JPH11348290A - インクジェットヘッドおよびインクジェットヘッドの製造方法 - Google Patents
インクジェットヘッドおよびインクジェットヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH11348290A JPH11348290A JP15439198A JP15439198A JPH11348290A JP H11348290 A JPH11348290 A JP H11348290A JP 15439198 A JP15439198 A JP 15439198A JP 15439198 A JP15439198 A JP 15439198A JP H11348290 A JPH11348290 A JP H11348290A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink
- jet head
- liquid path
- generating element
- ink jet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 インク吐出圧力発生素子が形成された基板と
液路形成部材との密着力を高め、信頼性の高いインクジ
ェットヘッドを提供する。 【解決手段】 インクを吐出するための吐出口と、該吐
出口に連通するとともに前記インク吐出圧力発生素子を
内包する液路と、インク吐出圧力発生素子が形成された
基板と、前記基板と接合して前記液路を形成する液路形
成部材と、を有するインクジェットヘッドであって、前
記液路形成部材は、ポリエーテルアミド樹脂からなる密
着層を介して前記基板に接合されている。
液路形成部材との密着力を高め、信頼性の高いインクジ
ェットヘッドを提供する。 【解決手段】 インクを吐出するための吐出口と、該吐
出口に連通するとともに前記インク吐出圧力発生素子を
内包する液路と、インク吐出圧力発生素子が形成された
基板と、前記基板と接合して前記液路を形成する液路形
成部材と、を有するインクジェットヘッドであって、前
記液路形成部材は、ポリエーテルアミド樹脂からなる密
着層を介して前記基板に接合されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、インクを吐出して
画像を形成するインクジェットヘッドに関する、詳しく
はインク吐出圧力発生素子が形成された基板と、該基板
と接合して液路を形成する液路形成部材との密着力向上
に関する。
画像を形成するインクジェットヘッドに関する、詳しく
はインク吐出圧力発生素子が形成された基板と、該基板
と接合して液路を形成する液路形成部材との密着力向上
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、インクジェットヘッドの製造
方法及びインク吐出圧力発生素子が形成された基板と接
合して液路を形成する液路形成部材についてはさまざま
な提案がなされており、例えば、特開昭５７−２０８２
５５、５６号明細書には、インク吐出圧力発生素子が形
成された基板上に感光性樹脂にて液路パターンを形成し
ガラス等の天板を接合、切断することでインクジェット
ヘッドを作成する方法を開示している。
方法及びインク吐出圧力発生素子が形成された基板と接
合して液路を形成する液路形成部材についてはさまざま
な提案がなされており、例えば、特開昭５７−２０８２
５５、５６号明細書には、インク吐出圧力発生素子が形
成された基板上に感光性樹脂にて液路パターンを形成し
ガラス等の天板を接合、切断することでインクジェット
ヘッドを作成する方法を開示している。
【０００３】また、Ｈｅｗｌｌｅｔｔ Ｐａｃｋａｒｄ
Ｊｏｕｒｎａｌ ３６，５（１９８５）では、インク
吐出圧力発生素子が形成された基板上に感光性樹脂にて
液路パターンを形成し、Ｎｉ電鋳により作成したオリフ
ィスプレートを貼り合わせることでインクジェットヘッ
ドを作成する方法を開示している。
Ｊｏｕｒｎａｌ ３６，５（１９８５）では、インク
吐出圧力発生素子が形成された基板上に感光性樹脂にて
液路パターンを形成し、Ｎｉ電鋳により作成したオリフ
ィスプレートを貼り合わせることでインクジェットヘッ
ドを作成する方法を開示している。
【０００４】また、特開昭６１−１５４９４７号明細書
には、インク吐出圧力発生素子が形成された基板のイン
ク吐出圧力発生素子上に溶解可能な樹脂にて液路パター
ンを形成し、該パターンをエポキシ樹脂等で被覆、硬化
し、基板切断後に溶解可能な樹脂層を溶出しインクジェ
ットヘッドを作成する方法を開示している。
には、インク吐出圧力発生素子が形成された基板のイン
ク吐出圧力発生素子上に溶解可能な樹脂にて液路パター
ンを形成し、該パターンをエポキシ樹脂等で被覆、硬化
し、基板切断後に溶解可能な樹脂層を溶出しインクジェ
ットヘッドを作成する方法を開示している。
【０００５】更に特開平３−１８４８６８号明細書に
は、前記特開昭６１−１５４９４７号明細書に記載のイ
ンクジェットヘッドの製造に最適な被覆樹脂組成物とし
て芳香族エポキシ化合物のカチオン重合硬化物が有用で
あることを開示している。
は、前記特開昭６１−１５４９４７号明細書に記載のイ
ンクジェットヘッドの製造に最適な被覆樹脂組成物とし
て芳香族エポキシ化合物のカチオン重合硬化物が有用で
あることを開示している。
【０００６】上記いずれの方法も、インク吐出圧力発生
素子が形成された基板と液路形成部材の接合は、基本的
に液路形成部材となる樹脂（感光性樹脂層、被覆樹脂
層）の密着力に依存している。
素子が形成された基板と液路形成部材の接合は、基本的
に液路形成部材となる樹脂（感光性樹脂層、被覆樹脂
層）の密着力に依存している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、インク吐出
圧力発生素子として発熱抵抗体を用い、インクの膜沸騰
によるバブル形成を行いインクを吐出させるいわゆるバ
ブルジェットヘッドの場合、インクによる電蝕やバブル
消泡の際のキャビテーションによるダメージを低減する
ために発熱抵抗体上にはＳｉＮやＳｉＯ2といった無機
絶縁層とＴａ等の耐キャビテーション層とが設けられて
いることが一般的である。ここで、Ｔａ膜は前述の液路
形成部材となる樹脂との密着力が極めて低いために液路
形成部材のＴａ膜からの剥離が見受けられることがあっ
た。
圧力発生素子として発熱抵抗体を用い、インクの膜沸騰
によるバブル形成を行いインクを吐出させるいわゆるバ
ブルジェットヘッドの場合、インクによる電蝕やバブル
消泡の際のキャビテーションによるダメージを低減する
ために発熱抵抗体上にはＳｉＮやＳｉＯ2といった無機
絶縁層とＴａ等の耐キャビテーション層とが設けられて
いることが一般的である。ここで、Ｔａ膜は前述の液路
形成部材となる樹脂との密着力が極めて低いために液路
形成部材のＴａ膜からの剥離が見受けられることがあっ
た。
【０００８】ここで、液路形成部材の密着力を向上させ
るため液路形成部材が設けられる部分のＴａ膜を除去す
ることも考えられるが、この場合、基板上の電気熱変換
