JPH11350137A - 真空成膜装置における基板支持装置 - Google Patents
真空成膜装置における基板支持装置Info
- Publication number
- JPH11350137A JPH11350137A JP10164595A JP16459598A JPH11350137A JP H11350137 A JPH11350137 A JP H11350137A JP 10164595 A JP10164595 A JP 10164595A JP 16459598 A JP16459598 A JP 16459598A JP H11350137 A JPH11350137 A JP H11350137A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- revolving
- rotating
- film forming
- shaft
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板を枝葉で処理でき、蒸着ムラが生じず、
反転動作が可能であり、コンパクトでクリーンな基板支
持装置を提供する。 【解決手段】 成膜室３内の上部で、水平に回転自在に
支持された反転軸１１と、反転軸１１に取付けられた基
板Ｃを保持する基板支持手段Ｂからなる。基板支持手段
Ｂを下向きにした蒸着位置と、上向きにした搬出入位置
との間で反転軸１１を回転させるモータ１３と、基板支
持手段Ｂを自転させながら公転させる自公転手段を有
す。自公転手段は、反転軸１１の中央部に固定された支
持フレーム１５と、支持フレームの中央部に回転自在に
支持された公転アーム１６と、公転アーム１６の先端部
に回転自在に支持され、蒸着されるべき基板Ｃを支持す
るテーブル２０と、公転アームを回転させる自公転軸２
５と、テーブル２０を公転アーム１６の回転によって自
転させる歯車３１、３２とからなる。
反転動作が可能であり、コンパクトでクリーンな基板支
持装置を提供する。 【解決手段】 成膜室３内の上部で、水平に回転自在に
支持された反転軸１１と、反転軸１１に取付けられた基
板Ｃを保持する基板支持手段Ｂからなる。基板支持手段
Ｂを下向きにした蒸着位置と、上向きにした搬出入位置
との間で反転軸１１を回転させるモータ１３と、基板支
持手段Ｂを自転させながら公転させる自公転手段を有
す。自公転手段は、反転軸１１の中央部に固定された支
持フレーム１５と、支持フレームの中央部に回転自在に
支持された公転アーム１６と、公転アーム１６の先端部
に回転自在に支持され、蒸着されるべき基板Ｃを支持す
るテーブル２０と、公転アームを回転させる自公転軸２
５と、テーブル２０を公転アーム１６の回転によって自
転させる歯車３１、３２とからなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空成膜装置にお
ける基板支持装置に関する。さらに詳しくは、真空成膜
装置によって基板に膜を成形する場合に、その基板を支
持する装置に関する。
ける基板支持装置に関する。さらに詳しくは、真空成膜
装置によって基板に膜を成形する場合に、その基板を支
持する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空成膜装置は、真空成膜室の側壁にプ
ラズマ源を取付け、底壁上に陽極部を取付けており、成
膜室内の上方で基板を支持装置により支持するようにし
ている。そして、成膜室を真空にし、キャリヤおよび反
応ガスを導入して、プラズマ源と陽極部との間でプラズ
マビームを発生させると、成膜分子が蒸発して、上方に
配置されている基板に蒸着する。上記のごとき真空成膜
装置の一例として、特開平５−２７１９３５号公報に記
載された従来技術がある。この従来技術では、基板への
蒸着ムラを無くすため、成膜室内で基盤を支持した支持
体を旋回させるように構成されている。また、基板の表
裏両面に蒸着させるため、基板を裏返しに反転させる手
段が設けられている。さらに、基板を成膜室外との間で
搬入搬出するため、基板を９０度回転させ、立てた状態
にする手段も設けられている。
ラズマ源を取付け、底壁上に陽極部を取付けており、成
膜室内の上方で基板を支持装置により支持するようにし
ている。そして、成膜室を真空にし、キャリヤおよび反
応ガスを導入して、プラズマ源と陽極部との間でプラズ
マビームを発生させると、成膜分子が蒸発して、上方に
配置されている基板に蒸着する。上記のごとき真空成膜
装置の一例として、特開平５−２７１９３５号公報に記
載された従来技術がある。この従来技術では、基板への
蒸着ムラを無くすため、成膜室内で基盤を支持した支持
