JPH11345568A

JPH11345568A - 現像装置

Info

Publication number: JPH11345568A
Application number: JP15117198A
Authority: JP
Inventors: Masaaki Asano; 雅朗浅野
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1998-06-01
Filing date: 1998-06-01
Publication date: 1999-12-14

Abstract

(57)【要約】【課題】感光性の蛍光体ペーストを用いたフォトリソ
グラフィー法によりプラズマディスプレイパネルの蛍光
面を形成する際に使用する現像装置であって、現像工程
の効率化を図ることができるようにする。【解決手段】リブ３間に感光性蛍光体ペーストを塗布
して乾燥させ、パターン露光を終えた後に、リブ３間の
蛍光体層を現像するための現像装置であって、現像液を
ワーク基板Ｗに噴射するためのノズル３１を、リブ３間
に形成された短冊状の蛍光体層に沿って現像液が噴射さ
れるように配置する。現像箇所に常に新しい水が供給さ
れることから、現像工程の効率化を図ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（以下、ＰＤＰと記す）の蛍光面形成の技術
分野に係り、詳しくはフォトリソグラフィー法により蛍
光面を形成する際に使用される現像装置に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】一般にＰＤＰは、２枚の対向するガラス
基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、そ
の間にＮｅ，Ｘｅ等を主体とするガスを封入した構造に
なっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、
電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることによ
り、各セルを発光させて表示を行うようにしている。情
報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的に
放電発光させる。このＰＤＰには、電極が放電空間に露
出している直流型（ＤＣ型）と絶縁層で覆われている交
流型（ＡＣ型）の２タイプがあり、双方とも表示機能や
駆動方法の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方式
とメモリー駆動方式とに分類される。

【０００３】図１にＡＣ型ＰＤＰの一構成例を示す。こ
の図は前面板と背面板を離した状態で示したもので、図
示のように２枚のガラス基板１，２が互いに平行に且つ
対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基
板２上に互いに平行に設けられたリブ３により一定の間
隔に保持されるようになっている。前面板となるガラス
基板１の背面側には透明電極である維持電極４と金属電
極であるバス電極５とで構成される複合電極が互いに平
行に形成され、これを覆って誘電体層６が形成されてお
り、さらにその上に保護層７（ＭｇＯ層）が形成されて
いる。また、背面板となるガラス基板２の前面側には前
記複合電極と直交するようにリブ３の間に位置してアド
レス電極８が互いに平行に形成されており、これを覆っ
て誘電体層９が形成され、さらにリブ３の壁面とセル底
面を覆うようにして蛍光体１０が設けられている。この
ＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前面板上の複合電極
間に交流電圧を印加し、空間に漏れた電界で放電させる
構造である。この場合、交流をかけているために電界の
向きは周波数に対応して変化する。そしてこの放電によ
り生じる紫外線により蛍光体１０を発光させ、前面板を
透過する光を観察者が視認するようになっている。

【０００４】上記の如きＰＤＰにおける背面板は、ガラ
ス基板２の上にアドレス電極８を形成し、必要に応じて
それを覆うように誘電体層９を形成した後、リブ３を形
成してそのリブ３の間に蛍光体１０からなる蛍光面を設
けることで製造される。電極８の形成方法としては、真
空蒸着法、スパッタリング法、メッキ法、厚膜法等によ
って基板２上に電極材料の膜を形成し、これをフォトリ
ソグラフィー法によってパターニングする方法と、厚膜
ペーストを用いたスクリーン印刷法によりパターニング
する方法とが知られている。また、誘電体層９はスクリ
ーン印刷等により形成され、リブ３はスクリーン印刷に
よる重ね刷り、或いはサンドブラスト法等によって形成
されている。そして、蛍光面はスクリーン印刷によりリ
ブ３の間に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色の蛍光
体ペーストを選択的に充填する方法により形成されてい
る。

