JPH11352088A - におい測定装置 - Google Patents

におい測定装置

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JPH11352088A
JPH11352088A JP17403598A JP17403598A JPH11352088A JP H11352088 A JPH11352088 A JP H11352088A JP 17403598 A JP17403598 A JP 17403598A JP 17403598 A JP17403598 A JP 17403598A JP H11352088 A JPH11352088 A JP H11352088A
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啓三 川本
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太生 木下
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  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 においセンサがガス濃度に対し非線形応答特
性を有する場合でも、正確なにおいの識別を行う。 【解決手段】 試料ガス中のにおい成分を捕集管22内
の吸着剤に吸着させ、次に、該捕集管22をヒータ23
により加熱しつつ窒素ガスを流し、におい成分を離脱さ
せる。捕集管22に試料ガスを流す時間を変えることに
より濃度の相違する測定ガスをにおいセンサ29a、2
9bに導入し、そのときの各センサの検出信号を取得す
る。演算処理部42は、同一試料ガスから調製される複
数の濃度の測定ガスに対する複数の検出信号を用いて主
成分分析演算を行い、その結果をPCAスコア上に濃度
依存線として表わす。そして、複数の試料ガスに対応す
る濃度依存線の位置関係に応じて、そのにおいの類似性
を判断する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガスセンサの一種
であるにおいセンサを使用して試料ガスに含まれるにお
い成分を測定するにおい測定装置に関する。本発明に係
るにおい測定装置は、食品や香料の品質検査、悪臭公害
の定量検知、焦げ臭検知による火災警報機、更には、人
物の追跡、識別、認証や薬物検査等の犯罪捜査等の幅広
い分野に利用可能である。
【0002】
【従来の技術】においセンサは、空気(又は供給された
試料ガス)中に含まれるにおい成分がセンサの感応面に
付着することにより生ずる該センサの物理的変化を電気
的(又は光学的)に測定するものである。においセンサ
としては、酸化物半導体を用いたものや導電性高分子を
用いたものが知られている。におい測定装置は、このよ
うなにおいセンサを利用して、例えば、未知のにおい物
質がどのような物質と近い臭気又は香気を有しているの
か、或いは、「焦げた臭い」「腐敗臭」といったどのよ
うなにおいの範疇に含まれるのか等の、においの識別、
分類又は位置付け等を行なうことができる。
【0003】これらにおいセンサは、その材料の種類
(例えば導電性高分子から成る感応膜を備えたにおいセ
ンサでは、その導電性高分子の種類や導電率を調整する
ために導入されるドーパントの種類等)によって、検出
可能な化合物が相違する。また一般に、においセンサは
1種類の化合物にのみ応答するのではなく、複数種類の
物質に対して応答を示す。そこで、複数の化合物が混合
したにおい物質を測定するには、応答特性の相違する複
数のにおいセンサを用い、その各においセンサから得ら
れる複数の検出信号を総合的に処理するようにしてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記処理は、例えば複
数のセンサから得られた個々の信号のレベルの絶対値
と、複数のセンサの信号レベルの比とに基づいて行われ
る。このような処理は、導電性高分子センサ等のよう
に、物質の濃度に対して出力レベルがほぼ線形である場
合には比較的正確な判別が可能である。しかしながら、
例えば金属酸化物半導体センサのようににおい成分の濃
度に対する出力が非線形である場合には、判別が困難に
なるという問題がある。
【0005】本発明はこのような点に鑑みて成されたも
のであり、その目的とするところは、濃度に対し非線形
性を有するセンサを用いる場合でも、正確ににおいの識
別処理が行えるにおい測定装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された第1の発明に係るにおい測定装置は、 a)導入された試料ガス中のにおい成分を吸着剤に吸着し
て保持した後に、加熱により該におい成分を吸着剤から
キャリアガス中に離脱させて測定ガスを調製するガス調
製手段と、 b)測定ガスを所定濃度に調製すべく、吸着時に前記ガス
調製手段に流す試料ガスの総流量若しくはそれに関連し
たパラメータ、又は離脱時に該ガス調製手段に流すキャ
リアガスの総流量若しくはそれに関連したパラメータを
設定する濃度制御手段と、 c)所定濃度に調製された測定ガス中のにおい成分を検出
する複数の検出手段と、 d)同一の試料ガスから調製された複数の濃度の相違する
測定ガスに対して前記複数の検出手段にて検出された出
力に基づいて、該試料ガスに含まれるにおい成分を特徴
付ける指標を算出する演算処理手段と、を備えることを
特徴としている。
【0007】上記課題を解決するために成された第2の
発明に係るにおい測定装置は、 a)におい成分を含む試料ガスを所定濃度に濃縮又は希釈
