JPH11346103A - ミリ波モジュール - Google Patents
ミリ波モジュールInfo
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- JPH11346103A JPH11346103A JP10152458A JP15245898A JPH11346103A JP H11346103 A JPH11346103 A JP H11346103A JP 10152458 A JP10152458 A JP 10152458A JP 15245898 A JP15245898 A JP 15245898A JP H11346103 A JPH11346103 A JP H11346103A
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- H01P1/203—Strip line filters
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- H01P1/20363—Linear resonators
-
- H—ELECTRICITY
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Abstract
リ波モジュールを簡便な加工で実現し、ミリ波およびマ
イクロ波を用いた安価な無線装置を提供することを目的
とする。 【解決手段】 シリコン基板101に異方性エッチング
によりくぼみ102を設け、マイクロストリップ型フィ
ルタパターン109を有するガラス基板107をマイク
ロバンプ105で接続し、空気104を誘電体とするフ
ィルタを実現するとともに、直下に空気層104を設
け、フリップチップ実装されたMMIC106と、前記
フィルタをコプレナ線路108で接続する構造を持った
ミリ波モジュールを形成する。フィルタは空気を絶縁層
とするマイクロストリップ構造であるため低損失化が実
現でき、MMICも空気層のため実装による特性変化を
なくすことができ、優れた特性のミリ波モジュールが簡
易な方法で実現できる。
Description
ロ波を用いた高周波のモジュールおよびこれを用いた無
線装置に関する。
基板を用いたミリ波導波路としては、1996年IEE
E MTT−Sダイジェスト797頁から800頁に記
載されたものが知られている。
901のシリコン基板に二酸化珪素902(SiO2)
を積層し、その上にマイクロストリップ線路903を形
成している。シールド構造を得るために金属を積層した
キャリア基板904とマイクロマシン加工されたシリコ
ン基板905とを用いて、901のシリコン基板を挟み
込むような構造でシールドされたマイクロストリップ線
路を形成している。
いては、マイクロストリップ線路を二酸化珪素で支えて
中空に浮いた状態のため、MMICなど他のミリ波部品
を実装したモジュール化が困難である。また、強度の面
でも課題がある。また、マイクロマシンによる加工を2
枚のシリコン基板に施し、強度を得るためにかなり厚い
二酸化珪素膜を形成する必要があるために、加工のプロ
セスが複雑になるという課題がある。
り、低損失のフィルタやMMIC等が混載したミリ波モ
ジュールを簡便な加工で実現し、安価なミリ波およびマ
イクロ波を用いた無線装置を提供することを目的とす
る。
方性エッチングにより方形状のくぼみを複数設け、各々
のくぼみの間をコプレナ線路で接続する金属配線を前記
のシリコン単結晶基板の表面に有し、前記各々のくぼみ
の底面及び側面にグランド面として導体を積層し、片面
にマイクロストリップ型フィルタの金属配線を形成した
誘電体基板を、マイクロストリップ型フィルタの金属配
線面が、シリコン単結晶基板のくぼみと対面し、且つく
ぼみを覆うように実装し、更に、シリコン単結晶基板に
設けた他のくぼみを覆うように、MMICをフリップチ
ップ実装した構造を形成するものである。
現したフィルタとMMICを混載したミリ波モジュール
が得られる。
は、第1のシリコン単結晶基板に異方性エッチングによ
り方形状のくぼみを複数設け、各々のくぼみの間をコプ
レナ線路で接続する金属配線を前記第1のシリコン単結
晶基板の表面に有し、前記各々のくぼみの底面及び側面
