JPH1135593A - 2−フルオロフコシル−n−アロイルグルコサミン誘導体及びその中間物、並びにそれらの製造方法 - Google Patents
2−フルオロフコシル−n−アロイルグルコサミン誘導体及びその中間物、並びにそれらの製造方法Info
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- JPH1135593A JPH1135593A JP9193668A JP19366897A JPH1135593A JP H1135593 A JPH1135593 A JP H1135593A JP 9193668 A JP9193668 A JP 9193668A JP 19366897 A JP19366897 A JP 19366897A JP H1135593 A JPH1135593 A JP H1135593A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 炎症や炎症に伴う疾患の治療、改善及び予防
等に有用な医薬組成物である2−フルオロフコシル−N
−アロイルグルコサミン誘導体及びその中間物、並びに
これらの製造方法を提供すること。 【解決手段】 N−アロイルグルコサミンの3位又は4
位の水酸基を2−フルオロフコースで置換した2−フル
オロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導体及びそ
の中間体、並びにこれらの製造方法。
等に有用な医薬組成物である2−フルオロフコシル−N
−アロイルグルコサミン誘導体及びその中間物、並びに
これらの製造方法を提供すること。 【解決手段】 N−アロイルグルコサミンの3位又は4
位の水酸基を2−フルオロフコースで置換した2−フル
オロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導体及びそ
の中間体、並びにこれらの製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、炎症や炎症に伴う
血栓形成、炎症性細胞の浸潤による組織障害、喘息、リ
ウマチ、自己免疫疾患、或いは癌転移などの原因物質と
して知られるルイスX、ルイスa、シアリルルイスX或
いはシアリルルイスa糖鎖の誘導体である、フコシル−
α−(1→3又は1→4)−N−アロイルグルコサミン
のL−フコースの2位の水酸基をフッ素原子で置換した
2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導
体及びその中間物、並びにそれらの製造方法に関するも
のである(但し、アロイル基とは、アリールカルボニル
基と同意語である)。
血栓形成、炎症性細胞の浸潤による組織障害、喘息、リ
ウマチ、自己免疫疾患、或いは癌転移などの原因物質と
して知られるルイスX、ルイスa、シアリルルイスX或
いはシアリルルイスa糖鎖の誘導体である、フコシル−
α−(1→3又は1→4)−N−アロイルグルコサミン
のL−フコースの2位の水酸基をフッ素原子で置換した
2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導
体及びその中間物、並びにそれらの製造方法に関するも
のである(但し、アロイル基とは、アリールカルボニル
基と同意語である)。
【0002】かかる誘導体は、上述の疾患の治療、改善
及び予防を目的とする医薬組成物として有用である。
及び予防を目的とする医薬組成物として有用である。
【0003】
【従来の技術】フコースを含むオリゴ糖であるシアリル
ルイスX糖鎖は、炎症時に白血球が血管内皮細胞上の接
着因子セレクチンと相互作用し、血管外に出るホーミン
グ現象に関わる分子として近年注目を集めている。
ルイスX糖鎖は、炎症時に白血球が血管内皮細胞上の接
着因子セレクチンと相互作用し、血管外に出るホーミン
グ現象に関わる分子として近年注目を集めている。
【0004】また、セレクチンのもう1つのリガンド
(配位子)であるシアリルルイスa糖鎖〔下記の構造式
(IV)〕は、大腸癌の肝転移に大きな関わりがあること
も分かってきた〔伊藤勝基、医学のあゆみ 179,223
(1996)参照〕。
(配位子)であるシアリルルイスa糖鎖〔下記の構造式
(IV)〕は、大腸癌の肝転移に大きな関わりがあること
も分かってきた〔伊藤勝基、医学のあゆみ 179,223
(1996)参照〕。
【0005】前記ホーミング現象のうちのいくつかは、
セレクチンと呼ばれるレクチン様細胞接着分子とシアリ
ルルイスXオリゴ糖との相互作用によって始まる。従っ
て、シアリルルイスXオリゴ糖をセレクチン阻害剤とし
て用いることができれば、好中球(白血球の一種)依存
性かつセレクチン依存性の急性炎症を抑制できると期待
されている。
セレクチンと呼ばれるレクチン様細胞接着分子とシアリ
ルルイスXオリゴ糖との相互作用によって始まる。従っ
て、シアリルルイスXオリゴ糖をセレクチン阻害剤とし
て用いることができれば、好中球(白血球の一種)依存
性かつセレクチン依存性の急性炎症を抑制できると期待
されている。
【0006】その例として、ミシガン大学のグループ
は、コブラ毒因子を用いてラットで実験的に起こした肺
の急性炎症が、シアリルルイスX糖鎖〔下記構造式(II
I )〕の投与で軽減されていることを示しており〔M.S.