【０００５】上記したように、リブ間に蛍光面を形成す
るには、スクリーン印刷により３色の蛍光体ペーストを
放電空間内に選択的に充填し、しかる後に焼成する方法
が現在行われている。この方法は、高価な蛍光体の使用
量が少なくて済む上に、塗布工程とパターニング工程が
同時に行えるのでプロセス的にも簡便であり、生産性や
コストの上でのメリットが大きい。しかしながら、大型
サイズの基板ではスクリーン版の作製が困難であるとと
もに寸法のズレを生じるという問題点があり、また高精
細タイプでは精度の確保が難しいという問題点がある。
そこで、最近では、感光性の蛍光体ペーストを用いたフ
ォトリソグラフィー法によりリブ間に蛍光面を形成する
ことが検討されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】フォトリソグラフィー
法による蛍光面形成方法では、感光性の蛍光体ペースト
をリブの上からベタでコーティングして乾燥させる工程
と、パターン露光とこれに続く現像を行って所定の放電
空間に蛍光体ペーストを残す工程とを必要な色数だけ繰
り返し行った後、オーブン内での焼成工程を経て蛍光面
を完成させる。このように、フォトリソグラフィー法に
より蛍光面を形成する場合、各色ごとの蛍光体ペースト
について露光と現像を繰り返し行うことになる。この場
合、上記タイプのＰＤＰでは、蛍光体ペーストを充填す
る放電空間が複数のリブにより一方向に区画されている
ため、現像時において新しい現像液が供給されにくく、
現像工程の効率が良くない。また、壁面に直接現像液を
噴射すると、壁面に形成されるべき蛍光体層に過剰な水
圧が掛かって剥がれ等の欠陥を生じてしまう。

【０００７】また、上記の現像工程は、水を用いたスプ
レー現像により行われるが、使用する水量が多いために
排水処理が大変である。使用した水を循環させることも
考えられるが、蛍光体ペーストの樹脂成分が水に溶解し
て水の溶解能力が低下し、現像に支障を来すことにな
る。

【０００８】本発明は、上記のような事情に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、現像工程の
効率化を図ることができ、さらには、現像処理に支障を
きたすことなく排出する水の量を少なくできる現像装置
を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ため、本発明は、一方向に放電空間を区画する複数のリ
ブと、リブの側面及び放電空間の底部に渡って被覆させ
た蛍光体とを有したＰＤＰ用の基板を作製するに際し、
リブ間に感光性の蛍光体ペーストを塗布して乾燥させ、
パターン露光を終えた後に、リブ間の蛍光体層を現像す
るための現像装置であって、現像液をワーク基板に噴射
するためのノズルを、リブ間に形成された短冊状の蛍光
体層に沿って現像液が噴射されるように配置したことを
特徴としている。

【００１０】そして、ノズルをリブ間に形成された短冊
状の蛍光体層に沿う方向に揺動させるように、またノズ
ルから噴射される現像液が蛍光体層の端面に直接当たら
ないようにするのが好ましい。

【００１１】また、上記の現像装置は、パターン露光を
終えた蛍光体ペーストの未露光部分をノズルから噴射す
る水で洗い流すための少なくとも一つの現像槽と、この
現像槽に水を供給するとともに現像槽での使用済みの水
を回収するためのタンクを設け、さらにノズルから噴射
する水でワーク基板のすすぎを行う少なくとも一つのリ
ンス槽を現像槽に続けて配設し、新しい水をリンス槽に
供給するとともに当該リンス槽での使用済みの水を前記
タンクに供給するようにし、タンクに供給された水はフ
ィルターを通って現像槽のノズルよりワーク基板に向け
て噴出するようにし、且つタンクから溢れた水を排水す
るように構成するのが望ましい。

【００１２】

【発明の実施の形態】図２はワーク基板に対しノズルか
ら現像液を噴射して現像を行う様子を示す説明図であ
る。

【００１３】蛍光面の形成手順を説明しておくと、まず
Ｇ色の感光性蛍光体ペーストをリブ３の上からワーク基
板Ｗに塗布して乾燥させ、パターン露光を行った後、そ
の未露光部分をノズル１１から噴射する水で洗い流すこ
とで現像を行う。続いて、次の工程にて同様なノズルか
ら噴射する水でワーク基板Ｗのすすぎを行い、さらに残
った水をエアーナイフで吹き飛ばしてＧ色の蛍光体層１
０ｇを形成する。そして、以上と同じ工程をＢ色とＲ色
についても行った後、Ｇ色の蛍光体層１０ｇ、Ｂ色の蛍
光体層１０ｂ、Ｒ色の蛍光体層１０ｒを一括して焼成す
ることで蛍光面を完成させる。図２では、Ｇ色とＢ色の
蛍光体層１０ｇ，１０ｂを形成したのに続いて、Ｒ色の
感光性蛍光体ペーストを塗布して乾燥させ、パターン露
光を終えてから、未露光部分の蛍光体層を現像している
様子である。