にグランド面として導体を積層し、片面にマイクロスト
リップ型フィルタの金属配線を有した第1の誘電体基板
を、前記マイクロストリップ型フィルタの金属配線面
が、前記第1のシリコン単結晶基板のくぼみと対面し且
つくぼみを覆うように実装し、更に、前記第1のシリコ
ン単結晶基板に設けた他のくぼみを覆うように、MMI
Cをフリップチップ実装したことを特徴とするミリ波モ
ジュールであり、空気を誘電体とする低損失フィルタが
容易に実現でき、MMICのデバイス面の保護が劣化な
くでき、低損失のフィルタとMMICとの接続も容易で
あるという作用を有する。
板およびMMICの実装方法として、金によるマイクロ
バンプを用いたことを特徴とする請求項1記載のミリ波
モジュールであり、金によるマイクロバンプを用いるこ
とで、高い位置精度が得られ、ミリ波においても位置ず
れによる特性劣化がないという作用を有する。
板の裏面にグランド面として導体を有し、前記第1の誘
電体基板のグランド面と第1のシリコン単結晶基板上の
グランド面とを、前記第1の誘電体基板に設けたスルー
ホールと実装用のマイクロバンプを介して接続した構造
を特徴とする請求項1記載のミリ波モジュールであり、
フィルタの金属配線が上下のグランド面でシールドされ
ることにより、電界の放射を防ぐことができるという作
用を有する。
する第1のセラミック基板と、穴を有しない第2のセラ
ミック基板とを貼り合わせることにより得られた第3の
セラミック基板を第1のシリコン単結晶基板の代わりと
して用い、前記第1のシリコン単結晶基板に設けたくぼ
み形状と同様の形状を、前記第3のセラミック基板を用
いて形成することを特徴とする請求項1記載のミリ波モ
ジュールであり、セラミック基板を用いるため、安価に
形成できるという作用を有する。
セラミック基板の代わりとして、BCB(ベンゾシクロ
ブテン)やポリミィドなどの有機材料を誘電体として用
いたことを特徴とする請求項4記載のミリ波モジュール
であり、セラミック基板と比べて、くぼみ形状の寸法精
度を高めることができ、ミリ波特性を向上させることが
できるという作用を有する。
ク基板と第1のセラミック基板との接合面全体に、グラ
ンド面として金属層を有することを特徴とする請求項4
記載のミリ波モジュールであり、コプレナ線路でなく、
マイクロストリップ線路でフィルタやMMIC間を接続
することができるという作用を有する。
ク基板の代わりとして、導電性金属を有することを特徴
とする請求項7記載のミリ波モジュールであり、安価に
モジュールが形成できるという作用を有する 請求項9に記載の発明は、同一面上に、コプレナ線路に
よる配線と、マイクロストリップ型フィルタの金属配線
と、方形状の穴とを有する第3の誘電体基板と、異方性
エッチングによりくぼみを形成し、前記くぼみの内部
と、くぼみが形成された面全体にグランド導体を積層し
た第2のシリコン単結晶基板を有し、前記第2のシリコ
ン単結晶基板を前記第3の誘電体基板のマイクロストリ
ップ型フィルタの金属配線上に蓋をする形で実装し、更
に、前記第3の誘電体基板上に設けた方形状の穴に蓋を
するようにMMICをフリップチップ実装したことを特
徴とするミリ波モジュールであり、マイクロストリップ
型フィルタは、空気を誘電体とするマイクロストリップ
構造であるため低損失となるという作用を有する。
ン単結晶基板上に異方性エッチングにより方形状の第
1、第2のくぼみを設け、前記第1、第2のくぼみの底
面及び側面にグランド面として導体を積層し、入出力線
路として第1、第2のコプレナ線路を設け、グランド面
として導体を積層した第4の誘電体基板と前記第3のシ
リコン基板とを前記第1、第2のくぼみを覆うように接
合したことにより形成される第1、第2の空洞共振器を
有し、前記第4の誘電体基板上に設けたグランド面の一
部に、前記第1のコプレナ線路と前記第1の空洞共振器
と結合するための第3のコプレナ線路と、前記第1、第
2の空洞共振器間を結合する第4のコプレナ線路と、前
記第2のコプレナ線路と前記第2の空洞共振器と結合す
るための第5のコプレナ線路とを設けたことを特徴とす
るミリ波モジュールであり、空洞共振器の高Q特性か
ら、低損失のフィルタが実現できるとともに、他のMM
IC等との接続も容易にできるという作用を有する。