Mulligan他、Nature 364,149(1993)〕、林らも肺障害モ
デルにおけるシアリルルイスX誘導体の有効性を報告し
ている〔東條伸一郎他、細胞 29(2),17(1997)〕。
は、コブラ毒因子を用いてラットで実験的に起こした肺
の急性炎症が、シアリルルイスX糖鎖〔下記構造式(II
I )〕の投与で軽減されていることを示しており〔M.S.
Mulligan他、Nature 364,149(1993)〕、林らも肺障害モ
デルにおけるシアリルルイスX誘導体の有効性を報告し
ている〔東條伸一郎他、細胞 29(2),17(1997)〕。
【0007】また、「細胞接着の阻害」という全く新し
い薬剤の開発の観点から、種々のシアリルルイスX誘導
体が合成されている。それらのうち、長谷川、木曾らに
より、構造と活性相関が検討された結果、必須の部分構
造は、(I) シアル酸のカルボン酸、(II)フコース残基、
(III) ガラクトースの4,6位の水酸基であることが報
告されている〔A.Hasegawa他 Carbohydrate Research 2
57, 67(1994)〕。
い薬剤の開発の観点から、種々のシアリルルイスX誘導
体が合成されている。それらのうち、長谷川、木曾らに
より、構造と活性相関が検討された結果、必須の部分構
造は、(I) シアル酸のカルボン酸、(II)フコース残基、
(III) ガラクトースの4,6位の水酸基であることが報
告されている〔A.Hasegawa他 Carbohydrate Research 2
57, 67(1994)〕。
【0008】また、還元末端の1位をデオキシ化した糖
鎖〔下記構造式(V)〕がセレクチンの一種であるPセ
レクチンに対して、構造式(III )で示したシアリルル
イスX糖鎖の約20倍の接着阻害活性を持つことが報告
されている〔H.Kondo 他 Journal of Medicinal Chemi
stry 39, 1339(1996) 〕。
鎖〔下記構造式(V)〕がセレクチンの一種であるPセ
レクチンに対して、構造式(III )で示したシアリルル
イスX糖鎖の約20倍の接着阻害活性を持つことが報告
されている〔H.Kondo 他 Journal of Medicinal Chemi
stry 39, 1339(1996) 〕。
【0009】さらに、シアリルルイスXのシアル酸部分
を、硫酸残基、リン酸残基、カルボン酸等の酸性官能基
に変えたルイスX誘導体〔下記構造式(VI)〕を合成
し、セレクチンとの接着阻害活性を検討することで、強
力なセレクチンブロッカーとしてのGSC−150が見
出されている〔H.Kondo 他 Journal Medicinal Chemist
ry 39, 2055 (1996) ; US 5589465 、特開平8-99989 号
公報参照〕。
を、硫酸残基、リン酸残基、カルボン酸等の酸性官能基
に変えたルイスX誘導体〔下記構造式(VI)〕を合成
し、セレクチンとの接着阻害活性を検討することで、強
力なセレクチンブロッカーとしてのGSC−150が見
出されている〔H.Kondo 他 Journal Medicinal Chemist
ry 39, 2055 (1996) ; US 5589465 、特開平8-99989 号
公報参照〕。
【0010】
【化18】
【化19】
【0011】
【発明が解決しようとする課題】ルイスX又はルイスa
誘導体は、細胞接着分子としての作用を有するPセレク
チン又はLセレクチンのリガンド部分として知られてお
り、これらセレクチンを特異的に発現する細胞の認識素
子としての機能を有する重要な化合物であるが、L−フ
コシル−α−(1→3又は1→4)−グルコース骨格を
有しており、ヒトの体内に存在するα−フコシターゼに
より容易に失活することが予想される〔C.H.Wong他 Jo
urnal of Organic Chemistry, 60, 3100(1995)〕。
誘導体は、細胞接着分子としての作用を有するPセレク
チン又はLセレクチンのリガンド部分として知られてお
り、これらセレクチンを特異的に発現する細胞の認識素
子としての機能を有する重要な化合物であるが、L−フ
コシル−α−(1→3又は1→4)−グルコース骨格を
有しており、ヒトの体内に存在するα−フコシターゼに
より容易に失活することが予想される〔C.H.Wong他 Jo
urnal of Organic Chemistry, 60, 3100(1995)〕。
【0012】また、セレクチン接着阻害活性や代謝安定