体を旋回させるように構成されている。また、基板の表
裏両面に蒸着させるため、基板を裏返しに反転させる手
段が設けられている。さらに、基板を成膜室外との間で
搬入搬出するため、基板を９０度回転させ、立てた状態
にする手段も設けられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、前記従来例
では、基板を旋回させながら蒸着するが、同一軌跡上を
移動するだけなので、蒸着ムラが完全には無くならな
い。また、基板の反転と９０°回転手段を有しているた
め、非常に複雑な構成となっている。さらに、基板を枝
葉で搬送できず、重量が大きいキャリヤで搬送するた
め、物品の搬送機構が巨大となるばかりでなく、パーテ
ィクル飛散の危険性が大きいという問題がある。
では、基板を旋回させながら蒸着するが、同一軌跡上を
移動するだけなので、蒸着ムラが完全には無くならな
い。また、基板の反転と９０°回転手段を有しているた
め、非常に複雑な構成となっている。さらに、基板を枝
葉で搬送できず、重量が大きいキャリヤで搬送するた
め、物品の搬送機構が巨大となるばかりでなく、パーテ
ィクル飛散の危険性が大きいという問題がある。
【０００４】本発明はかかる事情に鑑み、基板を枝葉で
処理でき、さらに基板に蒸着ムラが生じず均一な膜厚が
得られ、基板の搬出入のための反転動作が可能であり、
かつ非常にコンパクトでクリーンな基板支持装置を提供
することを目的とする。
処理でき、さらに基板に蒸着ムラが生じず均一な膜厚が
得られ、基板の搬出入のための反転動作が可能であり、
かつ非常にコンパクトでクリーンな基板支持装置を提供
することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１の基板支持装置
は、真空成膜装置の真空容器内で、基板を蒸着位置で支
持したり、搬出入位置へ移動させる支持装置であって、
前記真空容器内の上部で、水平に、回転自在に支持され
た反転軸と、前記反転軸に取付けられた、基板を支持す
るための基板支持手段と、前記基板支持手段を下向きに
した蒸着位置と、上向きにした搬出入位置との間で前記
反転軸を回転させる反転駆動源と、前記基板支持手段で
支持された基板を自転させながら公転させる自公転手段
とからなることを特徴とする。請求項２の基板支持装置
は、請求項１の発明において、前記基板支持手段が、前
記反転軸の中央部に、その中央部が固定された支持フレ
ームと、前記支持フレームの中央部に回転自在に支持さ
れた基部と、該基部から前記反転軸に沿って延びるアー
ム部からなる公転アームとからなり、前記自公転手段
が、前記公転アームの先端部に回転自在に支持され、蒸
着されるべき基板を支持するテーブルと、前記公転アー
ムを回転させる公転機構と、前記テーブルを前記公転ア
ームの回転によって自転させる自転機構とからなること
を特徴とする。請求項３の基板支持装置は、請求項２の
発明において、前記公転機構が、前記反転軸を中空に形
成すると共に、該反転軸の内部に同心状に挿入され、回
転自在に支持された自公転軸と、該自公転軸の一端に連
結された回転駆動源と、前記自公転軸の略中央部に取付
けられた第１傘歯車と、前記公転アームの基部に取付け
られ、前記第１傘歯車と噛み合う第２傘歯車とからなる
ことを特徴とする。請求項４の基板支持装置は、請求項
２の発明において、前記自転機構が、前記テーブルに取
付けられた外歯車と、前記テーブルが公転したときの外
歯歯車の外周の旋回軌跡に合わせたピッチ円直径を有
し、前記基板支持フレームに取付けられた内歯歯車とか
らなることを特徴とする。請求項５の基板支持装置は、
請求項１の発明において、前記反転軸に、前記一の基板
支持手段の反対側に他の一の基板支持手段を取付けたこ
とを特徴とする。
は、真空成膜装置の真空容器内で、基板を蒸着位置で支
持したり、搬出入位置へ移動させる支持装置であって、
前記真空容器内の上部で、水平に、回転自在に支持され
た反転軸と、前記反転軸に取付けられた、基板を支持す
るための基板支持手段と、前記基板支持手段を下向きに
した蒸着位置と、上向きにした搬出入位置との間で前記
反転軸を回転させる反転駆動源と、前記基板支持手段で
支持された基板を自転させながら公転させる自公転手段
とからなることを特徴とする。請求項２の基板支持装置
は、請求項１の発明において、前記基板支持手段が、前
記反転軸の中央部に、その中央部が固定された支持フレ
ームと、前記支持フレームの中央部に回転自在に支持さ
れた基部と、該基部から前記反転軸に沿って延びるアー
ム部からなる公転アームとからなり、前記自公転手段
が、前記公転アームの先端部に回転自在に支持され、蒸