体は前述の無機絶縁層のみを介して液路形成部材を構成
する樹脂が積層されることになる。しかしながら、無機
絶縁層は通常膜質がポーラスとなっており、樹脂中に含
まれるイオンを透過させてしまいこのイオンによって電
気熱変換体を腐食させてしまうことがあった。
るため液路形成部材が設けられる部分のＴａ膜を除去す
ることも考えられるが、この場合、基板上の電気熱変換
体は前述の無機絶縁層のみを介して液路形成部材を構成
する樹脂が積層されることになる。しかしながら、無機
絶縁層は通常膜質がポーラスとなっており、樹脂中に含
まれるイオンを透過させてしまいこのイオンによって電
気熱変換体を腐食させてしまうことがあった。
【０００９】また、インク吐出圧力発生素子が形成され
た基板と液路形成部材の密着力向上のために、基板にシ
ランカップリング処理を施したり、ポリイミド（例え
ば、東レ（株）社製フォトニース）からなる下びき層
（密着力向上及びパッシベーション層）を用いる例が知
られている。
た基板と液路形成部材の密着力向上のために、基板にシ
ランカップリング処理を施したり、ポリイミド（例え
ば、東レ（株）社製フォトニース）からなる下びき層
（密着力向上及びパッシベーション層）を用いる例が知
られている。
【００１０】ここで、インクジェットヘッドは、通常そ
の使用環境下に合ってインクと常時接触しているためイ
ンクからの影響でインク吐出圧力発生素子が形成された
基板と液路形成部材の間が剥離するようなことは避けな
ければならない。近年、インクジェット記録に対して
は、用紙選択性、耐水性等の要求が高まっており、これ
らの要望に対応するためにインクを弱アルカリ性側にす
ることが検討されている。こうした弱アルカリ性のイン
クに対してはインク吐出圧力発生素子が形成された基板
と液路形成部材の密着力を長期にわたり維持することが
困難な場合がある。
の使用環境下に合ってインクと常時接触しているためイ
ンクからの影響でインク吐出圧力発生素子が形成された
基板と液路形成部材の間が剥離するようなことは避けな
ければならない。近年、インクジェット記録に対して
は、用紙選択性、耐水性等の要求が高まっており、これ
らの要望に対応するためにインクを弱アルカリ性側にす
ることが検討されている。こうした弱アルカリ性のイン
クに対してはインク吐出圧力発生素子が形成された基板
と液路形成部材の密着力を長期にわたり維持することが
困難な場合がある。
【００１１】本発明は、上記諸点に鑑みなされたもので
あって、インク吐出圧力発生素子が形成された基板と液
路形成部材との密着力を高め、信頼性の高いインクジェ
ットヘッドを提供するものである。
あって、インク吐出圧力発生素子が形成された基板と液
路形成部材との密着力を高め、信頼性の高いインクジェ
ットヘッドを提供するものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明は、インクを吐出するための吐出口と、該吐出口に連
通するとともに前記インク吐出圧力発生素子を内包する
液路と、インク吐出圧力発生素子が形成された基板と、
前記基板と接合して前記液路を形成する液路形成部材
と、を有するインクジェットヘッドであって、前記液路
形成部材は、ポリエーテルアミド樹脂からなる密着層を
介して前記基板に接合されていることを特徴とする。
明は、インクを吐出するための吐出口と、該吐出口に連
通するとともに前記インク吐出圧力発生素子を内包する
液路と、インク吐出圧力発生素子が形成された基板と、
前記基板と接合して前記液路を形成する液路形成部材
と、を有するインクジェットヘッドであって、前記液路
形成部材は、ポリエーテルアミド樹脂からなる密着層を
介して前記基板に接合されていることを特徴とする。
【００１３】更に本発明は、インクを吐出するための吐
出口と、該吐出口に連通するとともに前記インク吐出圧
力発生素子を内包する液路と、インク吐出圧力発生素子
が形成された基板と、前記基板と接合して前記液路を形
成する液路形成部材と、を有するインクジェットヘッド
の製造方法において、前記基板のインク吐出圧力発生素
子上にポリエーテルアミド層を形成する工程と、該ポリ
エーテルアミド層上に溶解可能な樹脂にて液路パターン
を形成する工程と、該液路パターン上に液路壁を形成す
るための被覆樹脂層を形成する工程と、該被覆樹脂層の
前記インク吐出圧力発生素子上方に前記インク吐出口を
形成する工程と、前記液路パターンを溶出する工程と、
を有することを特徴とする。
出口と、該吐出口に連通するとともに前記インク吐出圧
力発生素子を内包する液路と、インク吐出圧力発生素子
が形成された基板と、前記基板と接合して前記液路を形
成する液路形成部材と、を有するインクジェットヘッド
の製造方法において、前記基板のインク吐出圧力発生素
子上にポリエーテルアミド層を形成する工程と、該ポリ
エーテルアミド層上に溶解可能な樹脂にて液路パターン
を形成する工程と、該液路パターン上に液路壁を形成す
るための被覆樹脂層を形成する工程と、該被覆樹脂層の
前記インク吐出圧力発生素子上方に前記インク吐出口を
形成する工程と、前記液路パターンを溶出する工程と、
を有することを特徴とする。
【００１４】以上の構成によれば、アルカリ性のインク
に対しても、長期にわたり優れた密着力を維持すること
ができ、また、接着面にTa等の金属面が露出している場
合でも、長期にわたり優れた密着力を維持することがで
きる信頼性の高いインクジェットヘッドを提供するがで
きる。
に対しても、長期にわたり優れた密着力を維持すること
ができ、また、接着面にTa等の金属面が露出している場
合でも、長期にわたり優れた密着力を維持することがで
きる信頼性の高いインクジェットヘッドを提供するがで
きる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下に実施例を示し本発明を更に
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００１６】（実施例１）本実施例においては、ポリエ
ーテルアミドを基板とノズルを構成する材料との間に配
置し、加速試験によって耐弱アルカリ性インクに対する
密着力を評価した。
ーテルアミドを基板とノズルを構成する材料との間に配
置し、加速試験によって耐弱アルカリ性インクに対する
密着力を評価した。
【００１７】まず、基板としては５インチＳｉウエハを
準備し熱酸化によって１．０μmのＳｉＯ2層を形成し
た。次いで密着層としてポリエーテルアミド樹脂（日立
化成工業（株）社製 ＨＩＭＡＬ１２００〔溶媒 Ｎ−
メチルピロリドン／ブチルセルソルブアセテ−ト〕）を
スピンコートによって成膜し、１００℃／３０分＋２５
０℃／１時間加熱することによって塗布溶媒を蒸発さ
せ、１．５μｍ厚に成膜した。
準備し熱酸化によって１．０μmのＳｉＯ2層を形成し
た。次いで密着層としてポリエーテルアミド樹脂（日立
化成工業（株）社製 ＨＩＭＡＬ１２００〔溶媒 Ｎ−
メチルピロリドン／ブチルセルソルブアセテ−ト〕）を
スピンコートによって成膜し、１００℃／３０分＋２５
０℃／１時間加熱することによって塗布溶媒を蒸発さ
せ、１．５μｍ厚に成膜した。
【００１８】ここで前記ポリエーテルアミドからなる密