性を目的として、次の1〜3のようの検討がなされてい
る。
性を目的として、次の1〜3のようの検討がなされてい
る。
【0013】1.本発明者による先願(特開平9−52
902号)によれば、α−フコシターゼに対する代謝安
定性を期待して、フコースの2位の水酸基をフッ素原子
で置換したシアリルルイスXガングリオシドを合成し、
天然型シアリルルイスXガングリオシドと同等のセレク
チン接着阻害活性を有する事を見出した。以下の化合物
は、その代表化合物である。
902号)によれば、α−フコシターゼに対する代謝安
定性を期待して、フコースの2位の水酸基をフッ素原子
で置換したシアリルルイスXガングリオシドを合成し、
天然型シアリルルイスXガングリオシドと同等のセレク
チン接着阻害活性を有する事を見出した。以下の化合物
は、その代表化合物である。
【化20】
【0014】2.林ら〔M.Hyashi他, Journal of Organ
ic Chemistry 61, 2938(1996) ; WO96/20204〕は、シア
リルルイスXのアセチルアミド部分をナフトイルアミド
に変換することによって、セレクチン接着阻害活性が上
昇することを報告している。以下の化合物は、その代表
化合物である。
ic Chemistry 61, 2938(1996) ; WO96/20204〕は、シア
リルルイスXのアセチルアミド部分をナフトイルアミド
に変換することによって、セレクチン接着阻害活性が上
昇することを報告している。以下の化合物は、その代表
化合物である。
【化21】 M.Hayashi 他, Journal of Organic Chemistry 61, 293
8(1996)
8(1996)
【化22】 M.Hayashi 他, WO96/20204
【0015】3.S.A.DeFrees らは、シアリルルイスX
のN−アセチルグルコサミン部分のアセチルアミドをア
ロイルアミドに変えることでセレクチン接着阻害活性が
向上することを報告している〔S.A.DeFrees 他, Journa
l of Medicinal Chemistry, 39, 1357(1996), WO94/267
60, USP 5604207 〕。さらに、アロイル基に PEG-DSPE
を組み込んだシアリルルイスXのリボソームを調製する
ことで飛躍的に接着阻害活性を増強したと報告している
〔S.A.DeFrees 他, Journal of American Chemical Soc
iety, 118, 6101(1996) 〕。以下、その代表例を示す。
のN−アセチルグルコサミン部分のアセチルアミドをア
ロイルアミドに変えることでセレクチン接着阻害活性が
向上することを報告している〔S.A.DeFrees 他, Journa
l of Medicinal Chemistry, 39, 1357(1996), WO94/267
60, USP 5604207 〕。さらに、アロイル基に PEG-DSPE
を組み込んだシアリルルイスXのリボソームを調製する
ことで飛躍的に接着阻害活性を増強したと報告している
〔S.A.DeFrees 他, Journal of American Chemical Soc
iety, 118, 6101(1996) 〕。以下、その代表例を示す。
【化23】 S. A. DeFrees 他, Journal of Medicinal Chemistry,
39, 1357(1996) S. A. DeFrees 他, WO94/26760、S. A. DeFrees 他, US
5604207
39, 1357(1996) S. A. DeFrees 他, WO94/26760、S. A. DeFrees 他, US
5604207
【化24】 S.A.DeFrees 他, Journal of American Chemistry, Soc
iety, 118, 6101(1996)
iety, 118, 6101(1996)
【0016】このように、シアリルルイスXの誘導体は
実用的であると考えられており、その提供は極めて意義
のあるものである。
実用的であると考えられており、その提供は極めて意義
のあるものである。
【0017】しかしながら、N−アロイルグルコサミン
誘導体の3位又は4位を位置選択的にα−2−フルオロ
フコシル化する方法は存在しておらず、また、このよう
に、3位又は4位が位置選択的にα−2−フルオロフコ
シル化されたN−アロイルグルコサミン誘導体は、セレ