着されるべき基板を支持するテーブルと、前記公転アー
ムを回転させる公転機構と、前記テーブルを前記公転ア
ームの回転によって自転させる自転機構とからなること
を特徴とする。請求項３の基板支持装置は、請求項２の
発明において、前記公転機構が、前記反転軸を中空に形
成すると共に、該反転軸の内部に同心状に挿入され、回
転自在に支持された自公転軸と、該自公転軸の一端に連
結された回転駆動源と、前記自公転軸の略中央部に取付
けられた第１傘歯車と、前記公転アームの基部に取付け
られ、前記第１傘歯車と噛み合う第２傘歯車とからなる
ことを特徴とする。請求項４の基板支持装置は、請求項
２の発明において、前記自転機構が、前記テーブルに取
付けられた外歯車と、前記テーブルが公転したときの外
歯歯車の外周の旋回軌跡に合わせたピッチ円直径を有
し、前記基板支持フレームに取付けられた内歯歯車とか
らなることを特徴とする。請求項５の基板支持装置は、
請求項１の発明において、前記反転軸に、前記一の基板
支持手段の反対側に他の一の基板支持手段を取付けたこ
とを特徴とする。
【０００６】請求項１の発明によれば、反転軸を反転さ
せると基板を下向きの蒸着位置にしたり、上向きの搬出
入位置に切換えできるので、蒸着プロセスが容易に実行
でき、かつ蒸着作業中は、基板が自転しながら公転する
ので、蒸着成分の付着がまんべんなく行われ、膜厚が均
一になり、膜品質が高くなる。また、基板を枝葉で処理
でき、しかも装置がコンパクトでクリーンである。請求
項２の発明によれば、公転アームの基部を公転機構によ
って回転させると、該アームの先端部に支持されている
テーブルが公転し、この公転運動に基づき自転機構によ
ってテーブルが自転する。このように、テーブルが公転
しながら自転することにより、基板が自公転するので、
蒸着ムラが生じず、高品質の蒸着膜が得られる。請求項
３の発明によれば、中空の反転軸の中に自公転軸を挿入
したので、コンパクトであり、自公転軸から公転アーム
への駆動力の伝達も２個の傘歯車で行えるので、動作が
確実であり、構成もコンパクトである。請求項４の発明
によれば、テーブルの自転が外歯歯車と内歯歯車の噛み
合いで生ずるので、動作が確実であり、構成もコンパク
トである。請求項５の発明によれば、基板支持手段を反
転軸の両側に有しているので、一方の基板の蒸着を終え
ると、そのまま反転させて基板の蒸着ができる。このた
め、基板１枚１枚について成膜室の開放再真空操作を要
していた従来技術に比べ、上記開放真空操作を基板２枚
毎に行えばよいので、作業能率が向上する。
せると基板を下向きの蒸着位置にしたり、上向きの搬出
入位置に切換えできるので、蒸着プロセスが容易に実行
でき、かつ蒸着作業中は、基板が自転しながら公転する
ので、蒸着成分の付着がまんべんなく行われ、膜厚が均
一になり、膜品質が高くなる。また、基板を枝葉で処理
でき、しかも装置がコンパクトでクリーンである。請求
項２の発明によれば、公転アームの基部を公転機構によ
って回転させると、該アームの先端部に支持されている
テーブルが公転し、この公転運動に基づき自転機構によ
ってテーブルが自転する。このように、テーブルが公転
しながら自転することにより、基板が自公転するので、
蒸着ムラが生じず、高品質の蒸着膜が得られる。請求項
３の発明によれば、中空の反転軸の中に自公転軸を挿入
したので、コンパクトであり、自公転軸から公転アーム
への駆動力の伝達も２個の傘歯車で行えるので、動作が
確実であり、構成もコンパクトである。請求項４の発明
によれば、テーブルの自転が外歯歯車と内歯歯車の噛み
合いで生ずるので、動作が確実であり、構成もコンパク
トである。請求項５の発明によれば、基板支持手段を反
転軸の両側に有しているので、一方の基板の蒸着を終え
ると、そのまま反転させて基板の蒸着ができる。このた
め、基板１枚１枚について成膜室の開放再真空操作を要
していた従来技術に比べ、上記開放真空操作を基板２枚
毎に行えばよいので、作業能率が向上する。
【０００７】
【発明の実施の形態】つぎに、本発明の実施形態を図面
に基づき説明する。図１は本発明の一実施形態に係る基
板支持装置の横断面図、図２は同基板支持装置の縦断面
図、図３は本発明を適用した真空成膜装置の縦断面図、
図４は図３のIV−IV線矢視平面図、図５は真空成膜装置
をクラスター配置した成膜設備の概略平面図である。
に基づき説明する。図１は本発明の一実施形態に係る基
板支持装置の横断面図、図２は同基板支持装置の縦断面
図、図３は本発明を適用した真空成膜装置の縦断面図、
図４は図３のIV−IV線矢視平面図、図５は真空成膜装置
をクラスター配置した成膜設備の概略平面図である。
【０００８】まず、図５に基づき本発明が適用された成
