JPH11343264A - 芳香族カルボン酸の製造方法 - Google Patents
芳香族カルボン酸の製造方法Info
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- JPH11343264A JPH11343264A JP10147300A JP14730098A JPH11343264A JP H11343264 A JPH11343264 A JP H11343264A JP 10147300 A JP10147300 A JP 10147300A JP 14730098 A JP14730098 A JP 14730098A JP H11343264 A JPH11343264 A JP H11343264A
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 精密酸化テレフタル酸プロセスでの製品中へ
の酸化触媒の付着低減方法を提供する。 【解決手段】 〜を含む芳香族カルボン酸の製造方
法。 第1反応域でアルキルベンゼンを触媒の存在下、低級
脂肪族カルボン酸溶媒中で酸素含有ガスにより芳香族カ
ルボン酸を含むスラリーへ主液相化する工程 からの反応混合物を第2反応で、アルキルベンゼン
の供給なく酸素含有ガスにより芳香族カルボン酸を含む
粗スラリーへ追酸化する工程 からの粗スラリーを、第2反応域より高温の第3反
応域で、アルキルベンゼンの供給なく酸素含有ガスによ
り芳香族カルボン酸を含む精製スラリーへ再追酸化する
工程 からの精製スラリーを適切な温度・圧力に下げる晶
析工程 からの精製スラリーを水平濾過面フィルター上に供
給する芳香族カルボン酸の分離工程 からの芳香族カルボン酸の低級カルボン酸溶媒によ
る洗浄工程 からの精製芳香族カルボン酸の製品への乾燥工程
の酸化触媒の付着低減方法を提供する。 【解決手段】 〜を含む芳香族カルボン酸の製造方
法。 第1反応域でアルキルベンゼンを触媒の存在下、低級
脂肪族カルボン酸溶媒中で酸素含有ガスにより芳香族カ
ルボン酸を含むスラリーへ主液相化する工程 からの反応混合物を第2反応で、アルキルベンゼン
の供給なく酸素含有ガスにより芳香族カルボン酸を含む
粗スラリーへ追酸化する工程 からの粗スラリーを、第2反応域より高温の第3反
応域で、アルキルベンゼンの供給なく酸素含有ガスによ
り芳香族カルボン酸を含む精製スラリーへ再追酸化する
工程 からの精製スラリーを適切な温度・圧力に下げる晶
析工程 からの精製スラリーを水平濾過面フィルター上に供
給する芳香族カルボン酸の分離工程 からの芳香族カルボン酸の低級カルボン酸溶媒によ
る洗浄工程 からの精製芳香族カルボン酸の製品への乾燥工程
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は芳香族カルボン酸の
製造に関する。詳しくは、主酸化、追酸化、再追酸化を
経て得られた酸化精製テレフタル酸(精密酸化テレフタ
ル酸)の製造方法に関するものである。
製造に関する。詳しくは、主酸化、追酸化、再追酸化を
経て得られた酸化精製テレフタル酸(精密酸化テレフタ
ル酸)の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】酢酸を含む反応媒体中で主酸化、追酸
化、再追酸化を経て得られた酸化精製テレフタル酸(精
密酸化テレフタル酸)は、通常分離、洗浄、乾燥工程を
経て製品となる。この分離以降のプロセスは、実際には
分離、洗浄、リスラリー、分離、洗浄、脱液、乾燥とい
う複雑な手順を経て従来行われてきた。これは、反応媒
体中には触媒であるコバルト、マンガン、及び臭素が含
まれており、通常使用される遠心分離機や回転式ドラム
フィルターを用いた分離、洗浄のみでは、付着不純物の
残量が多く、製品として要求される品質を満たせないた
めである。そのため、設備の建設費が高く、運転が煩雑
であるという問題があった。
化、再追酸化を経て得られた酸化精製テレフタル酸(精
密酸化テレフタル酸)は、通常分離、洗浄、乾燥工程を
経て製品となる。この分離以降のプロセスは、実際には
分離、洗浄、リスラリー、分離、洗浄、脱液、乾燥とい
う複雑な手順を経て従来行われてきた。これは、反応媒
体中には触媒であるコバルト、マンガン、及び臭素が含
まれており、通常使用される遠心分離機や回転式ドラム
フィルターを用いた分離、洗浄のみでは、付着不純物の
残量が多く、製品として要求される品質を満たせないた
めである。そのため、設備の建設費が高く、運転が煩雑
であるという問題があった。
【0003】一方、水平濾過洗浄の工業的手法であるベ
ルトフィルターを用いてテレフタル酸を分離洗浄する方
法も提案されている。特表平7−507291号公報で
は、パラキシレンの酸化等によって得られた粗テレフタ
ル酸、および引き続き該粗テレフタル酸を水添精製した
テレフタル酸を加圧分離することを特徴としている。該
水添精製は、粗テレフタル酸を高温高圧下で水素と接触
させ、不純物の少なくとも一部を還元して化学的に減少
させる操作である。これによって、水添精製後の反応媒
体中に溶解している成分が、分離時に過飽和となり、析
出することを防ぎ、製品品質が低下することとフィルタ
ーの目詰まり防止を目的としている。そして、該水添精
製に使用する粗テレフタル酸の反応媒体からの分離には
遠心デカンターを使用している。よって、製品テレフタ
ル酸に酸化反応触媒等の付着触媒成分の除去を目的には
していない。
ルトフィルターを用いてテレフタル酸を分離洗浄する方
法も提案されている。特表平7−507291号公報で
は、パラキシレンの酸化等によって得られた粗テレフタ
ル酸、および引き続き該粗テレフタル酸を水添精製した
テレフタル酸を加圧分離することを特徴としている。該
水添精製は、粗テレフタル酸を高温高圧下で水素と接触
させ、不純物の少なくとも一部を還元して化学的に減少
させる操作である。これによって、水添精製後の反応媒
体中に溶解している成分が、分離時に過飽和となり、析
出することを防ぎ、製品品質が低下することとフィルタ
ーの目詰まり防止を目的としている。そして、該水添精
製に使用する粗テレフタル酸の反応媒体からの分離には
遠心デカンターを使用している。よって、製品テレフタ
ル酸に酸化反応触媒等の付着触媒成分の除去を目的には
していない。
【0004】また、特表平8−508194号公報で
は、水添精製テレフタル酸を含むスラリーを、2段階の
高温加圧分離に供すること、および該分離濾液を回収循
環させることを記載している。これにより、排出液負荷
の低減と処理プロセスの省力化ができ、副生物による汚
染を低減できることを特徴としているが、製品テレフタ
ル酸の酸化反応触媒系の付着触媒成分を減少させる効果
はない。
は、水添精製テレフタル酸を含むスラリーを、2段階の
高温加圧分離に供すること、および該分離濾液を回収循
環させることを記載している。これにより、排出液負荷
の低減と処理プロセスの省力化ができ、副生物による汚
染を低減できることを特徴としているが、製品テレフタ
ル酸の酸化反応触媒系の付着触媒成分を減少させる効果
はない。
【0005】さらに特開平5−65246号公報では、
主酸化反応後の粗テレフタル酸をベルトフィルターを用
いて分離後、水性媒体で洗浄し、分離した反応媒体は主
酸化反応にリサイクルし、粗テレフタル酸結晶は再度水
性媒体と混合し、リスラリー化することを特徴としてい
る。このように洗浄液に水性媒体を使用することは、リ
スラリー化を行わずに、分離、洗浄、乾燥プロセスに供
する方法には不利である。なぜなら、酢酸の蒸発熱が4
07kJ/kgに対して水の蒸発熱は2260kJ/k
gで、水性媒体を使用した場合は、洗浄に酢酸を使用す
る場合に比較して、乾燥に大量の熱を必要とするためで
ある。