した測定ガスを調製するガス調製手段と、 b)前記測定ガス中のにおい成分を検出する複数の検出手
段と、 c)或る測定ガスが前記複数の検出手段に導入された際
に、各検出手段から得られた出力を基に主成分分析によ
る多変量解析演算を行う演算手段と、 d)同一の試料ガスから調製された複数の濃度の相違する
測定ガスに対して前記演算手段により得られた演算結果
を用いて、該試料ガスのにおいを識別する識別手段と、
を備えることを特徴としている。
【0008】
【発明の実施の形態】第1の発明に係るにおい測定装置
では、ガス調製手段として、例えば、吸着剤を装填した
捕集管及び吸着剤を加熱する加熱手段を含む、いわゆる
熱脱着式のガス濃縮手段を用いることができる。この構
成では、次のような手順で測定ガスを調製する。まず、
捕集管に試料ガスを流し、試料ガスに含まれるにおい成
分を吸着剤に吸着させる。充分ににおい成分が吸着した
後に、試料ガスに代えてキャリアガス(例えば窒素ガス
等)を捕集管に流すとともに加熱手段により吸着剤を加
熱する。すると、吸着されていたにおい成分は離脱して
キャリアガス中に拡散する。こうして調製された測定ガ
スは複数の検出手段に導入され、各検出手段はその測定
ガスに含まれる、対応するにおい成分に応じて検出信号
を出力する。この検出手段としては、感応膜を有し、感
応膜ににおい成分分子が付着した際に該感応膜の電気的
特性が変化するようなセンサを利用することができる。
【0009】上記ガス調製手段では、吸着作用が飽和し
ない範囲において、成分吸着時に捕集管を通過する試料
ガスの総流量と、成分離脱時に捕集管を通過するキャリ
アガスの総流量とによって測定ガスの濃度(におい成分
濃度)が決まる。そこで、濃度制御手段は、試料ガスの
総流量若しくはそれに関連したパラメータ、又はキャリ
アガスの総流量又はそれに関連したパラメータ(具体的
には、例えば試料ガスやキャリアガスの単位時間当たり
の流量や流通時間等)を適当に設定して、測定ガスの濃
度を所定値にする。同一の試料ガスから調製された複数
の濃度が相違する測定ガスの測定が実行されたとき、演
算処理手段は、各濃度毎に複数の検出手段から検出信号
を取得する。そして、これらの検出信号を基に所定の演
算を行って、その試料ガスに含まれるにおい成分を特徴
付ける指標を算出する。この演算処理としては、例え
ば、後記主成分分析等の各種の多変量解析の手法を用い
た演算処理や、ガス濃度と検出手段の出力との関係を近
似する適宜の式を用いた方法等とすることができる。
【0010】また、第2の発明に係るにおい測定装置で
は、ガス調製手段は、例えば上記第1の発明に記載のガ
ス調製手段を用いることができる。演算手段は、或る濃
度の測定ガスに対して複数の検出手段から得られる検出
信号を用いて、主成分分析(Principal Component Anal
ysis=PCA)の演算を実行する。識別手段は、同一の
におい成分を相異なる濃度でもって含む複数の測定ガス
に対して得られる複数の分析結果を基に、そのにおい成
分のにおいを識別する。例えば、主成分分析の結果得ら
れるPCAスコア上で、或る未知のにおい成分について
異なる濃度に対応して得られる点を結んだ直線又は曲線
が、他のにおい成分について異なる濃度に対応して得ら
れる点を結んだ直線又は曲線と同一線上(延長線上を含
む)に存在する場合には、両者は同一又はきわめて類似
した傾向のにおいを有していると判断する。したがっ
て、この構成では、検出手段の濃度依存性の影響を受け
ることなく、においの識別や分類を正確に行うことがで
きる。
【0011】
【実施例】以下、本発明に係るにおい測定装置の一実施
例を図を参照して説明する。図1は、本実施例のにおい
測定装置のガス流路を中心とする構成図である。
【0012】純粋な窒素ガス(N2)を充填した窒素ガ
ス容器10のガス出口に設けられた定圧バルブ11の出
口側の流路は、それぞれマスフローコントローラ等の第
1、第2流量制御部13、16及び不純物を除去するた
めのモレキュラシーブフィルタ14、17を備えた二本
の第1及び第2なる窒素ガス流路12、15に分岐され
る。除塵用のPTFEメンブレンフィルタ19を介して
試料ガス供給口18に接続された試料ガス流路と第1窒
素ガス流路12とは、三方バルブ20により選択的に六
方バルブ(6ポート2ポジションバルブ)21のポート
aに接続される。また、第2窒素ガス流路15は六方バ
ルブ21のポートdに接続されている。六方バルブ21
のポートcとポートfとの間には、加熱用のヒータ23
が付設された捕集管22が接続されている。この捕集管
22には、測定対象のにおい成分に応じて、例えばカー
ボン系吸着剤やそのほかの適宜の吸着剤が充填されてい
る。
【0013】六方バルブ21のポートbは、三方バルブ
24によって、ポンプ25及び流量計26を通過する流
路又は通過しない流路に選択的に接続され、いずれも排
出口27に連なる。六方バルブ21のポートeは、複数
のにおいセンサ29aを設置した第1フローセル28a
に接続され、その下流側出口は複数のにおいセンサ29
bを設置した第2フローセル28bに接続され、更にそ
の下流側出口は排出口30に連なっている。においセン
サ29aは、種々のにおい成分に対してそれぞれ検出感
度の相違する特性を有する導電性高分子を感応膜に利用
したにおいセンサである。一方、においセンサ29b
は、種々のにおい成分に対してそれぞれ検出感度の相違
する特性を有する金属酸化物半導体を感応膜に利用した
においセンサである。
【0014】タンク33にはポンプ32により空気供給
口31から吸引された空気が圧縮して貯蔵され、その出