膜設備の一例を説明する。１は搬出入手段を内蔵した搬
送室で、外形が八角形の部屋である。八角形の各辺に対
してはゲート弁を介して、ロード室、加熱室、エッチン
グ室、真空成膜装置２を構成する成膜室３、各種処理
室、アンロード室などのプロセスチャンバが接続されて
いる。このような配置は搬送室１を中心に各プロセスチ
ャンバーが放射状に配置されており、いわゆるクラスタ
ー配置、あるいはクラスター装置と称されている。
膜設備の一例を説明する。１は搬出入手段を内蔵した搬
送室で、外形が八角形の部屋である。八角形の各辺に対
してはゲート弁を介して、ロード室、加熱室、エッチン
グ室、真空成膜装置２を構成する成膜室３、各種処理
室、アンロード室などのプロセスチャンバが接続されて
いる。このような配置は搬送室１を中心に各プロセスチ
ャンバーが放射状に配置されており、いわゆるクラスタ
ー配置、あるいはクラスター装置と称されている。
【０００９】図５において、成膜室２は２室設けられて
いるが、これに限らず、３室以上のものでも、１室のも
のでも本発明の適用は妨げられない。
いるが、これに限らず、３室以上のものでも、１室のも
のでも本発明の適用は妨げられない。
【００１０】図３および図４は、真空成膜装置２の概略
構成を示している。３は成膜室で、特許請求の範囲にい
う真空容器に相当し、側壁と底壁と天板で囲まれ密閉可
能に構成された容器である。側壁には、プラズマ源４と
ガス供給パイプ５が取付けられ、底壁上には陽極６が取
付けられている。また、成膜室３の前記搬送室１（図５
参照）と接続される側の側壁の上部には、基板を出し入
れするための搬出入口７が形成されている。
構成を示している。３は成膜室で、特許請求の範囲にい
う真空容器に相当し、側壁と底壁と天板で囲まれ密閉可
能に構成された容器である。側壁には、プラズマ源４と
ガス供給パイプ５が取付けられ、底壁上には陽極６が取
付けられている。また、成膜室３の前記搬送室１（図５
参照）と接続される側の側壁の上部には、基板を出し入
れするための搬出入口７が形成されている。
【００１１】上記のごとき基本構成を有する成膜室３内
に基板支持装置Ａが配置されている。この基板支持装置
Ａの詳細は後述するが、基本構成部品として、反転軸１
１と支持フレーム１５やテーブル２０等からなる基板支
持手段Ｂを有している。図３において、実線で示した上
向きの基板支持手段Ｂは、搬出入口７から挿入された搬
出入手段のハンドリングアームによって基板を把持、挿
入できる搬出入位置であり、想像線で示した基板支持手
段Ｂは、下向きの蒸着位置を示している。
に基板支持装置Ａが配置されている。この基板支持装置
Ａの詳細は後述するが、基本構成部品として、反転軸１
１と支持フレーム１５やテーブル２０等からなる基板支
持手段Ｂを有している。図３において、実線で示した上
向きの基板支持手段Ｂは、搬出入口７から挿入された搬
出入手段のハンドリングアームによって基板を把持、挿
入できる搬出入位置であり、想像線で示した基板支持手
段Ｂは、下向きの蒸着位置を示している。
【００１２】つぎに、図１および図２に基づき、基板支
持装置Ａの詳細を説明する。１１は中空の反転軸で、成
膜室３内の上部で水平に、回転自在に支持されている。
１２、１２は反転軸１１の両端を支持する軸受である。
１３は反転軸１１の一端に連結された反転駆動源である
モータである。このモータ１３を回転させると、反転軸
１１は自在に反転させられる。
持装置Ａの詳細を説明する。１１は中空の反転軸で、成
膜室３内の上部で水平に、回転自在に支持されている。
１２、１２は反転軸１１の両端を支持する軸受である。
１３は反転軸１１の一端に連結された反転駆動源である
モータである。このモータ１３を回転させると、反転軸
１１は自在に反転させられる。
【００１３】この反転軸１１に基板支持手段Ｂが取付け
られており、つぎのように構成されている。反転軸１１
の中央部に、箱状の取付ボックス１４が形成されてお
り、この取付ボックス１４に、支持フレーム１５の中央
部が固定されている。この支持フレーム１５は平面視で
円板状であり、成膜室３の内径より、少し小さい直径を
有している。
られており、つぎのように構成されている。反転軸１１
の中央部に、箱状の取付ボックス１４が形成されてお
り、この取付ボックス１４に、支持フレーム１５の中央
部が固定されている。この支持フレーム１５は平面視で
円板状であり、成膜室３の内径より、少し小さい直径を
有している。
【００１４】この支持フレーム１５に対し、公転アーム
１６が回転自在に取付けられている。すなわち、公転ア
ーム１６の基部１７は前記支持フレーム１５の中央部に
軸受１８によって回転自在に支持されており、この基部