着層は、熱可塑性であり、加熱は、溶媒を蒸発させ、か
つガラス転移点（２３０℃）以上にして内部応力を低減
する目的で行われる。
着層は、熱可塑性であり、加熱は、溶媒を蒸発させ、か
つガラス転移点（２３０℃）以上にして内部応力を低減
する目的で行われる。
【００１９】次いでノズル構成材料としてドライフィル
ムレジストであるリストン（商標名：デュポン社製）を
前記基板にラミネートし、マスクアライナーＰＬＡ６０
０を用いてパターニングを行い、３０μｍのライン＆ス
ペース（Ｌ＆Ｓ）パターンを形成した。（膜厚２０μ
ｍ）
ムレジストであるリストン（商標名：デュポン社製）を
前記基板にラミネートし、マスクアライナーＰＬＡ６０
０を用いてパターニングを行い、３０μｍのライン＆ス
ペース（Ｌ＆Ｓ）パターンを形成した。（膜厚２０μ
ｍ）
【００２０】次いで１５０℃／１時間加熱することでパ
ターンを完全に硬化させた。同時に比較例として、密着
層を用いない試料と、密着層としてポリイミド（東レ
（株）社製 フォトニースＵＲ３１００ ４００℃ベー
ク、膜厚１．５μｍ）を用いた試料を作成した。
ターンを完全に硬化させた。同時に比較例として、密着
層を用いない試料と、密着層としてポリイミド（東レ
（株）社製 フォトニースＵＲ３１００ ４００℃ベー
ク、膜厚１．５μｍ）を用いた試料を作成した。
【００２１】次いで、これら試料を、エチレングリコー
ル／尿素／イソプロピルアルコール／黒色染料／水＝５
／３／２／３／８７部からなるインクに浸漬し、プレッ
シャークッカー(PCT)試験（１２０℃ ２気圧 ５０Ｈ
ｒ）を行い、Ｌ＆Ｓパターンの変化を観察した。
ル／尿素／イソプロピルアルコール／黒色染料／水＝５
／３／２／３／８７部からなるインクに浸漬し、プレッ
シャークッカー(PCT)試験（１２０℃ ２気圧 ５０Ｈ
ｒ）を行い、Ｌ＆Ｓパターンの変化を観察した。
【００２２】ここで、前記インクは保湿成分（インクの
蒸発を低減させ、ノズルの目詰まりを防ぐ）として尿素
を添加しており、尿素が加水分解することで弱アルカリ
性を示すものである。
蒸発を低減させ、ノズルの目詰まりを防ぐ）として尿素
を添加しており、尿素が加水分解することで弱アルカリ
性を示すものである。
【００２３】本発明の構成であるポリエーテルアミド密
着層を設けた試料に関しては、PCT試験後もパターンの
形状の変化は見受けられなかった。一方、密着層を用い
ない試料については、一部パターンに干渉縞および剥離
が確認された。これはSiO2層とノズル構成材料との密着
性が十分でないために生じたものと考えられる。また、
密着層としてポリイミドを用いた試料についてはポリイ
ミド層が溶解、消滅していた。
着層を設けた試料に関しては、PCT試験後もパターンの
形状の変化は見受けられなかった。一方、密着層を用い
ない試料については、一部パターンに干渉縞および剥離
が確認された。これはSiO2層とノズル構成材料との密着
性が十分でないために生じたものと考えられる。また、
密着層としてポリイミドを用いた試料についてはポリイ
ミド層が溶解、消滅していた。
【００２４】この結果から、本発明の構成であるポリエ
ーテルアミド密着層が優れた密着性および耐インク性を
示すことが理解される。
ーテルアミド密着層が優れた密着性および耐インク性を
示すことが理解される。
【００２５】（実施例２）次に基板表面がＳｉＮ＋Ｔａ
の膜構成である基板とノズル部材としてエポキシ樹脂を
用いた例を示す。
の膜構成である基板とノズル部材としてエポキシ樹脂を
用いた例を示す。
【００２６】基板として５インチＳｉウエハーを準備
し、プラズマＣＶＤを用いてＳｉＮ膜を１．０μｍ形成
し、更にその上にＴａ膜を０．２５μｍ形成した。
し、プラズマＣＶＤを用いてＳｉＮ膜を１．０μｍ形成
し、更にその上にＴａ膜を０．２５μｍ形成した。
【００２７】次いで実施例１と同様にポリエーテルアミ
ド膜を形成し、ノズル構成部材として以下に示す組成の
エポキシ樹脂組成物を適宜塗布溶媒に溶かしてポリエー
テルアミド膜上に塗布しパターニングを行なった。 ・エポキシ樹脂 EHPE(商品名：ダイセル化学工業社製) 100重量部 添加樹脂 1.4-HFAB(商品名：セントラル硝子社製) 20重量部 シランカップリング剤 A-187(商品名：日本ユニカー社製) 5重量部 光カチオン重合触媒 SP170(商品名：旭電化工業社製) 2重量部
ド膜を形成し、ノズル構成部材として以下に示す組成の
エポキシ樹脂組成物を適宜塗布溶媒に溶かしてポリエー
テルアミド膜上に塗布しパターニングを行なった。 ・エポキシ樹脂 EHPE(商品名：ダイセル化学工業社製) 100重量部 添加樹脂 1.4-HFAB(商品名：セントラル硝子社製) 20重量部 シランカップリング剤 A-187(商品名：日本ユニカー社製) 5重量部 光カチオン重合触媒 SP170(商品名：旭電化工業社製) 2重量部
【００２８】ここで、上記組成物は、エポキシ樹脂のカ
チオン重合が可能な組成であり、光照射によりカチオン
重合が開始されパターニングされるものである。
チオン重合が可能な組成であり、光照射によりカチオン
重合が開始されパターニングされるものである。
【００２９】なお、パターニングはキヤノン製マスクア
ライナーＭＰＡ６００を用い露光量−３．０Ｊ／ｃｍ2
で行ない、露光後ホットプレート上で９０℃／３０分間
加熱した後に、メチルイソブチルケトン／キシレン混合
溶媒で現像した。更に現像後に１８０℃／１時間加熱し
本硬化を行った。こうして実施例１と同様に３０μｍＬ
＆Ｓパターンを膜厚２０μｍで形成した。次に実施例１
と同様にしてＰＣＴを行いＬ＆Ｓパターンの変化を観察
した。
ライナーＭＰＡ６００を用い露光量−３．０Ｊ／ｃｍ2
で行ない、露光後ホットプレート上で９０℃／３０分間
加熱した後に、メチルイソブチルケトン／キシレン混合
溶媒で現像した。更に現像後に１８０℃／１時間加熱し
本硬化を行った。こうして実施例１と同様に３０μｍＬ
＆Ｓパターンを膜厚２０μｍで形成した。次に実施例１
と同様にしてＰＣＴを行いＬ＆Ｓパターンの変化を観察
した。
【００３０】本実施例においても、本発明の構成である
ポリエーテルアミド密着層を設けた試料に関しては、PC
T試験後もパターンの形状の変化は見受けられなかっ
た。一方、密着層を用いない試料については、一部パタ
ーンに干渉縞および剥離が確認された。これはTa層とノ
ズル構成材料との密着性が十分でないために生じたもの
と考えられる。
ポリエーテルアミド密着層を設けた試料に関しては、PC
T試験後もパターンの形状の変化は見受けられなかっ
た。一方、密着層を用いない試料については、一部パタ
ーンに干渉縞および剥離が確認された。これはTa層とノ
ズル構成材料との密着性が十分でないために生じたもの
と考えられる。
【００３１】このように、上記結果よりポリエーテルア
ミド膜が優れた密着性を示すことが理解される。
ミド膜が優れた密着性を示すことが理解される。
【００３２】（実施例３）本実施例においてはインクジ
ェットヘッド形態での密着力の評価を行った。
ェットヘッド形態での密着力の評価を行った。
【００３３】まず、以下に示す方法でインクジェットヘ
ッドを作成した。
ッドを作成した。