口は第3流量制御部34と不純物を除去するための活性
炭フィルタ35とを介して、第2フローセル28bの入
口に接続されている。これにより、第1フローセル28
aから第2フローセル28bに流れるガスに適宜量の空
気を混合することができるようになっている。なお、空
気の代わりに、純粋な酸素ガスを混入する構成としても
よい。純粋な酸素ガスを用いれば、空気と比較して混合
する体積を遙かに減らすことができるので、におい成分
が希釈される割合が小さく、においセンサ29bによる
検出の感度の向上に有利である。
【0015】六方バルブ21、第1、第2フローセル2
8a、28b全体は恒温槽36内に設置されており、恒
温槽36は温度調整部37により所定温度に制御可能と
なっている。また、上記複数のにおいセンサ29a、2
9bの検出信号は、におい成分の識別、分類等の処理を
行なう信号処理部40に入力されている。信号処理部4
0は、各においセンサ毎にアナログ検出値をデジタル値
に変換するA/D変換部41と、後述のように多変量解
析の一手法である主成分分析演算を実行する演算処理部
42と、その演算結果に基づいてにおい成分のにおいを
判別するにおい識別部43とを含んでいる。制御部38
は、所定のプログラムに従って後述のように、三方バル
ブ20、24、六方バルブ21、ポンプ25、32、ヒ
ータ23、温度調整部37、信号処理部40等を制御す
る機能を有しており、その制御等に必要な情報を外部か
ら設定するために操作部39が付設されている。
【0016】次に、上記におい測定装置において、或る
試料ガスに対してセンサ出力(においセンサ29a、2
9bの検出信号)を取得する際の各部の動作を測定順序
に従って詳述する。
【0017】(i)におい成分の捕集 まず、制御部38は、試料ガス供給口18と六方バルブ
21のポートaとが接続されるように三方バルブ20を
切り替えるとともに、六方バルブ21のポートbがポン
プ25に接続されるように三方バルブ24を切り替え
る。また、図1に破線で示す接続状態に六方バルブ21
を切り替え、ポンプ25を作動させる。すると、ポンプ
25の吸引力により、試料ガス供給口18から吸引され
た試料ガスはメンブレンフィルタ19にて塵芥等の比較
的大きな固形浮遊物が除去され、三方バルブ20及び六
方バルブ21を介して捕集管22に導入され(図1中の
左から右方向)、更に、六方バルブ21、三方バルブ2
4、ポンプ25、流量計26を通って排出口27から排
出される。このときヒータ23による加熱は行なわな
い。
【0018】窒素ガス容器10のガス出口のガス圧は排
出口30のガス圧よりも高いので、第2窒素ガス流路1
5を通して供給される窒素ガスは六方バルブ21を介し
て第1、第2フローセル28a、28bに流通し、排出
口30から外部に排出される。これにより、においセン
サ29a、29bは常時窒素ガス雰囲気中に保持され
る。なお、このときフローセル28b側には、タンク3
3から送出した空気を上記窒素ガスに混入して流すよう
にしてもよい。
【0019】上述のように試料ガスが捕集管22を通過
すると、試料ガスに含まれるにおい成分は吸着剤に吸着
される。このとき、吸着剤に吸着されるにおい成分の量
は、吸着能力が飽和しない範囲では、捕集管22を通過
する試料ガスの総流量にほぼ比例する。したがって、単
位時間当たりの流量が一定である条件下では試料ガスの
流通時間にほぼ比例し、流通時間を一定とする条件下で
は単位時間当たりの流量にほぼ比例することになる。し
かしながら、実際には、単位時間当たりの流量が或る程
度多くなると、におい成分分子が吸着表面に接触せずに
通過してしまう可能性があるので、流通時間を変えるほ
うが吸着されるにおい成分の量をより正確に制御するこ
とができる。そこで、本実施例では、制御部38は、流
量計26による検出値が所定の一定値となるようにポン
プ25の吸引力を制御し、操作部39により設定された
総流量又はそれに準じたパラメータに応じて試料ガスの
流通時間を変えるようにする。
【0020】(ii)捕集管内のガスの置換 上記流通時間が経過すると、制御部38は、三方バルブ
20を切り替えて第1窒素ガス流路12を六方バルブ2
1のポートaに接続するとともに、三方バルブ24を切
り替えて六方バルブ21のポートbを直接排出口27に
接続する。すると、試料ガスに代わって、窒素ガス容器
10より供給された窒素ガスが、第1窒素ガス流路12
−三方バルブ20−六方バルブ21−捕集管22−六方
バルブ21−三方バルブ24を通り、排出口27から排
出される。これにより、捕集管22を含む流路内部に残
っている試料ガスは、窒素ガスにより外部へ押し出され
る。このとき、ヒータ23による加熱は行われないの
で、先に吸着剤に吸着されたにおい成分はそのまま残
る。その一方、窒素ガスは極めて乾燥しているので、吸
着剤に吸着されている水や流路内壁に付着している水分
はその大部分が窒素ガス中に揮散して外部に運び去ら
れ、これにより一定程度までの除湿が達成される。
【0021】(iii)においセンサへのにおい成分の導
入 適宜の時間、捕集管22に窒素ガスを流通させた後、制
御部38は、六方バルブ21を図1に実線で示す接続状
態に切り替える。すると、第2窒素ガス流路15−六方
バルブ21−捕集管22−六方バルブ21−第1フロー
セル28a−第2フローセル28b−排出口30という
流路が形成される。この状態でヒータ23に通電し、捕
集管22を急速に(例えば10℃/秒程度の温度上昇速
度で)加熱する。これにより、捕集管22内の吸着剤に
吸着していたにおい成分は吸着剤から離脱し、それ以前
とは逆方向(図1中で右から左方向)に流通する窒素ガ
