JPH11352505A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JPH11352505A JPH11352505A JP10164809A JP16480998A JPH11352505A JP H11352505 A JPH11352505 A JP H11352505A JP 10164809 A JP10164809 A JP 10164809A JP 16480998 A JP16480998 A JP 16480998A JP H11352505 A JPH11352505 A JP H11352505A
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- wiring
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 検査用に設けたラインパターンを検査終了後
においてレーザー光で切断する際にラインパターン構成
材が飛散するが、そのラインパターン構成材によって隣
接ショートが生じることを抑制する液晶表示装置を提供
する。 【解決手段】 液晶画面領域５の外側に形成した走査信
号配線用の検査用配線８ａと走査信号配線２とがライン
パターン９ａを介して接続され、同様に映像信号配線用
の検査用配線８ｂと映像信号配線３とがラインパターン
９ｂを介して接続され、検査用電極端子１０ａ，１０ｂ
を利用して液晶表示装置の検査を行った後に、レーザー
光照射によりラインパターン９ａ，９ｂを切断するが、
ラインパターン９ａ，９ｂに細幅部分９ａ1 ，９ｂ1 を
形成しておき、その細幅部分９ａ1 ，９ｂ1 において切
断するように構成してある。
においてレーザー光で切断する際にラインパターン構成
材が飛散するが、そのラインパターン構成材によって隣
接ショートが生じることを抑制する液晶表示装置を提供
する。 【解決手段】 液晶画面領域５の外側に形成した走査信
号配線用の検査用配線８ａと走査信号配線２とがライン
パターン９ａを介して接続され、同様に映像信号配線用
の検査用配線８ｂと映像信号配線３とがラインパターン
９ｂを介して接続され、検査用電極端子１０ａ，１０ｂ
を利用して液晶表示装置の検査を行った後に、レーザー
光照射によりラインパターン９ａ，９ｂを切断するが、
ラインパターン９ａ，９ｂに細幅部分９ａ1 ，９ｂ1 を
形成しておき、その細幅部分９ａ1 ，９ｂ1 において切
断するように構成してある。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アクティブマトリ
クス型の液晶表示装置にかかわり、特には製造過程にお
ける表示品質の検査の技術に関するものである。
クス型の液晶表示装置にかかわり、特には製造過程にお
ける表示品質の検査の技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図３は液晶表示装置のアクティブマトリ
クス基板の構成を示す。図３において、符号の１はガラ
ス基板、２はガラス基板１上で横方向に沿って複数形成
された走査信号配線、３はガラス基板１上で縦方向に沿
って複数形成されたＲ，Ｇ，Ｂの映像信号配線、４はそ
れらの配線２，３が交差する位置の一つ一つの液晶セル
に対応して両配線２，３に接続された薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ；図示省略）を介してガラス基板１上に形成さ
れた画素電極、５は多数の画素電極４群からなる矩形の
液晶画面領域、６はガラス基板１上に配置されたゲート
実装電極領域、７はガラス基板１上に配置されたソース
実装電極領域である。
クス基板の構成を示す。図３において、符号の１はガラ
ス基板、２はガラス基板１上で横方向に沿って複数形成
された走査信号配線、３はガラス基板１上で縦方向に沿
って複数形成されたＲ，Ｇ，Ｂの映像信号配線、４はそ
れらの配線２，３が交差する位置の一つ一つの液晶セル
に対応して両配線２，３に接続された薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ；図示省略）を介してガラス基板１上に形成さ
れた画素電極、５は多数の画素電極４群からなる矩形の
液晶画面領域、６はガラス基板１上に配置されたゲート
実装電極領域、７はガラス基板１上に配置されたソース
実装電極領域である。
【０００３】このような液晶表示装置のアクティブマト
リクス基板の製造工程では、ダストによるパターニング
異常や静電気等による素子破壊など様々な原因で不良が
発生する可能性がある。不良パネルを出さないことがコ
ストの削減、生産性向上のために不可欠である。そのた
め、製造工程において液晶駆動用ＬＳＩドライバに実装
する電極の全数に検査用プローブ電極を接触させて検査
を実施するようにしている。しかし、近年、表示品位の
向上のため高精細化が進んでおり、画素数が増加する傾
向にあり、液晶駆動用ＬＳＩドライバの実装電極間隔は
狭くなり、製造過程で複数回の検査をするための検査用
プローブ電極の接触間隔も狭くなっている。その結果と
して、映像信号配線や走査信号配線の一本一本にプロー
ブ電極を接触する構成とすることは、その作製費用の高
騰、作製期間の長時間化、プローブ電極の接触の安定性
やプローブ電極の保守などの困難性をもたらすようにな
る。特に、液晶駆動用ＬＳＩドライバをガラス基板１の
上に直接的に実装するチップオングラス（ＣＯＧ）方式
を用いた液晶表示装置の場合には、電極パッドへの直接
のコンタクトは不可能である。そのため、新たな検査用
プローブの開発が必要となるが、開発費の抑制、開発期
間の短縮、簡易な信号かつ簡易なプローブで検査できる