【００３４】図１に示すようにインク供給口マスク３を
設けた結晶軸＜１００＞のＳｉウエハー基板１上にイン
ク圧力発生素子として電気熱変換素子（ＴａＮ）２を配
置し、更に保護層としてＳｉＮ層４、Ｔａ層５を形成し
た。なお、電気熱変換素子２にはその素子を動作させる
ための制御信号入力電極が接続されている（不図示）。
図２、図１のＡ−Ａ’断面を示す。
設けた結晶軸＜１００＞のＳｉウエハー基板１上にイン
ク圧力発生素子として電気熱変換素子（ＴａＮ）２を配
置し、更に保護層としてＳｉＮ層４、Ｔａ層５を形成し
た。なお、電気熱変換素子２にはその素子を動作させる
ための制御信号入力電極が接続されている（不図示）。
図２、図１のＡ−Ａ’断面を示す。
【００３５】次いで前記基板１上に密着層としてポリエ
ーテルアミドからなる層６を以下の方法で厚み２．０μ
ｍで形成した。ポリエーテルアミド層には、日立化成工
業（株）社製ＨＩＭＡＬ１２００を用い、スピナーで前
記基板１上に塗布し、１００℃／３０分＋２５０℃／１
時間ベークを行った。
ーテルアミドからなる層６を以下の方法で厚み２．０μ
ｍで形成した。ポリエーテルアミド層には、日立化成工
業（株）社製ＨＩＭＡＬ１２００を用い、スピナーで前
記基板１上に塗布し、１００℃／３０分＋２５０℃／１
時間ベークを行った。
【００３６】次いで前記ＨＩＭＡＬ上に東京応化工業
（株）社製ポジレジストＯＦＰＲ８００を用いてパター
ニングを行い、更にＯＦＰＲパターンをマスクとしてＯ
2プラズマアッシングによりＨＩＭＡＬ層のパターニン
グを行い、最後にマスクとして使用したＯＦＰＲパター
ンを剥離することで図３に示し密着層を形成した。
（株）社製ポジレジストＯＦＰＲ８００を用いてパター
ニングを行い、更にＯＦＰＲパターンをマスクとしてＯ
2プラズマアッシングによりＨＩＭＡＬ層のパターニン
グを行い、最後にマスクとして使用したＯＦＰＲパター
ンを剥離することで図３に示し密着層を形成した。
【００３７】次いで図４に示すがごとく、基板１上に東
京応化工業（株）ポジレジストＯＤＵＲからなるインク
流路パターンを形成した（厚み１２μｍ：図４参照）。
京応化工業（株）ポジレジストＯＤＵＲからなるインク
流路パターンを形成した（厚み１２μｍ：図４参照）。
【００３８】更に実施例２に記載のエポキシ樹脂層８を
基板１上に形成し、パターニングによって吐出口９を形
成した（図５参照）。
基板１上に形成し、パターニングによって吐出口９を形
成した（図５参照）。
【００３９】次いで前記基板１をＳｉ異方性エッチング
によりエッチングしインク供給口１０を形成した（図６
参照）。
によりエッチングしインク供給口１０を形成した（図６
参照）。
【００４０】次いでインク供給口上のＳｉＮ膜、及びＯ
ＤＵＲからインク流路パターン７を除去し、更にノズル
構成部材である前記エポキシ樹脂８を完全に硬化させる
ために１８０℃／１時間加熱を行いインクジェットヘッ
ドを得た（図７参照）。
ＤＵＲからインク流路パターン７を除去し、更にノズル
構成部材である前記エポキシ樹脂８を完全に硬化させる
ために１８０℃／１時間加熱を行いインクジェットヘッ
ドを得た（図７参照）。
【００４１】ここで、前記インクジェットヘッドでは、
ノズル構成部材８は、密着層６を介して基板１表面（Ｔ
ａ面／ＳｉＮ面）に接着されている。
ノズル構成部材８は、密着層６を介して基板１表面（Ｔ
ａ面／ＳｉＮ面）に接着されている。
【００４２】更に比較例として密着層６を設けない形の
インクジェットヘッドも合わせて試作した。ここで、前
記比較例のインクジェットヘッドにおいては、ノズル構
成部材８は、基板１表面（Ｔａ面／ＳｉＮ面）に接着さ
れている。
インクジェットヘッドも合わせて試作した。ここで、前
記比較例のインクジェットヘッドにおいては、ノズル構
成部材８は、基板１表面（Ｔａ面／ＳｉＮ面）に接着さ
れている。
【００４３】これらインクジェットヘッドに実施例１に
記載のインクを充填し、６０℃／３か月の保存試験を行
ったところ、前記実施例（密着層あり）のインクジェッ
トヘッドにおいては、ノズル構成部材の密着面での干渉
縞や剥離等の変化は一切観察されなかった。
記載のインクを充填し、６０℃／３か月の保存試験を行
ったところ、前記実施例（密着層あり）のインクジェッ
トヘッドにおいては、ノズル構成部材の密着面での干渉
縞や剥離等の変化は一切観察されなかった。
【００４４】一方、前記比較例(密着層無し)では、Ta〜
ノズル構成部材の間に緩衝縞が生じている部分が観察さ
れた。
ノズル構成部材の間に緩衝縞が生じている部分が観察さ
れた。
【００４５】以上、実際のインクジェットヘッドとして
形成した場合においても、ポリエーテルアミド密着層が
優れた効果を示すことが理解される。
形成した場合においても、ポリエーテルアミド密着層が
優れた効果を示すことが理解される。
【００４６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
密着層としてポリエーテルアミドを用いることによっ
て、アルカリ性のインクに対しても、長期にわたり優れ
た密着力を維持することができ、また、接着面にTa等の
金属面が露出している場合でも、長期にわたり優れた密
着力を維持することが可能となり、信頼性の高いインク
ジェットヘッドを得ることができる。
密着層としてポリエーテルアミドを用いることによっ
て、アルカリ性のインクに対しても、長期にわたり優れ
た密着力を維持することができ、また、接着面にTa等の
金属面が露出している場合でも、長期にわたり優れた密
着力を維持することが可能となり、信頼性の高いインク
ジェットヘッドを得ることができる。
【図１】インクジェット基板の斜視図である。
【図２】本発明のインクジェットヘッドの製造方法を示
す説明図である。
す説明図である。
【図３】本発明のインクジェットヘッドの製造方法を示
す説明図である。
す説明図である。
【図４】本発明のインクジェットヘッドの製造方法を示
す説明図である。
す説明図である。
【図５】本発明のインクジェットヘッドの製造方法を示
す説明図である。
す説明図である。
【図６】本発明のインクジェットヘッドの製造方法を示
す説明図である。
す説明図である。
【図７】本発明のインクジェットヘッドの製造方法を示
す説明図である。
す説明図である。
１ Ｓｉ基板 ２ インク吐出圧力発生素子 ３ インク供給口マスク ４ ＳｉＮ膜 ５ Ｔａ膜 ６ 密着層 ７ 液路パターン ８ ノズル構成部材 ９ 吐出口 １０ インク供給口
Claims (11)
- 【請求項１】 インクを吐出するための吐出口と、該吐
出口に連通するとともに前記インク吐出圧力発生素子を
内包する液路と、インク吐出圧力発生素子が形成された
基板と、前記基板と接合して前記液路を形成する液路形
成部材と、を有するインクジェットヘッドであって、 前記液路形成部材はポリエーテルアミド樹脂からなる密
着層を介して前記基板に接合されていることを特徴とす
るインクジェットヘッド。 - 【請求項２】 前記ポリエーテルアミド樹脂が熱可塑性
であることを特徴とする請求項１に記載のインクジェッ
トヘッド。 - 【請求項３】 前記液路形成部材が樹脂により形成され