スに乗って第1フローセル28aまで運ばれる。ここ
で、捕集管22の加熱を開始した後、吸着剤からにおい
成分が殆ど離脱し終わるまでの期間に捕集管22を通過
する窒素ガスの総流量が、上記(i)において捕集管2
2を通過した試料ガスの総流量よりも少なければ、第1
フローセル28aに導入される測定ガスの濃度(におい
成分濃度)は上記試料ガスの濃度よりも高くなる。すな
わち、たとえ吸着剤に吸着されたにおい成分の量が同じ
であっても、におい成分の離脱時の窒素ガスの総流量を
変えることにより第1フローセル28aに導入される測
定ガスの濃度は変わる。そこで、ここでは、上記試料ガ
スの流通時間によってのみ測定ガスの濃度が変わるよう
にするために、窒素ガスの単位時間当たりの流量及びそ
の流通時間は常に一定に維持する。
【0022】また、捕集管22の温度が変化すると流路
抵抗が変化するが、第2流量制御部16に例えば機械制
御式の二次圧変動型マスフローコントローラを使用する
と、出口側つまり上記流路の流路抵抗が変動しても通過
する窒素ガスの流量を一定に保つことができる。なお、
このマスフローコントローラが正常に動作するために
は、その入口側圧力と出口側圧力との差圧が一定以上確
保される必要があるので、この差圧が確実に得られるよ
うに、定圧バルブ11の設定圧力、管路の内径、第3流
量制御部34を介して混入する空気の流量等を定めるよ
うにする。これにより、窒素ガスの流量は正確に制御さ
れ、また空気の混入箇所から第1フローセル28a側に
混合ガスが逆流することもない。
【0023】このようにして測定ガスが第1フローセル
28aを通ると、においセンサ29aの導電性高分子か
ら成る感応膜ににおい成分が吸着され、においセンサ2
9aの電極間の電気抵抗が変化する。この抵抗変化によ
る検出信号は信号処理部40に送られる。
【0024】タンク33に貯蔵されている空気は、第3
流量制御部34により適宜の流量に調節され、活性炭フ
ィルタ35により測定の外乱となる不所望の成分が除去
された後に、第1フローセル28aを通過した測定ガス
に混入される。空気には酸素ガスが含まれているから、
第2フローセル28bにはにおい成分とともに酸素ガス
が流入し、金属酸化物半導体から成る感応膜に酸素ガス
分子が吸着され、におい成分の分子との間で酸化還元反
応を生じる。これにより、においセンサ29bの導電性
が変化し、その電極間の電気抵抗が変化する。この抵抗
変化による検出信号も信号処理部40に送られる。
【0025】こうした測定の期間中、六方バルブ21、
第1、第2フローセル28a、28bとこれらの間を連
結する流路は、温度調整部37により室温よりもやや高
い一定温度(例えば40℃程度)に維持される。これに
より、周囲温度の変動によるにおいセンサ29a、29
bの受ける影響を軽減するとともに、高沸点化合物が流
路内壁等に付着して検出感度の安定性が損なわれること
を防止することができる。
【0026】複数のにおいセンサ29a、29bはそれ
ぞれ異なる選択性や応答特性を有しているので、例え
ば、或るにおい成分に対して或るにおいセンサからは大
きな検出信号が得られ、他のにおいセンサからは全く検
出信号が得られないということがある。そこで、信号処
理部40では、上述のようにして得られる複数の検出信
号を用いて多変量解析処理を行なうことにより、そのに
おいを総合的に識別又は分類する。多変量解析の手法は
種々知られているが、ここでは後述のように主成分分析
(PCA)を用いる。
【0027】(iv)においセンサの清浄化 上述のように捕集管22の吸着剤に吸着されているにお
い成分を十分に離脱させたならば、制御部38は、六方
バルブ21を再び図1に破線で示す接続状態に切り替
え、温度調整部37により恒温槽36の温度を所定温度
まで上昇させる。これにより、第1、第2フローセル2
8a、28bには清浄な窒素ガスが流通する。においセ
ンサ29a、29bの温度が上昇すると、その感応膜に
吸着されていたにおい成分やその他の不純物が離脱し易
くなり、窒素ガスに乗って排出口30から排気される。
その結果、においセンサ29a、29bの感応膜は回復
し、再びにおい成分を検出可能な状態に戻る。
【0028】次に、上記におい測定装置において、或る
1種類の試料ガスの測定を行う際の手順の一例を図2の
フローチャートに沿って説明する。まず、測定者は操作
部39より、相異なる3点の濃度を適宜に指定する。こ
の濃度の点数はこれに限るものではなく、また濃度を指
定する代わりに、濃度に対応する他のパラメータ(試料
ガスの流通総流量や試料ガスの流通時間等)を直接入力
するようにしてもよい。ここでは、濃度としてP
〔%〕、P×2、P×4の3点を指定するものとする。
なお、本実施例では、測定ガスが第1フローセル28a
を通過した後に空気(又は酸素ガス)が混入されるた
め、厳密には、第2フローセル28bを通過する時点で
は測定ガスの濃度は低下することになるが、窒素ガスの
流量が空気の流量よりも十分に大きければ、この濃度低
下は無視することができる。また、そうでない場合であ
っても、空気の流量を一定に維持しておけば、第1フロ
ーセル28aから第2フローセル28bに流れる間での
濃度の変化量を算出することができるので、上述のよう
に指定される濃度がいずれのフローセルを通過する時点
のものであっても対応することができる。以下の説明で
は、混合される空気の流量は少なく、測定ガスの濃度が
変化しないと看做せるものとする。
【0029】制御部38は上記指定を受けて、所定の計
算式に基づいてそれらの濃度に対応する試料ガス流通時
間を算出する。上述のように、試料ガスの単位時間当た