クチン接着阻害活性及び代謝安定性に一層優れたもので
あると考えられる。
誘導体の3位又は4位を位置選択的にα−2−フルオロ
フコシル化する方法は存在しておらず、また、このよう
に、3位又は4位が位置選択的にα−2−フルオロフコ
シル化されたN−アロイルグルコサミン誘導体は、セレ
クチン接着阻害活性及び代謝安定性に一層優れたもので
あると考えられる。
【0018】そこで、本発明者は、より強力なセレクチ
ン接着阻害活性と代謝安定性とを有する糖鎖として、3
位又は4位が位置選択的にα−2−フルオロフコシル化
されたN−アロイルグルコサミン誘導体(フコシルグル
コサミンアナログ)を創製することを試みた。
ン接着阻害活性と代謝安定性とを有する糖鎖として、3
位又は4位が位置選択的にα−2−フルオロフコシル化
されたN−アロイルグルコサミン誘導体(フコシルグル
コサミンアナログ)を創製することを試みた。
【0019】即ち、本発明の目的は、セレクチン接着阻
害活性と代謝安定性とが一層優れた2−フルオロフコシ
ル−N−アロイルグルコサミン誘導体及びその中間物、
並びにそれらの製造方法を提供することにある。
害活性と代謝安定性とが一層優れた2−フルオロフコシ
ル−N−アロイルグルコサミン誘導体及びその中間物、
並びにそれらの製造方法を提供することにある。
【0020】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上述した従
来の実情に鑑みて鋭意検討を重ねた結果、セレクチンと
好中球との接着を強力に阻害し、さらに優れた代謝安定
性を有する、N−アロイルグルコサミンの3位又は4位
の水酸基を2−フルオロフコースで置換したルイスX及
びルイスa類縁体の合成に成功した。
来の実情に鑑みて鋭意検討を重ねた結果、セレクチンと
好中球との接着を強力に阻害し、さらに優れた代謝安定
性を有する、N−アロイルグルコサミンの3位又は4位
の水酸基を2−フルオロフコースで置換したルイスX及
びルイスa類縁体の合成に成功した。
【0021】即ち、本発明は、下記の一般式(1)で表
される2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミ
ン誘導体(以下、本発明の誘導体と称することがあ
る。)に係るものである。
される2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミ
ン誘導体(以下、本発明の誘導体と称することがあ
る。)に係るものである。
【化25】 〔但し、前記一般式(1)において、X、Yは、下記一
般式(A)または(B)で表される基であって、X=一
般式(A)の場合は、Y=一般式(B)であり、X=一
般式(B)の場合は、Y=一般式(A)である。
般式(A)または(B)で表される基であって、X=一
般式(A)の場合は、Y=一般式(B)であり、X=一
般式(B)の場合は、Y=一般式(A)である。
【化26】 ここで、前記一般式(A)において、Rは、水素原子、
水酸基の保護基、リン酸残基、硫酸残基、又は下記一般
式(a)で表されるシアリル基である。
水酸基の保護基、リン酸残基、硫酸残基、又は下記一般
式(a)で表されるシアリル基である。
【化27】 (但し、前記一般式(a)において、R6 は、水素原
子、ナトリウム原子又は炭素原子数1〜10のアルキル
基を示し、R7 は、水素原子、炭素原子数1〜10のア
ルカノイル基又は炭素原子数7〜15のアロイル基を示
し、R8 は、アセチル基、ヒドロキシアセチル基又は炭
素原子数1〜10のアルカノイルオキシアセチル基を示
す。) また、前記一般式(1)において、R1 は水素原子、水
酸基、無置換の若しくは置換基を1個以上有する炭素原
子数1〜10のアルカノイルオキシ基、炭素原子数7〜
15のアロイルオキシ基、無置換の若しくは置換基を1
個以上有するアリールチオ基、炭素原子数1〜18のア
ルコキシ基、分岐状長鎖アルコキシ基、無置換の若しく
は置換基を1個以上有するアリールメトキシ基、炭素原
子数1〜4のアルキル基又はフェニル基を有する2−ト
リシリルエトキシ基、又は下記の一般式(b)又は
(c)で表される基である。
子、ナトリウム原子又は炭素原子数1〜10のアルキル
基を示し、R7 は、水素原子、炭素原子数1〜10のア
ルカノイル基又は炭素原子数7〜15のアロイル基を示
し、R8 は、アセチル基、ヒドロキシアセチル基又は炭
素原子数1〜10のアルカノイルオキシアセチル基を示
す。) また、前記一般式(1)において、R1 は水素原子、水