ていることを特徴とする請求項１もしくは２に記載のイ
ンクジェットヘッド。 - 【請求項４】 前記液路形成部材がエポキシ樹脂のカチ
オン重合化合物により形成されていることを特徴とする
請求項３に記載のインクジェットヘッド。 - 【請求項５】 前記吐出口は前記インク吐出圧力発生素
子の対向する側に設けられている請求項１に記載のイン
クジェットヘッド。 - 【請求項６】 前記インク吐出圧力発生素子は電気熱変
換体である請求項１に記載のインクジェットヘッド。 - 【請求項７】 インクを吐出するための吐出口と、該吐
出口に連通するとともに前記インク吐出圧力発生素子を
内包する液路と、インク吐出圧力発生素子が形成された
基板と、前記基板と接合して前記液路を形成する液路形
成部材と、を有するインクジェットヘッドの製造方法に
おいて、 前記基板のインク吐出圧力発生素子上にポリエーテルア
ミド層を形成する工程と、 該ポリエーテルアミド層上に溶解可能な樹脂にて液路パ
ターンを形成する工程と、 該液路パターン上に液路壁を形成するための被覆樹脂層
を形成する工程と、 該被覆樹脂層の前記インク吐出圧力発生素子上方に前記
インク吐出口を形成する工程と、 前記液路パターンを溶出する工程と、を有することを特
徴とするインクジェットヘッドの製造方法。 - 【請求項８】 前記インクジェットヘッドの製造方法
は、さらに前記ポリエーテルアミド層を酸素プラズマア
ッシングによりパターニングする工程を有する請求項7
に記載のインクジェットヘッドの製造方法。 - 【請求項９】 前記ポリエーテルアミド樹脂が熱可塑性
であることを特徴とする請求項7に記載のインクジェッ
トヘッドの製造方法。 - 【請求項１０】 前記被覆樹脂層がエポキシ樹脂のカチ
オン重合化合物により形成されていることを特徴とする
請求項７に記載のインクジェットヘッドの製造方法。 - 【請求項１１】 前記インク吐出圧力発生素子は電気熱
変換体である請求項７に記載のインクジェットヘッドの
製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15439198A JP4146933B2 (ja) | 1998-06-03 | 1998-06-03 | インクジェットヘッドおよびインクジェットヘッドの製造方法 |
| DE69923033T DE69923033T2 (de) | 1998-06-03 | 1999-06-02 | Tintenstrahlkopf, Tintenstrahlkopfträgerschicht, und Verfahren zur Herstellung des Kopfes |
| ES99110640T ES2232047T3 (es) | 1998-06-03 | 1999-06-02 | Cabezal para chorros de tinta, sustrato para cabezal para chorros de tinta y metodo para la fabricacion del cabezal. |
| EP99110640A EP0962320B1 (en) | 1998-06-03 | 1999-06-02 | Ink-Jet head, ink-jet head substrate, and a method for making the head |
| US09/324,504 US6390606B1 (en) | 1998-06-03 | 1999-06-03 | Ink-jet head, ink-jet head substrate, and a method for making the head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15439198A JP4146933B2 (ja) | 1998-06-03 | 1998-06-03 | インクジェットヘッドおよびインクジェットヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11348290A true JPH11348290A (ja) | 1999-12-21 |
| JP4146933B2 JP4146933B2 (ja) | 2008-09-10 |
Family
ID=15583122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15439198A Expired - Fee Related JP4146933B2 (ja) | 1998-06-03 | 1998-06-03 | インクジェットヘッドおよびインクジェットヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4146933B2 (ja) |
Cited By (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1236574A2 (en) | 2001-02-28 | 2002-09-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Forming method of ink jet print head substrate and ink jet print head substrate, and manufacturing method of ink jet print head and ink jet print head |
| US6467884B1 (en) | 1999-08-24 | 2002-10-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate unit for liquid discharging head, method for producing the same, liquid discharging head, cartridge, and image forming apparatus |
| KR20030012061A (ko) * | 2001-07-30 | 2003-02-12 | 주식회사 루트스 | 잉크젯 프린트헤드의 잉크 공급로 형성 방법 |
| JP2006150901A (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 |
| JP2006334933A (ja) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Canon Inc | 記録ヘッドおよび記録装置 |
| US7323115B2 (en) | 2003-02-13 | 2008-01-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate processing method and ink jet recording head substrate manufacturing method |
| JP2008018712A (ja) * | 2006-04-27 | 2008-01-31 | Canon Inc | インクジェットヘッドおよびその製造方法 |