主酸化反応後の粗テレフタル酸をベルトフィルターを用
いて分離後、水性媒体で洗浄し、分離した反応媒体は主
酸化反応にリサイクルし、粗テレフタル酸結晶は再度水
性媒体と混合し、リスラリー化することを特徴としてい
る。このように洗浄液に水性媒体を使用することは、リ
スラリー化を行わずに、分離、洗浄、乾燥プロセスに供
する方法には不利である。なぜなら、酢酸の蒸発熱が4
07kJ/kgに対して水の蒸発熱は2260kJ/k
gで、水性媒体を使用した場合は、洗浄に酢酸を使用す
る場合に比較して、乾燥に大量の熱を必要とするためで
ある。
【0006】さらに特表平8−506049号公報で
は、可動性濾過材を用いてテレフタル酸の濾過と洗浄を
行うことが記載され、濾過材の第1帯域で酢酸などの溶
剤を除去し、第2帯域で水などの洗浄剤で溶剤及び該洗
浄剤を除去し、第2帯域及び/又はその下流の領域に、
ガスを濾過材を貫通させように供給して、濾過材の移動
方向にガスの汚染度が低下するような条件で、ガス中に
存在する溶剤などの不純物蒸気による該ケーキ汚染を低
減させることを特徴としている。これには、該テレフタ
ル酸ケーキに付着した触媒成分を低減させる方法は記載
されていない。
は、可動性濾過材を用いてテレフタル酸の濾過と洗浄を
行うことが記載され、濾過材の第1帯域で酢酸などの溶
剤を除去し、第2帯域で水などの洗浄剤で溶剤及び該洗
浄剤を除去し、第2帯域及び/又はその下流の領域に、
ガスを濾過材を貫通させように供給して、濾過材の移動
方向にガスの汚染度が低下するような条件で、ガス中に
存在する溶剤などの不純物蒸気による該ケーキ汚染を低
減させることを特徴としている。これには、該テレフタ
ル酸ケーキに付着した触媒成分を低減させる方法は記載
されていない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、精密酸
化テレフタル酸の分離洗浄に水平濾過洗浄法、好ましく
はベルトフィルターを使用し、洗浄に低級脂肪族カルボ
ン酸溶媒を使用すると、製品テレフタル酸中に、触媒と
して使用したコバルトなどの付着不純物が、他の濾過方
法を用いた場合に比べて大幅に低下することを見い出し
た。これは、水平濾過洗浄法がケーキを均質に洗うこと
のできる洗浄機構であることと、精密酸化テレフタル酸
の粒子は細孔が少なく、表面が滑らかであるという特徴
とが組み合わさって生じた効果であると考えられる。す
なわち、ベルトフィルター等の水平濾過洗浄法は、水平
状に形成されたケーキ上に、洗浄液をかけることから、
洗浄部においてケーキ全面に洗浄液が行き渡り、ケーキ
の洗浄ムラが大きく低減される。また、粗テレフタル酸
の粒子は、細孔が多く、粒子表面も凹凸が多い。これに
追酸化、再追酸化、晶析という精密酸化の一連の工程を
行うと、粒子が溶解再晶析され、細孔の少ない表面の滑
らかな粒子となり、表面に付着した触媒や反応媒体が落
ちやすい状態となる。しかも粒子内部が密な構造となる
ため、粒子内部に取り込まれていた反応媒体が除去さ
れ、触媒成分の粒子内部の含有量も減少する。従って水
平濾過洗浄を行えるベルトフィルターの使用で、ケーキ
洗浄が均質に行えるようになった結果、付着不純物を除
去する際に、粒子性状の違いによる差が顕著にあらわれ
るようになり、精密酸化テレフタル酸は、粗テレフタル
酸に比べて、また他の濾過方法に比べて、非常に低いレ
ベルまで付着物を減少させる効果が現れる。
化テレフタル酸の分離洗浄に水平濾過洗浄法、好ましく
はベルトフィルターを使用し、洗浄に低級脂肪族カルボ
ン酸溶媒を使用すると、製品テレフタル酸中に、触媒と
して使用したコバルトなどの付着不純物が、他の濾過方
法を用いた場合に比べて大幅に低下することを見い出し
た。これは、水平濾過洗浄法がケーキを均質に洗うこと
のできる洗浄機構であることと、精密酸化テレフタル酸
の粒子は細孔が少なく、表面が滑らかであるという特徴
とが組み合わさって生じた効果であると考えられる。す
なわち、ベルトフィルター等の水平濾過洗浄法は、水平
状に形成されたケーキ上に、洗浄液をかけることから、
洗浄部においてケーキ全面に洗浄液が行き渡り、ケーキ
の洗浄ムラが大きく低減される。また、粗テレフタル酸
の粒子は、細孔が多く、粒子表面も凹凸が多い。これに
追酸化、再追酸化、晶析という精密酸化の一連の工程を
行うと、粒子が溶解再晶析され、細孔の少ない表面の滑
らかな粒子となり、表面に付着した触媒や反応媒体が落
ちやすい状態となる。しかも粒子内部が密な構造となる
ため、粒子内部に取り込まれていた反応媒体が除去さ
れ、触媒成分の粒子内部の含有量も減少する。従って水
平濾過洗浄を行えるベルトフィルターの使用で、ケーキ
洗浄が均質に行えるようになった結果、付着不純物を除
去する際に、粒子性状の違いによる差が顕著にあらわれ
るようになり、精密酸化テレフタル酸は、粗テレフタル
酸に比べて、また他の濾過方法に比べて、非常に低いレ
ベルまで付着物を減少させる効果が現れる。
【0008】その結果、限られた洗浄液量で、品質を保
持しつつ、分離工程を省略化できるようになった。すな
わち、従来の分離工程では、分離、洗浄、リスラリー
化、分離、洗浄、脱液、乾燥と複雑な操作を行っていた
のに対し、分離、洗浄、脱液、乾燥と簡略化されたプロ
セスが可能となった。さらに、使用洗浄液量の低減によ
る付帯設備の負荷低減や、同伴触媒低減によるコスト削
減も可能となった。
持しつつ、分離工程を省略化できるようになった。すな
わち、従来の分離工程では、分離、洗浄、リスラリー
化、分離、洗浄、脱液、乾燥と複雑な操作を行っていた
のに対し、分離、洗浄、脱液、乾燥と簡略化されたプロ
セスが可能となった。さらに、使用洗浄液量の低減によ
る付帯設備の負荷低減や、同伴触媒低減によるコスト削
減も可能となった。
【0009】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明の要旨
は、下記〜の工程を含む芳香族カルボン酸の製造方
法に存するものである。 第1反応帯域で、アルキルベンゼンを、触媒の存在
下、低級脂肪族カルボン酸溶媒中で、分子状酸素含有ガ
スにより液相酸化して、芳香族カルボン酸を含むスラリ
ーを得る主酸化工程 該主酸化反応で得られた反応混合物を、第2反応帯域
において、アルキルベンゼンを供給することなく、分子
状酸素含有ガスにより追酸化し、粗芳香族カルボン酸を
含む粗スラリーを得る追酸化工程 該追酸化反応で得られた反応混合物を、第2反応帯域
よりも高い温度の第3反応帯域において、アルキルベン
ゼンを供給することなく、分子状酸素含有ガスにより再
度追酸化し、精製芳香族カルボン酸を含む精製スラリー
を得る再追酸化工程 該再追酸化反応で得られた精製スラリーを、適切な温
度及び圧力に下げる晶析工程 該晶析工程を経た精製スラリーを、実質的に水平方向
に濾過面を有するフィルター上に供給して、該精製スラ
リーから精製芳香族カルボン酸を分離する分離工程 該フィルター上に分離された精製芳香族カルボン酸
を、低級カルボン酸溶媒で洗浄する洗浄工程 該洗浄された精製芳香族カルボン酸を乾燥して製品芳
香族カルボン酸を得る乾燥工程
は、下記〜の工程を含む芳香族カルボン酸の製造方
法に存するものである。 第1反応帯域で、アルキルベンゼンを、触媒の存在
下、低級脂肪族カルボン酸溶媒中で、分子状酸素含有ガ
スにより液相酸化して、芳香族カルボン酸を含むスラリ
ーを得る主酸化工程 該主酸化反応で得られた反応混合物を、第2反応帯域
において、アルキルベンゼンを供給することなく、分子
状酸素含有ガスにより追酸化し、粗芳香族カルボン酸を
含む粗スラリーを得る追酸化工程 該追酸化反応で得られた反応混合物を、第2反応帯域
よりも高い温度の第3反応帯域において、アルキルベン
ゼンを供給することなく、分子状酸素含有ガスにより再