１７からアーム部１９が前記反転軸１１に沿って延びて
いる。
１６が回転自在に取付けられている。すなわち、公転ア
ーム１６の基部１７は前記支持フレーム１５の中央部に
軸受１８によって回転自在に支持されており、この基部
１７からアーム部１９が前記反転軸１１に沿って延びて
いる。
【００１５】また、アーム部１９の先端の筒状部にはテ
ーブル２０が軸受２１によって回転自在に取付けられて
いる。このテーブル２０は平面視で円板状の部材であ
り、その直径は前記支持フレーム１５の直径の１／２〜
２／３位である。そして、テーブル２０の周縁にクラン
プ２２が取付けられ、基板Ｃを着脱自在に取付け得るよ
うになっている。
ーブル２０が軸受２１によって回転自在に取付けられて
いる。このテーブル２０は平面視で円板状の部材であ
り、その直径は前記支持フレーム１５の直径の１／２〜
２／３位である。そして、テーブル２０の周縁にクラン
プ２２が取付けられ、基板Ｃを着脱自在に取付け得るよ
うになっている。
【００１６】つぎに、このテーブル２０を公転させなが
ら自転させる公転機構と自転機構を説明する。まず、公
転機構を説明すると、これは自公転軸２５を有してい
る。この自公転軸２５は前記反転軸１１の中空部内を同
心状に通されており、軸受２６、２６で回転自在に支持
されている。また、その一端には回転駆動源であるモー
タ２７が連結されている。この自公転軸２５の略中央
部、すなわち取付ボックス１４内には第１傘歯車２８が
取付けられている。一方、前記公転アーム１６の基部１
７には第２傘歯車２９が取付けられており、前記第１傘
歯車２８と噛み合っている。したがって、前記モータ２
７によって自公転軸２５を回転させると、その回転が第
１傘歯車２８と第２傘歯車２９によって公転アーム１６
の回転に変換させられる。その結果、公転アーム１６
は、その基部１７を中心に回転することになる。
ら自転させる公転機構と自転機構を説明する。まず、公
転機構を説明すると、これは自公転軸２５を有してい
る。この自公転軸２５は前記反転軸１１の中空部内を同
心状に通されており、軸受２６、２６で回転自在に支持
されている。また、その一端には回転駆動源であるモー
タ２７が連結されている。この自公転軸２５の略中央
部、すなわち取付ボックス１４内には第１傘歯車２８が
取付けられている。一方、前記公転アーム１６の基部１
７には第２傘歯車２９が取付けられており、前記第１傘
歯車２８と噛み合っている。したがって、前記モータ２
７によって自公転軸２５を回転させると、その回転が第
１傘歯車２８と第２傘歯車２９によって公転アーム１６
の回転に変換させられる。その結果、公転アーム１６
は、その基部１７を中心に回転することになる。
【００１７】つぎに、自転機構を説明する。前記テーブ
ル２０の下面には、外歯歯車３１が設けられている。こ
の外歯歯車３１のピッチ円直径は、テーブル２０の直径
より少し小さい程度である。一方、前記支持フレーム１
５の上面には内歯歯車３２が設けられている。この内歯
歯車３２のピッチ円直径は支持テーブル１５の直径より
少し小さい程度であり、テーブル２０側の外歯歯車３１
のピッチ円直径よりは大きい。そして、公転アーム１６
が回転したとき、外歯歯車３１が内歯歯車３２に噛み合
って回転しながら、公転することになる。このため基板
Ｃを保持するテーブル２０が公転しながら自転すること
になる。
ル２０の下面には、外歯歯車３１が設けられている。こ
の外歯歯車３１のピッチ円直径は、テーブル２０の直径
より少し小さい程度である。一方、前記支持フレーム１
５の上面には内歯歯車３２が設けられている。この内歯
歯車３２のピッチ円直径は支持テーブル１５の直径より
少し小さい程度であり、テーブル２０側の外歯歯車３１
のピッチ円直径よりは大きい。そして、公転アーム１６
が回転したとき、外歯歯車３１が内歯歯車３２に噛み合
って回転しながら、公転することになる。このため基板
Ｃを保持するテーブル２０が公転しながら自転すること
になる。
【００１８】図２において、実線で示した状態は、基板
Ｃを載せたテーブル２０が搬出入口７に合った高さにあ
る搬出入位置であり、ハンドリングアームを搬出入口７
から挿入して、基板Ｃを出し入れすることができる。
Ｃを載せたテーブル２０が搬出入口７に合った高さにあ
る搬出入位置であり、ハンドリングアームを搬出入口７
から挿入して、基板Ｃを出し入れすることができる。
【００１９】上記の状態から反転軸１１を180 ゜回転す
るとテーブル２０と支持フレーム１５は下を向いた想像
線図示の蒸着位置となる。この状態で、自公転軸２５を
回転させつづけると、基板Ｃを保持したテーブル２０
は、公転しながら自転するので、蒸着ムラが生じず、高
品質の蒸着膜が形成される。