10のいずれかに記載のミリ波モジュールを用いたこと
を特徴とする無線装置であり、簡便な加工法により形成
したミリ波モジュールを用いることにより安価な無線装
置を実現できるという作用を有する。
から図8を用いて説明する。 (実施の形態1)図1は本実施の形態におけるミリ波モ
ジュールの構造概念図を示し、図1(a)は断面図、図
1(b)は斜視図である。図1において、101はシリ
コン基板、102は異方性エッチングによるくぼみ、1
03はくぼみ内に積層したグランド金属層、104は空
気、105は実装のための金マイクロバンプ、106は
ミリ波MMIC、107はガラス基板、108はコプレ
ナ線路、109はマイクロストリップ型フィルタの金属
配線、110はMMICにバイアスを供給するためのバ
イアスパッドである。
トリップ型フィルタの電界のほとんどは、誘電体損がな
い空気層104aに集中するため、フィルタの低損失化
が実現できる。
ICの直下にもシリコン基板101にくぼみ102bを
設けて、能動素子の間近を空気層104bとするため、
フリップチップ実装することによる特性劣化を抑えるこ
とができる。
6との接続をコプレナ線路とすることで、シリコン基板
101のプロセス工程を簡略化できる。
たミリ波モジュールを用いることにより、安価な無線装
置を実現することができる。
MICの構成を示したが、複数のフィルタやMMICを
様々に組み合わせてもよい。また本実施の形態では、く
ぼみの加工を異方性エッチングとしたが、ドライエッチ
ング加工による方法でも同様の形状が得られることは言
うまでもない。
けるミリ波モジュールの構造概念図を示し、図2(a)
は断面図、図2(b)は表面及び裏面の状態図である。
図2において第1の実施の形態と異なるのは、ガラス基
板107の裏面にグランド面111を設け、グランド面
をスルーホール112を介してシリコン基板101のグ
ランドと接続している点であり、それ以外の符号につい
ては図1と同様である。
トリップ型フィルタ109の近傍に発生する電界が、上
下のグランド103aと111に囲まれてシールドされ
ることにより、電界の放射による損失劣化を抑えること
ができるとともに、本発明のミリ波モジュールを筐体に
実装する際に、筐体によるフィルタ特性への影響を防ぐ
ことができる。
たミリ波モジュールを用いることにより、安価な無線装
置を実現することができる。
けるミリ波モジュールの断面構造の概念図を示す。図3
において第1の実施の形態と異なるのは、シリコン基板
の代わりとして、方形状の穴を設けた第1のセラミック
基板201b、201cと、穴を設けない第2のセラミ
ック基板201aを貼り合わせることで、第3のセラミ
ック基板を形成し、シリコン基板と同様のくぼみ形状を
形成した点である。くぼみの底面にはそれぞれグランド
層として203a、203bをそれぞれ積層し、このく
ぼみにより空気層204が形成される。それ以外の符号
については図1と同様である。
の形態と同様の効果を安価なセラミック基板を用いて実
現できる。
ミック基板として201b、201cの2層構造を示し
ており、このような構造とすることで、空気層の厚さを
204aでは2層分、204bでは1層分とすることが
容易に可能であり、必要に応じて空気層の厚さを変化さ
せることができる。
ラミック基板201を3層構造としたが、4層以上の構
成でも同様の効果が得られることは言うまでもない。
たミリ波モジュールを用いることにより、安価な無線装
置を実現することができる。
けるミリ波モジュールの断面構造の概念図を示す。図4
において第3の実施の形態と異なる点は、穴を設けない
第1のセラミック基板201aと穴を設けた第2のセラ
ミック基板201bとの接合面にグランド面205を設
け、くぼみの底面に設けたグランド面203bとグラン
ド面205の間をスルーホール210で接続し、ガラス
基板107とMMIC106との間をコプレナ線路でな
くマイクロストリップ線路で接続できようにした点であ
る。それ以外の符号については、図3と同様である。
路とマイクロストリップ線路の変換部がなくなり、設計
性が向上する。
たミリ波モジュールを用いることにより、安価な無線装
置を実現することができる。
けるミリ波モジュールの断面構造の概念図を示す。図5