ことが望まれている。
リクス基板の製造工程では、ダストによるパターニング
異常や静電気等による素子破壊など様々な原因で不良が
発生する可能性がある。不良パネルを出さないことがコ
ストの削減、生産性向上のために不可欠である。そのた
め、製造工程において液晶駆動用ＬＳＩドライバに実装
する電極の全数に検査用プローブ電極を接触させて検査
を実施するようにしている。しかし、近年、表示品位の
向上のため高精細化が進んでおり、画素数が増加する傾
向にあり、液晶駆動用ＬＳＩドライバの実装電極間隔は
狭くなり、製造過程で複数回の検査をするための検査用
プローブ電極の接触間隔も狭くなっている。その結果と
して、映像信号配線や走査信号配線の一本一本にプロー
ブ電極を接触する構成とすることは、その作製費用の高
騰、作製期間の長時間化、プローブ電極の接触の安定性
やプローブ電極の保守などの困難性をもたらすようにな
る。特に、液晶駆動用ＬＳＩドライバをガラス基板１の
上に直接的に実装するチップオングラス（ＣＯＧ）方式
を用いた液晶表示装置の場合には、電極パッドへの直接
のコンタクトは不可能である。そのため、新たな検査用
プローブの開発が必要となるが、開発費の抑制、開発期
間の短縮、簡易な信号かつ簡易なプローブで検査できる
ことが望まれている。
【０００４】そこで、近年、採用されるようになった簡
易検査方法について、さらに図３を用いて説明する。符
号の８ａは液晶画面領域５の外側においてガラス基板１
上に縦方向に形成された走査信号配線用の検査用配線、
８ｂは液晶画面領域５の外側におけるガラス基板１上に
横方向に形成されたＲ，Ｇ，Ｂそれぞれの映像信号配線
用の検査用配線、９ａは各走査信号配線２と走査信号配
線用の検査用配線８ａとを接続するためにガラス基板１
上に形成されたラインパターン、１０ａはガラス基板１
上において走査信号配線用の検査用配線８ａの端部に形
成された検査用電極端子、９ｂは各映像信号配線３と各
映像信号配線用の検査用配線８ｂとを接続するためにガ
ラス基板１上に形成されたラインパターン、１０ｂはガ
ラス基板１上において各映像信号配線用の検査用配線８
ｂの端部に形成された検査用電極端子、１１ａ，１１ｂ
は各接続部である。図４（ａ），（ｂ）に部分の拡大を
示す。
易検査方法について、さらに図３を用いて説明する。符
号の８ａは液晶画面領域５の外側においてガラス基板１
上に縦方向に形成された走査信号配線用の検査用配線、
８ｂは液晶画面領域５の外側におけるガラス基板１上に
横方向に形成されたＲ，Ｇ，Ｂそれぞれの映像信号配線
用の検査用配線、９ａは各走査信号配線２と走査信号配
線用の検査用配線８ａとを接続するためにガラス基板１
上に形成されたラインパターン、１０ａはガラス基板１
上において走査信号配線用の検査用配線８ａの端部に形
成された検査用電極端子、９ｂは各映像信号配線３と各
映像信号配線用の検査用配線８ｂとを接続するためにガ
ラス基板１上に形成されたラインパターン、１０ｂはガ
ラス基板１上において各映像信号配線用の検査用配線８
ｂの端部に形成された検査用電極端子、１１ａ，１１ｂ
は各接続部である。図４（ａ），（ｂ）に部分の拡大を
示す。
【０００５】検査用電極端子１０ａ，１０ｂに検査用プ
ローブを立てて検査用信号１２を供給し、液晶表示装置
の検査を行い、良否の判定を行う。その後、良品につい
て、図５（ａ），（ｂ）に示すように、液晶画面領域５
の外側において各走査信号配線２と検査用配線８ａとを
接続しているラインパターン９ａおよび各映像信号配線
３と検査用配線８ｂとを接続しているラインパターン９
ｂをそれぞれ直線状の切断領域１３ａ，１３ｂにおいて
レーザー光の照射によって切断し、液晶表示装置の最終
形態を得ている。レーザー光で各ラインパターン９ａ，
９ｂを切断するときは、繰り返しで形成されているライ
ンパターン９ａ群，９ｂ群の始めから終わりまでを連続
して一気に切断する。
ローブを立てて検査用信号１２を供給し、液晶表示装置
の検査を行い、良否の判定を行う。その後、良品につい
て、図５（ａ），（ｂ）に示すように、液晶画面領域５
の外側において各走査信号配線２と検査用配線８ａとを
接続しているラインパターン９ａおよび各映像信号配線
３と検査用配線８ｂとを接続しているラインパターン９
ｂをそれぞれ直線状の切断領域１３ａ，１３ｂにおいて
レーザー光の照射によって切断し、液晶表示装置の最終
形態を得ている。レーザー光で各ラインパターン９ａ，
９ｂを切断するときは、繰り返しで形成されているライ
ンパターン９ａ群，９ｂ群の始めから終わりまでを連続
して一気に切断する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の技術に
は次のような問題点がある。ラインパターン９ａ，９ｂ
は画素電極４と同様に高抵抗のＩＴＯ等で形成されてい
るが、このラインパターンをレーザー光で切断するとき
に、図５（ａ），（ｂ）に示すようにラインパターン構
成材１４が飛び散り、その飛び散ったラインパターン構
成材１４が隣接するラインパターン９ａ，９ａ間にわた
って付着し、また隣接するラインパターン９ｂ，９ｂ間
にわたって付着し、それぞれ隣接ショートとなる。ライ
ンパターン９ａ，９ｂをレーザー光で切断する工程は一
番最後であり、それ以前に検査用電極端子１０ａ，１０
ｂを利用した画素表示検査は終了している。したがっ
て、飛び散ったラインパターン構成材１４に起因する隣
接ショートは発見されることがない。その結果として、
液晶表示装置の対応する部分に表示不良が発生するとい
う問題がある。
は次のような問題点がある。ラインパターン９ａ，９ｂ
は画素電極４と同様に高抵抗のＩＴＯ等で形成されてい
るが、このラインパターンをレーザー光で切断するとき