| JP2008100514A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-05-01 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
| EP2000308A2 (en) | 2007-06-07 | 2008-12-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Ink jet print head and manufacturing method thereof |
| JP2009023344A (ja) * | 2007-06-20 | 2009-02-05 | Canon Inc | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
| JP2010005795A (ja) * | 2008-06-24 | 2010-01-14 | Canon Inc | 液体吐出記録ヘッドの製造方法 |
| US7695111B2 (en) | 2006-03-08 | 2010-04-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head and manufacturing method therefor |
| JP2010253936A (ja) * | 2009-04-02 | 2010-11-11 | Canon Inc | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
| JP2011126102A (ja) * | 2009-12-16 | 2011-06-30 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド用基板及び液体吐出ヘッド、およびその製造方法 |
| US8075107B2 (en) | 2008-06-18 | 2011-12-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head |
| JP2012051382A (ja) * | 2006-04-27 | 2012-03-15 | Canon Inc | インクジェットヘッドおよびその製造方法 |
| US8182072B2 (en) | 2007-04-20 | 2012-05-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate for inkjet printing head and method for manufacturing the substrate |
| JP2012158189A (ja) * | 2006-09-21 | 2012-08-23 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
| US8267503B2 (en) | 2006-10-16 | 2012-09-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording head and manufacturing method therefor |
| US8286350B2 (en) | 2009-02-25 | 2012-10-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing a liquid discharge head |
| US8291576B2 (en) | 2008-06-18 | 2012-10-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing liquid ejection head |
| US8408678B2 (en) | 2010-07-27 | 2013-04-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head and method for producing the same |
| US8439483B2 (en) | 2010-05-12 | 2013-05-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head and method of producing the same |
| JP2013240974A (ja) * | 2012-04-27 | 2013-12-05 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド |
| US9028038B2 (en) | 2013-10-08 | 2015-05-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head |
| US9039143B2 (en) | 2013-04-02 | 2015-05-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording head and method for manufacturing the same |
| US9266330B2 (en) | 2013-01-25 | 2016-02-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing a semiconductor chip |
| US10730299B2 (en) | 2016-07-29 | 2020-08-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing liquid discharge head, liquid discharge head, and method for manufacturing liquid discharge head substrate |
-
1998
- 1998-06-03 JP JP15439198A patent/JP4146933B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6467884B1 (en) | 1999-08-24 | 2002-10-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate unit for liquid discharging head, method for producing the same, liquid discharging head, cartridge, and image forming apparatus |
| EP1236574A2 (en) | 2001-02-28 | 2002-09-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Forming method of ink jet print head substrate and ink jet print head substrate, and manufacturing method of ink jet print head and ink jet print head |