酸基、無置換の若しくは置換基を1個以上有する炭素原
子数1〜10のアルカノイルオキシ基、炭素原子数7〜
15のアロイルオキシ基、無置換の若しくは置換基を1
個以上有するアリールチオ基、炭素原子数1〜18のア
ルコキシ基、分岐状長鎖アルコキシ基、無置換の若しく
は置換基を1個以上有するアリールメトキシ基、炭素原
子数1〜4のアルキル基又はフェニル基を有する2−ト
リシリルエトキシ基、又は下記の一般式(b)又は
(c)で表される基である。
【化28】 {但し、前記一般式(b)及び(c)において、R
9 は、水素原子、炭素原子数1〜10のアルカノイル
基、炭素原子数7〜15のアロイル基、又は無置換の若
しくは置換基を有するフェニルメトキシ基を示し、R10
は、水素原子、水酸基、炭素原子数1〜4のアルキル基
又はフェニル基を有する2−トリシリルエトキシ基、炭
素原子数1〜30のアルコキシ基、又は下記一般式
(d)で表される基、R11は、水素原子、又は−O−C
(=NH)CCl3 を示す。
9 は、水素原子、炭素原子数1〜10のアルカノイル
基、炭素原子数7〜15のアロイル基、又は無置換の若
しくは置換基を有するフェニルメトキシ基を示し、R10
は、水素原子、水酸基、炭素原子数1〜4のアルキル基
又はフェニル基を有する2−トリシリルエトキシ基、炭
素原子数1〜30のアルコキシ基、又は下記一般式
(d)で表される基、R11は、水素原子、又は−O−C
(=NH)CCl3 を示す。
【化29】 (但し、前記一般式(d)において、R12は、水素原子
又はベンゾイル基を示し、R13はアジド、アミン、又は
NHCOR14(R14は炭素原子数15〜25のアルキル
基)で表されるスフィンゴシンを示し、R11は、水素原
子、又は−O−C(=NH)CCl3 を示す)}。ま
た、前記一般式(1)、(A)及び(B)において、R
2 、R3 及びR4 は、水素原子、炭素原子数1〜10の
アルカノイル基、炭素原子数7〜15のアロイル基、又
は無置換の若しくは置換基を有するフェニルメチル基
(但し、R2 、R3 及びR4 は少なくとも2つが互いに
同一であってよいし、或いは異なっていてもよい)を示
し、R5 は無置換の若しくは置換基を有するアロイル基
を示す。〕
又はベンゾイル基を示し、R13はアジド、アミン、又は
NHCOR14(R14は炭素原子数15〜25のアルキル
基)で表されるスフィンゴシンを示し、R11は、水素原
子、又は−O−C(=NH)CCl3 を示す)}。ま
た、前記一般式(1)、(A)及び(B)において、R
2 、R3 及びR4 は、水素原子、炭素原子数1〜10の
アルカノイル基、炭素原子数7〜15のアロイル基、又
は無置換の若しくは置換基を有するフェニルメチル基
(但し、R2 、R3 及びR4 は少なくとも2つが互いに
同一であってよいし、或いは異なっていてもよい)を示
し、R5 は無置換の若しくは置換基を有するアロイル基
を示す。〕
【0022】また、本発明は、本発明の誘導体を再現性
良く製造する方法として、下記一般式(A’)及び下記
一般式(B’)で表される化合物と、下記一般式
(C’)で表されるアロイルグルコサミン誘導体とを用
いる、2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミ
ン誘導体の製造方法(以下、本発明の誘導体の製造方法
と称することがある。)を提供するものである。
良く製造する方法として、下記一般式(A’)及び下記
一般式(B’)で表される化合物と、下記一般式
(C’)で表されるアロイルグルコサミン誘導体とを用
いる、2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミ
ン誘導体の製造方法(以下、本発明の誘導体の製造方法
と称することがある。)を提供するものである。
【化30】 (但し、前記一般式(A’)、(B’)及び(C’)に
おいて、R、R1 、R2、R3 、R4 及びR5 は前記し
たものと同じであり、R17、R18、R19及びR20は、そ
れぞれ反応性を示す基であって、R17はR19又はR20と
の反応性を示し、R18はR19又はR20との反応性を示
す)。
おいて、R、R1 、R2、R3 、R4 及びR5 は前記し
たものと同じであり、R17、R18、R19及びR20は、そ
れぞれ反応性を示す基であって、R17はR19又はR20と
の反応性を示し、R18はR19又はR20との反応性を示
す)。
【0023】また、本発明は、前記一般式(1)で表さ