に、図５（ａ），（ｂ）に示すようにラインパターン構
成材１４が飛び散り、その飛び散ったラインパターン構
成材１４が隣接するラインパターン９ａ，９ａ間にわた
って付着し、また隣接するラインパターン９ｂ，９ｂ間
にわたって付着し、それぞれ隣接ショートとなる。ライ
ンパターン９ａ，９ｂをレーザー光で切断する工程は一
番最後であり、それ以前に検査用電極端子１０ａ，１０
ｂを利用した画素表示検査は終了している。したがっ
て、飛び散ったラインパターン構成材１４に起因する隣
接ショートは発見されることがない。その結果として、
液晶表示装置の対応する部分に表示不良が発生するとい
う問題がある。
【０００７】本発明は上記した課題の解決を図るべく創
案したものであって、ラインパターンの分離に伴う隣接
ショートをなくす上で有効な液晶表示装置を提供するこ
とを目的としている。
案したものであって、ラインパターンの分離に伴う隣接
ショートをなくす上で有効な液晶表示装置を提供するこ
とを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】液晶表示装置の検査技術
にかかわる本発明においては、表示用の信号配線を検査
用配線に対して接続するためのラインパターンを形成す
るに際して、そのラインパターンの一部または全体を信
号配線よりも細い幅の状態で形成しておき、検査を行
う。検査が終了した後において検査用配線を信号配線か
ら分離するに際してラインパターンでの分離を行うが、
この場合にラインパターンの細幅部分において分離して
ある。ラインパターンを分離するのに細幅部分で分離し
てあるから、分離に伴うラインパターン構成材が飛び散
る量は従来の技術の場合よりも少なくなる。また、細幅
部分の隣接間隔は細幅部分がない従来の技術の場合の隣
接間隔よりも大きくなっている。量が少なくなることと
隣接間隔が大きくなることとの相乗により、隣接ショー
トを抑制する。
にかかわる本発明においては、表示用の信号配線を検査
用配線に対して接続するためのラインパターンを形成す
るに際して、そのラインパターンの一部または全体を信
号配線よりも細い幅の状態で形成しておき、検査を行
う。検査が終了した後において検査用配線を信号配線か
ら分離するに際してラインパターンでの分離を行うが、
この場合にラインパターンの細幅部分において分離して
ある。ラインパターンを分離するのに細幅部分で分離し
てあるから、分離に伴うラインパターン構成材が飛び散
る量は従来の技術の場合よりも少なくなる。また、細幅
部分の隣接間隔は細幅部分がない従来の技術の場合の隣
接間隔よりも大きくなっている。量が少なくなることと
隣接間隔が大きくなることとの相乗により、隣接ショー
トを抑制する。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明にかかわる請求項１の液晶
表示装置は、表示用の信号配線と検査用配線とを接続す
るラインパターンの少なくとも一部が信号配線より細幅
のラインパターンに形成され、各ラインパターンがその
細幅部分で分離されているという構成になっている。隣
接間隔を拡げるとともにラインパターン構成材の飛散量
を少なくしたことの相乗によって隣接ショートが抑制さ
れる。
表示装置は、表示用の信号配線と検査用配線とを接続す
るラインパターンの少なくとも一部が信号配線より細幅
のラインパターンに形成され、各ラインパターンがその
細幅部分で分離されているという構成になっている。隣
接間隔を拡げるとともにラインパターン構成材の飛散量
を少なくしたことの相乗によって隣接ショートが抑制さ
れる。
【００１０】本発明にかかわる請求項２の液晶表示装置
は、請求項１の構成をより具体的レベルで表現したもの
に相当する。それは次のような構成となっている。すな
わち、液晶画面領域の外側に映像信号配線用の検査用配
線と走査信号配線用の検査用配線とが設けられ、映像信
号配線と映像信号配線用の検査用配線とがラインパター
ンを介して接続され、走査信号配線と走査信号配線用の
検査用配線とがラインパターンを介して接続されるとい
う構成を前提とする。映像信号配線の隣接間隔および走
査信号配線の隣接間隔に着目し、隣接間隔が所定値以下
に狭くなっているかどうかを判断基準として、所定値よ
りも大きいときには特に対策はとらなくてもよいが、所
定値以下となっている場合には、それにつながるライン
パターンの一部または全体を信号配線より細幅のライン
パターンに形成する。つまり、映像信号配線の隣接間隔
も走査信号配線の隣接間隔もともに所定値以下のとき
は、映像信号配線につながるラインパターンおよび走査
信号配線につながるラインパターンの双方についてその
一部または全体を各信号配線より細幅のラインパターン
に形成する。また、映像信号配線についてのみその隣接
間隔が所定値以下のときは、映像信号配線につながるラ
インパターンについてのみその一部または全体を映像信
号配線より細幅のラインパターンに形成する。また、走
査信号配線についてのみその隣接間隔が所定値以下のと
きは、走査信号配線につながるラインパターンについて
のみその一部または全体を走査信号配線より細幅のライ
ンパターンに形成する。そして、検査後においては、映
像信号配線および走査信号配線と各検査用配線とを電気
的・物理的に分離するために各ラインパターンにおいて
分離するのであるが、細幅部分をもつラインパターンに
ついては、その細幅部分で分離したという構成にするの
である。ラインパターンを分離するのに細幅部分で分離
してあるから、分離に伴うラインパターン構成材の飛散
量が従来の技術の場合よりも少なくなるとともに、細幅
部分の隣接間隔が細幅部分のない従来の技術の場合の隣