| US6953530B2 (en) | 2001-02-28 | 2005-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Forming method of ink jet print head substrate and ink jet print head substrate, and manufacturing method of ink jet print head and ink jet print head |
| KR20030012061A (ko) * | 2001-07-30 | 2003-02-12 | 주식회사 루트스 | 잉크젯 프린트헤드의 잉크 공급로 형성 방법 |
| US7323115B2 (en) | 2003-02-13 | 2008-01-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate processing method and ink jet recording head substrate manufacturing method |
| JP2006150901A (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 |
| JP2006334933A (ja) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Canon Inc | 記録ヘッドおよび記録装置 |
| US7695111B2 (en) | 2006-03-08 | 2010-04-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head and manufacturing method therefor |
| JP2012051382A (ja) * | 2006-04-27 | 2012-03-15 | Canon Inc | インクジェットヘッドおよびその製造方法 |
| JP2008018712A (ja) * | 2006-04-27 | 2008-01-31 | Canon Inc | インクジェットヘッドおよびその製造方法 |
| JP2008100514A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-05-01 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
| JP2012158189A (ja) * | 2006-09-21 | 2012-08-23 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
| US8267503B2 (en) | 2006-10-16 | 2012-09-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording head and manufacturing method therefor |
| US8182072B2 (en) | 2007-04-20 | 2012-05-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate for inkjet printing head and method for manufacturing the substrate |
| EP2000308A2 (en) | 2007-06-07 | 2008-12-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Ink jet print head and manufacturing method thereof |
| JP2009023344A (ja) * | 2007-06-20 | 2009-02-05 | Canon Inc | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
| JP2012106512A (ja) * | 2007-06-20 | 2012-06-07 | Canon Inc | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
| US8075107B2 (en) | 2008-06-18 | 2011-12-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head |
| US8291576B2 (en) | 2008-06-18 | 2012-10-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing liquid ejection head |
| JP2010005795A (ja) * | 2008-06-24 | 2010-01-14 | Canon Inc | 液体吐出記録ヘッドの製造方法 |
| US8286350B2 (en) | 2009-02-25 | 2012-10-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing a liquid discharge head |
| JP2010253936A (ja) * | 2009-04-02 | 2010-11-11 | Canon Inc | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
| JP2011126102A (ja) * | 2009-12-16 | 2011-06-30 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド用基板及び液体吐出ヘッド、およびその製造方法 |
| US8439483B2 (en) | 2010-05-12 | 2013-05-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head and method of producing the same |
| US8408678B2 (en) | 2010-07-27 | 2013-04-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head and method for producing the same |
| JP2013240974A (ja) * | 2012-04-27 | 2013-12-05 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド |
| US9731503B2 (en) | 2012-04-27 | 2017-08-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head and liquid discharge apparatus using the same |
| US9266330B2 (en) | 2013-01-25 | 2016-02-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing a semiconductor chip |
| US9039143B2 (en) | 2013-04-02 | 2015-05-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording head and method for manufacturing the same |
| US9028038B2 (en) | 2013-10-08 | 2015-05-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head |
| US10730299B2 (en) | 2016-07-29 | 2020-08-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing liquid discharge head, liquid discharge head, and method for manufacturing liquid discharge head substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4146933B2 (ja) | 2008-09-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4146933B2 (ja) | インクジェットヘッドおよびインクジェットヘッドの製造方法 | |
| US5478606A (en) | Method of manufacturing ink jet recording head | |
| US6139761A (en) | Manufacturing method of ink jet head | |
| EP0962320B1 (en) | Ink-Jet head, ink-jet head substrate, and a method for making the head | |
| CN100580556C (zh) | 光敏树脂组合物、使用该组合物的喷墨记录头以及制造该喷墨记录头的方法 | |
| JP2008179045A (ja) | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法、半導体デバイス及びその製造方法 | |
| JP2002326361A (ja) | インクジェットプリントヘッド基板の形成方法とインクジェットプリントヘッド基板、およびインクジェットプリントヘッドの製造方法とインクジェットプリントヘッド | |
| JP2009163189A (ja) | 感光性ポリエーテルアミド組成物、それを用いたインクンクジェット記録ヘッド及びその製造方法 | |
| JP4669138B2 (ja) | インクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
| JP5038539B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| JP3652022B2 (ja) | インクジェット記録ヘッド及びインクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
| JPH05155024A (ja) | インクジェット記録ヘッド | |
| JP2009172871A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| JP4854464B2 (ja) | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 | |
| JP7805745B2 (ja) | 液体吐出ヘッド及び液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| AU734775B2 (en) | Manufacturing method of ink jet head | |
| US7735961B2 (en) | Liquid discharge head and method of producing the same | |
| JP2001105601A (ja) | 液体噴射記録ヘッドの液流路構成用組成物及び液体噴射記録ヘッドの製造方法 | |
| JP4146932B2 (ja) | インクジェットヘッド | |
| JP3592120B2 (ja) | インクジェット記録ヘッドの製造方法およびインクジェット記録ヘッド | |
| JP2004330486A (ja) | インクジェットヘッドの製造方法 | |
| JPH11348288A (ja) | インクジェットヘッド用基板及びインクジェットヘッド | |
| JP2004098657A (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
| JP2007001242A (ja) | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 | |
| JP2005161595A (ja) | インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050415 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060601 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060718 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060919 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080617 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080623 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110627 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120627 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120627 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130627 Year of fee payment: 5 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |