と中心部に
向かい温度差異が無くなり、水等の中心付近からの表面
付近への拡散・移動が進み、本発明で意図する効果が減
じられる。さらには、ガラスの変質・意図しない変形等
が生じることがあり、また、長時間の処理では、一連の
レンズ成形工程が長くなり、律速工程となる他、ガラス
の変質・意図しない変形等が生じることから、処理温度
・処理時間は、適宜、適切な効果程度が得られるように
設定する必要がある。
により、顕著に発泡・クモリ等が低減し、また、ガラス
の融着等が防止されることが確認される。予備熱処理を
行わない成形用ガラス素材では、プレス数回で融着防止
表面膜および型基材にガラス融着が見られる一方、予備
熱処理を施したものでは、融着等が生じず良好である。
前述の実施例１に示すように予備熱処理は、プレス温度
より高いほど効果的であり、Ts以上であれば、その効果
が明確に観られ、プレス温度が高いほど顕著化してくる
（図には示していない）。一方、２００℃付近の処理温
度では、ガラス成形体表面の水分等は離脱するものの、
構造水やイオン等の移動等が生じないため、全く効果が
無い（図には示していない）。余り高い温度での処理で
は、被加熱ガラスの均熱化が進み、表面付近と中心部に
向かい温度差異が無くなり、水等の中心付近からの表面
付近への拡散・移動が進み、本発明で意図する効果が減
じられる。さらには、ガラスの変質・意図しない変形等
が生じることがあり、また、長時間の処理では、一連の
レンズ成形工程が長くなり、律速工程となる他、ガラス
の変質・意図しない変形等が生じることから、処理温度
・処理時間は、適宜、適切な効果程度が得られるように
設定する必要がある。
【００６４】熱処理雰囲気圧力は、前記実施例１と同様
に、陽圧でも効果が見られ、本発明の効果には、２次的
な影響し、主たる影響因子ではない（結果は記載してい
ない）。
に、陽圧でも効果が見られ、本発明の効果には、２次的
な影響し、主たる影響因子ではない（結果は記載してい
ない）。
【００６５】雰囲気ガスは、処理温度域でガラスと反応
しないものであれば特に指定するものではない。
しないものであれば特に指定するものではない。
【００６６】なお、鉛をガラス組成として含むガラスに
ついては、予備熱処理およびそれにつづくプレスの雰囲
気は、中性から還元雰囲気下ではＰｂ2+が還元され、金
属Ｐｂとなりやすく、これによりガラスの変色等がしょ
うじるため、中性からやや酸化性雰囲気が望ましい。
ついては、予備熱処理およびそれにつづくプレスの雰囲
気は、中性から還元雰囲気下ではＰｂ2+が還元され、金
属Ｐｂとなりやすく、これによりガラスの変色等がしょ
うじるため、中性からやや酸化性雰囲気が望ましい。
【００６７】これ以外のプレスレンズ用の硝種につい
て、同様なテストを行ったところ、効果に多少の差異が
観られるものの、発泡・クモリ等の軽減効果が観られ
た。さらに、未処理ガラスにおいて型・離型膜にガラス
融着を生じていたものも、予備熱処理により融着も解消
された。
て、同様なテストを行ったところ、効果に多少の差異が
観られるものの、発泡・クモリ等の軽減効果が観られ
た。さらに、未処理ガラスにおいて型・離型膜にガラス
融着を生じていたものも、予備熱処理により融着も解消
された。
【００６８】実施例３ 基材を不可避な金属バインダー以外の金属を含まないＷ
Ｃ合金をとし、Pt-Au-Irを表面保護膜とした成形型でプ
レス成形をおこなった。成形条件等は、実施例２と同様
であるプレス成形品を観察したところ、実施例２と同様
に良好な結果が得られた。さらに、Pt-Au-Ir等の貴金属
の表面保護膜は、実施例２の炭素系膜と比べ、反応性が
低いため、雰囲気ガス中の残留酸素・残留水分等による
膜の消耗等がなく、より良好である。
Ｃ合金をとし、Pt-Au-Irを表面保護膜とした成形型でプ
レス成形をおこなった。成形条件等は、実施例２と同様
であるプレス成形品を観察したところ、実施例２と同様
に良好な結果が得られた。さらに、Pt-Au-Ir等の貴金属
の表面保護膜は、実施例２の炭素系膜と比べ、反応性が
低いため、雰囲気ガス中の残留酸素・残留水分等による
膜の消耗等がなく、より良好である。
【００６９】ここで、予備熱処理時の被加熱ガラスの温
度状態が、最表面より内部温度が低いことの必要性を説
明する。まず、ガラスからの水・水酸基の離脱を質量分
析の結果から以下の様推測する。水の離脱はガラスの粘
度に従い、１００〜２００℃付近で、付着水が離脱す
る。それ以降では、ガラス表面のＳｉに結合した水酸基
等が脱水縮合し、そして、ガラスが流動するＴｓ以上で
は、ガラスが軟化するため、ガラス構造内イオン・分子
等が動きやすくなり、構造中にあった水酸基・水等が移
動し、離脱する。また、その量も粘度に従う。（図５）
この図のように、ある温度での水の離脱量（保水量）
は一義的に決まる。ここで、本特許のように、最表面よ
りガラス内部を低くする（Ｔ1）ことにより、温度が高
い表面付近（Ｔ2）がより多くの水が離脱し、内部の方
がその量が少なくなり、表面と内部との水の離脱量差
（Ｍ1）（保水量差）が生じる。内部の方が温度が低
く、離脱量が少ない（保水量が大きい）ため、この差が
プレス成形時、ガラス表面付近の水等が少ないことによ
り、水等に起因する発泡が軽減される。一方、ガラス表
面温度が同じで、内部温度が同じ若しくは高い場合で
は、最表面より離脱する水等の量は同じであるが、ガラ
ス表面からの水の離脱後も、ガラス表面より内部の方が
同じもしく高いため（粘度が低い）、表面に向かい水等
が拡散・移動する。したがって、このガラスの表面より
内部の温度が同じ若しくは高くならないように熱処理条
件を設定する必要がある。図2に示すように、熱処理時
間が長くなると効果が減じてくるのは、被加熱ガラスの
均熱化が進み、表面付近と内部との温度差が小さく若し
くは同じになるため、表面への内部からの水等の拡散・
移動が進むためである。
度状態が、最表面より内部温度が低いことの必要性を説
明する。まず、ガラスからの水・水酸基の離脱を質量分
析の結果から以下の様推測する。水の離脱はガラスの粘
度に従い、１００〜２００℃付近で、付着水が離脱す
る。それ以降では、ガラス表面のＳｉに結合した水酸基
等が脱水縮合し、そして、ガラスが流動するＴｓ以上で
は、ガラスが軟化するため、ガラス構造内イオン・分子
等が動きやすくなり、構造中にあった水酸基・水等が移
動し、離脱する。また、その量も粘度に従う。（図５）
この図のように、ある温度での水の離脱量（保水量）
は一義的に決まる。ここで、本特許のように、最表面よ
りガラス内部を低くする（Ｔ1）ことにより、温度が高
い表面付近（Ｔ2）がより多くの水が離脱し、内部の方
がその量が少なくなり、表面と内部との水の離脱量差
（Ｍ1）（保水量差）が生じる。内部の方が温度が低
く、離脱量が少ない（保水量が大きい）ため、この差が
プレス成形時、ガラス表面付近の水等が少ないことによ
り、水等に起因する発泡が軽減される。一方、ガラス表
面温度が同じで、内部温度が同じ若しくは高い場合で
は、最表面より離脱する水等の量は同じであるが、ガラ
ス表面からの水の離脱後も、ガラス表面より内部の方が
同じもしく高いため（粘度が低い）、表面に向かい水等
が拡散・移動する。したがって、このガラスの表面より
内部の温度が同じ若しくは高くならないように熱処理条
件を設定する必要がある。図2に示すように、熱処理時
間が長くなると効果が減じてくるのは、被加熱ガラスの
均熱化が進み、表面付近と内部との温度差が小さく若し
くは同じになるため、表面への内部からの水等の拡散・
移動が進むためである。
【００７０】この効果は、上記に示したようにガラスが
流動しはじめるＴｓ温度以上であれば、効果的が見られ
る。さらに、熱処理温度（Ｔ4）をプレス温度（Ｔ3）以
上にすることにより、プレス温度での水等の離脱量と熱
処理温度での水分離脱量の差異（Ｍ2）が前記のガラス
表面と内部との温度差異と相まって、プレス成形時のガ
ラス表面からの水の離脱をさらに軽減することができ
る。
流動しはじめるＴｓ温度以上であれば、効果的が見られ
る。さらに、熱処理温度（Ｔ4）をプレス温度（Ｔ3）以
上にすることにより、プレス温度での水等の離脱量と熱
処理温度での水分離脱量の差異（Ｍ2）が前記のガラス
表面と内部との温度差異と相まって、プレス成形時のガ
ラス表面からの水の離脱をさらに軽減することができ
る。
【００７１】実施例１,２,３において、プレス温度以上
の温度で予備熱処理し、その後、プレス成形温度以下に
被成形用ガラス素材を一旦降温（望ましくはＴｓ温度以
下）し、再度加熱しプレス成形を行った方が、一旦降温
しないものに比べ、効果が大きい。これは、プレス成形
温度以下に一旦降温しないでプレス成形を行う場合で
は、まだ、被成形ガラス素材が予備熱処理温度からプレ
ス成形温度に下がる過程では水・水酸基等は今だ離脱過
程であり、引き続きプレスを行うため、被加熱ガラスの
均熱化が進み、ガラス表面部と内部との温度差が小さく
なるか若しくは無くなり、中心部からの水等の表面への
拡散・供給がされる。このため、プレス成形をおこなう
と、その離脱過程の水・水酸基と型基材・型表面膜とが
反応を生じたり、また、型表面と被成形ガラスとの界面
に水・水酸基が閉じこめられ、微細な穴・泡等を生じ、
品質不良となると思われる。
の温度で予備熱処理し、その後、プレス成形温度以下に
被成形用ガラス素材を一旦降温（望ましくはＴｓ温度以
下）し、再度加熱しプレス成形を行った方が、一旦降温
しないものに比べ、効果が大きい。これは、プレス成形
温度以下に一旦降温しないでプレス成形を行う場合で
は、まだ、被成形ガラス素材が予備熱処理温度からプレ
ス成形温度に下がる過程では水・水酸基等は今だ離脱過
程であり、引き続きプレスを行うため、被加熱ガラスの
均熱化が進み、ガラス表面部と内部との温度差が小さく
なるか若しくは無くなり、中心部からの水等の表面への
拡散・供給がされる。このため、プレス成形をおこなう
と、その離脱過程の水・水酸基と型基材・型表面膜とが
反応を生じたり、また、型表面と被成形ガラスとの界面
に水・水酸基が閉じこめられ、微細な穴・泡等を生じ、
品質不良となると思われる。
【００７２】つまり、１度降温すれば、中心部のガラス
が硬化し、被加熱ガラスの均熱化の促進を防ぎ、中心部
からの水等の拡散・供給を減じられる。
が硬化し、被加熱ガラスの均熱化の促進を防ぎ、中心部
からの水等の拡散・供給を減じられる。
【００７３】尚、これらのシミュレーション結果に基づ
いて、実際の型、冷間研磨加工した成形用素材・熱間加
工した成形用素材を用い製造を行ったところ、上記のシ
ミュレーションを裏付ける結果となった。
いて、実際の型、冷間研磨加工した成形用素材・熱間加
工した成形用素材を用い製造を行ったところ、上記のシ
ミュレーションを裏付ける結果となった。
【００７４】本発明における乾燥した雰囲気とは、常温
・常圧時に１００ppm以下の水分量である。また、清浄
な雰囲気とは、特に導入されるガスだけに限らず、プレ
ス成形および予備熱処理される雰囲気状態も含み、プレ
ス成形後の光学ガラスの外観検査で不良となるような有
機物・無機物等の浮遊物等の大きさが、被成形素材に付
着しプレスされた後に大きさが１００μmに達しない
（１個づつが１００μm以下でも、集団としての径が１
００μmに達する場合も、不適である）ことである。
・常圧時に１００ppm以下の水分量である。また、清浄
な雰囲気とは、特に導入されるガスだけに限らず、プレ
ス成形および予備熱処理される雰囲気状態も含み、プレ
ス成形後の光学ガラスの外観検査で不良となるような有
機物・無機物等の浮遊物等の大きさが、被成形素材に付
着しプレスされた後に大きさが１００μmに達しない
（１個づつが１００μm以下でも、集団としての径が１
００μmに達する場合も、不適である）ことである。
【００７５】
【発明の効果】上記に示したように、成型用ガラス素材
をプレス以前に熱処理することにより、プレス成形後の
ガラス製品の曇りや型の荒れの軽減、それによる型寿命
の延命化・ガラスと型材の融着やそれによる型基材の局
所的なえぐりとられ（プルアウト）等を軽減できる。
をプレス以前に熱処理することにより、プレス成形後の
ガラス製品の曇りや型の荒れの軽減、それによる型寿命
の延命化・ガラスと型材の融着やそれによる型基材の局
所的なえぐりとられ（プルアウト）等を軽減できる。
【００７６】これにより、低コスト・効果的・安全・簡
便に光学素子成形用素材を表面改質し、また、これを用
いた光学素子の製造、さらには、これらを一連の工程と
して効率よく光学素子を製造する方法を提供することが
できるものである。
便に光学素子成形用素材を表面改質し、また、これを用
いた光学素子の製造、さらには、これらを一連の工程と
して効率よく光学素子を製造する方法を提供することが
できるものである。
【図１】 処理温度とプルアウト数との関係を示す。
【図２】 処理時間とプルアウト数との関係を示す。
【図３】 処理雰囲気とプルアウト数との関係を示す。
【図４】 処理圧力とプルアウト数との関係を示す。
【図５】 ガラスからの水の脱離と温度との関係を示
す。
す。
Claims (10)
- 【請求項１】 屈伏点（Ts）より低い温度を有するガ
ラス素材を、当該ガラス素材内部のガラス組成を実質的
に変化させることなく、かつ表面近傍の水分および水酸
基量を減少させるように、屈伏点（Ts）以上に加熱する
ことを特徴とするプレス成形用素材の製造方法。 - 【請求項２】 ガラス素材の中心温度と表面温度とが同
一にならない条件下、屈伏点（Ts）より低い温度を有す
るガラス素材を、表面近傍の水分および水酸基量を減少
させるように、屈伏点（Ts）以上に加熱することを特徴
とするプレス成形用素材の製造方法。 - 【請求項３】 ガラス素材を、屈伏点（Ts）以上で加熱
した後、ガラス素材の表面温度が屈伏点（Ts）以下にな
るまで降温する請求項１または２記載の製造方法。 - 【請求項４】 屈伏点（Ts）より低い温度を有するガラ
ス素材を、屈伏点（Ts）以上の温度を有する雰囲気中に
所定時間暴露する請求項１〜３のいずれか１項に記載の
製造方法。 - 【請求項５】 前記ガラス素材の加熱を、該ガラス素材
の表面温度が、屈伏点（Ts）からガラス素材が１０5.5
ポアズの粘度を示す温度の範囲内となる温度で行うこと
を特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造
方法。 - 【請求項６】 前記ガラス素材の加熱を、該ガラス素材
の表面温度が、プレス成形する温度以上となる温度で行
うことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載
の製造方法。 - 【請求項７】 前記加熱の雰囲気が、乾燥したガス雰囲
気である請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方
法。 - 【請求項８】 請求項１〜７のいずれか１項に記載の方