接間隔よりも大きくなっていることから、相乗的に隣接
ショートを抑制することになる。
は、請求項１の構成をより具体的レベルで表現したもの
に相当する。それは次のような構成となっている。すな
わち、液晶画面領域の外側に映像信号配線用の検査用配
線と走査信号配線用の検査用配線とが設けられ、映像信
号配線と映像信号配線用の検査用配線とがラインパター
ンを介して接続され、走査信号配線と走査信号配線用の
検査用配線とがラインパターンを介して接続されるとい
う構成を前提とする。映像信号配線の隣接間隔および走
査信号配線の隣接間隔に着目し、隣接間隔が所定値以下
に狭くなっているかどうかを判断基準として、所定値よ
りも大きいときには特に対策はとらなくてもよいが、所
定値以下となっている場合には、それにつながるライン
パターンの一部または全体を信号配線より細幅のライン
パターンに形成する。つまり、映像信号配線の隣接間隔
も走査信号配線の隣接間隔もともに所定値以下のとき
は、映像信号配線につながるラインパターンおよび走査
信号配線につながるラインパターンの双方についてその
一部または全体を各信号配線より細幅のラインパターン
に形成する。また、映像信号配線についてのみその隣接
間隔が所定値以下のときは、映像信号配線につながるラ
インパターンについてのみその一部または全体を映像信
号配線より細幅のラインパターンに形成する。また、走
査信号配線についてのみその隣接間隔が所定値以下のと
きは、走査信号配線につながるラインパターンについて
のみその一部または全体を走査信号配線より細幅のライ
ンパターンに形成する。そして、検査後においては、映
像信号配線および走査信号配線と各検査用配線とを電気
的・物理的に分離するために各ラインパターンにおいて
分離するのであるが、細幅部分をもつラインパターンに
ついては、その細幅部分で分離したという構成にするの
である。ラインパターンを分離するのに細幅部分で分離
してあるから、分離に伴うラインパターン構成材の飛散
量が従来の技術の場合よりも少なくなるとともに、細幅
部分の隣接間隔が細幅部分のない従来の技術の場合の隣
接間隔よりも大きくなっていることから、相乗的に隣接
ショートを抑制することになる。
【００１１】本発明にかかわる請求項３の液晶表示装置
は、上記請求項１，２において、ラインパターンの細幅
部分がレーザー光照射により切断されているものであ
る。レーザー光照射による切断に伴って飛散するライン
パターン構成材の飛散量を抑えて隣接ショートを抑制す
る。
は、上記請求項１，２において、ラインパターンの細幅
部分がレーザー光照射により切断されているものであ
る。レーザー光照射による切断に伴って飛散するライン
パターン構成材の飛散量を抑えて隣接ショートを抑制す
る。
【００１２】以下、本発明にかかわる液晶表示装置の具
体的な実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。図
３に示す液晶表示装置の構成は本実施の形態でも適用さ
れる。図３は液晶表示装置のアクティブマトリクス基板
の概略の構成を示す平面図である。ガラス基板１上に、
横方向に沿った複数の走査信号配線２と、縦方向に沿っ
たＲ，Ｇ，Ｂそれぞれの複数の映像信号配線３と、それ
らの配線２，３が交差する位置の一つ一つの液晶セルに
対応する画素電極４と、その画素電極４に接続された薄
膜トランジスタ（ＴＦＴ；図示省略）とが形成されてい
る。多数の画素電極４群から矩形の液晶画面領域５が構
成されている。走査信号配線２は各ＴＦＴのゲート電極
に接続され、映像信号配線３は各ＴＦＴのソース電極に
接続され、各走査信号配線２はガラス基板１上に配置さ
れたゲート実装電極領域６を介して液晶駆動用ＬＳＩの
走査信号ドライバに接続されるようになっており、ま
た、各映像信号配線３はガラス基板１上に配置されたソ
ース実装電極領域７を介して液晶駆動用ＬＳＩの映像信
号ドライバに接続されるようになっている。この液晶表
示装置は液晶駆動用ＬＳＩドライバをガラス基板１の上
に直接的に実装するチップオングラス（ＣＯＧ）タイプ
に構成されるものであるが、他のタイプであっても、同
様の構成である。走査信号配線２および映像信号配線３
は、例えばシート抵抗（１ｃｍ角の抵抗値）が０．２Ω
／□位である低抵抗金属のＡｌまたはＡｌに３％程度の
Ｔａ（タンタル）、Ｔｉ（チタン）等の高融点金属を含
有させたＡｌ系金属で形成され、また、画素電極４は透
明導電膜（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide；酸化インジウム
錫））で形成されている。
体的な実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。図
３に示す液晶表示装置の構成は本実施の形態でも適用さ
れる。図３は液晶表示装置のアクティブマトリクス基板
の概略の構成を示す平面図である。ガラス基板１上に、
横方向に沿った複数の走査信号配線２と、縦方向に沿っ
たＲ，Ｇ，Ｂそれぞれの複数の映像信号配線３と、それ
らの配線２，３が交差する位置の一つ一つの液晶セルに
対応する画素電極４と、その画素電極４に接続された薄
膜トランジスタ（ＴＦＴ；図示省略）とが形成されてい
る。多数の画素電極４群から矩形の液晶画面領域５が構
成されている。走査信号配線２は各ＴＦＴのゲート電極
に接続され、映像信号配線３は各ＴＦＴのソース電極に
接続され、各走査信号配線２はガラス基板１上に配置さ
れたゲート実装電極領域６を介して液晶駆動用ＬＳＩの
走査信号ドライバに接続されるようになっており、ま
た、各映像信号配線３はガラス基板１上に配置されたソ
ース実装電極領域７を介して液晶駆動用ＬＳＩの映像信
号ドライバに接続されるようになっている。この液晶表
