JPH11343595A

JPH11343595A - 電析装置とその制御方法

Info

Publication number: JPH11343595A
Application number: JP15087098A
Authority: JP
Inventors: Kozo Arao; 浩三荒尾; Yuichi Sonoda; 雄一園田; Yusuke Miyamoto; 祐介宮本; Jo Toyama; 上遠山
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1998-06-01
Filing date: 1998-06-01
Publication date: 1999-12-14
Anticipated expiration: 2018-06-01
Also published as: JP3517588B2

Abstract

(57)【要約】【課題】長尺基板上に酸化物薄膜を電析によって堆積
する電析装置において、複数のアノードと該アノードに
それぞれ電流源を設け、電流源同士で及ぼし合う影響を
防止して安定して制御し、均一な堆積膜を形成する。【解決手段】アノード１００３、１００４にそれぞれ
単独に制御可能な電流源１００７、１００８を接続し、
電流源１００７、１００８にはそれぞれ短絡スイッチ１
０２２、１０２３を有する短絡回路を設け、さらに、電
流源１００７、１００８の出力端子と当該短絡回路との
接続点からアノード１００３、１００４までの経路に接
続スイッチ１０２０、１０２１を設け、電析を行うに際
して、接続スイッチ１０２０、１０２１を開いた状態で
先ず短絡スイッチ１０２２、１０２３を閉じ、電流源１
００７、１００８をオンしてそれぞれの短絡回路に電流
を流したスタンバイ状態を経て、接続スイッチ１０２
０、１０２１を閉じ、続いて短絡スイッチ１０２２、１
０２３を開いて短絡回路を遮断する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、長尺基板上に酸化
物薄膜を堆積するための電析装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】本出願人は、先に、水溶液の電気化学反
応を利用して酸化物を堆積する方法（以下、「電析方
法」と記す）を提案し、その一つとして長尺基板（ロー
ル基板、ウェブ、フープ材、コイル、テープ、リール材
とも言う）に電析する方法を提案した。ここで、長尺基
板とは、極めて細長い長方形の薄板で、長手方向に巻き
上げてロールの形で保持できるものを指す。長尺基板
は、連続的に成膜を行うことができることから、稼働率
やランニングコストを安くできるなど、工業的には極め
て有利な部材である。

【０００３】上記長尺基板に電析方法によって酸化物を
堆積させる電析装置の一例の概略図を図２に示す。図２
に示すように、当該装置では、順次ロールより繰り出し
ながら、電析槽２００９において長尺基板２００１とア
ノード２０１７間に電圧を印加して電析浴２０１６より
酸化物を堆積し、水洗槽２０３０において水洗した後、
温風乾燥して再びロールに巻き取る。

【０００４】図２に例示したような電析装置を用いる
と、次のような利点がある。

【０００５】（１）スパッタなどの真空装置と異なり、
膜堆積が極めて簡便である。高価な真空ポンプが不要
で、プラズマを使用するための電源や電極周りの設計に
気を遣う必要がない。

【０００６】（２）ほとんどの場合、ランニング・コス
トが安い。その理由は、スパッタではターゲットの作製
に人手と装置を要し、高価である上、ターゲットの利用
効率も２割程度以下と低いためである。従って、装置の
スループットを上げなければならない場合や、成膜厚の
大きい場合には、ターゲット交換の作業がかなりのウエ
イトを占めるようになるからである。

【０００７】（３）スパッタ以外の、ＣＶＤ法や真空蒸
着法に対しても装置やランニング・コストの点で優位性
がある。

【０００８】（４）廃液を簡単に処理することができ、
環境に及ぼす影響も小さく、環境汚染を防止するための
コストも高くない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】上記したように、図２
のような電析装置を用いると、極めて安価に酸化物薄膜
を長尺基板上に堆積することが可能となるが、本発明者
等が実際に図２の装置を操作して電析を行ったところ、
アノード電流の場所ムラが発生した。その原因は、基板
が懸垂線になっていて、必ずしも各アノードと基板間の
距離が正確に一定でないこと、それぞれのアノードに接
続する部分での接続抵抗が等しくないこと、などであ
る。そこで、アノードの数に応じた複数の電源を用意
し、電流制御を行って成膜したところ、膜の成膜速度を
場所に関わらず一定とすることができ、膜全体のムラを
効果的に防止することができた。しかしながら、電源を
独立させただけでは、それぞれの電源の制御が不安定で
得られる膜に異常成長を発生する場合があった。

【００１０】本発明の目的は、上記問題を解決した電析
装置を提供することにあり、具体的には、複数のアノー
ドと電流源を有する電析装置において、各電流源を安定
して制御し、均一な膜厚の酸化物薄膜を効率よく堆積さ
せることにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の第一は、長尺基
板上に酸化物薄膜を堆積するための電析装置であって、
複数のアノードと、該アノードに接続され独立に電流を
制御可能な複数の電流源を有し、各電流源の電源出力の
リターン線が共通の給電部を介して、該共通給電部より
分岐して個々の電流源に接続されており、各電流源がそ
れぞれに短絡スイッチを有する短絡回路を有し、該短絡
回路と電流源出力との接続点からアノードまでの経路に
接続スイッチを設けたことを特徴とする電析装置であ
る。

【００１２】本発明の第二は、上記電析装置の制御方法
であって、電析を行う際に、予め、オフの電流源に連絡
する接続スイッチを開き、短絡スイッチを閉じた状態で
当該電流源をオンし、短絡回路に電流を供給して当該電
流源を安定させた後、上記接続スイッチを閉じ、短絡ス
イッチを開いて電析回路に電流を供給することを特徴と
する電析装置の制御方法である。

【００１３】さらに本発明の第三は、長尺基板上に酸化
物薄膜を堆積するための電析装置であって、複数のアノ
ードと、該アノードに接続され独立に電流を制御可能な
複数の電流源を有し、各電流源の電源出力のリターン線
が共通の給電部を介して、該共通給電部より分岐して個
々の電流源に接続されており、各電流源の出力側に電流
の逆流防止手段を設けたことを特徴とする電析装置であ
る。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明が解決した、前記電流制御
不安定の原因について説明する。図３は従来の電析装置
において、複数のアノードの個々に電流源を接続した構
成を示す図である。本図においては便宜上、アノードを
２個としているが、３個以上の場合でも並列に接続すれ
ば良く、基本的な作用機序は同じである。