るとテーブル２０と支持フレーム１５は下を向いた想像
線図示の蒸着位置となる。この状態で、自公転軸２５を
回転させつづけると、基板Ｃを保持したテーブル２０
は、公転しながら自転するので、蒸着ムラが生じず、高
品質の蒸着膜が形成される。
【００２０】つぎに、本発明の他の実施形態を説明す
る。図６は本発明の他の実施形態に係る基板支持装置の
縦断面図である。この実施形態は、テーブル２０や支持
フレーム１５からなる基板支持手段Ｂを２組設け、それ
ぞれを反転軸１１に対称に取付けられている。この実施
形態では、一方のテーブル２０が上向きのとき他方のテ
ーブル２０が下向きの蒸着位置となるので、一方の基板
Ｃの蒸着を終えると、直ちに反転させて、他の基板Ｃを
蒸着できる。このため、成膜室３の開放と再真空操作が
基板２枚毎に行えばよく、従来のように基板１枚毎に行
う必要がないので、作業能率が向上する。
る。図６は本発明の他の実施形態に係る基板支持装置の
縦断面図である。この実施形態は、テーブル２０や支持
フレーム１５からなる基板支持手段Ｂを２組設け、それ
ぞれを反転軸１１に対称に取付けられている。この実施
形態では、一方のテーブル２０が上向きのとき他方のテ
ーブル２０が下向きの蒸着位置となるので、一方の基板
Ｃの蒸着を終えると、直ちに反転させて、他の基板Ｃを
蒸着できる。このため、成膜室３の開放と再真空操作が
基板２枚毎に行えばよく、従来のように基板１枚毎に行
う必要がないので、作業能率が向上する。
【００２１】
【発明の効果】請求項１の発明によれば、基板を下向き
の蒸着位置にしたり、上向きの搬出入位置に切換えでき
るので、蒸着プロセスが容易に実行でき、蒸着作業中
は、基板が自転しながら公転するので、蒸着成分の付着
がまんべんなく行われ、膜厚が均一になり、膜品質が高
くなる。また、基板を枝葉で処理でき、しかも装置がコ
ンパクトでクリーンである。請求項２の発明によれば、
公転アームを公転機構によって回転させると、テーブル
が公転し、この公転運動に基づき自転機構によってテー
ブルが自転すると、基板が自公転するので、蒸着ムラが
生じず、高品質の蒸着膜が得られる。請求項３の発明に
よれば、中空の反転軸の中に自公転軸を挿入し、自公転
軸から公転アームへの駆動力の伝達も２個の傘歯車で行
えるので、公転機構がコンパクトである。請求項４の発
明によれば、テーブルの自転が外歯歯車と内歯歯車の噛
み合いで生ずるので、自転機構がコンパクトである。請
求項５の発明によれば、基板支持手段を反転軸の両側に
有しているので、一方の基板の蒸着を終えると、そのま
ま反転させて基板の蒸着ができ、作業能率が向上する。
の蒸着位置にしたり、上向きの搬出入位置に切換えでき
るので、蒸着プロセスが容易に実行でき、蒸着作業中
は、基板が自転しながら公転するので、蒸着成分の付着
がまんべんなく行われ、膜厚が均一になり、膜品質が高
くなる。また、基板を枝葉で処理でき、しかも装置がコ
ンパクトでクリーンである。請求項２の発明によれば、
公転アームを公転機構によって回転させると、テーブル
が公転し、この公転運動に基づき自転機構によってテー
ブルが自転すると、基板が自公転するので、蒸着ムラが
生じず、高品質の蒸着膜が得られる。請求項３の発明に
よれば、中空の反転軸の中に自公転軸を挿入し、自公転
軸から公転アームへの駆動力の伝達も２個の傘歯車で行
えるので、公転機構がコンパクトである。請求項４の発
明によれば、テーブルの自転が外歯歯車と内歯歯車の噛
み合いで生ずるので、自転機構がコンパクトである。請
求項５の発明によれば、基板支持手段を反転軸の両側に
有しているので、一方の基板の蒸着を終えると、そのま
ま反転させて基板の蒸着ができ、作業能率が向上する。
【図１】本発明の一実施形態に係る基板支持装置の横断
面図である。
面図である。
【図２】同基板支持装置の縦断面図である。
【図３】本発明を適用した真空成膜装置の縦断面図であ
る。
る。
【図４】図３のIV−IV線矢視平面図である。
【図５】真空成膜装置をクラスター配置した成膜設備の
概略平面図である。
概略平面図である。
【図６】本発明の他の実施形態に係る基板支持装置の縦
断面図である。
断面図である。
１ 搬送室 ２ 真空成膜装置 ３ 成膜室 １１ 反転軸 １５ 支持フレーム １６ 公転アーム ２０ テーブル ２５ 自公転軸 ２８ 第１傘歯車 ２９ 第２傘歯車 ３１ 外歯歯車 ３２ 内歯歯車
Claims (5)
- 【請求項１】真空成膜装置の真空容器内で、基板を蒸着
位置で支持したり、搬出入位置へ移動させる支持装置で
あって、前記真空容器内の上部で、水平に、回転自在に
支持された反転軸と、前記反転軸に取付けられた、基板
を支持するための基板支持手段と、前記基板支持手段を
下向きにした蒸着位置と、上向きにした搬出入位置との
間で前記反転軸を回転させる反転駆動源と、前記基板支
持手段で支持された基板を自転させながら公転させる自
公転手段とからなることを特徴とする真空成膜装置にお
ける基板支持装置。 - 【請求項２】前記基板支持手段が、前記反転軸の中央部
に、その中央部が固定された支持フレームと、前記支持
フレームの中央部に回転自在に支持された基部と、該基
部から前記反転軸に沿って延びるアーム部からなる公転
アームとからなり、前記自公転手段が、前記公転アーム
の先端部に回転自在に支持され、蒸着されるべき基板を
支持するテーブルと、前記公転アームを回転させる公転
機構と、前記テーブルを前記公転アームの回転によって
自転させる自転機構とからなることを特徴とする請求項
１記載の真空成膜装置における基板支持装置。 - 【請求項３】前記公転機構が、前記反転軸を中空に形成
すると共に、該反転軸の内部に同心状に挿入され、回転
自在に支持された自公転軸と、該自公転軸の一端に連結
された回転駆動源と、前記自公転軸の略中央部に取付け
られた第１傘歯車と、前記公転アームの基部に取付けら
れ、前記第１傘歯車と噛み合う第２傘歯車とからなるこ
とを特徴とする請求項２記載の真空成膜装置における基
板支持装置。 - 【請求項４】前記自転機構が、前記テーブルに取付けら
れた外歯車と、前記テーブルが公転したときの外歯歯車
の外周の旋回軌跡に合わせたピッチ円直径を有し、前記
基板支持フレームに取付けられた内歯歯車とからなるこ
とを特徴とする請求項２記載の真空成膜装置における基
板支持装置。 - 【請求項５】請求項１の発明において、前記反転軸に、
前記一の基板支持手段の反対側に他の一の基板支持手段
を取付けたことを特徴とする真空成膜装置における基板
支持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10164595A JPH11350137A (ja) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | 真空成膜装置における基板支持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10164595A JPH11350137A (ja) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | 真空成膜装置における基板支持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11350137A true JPH11350137A (ja) | 1999-12-21 |
Family
ID=15796176
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10164595A Pending JPH11350137A (ja) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | 真空成膜装置における基板支持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11350137A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100653468B1 (ko) * | 2000-05-31 | 2006-12-04 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정 모듈의 반전 장치 |
| CN100500931C (zh) | 2004-04-30 | 2009-06-17 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 真空镀膜装置 |
| CN109554662A (zh) * | 2017-09-27 | 2019-04-02 | 株式会社爱发科 | 位置检测装置、位置检测方法以及蒸镀装置 |
| CN111700347A (zh) * | 2020-06-10 | 2020-09-25 | 浦江县凯帝服装装饰品有限公司 | 一种高性能水晶烫钻镀膜设备 |
| CN117116827A (zh) * | 2023-10-24 | 2023-11-24 | 苏州诚拓智能装备有限公司 | 电池片双面镀膜工艺配套用中间段收料上料系统及方法 |
-
1998