りの流量及びにおい成分離脱時の窒素ガスの総流量を一
定にすれば、測定ガスの濃度は試料ガス流通時間に比例
するので、各濃度に対応した流通時間はt〔秒〕、t×
2、t×4と求まる。
【0030】測定が開始されると、制御部38は、まず
成分吸着時の試料ガス流通時間をtに設定し(ステップ
S1)、上述のような順序でもって一連の測定を実行す
る(ステップS2)。これにより、第1及び第2フロー
セル28a、28bに濃度Pの測定ガスが流れるから、
演算処理部42は、A/D変換部41を介して各におい
センサ29a、29bから得られる検出信号を取得し、
それらを内部のメモリに一旦記憶する(ステップS
3)。
【0031】第1回目の測定においてにおいセンサ29
a、29bの清浄化が終了したならば、制御部38は、
次に成分吸着時の試料ガス流通時間をt×2に設定して
同様の測定を実行する(ステップS4、S5)。これに
より、第1及び第2フローセル28a、28bに濃度P
×2の測定ガスが流れるから、演算処理部42はこのと
き各においセンサ29a、29bから得られた検出信号
を内部のメモリに記憶する(ステップS6)。第2回目
の測定後、成分吸着時の試料ガス流通時間をt×4に設
定して同様の測定を実行し、演算処理部42は、濃度P
×4の測定ガスに対する検出信号を取得して内部のメモ
リに記憶する(ステップS7〜S9)。このようにし
て、濃度P、P×2、P×4の測定ガスに対する各にお
いセンサ29a、29bの検出信号が得られる。
【0032】演算処理部42は、各濃度毎に、複数のに
おいセンサ29a、29bから得られた検出信号を用い
て主成分分析の演算処理を実行する(ステップS1
0)。主成分分析は、多数の変数(次に述べる図3の例
では6個)をより少数の指標値(ここでは3個)でもっ
て表わすようにするもので、詳しくは、宮下芳勝、佐々
木慎一著「ケモメトリックス」共立出版(1995年)
等の文献にその方法が記載されている。また、主成分分
析の演算処理をパーソナルコンピュータやワークステー
ション上で行うためのソフトウェアは種々のものが入手
可能であり、例えば、SPSS(Statistical Packages
for Social Sciences)(エス・ピー・エス・エス(株)
社発売)等がよく知られている。
【0033】上記指標値(ファクタ)を3個とした場
合、主成分分析の結果は、図3に示すような3本のファ
クタ軸を有するグラフ(PCAスコア)上での点(以下
「スコア点」と呼ぶ)の位置として表わすことができ
る。したがって、上述のように同一試料ガスから調製し
た3つの濃度の測定ガスに対し測定及び処理を行うと、
PCAスコアには、通常、互いに離れた3つの位置にそ
れぞれのスコア点が現れる。なお、演算処理部42は、
ステップS9までの測定が終了するのを待つ必要はな
く、第1、第2回目の測定で各濃度に対する検出信号が
得られた時点で、その濃度に対する主成分分析の演算処
理を開始することができる。
【0034】全ての主成分分析演算処理が終了した後、
その演算結果を用いてにおい成分の識別処理を行う(ス
テップS11)。以下、A、B、Cなる3種類の試料ガ
スを上記におい測定装置により測定した例を用いて、本
実施例のにおい識別部43でのにおいの識別方法を説明
する。この例では、上記構成の第2フローセル28bに
設置した金属酸化物半導体から成る感応膜を有する6個
のにおいセンサ29bでもって、P、P×2、P×4の
3点の濃度に調製した測定ガスの測定を行っている。ま
た、測定のばらつきを考慮して、同一試料ガスで同一濃
度とした測定をそれぞれ3回ずつ行っている。
【0035】図3はこの測定による得られたPCAスコ
アを示しており、図3中で例えば(A,P)は、試料ガ
スAから調製された濃度Pの測定ガスに対する主成分分
析の結果を示すスコア点である。PCAスコアでは、互
いに近い関係にあるものはスコア点間の距離が短い。図
3に明らかなように、同一試料ガスで同一濃度である3
回の測定に対応したスコア点は、いずれもきわめて近い
位置にある。図3中では、これらを同一の楕円状枠で囲
って示している。一方、同一試料ガスで異なる濃度の測
定に対応したスコア点はそれぞれ離れて位置している。
そこで、図3中に1点鎖線で示したように、この互いに
離れたスコア点を結ぶ線(以下「濃度依存線」と呼ぶ)
を描く。図3では、試料ガスA、B、Cに対する濃度依
存線をそれぞれa、b、cとしている。
【0036】におい識別部43は、この濃度依存線の位
置関係に基づいて、においの類似性を判断する。例え
ば、或る2種類の試料ガスの濃度依存線がほぼ同一線上
に乗っている場合には、それらは同一傾向又は同一範疇
のにおいを有していると判断できる。また、同一線上で
なくとも、ほぼ平行移動した方向を向いており且つ距離
が近い場合には、比較的近い傾向のにおいであると判断
することができる。逆に、2本の濃度依存線の距離が大
きく離れていたり、交差角度が大きかったりする場合に
は、異なる傾向のにおいであると判断することができ
る。図3の例の場合、濃度依存線a、b、cは互いに離
れているので、この3種類の試料ガスA、B、C(又は
それに含まれるにおい成分)はいずれも異なる傾向のに
おいを有していると判断することができる。
【0037】このようなにおいの類似性の判断は、一般
的に、においセンサの数が多いほど、また選択性の強い
においセンサを用いるほど、より精緻に行うことができ
る。例えば、比較的選択性の低い(つまり複数の同種類
の成分に対して同じような応答特性を有する)においセ
ンサを用いた場合、2種類の試料ガスの濃度依存線が同
一線上にあったとき、同一傾向のにおいであると判断す