において第4の実施の形態と異なる点は、穴を設けない
セラミック基板の代わりとして、アルミや真ちゅうなど
の導電性金属206を用いた点である。それ以外の符号
については、図4と同様である。
で第4の実施の形態と同様の効果が得られる。
たミリ波モジュールを用いることにより、安価な無線装
置を実現することができる。
けるミリ波モジュールの構造概念図を示し、図6(a)
は断面図、図6(b)は斜視図である。図6において、
301はガラス基板、302はシリコン基板、303は
異方性エッチングにより設けたくぼみ、304はくぼみ
内に積層したグランド金属層、305は空気、306は
実装のための金マイクロバンプ、307はミリ波MMI
C、308はコプレナ線路、309はマイクロストリッ
プ型フィルタの金属配線、310はMMICにバイアス
を供給するためのバイアスパッドである。
の形態と同様に、空気層305を絶縁層としたマイクロ
ストリップ型フィルタが実現でき、フィルタの低損失化
が実現できる。
IC307の直下のガラス基板301に方形状の穴31
1を設ければ、能動素子の間近を空気とするため、フリ
ップチップ実装することによる特性劣化を抑えることが
できる。
たミリ波モジュールを用いることにより、安価な無線装
置を実現することができる。
けるミリ波モジュールの構造概念図を示し、図7(a)
は断面図、図7(b)は斜視図である。また、図8は図
7のミリ波モジュールに使用するガラス基板の表面構造
を示す概念図である。図7において、401はシリコン
基板、402は異方性エッチングにより設けたくぼみ、
403はくぼみ内に積層したグランド金属層、404は
空気、407はガラス基板、408a、408bはシリ
コン基板401上に設けた第1、第2のコプレナ線路、
409a、409bはそれぞれガラス基板上に設けた第
3、第4のコプレナ線路、410はガラス基板407上
に設けた第5のコプレナ線路配線である。411はシリ
コン基板401とガラス基板407上のグランド金属を
取り除いた窓である。
グランド金属とで閉じ込められた空間は、くぼみ404
の一辺を自由空間の波長の2分の1近傍の周波数で共振
する、空洞共振器として作用する。この空洞共振器の間
をガラス基板上に設けた第5のコプレナ線路配線410
で結合し、また入出力を第3、第4のコプレナ線路40
9で空洞共振器と結合し、シリコン基板401上の入出
力線路となる、第1第2のコプレナ線路408a、40
8bと接続することで、入出力がコプレナ線路構造の空
洞共振器フィルタが実現する。
ィルタが実現できる。また、シリコン基板401とガラ
ス基板407は、各々のグランド配線上に設けた窓41
1どうしを陽極接合することにより実現するために、空
気層404の高さ方向の精度が高く、目的とする共振周
波数が精度よく実現できる。
め、MMICなどの他の部品との接続も容易に実現でき
る。
たミリ波モジュールを用いることにより、安価な無線装
置を実現することができる。
1とガラス基板407の接合方法を陽極接合としたが、
他の実施の形態に示した金マイクロバンプを用いた実装
法を用いてもよいことは言うまでもない。
工法で準平面的な構造上に低損失のフィルタが実現で
き、MMIC等との接続も簡易にでき、小型化と高性能
化の双方を満足したミリ波モジュールとそれを用いた無
線装置が安価でできるという有利な効果が得られる。
ュールの断面構造図 (b)本発明の一実施の形態によるミリ波モジュールの
斜視概念図
ュールの断面構造図 (b)本発明の一実施の形態によるミリ波モジュールに
使用するガラス基板の表面及び裏面の構造図
の断面構造図
の断面構造図
の断面構造図
ュールの断面構造図 (b)本発明の一実施の形態によるミリ波モジュールの
斜視概念図
ュールの断面構造図 (b)本発明の一実施の形態によるミリ波モジュールに
使用するシリコン基板の斜視概念図
に使用するガラス基板の表面の構造図
ランド面 104、204、305、404 空気層 105、306 マイクロバンプ 106、307 MMIC 107、301、401、407 ガラス基板 108、208、308、408、409、410 コ
プレナ線路 109、309 マイクロストリップ型フィルタパター