- 1998-06-12 JP JP10164595A patent/JPH11350137A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100653468B1 (ko) * | 2000-05-31 | 2006-12-04 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정 모듈의 반전 장치 |
| CN100500931C (zh) | 2004-04-30 | 2009-06-17 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 真空镀膜装置 |
| CN109554662A (zh) * | 2017-09-27 | 2019-04-02 | 株式会社爱发科 | 位置检测装置、位置检测方法以及蒸镀装置 |
| JP2019062105A (ja) * | 2017-09-27 | 2019-04-18 | 株式会社アルバック | 位置検出装置、位置検出方法、および、蒸着装置 |
| CN111700347A (zh) * | 2020-06-10 | 2020-09-25 | 浦江县凯帝服装装饰品有限公司 | 一种高性能水晶烫钻镀膜设备 |
| CN111700347B (zh) * | 2020-06-10 | 2022-11-22 | 佛山市顺德区钜泓电镀有限公司 | 一种高性能水晶烫钻镀膜设备 |
| CN117116827A (zh) * | 2023-10-24 | 2023-11-24 | 苏州诚拓智能装备有限公司 | 电池片双面镀膜工艺配套用中间段收料上料系统及方法 |
| CN117116827B (zh) * | 2023-10-24 | 2024-03-01 | 苏州诚拓智能装备有限公司 | 电池片双面镀膜工艺配套用中间段收料上料系统及方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI612165B (zh) | 成膜裝置以及成膜工件製造方法 | |
| WO1991004352A1 (fr) | Appareil de pulverisation au vide et procede de pulverisation l'utilisant | |
| JP7382836B2 (ja) | 基板処理装置及び回転駆動方法 | |
| KR20180015578A (ko) | 성막 장치, 성막 방법 및 기억 매체 | |
| JPH10139159A (ja) | カセットチャンバ及びカセット搬入搬出機構 | |
| JP5695119B2 (ja) | スパッタ装置 | |
| TWI719762B (zh) | 成膜裝置 | |
| JP7101536B2 (ja) | 成膜装置および成膜方法 | |
| JP2019153700A (ja) | 成膜方法及び成膜装置 | |
| JPWO2011007753A1 (ja) | 基板処理装置 | |
| CN220132325U (zh) | 一种薄膜沉积装置 | |
| US20020139400A1 (en) | Vertical process reactor | |
| JP3723686B2 (ja) | 薄膜製造装置 | |
| JP2024052560A (ja) | 成膜装置 | |
| JP5059269B2 (ja) | スパッタチャンバならびに真空輸送チャンバおよびこれらのチャンバを備えた真空処理装置 | |
| JPH0949079A (ja) | 成膜装置 | |
| JP4138938B2 (ja) | 多層膜形成用スパッタ装置及びその使用方法 | |
| JPH0510464U (ja) | カルーセル型スパツタリング装置 | |
| JP2024052559A (ja) | 成膜装置 | |
| JP2008291294A (ja) | 真空成膜装置 | |
| JP2002317265A (ja) | スパッタ成膜装置 | |
| JP2002184702A (ja) | 基板処理装置 | |
| TW202416440A (zh) | 成膜裝置 | |
| KR20230039537A (ko) | 기판 처리 장치 | |
| JP2004143529A (ja) | 薄膜形成装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050607 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070622 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080624 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081216 |