度追酸化し、精製芳香族カルボン酸を含む精製スラリー
を得る再追酸化工程 該再追酸化反応で得られた精製スラリーを、適切な温
度及び圧力に下げる晶析工程 該晶析工程を経た精製スラリーを、実質的に水平方向
に濾過面を有するフィルター上に供給して、該精製スラ
リーから精製芳香族カルボン酸を分離する分離工程 該フィルター上に分離された精製芳香族カルボン酸
を、低級カルボン酸溶媒で洗浄する洗浄工程 該洗浄された精製芳香族カルボン酸を乾燥して製品芳
香族カルボン酸を得る乾燥工程
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明において、原料として用いるアルキルベン
ゼンは、液相酸化により芳香族モノカルボン酸、芳香族
ジカルボン酸、芳香族トリカルボン酸等の芳香族カルボ
ン酸に変換されるモノ、ジ、トリアルキルベンゼン等の
アルキルベンゼンであり、そのアルキル基の一部が酸化
されたものも含む。特に本発明の方法は、テレフタル酸
の製造に適用するのが好ましく、この場合、原料となる
アルキルベンゼンとしてはパラキシレンが挙げられる。
する。本発明において、原料として用いるアルキルベン
ゼンは、液相酸化により芳香族モノカルボン酸、芳香族
ジカルボン酸、芳香族トリカルボン酸等の芳香族カルボ
ン酸に変換されるモノ、ジ、トリアルキルベンゼン等の
アルキルベンゼンであり、そのアルキル基の一部が酸化
されたものも含む。特に本発明の方法は、テレフタル酸
の製造に適用するのが好ましく、この場合、原料となる
アルキルベンゼンとしてはパラキシレンが挙げられる。
【0011】以下、パラキシレンを用いてテレフタル酸
を製造する方法を例にとって本発明を詳細に説明する。
低級脂肪族カルボン酸溶媒としては、酢酸が好ましく、
該溶媒の使用量は、通常原料パラキシレンに対して2〜
6重量倍である。また酢酸溶媒には、若干量の、具体的
には10重量%以下の水を含有していても良い。反応系
内の水分濃度は、通常5〜25重量%、好ましくは7〜
20重量%であり、この水分濃度の調整は常法に従っ
て、すなわち反応器より揮発したガスを凝縮して得られ
る凝縮還流液の一部を、系外にパージすること等により
行うことができる。
を製造する方法を例にとって本発明を詳細に説明する。
低級脂肪族カルボン酸溶媒としては、酢酸が好ましく、
該溶媒の使用量は、通常原料パラキシレンに対して2〜
6重量倍である。また酢酸溶媒には、若干量の、具体的
には10重量%以下の水を含有していても良い。反応系
内の水分濃度は、通常5〜25重量%、好ましくは7〜
20重量%であり、この水分濃度の調整は常法に従っ
て、すなわち反応器より揮発したガスを凝縮して得られ
る凝縮還流液の一部を、系外にパージすること等により
行うことができる。
【0012】分子状酸素含有ガスとしては、空気、希釈
空気、酸素富化空気などが用いられるが、設備面及びコ
スト面などからは空気が望ましい。また触媒としては、
コバルト、マンガン及び臭素を構成元素として含む触媒
で、該触媒成分の具体的な化合物として、コバルト化合
物は、酢酸コバルト、ナフテン酸コバルト、臭化コバル
トなどが例示される。マンガン化合物としては、酢酸マ
ンガン、ナフテン酸マンガン、臭化マンガンなどが例示
される。臭素化合物としては、臭化水素、臭化ナトリウ
ム、臭化コバルト、臭化マンガン、ブロムエタンなどが
例示できる。各構成成分の化合物として、これらの化合
物を併用しても良い。また酢酸溶媒中には、それ以外の
金属成分が存在していても良い。例えば、反応系内にナ
トリウム成分が1ppm以上100ppm以下存在する
と、マンガン成分の沈殿を防止する効果があり、また得
られる製品テレフタル酸の評価方法の一つである、透過
率を向上させる効果がある。
空気、酸素富化空気などが用いられるが、設備面及びコ
スト面などからは空気が望ましい。また触媒としては、
コバルト、マンガン及び臭素を構成元素として含む触媒
で、該触媒成分の具体的な化合物として、コバルト化合
物は、酢酸コバルト、ナフテン酸コバルト、臭化コバル
トなどが例示される。マンガン化合物としては、酢酸マ
ンガン、ナフテン酸マンガン、臭化マンガンなどが例示
される。臭素化合物としては、臭化水素、臭化ナトリウ
ム、臭化コバルト、臭化マンガン、ブロムエタンなどが
例示できる。各構成成分の化合物として、これらの化合
物を併用しても良い。また酢酸溶媒中には、それ以外の
金属成分が存在していても良い。例えば、反応系内にナ
トリウム成分が1ppm以上100ppm以下存在する
と、マンガン成分の沈殿を防止する効果があり、また得
られる製品テレフタル酸の評価方法の一つである、透過
率を向上させる効果がある。
【0013】触媒の使用量は、コバルト成分がコバルト
金属換算で、溶媒に対し100重量ppm以上、200
0重量ppm以下、好ましくは200重量ppm以上、
1000重量ppm以下である。マンガン成分の使用量
は1重量ppm以上1000重量ppm以下、好ましく
は5重量ppm以上、500重量ppm以下である。臭
素成分の使用量は400ppm以上、2000ppm以
下である。
金属換算で、溶媒に対し100重量ppm以上、200
0重量ppm以下、好ましくは200重量ppm以上、
1000重量ppm以下である。マンガン成分の使用量
は1重量ppm以上1000重量ppm以下、好ましく
は5重量ppm以上、500重量ppm以下である。臭
素成分の使用量は400ppm以上、2000ppm以
下である。
【0014】また、反応促進のために共酸化剤を併用す
ることもできる。共酸化剤としては、アセトアルデヒド
などのアルデヒド化合物、メチルエチルケトンなどのケ
トン化合物、プロピルアセテートなどのエステル化合物
が挙げられる。なお、反応母液中には4−カルボキシベ
ンズアルデヒド、パラトルイル酸、パラトルアルデヒド
といった反応中間体、および安息香酸のような不純物が
含まれる。
ることもできる。共酸化剤としては、アセトアルデヒド
などのアルデヒド化合物、メチルエチルケトンなどのケ
トン化合物、プロピルアセテートなどのエステル化合物
が挙げられる。なお、反応母液中には4−カルボキシベ
ンズアルデヒド、パラトルイル酸、パラトルアルデヒド
といった反応中間体、および安息香酸のような不純物が
含まれる。
【0015】更に、第1反応帯域の酸化反応で、反応系
気相部の酸素分圧を高めるために、反応器から抜き出し
たガスから凝縮性成分を凝縮除去して得た酸化排ガスを
2つの流れに分岐させ、一方は系外に排出し、他方は反
応器に連続的に循環供給する方法を用いることもでき
る。該第1反応帯域の酸化反応で、酢酸溶媒中、コバル
ト、マンガン、及び臭素を含む触媒の存在下、140℃
〜230℃、好ましくは150℃〜210℃の温度で分
子状酸素含有ガスを連続的に供給しながら、パラキシレ
ンの95%以上を酸化する。反応圧力は少なくとも反応
温度において混合物が液相を保持できる圧力以上であ
り、通常0.2〜5MPaである。酸化の反応時間(平
均滞留時間)は通常30〜300分である。
気相部の酸素分圧を高めるために、反応器から抜き出し
たガスから凝縮性成分を凝縮除去して得た酸化排ガスを
2つの流れに分岐させ、一方は系外に排出し、他方は反
応器に連続的に循環供給する方法を用いることもでき
る。該第1反応帯域の酸化反応で、酢酸溶媒中、コバル
ト、マンガン、及び臭素を含む触媒の存在下、140℃
〜230℃、好ましくは150℃〜210℃の温度で分
子状酸素含有ガスを連続的に供給しながら、パラキシレ
ンの95%以上を酸化する。反応圧力は少なくとも反応
温度において混合物が液相を保持できる圧力以上であ
り、通常0.2〜5MPaである。酸化の反応時間(平
均滞留時間)は通常30〜300分である。
【0016】次に130℃〜240℃、好ましくは14