【００１５】図３において、長尺基板３００１は基板搬
送方向３００２に向かって搬送され、アノード３００３
と３００４が電析浴中に所定の距離を置いて配置されて
いる。各アノードはそれぞれ、アノードケーブル３００
５、３００６を介して電流源３００７、３００８の出力
側に接続されている。また、これらの電流源からの電流
の戻りは、長尺基板３００１から給電ローラー３００９
を共通に経て、戻りケーブル３０１０をもってそれぞれ
の電流源のリターンへと接続されている。

【００１６】図３の電気的な等価回路を図４に示す。図
中、４００９はローラー給電部、４０１３、４０１４は
アノード部である。従って、基板抵抗４００１はアノー
ド３００３の対向部から給電ローラー３００９に至る長
尺基板３００１の抵抗、基板抵抗４００２はアノード３
００４の対向部からアノード３００３の対向部に至る長
尺基板３００１の抵抗、アノード抵抗４００３はアノー
ド３００３と該アノードに対向する長尺基板３００１と
の間の浴の抵抗、アノード抵抗４００４はアノード３０
０４と該アノードに対向する長尺基板３００１との間の
浴の抵抗、浴抵抗４０１５は浴を介したアノード３００
３と３００４との間の抵抗、アノードケーブル抵抗４０
０５は、アノード３００３から電流源３００７（４００
７）へと接続されたケーブルの抵抗、アノードケーブル
抵抗４００６はアノード３００４から電流源３００８
（４００８）へと接続されたケーブルの抵抗、給電ロー
ラー抵抗４０１０は、給電ローラー３００９からリター
ン線分岐部までのローラー接触給電抵抗と共用ケーブル
の合成抵抗、個別戻りケーブル抵抗４０１１はリターン
線分岐部から接続された電流源３００７までのケーブル
抵抗、個別戻りケーブル抵抗４０１２はリターン線分岐
部から接続された電流源３００８までのケーブル抵抗で
ある。

【００１７】それぞれの抵抗値をＲにそれぞれの符号を
添字として表わすこととし（例えば、アノード抵抗４０
０４はＲ₄₀₀₄）、電流源４００７からの電流をＩ₄₀₀₇、
電流源４００８からの電流をＩ₄₀₀₈とする。キルヒホッ
フの定理を用いると、アノード抵抗４００３及び４００
４にそれぞれ流れる電流Ｉ₄₀₀₃、Ｉ₄₀₀₄はそれぞれ以下
の式で示される。

【００１８】

【数１】

【００１９】さらに、電流源４００７及び４００８でそ
れぞれ電流を流すために発生すべき電圧Ｖ₄₀₀₇、Ｖ₄₀₀₈
は下記式で示される。

【００２０】

【数２】

【００２１】ここで、具体的な抵抗値を評価する。電析
浴として８５℃、０．０２Ｍの硝酸亜鉛を用いた場合、
浴の持つ比抵抗は１４Ωｃｍであり、これに基づくアノ
ード抵抗４００３及び４００４の抵抗値は約７０ｍΩで
ある。また、ＳＵＳの長尺基板の抵抗は長さ１ｍ当たり
２ｍΩであり、基板抵抗４００１は約６ｍΩ、基板抵抗
４００２は約１ｍΩである。さらに給電ローラー抵抗４
０１０、アノードケーブル抵抗４００５及び４００６、
個別戻りケーブル抵抗４０１１はいずれも約１ｍΩ、個
別戻りケーブル４０１２は約２ｍΩである。また、迷走
分を含めた浴抵抗４０１５は約１０ｍΩであった。

【００２２】上記抵抗値に基づいて、アノード抵抗を流
れる電流値と電流源の電圧［ｍＶ］は、Ｉ₄₀₀₃＝０．５３６Ｉ₄₀₀₇＋０．４７０Ｉ₄₀₀₈ Ｉ₄₀₀₄＝０．４６４Ｉ₄₀₀₇＋０．５３０Ｉ₄₀₀₈ Ｖ₄₀₀₇＝４６．５Ｉ₄₀₀₇＋３９．９Ｉ₄₀₀₈ Ｖ₄₀₀₈＝３９．９Ｉ₄₀₀₇＋４７．６Ｉ₄₀₀₈ となる。

【００２３】例えば、Ｉ₄₀₀₇＝Ｉ₄₀₀₈＝５Ａとすると、
Ｉ₄₀₃ ＝５．０３Ａ、Ｉ₄₀₀₄＝４．９７Ａ、Ｖ₄₀₀₇＝
０．４３２Ｖ、Ｖ₄₀₀₈＝０．４３８Ｖである。従って、
電流源３００７と３００８が同時に５Ａずつ電流を吐き
出す場合、アノード３００３、３００４にはほとんど５
Ａずつの電析電流が流れ、電流源３００７と３００８は
電流を流すために、０．４３２Ｖと０．４３８Ｖの電位
が電流源出力に現れるのである。

【００２４】次に、同じ式を用いて、一方の電流源のみ
５Ａの電流を流すように制御を行った場合を考える。Ｉ
₄₀₀₇＝５Ａ、Ｉ₄₀₀₈＝０Ａの時は、Ｉ₄₀₀₃＝２．６８
Ａ、Ｉ₄₀₀₄＝２．３２Ａ、Ｖ₄₀₀₇＝０．２３３Ｖ、Ｖ
₄₀₀₈＝０．２００Ｖである。また逆に、Ｉ₄₀₀₇＝０Ａ、
Ｉ₄₀₀₈＝５Ａの時は、Ｉ₄₀₀₃＝２．３５Ａ、Ｉ₄₀₀₄＝
２．６５Ａ、Ｖ₄₀₀₇＝０．２００Ｖ、Ｖ₄₀₀₈＝０．２３
８Ｖである。即ち、電流源３００７か３００８のどちら
か一方のみをオンした場合には他方の電流源に逆電圧が
かかることになる。

【００２５】このような逆電圧の存在が、電源の動作不
安定の原因であり、他の電源のオン・オフによって電流
出力端子間の電圧が変動すること、並びに例えば迷走電
流の変動によってＲ₄₀₁₅が変動して、電流出力端子間の
電圧が変動することによって、当該逆電圧が変化し、電
流源の動作を不安定にして、電流源の制御を困難にして
いる。迷走電流の変動は、撹拌空気による電析浴の移
動、撹拌空気による基板の上下動、基板搬送に伴う給電
抵抗の変化などによって引き起こされるため、予測が極
めて困難である。