ン 110、310 バイアスパッド 112、210 スルーホール 201a 方形状の穴を有しないセラミック基板 201b、201c 方形状の穴を有するセラミック基
板 206 導電性金属 311 穴 411 窓
Claims (11)
- 【請求項1】 第1のシリコン単結晶基板に異方性エッ
チングにより方形状のくぼみを複数設け、各々のくぼみ
の間をコプレナ線路で接続する金属配線を前記第1のシ
リコン単結晶基板の表面に有し、前記各々のくぼみの底
面及び側面にグランド面として導体を積層し、片面にマ
イクロストリップ型フィルタの金属配線を有した第1の
誘電体基板を、前記マイクロストリップ型フィルタの金
属配線面が、前記第1のシリコン単結晶基板のくぼみと
対面し且つくぼみを覆うように実装し、更に、前記第1
のシリコン単結晶基板に設けた他のくぼみを覆うよう
に、MMICをフリップチップ実装したことを特徴とす
るミリ波モジュール。 - 【請求項2】 第1の誘電体基板およびMMICの実装
方法として、金によるマイクロバンプを用いたことを特
徴とする請求項1記載のミリ波モジュール。 - 【請求項3】 第1の誘電体基板の裏面にグランド面と
して導体を有し、前記第1の誘電体基板のグランド面と
第1のシリコン単結晶基板上のグランド面とを、前記第
1の誘電体基板に設けたスルーホールと実装用のマイク
ロバンプを介して接続した構造を特徴とする請求項1記
載のミリ波モジュール。 - 【請求項4】 方形状の穴を有する第1のセラミック基
板と、穴を有しない第2のセラミック基板とを貼り合わ
せることにより得られた第3のセラミック基板を第1の
シリコン単結晶基板の代わりとして用い、前記第1のシ
リコン単結晶基板に設けたくぼみ形状と同様の形状を、
前記第3のセラミック基板を用いて形成することを特徴
とする請求項1記載のミリ波モジュール。 - 【請求項5】 第1のセラミック基板の代わりとして、
BCB(ベンゾシクロブテン)を用いたことを特徴とす
る請求項4記載のミリ波モジュール。 - 【請求項6】 第1のセラミック基板の代わりとして、
ポリミィドを用いたことを特徴とする請求項4記載のミ
リ波モジュール。 - 【請求項7】 第2のセラミック基板と第1のセラミッ
ク基板との接合面全体に、グランド面として金属層を有
することを特徴とする請求項4記載のミリ波モジュー
ル。 - 【請求項8】 第2のセラミック基板の代わりとして、
導電性金属を有することを特徴とする請求項7記載のミ
リ波モジュール。 - 【請求項9】 同一面上に、コプレナ線路による配線
と、マイクロストリップ型フィルタの金属配線と、方形
状の穴とを有する第3の誘電体基板と、異方性エッチン
グによりくぼみを形成し、前記くぼみの内部と、くぼみ
が形成された面全体にグランド導体を積層した第2のシ
リコン単結晶基板を有し、前記第2のシリコン単結晶基
板を前記第3の誘電体基板のマイクロストリップ型フィ
ルタの金属配線上に蓋をする形で実装し、更に、前記第
3の誘電体基板上に設けた方形状の穴に蓋をするように
MMICをフリップチップ実装したことを特徴とするミ
リ波モジュール。 - 【請求項10】 第3のシリコン単結晶基板上に異方性
エッチングにより方形状の第1、第2のくぼみを設け、
前記第1、第2のくぼみの底面及び側面にグランド面と
して導体を積層し、入出力線路として第1、第2のコプ
レナ線路を設け、グランド面として導体を積層した第4
の誘電体基板と前記第3のシリコン基板とを前記第1、
第2のくぼみを覆うように接合したことにより形成され
る第1、第2の空洞共振器を有し、前記第4の誘電体基
板上に設けたグランド面の一部に、前記第1のコプレナ
線路と前記第1の空洞共振器と結合するための第3のコ
プレナ線路と、前記第1、第2の空洞共振器間を結合す
る第4のコプレナ線路と、前記第2のコプレナ線路と前
記第2の空洞共振器と結合するための第5のコプレナ線
路とを設けたことを特徴とするミリ波モジュール。 - 【請求項11】 請求項1から10のいずれかに記載の
ミリ波モジュールを用いたことを特徴とする無線装置。
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|---|---|---|---|
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