ることは可能であるが、その成分自体が全く同一である
と判断することは困難である。しかしながら、選択性の
高い(つまり或る1種類の特定成分に対して特に強い応
答特性を有する)においセンサを用いた場合には、2種
類の試料ガスの濃度依存線が同一線上にあったとき、同
一のにおい成分を含んでいる可能性が高いと判断するこ
とができる。
【0038】なお、図3の例では、濃度依存線a、b、
cはいずれもほぼ直線となっているが、必ずしも直線に
なるとは限らない。したがって、同一試料ガスに対して
3点以上の測定濃度を設定することが望ましい。以上の
ようにして、本実施例のにおい測定装置では、PCAス
コア上での濃度依存線の位置関係に基づいて、その試料
ガスのにおいを識別することができる。
【0039】次に、上述のように同一試料ガスから調製
された複数の濃度の相違する測定ガスに対してにおいセ
ンサで得られる検出信号を用い、においセンサの非線形
な濃度依存性を補正して正確なにおい識別を行うための
他の処理方法を説明する。図4はこの方法の概念を示す
図である。各においセンサの濃度依存性、つまり濃度と
検出信号との関係は、既に知られている近似式で表わす
ことができる筈である。この近似式はにおい成分の種類
等に依存する定数を含んでいるから、図4に示すように
複数の濃度における検出信号を与えることにより、その
近似式を解いて(つまり図4中の破線カーブで示すよう
な近似式を確定させて)定数を求める。そして、複数の
試料ガスに対して算出した定数を比較することにより、
においの識別を行う。
【0040】このような目的のために、既に提案されて
いる各種近似式が利用できる。例えば、クリフォード
(P.K.Clifford)らは、センサーズ・アンド・アクチュ
エータズ・3〔1982/83年〕(Sensors and Actu
ators 3)に掲載の「キャラクタリスティクス・オブ・
セミコンダクタ・ガス・センサーズ・ワン.ステディ・
ステート・ガス・レスポンス(Characteristics of sem
iconductor gas sensorsI. Steady state gas respons
e)」において、金属酸化物半導体センサに対して次の
(1)の近似式を提案している。 (R/R0)-(1/k)=(1+K・Gn )/O …(1) ここで、Rはセンサ抵抗(検出値)、R0は空気雰囲気
中のセンサ抵抗(初期値)、Gは測定ガス濃度、Oは酸
素ガス濃度、k、K及びnは定数である。
【0041】初期センサ抵抗R0は予備実験等により測
定しておくことができ、酸素ガス濃度Oは混入する空気
又は酸素ガスの流量に依存しているから、これらの数値
は既知である。そこで、測定ガス濃度Gとそのときのセ
ンサ抵抗Rの値とを上記(1)式に代入して解けば、未知
である定数k、K及びnを算出することができる。
【0042】また、他の近似式の例としては、スリバス
タバ(Rajeev K. Srivastava)らが、センサーズ・アン
ド・アクチュエータズ・B21〔1994年〕(Sensor
s and Actuators B21)に掲載の「センシング・メカニ
ズム・イン・ティン・オキサイド−ベースト・シック−
フィルム・ガス・センサーズ(Sensing mechanism inti
n oxide-based thick-film gas sensors)」において提
案している次の(2)式がある。 Log(R/R0)=−BGb …(2) ここで、R、R0、Gは上記(1)式と同じ定義であり、B
及びbが定数である。
【0043】利用できる近似式は上記例に限るものでは
なく、使用するセンサの種類等毎に最適な近似式を使用
することが望ましい。また、このような近似式において
定数の数が多い場合でも、その定数の全てがにおい成分
の種類に依存するものとは限らない。したがって、定数
の一部を或る値に固定してよい場合もあるので、近似式
が複雑であっても測定濃度の点数を増やす必要があると
は限らない。また、或る近似式は所定のガス濃度の範囲
においてのみ適用可能であるという場合がある。そのよ
うな場合には、始めに操作部39から指定可能な測定濃
度の範囲を限定するようにしておくとよい。
【0044】なお、上記実施例は一例であって、本発明
の趣旨の範囲で適宜変形や修正を行なえることは明らか
である。例えば、(2)式の右辺の代わりに、Gh/(1+
h)、又は、{G/(1+G)}h (hは定数)を用
いることもできる。また上記実施例では、測定ガスの濃
度を変えるために試料ガス流通時間を変えるようにして
いるが、既に述べたように、他のパラメータを変更する
ことにより、測定ガスの濃度を設定された値にすること
もできる。
【0045】
【発明の効果】以上説明したように、第1の発明に係る
におい測定装置では、複数の検出手段(においセンサ)
の前段に捕集手段(捕集管)を設置し、成分吸着時に該
捕集管に流す試料ガスの総流量、或いは成分離脱時に該
捕集管に流すキャリアガスの総流量を制御することによ
り、検出手段に導入する測定ガス中のにおい成分の濃度
が所定値になるようにし、同一試料ガスから調製した複
数の濃度の相違する測定ガスをそれぞれ検出手段に導入
したときに各検出手段で得られる出力に基づいてにおい
の識別を行うようにしている。このため、複数の濃度を
設定して測定を行う際に、検出手段に導入する測定ガス
の濃度を正確にすることができ、検出手段の出力の濃度
依存性を正確に取得することができる。この結果、にお
いの識別をより正確に行うことができる。
【0046】また、測定ガスの濃度を調整するために、
例えば、成分吸着時に捕集管に試料ガスを流す時間や成
分離脱時に捕集管にキャリアガスを流す流量等を制御す