【００２６】より具体的には、例えば図３のような構成
において、電流源３００７のみオンしている状態では電
流源３００８には３００７によって逆電圧がかかってい
る。ここで電流源３００８をオンすると、電流源３００
８の出力に逆電圧が加わるために、電流源３００８の出
力が安定するまでに長時間を要してしまう。しかも、上
記したように、逆電圧値は迷走電流の変動によって容易
に変動するため正確な値を把握して対応することが困難
である。従って、各電流源には予め逆電圧の影響を受け
ないような手段を講じておく必要がある。

【００２７】本発明は、上記逆電圧の電流源への影響を
防止し、オンした電流源の出力を短時間で安定させ、複
数の電流源を個々にオン・オフして安定して制御するこ
とを可能ならしめたものである。本発明において、逆電
圧の電流源への影響を防止する具体的な手段としては、
個々の電流源に短絡回路と、アノードに至る経路に接続
スイッチを設けた構成、及び、電流源とアノードとの間
に逆電圧防止手段を設けた構成、である。

【００２８】図１は、本発明の電析装置の第１の実施形
態の、アノード周辺部の概略構成図である。図１におい
て、１００１は長尺基板、１００２は長尺基板１００１
の搬送方向、１００３及び１００４はアノード、１００
５及び１００６はアノードケーブル、１００７及び１０
０８は電流源、１００９は給電ローラー、１０１０は戻
りケーブル、１０１１及び１０１２は個別戻りケーブ
ル、１０２０及び１０２１は接続スイッチ、１０２２及
び１０２３は短絡スイッチである。

【００２９】図１において、長尺基板１００１は搬送方
向１００２に向かって電析浴中をアノード１００３及び
１００４に対向して送られ、それぞれのアノードから基
板への電流によって酸化物が基板上に堆積せしめられ
る。アノード１００３及び１００４への電流供給は、電
流源１００７及び１００８の出力端子の一方に接続され
たそれぞれの接続スイッチ１０２０及び１０２１を介し
て行われる。電流源１００７及び１００８の他方の出力
端子は、それぞれ個別戻りケーブル１０１１及び１０１
２を介して戻りケーブル１０１０に接続される。長尺基
板１００１からの電流は給電ローラー１００９を経てこ
れらの個別戻りケーブル１０１１及び１０１２を介し
て、電流源１００７及び１００８の出力端子の他方に戻
って電流ループを形成する。これらの電流ループをバイ
パスして、電流源１００７及び１００８の両出力端子を
短絡する短絡回路が形成されており、短絡スイッチ１０
２２及び１０２３によって当該回路の開・閉を行う。

【００３０】上記回路における電流源のオン・オフにつ
いて説明する。電析を行っている電流印加状態では、電
流源がオン、接続スイッチが閉、短絡スイッチが開であ
る。今、電流源がオフ、接続スイッチが開、短絡スイッ
チが開の状態から、上記電流印加状態へ移行する場合
に、先ず、接続スイッチが開のまま短絡スイッチを閉に
して短絡回路を形成し、電流源をオンして該短絡回路に
電流を流すスタンバイ状態とする。続いて、接続スイッ
チを閉とすると、アノードにも電流が流れる。さらに、
短絡スイッチを開とすると短絡回路が遮断され、アノー
ドにのみ電流が流れる上記電流印加状態となる。

【００３１】上記電流印加状態から、電流を遮断する際
にも、上記スタンバイ状態を経る。即ち、短絡スイッチ
を閉にして短絡回路に電流を流した後、接続スイッチを
開にし、続いて電流源をオフする。ここで、電流を遮断
した後では、電流源がオフ、接続スイッチが開、短絡ス
イッチが閉となっているため、再び電流を印加する場合
には、電流源をオンすれば良く、上記電流遮断した後に
短絡スイッチを開にする必要は特にない。

【００３２】上記スタンバイ状態を経ることにより、複
数の電流源が互いに影響し合う回路に電流を投入する電
流源が、一旦短絡回路に電流を流したオン状態で当該回
路に電流を投入することになるため、当該電流源への逆
電圧の影響が防止され、当該回路における当該電流源の
出力する電流が短時間で安定する。また、オン状態の電
流源をスタンバイ状態を経て一旦短絡回路にも電流を流
した状態で当該回路より遮断することにより、当該回路
にインダクタ成分がある場合に、逆電圧がかかって電流
源が破壊されるのを回避できる。

【００３３】尚、上記実施形態において、複数の遮断状
態の電流源を順次電流印加状態とする際には、給電ロー
ラーに近い電流源より順次行うことが望ましい。また、
電流印加状態の電流源を順次遮断してゆく際には、給電
ローラーより遠い電流源より遮断することが望ましい。
その理由は、給電ローラーに近い電流源の方が、他の電
流源からの影響が大きいためである。

【００３４】図５は、本発明の電析装置の第２の実施形
態の、アノード周辺部の概略構成図である。図５におい
て、５００１は長尺基板、５００２は長尺基板５００１
の搬送方向、５００３及び５００４はアノード、５００
５及び５００５はアノードケーブル、５００７及び５０
０８は電流源、５００９は給電ローラー、５０１０は戻
りケーブル、５０１１及び５０１２は個別戻りケーブ
ル、５０３１及び５０３２はダイオードである。

【００３５】本実施形態においては、アノードと電流源
の間に逆電圧防止手段としてダイオードを配置した形態
である。他の電流源からの影響は、出力を相殺する方向
に働くため、ダイオードが介在することによって、電流
源への影響が防止される。本実施形態によると、電流源
を無接点で用いることができるため、制御手段が簡便
で、スイッチ類を用いないことからそれらの接続抵抗や
抵抗の経時変化を考慮する必要がなく、電析装置として
の信頼性が向上する。

【００３６】［電析装置］本発明の電析装置の全体の構
成について図２を用いて説明する。尚、図２は、便宜
上、アノードの電流源については単独の構成を示してい
るが、本発明においては先に説明した実施形態の如く、
複数の電流源によって制御するものとする。

【００３７】長尺基板２００１はボビンに巻かれたコイ
ル状の荷姿で本装置に運ばれてくる。本装置では、この
コイルを基板繰り出しローラー２００２にセットし、表
面保護のために巻き入れられた合紙を合紙巻き上げロー
ラー２００３で巻き出しつつ、基板巻き上げローラー２
０６２に向かって搬送させる。即ち基板２００１は、張
力検出ローラー２００５、給電ローラー２００６を経て
電析槽２００９に入る。電析槽２００９内部では、支持
ローラー２０１３及び２０１４で位置出しされ、電析が
行われる。次に水洗槽２０３０に送られて水洗される。
水洗槽２０３０内での位置出しは、支持ローラー２０３
１及び２０６６によって行われる。さらに温風乾燥炉２
０５１で乾燥され、支持ローラー２０５７を経て蛇行修
正ローラー２０５９で横ずれを補正され、成膜表面保護
のため合紙繰り出しローラー２０６０からの新たな合紙
を巻き込んで、基板巻き上げローラー２０６２に巻き上
げられ、必要に応じて次の工程に送られる。