【００１４】図２に示されるように、現像液をワーク基
板Ｗに噴射するノズル３１は、供給パイプ３２に所定間
隔で同じ向きに複数設けられている。また、現像時にワ
ーク基板Ｗはリブ３と平行な方向に搬送される。そし
て、供給パイプ３２はリブ３と直交する方向でワーク基
板Ｗの上方に設置されており、現像液である水がこの供
給パイプ３２を通って供給され、各ノズル３１から噴出
するようになっている。なお、図ではリブ３のサイズに
対してノズル３１及び供給パイプ３２を相対的に小さく
書いてあるが、実際にはもっと大きく、例えばノズル３
１は５〜１０ｃｍ程度の間隔で配置される。また、この
ような複数のノズル３１を設けた供給パイプ３２が基板
搬送方向に複数本（１０本程度）が並んで設置される。

【００１５】上記構成の現像装置によれば、リブ間に形
成された短冊状の蛍光体層に沿って現像液が噴射される
ことにより、現像液が滞留することなく未露光部分が綺
麗に洗い流される。また、現像液がリブ３の壁面に直接
当たらないので、壁面に形成されるべき蛍光体層が剥が
れることがない。また図示の例では、ノズル３１がワー
ク基板Ｗの進行方向と逆向きに斜め下方に傾斜している
ので、真っ直ぐ下を向いている場合に比べ未露光部分を
リブ３に沿って洗い流す効果が大きい。

【００１６】また、図３に示すように、供給パイプ３２
を中心軸の回りで往復回動させ、これによってノズル３
１をリブ間に形成された短冊状の蛍光体層に沿う方向に
揺動させるようにすると効率がよくなる。

【００１７】なお、未露光部分を洗い流した後、すすぎ
を行うのに水を噴射するノズルとして、上記したのと同
様な構造のノズルを使用すれば、効率的にすすぎを行う
ことができる。さらに、残った水を吹き飛ばすためのエ
アーナイフもリブ３と平行な方向にエアーを吹き出すよ
うにすればよい。

【００１８】ワーク基板において、各色の蛍光体層はリ
ブ３の両端付近にてリブ３より短く形成される。したが
って、図４に示す如く、既に形成してある蛍光体層１０
ｇに対し、さらにこれから現像しようとする蛍光体層に
対しても、現像液が矢印の方向から当たると、蛍光体層
１０ｒは弱いために欠けが生じてしまう。これを防止す
るには、ノズル３１から噴射される現像液が蛍光体層１
０ｇの端面に直接当たらないようにする。そのため、始
めのところではノズル３１を図２に示す向きにして現像
を行い、終りのところではノズル３１を反対向きに傾斜
させる。なお、途中ではノズル３１を揺動させてもよ
い。

【００１９】上記の現像工程においては現像液に水を使
用する。図５はこの現像液を供給するシステムの概略図
であり、同図において１１は現像槽、１２は現像槽１１
に現像用の水を供給するためのタンク、１３は現像槽１
１に続けて設置されたリンス槽である。

【００２０】現像槽１１は、その上方に現像液噴射用の
ノズル１４を多数備えており、これらのノズル１４には
ポンプ１５によりタンク１２から循環管路１６を経由し
て水が供給される。そして、現像槽１１内に搬入されて
きたワーク基板Ｗ₁に向けてノズル１４から水をスプレ
ー状態で噴出するようになっており、使用済みの水は底
部に設けた戻し管路１７を通ってタンク１２に回収され
る。また、循環管路１６にはタンク１２で沈降除去しき
れない蛍光体粉を濾過除去するためのフィルター１８が
設けられている。

【００２１】リンス槽１３は、現像槽１１と同じく上方
にリンス液噴射用のノズル１９を多数備えており、これ
らのノズル１９には供給管路２０を経由して常時新しい
水が供給される。そして、現像槽１１を経てリンス槽１
３内に搬入されてきたワーク基板Ｗ₂に向けてノズル１
９から新しい水をスプレー状態で噴出するようになって
おり、使用済みの水は底部に設けた連絡管路２１を通っ
てタンク１２に投入される。

【００２２】タンク１２は、上述のように現像槽１１で
の使用済みの水とリンス槽１３からの比較的綺麗な水を
受け入れるようになっている。そして、これらを混合し
た水が現像用の水としてポンプ１５によりフィルター１
８を通過して現像槽１１に供給される。一方、タンク１
２には所定の高さに排出管路２２が設けられており、リ
ンス槽１３から投入される量に見合った水がこの排出管
路２２から溢れてタンク１２の外に排水される。