示装置は液晶駆動用ＬＳＩドライバをガラス基板１の上
に直接的に実装するチップオングラス（ＣＯＧ）タイプ
に構成されるものであるが、他のタイプであっても、同
様の構成である。走査信号配線２および映像信号配線３
は、例えばシート抵抗（１ｃｍ角の抵抗値）が０．２Ω
／□位である低抵抗金属のＡｌまたはＡｌに３％程度の
Ｔａ（タンタル）、Ｔｉ（チタン）等の高融点金属を含
有させたＡｌ系金属で形成され、また、画素電極４は透
明導電膜（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide；酸化インジウム
錫））で形成されている。
【００１３】液晶表示装置の製造過程での検査において
隣接間隔の狭い走査信号配線２や映像信号配線３に直接
に検査用プローブ電極を接触させることはむずかしい。
そこで、液晶画面領域５の外側においてガラス基板１上
に、各走査信号配線２に共通の検査用配線８ａを縦方向
に形成するとともに、各Ｒ，Ｇ，Ｂの映像信号配線３そ
れぞれに共通の検査用配線８ｂを３本横方向に形成し、
各走査信号配線２と走査信号配線用の検査用配線８ａと
をラインパターン９ａを介して接続し、走査信号配線用
の検査用配線８ａの端部に検査用プローブ電極を接触さ
せるための検査用電極端子１０ａを形成する一方、Ｒ，
Ｇ，Ｂの各映像信号配線３と映像信号配線用の検査用配
線８ｂとをラインパターン９ｂを介して接続し、映像信
号配線用の検査用配線８ｂの端部に検査用電極端子１０
ｂを形成してある。１１ａ，１１ｂは各信号配線２，３
とラインパターン９ａ，９ｂとの接続部である。ライン
パターン９ａ，９ｂは所定値以上の抵抗をもたせるため
に画素電極４と同様にＩＴＯで形成してある。検査用配
線８ａ，８ｂ、ラインパターン９ａ，９ｂおよび検査用
電極端子１０ａ，１０ｂは、成膜技術、フォトリソグラ
フィ技術およびエッチング技術を用いて形成する。
隣接間隔の狭い走査信号配線２や映像信号配線３に直接
に検査用プローブ電極を接触させることはむずかしい。
そこで、液晶画面領域５の外側においてガラス基板１上
に、各走査信号配線２に共通の検査用配線８ａを縦方向
に形成するとともに、各Ｒ，Ｇ，Ｂの映像信号配線３そ
れぞれに共通の検査用配線８ｂを３本横方向に形成し、
各走査信号配線２と走査信号配線用の検査用配線８ａと
をラインパターン９ａを介して接続し、走査信号配線用
の検査用配線８ａの端部に検査用プローブ電極を接触さ
せるための検査用電極端子１０ａを形成する一方、Ｒ，
Ｇ，Ｂの各映像信号配線３と映像信号配線用の検査用配
線８ｂとをラインパターン９ｂを介して接続し、映像信
号配線用の検査用配線８ｂの端部に検査用電極端子１０
ｂを形成してある。１１ａ，１１ｂは各信号配線２，３
とラインパターン９ａ，９ｂとの接続部である。ライン
パターン９ａ，９ｂは所定値以上の抵抗をもたせるため
に画素電極４と同様にＩＴＯで形成してある。検査用配
線８ａ，８ｂ、ラインパターン９ａ，９ｂおよび検査用
電極端子１０ａ，１０ｂは、成膜技術、フォトリソグラ
フィ技術およびエッチング技術を用いて形成する。
【００１４】本実施の形態はラインパターン９ａ，９ｂ
の形成において次のような工夫を施している。それを図
１によって説明する。図１（ａ）は走査信号配線用の検
査用配線８ａとラインパターン９ａとの接続部１１ａの
周辺の構成を示し、図１（ｂ）は映像信号配線用の検査
用配線８ｂとラインパターン９ｂとの接続部１１ｂの周
辺の構成を示す。走査信号配線側のラインパターン９ａ
の隣接間隔が所定値以下に狭くなっていることに鑑み
て、検査用配線８ａとの接続部１１ａから一定長さ範囲
にわたってラインパターン９ａの一部を細幅部分９ａ1
となし、矢印で示すように隣接する細幅部分９ａ1 ，９
ａ1 の隣接間隔を拡げている。また、映像信号配線側の
ラインパターン９ｂの隣接間隔が所定値以下に狭くなっ
ていることに鑑みて、検査用配線８ｂとの接続部１１ｂ
から一定長さ範囲にわたってラインパターン９ｂの一部
を細幅部分９ｂ1 となし、矢印で示すように隣接する細
幅部分９ｂ1 ，９ｂ1 の隣接間隔を拡げている。そし
て、検査が終了したあとのレーザー光による切断領域１
３ａ，１３ｂとしては、各細幅部分９ａ1 ，９ｂ1 のほ
ぼ中央部を長さ方向に対して垂直に横断するように設定
されている。
の形成において次のような工夫を施している。それを図
１によって説明する。図１（ａ）は走査信号配線用の検
査用配線８ａとラインパターン９ａとの接続部１１ａの
周辺の構成を示し、図１（ｂ）は映像信号配線用の検査
用配線８ｂとラインパターン９ｂとの接続部１１ｂの周
辺の構成を示す。走査信号配線側のラインパターン９ａ
の隣接間隔が所定値以下に狭くなっていることに鑑み
て、検査用配線８ａとの接続部１１ａから一定長さ範囲
にわたってラインパターン９ａの一部を細幅部分９ａ1
となし、矢印で示すように隣接する細幅部分９ａ1 ，９
ａ1 の隣接間隔を拡げている。また、映像信号配線側の
ラインパターン９ｂの隣接間隔が所定値以下に狭くなっ
ていることに鑑みて、検査用配線８ｂとの接続部１１ｂ
から一定長さ範囲にわたってラインパターン９ｂの一部
を細幅部分９ｂ1 となし、矢印で示すように隣接する細
幅部分９ｂ1 ，９ｂ1 の隣接間隔を拡げている。そし
て、検査が終了したあとのレーザー光による切断領域１
３ａ，１３ｂとしては、各細幅部分９ａ1 ，９ｂ1 のほ
ぼ中央部を長さ方向に対して垂直に横断するように設定
されている。
【００１５】従来の技術について説明したのと同様に、
検査用電極端子１０ａ，１０ｂに検査用プローブを立て
て検査用信号１２を供給し、液晶表示装置の検査を行
い、良否の判定を行う。その後、良品について、図２