0℃〜220℃、さらに好ましくは160℃〜200℃
の第2反応帯域においてパラキシレンを追加することな
く分子状酸素により低温追酸化を行う。低温追酸化の反
応時間(平均滞留時間)は通常20〜90分である。そ
の次に、第2反応帯域より高い温度の150〜300
℃、好ましくは200℃〜280℃の第3反応帯域にお
いてパラキシレンを追加することなく分子状酸素により
再追酸化を行う。再追酸化の反応時間(平均滞留時間)
は通常5〜120分である。
0℃〜220℃、さらに好ましくは160℃〜200℃
の第2反応帯域においてパラキシレンを追加することな
く分子状酸素により低温追酸化を行う。低温追酸化の反
応時間(平均滞留時間)は通常20〜90分である。そ
の次に、第2反応帯域より高い温度の150〜300
℃、好ましくは200℃〜280℃の第3反応帯域にお
いてパラキシレンを追加することなく分子状酸素により
再追酸化を行う。再追酸化の反応時間(平均滞留時間)
は通常5〜120分である。
【0017】次に、再追酸化された精製スラリーを適切
な温度と圧力まで下げて、精製芳香族カルボン酸スラリ
ーを得るのが晶析工程である。晶析段数は好ましくは1
から6段、さらに好ましくは2から4段、例えば3段で
ある。次に、本発明では、晶析工程を経て得られた芳香
族カルボン酸スラリーが、実質的に水平方向に濾過面を
有するフィルターに供給されて、反応母液が分離された
後、更に低級脂肪族カルボン酸溶媒にて洗浄される。こ
の分離、洗浄工程は、例えばブッフナー漏斗やベルトフ
ィルターを使用することによって達成することができ
る。特に、商業的な連続運転に適しているという点で、
ベルトフィルターを使用するのが好ましい。
な温度と圧力まで下げて、精製芳香族カルボン酸スラリ
ーを得るのが晶析工程である。晶析段数は好ましくは1
から6段、さらに好ましくは2から4段、例えば3段で
ある。次に、本発明では、晶析工程を経て得られた芳香
族カルボン酸スラリーが、実質的に水平方向に濾過面を
有するフィルターに供給されて、反応母液が分離された
後、更に低級脂肪族カルボン酸溶媒にて洗浄される。こ
の分離、洗浄工程は、例えばブッフナー漏斗やベルトフ
ィルターを使用することによって達成することができ
る。特に、商業的な連続運転に適しているという点で、
ベルトフィルターを使用するのが好ましい。
【0018】以下、ベルトフィルターを使用した際の分
離、洗浄工程について、図1を用いて説明する。なお、
図1は例示にすぎず、ベルトフィルターは駆動式エンド
レスベルトまたは濾過材(10)、濾過材の下方に設置
された吸引トレー(第1帯域:14、第2帯域:17、
第3帯域:20)、スラリー供給ノズル(13)、洗浄
液供給ノズル(16)、密閉されたハウジング(1
9)、及び設備駆動のための装置(図示せず)から成
る。
離、洗浄工程について、図1を用いて説明する。なお、
図1は例示にすぎず、ベルトフィルターは駆動式エンド
レスベルトまたは濾過材(10)、濾過材の下方に設置
された吸引トレー(第1帯域:14、第2帯域:17、
第3帯域:20)、スラリー供給ノズル(13)、洗浄
液供給ノズル(16)、密閉されたハウジング(1
9)、及び設備駆動のための装置(図示せず)から成
る。
【0019】本発明で、分離、洗浄の際に使用されるフ
ィルターは、実質的に水平方向に濾過面を有するが、分
離、洗浄が極端に損なわれない範囲で、水平方向からず
れていても良い。例えば、水平方向から±10度程度で
あれば大きな問題ではない。ベルト又は濾過材は、好適
には金属ガーゼ(紗のような薄い金属)、または、例え
ばポリエステル繊維またはポリプロピレン繊維などの有
機材料から造られた織布である。ベルト又は濾過材は、
好適には連続のベルト又は濾過材であり、連続的または
間欠的に動いてテレフタル酸を主成分とするケーキを、
第1帯域から第2帯域を通って第3帯域まで搬送する。
そして吸引トレーにより、ベルト又は濾過材の表面と裏
面に圧力差を設け、スラリーが沈積するベルトの表面の
圧力を、ベルトの裏面よりも高くする。好適には差圧は
少なくとも0.005MPa(絶対圧)で、且つ追酸化
が実施される圧力、例えば5MPa(絶対圧)を越えな
いことが必要である。好ましくは、圧力差は絶対圧で
0.01〜1.5MPa、もっと好ましくは、0.02
〜0.7MPa、特に好ましくは0.03〜0.3MP
a、例えば0.06MPaである。ベルト又は濾過材の
低圧側の実際の圧力は、ベルト又は濾過材を通して除去
される反応媒体と洗浄媒体が、事実上液相に留まるよう
な圧力に保たれる。なお、必要に応じて更に吸引トレー
を分割し、それぞれの圧力を変えることも可能である。
ィルターは、実質的に水平方向に濾過面を有するが、分
離、洗浄が極端に損なわれない範囲で、水平方向からず
れていても良い。例えば、水平方向から±10度程度で
あれば大きな問題ではない。ベルト又は濾過材は、好適
には金属ガーゼ(紗のような薄い金属)、または、例え
ばポリエステル繊維またはポリプロピレン繊維などの有
機材料から造られた織布である。ベルト又は濾過材は、
好適には連続のベルト又は濾過材であり、連続的または
間欠的に動いてテレフタル酸を主成分とするケーキを、
第1帯域から第2帯域を通って第3帯域まで搬送する。
そして吸引トレーにより、ベルト又は濾過材の表面と裏
面に圧力差を設け、スラリーが沈積するベルトの表面の
圧力を、ベルトの裏面よりも高くする。好適には差圧は
少なくとも0.005MPa(絶対圧)で、且つ追酸化
が実施される圧力、例えば5MPa(絶対圧)を越えな
いことが必要である。好ましくは、圧力差は絶対圧で
0.01〜1.5MPa、もっと好ましくは、0.02
〜0.7MPa、特に好ましくは0.03〜0.3MP
a、例えば0.06MPaである。ベルト又は濾過材の
低圧側の実際の圧力は、ベルト又は濾過材を通して除去
される反応媒体と洗浄媒体が、事実上液相に留まるよう
な圧力に保たれる。なお、必要に応じて更に吸引トレー
を分割し、それぞれの圧力を変えることも可能である。
【0020】スラリーの供給温度は少なくとも60℃、
好ましくは70℃〜200℃、特に80℃〜150℃が
好ましい。供給スラリーは、高められた温度では反応媒
体の粘度が低くなるために、濾過速度及び不純物付着に
関して改善が可能になるので有利である。ベルト又は濾
過材の移送スピードは処理量とケーキ厚みによって決ま
る。ただし、速すぎると装置作動が低効率となるため、
好ましくは10cm/s以下である。ケーキ厚みは薄す
ぎると割れを生じやすく、厚すぎるとそれ自体の重量で
ベルト又は濾過材による移送が不可能となるので、ケー
キ厚みは好ましくは10〜90mm、特に好ましくは3
0〜70mmである。
好ましくは70℃〜200℃、特に80℃〜150℃が
好ましい。供給スラリーは、高められた温度では反応媒
体の粘度が低くなるために、濾過速度及び不純物付着に
関して改善が可能になるので有利である。ベルト又は濾
過材の移送スピードは処理量とケーキ厚みによって決ま
る。ただし、速すぎると装置作動が低効率となるため、
好ましくは10cm/s以下である。ケーキ厚みは薄す
ぎると割れを生じやすく、厚すぎるとそれ自体の重量で
ベルト又は濾過材による移送が不可能となるので、ケー
キ厚みは好ましくは10〜90mm、特に好ましくは3
0〜70mmである。
【0021】ハウジングは密閉されており、不活性ガス
で満たされている。不活性ガスは窒素もしくは反応で使
用された不活性ガスが望ましい。このようなベルトフィ
ルターを用いた分離洗浄工程の進行の例は次の通りであ
る。温度と圧力を適切な状態に調節した精製スラリーを
ベルトフィルターの第1帯域に排出し、反応媒体除去の
ための分離を行う。分離されたウエットケーキをベルト