【００３８】張力検出ローラー２００５は長尺基板２０
０１の動的な巻き張力を検知して、基板繰り出しローラ
ー２００２の軸にリンクされた不図示のパウダークラッ
チ等ブレーキ手段にフィードバックをかけ、張力を一定
に保つものである。このことにより、長尺基板２００１
の搬送経路が支持ローラー間で所定の値になるように設
計されている。特に、図２の装置では、成膜面にローラ
ーが触れない構成となっているため、張力が弱いと支持
ローラーから長尺基板２００１が外れたり、電析槽２０
０９や水洗槽２０３０の出入り口で長尺基板２００１が
垂れ下がって成膜面を擦ったりして傷が入るなどの不具
合が発生する。成膜面が触れない装置構成は、成膜面が
損傷を受けたり、汚れたりしないなどの利点があり、と
りわけ太陽電池の反射層などのように、ミクロン・サイ
ズの凹凸を薄膜上に形成しなければならない用途では好
ましい。

【００３９】給電ローラー２００６は長尺基板２００１
にカソード側の電位を印加するためのもので、なるべく
電析浴２０１６に近いところに設置され、電源２００８
の負局側に接続されている。

【００４０】電析槽２００９は、電析浴２０１６を保持
すると共に、長尺基板２００１の経路を定め、それに対
してアノード２０１７を設置して、このアノード２０１
７に給電バー２０１５を介して電源２００８から正極の
電位を印加する。このことにより、電析浴２０１６中で
長尺基板２００１を負、アノード２０１７を正とする電
気化学的な電解析出プロセスが進行する。電析浴２０１
６が高温に保たれる時は、水蒸気の発生がかなり多くな
るので、上記排出ダクト２０１０〜２０１２から水蒸気
を逃がしてやる。また、電析浴２０１６を撹拌するため
に、撹拌エアー導入管２０１９からエアーを導入して、
電析槽２００９内のエアー吹き出し管２０１８からエア
ーをバブリングする。

【００４１】電析槽２００９に高温の電析浴液を補給す
るには、電析循環槽２０２５を設け、この中にヒーター
２０２４を設置して電析浴を加温し、かかる浴液を浴液
循環ポンプ２０２３から電析浴液供給管２０２０を通し
て電析槽２００９に供給する。電析槽２００９から溢れ
た電析浴液や、一部積極的に帰還させる浴液は、不図示
の帰還路を経て、電析循環槽２０２５に戻して再び加温
する。ポンプの吐出量が一定の場合には、図２に示すよ
うに、バルブ２０２１と２０２２とで電析循環槽２０２
５から電析槽２００９への浴液供給量を制御することが
できる。即ち、供給量を増やす場合には、バルブ２０２
１をより開放とし、バルブ２０２２をより閉鎖とする。
また供給量を減らす場合には逆の操作を行う。電析浴２
０１６の保持水位はこの供給量と不図示の帰還量を調節
して行う。

【００４２】電析循環槽２０２５には、循環ポンプ２０
２７とフィルタとからなるフィルタ循環系が備えられて
おり、電析循環槽２０２５中の粒子を除去できる構成と
なっている。電析循環槽２０２５と電析槽２００９との
間での供給・帰還が十分に多い場合には、このように電
析循環槽２０２５にのみフィルタを設置した形で、十分
な粒子除去効果を得ることができる。

【００４３】図２に示す装置にあっては、電析循環槽２
０２５にも蒸気排出ダクト２０２６が設置されており、
水蒸気が排出される構造となっている。特に電析循環槽
２０２５にはヒーター２０２４が設置されていて加温源
となっているため、水蒸気の発生が著しく、発生水蒸気
が不用意に放出されたり結露したりするのが好ましくな
い場合は、極めて効果的である。

【００４４】電析予備槽２０２９は、加温された浴液を
一気に既設の廃液系に流して処理装置を傷めることを防
ぐために設置されたもので、一旦電析槽２００９の電析
浴２０１６を保持すると共に、電析槽２００９を空とし
て作業の能率を図るための物である。

【００４５】電析槽２００９で電析を終えた長尺基板２
００１は、続いて水洗槽２０３０に入って水洗される。
水洗槽２０３０内では長尺基板２００１は支持ローラー
２０３１と２０６６で位置決めされ、第一水洗槽２０３
２、第二水洗槽２０３３、第三水洗槽２０３４を順に通
過する。それぞれに水洗循環槽２０４７〜２０４９と水
循環ポンプ２０４４〜２０４６が配され、二つのバル
ブ、即ちバルブ２０３８と２０４１、或いは２０３９と
２０４２、２０４０と２０４３とで水洗槽２０３０への
水供給量が決まり、供給管２０３５〜２０３７を介して
水洗槽２０３２〜２０３４へ洗浄水が供給される。二つ
のバルブによる水供給量の制御法は電析槽２００９での
浴液供給量制御法と同様である。また電析槽２００９同
様に、オーバーフローを集めたり一部を積極的に戻す不
図示の帰還水を、それぞれの水洗循環槽２０５０に戻す
ことも可能である。

【００４６】通常、図２に示すような３段の水洗システ
ムでは、基板搬送の上流側の水洗槽、即ち第一水洗槽２
０３２から、下流側の水洗槽、即ち第三水洗槽２０３４
に向かって洗浄水の純度が高くなっていく。これは、長
尺基板２００１が搬送されプロセスが終わりに近づくに
従い、該長尺基板２００１の清浄度が上がっていくこと
を意味している。このことは図２に示したように、洗浄
水を第三水洗循環槽２０４９に最初に補給し、次に第三
水洗循環槽２０４９で溢れた洗浄水を第二水洗循環槽２
０４８に補給し、さらに第二水洗循環槽２０４８で溢れ
た洗浄水を第一水洗循環槽２０４７に補給することで、
水の使用量を大幅に節約して達成できる。