（ａ），（ｂ）に示すように、液晶画面領域５の外側に
おいて各走査信号配線２と検査用配線８ａとを接続して
いるラインパターン９ａや各映像信号配線３と検査用配
線８ｂとを接続しているラインパターン９ｂをそれぞれ
切断領域１３ａ，１３ｂにおけるレーザー光の照射によ
って切断し、液晶表示装置の最終形態を得る。この場合
において、レーザー光を切断領域１３ａに沿って走査す
ることにより、繰り返しで形成されている細幅部分９ａ
1 群の一番始めから終わりまで連続して一気に切断し、
また細幅部分９ｂ1 群についても同様に切断するが、こ
のとき図２に示すように、ラインパターン９ａ，９ｂを
構成しているＩＴＯ（Indium Tin Oxide；酸化インジウ
ム錫）などのラインパターン構成材１４が飛び散って
も、レーザー光で切断する部分が細幅部分９ａ1 ，９ｂ
1 であることから飛び散る量が少なく、かつ、隣接する
細幅部分９ａ1 ，９ａ1 間の間隔および隣接する細幅部
分９ｂ1 ，９ｂ1 間の間隔が細幅部分以外の隣接するラ
インパターン９ａ，９ａ間の間隔、隣接するラインパタ
ーン９ｂ，９ｂ間の間隔よりも大きくなっていることか
ら、飛び散ったラインパターン構成材１４が隣接する細
幅部分９ａ1 ，９ａ1 、９ｂ1 ，９ｂ1 で隣接ショート
を起こすことを抑制することができる。
検査用電極端子１０ａ，１０ｂに検査用プローブを立て
て検査用信号１２を供給し、液晶表示装置の検査を行
い、良否の判定を行う。その後、良品について、図２
（ａ），（ｂ）に示すように、液晶画面領域５の外側に
おいて各走査信号配線２と検査用配線８ａとを接続して
いるラインパターン９ａや各映像信号配線３と検査用配
線８ｂとを接続しているラインパターン９ｂをそれぞれ
切断領域１３ａ，１３ｂにおけるレーザー光の照射によ
って切断し、液晶表示装置の最終形態を得る。この場合
において、レーザー光を切断領域１３ａに沿って走査す
ることにより、繰り返しで形成されている細幅部分９ａ
1 群の一番始めから終わりまで連続して一気に切断し、
また細幅部分９ｂ1 群についても同様に切断するが、こ
のとき図２に示すように、ラインパターン９ａ，９ｂを
構成しているＩＴＯ（Indium Tin Oxide；酸化インジウ
ム錫）などのラインパターン構成材１４が飛び散って
も、レーザー光で切断する部分が細幅部分９ａ1 ，９ｂ
1 であることから飛び散る量が少なく、かつ、隣接する
細幅部分９ａ1 ，９ａ1 間の間隔および隣接する細幅部
分９ｂ1 ，９ｂ1 間の間隔が細幅部分以外の隣接するラ
インパターン９ａ，９ａ間の間隔、隣接するラインパタ
ーン９ｂ，９ｂ間の間隔よりも大きくなっていることか
ら、飛び散ったラインパターン構成材１４が隣接する細
幅部分９ａ1 ，９ａ1 、９ｂ1 ，９ｂ1 で隣接ショート
を起こすことを抑制することができる。
【００１６】なお、ラインパターンの隣接間隔について
所定値以下に狭くなっているのが走査信号配線用の検査
用配線８ａに接続のラインパターン９ａのみで、映像信
号配線用の検査用配線８ｂに接続のラインパターン９ｂ
の方は隣接間隔が所定値を超えて広くなっている場合に
は、走査信号配線側のラインパターン９ａについてのみ
細幅部分９ａ1 を形成するものとする。また、逆に、ラ
インパターンの隣接間隔について所定値以下に狭くなっ
ているのが映像信号配線用の検査用配線８ｂに接続のラ
インパターン９ｂのみで、走査信号配線側のラインパタ
ーン９ａの方は隣接間隔が所定値を超えて広くなってい
る場合には、映像信号配線側のラインパターン９ｂにつ
いてのみ細幅部分９ｂ1 を形成するものとする。
所定値以下に狭くなっているのが走査信号配線用の検査
用配線８ａに接続のラインパターン９ａのみで、映像信
号配線用の検査用配線８ｂに接続のラインパターン９ｂ
の方は隣接間隔が所定値を超えて広くなっている場合に
は、走査信号配線側のラインパターン９ａについてのみ
細幅部分９ａ1 を形成するものとする。また、逆に、ラ
インパターンの隣接間隔について所定値以下に狭くなっ
ているのが映像信号配線用の検査用配線８ｂに接続のラ
インパターン９ｂのみで、走査信号配線側のラインパタ
ーン９ａの方は隣接間隔が所定値を超えて広くなってい
る場合には、映像信号配線側のラインパターン９ｂにつ
いてのみ細幅部分９ｂ1 を形成するものとする。
【００１７】また、ラインパターン９ａ，９ｂの一部で
はなく、全長範囲を走査信号配線２や映像信号配線３の
幅より小さい細幅のラインパターンとしてもよい。ライ
ンパターン９ａ，９ｂの一部を細幅とする場合に、上記
の実施の形態のように検査用配線８ａ，８ｂにつながる
部分から細幅部分９ａ1 ，９ｂ1 を形成することに代え
て、検査用配線８ａ，８ｂから離れた部分に細幅部分を
形成してもよい。また、細幅部分９ａ1 ，９ｂ1 をライ
ンパターン９ａ，９ｂの幅方向の中央に設けることに代
えて、ラインパターン９ａ，９ｂの一側辺の延長線上に
設けるように構成してもよい。
はなく、全長範囲を走査信号配線２や映像信号配線３の
幅より小さい細幅のラインパターンとしてもよい。ライ
ンパターン９ａ，９ｂの一部を細幅とする場合に、上記
の実施の形態のように検査用配線８ａ，８ｂにつながる
部分から細幅部分９ａ1 ，９ｂ1 を形成することに代え
て、検査用配線８ａ，８ｂから離れた部分に細幅部分を
形成してもよい。また、細幅部分９ａ1 ，９ｂ1 をライ
ンパターン９ａ，９ｂの幅方向の中央に設けることに代
えて、ラインパターン９ａ，９ｂの一側辺の延長線上に
設けるように構成してもよい。
【００１８】また、ラインパターン９ａ，９ｂの分離に
ついては、レーザー光照射による切断のほか、スクイー
ジによる削り取り等でもよい。さらには検査用配線８