フィルターの第2帯域に移送し、そのウエットケーキに
酢酸等の反応媒体を洗浄液として供給すると同時に、濾
過を行い、該洗浄液を除去する。洗浄したウエットケー
キをベルトフィルターの第3帯域に移し、液切りを行
う。該反応媒体除去、洗浄液除去、および液切りはベル
ト又は濾過材の表面と裏面との差圧によって行われる。
第3帯域での液切りによりウエットケーキの含液量は、
乾燥後のケーキに対する重量比で0.05〜0.20、
望ましくは0.05〜0.15、例えば、約0.10に
調整される。
で満たされている。不活性ガスは窒素もしくは反応で使
用された不活性ガスが望ましい。このようなベルトフィ
ルターを用いた分離洗浄工程の進行の例は次の通りであ
る。温度と圧力を適切な状態に調節した精製スラリーを
ベルトフィルターの第1帯域に排出し、反応媒体除去の
ための分離を行う。分離されたウエットケーキをベルト
フィルターの第2帯域に移送し、そのウエットケーキに
酢酸等の反応媒体を洗浄液として供給すると同時に、濾
過を行い、該洗浄液を除去する。洗浄したウエットケー
キをベルトフィルターの第3帯域に移し、液切りを行
う。該反応媒体除去、洗浄液除去、および液切りはベル
ト又は濾過材の表面と裏面との差圧によって行われる。
第3帯域での液切りによりウエットケーキの含液量は、
乾燥後のケーキに対する重量比で0.05〜0.20、
望ましくは0.05〜0.15、例えば、約0.10に
調整される。
【0022】洗浄液の散布方法には、並流及び向流があ
るが、装置が簡易化されるため、並流が望ましい。洗浄
液はベルト又は濾過材の進行方向と直角な方向に一様に
散布される。散布方式は、ベルト又は濾過材上方に設け
た洗浄液トレーより洗浄液をオーバーフローさせる方
式、およびスプレーノズルより散布される方式等が用い
られる。洗浄液散布は、ベルト又は濾過材の進行方向と
直角な方向に一列もしくは複数列で行われるが、洗浄効
果が向上するため、好ましくは2列〜3列で行われる。
洗浄液の量は乾燥ケーキに対する重量比で好ましくは
0.2以上、さらに好ましくは0.4〜1.2、例えば
0.8である。洗浄液が少ないと洗浄の効果が急激に低
下し、洗浄液が多すぎると洗浄液調達、及び装置過大に
よるコスト増につながる。また洗浄液として、酸化反応
器の排ガスを蒸留により含有水分を低減させて(水分量
7%程度迄)回収した反応溶媒(例えば酢酸)を主成分
とする液、または本発明のプロセスから排ガスの凝縮等
により回収される反応媒体、例えば反応槽及び晶析槽か
らの蒸発溶媒の回収液も使用される。
るが、装置が簡易化されるため、並流が望ましい。洗浄
液はベルト又は濾過材の進行方向と直角な方向に一様に
散布される。散布方式は、ベルト又は濾過材上方に設け
た洗浄液トレーより洗浄液をオーバーフローさせる方
式、およびスプレーノズルより散布される方式等が用い
られる。洗浄液散布は、ベルト又は濾過材の進行方向と
直角な方向に一列もしくは複数列で行われるが、洗浄効
果が向上するため、好ましくは2列〜3列で行われる。
洗浄液の量は乾燥ケーキに対する重量比で好ましくは
0.2以上、さらに好ましくは0.4〜1.2、例えば
0.8である。洗浄液が少ないと洗浄の効果が急激に低
下し、洗浄液が多すぎると洗浄液調達、及び装置過大に
よるコスト増につながる。また洗浄液として、酸化反応
器の排ガスを蒸留により含有水分を低減させて(水分量
7%程度迄)回収した反応溶媒(例えば酢酸)を主成分
とする液、または本発明のプロセスから排ガスの凝縮等
により回収される反応媒体、例えば反応槽及び晶析槽か
らの蒸発溶媒の回収液も使用される。
【0023】晶析工程を経た精製スラリーより、反応媒
体を分離後、回収し、これを2つの流れに分けて、一方
は蒸留工程に導き、反応媒体及び触媒を回収する。他方
は再び酸化反応の反応媒体として再使用される。洗浄液
は、ウエットケーキに散布後、分離、回収し、これも2
つの流れに分け、一方は蒸留工程に導いて洗浄液及び触
媒を回収し、他方は反応媒体として再使用される。ただ
し、洗浄液の回収液は、晶析工程からの回収液に比べ、
含有する不純物量が少ないため、より多くが反応媒体と
して再使用できる。
体を分離後、回収し、これを2つの流れに分けて、一方
は蒸留工程に導き、反応媒体及び触媒を回収する。他方
は再び酸化反応の反応媒体として再使用される。洗浄液
は、ウエットケーキに散布後、分離、回収し、これも2
つの流れに分け、一方は蒸留工程に導いて洗浄液及び触
媒を回収し、他方は反応媒体として再使用される。ただ
し、洗浄液の回収液は、晶析工程からの回収液に比べ、
含有する不純物量が少ないため、より多くが反応媒体と
して再使用できる。
【0024】ベルトフィルターの第3帯域を通過したウ
エットケーキは、ベルト又は濾過材より剥離され回収さ
れる。必要に応じてスクレイパーによってかき取ること
も可能である。回収されたウエットケーキは、乾燥機に
移され、含液量が乾燥ケーキに対する重量比で0.01
以下、好ましくは0.00001〜0.005まで、さ
らに好ましくは0.00005〜0.001まで、例え
ば0.0007まで乾燥される。
エットケーキは、ベルト又は濾過材より剥離され回収さ
れる。必要に応じてスクレイパーによってかき取ること
も可能である。回収されたウエットケーキは、乾燥機に
移され、含液量が乾燥ケーキに対する重量比で0.01
以下、好ましくは0.00001〜0.005まで、さ
らに好ましくは0.00005〜0.001まで、例え
ば0.0007まで乾燥される。
【0025】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はその要旨を越えない限り該実施例に限
定されるものではない。なお、実施例中、「部」とある
のは「乾燥ケーキに対する重量部」を表す。
するが、本発明はその要旨を越えない限り該実施例に限
定されるものではない。なお、実施例中、「部」とある
のは「乾燥ケーキに対する重量部」を表す。
【0026】実施例1 液相酸化反応器に連続的にパラキシレン、パラキシレン
の3.7重量倍の酢酸、酢酸コバルト、酢酸マンガン、
臭化水素を供給し、温度175℃、圧力14.0kgf
G/cm2、反応時間(平均滞留時間)125分で酸化
反応を行った(主酸化反応)。酸化反応器から抜き出し
た排ガスから凝縮成分を分離した後、反応器に戻す排ガ
スと、系外に排出する排ガスの比が1:1になる手法を
シミュレートするために、空気82.7Nm3/hr、
窒素64.0Nm3/hrを酸化反応器に供給した。該
触媒の使用量は、コバルト成分の使用量がコバルト金属
換算で溶媒に対し、850重量ppm、マンガン成分の
使用量は26重量ppm、臭素成分の使用量は850重
量ppmに相当する量である。また、分子状酸素含有ガ
スとしては空気を用い、反応器排ガス中の酸素濃度が6
容量%になるように反応器中に供給した。
の3.7重量倍の酢酸、酢酸コバルト、酢酸マンガン、
臭化水素を供給し、温度175℃、圧力14.0kgf
G/cm2、反応時間(平均滞留時間)125分で酸化
反応を行った(主酸化反応)。酸化反応器から抜き出し
た排ガスから凝縮成分を分離した後、反応器に戻す排ガ
スと、系外に排出する排ガスの比が1:1になる手法を
シミュレートするために、空気82.7Nm3/hr、
窒素64.0Nm3/hrを酸化反応器に供給した。該
触媒の使用量は、コバルト成分の使用量がコバルト金属
換算で溶媒に対し、850重量ppm、マンガン成分の
使用量は26重量ppm、臭素成分の使用量は850重
量ppmに相当する量である。また、分子状酸素含有ガ
スとしては空気を用い、反応器排ガス中の酸素濃度が6
容量%になるように反応器中に供給した。
【0027】次いで低温追酸化反応器に、上記主酸化反
応スラリーを連続的に移し、温度177℃、圧力12.
5kgfG/cm2、反応時間(平均滞留時間)64分
で、分子状酸素含有ガスとして空気を、排ガス中の酸素
濃度が6容量%になるように供給し、粗テレフタル酸と
反応媒体の混合物である粗スラリーを得た。この粗スラ
リーを再追酸化反応器に連続的に移し、温度255℃、
圧力55kgfG/cm2、反応時間(平均滞留時間)
30分で、分子状酸素含有ガスとして空気3Nm3/h
rとなるように供給して、再追酸化反応を行い、精密酸
化テレフタル酸と反応媒体の混合物である精製スラリー
サンプルを得た。
応スラリーを連続的に移し、温度177℃、圧力12.
5kgfG/cm2、反応時間(平均滞留時間)64分
で、分子状酸素含有ガスとして空気を、排ガス中の酸素
濃度が6容量%になるように供給し、粗テレフタル酸と
反応媒体の混合物である粗スラリーを得た。この粗スラ
リーを再追酸化反応器に連続的に移し、温度255℃、
圧力55kgfG/cm2、反応時間(平均滞留時間)
30分で、分子状酸素含有ガスとして空気3Nm3/h
rとなるように供給して、再追酸化反応を行い、精密酸
化テレフタル酸と反応媒体の混合物である精製スラリー
サンプルを得た。
【0028】この精製スラリーサンプルについて、以下
の2段並流式の洗浄法と濾過法をシミュレートする手順
によって濾過し、洗浄性の評価を行った。(図2参照) 支持グリッドを差し渡したブフナー漏斗に濾布を敷いて
固定し、これを濾瓶に取り付け真空ポンプとつないだ。
90℃に温めたスラリーのサンプルをブフナー漏斗に供
給し、減圧下で濾過した()。円筒形の容器をフィル
タークロスを覆うように漏斗の上に取り付けて、固体物
質の沈積物を保持させるようにした()。サンプルに
90℃に加熱した酢酸を0.4部供給し()、減圧濾
過した()。引き続いてさらに酢酸を0.4部供給し
()、液切りを行った()。これを乾燥機に入れて
揮発分を取り除き、表面に残ったコバルト触媒の濃度を
分析した。
の2段並流式の洗浄法と濾過法をシミュレートする手順
によって濾過し、洗浄性の評価を行った。(図2参照) 支持グリッドを差し渡したブフナー漏斗に濾布を敷いて
固定し、これを濾瓶に取り付け真空ポンプとつないだ。
90℃に温めたスラリーのサンプルをブフナー漏斗に供
給し、減圧下で濾過した()。円筒形の容器をフィル
タークロスを覆うように漏斗の上に取り付けて、固体物
質の沈積物を保持させるようにした()。サンプルに
90℃に加熱した酢酸を0.4部供給し()、減圧濾
過した()。引き続いてさらに酢酸を0.4部供給し
()、液切りを行った()。これを乾燥機に入れて
揮発分を取り除き、表面に残ったコバルト触媒の濃度を
分析した。
【0029】比較例1 実施例1の追酸化後の粗スラリーの一部を抜き出し、実
施例1と同一の、2段並流式の洗浄法と濾過法をシミュ
レートする手順によって濾過し、洗浄性の評価を行っ
た。得られたケーキは乾燥機に入れて揮発分を取り除
き、表面に残ったコバルト触媒の濃度を分析した。これ
ら実施例1及び比較例1の結果を以下の表1に纏めて示
す。この結果、TPA付着コバルト、および残存率の比
較から明らかであるように、本発明のベルトフィルター
と精密酸化テレフタル酸の組み合わせの洗浄が優れてい
ることが明らかである。
施例1と同一の、2段並流式の洗浄法と濾過法をシミュ
レートする手順によって濾過し、洗浄性の評価を行っ
た。得られたケーキは乾燥機に入れて揮発分を取り除
き、表面に残ったコバルト触媒の濃度を分析した。これ
ら実施例1及び比較例1の結果を以下の表1に纏めて示
す。この結果、TPA付着コバルト、および残存率の比
較から明らかであるように、本発明のベルトフィルター
と精密酸化テレフタル酸の組み合わせの洗浄が優れてい
ることが明らかである。
【0030】
【表1】 *残存率=100×(TPA付着コバルト/(反応媒体中コバルト×含液率/1 00))
【0031】実施例2 液相酸化反応器に連続的にパラキシレン、パラキシレン
の5.5重量倍の酢酸、酢酸コバルト、酢酸マンガン、
臭化水素を供給し、温度197℃、圧力14.5kgf
G/cm2、反応時間(平均滞留時間)90分で酸化反
応を行った(主酸化反応)。該触媒の使用量は、コバル
ト成分の使用量が、コバルト金属換算で溶媒に対し28
0重量ppm、マンガン成分の使用量は280重量pp
m、臭素成分の使用量は700ppmに相当している。
分子状酸素含有ガスとしては空気を用い、反応器排ガス
中の酸素濃度が5容量%になるように反応器中に供給し
た。次いで低温追酸化反応器に主酸化スラリーを連続的
に移し、温度190℃、圧力13kgfG/cm2、反
応時間(平均滞留時間)35分で酸化ガスとして空気を
排ガス中の酸素濃度が6容量%になるように供給し、低
温追酸化を行った。低温追酸化スラリーを追酸化反応器
に連続的に移し、温度255℃、圧力46kgfG/c
m2、反応時間(平均滞留時間)30分で分子状酸素含
有ガスとして空気を供給し、再追酸化反応を行った。
の5.5重量倍の酢酸、酢酸コバルト、酢酸マンガン、
臭化水素を供給し、温度197℃、圧力14.5kgf
G/cm2、反応時間(平均滞留時間)90分で酸化反
応を行った(主酸化反応)。該触媒の使用量は、コバル
ト成分の使用量が、コバルト金属換算で溶媒に対し28
0重量ppm、マンガン成分の使用量は280重量pp
m、臭素成分の使用量は700ppmに相当している。
分子状酸素含有ガスとしては空気を用い、反応器排ガス
中の酸素濃度が5容量%になるように反応器中に供給し
た。次いで低温追酸化反応器に主酸化スラリーを連続的
に移し、温度190℃、圧力13kgfG/cm2、反
応時間(平均滞留時間)35分で酸化ガスとして空気を
排ガス中の酸素濃度が6容量%になるように供給し、低
温追酸化を行った。低温追酸化スラリーを追酸化反応器
に連続的に移し、温度255℃、圧力46kgfG/c
m2、反応時間(平均滞留時間)30分で分子状酸素含
有ガスとして空気を供給し、再追酸化反応を行った。
【0032】得られた精製スラリーを連続的にベルトフ
ィルター分離機(図1参照)に導いて、2段洗浄を行
い、洗浄性の評価を行った。使用したベルトフィルター
は、吸引トレーの大きさが第1帯域、第2帯域、第3帯
域を合わせて幅0.25m、長さ3.2mで、該トレー
は仕切りによってそれぞれの帯域に分割されている。密
閉型外殻(ハウジング:19)、濾布(濾過材)移送用
モーター(図示せず)、真空ポンプ(図示せず)、濾液
回収ポンプ(図示せず)、吸引トレー駆動用シリンダー
(図示せず)および制御盤(図示せず)が装備されてい
る。濾布(濾過材:10)は移送用モーターにより2.