【００４７】水洗の終了した長尺基板２００１は水洗槽
２０３０の一部に設けられたエアーナイフ２０６５にて
水切りがされ、続いて温風乾燥炉２０５１に搬送され
る。ここでは、水を十分に乾燥させるだけの温度の対流
空気で乾燥を行う。そのための対流空気は、熱風発生炉
２０５５で発生した熱風を、フィルタ２０５４を通して
ゴミ取りをし、そして温風導入管２０５２から吹き出し
て供給する。溢れる空気はサイド温風回収管２０５３よ
り回収して、外気導入管２０５６からの外気と混合して
熱風発生炉２０５５に送られる。温風乾燥炉２０５１で
の長尺基板２００１の搬送経路は支持ローラー２０６６
と支持ローラー２０５７とで位置出しされる。

【００４８】蛇行修正ローラー２０５９は、長尺基板２
００１の幅方向のずれを補正して基板巻き上げローラー
２０６２に巻き込む物であり、不図示のセンサーによっ
てずれ量を検知し、蛇行修正ローラー２０５９を不図示
のアームを支点として回転することによって制御する。
通常センサーの検知するずれ量も、蛇行修正ローラー２
０５９２の作動量も極めて小さく、１ｍｍを超えないよ
うにしている。長尺基板２００１を巻き上げるに際して
も、新しい合紙を表面保護のために合紙繰り出しローラ
ー２０６０から供給する。

【００４９】ストッパー２００７とストッパー２０５８
は同時に働いて、長尺基板２００１を搬送張力のかかっ
たまま静止させるものである。これにより、長尺基板２
００１の交換時や装置のメンテナンス時に作業性を向上
させることができる。

【００５０】次に、本発明の装置の細部及び本発明にか
かる電析に用いる部材について説明する。

【００５１】［長尺基板］本発明に用いられる長尺基板
の材料は、成膜面に電気的な導通がとれ、電析浴に侵さ
れないものならば使用でき、例えば、ＳＵＳ、Ａｌ、Ｃ
ｕ、Ｆｅ、Ｃｒなどの金属が用いられる。また金属コー
ティングを施したＰＥＴフィルムなども利用可能であ
る。これらの中で、光起電力素子化プロセスを後工程で
行うには、ＳＵＳが比較的安価で防食性に優れ長尺基板
としては優れている。

【００５２】基板表面は、研磨を行った鏡面でも良い
し、ＢＡなどの平滑面でも良い。また、２Ｄで代表され
る粗面でも良い。

【００５３】さらに、基板には別の導電性材料が成膜さ
れていても良く、電析の目的に応じて選択される。

【００５４】ＳＵＳやＣｒの長尺基板の場合は、他の金
属に比べて比電気抵抗が大きいため、電流源への逆電圧
が大きくなり特に本発明が有効となる。

【００５５】［酸化物薄膜］本発明の電析装置において
堆積される酸化物としては、例えば酸化亜鉛が挙げられ
る。特に、酸化亜鉛膜としては、光起電力素子の構成部
材である、ｃ軸に配向した酸化亜鉛多結晶膜やｃ軸の傾
いた酸化亜鉛多結晶膜が挙げられる。また、硝酸インジ
ウムから析出される酸化インジウム膜なども本発明の電
析装置によって好適に成膜される。

【００５６】［電析浴］本発明の電析浴としては、所望
の酸化物薄膜に応じて選択される。例えば光起電力素子
の光閉じ込め反射層として有効な光の波長程度の凹凸を
持った酸化亜鉛膜を堆積する場合には、０．０１Ｍ以上
の濃度の硝酸亜鉛が用いられる。また、ｃ軸に配向した
酸化亜鉛膜を得るには、基板にもよるが一般的には、
０．０５Ｍ以下とするのが良い。いずれの場合にも、添
加する糖類はスクロースは３ｇ／ｌ以上、デキストリン
は０．０１ｇ／ｌ以上とするのが好ましい。これらの電
析浴の温度は６０℃以上とるのが金属の析出を防止する
上で好ましい。特に、８０℃以上が望ましい。

【００５７】［アノード］本発明の電析装置のアノード
とは、基板に対して正の電位を持ち、電析電流を基板に
向かって流し得るものを言う。通常は図２に示した如
く、基板に対向して、また近接して配置される。本発明
においては、複数個のアノードが用いられ、これらアノ
ードの個々を、或いは複数個ずつを前記したように逆電
圧の影響を防止した電流源によって電流制御する。

【００５８】本発明においてアノードの長尺基板幅方向
の大きさ（アノードの幅）は、長尺基板幅と等しいか、
或いはそれより大きく設定される。これは、アノードの
幅が長尺基板幅より短いと、酸化物薄膜の基板幅方向の
ムラが発生するためである。特に、本発明の電析装置は
酸化物薄膜を堆積させるため、単に金属イオンを電界に
よって運ぶだけではなく、基板のごく近傍で酸化反応を
進めなければならないので、その酸化反応を保持するた
めの電位（溶液と基板との電位）を確保せねばならず、
金属めっきとは異なったアプローチが必要であると考え
られる。

【００５９】実際、金属メッキにおいては、電界の集中
する基板の端部が成膜の最も進む部分となるのに対し、
本発明の電析装置による酸化物堆積では逆の特性を示
す。さらに、ガラスビーカー内での実験では、対向電極
と反対側の基板面にも十分な堆積を見ることから、電界
だけでない機構が働いているとみるべきである。

【００６０】アノードと基板の距離は、機械的な精度が
一番大きな因子となるが、１ｍｍ以上数１０ｃｍ以下と
するのが好ましく、さらに望ましくは、１０ｍｍ〜５０
ｍｍ前後で配置する。また、同一の電位がかかっている
アノードは、同じ距離に配置する（基板になるべく平行
に配置する）のが好ましい。

【００６１】アノードの基板搬送方向の大きさは、０．
１ｍｍ程度から１ｍ以上まで適宜選択でき、またその形
状は、板状、綿状、棒状、メッシュ状或いは格子状とす
ることができる。いずれも機械的組み立て易さや電位の
保持の容易性から決められる。

【００６２】本発明においては、アノードは懸垂線を描
く搬送基板に距離を合わせて配置するため、複数配置す
る。この時の電位や形状はそれぞれのアノード同士で同
一である必要はない。例えば、基板に近い側で凹凸は大
きくないが堆積速度の大きい膜、基板から遠い側で凹凸
が大きく堆積速度の小さい膜とするような場合、プロセ
ス前半のアノードはより近接させたり、より電位を高く
保持して電析電流を多くし、プロセス後半のアノードは
より離したりより電位を低く保持して電析電流を少なく
する、という様に設定する。また、その場合、前半は板
状のアノード、後半は棒状のアノードという形状を選択
することも可能である。