法により得られるガラス素材をプレス成形することを特
徴とする光学素子の製造方法。 - 【請求項９】 プレス成形温度に降温したガラス素材を
そのままプレス成形することで、ガラス素材の熱処理と
プレス成形とを連続した工程で行う請求項８記載の製造
方法。 - 【請求項１０】 プレス成形温度より低いガラス素材を
再度加熱してプレス成形温度とした後に、プレス成形す
る請求項８に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14820898A JPH11343126A (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | プレス成形用素材の製造方法及び光学素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14820898A JPH11343126A (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | プレス成形用素材の製造方法及び光学素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11343126A true JPH11343126A (ja) | 1999-12-14 |
Family
ID=15447692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14820898A Pending JPH11343126A (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | プレス成形用素材の製造方法及び光学素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11343126A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001348244A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-18 | Hoya Corp | 光学ガラスおよび光学製品の製造方法 |
| JP2005306732A (ja) * | 2005-05-20 | 2005-11-04 | Hoya Corp | 光学ガラスおよび光学製品の製造方法 |
| JP2005330152A (ja) * | 2004-05-20 | 2005-12-02 | Konica Minolta Opto Inc | 光学素子の成形方法及び光学素子 |
| JP2007223898A (ja) * | 2007-05-29 | 2007-09-06 | Hoya Corp | ガラス塊の製造装置及びその制御方法、並びにガラス塊、ガラス成形品及び光学素子の製造方法 |
| JP2012020932A (ja) * | 2011-10-17 | 2012-02-02 | Hoya Corp | ガラス成形体の製造方法および光学素子の製造方法 |
-
1998
- 1998-05-29 JP JP14820898A patent/JPH11343126A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001348244A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-18 | Hoya Corp | 光学ガラスおよび光学製品の製造方法 |
| US7501369B2 (en) | 2000-05-31 | 2009-03-10 | Hoya Corporation | Optical glass and process for the production of optical products |
| JP2005330152A (ja) * | 2004-05-20 | 2005-12-02 | Konica Minolta Opto Inc | 光学素子の成形方法及び光学素子 |
| JP2005306732A (ja) * | 2005-05-20 | 2005-11-04 | Hoya Corp | 光学ガラスおよび光学製品の製造方法 |
| JP2007223898A (ja) * | 2007-05-29 | 2007-09-06 | Hoya Corp | ガラス塊の製造装置及びその制御方法、並びにガラス塊、ガラス成形品及び光学素子の製造方法 |
| JP2012020932A (ja) * | 2011-10-17 | 2012-02-02 | Hoya Corp | ガラス成形体の製造方法および光学素子の製造方法 |
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|---|---|---|---|
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