3cm/sの速度で移送される。吸引トレーは、濾布の
移送方向に進ませるときは、減圧下で濾布との摩擦を大
きくして濾布の駆動力で引っ張り、戻る際は、常圧に復
圧して濾布との摩擦を小さくしてシリンダー駆動で濾布
と反対方向に動かしている。該吸引トレーの移動距離
(ストローク)は30cmである。スラリーは連続的に
濾布上に供給され、減圧された吸引トレーにより濾過さ
れて反応媒体は回収される。減圧度は−0.4barと
し、濾布上のケーキ厚みは50mmとなった。濾布上の
ケーキは濾布の移送とともに次の工程へ移され、固定さ
れた洗浄液散布トレーより、単位時間当たりに通過する
ケーキ重量の0.4重量倍に供給速度を合わせて酢酸を
供給した。そこで供給された酢酸は、減圧された吸引ト
レーの作用で濾過され、ケーキは濾布の移送とともに次
の工程へ移される。そこで再度、固定された洗浄液散布
トレーより、単位時間当たりに通過するケーキ重量の
0.4重量倍になるように酢酸が供給される。酢酸は減
圧された吸引トレーの作用で濾過され、ケーキは濾布の
移送とともに更に次の工程へ移される。そこで、減圧さ
れた吸引トレーの作用によりケーキは脱液される。こう
して得られたケーキをサンプリングし、乾燥機に入れて
揮発分を取り除き、表面に残ったコバルト触媒の濃度を
分析した。
ィルター分離機(図1参照)に導いて、2段洗浄を行
い、洗浄性の評価を行った。使用したベルトフィルター
は、吸引トレーの大きさが第1帯域、第2帯域、第3帯
域を合わせて幅0.25m、長さ3.2mで、該トレー
は仕切りによってそれぞれの帯域に分割されている。密
閉型外殻(ハウジング:19)、濾布(濾過材)移送用
モーター(図示せず)、真空ポンプ(図示せず)、濾液
回収ポンプ(図示せず)、吸引トレー駆動用シリンダー
(図示せず)および制御盤(図示せず)が装備されてい
る。濾布(濾過材:10)は移送用モーターにより2.
3cm/sの速度で移送される。吸引トレーは、濾布の
移送方向に進ませるときは、減圧下で濾布との摩擦を大
きくして濾布の駆動力で引っ張り、戻る際は、常圧に復
圧して濾布との摩擦を小さくしてシリンダー駆動で濾布
と反対方向に動かしている。該吸引トレーの移動距離
(ストローク)は30cmである。スラリーは連続的に
濾布上に供給され、減圧された吸引トレーにより濾過さ
れて反応媒体は回収される。減圧度は−0.4barと
し、濾布上のケーキ厚みは50mmとなった。濾布上の
ケーキは濾布の移送とともに次の工程へ移され、固定さ
れた洗浄液散布トレーより、単位時間当たりに通過する
ケーキ重量の0.4重量倍に供給速度を合わせて酢酸を
供給した。そこで供給された酢酸は、減圧された吸引ト
レーの作用で濾過され、ケーキは濾布の移送とともに次
の工程へ移される。そこで再度、固定された洗浄液散布
トレーより、単位時間当たりに通過するケーキ重量の
0.4重量倍になるように酢酸が供給される。酢酸は減
圧された吸引トレーの作用で濾過され、ケーキは濾布の
移送とともに更に次の工程へ移される。そこで、減圧さ
れた吸引トレーの作用によりケーキは脱液される。こう
して得られたケーキをサンプリングし、乾燥機に入れて
揮発分を取り除き、表面に残ったコバルト触媒の濃度を
分析した。
【0033】実施例3 液相酸化反応器に連続的にパラキシレン、パラキシレン
の5.5重量倍の酢酸、酢酸コバルト、酢酸マンガン、
臭化水素を供給し、温度197℃、圧力14.5kgf
G/cm2、反応時間(平均滞留時間)90分で酸化反
応を行った(主酸化反応)。該触媒の使用量は、コバル
ト成分の使用量がコバルト金属換算で溶媒に対し、28
0重量ppm、マンガン成分の使用量は280重量pp
m、臭素成分の使用量は700ppmに相当する量であ
る。分子状酸素含有ガスとしては空気を用い、反応器排
ガス中の酸素濃度が5容量%になるように反応器中に供
給した。次いで低温追酸化反応器に該主酸化反応スラリ
ーを連続的に移し、温度190℃、圧力13kgfG/
cm2、反応時間(平均滞留時間)35分で分子状酸素
含有ガスとして、空気を排ガス中の酸素濃度が6容量%
になるように供給し、低温追酸化を行った。得られた追
酸化反応スラリーを再追酸化反応器に連続的に移し、温
度255℃、圧力46kgfG/cm2、反応時間(平
均滞留時間)30分で分子状酸素含有ガスとして空気を
供給し再追酸化反応を行い、精密酸化テレフタル酸と反
応媒体の混合物である精製スラリーサンプルを得た。
の5.5重量倍の酢酸、酢酸コバルト、酢酸マンガン、
臭化水素を供給し、温度197℃、圧力14.5kgf
G/cm2、反応時間(平均滞留時間)90分で酸化反
応を行った(主酸化反応)。該触媒の使用量は、コバル
ト成分の使用量がコバルト金属換算で溶媒に対し、28
0重量ppm、マンガン成分の使用量は280重量pp
m、臭素成分の使用量は700ppmに相当する量であ
る。分子状酸素含有ガスとしては空気を用い、反応器排
ガス中の酸素濃度が5容量%になるように反応器中に供
給した。次いで低温追酸化反応器に該主酸化反応スラリ
ーを連続的に移し、温度190℃、圧力13kgfG/
cm2、反応時間(平均滞留時間)35分で分子状酸素
含有ガスとして、空気を排ガス中の酸素濃度が6容量%
になるように供給し、低温追酸化を行った。得られた追
酸化反応スラリーを再追酸化反応器に連続的に移し、温
度255℃、圧力46kgfG/cm2、反応時間(平
均滞留時間)30分で分子状酸素含有ガスとして空気を
供給し再追酸化反応を行い、精密酸化テレフタル酸と反
応媒体の混合物である精製スラリーサンプルを得た。
【0034】この精製スラリーサンプルについて、2段
並流洗浄の手順をシミュレートするために実施例1と同
一の手順を繰り返した。得られたサンプルについても実
施例1と同様に表面に残ったコバルト触媒の濃度を分析
した。
並流洗浄の手順をシミュレートするために実施例1と同
一の手順を繰り返した。得られたサンプルについても実
施例1と同様に表面に残ったコバルト触媒の濃度を分析
した。
【0035】比較例2 液相酸化反応器に連続的にパラキシレン、酢酸、酢酸コ
バルト、酢酸マンガン、臭化水素を供給し、温度195
℃、圧力14.5kgfG/cm2、反応時間(平均滞
留時間)65分で酸化反応を行った(主酸化反応)。該
触媒の使用量は、コバルト成分の使用量がコバルト金属
換算で溶媒に対し350重量ppm、マンガン成分の使
用量は230重量ppm、臭素成分の使用量は770p
pmに該当する量である。分子状酸素含有ガスとして
は、空気を用い、反応器排ガス中の酸素濃度が4容量%
になるように反応器中に供給した。次いで追酸化反応器
に該主酸化反応スラリーを連続的に移し、温度190
℃、圧力11kgfG/cm2、反応時間(平均滞留時
間)15分で、分子状酸素含有ガスとして、空気を排ガ
ス中の酸素濃度が2容量%になるように供給し、追酸化
を行い、粗テレフタル酸と反応媒体の混合物である粗ス
ラリーのサンプルを得た。
バルト、酢酸マンガン、臭化水素を供給し、温度195
℃、圧力14.5kgfG/cm2、反応時間(平均滞
留時間)65分で酸化反応を行った(主酸化反応)。該
触媒の使用量は、コバルト成分の使用量がコバルト金属
換算で溶媒に対し350重量ppm、マンガン成分の使
用量は230重量ppm、臭素成分の使用量は770p
pmに該当する量である。分子状酸素含有ガスとして
は、空気を用い、反応器排ガス中の酸素濃度が4容量%
になるように反応器中に供給した。次いで追酸化反応器
に該主酸化反応スラリーを連続的に移し、温度190
℃、圧力11kgfG/cm2、反応時間(平均滞留時
間)15分で、分子状酸素含有ガスとして、空気を排ガ
ス中の酸素濃度が2容量%になるように供給し、追酸化
を行い、粗テレフタル酸と反応媒体の混合物である粗ス
ラリーのサンプルを得た。
【0036】サンプルは実施例1と同一の2段並流式の
洗浄法と濾過法をシミュレートする手順によって濾過し
た。これを実施例1と同様に乾燥機に入れて揮発分を取
り除き、表面に残ったコバルト触媒の濃度を分析した。
以上の実施例2、3、及び比較例2の結果を以下の表2
に纏めて示す。その結果、精密テレフタル酸に、ベルト
フィルターもしくはブッフナーなどの水平濾過洗浄の組
み合わせが、粗テレフタル酸と水平線上の組み合わせよ
りも格段に優れた効果を有することを示す。
洗浄法と濾過法をシミュレートする手順によって濾過し
た。これを実施例1と同様に乾燥機に入れて揮発分を取
り除き、表面に残ったコバルト触媒の濃度を分析した。
以上の実施例2、3、及び比較例2の結果を以下の表2
に纏めて示す。その結果、精密テレフタル酸に、ベルト
フィルターもしくはブッフナーなどの水平濾過洗浄の組
み合わせが、粗テレフタル酸と水平線上の組み合わせよ
りも格段に優れた効果を有することを示す。
【0037】
【表2】
【0038】
【発明の効果】水平分離洗浄法を精密酸化テレフタル酸
に採用すると、粗テレフタル酸に比べ優れた洗浄を行え
ることを発見した。本発明により、精密酸化テレフタル
酸プロセスに、例えばベルトフィルターを使用すると設
備の大幅な簡略化が可能となり、建設費及び運転費用の
削減ができる。さらに使用洗浄液量の低減により付帯設
備の負荷低減や、同伴触媒低減によるコスト削減も可能
となる。これは、精密酸化テレフタル酸スラリーを水平
分離洗浄法によって分離するという組み合わせから生ま
れる格別な効果である。
に採用すると、粗テレフタル酸に比べ優れた洗浄を行え
ることを発見した。本発明により、精密酸化テレフタル
酸プロセスに、例えばベルトフィルターを使用すると設
備の大幅な簡略化が可能となり、建設費及び運転費用の
削減ができる。さらに使用洗浄液量の低減により付帯設
備の負荷低減や、同伴触媒低減によるコスト削減も可能
となる。これは、精密酸化テレフタル酸スラリーを水平
分離洗浄法によって分離するという組み合わせから生ま
れる格別な効果である。
【図1】 本願で水平濾過洗浄する際に好適に使用でき
るベルトフィルターの一例の概略図を示したものであ
る。実施例2,3及び比較例2で使用したベルトフィル
ターもこのタイプである。
るベルトフィルターの一例の概略図を示したものであ
る。実施例2,3及び比較例2で使用したベルトフィル
ターもこのタイプである。
【図2】 実施例1及び比較例1において採用した2段
並流式の洗浄法と濾過法をシミュレートする手順を模式
的に示した図である。
並流式の洗浄法と濾過法をシミュレートする手順を模式
的に示した図である。
10:濾過材(濾布)、11:濾過材駆動用ローラー、
13:スラリー供給ノズル、16:洗浄液供給ノズル、
14:吸引トレー(第1帯域)、17:吸引トレー(第
2帯域)、20:吸引トレー(第3帯域)、19:ハウ
ジング、21:吸引ノズル(第1帯域)、22:吸引ノ
ズル(第2帯域)、23:吸引ノズル(第3帯域)、2
5:ケーキ回収口
13:スラリー供給ノズル、16:洗浄液供給ノズル、
14:吸引トレー(第1帯域)、17:吸引トレー(第
2帯域)、20:吸引トレー(第3帯域)、19:ハウ
ジング、21:吸引ノズル(第1帯域)、22:吸引ノ
ズル(第2帯域)、23:吸引ノズル(第3帯域)、2
5:ケーキ回収口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 51/487 C07C 51/487 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300
Claims (5)
- 【請求項1】 下記〜の工程を含む芳香族カルボン
酸の製造方法。 第1反応帯域で、アルキルベンゼンを、触媒の存在
下、低級脂肪族カルボン酸溶媒中で、分子状酸素含有ガ
スにより液相酸化して、芳香族カルボン酸を含むスラリ
ーを得る主酸化工程 該主酸化反応で得られた反応混合物を、第2反応帯域
において、アルキルベンゼンを供給することなく、分子
状酸素含有ガスにより追酸化し、粗芳香族カルボン酸を
含む粗スラリーを得る追酸化工程 該追酸化反応で得られた反応混合物を、第2反応帯域
よりも高い温度の第3反応帯域において、アルキルベン
ゼンを供給することなく、分子状酸素含有ガスにより再
度追酸化し、精製芳香族カルボン酸を含む精製スラリー
を得る再追酸化工程 該再追酸化反応で得られた精製スラリーを、適切な温
度及び圧力に下げる晶析工程 該晶析工程を経た精製スラリーを、実質的に水平方向
に濾過面を有するフィルター上に供給して、該精製スラ
リーから精製芳香族カルボン酸を分離する分離工程 該フィルター上に分離された精製芳香族カルボン酸
を、低級カルボン酸溶媒で洗浄する洗浄工程 該洗浄された精製芳香族カルボン酸を乾燥して製品芳
香族カルボン酸を得る乾燥工程 - 【請求項2】 前記の分離工程およびの洗浄工程
を、ベルトフィルターを用いて行う請求項1に記載の芳
香族カルボン酸の製造方法。 - 【請求項3】 アルキルベンゼンがパラキシレンである
請求項1または2に記載の芳香族カルボン酸の製造方
法。 - 【請求項4】 低級脂肪族カルボン酸溶媒が酢酸である
請求項1から3のいずれかに記載の芳香族カルボン酸の
製造方法。 - 【請求項5】 酸化工程に供給する分子状酸素含有ガス
が空気である請求項1から4のいずれかに記載の芳香族
カルボン酸の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10147300A JPH11343264A (ja) | 1998-05-28 | 1998-05-28 | 芳香族カルボン酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10147300A JPH11343264A (ja) | 1998-05-28 | 1998-05-28 | 芳香族カルボン酸の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11343264A true JPH11343264A (ja) | 1999-12-14 |
Family
ID=15427092
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10147300A Pending JPH11343264A (ja) | 1998-05-28 | 1998-05-28 | 芳香族カルボン酸の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11343264A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002128726A (ja) * | 2000-08-18 | 2002-05-09 | Daicel Chem Ind Ltd | カルボン酸の製造方法 |
| JP2002308820A (ja) * | 2001-04-04 | 2002-10-23 | Daicel Chem Ind Ltd | 反応生成物とイミド化合物との分離方法 |
| JP2002336687A (ja) * | 2001-05-14 | 2002-11-26 | Mitsubishi Chemicals Corp | 化合物の製造方法 |
| US7420082B2 (en) | 2006-03-01 | 2008-09-02 | Eastman Chemical Company | Polycarboxylic acid production system employing hot liquor removal downstream of oxidative digestion |
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| CN109251139A (zh) * | 2018-11-02 | 2019-01-22 | 中国石油天然气集团有限公司 | 采用深度氧化的pia生产方法和生产系统 |
| JP2020132612A (ja) * | 2019-02-26 | 2020-08-31 | 三菱ケミカル株式会社 | 固液分離方法、並びに、それを用いた(メタ)アクリル酸の精製方法及び精製(メタ)アクリル酸の製造方法 |
| CN112638857A (zh) * | 2018-10-09 | 2021-04-09 | 三菱化学株式会社 | (甲基)丙烯酸的纯化方法 |
-
1998
- 1998-05-28 JP JP10147300A patent/JPH11343264A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002128726A (ja) * | 2000-08-18 | 2002-05-09 | Daicel Chem Ind Ltd | カルボン酸の製造方法 |
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| US7485747B2 (en) | 2001-06-04 | 2009-02-03 | Eastman Chemical Company | Two stage oxidation process for the production of aromatic dicarboxylic acids |
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