ａ，８ｂを除去する状態でのガラス基板１の割断でもよ
い。
ついては、レーザー光照射による切断のほか、スクイー
ジによる削り取り等でもよい。さらには検査用配線８
ａ，８ｂを除去する状態でのガラス基板１の割断でもよ
い。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば、検査が終了した後にお
いて検査用配線を信号配線から分離するのに細幅部分で
分離してあって、分離に伴うラインパターン構成材の飛
散量を少なくすることと細幅部分の隣接間隔を拡大する
こととの相乗により、例えばレーザー光照射による切断
等での分離に伴うラインパターン構成材の飛散が生じて
も隣接ショートを抑制することができる。
いて検査用配線を信号配線から分離するのに細幅部分で
分離してあって、分離に伴うラインパターン構成材の飛
散量を少なくすることと細幅部分の隣接間隔を拡大する
こととの相乗により、例えばレーザー光照射による切断
等での分離に伴うラインパターン構成材の飛散が生じて
も隣接ショートを抑制することができる。
【図１】 本発明の実施の形態にかかわる液晶表示装置
のアクティブマトリクス基板の要部の拡大平面図
のアクティブマトリクス基板の要部の拡大平面図
【図２】 実施の形態にかかわる液晶表示装置で検査終
了後にラインパターンをその細幅部分で切断した状態を
示す要部の拡大平面図
了後にラインパターンをその細幅部分で切断した状態を
示す要部の拡大平面図
【図３】 本発明にかかわる実施の形態と従来の技術と
に共通なもので、液晶表示装置のアクティブマトリクス
基板の概略的な平面図
に共通なもので、液晶表示装置のアクティブマトリクス
基板の概略的な平面図
【図４】 従来の技術にかかわる液晶表示装置のアクテ
ィブマトリクス基板の一部の拡大平面図
ィブマトリクス基板の一部の拡大平面図
【図５】 従来の技術にかかわる液晶表示装置で検査終
了後にラインパターンを切断した状態を示す一部の拡大
平面図
了後にラインパターンを切断した状態を示す一部の拡大
平面図
１………ガラス基板 ２………
走査信号配線 ３………映像信号配線 ４………
画素電極 ５………液晶画面領域 ６………
ゲート実装電極領域 ７………ソース実装電極領域 ８ａ……走査信号配線側の検査用配線 ８ｂ……映像信号配線側の検査用配線 ９ａ……走査信号配線側のラインパターン ９ａ1 …
細幅部分 ９ｂ……映像信号配線側のラインパターン ９ｂ1 …
細幅部分 １０ａ……走査信号配線側の検査用電極端子 １０ｂ……映像信号配線側の検査用電極端子 １３ａ……走査信号配線側のラインパターンの切断領域 １３ｂ……映像信号配線側のラインパターンの切断領域 １４………ラインパターン構成材
走査信号配線 ３………映像信号配線 ４………
画素電極 ５………液晶画面領域 ６………
ゲート実装電極領域 ７………ソース実装電極領域 ８ａ……走査信号配線側の検査用配線 ８ｂ……映像信号配線側の検査用配線 ９ａ……走査信号配線側のラインパターン ９ａ1 …
細幅部分 ９ｂ……映像信号配線側のラインパターン ９ｂ1 …
細幅部分 １０ａ……走査信号配線側の検査用電極端子 １０ｂ……映像信号配線側の検査用電極端子 １３ａ……走査信号配線側のラインパターンの切断領域 １３ｂ……映像信号配線側のラインパターンの切断領域 １４………ラインパターン構成材
Claims (3)
- 【請求項１】 表示用の信号配線と検査用配線とを接続
するラインパターンの少なくとも一部が前記信号配線よ
り細幅のラインパターンに形成され、各ラインパターン
がその細幅部分で分離されている液晶表示装置。 - 【請求項２】 液晶画面領域の外側に映像信号配線用の
検査用配線と走査信号配線用の検査用配線とが設けら
れ、映像信号配線と映像信号配線用の検査用配線とがラ
インパターンを介して接続され、走査信号配線と走査信
号配線用の検査用配線とがラインパターンを介して接続
され、前記映像信号配線側のラインパターンと走査信号
配線側のラインパターンのうち少なくともいずれか一方
のラインパターンの少なくとも一部が信号配線より細幅
のラインパターンに形成され、双方の各ラインパターン
がその途中で分離され、細幅部分を有するラインパター
ンについてはその細幅部分で分離されている液晶表示装
置。 - 【請求項３】 ラインパターンの細幅部分の分離がレー
ザー光照射による切断である請求項１または請求項２に
記載の液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10164809A JPH11352505A (ja) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10164809A JPH11352505A (ja) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | 液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11352505A true JPH11352505A (ja) | 1999-12-24 |
Family
ID=15800337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10164809A Pending JPH11352505A (ja) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11352505A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002196352A (ja) * | 2000-12-07 | 2002-07-12 | Koninkl Philips Electronics Nv | 予備配線を有する液晶表示装置 |