【００２３】上記装置により行われる現像の手順は次の
ようである。まず、感光性蛍光体ペーストのパターン露
光を終えた状態のワーク基板Ｗ₁が現像槽１１に搬入さ
れる。するとポンプ１５によりタンク１２から循環管路
１６を経由して水が供給され、ワーク基板Ｗ₁に向けて
ノズル１４から水が噴出されることでスプレー現像が行
われる。そして、現像槽１１での使用済みの水は戻し管
路１７を通ってタンク１２に回収される。一方、リンス
槽１３には現像槽１１で現像を終えたワーク基板Ｗ₂が
搬入されており、新しい水が供給管路２０からノズル１
９に供給され、ワーク基板Ｗ₂に向けてノズル１９から
水が噴出されることですすぎが行われる。そして、リン
ス槽１３での使用済みの水は連絡管路２１を通ってタン
ク１２に投入される。タンク１２ではリンス槽１３から
投入される水の量が増えることになるが、この増えた分
はタンク１２の排出管路２２から排水される。そして、
ある程度の枚数のワーク基板を現像処理すると、タンク
１２内の水に溶解している蛍光体ペーストの樹脂成分の
濃度が飽和状態になり、安定した現像処理が行えること
になる。

【００２４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
現像液をワーク基板に噴射するためのノズルを、リブ間
に形成された短冊状の蛍光体層に沿って現像液が噴射さ
れるように配置したことにより、現像箇所に常に新しい
水が供給されることから、現像工程の効率化を図ること
ができる。

【００２５】また、現像槽に続くリンス槽にて使用した
水を加えながら現像用の水を循環使用するようにしたこ
とにより、ある程度の枚数の基板を現像処理した後は、
溶解している蛍光体ペーストの樹脂成分の濃度が飽和
し、安定した現像処理を行うことができ、しかも排出す
る水の量が少ないので、排水処理を簡単にすることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】プラズマディスプレイパネルの一例をその前面
板と背面板とを離間状態で示す斜視図である。

【図２】ワーク基板に対しノズルから現像液を噴射して
現像を行う様子を示す説明図である。

【図３】ノズルを揺動させる様子を示す説明図である。

【図４】現像時に蛍光体層が剥がれる現像液の向きを示
す説明図である。

【図５】現像液を供給するシステムの概略構成図であ
る。

【符号の説明】

１，２ガラス基板３リブ４維持電極５バス電極６誘電体槽７保護槽８アドレス電極９誘電体槽１０蛍光体１１現像槽１２タンク１３リンス槽１４ノズル１５ポンプ１６循環管路１７戻し管路１８フィルター１９ノズル２０供給管路２１連絡管路２２排出管路３１ノズル３２供給パイプＷワーク基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一方向に放電空間を区画する複数のリブ
と、リブの側面及び放電空間の底部に渡って被覆させた
蛍光体とを有したプラズマディスプレイパネル用の基板
を作製するに際し、リブ間に感光性の蛍光体ペーストを
塗布して乾燥させ、パターン露光を終えた後に、リブ間
の蛍光体層を現像するための現像装置であって、現像液
をワーク基板に噴射するためのノズルを、リブ間に形成
された短冊状の蛍光体層に沿って現像液が噴射されるよ
うに配置したことを特徴とする現像装置。
【請求項２】ノズルをリブ間に形成された短冊状の蛍
光体層に沿う方向に揺動させるようにした請求項１に記
載の現像装置。
【請求項３】ノズルから噴射される現像液が蛍光体層
の端面に直接当たらないようにした請求項１に記載の現
像装置。
【請求項４】請求項１〜３のいずれかに記載の現像装
置であって、パターン露光を終えた蛍光体ペーストの未
露光部分をノズルから噴射する水で洗い流すための少な
くとも一つの現像槽と、この現像槽に水を供給するとと
もに現像槽での使用済みの水を回収するためのタンクを
設け、さらにノズルから噴射する水でワーク基板のすす
ぎを行う少なくとも一つのリンス槽を現像槽に続けて配
設し、新しい水をリンス槽に供給するとともに当該リン
ス槽での使用済みの水を前記タンクに供給するように
し、タンクに供給された水はフィルターを通って現像槽
のノズルよりワーク基板に向けて噴出するようにし、且
つタンクから溢れた水を排水するようにしたことを特徴
とする現像装置。