【００６３】［ケーブル］本発明の電析装置に用いられ
るケーブルは、通常の被覆線もしくは裸線が利用でき
る。ただし、線抵抗を下げるために、１４ｍｍ² 以上の
断面積を持つものを用いるのが好ましい。１４ｍｍ² 以
上の断面積の線材で１〜２Ω／ｋｍの抵抗値を持つ線材
を１０ｍ用いると、１０ｍΩ〜２０ｍΩのケーブル抵抗
を持つことになる。より抵抗値を下げる場合には、線径
の太いものや短いケーブルを用いてこの値より小さくす
るのが好ましい。

【００６４】［スイッチ］本発明の電析装置に用いられ
るスイッチには、回路を十分効果的に開閉するもので、
機械的接点を持つもの、リレー接点のもの、さらにソリ
ッドステートリレー（ＳＳＲ）の類が利用可能である。
但し、いずれも接点抵抗には留意する必要が有り、でき
る限り当該抵抗の小さいものを用いるようにする。

【００６５】［給電部］本発明の電析装置に用いられる
給電部は、基板から電流を効率良く取得できるもので、
ＳＵＳ、銅、炭素などで構成された、従動ローラー、摺
動ブラシなどが利用できる。給電抵抗を低くするため
に、ローラーへの張力を増やしたり、電解液を流したり
しても良い。

【００６６】［電流源］本発明の電析装置に用いられる
電流源は、端子間電流が制御できるものであって、端子
電圧を実現できる容量を持つものである。また、互いの
出力端子は接地から浮いており、独立して制御できるも
のである。一般に入手できる直流電流源で容量を満足す
るものが一般に使用可能である。また、本発明において
は、電流源同士で及ぼしあう影響を防止しているので、
いわゆる吸い込み機能を持ったバイポーラー電源とする
必要はない。このため、電源としては極めて低コストの
ものを用いることができる。

【００６７】

【実施例】［実施例１］図２の電析装置のアノード部分
として、図１の構成を組み込んだ装置を構成した。それ
ぞれに電流源を備えた６つのアノードを図１のように並
列に配置した。

【００６８】本実施例においては、電析浴として０．０
０５Ｍの硝酸亜鉛と、０．０７ｇ／ｌのデキストリンを
含んだものを用いた。また膜堆積温度は８５℃とし、導
電度を測定したところ１ｍＳであった。アノードのサイ
ズはいずれも、長さ４２０ｍｍ、幅３６０ｍｍとし、幅
３５０ｍｍの長尺基板に１ｃｍ離して対向せしめた。電
析浴のアノード抵抗は略０．７Ωであり、これを経て、
それぞれのアノードから長尺基板へ電流が流れた。浴抵
抗（図４のＲ₄₀₁₅に相当）は３Ωであった。

【００６９】長尺基板としては、幅３５０ｍｍ、厚さ
０．１５ｍｍのＳＵＳ４３０を用いた。この基板の抵抗
は、長さ１ｍ当たり０．０２Ωであった。また給電部の
抵抗は０．０１Ωであった。ケーブルの抵抗はいずれも
１ｍΩを超えることはなく、本実施例では実質ケーブル
抵抗を無視することができる。

【００７０】上記抵抗値と前記した数式を用いて、各電
流源にかかる電圧を評価すると、Ｖ₄₀₀₇＝０．６５９Ｉ₄₀₀₇＋０．１８３Ｉ₄₀₀₈ Ｖ₄₀₀₈＝０．１８３Ｉ₄₀₀₇＋０．６６６Ｉ₄₀₀₈ となる。単位は［Ａ］、［Ｖ］である。尚、ここでは２
つのアノードと電流源がある場合について評価したが、
基本的な考え方・値のオーダーは同様である。

【００７１】上記したように、給電ローラーに近い側の
電流源の方が、遠い側の電流源から受ける影響が大き
い。従って、電流源容量が十分でない場合には、この影
響が電流制御の不安定さとなって現れる。

【００７２】本実施例において、先ず、全ての電流源、
短絡スイッチ、接続スイッチを連動スイッチで同時に制
御した。

【００７３】全ての電流源の短絡スイッチを開に、接続
スイッチを閉にそれぞれ固定して、電流源をオンして電
析を行ったところ、電析開始初期には電流が不安定で、
安定するまで３０秒を要した。一方、本発明にかかる制
御方法に沿って、一旦短絡スイッチを閉にしてから電流
源をオンしてスタンバイ状態とした後、接続スイッチを
閉にして電析を行ったところ、３秒以内で安定期に到達
した。また、膜堆積にあたっても、異常成長が発生する
ことはなかった。

【００７４】次に、各電流源、短絡スイッチ、接続スイ
ッチを個別に制御し、電流源をオンする際には給電ロー
ラーから近い電流源からオンし、オフする際には給電ロ
ーラーから遠い電流源からオフするようにした。その結
果、電流源をオンした際の初期変動はほとんど観察され
ず、また、異常成長のない極めて一様性に優れた酸化膜
が得られた。このように各電流源を個々に制御すること
により、プロセス変動や電流の投入・遮断に伴う電流源
変動を、効率良く防止することができる。

【００７５】［実施例２］図２の電析装置のアノード部
分として、図５の構成を組み込んだ装置を構成した。電
析浴や基板は実施例１と同じものを用いた。従って、電
流源同士の影響は実施例１と同程度である。

【００７６】本実施例においては、電流源をオンしてか
ら電流が安定するまで５秒以内であった。また、実施例
１と同様に、膜堆積にあたっても異常成長が発生するこ
とがなかった。

【００７７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
複数の電流源を用いて複数のアノードと基板間に流れる
電流を制御する電析工程において、電流源同士で及ぼし
合う影響を低減し、酸化膜の異常成長を防止して一様な
酸化膜を得ることができる。