| JP2004133421A (ja) * | 2002-08-23 | 2004-04-30 | Samsung Electronics Co Ltd | 液晶表示装置、その検査方法及び製造方法 |
| US6760091B2 (en) | 2000-10-31 | 2004-07-06 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device, inspection method therefor, and electronic equipment |
| JP2004310024A (ja) * | 2002-11-19 | 2004-11-04 | Samsung Electronics Co Ltd | 液晶表示装置及びその検査方法 |
| KR100685837B1 (ko) | 2005-11-23 | 2007-02-22 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플렉서블 평판표시장치의 제조방법 |
| KR100770256B1 (ko) * | 2005-11-23 | 2007-10-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플렉서블 평판표시장치의 제조방법 |
| KR100806885B1 (ko) * | 2001-06-12 | 2008-02-22 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치의 제조 방법 |
| CN100449360C (zh) * | 2006-04-11 | 2009-01-07 | 友达光电股份有限公司 | 激光断路的布线结构 |
| WO2012161072A1 (ja) * | 2011-05-24 | 2012-11-29 | シャープ株式会社 | アクティブマトリクス基板、及び表示装置 |
-
1998
- 1998-06-12 JP JP10164809A patent/JPH11352505A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6760091B2 (en) | 2000-10-31 | 2004-07-06 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device, inspection method therefor, and electronic equipment |
| US6816228B2 (en) | 2000-10-31 | 2004-11-09 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device, inspection method thereof, and electronic equipment |
| JP2002196352A (ja) * | 2000-12-07 | 2002-07-12 | Koninkl Philips Electronics Nv | 予備配線を有する液晶表示装置 |
| KR100806885B1 (ko) * | 2001-06-12 | 2008-02-22 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치의 제조 방법 |
| JP2004133421A (ja) * | 2002-08-23 | 2004-04-30 | Samsung Electronics Co Ltd | 液晶表示装置、その検査方法及び製造方法 |
| US7777854B2 (en) | 2002-08-23 | 2010-08-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display, testing method thereof and manufacturing method thereof |
| JP2004310024A (ja) * | 2002-11-19 | 2004-11-04 | Samsung Electronics Co Ltd | 液晶表示装置及びその検査方法 |
| US7580107B2 (en) | 2002-11-19 | 2009-08-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display and testing method thereof |
| KR100685837B1 (ko) | 2005-11-23 | 2007-02-22 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플렉서블 평판표시장치의 제조방법 |
| KR100770256B1 (ko) * | 2005-11-23 | 2007-10-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플렉서블 평판표시장치의 제조방법 |
| CN100449360C (zh) * | 2006-04-11 | 2009-01-07 | 友达光电股份有限公司 | 激光断路的布线结构 |
| WO2012161072A1 (ja) * | 2011-05-24 | 2012-11-29 | シャープ株式会社 | アクティブマトリクス基板、及び表示装置 |
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