ればよいので、濃度の調整が容易であって、自動測定に
も適する。したがって、測定の際に煩雑な操作が不要に
なり、効率的な測定が行える。なお、捕集管をにおい測
定部と一体に組み込むことにより、省スペースも図れ
る。
【0047】第2の発明に係るにおい測定装置では、同
一試料ガスから調製した複数の濃度の相違する測定ガス
をそれぞれ検出手段に導入したときに各検出手段で得ら
れる出力を用いて主成分分析を行い、各試料ガスの特徴
を例えばPCAスコア上の濃度依存線として算出し、こ
れを比較することによりその試料ガスのにおいの特徴付
けを行っている。したがって、検出手段の出力の濃度依
存性が非線形を有していても、その影響を受けることな
く、正確ににおいの識別、分類等を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例であるにおい測定装置の構
成図。
【図2】 このにおい測定装置での測定手順を示すフロ
ーチャート。
【図3】 主成分分析の結果の一例を示すPCAスコア
を示す図。
【図4】 ガス濃度とにおいセンサの出力との関係を示
す近似式を用いたにおい識別処理方法の概念図。
【符号の説明】
10…窒素ガス容器 11…定圧バルブ 12、15…窒素ガス流路 13、16、34…流量制御部 18…試料ガス供給口 20、24…三方バルブ 21…六方バルブ 22…捕集管 23…ヒータ 25、32…ポンプ 26…流量計 27、30…排出口 28a、28b…フローセル 29a…においセンサ(導電性高分子) 29b…においセンサ(金属酸化物半導体) 31…空気供給口 33…タンク 36…恒温槽 37…温度調整部 38…制御部 39…操作部 40…信号処理部 41…A/D変換部 42…演算処理部 43…におい識別部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中野 博司 京都市中京区西ノ京桑原町1番地 株式会 社島津製作所三条工場内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 a)導入された試料ガス中のにおい成分を
    吸着剤に吸着して保持した後に、加熱により該におい成
    分を吸着剤からキャリアガス中に離脱させて測定ガスを
    調製するガス調製手段と、 b)測定ガスを所定濃度に調製すべく、吸着時に前記ガス
    調製手段に流す試料ガスの総流量若しくはそれに関連し
    たパラメータ、又は離脱時に該ガス調製手段に流すキャ
    リアガスの総流量若しくはそれに関連したパラメータを
    設定する濃度制御手段と、 c)所定濃度に調製された測定ガス中のにおい成分を検出
    する複数の検出手段と、 d)同一の試料ガスから調製された複数の濃度の相違する
    測定ガスに対して前記複数の検出手段にて検出された出
    力に基づいて、該試料ガスに含まれるにおい成分を特徴
    付ける指標を算出する演算処理手段と、 を備えることを特徴とするにおい測定装置。
  2. 【請求項2】 a)におい成分を含む試料ガスを所定濃度
    に濃縮又は希釈した測定ガスを調製するガス調製手段
    と、 b)前記測定ガス中のにおい成分を検出する複数の検出手
    段と、 c)或る測定ガスが前記複数の検出手段に導入された際
    に、各検出手段から得られた出力を基に主成分分析によ
    る多変量解析演算を行う演算手段と、 d)同一の試料ガスから調製された複数の濃度の相違する
    測定ガスに対して前記演算手段により得られた演算結果
    を用いて、該試料ガスのにおいを識別する識別手段と、 を備えることを特徴とするにおい測定装置。
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004093447A (ja) * 2002-09-02 2004-03-25 Shimadzu Corp におい測定装置
US6834530B2 (en) 2002-02-19 2004-12-28 Shimadzu Corporation Odor measuring apparatus
JP2005241642A (ja) * 2004-02-23 2005-09-08 Alpha Mos 匂いの強度の測定
JP2006017467A (ja) * 2004-06-30 2006-01-19 Shimadzu Corp におい特定装置
US7096715B2 (en) 2003-08-29 2006-08-29 Shimadzu Corporation Odor discriminating apparatus
JP2007040725A (ja) * 2005-08-01 2007-02-15 Shimadzu Corp ガスクロマトグラフ
JP2008008788A (ja) * 2006-06-29 2008-01-17 Shimadzu Corp におい識別装置
JP2009156768A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Shimadzu Corp 臭気測定装置
JP2010216851A (ja) * 2009-03-13 2010-09-30 Olympus Corp 物質検出システム
WO2018207592A1 (ja) * 2017-05-11 2018-11-15 パナソニック株式会社 ガスの分析方法及びガスの分析装置
KR102031900B1 (ko) * 2018-10-12 2019-10-15 한국화학연구원 화학 물질 검출용 반도체형 센서, 검출 방법 및 검출 시스템