【００７８】

【図面の簡単な説明】

【００７９】

【図１】本発明の電析装置の第１の実施形態のアノード
周辺部の概略構成図である。

【００８０】

【図２】本発明の電析装置の全体構成を説明するための
概略構成図である。

【００８１】

【図３】従来の電析装置のアノード周辺部の概略構成図
である。

【００８２】

【図４】図３の構成の電気的な等価回路を示す図であ
る。

【００８３】

【図５】本発明の電析装置の第２の実施形態のアノード
周辺部の概略構成図である。

【００８４】

【符号の説明】

１００１，３００１，５００１長尺基板１００２，３００２，５００２基板搬送方向１００３，１００４，３００３，３００４，５００３，
５００４アノード１００５，１００６，３００５，３００６，５００５，
５００６アノードケーブル１００７，１００８，３００７，３００８，４００７，
４００８，５００７，５００８電流源１００９，３００９，５００９給電ローラー１０１０，３０１０，５０１０戻りケーブル１０１１，１０１２，３０１１，３０１２，５０１１，
５０１２個別戻りケーブル１０２０，１０２１接続スイッチ１０２２，１０２３短絡スイッチ２００１長尺基板２００２基板繰り出しローラー２００３合紙巻き上げローラー２００５張力検出ローラー２００６給電ローラー２００７，２０５８ストッパー２００８電源２００９電析槽２０１０，２０１１，２０１２，２０２６蒸気排出ダ
クト２０１５給電バー２０１６電析浴２０１７アノード２０１８エアー吹き出し管２０１９撹拌エアー導入管２０２０電析浴液供給管２０２１，２０２２，２０２８，２０３８〜２０４３
バルブ２０２３浴液循環ポンプ２０２４ヒーター２０２５電析循環槽２０２７循環ポンプ２０２９電析予備槽２０３０水洗槽２０１３，２０１４，２０３１，２０５７，２０６６
支持ローラー２０３２第一水洗槽２０３３第二水洗槽２０３４第三水洗槽２０３５〜２０３７水供給管２０４４〜２０４６水循環ポンプ２０４７第一水洗循環槽２０４８第二水洗循環槽２０４９第三水洗循環槽２０５０水洗循環槽２０５１温風乾燥炉２０５２温風導入管２０５３温風回収管２０５４フィルタ２０５５熱風発生炉２０５６外気導入管２０５９蛇行修正ローラー２０６０合紙繰り出しローラー２０６２基板巻き上げローラー２０６５エアーナイフ４００１，４００２基板抵抗４００３，４００４アノード抵抗４００５，４００６アノードケーブル抵抗４０１０給電ローラー抵抗４０１１，４０１２個別戻りケーブル抵抗４０１３，４０１４アノード部４０１５浴抵抗５０３１，５０３２ダイオード

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１０年６月１日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正内容】

【書類名】明細書

【発明の名称】電析装置とその制御方法

【特許請求の範囲】

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【０００２】

【０００９】

【００１１】

【００１４】

【００１７】それぞれの抵抗値をＲにそれぞれの符号を
添字として表わすこととし（例えば、アノード抵抗４０
０４はＲ_４００４）、電流源４００７からの電流をＩ
_４００７、電流源４００８からの電流をＩ_４００８とす
る。キルヒホッフの定理を用いると、アノード抵抗４０
０３及び４００４にそれぞれ流れる電流Ｉ_４００３、Ｉ
_４００４はそれぞれ以下の式で示される。

【００１８】

【数１】０１３、４０１４はアノード部である。従っ
て、基板抵抗４００１はアノード３００３の対向部から
給電ローラー３００９に至る長尺基板３００１の抵抗、
基板抵抗４００２はアノード３００４の対向部からアノ
ード３００３の対向部に至る長尺基板３００１の抵抗、
アノード抵抗４００３はアノード３００３と該アノード
に対向する長尺基板３００１との間の浴の抵抗、アノー
ド抵抗４００４はアノード３００４と該アノードに対向
する長尺基板３００１との間の浴の抵抗、浴抵抗４０１
５は浴を介したアノード３００３と３００４との間の抵
抗、アノードケーブル抵抗４００５は、アノード３００
３から電流源３００７（４００７）へと接続されたケー
ブルの抵抗、アノードケーブル抵抗４００６はアノード
３００４から電流源３００８（４００８）へと接続され
たケーブルの抵抗、給電ローラー抵抗４０１０は、給電
ローラー３００９からリターン線分岐部までのローラー
接触給電抵抗と共用ケーブルの合成抵抗、個別戻りケー
ブル抵抗４０１１はリターン線分岐部から接続された電
流源３００７までのケーブル抵抗、個別戻りケーブル抵
抗４０１２はリターン線分岐部から接続された電流源３
００８までのケーブル抵抗である。

【００１８】

【数１】

【００１９】さらに、電流源４００７及び４００８でそ
れぞれ電流を流すために発生すべき電圧Ｖ_４００７、Ｖ
_４００８は下記式で示される。

【００２０】

【数２】

【００２２】上記抵抗値に基づいて、アノード抵抗を流
れる電流値と電流源の電圧［ｍＶ］は、Ｉ_４００３＝０．５３６Ｉ_４００７＋０．４７０Ｉ
_４００８Ｉ_４００４＝０．４６４Ｉ_４００７＋０．５３０Ｉ
_４００８Ｖ_４００７＝４６．５Ｉ_４００７＋３９．９Ｉ_４００８Ｖ_４００８＝３９．９Ｉ_４００７＋４７．６Ｉ_４００８となる。

【００２３】例えば、Ｉ_４００７＝Ｉ_４００８＝５Ａと
すると、Ｉ_４０３＝５．０３Ａ、Ｉ_４００４＝４．９
７Ａ、Ｖ_４００７＝０．４３２Ｖ、Ｖ_４００８＝０．４
３８Ｖである。従って、電流源３００７と３００８が同
時に５Ａずつ電流を吐き出す場合、アノード３００３、
３００４にはほとんど５Ａずつの電析電流が流れ、電流
源３００７と３００８は電流を流すために、０．４３２
Ｖと０．４３８Ｖの電位が電流源出力に現れるのであ
る。

【００２４】次に、同じ式を用いて、一方の電流源のみ
５Ａの電流を流すように制御を行った場合を考える。Ｉ
_４００７＝５Ａ、Ｉ_４００８＝０Ａの時は、Ｉ_４００３
＝２．６８Ａ、Ｉ_４００４＝２．３２Ａ、Ｖ_４００７＝
０．２３３Ｖ、Ｖ_４００８＝０．２００Ｖである。また
逆に、Ｉ_４００７＝０Ａ、Ｉ_４００８＝５Ａの時は、Ｉ
_４００３＝２．３５Ａ、Ｉ_４００４＝２．６５Ａ、Ｖ
_４００７＝０．２００Ｖ、Ｖ_４００８＝０．２３８Ｖで
ある。即ち、電流源３００７か３００８のどちらか一方
のみをオンした場合には他方の電流源に逆電圧がかかる
ことになる。

【００２５】このような逆電圧の存在が、電源の動作不
安定の原因であり、他の電源のオン・オフによって電流
出力端子間の電圧が変動すること、並びに例えば迷走電
流の変動によってＲ_４０１５が変動して、電流出力端子
間の電圧が変動することによって、当該逆電圧が変化
し、電流源の動作を不安定にして、電流源の制御を困難
にしている。迷走電流の変動は、撹拌空気による電析浴
の移動、撹拌空気による基板の上下動、基板搬送に伴う
給電抵抗の変化などによって引き起こされるため、予測
が極めて困難である。

【００６３】［ケーブル］本発明の電析装置に用いられ
るケーブルは、通常の被覆線もしくは裸線が利用でき
る。ただし、線抵抗を下げるために、１４ｍｍ^２以上
の断面積を持つものを用いるのが好ましい。１４ｍｍ^２
以上の断面積の線材で１〜２Ω／ｋｍの抵抗値を持つ
線材を１０ｍ用いると、１０ｍΩ〜２０ｍΩのケーブル
抵抗を持つことになる。より抵抗値を下げる場合には、
線径の太いものや短いケーブルを用いてこの値より小さ
くするのが好ましい。

【００６７】

【００６８】本実施例においては、電析浴として０．０
０５Ｍの硝酸亜鉛と、０．０７ｇ／ｌのデキストリンを
含んだものを用いた。また膜堆積温度は８５℃とし、導
電度を測定したところ１ｍＳであった。アノードのサイ
ズはいずれも、長さ４２０ｍｍ、幅３６０ｍｍとし、幅
３５０ｍｍの長尺基板に１ｃｍ離して対向せしめた。電
析浴のアノード抵抗は略０．７Ωであり、これを経て、
それぞれのアノードから長尺基板へ電流が流れた。浴抵
抗（図４のＲ_４０１５に相当）は３Ωであった。

【００７０】上記抵抗値と前記した数式を用いて、各電
流源にかかる電圧を評価すると、Ｖ_４００７＝０．６５９Ｉ_４００７＋０．１８３Ｉ
_４００８Ｖ_４００８＝０．１８３Ｉ_４００７＋０．６６６Ｉ
_４００８となる。単位は［Ａ］、［Ｖ］である。尚、ここでは２
つのアノードと電流源がある場合について評価したが、
基本的な考え方・値のオーダーは同様である。

【００７７】

【図面の簡単な説明】

【図４】図３の構成の電気的な等価回路を示す図であ
る。

【符号の説明】１００１，３００１，５００１長尺基板１００２，３００２，５００２基板搬送方向１００３，１００４，３００３，３００４，５００３，
５００４アノード１００５，１００６，３００５，３００６，５００５，
５００６アノードケーブル１００７，１００８，３００７，３００８，４００７，
４００８，５００７，５００８電流源１００９，３００９，５００９給電ローラー１０１０，３０１０，５０１０戻りケーブル１０１１，１０１２，３０１１，３０１２，５０１１，
５０１２個別戻りケーブル１０２０，１０２１接続スイッチ１０２２，１０２３短絡スイッチ２００１長尺基板２００２基板繰り出しローラー２００３合紙巻き上げローラー２００５張力検出ローラー２００６給電ローラー２００７，２０５８ストッパー２００８電源２００９電析槽２０１０，２０１１，２０１２，２０２６蒸気排出ダ
クト２０１５給電バー２０１６電析浴２０１７アノード２０１８エアー吹き出し管２０１９撹拌エアー導入管２０２０電析浴液供給管２０２１，２０２２，２０２８，２０３８〜２０４３
バルブ２０２３浴液循環ポンプ２０２４ヒーター２０２５電析循環槽２０２７循環ポンプ２０２９電析予備槽２０３０水洗槽２０１３，２０１４，２０３１，２０５７，２０６６
支持ローラー２０３２第一水洗槽２０３３第二水洗槽２０３４第三水洗槽２０３５〜２０３７水供給管２０４４〜２０４６水循環ポンプ２０４７第一水洗循環槽２０４８第二水洗循環槽２０４９第三水洗循環槽２０５０水洗循環槽２０５１温風乾燥炉２０５２温風導入管２０５３温風回収管２０５４フィルタ２０５５熱風発生炉２０５６外気導入管２０５９蛇行修正ローラー２０６０合紙繰り出しローラー２０６２基板巻き上げローラー２０６５エアーナイフ４００１，４００２基板抵抗４００３，４００４アノード抵抗４００５，４００６アノードケーブル抵抗４０１０給電ローラー抵抗４０１１，４０１２個別戻りケーブル抵抗４０１３，４０１４アノード部４０１５浴抵抗５０３１，５０３２ダイオード

フロントページの続き (72)発明者遠山上東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】長尺基板上に酸化物薄膜を堆積するため
の電析装置であって、複数のアノードと、該アノードに
接続され独立に電流を制御可能な複数の電流源を有し、
各電流源の電源出力のリターン線が共通の給電部を介し
て、該共通給電部より分岐して個々の電流源に接続され
ており、各電流源がそれぞれに短絡スイッチを有する短
絡回路を有し、該短絡回路と電流源出力との接続点から
アノードまでの経路に接続スイッチを設けたことを特徴
とする電析装置。
【請求項２】請求項１記載の電析装置の制御方法であ
って、電析を行う際に、予め、オフの電流源に連絡する
接続スイッチを開き、短絡スイッチを閉じた状態で当該
電流源をオンし、短絡回路に電流を供給して当該電流源
を安定させた後、上記接続スイッチを閉じ、短絡スイッ
チを開いて電析回路に電流を供給することを特徴とする
電析装置の制御方法。
【請求項３】複数の電流源のオン操作を上記給電部に
近い電流源より順次行う請求項２記載の電析装置の制御
方法。
【請求項４】オン状態の電流源をオフする際には、短
絡スイッチを閉じて短絡回路に電流を供給した後、接続
スイッチを開いて電析回路から当該電流源を遮断し、電
流源をオフする請求項２記載の電析装置の制御方法。
【請求項５】複数の電流源のオフ操作を上記給電部よ
り遠い電流源より順次行う請求項４記載の電析装置の制
御方法。
【請求項６】長尺基板上に酸化物薄膜を堆積するため
の電析装置であって、複数のアノードと、該アノードに
接続され独立に電流を制御可能な複数の電流源を有し、
各電流源の電源出力のリターン線が共通の給電部を介し
て、該共通給電部より分岐して個々の電流源に接続され
ており、各電流源の出力側に電流の逆流防止手段を設け
たことを特徴とする電析装置。
【請求項７】上記電流の逆流防止手段がダイオードで
ある請求項６記載の電析装置。