CN115298533A (zh) * 2020-04-02 2022-11-04 爱沛股份有限公司 气味检测系统、气味检测方法以及程序

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4368083B2 (ja) 1999-08-19 2009-11-18 ピュアデプス リミテッド 積層スクリーンを有する可視ディスプレイの奥行き移動の制御
NZ511444A (en) 2001-05-01 2004-01-30 Deep Video Imaging Ltd Information display
NZ517713A (en) 2002-06-25 2005-03-24 Puredepth Ltd Enhanced viewing experience of a display through localised dynamic control of background lighting level
NZ525956A (en) 2003-05-16 2005-10-28 Deep Video Imaging Ltd Display control system for use with multi-layer displays
NZ542843A (en) 2005-10-05 2008-08-29 Pure Depth Ltd Method of manipulating visibility of images on a volumetric display
US8432411B2 (en) 2007-05-18 2013-04-30 Pure Depth Limited Method and system for improving display quality of a multi-component display
US9524700B2 (en) 2009-05-14 2016-12-20 Pure Depth Limited Method and system for displaying images of various formats on a single display
US8928682B2 (en) 2009-07-07 2015-01-06 Pure Depth Limited Method and system of processing images for improved display
JP6612802B2 (ja) 2017-03-21 2019-11-27 株式会社東芝 分子検出装置および分子検出方法

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6834530B2 (en) 2002-02-19 2004-12-28 Shimadzu Corporation Odor measuring apparatus
JP2004093447A (ja) * 2002-09-02 2004-03-25 Shimadzu Corp におい測定装置
US7096715B2 (en) 2003-08-29 2006-08-29 Shimadzu Corporation Odor discriminating apparatus
EP1510818A3 (en) * 2003-08-29 2006-12-27 Shimadzu Corporation Odor discriminating apparatus
JP2005241642A (ja) * 2004-02-23 2005-09-08 Alpha Mos 匂いの強度の測定
JP2006017467A (ja) * 2004-06-30 2006-01-19 Shimadzu Corp におい特定装置
JP2007040725A (ja) * 2005-08-01 2007-02-15 Shimadzu Corp ガスクロマトグラフ
JP2008008788A (ja) * 2006-06-29 2008-01-17 Shimadzu Corp におい識別装置
JP2009156768A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Shimadzu Corp 臭気測定装置
JP2010216851A (ja) * 2009-03-13 2010-09-30 Olympus Corp 物質検出システム
WO2018207592A1 (ja) * 2017-05-11 2018-11-15 パナソニック株式会社 ガスの分析方法及びガスの分析装置
CN110612440A (zh) * 2017-05-11 2019-12-24 松下电器产业株式会社 气体的分析方法和气体的分析装置
JPWO2018207592A1 (ja) * 2017-05-11 2020-03-12 パナソニック株式会社 ガスの分析方法及びガスの分析装置
US12306157B2 (en) 2017-05-11 2025-05-20 Panasonic Holdings Corporation Method for analyzing gas and device for analyzing gas
KR102031900B1 (ko) * 2018-10-12 2019-10-15 한국화학연구원 화학 물질 검출용 반도체형 센서, 검출 방법 및 검출 시스템
CN115298533A (zh) * 2020-04-02 2022-11-04 爱沛股份有限公司 气味检测系统、气味检测方法以及程序

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