れる2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン
誘導体(即ち、ルイスX誘導体、本発明の誘導体)の有
用な合成中間体として、下記一般式(4)で表される2
−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導体
の中間体(以下、本発明の第1の中間体と称することが
ある。)も提供するものである。
れる2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン
誘導体(即ち、ルイスX誘導体、本発明の誘導体)の有
用な合成中間体として、下記一般式(4)で表される2
−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導体
の中間体(以下、本発明の第1の中間体と称することが
ある。)も提供するものである。
【化31】 (但し、前記一般式(4)において、R1 及びR2 は、
請求項1に記載したものと同じであり、R15は、無置換
び若しくは置換基を有するフェニル基を示し、R16は無
置換の若しくは置換基を有するアロイル基を示す。)
請求項1に記載したものと同じであり、R15は、無置換
び若しくは置換基を有するフェニル基を示し、R16は無
置換の若しくは置換基を有するアロイル基を示す。)
【0024】さらに、本発明は、前記一般式(1)で表
される2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミ
ン誘導体(即ち、ルイスX誘導体、本発明の誘導体)の
有用な合成中間体として、下記一般式(5)で表される
2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導
体の中間体(以下、本発明の第2の中間体と称すること
がある。)も提供するものである。
される2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミ
ン誘導体(即ち、ルイスX誘導体、本発明の誘導体)の
有用な合成中間体として、下記一般式(5)で表される
2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導
体の中間体(以下、本発明の第2の中間体と称すること
がある。)も提供するものである。
【化32】 (但し、前記一般式(5)において、R1 、R2 及びR
4 は請求項1に記載したものと同じ、R16は請求項15
に記載したものと同じである。)
4 は請求項1に記載したものと同じ、R16は請求項15
に記載したものと同じである。)
【0025】また、本発明は、前記一般式(4)で表さ
れる2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン
誘導体の中間体(本発明の第1の中間体)を再現性良く
製造する方法として、下記一般式(i)で表されるアロ
イルグルコサミン誘導体と、前記一般式(B’)で表さ
れる化合物とを反応させる、2−フルオロフコシル−N
−アロイルグルコサミン誘導体の中間体の製造方法(以
下、本発明の第1の中間体の製造方法と称することがあ
る。)を提供するものである。
れる2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン
誘導体の中間体(本発明の第1の中間体)を再現性良く
製造する方法として、下記一般式(i)で表されるアロ
イルグルコサミン誘導体と、前記一般式(B’)で表さ
れる化合物とを反応させる、2−フルオロフコシル−N
−アロイルグルコサミン誘導体の中間体の製造方法(以
下、本発明の第1の中間体の製造方法と称することがあ
る。)を提供するものである。
【化33】 (但し、前記一般式(i)において、R1 、R15及びR
16請求項15に記載したものと同じであり、R20は、請
求項8に記載したものと同じである。)
16請求項15に記載したものと同じであり、R20は、請
求項8に記載したものと同じである。)
【0026】さらに、本発明は、前記一般式(5)で表
される2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミ
ン誘導体の中間体(即ち、本発明の第2の中間体)を再
現性良く製造する方法として、前記一般式(4)で表さ
れる2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン
誘導体の中間体のベンジリデン環基を開裂させる、2−
フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導体の
中間体の製造方法(以下、本発明の第2の中間体の製造
方法と称することがある。)も提供するものである。
される2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミ
ン誘導体の中間体(即ち、本発明の第2の中間体)を再
現性良く製造する方法として、前記一般式(4)で表さ
れる2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン
誘導体の中間体のベンジリデン環基を開裂させる、2−
フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導体の
中間体の製造方法(以下、本発明の第2の中間体の製造
方法と称することがある。)も提供するものである。
【0027】但し、上述した本発明の誘導体及びその中
間体(本発明の第1の中間体及び本発明の第2の中間
体)、更にはこれらの製造方法(本発明の誘導体の製造
方法、本発明の第1の中間体の製造方法及び本発明の第
2の中間体の製造方法;以下、これらを総称して単に
「本発明」と称することがある。)において、「誘導
体」とはその塩も含む概念である。
間体(本発明の第1の中間体及び本発明の第2の中間
体)、更にはこれらの製造方法(本発明の誘導体の製造
方法、本発明の第1の中間体の製造方法及び本発明の第
2の中間体の製造方法;以下、これらを総称して単に
「本発明」と称することがある。)において、「誘導
体」とはその塩も含む概念である。
【0028】
【発明の実施の形態】本発明の誘導体は、特に、下記一
般式(2)で表される2−フルオロフコシル−α−(1
→3)−N−アロイルグルコサミン誘導体(又はその
塩)であることが望ましい。
般式(2)で表される2−フルオロフコシル−α−(1
→3)−N−アロイルグルコサミン誘導体(又はその
塩)であることが望ましい。
【化34】 〔但し、前記一般式(2)において、Rは、水素原子、
水酸基の保護基、リン酸残基、硫酸残基、又は下記一般
式(a’)で表されるシアリル基である。
水酸基の保護基、リン酸残基、硫酸残基、又は下記一般
式(a’)で表されるシアリル基である。
【化35】 (但し、前記一般式(a’)において、R8 は脂肪族ア
シル基を示す。) また、前記一般式(2)において、R1 は、水素原子、
水酸基、無置換の若しくは以下に挙げる置換基を少なく
とも1個有する炭素原子数1〜18のアルカノイルオキ
シ基、炭素原子数7〜15のアロイルオキシ基、炭素原
子数1〜10のアルキルチオ基、無置換の若しくは前記
置換基を1個以上有するアリールチオ基、炭素原子数1
〜18のアルコキシ基、分岐状長鎖アルコキシ基、無置
換の若しくは前記置換基を1個以上有するアリールメト
キシ基、炭素原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基
を有する2−トリシリルエトキシ基、更に、下記一般式
(b’)又は下記一般式(c’)で表される基である。
シル基を示す。) また、前記一般式(2)において、R1 は、水素原子、
水酸基、無置換の若しくは以下に挙げる置換基を少なく
とも1個有する炭素原子数1〜18のアルカノイルオキ
シ基、炭素原子数7〜15のアロイルオキシ基、炭素原
子数1〜10のアルキルチオ基、無置換の若しくは前記
置換基を1個以上有するアリールチオ基、炭素原子数1
〜18のアルコキシ基、分岐状長鎖アルコキシ基、無置
換の若しくは前記置換基を1個以上有するアリールメト
キシ基、炭素原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基
を有する2−トリシリルエトキシ基、更に、下記一般式
(b’)又は下記一般式(c’)で表される基である。
【化36】 {但し、前記一般式(b’)及び(c’)において、R
10は水素原子、水酸基、炭素原子数1〜4のアルキル基
又はフェニル基を有する2−トリシリルエトキシ基、炭
素原子数1〜30のアルコキシ基、又は下記一般式
(d’)で表されるスフィンゴシンであり、R11は、水
素原子である。
10は水素原子、水酸基、炭素原子数1〜4のアルキル基
又はフェニル基を有する2−トリシリルエトキシ基、炭
素原子数1〜30のアルコキシ基、又は下記一般式
(d’)で表されるスフィンゴシンであり、R11は、水
素原子である。
【化37】 (但し、前記一般式(d’)において、R13はアジド、
アミン又はNHCOR14を示し、前記R14は炭素原子数
15〜25のアルキル基を示す)} ここで、前記一般式(2)において、前記R1 が前記置
換基を2個以上有する場合、この置換基は互いに異なっ
ていてもよい。また、この置換基は、ハロゲン原子、ト
リフルオロメチル基、水酸基、炭素原子数1〜18のア
ルコキシ基、アリールオキシ基、炭素原子数1〜10の
アルキルオキシ基を有するアリール基、アミノ基、炭素
原子数1〜10のアルキルアミノ基を有するアリール
基、炭素原子数1〜18のアルキル基を有するモノアミ
ノ基、炭素原子数1〜18のアルキル基を有するジアミ
ノ基、炭素原子数1〜18のアルキル基及び炭素原子数
1〜10のアリールアルキル基を有するアミノ基、炭素
原子数1〜18のアルカノイルアミノ基、炭素原子数7
〜15のアロイルアミノ基、炭素原子数1〜18のアル
キル基を有するモノカルバモイル基、炭素原子数1〜1
8のアルキル基を有するジカルバモイル基、炭素原子数
1〜10のアルキル基を有するアリールカルバモイル
基、炭素原子数1〜18のアルキル基及び炭素原子数1
〜10のアリールアルキル基を有するカルバモイル基、
アリールカルバモイル基、炭素原子数1〜18のアルカ
ノイル基、炭素原子数7〜15のアロイル基、炭素原子
数1〜18のアルキルチオ基、アリールチオ基、炭素原
子数1〜18のアルキルスルホニル基、アリールスルホ
ニル基、シアノ基及びニトロ基からななる群より選ばれ
た少なくとも1種の基である。なお、前記置換基のアル
キル鎖上或いはアリール環上に、さらに1回若しくは2
回、上述の置換基が置換した基もまた、前記置換基に含
まれる。また、R5 は無置換の若しくは置換基を有する
アロイル基である。〕
アミン又はNHCOR14を示し、前記R14は炭素原子数
15〜25のアルキル基を示す)} ここで、前記一般式(2)において、前記R1 が前記置
換基を2個以上有する場合、この置換基は互いに異なっ
ていてもよい。また、この置換基は、ハロゲン原子、ト
リフルオロメチル基、水酸基、炭素原子数1〜18のア
ルコキシ基、アリールオキシ基、炭素原子数1〜10の
アルキルオキシ基を有するアリール基、アミノ基、炭素
原子数1〜10のアルキルアミノ基を有するアリール
基、炭素原子数1〜18のアルキル基を有するモノアミ
ノ基、炭素原子数1〜18のアルキル基を有するジアミ
ノ基、炭素原子数1〜18のアルキル基及び炭素原子数
1〜10のアリールアルキル基を有するアミノ基、炭素
原子数1〜18のアルカノイルアミノ基、炭素原子数7
〜15のアロイルアミノ基、炭素原子数1〜18のアル
キル基を有するモノカルバモイル基、炭素原子数1〜1
8のアルキル基を有するジカルバモイル基、炭素原子数
1〜10のアルキル基を有するアリールカルバモイル
基、炭素原子数1〜18のアルキル基及び炭素原子数1
〜10のアリールアルキル基を有するカルバモイル基、
アリールカルバモイル基、炭素原子数1〜18のアルカ
ノイル基、炭素原子数7〜15のアロイル基、炭素原子
数1〜18のアルキルチオ基、アリールチオ基、炭素原
子数1〜18のアルキルスルホニル基、アリールスルホ
ニル基、シアノ基及びニトロ基からななる群より選ばれ
た少なくとも1種の基である。なお、前記置換基のアル
キル鎖上或いはアリール環上に、さらに1回若しくは2
回、上述の置換基が置換した基もまた、前記置換基に含
まれる。また、R5 は無置換の若しくは置換基を有する
アロイル基である。〕
【0029】また、本発明の誘導体は、特に、下記一般
式(3)で表される2−フルオロフコシル−α−(1→
3)−N−アロイルグルコサミン誘導体(又はその塩)
であってもよい。
式(3)で表される2−フルオロフコシル−α−(1→
3)−N−アロイルグルコサミン誘導体(又はその塩)
であってもよい。
【化38】 〔但し、前記一般式(3)において、R及びR5 は前述
したものと同じであり、R1 は、水素原子、水酸基、無
置換の若しくは前記置換基を少なくとも1個有する炭素
原子数1〜10のアルカノイルオキシ基、炭素原子数7
〜15のアロイル基、炭素原子数1〜10のアルキルチ
オ基、無置換の若しくは前記置換基を1個以上有するア
リールチオ基、炭素原子数1〜18のアルコキシ基、分
岐状長鎖アルコキシ基、無置換の若しくは前記置換基を
1個以上有するアリールメトキシ基、炭素原子数1〜4
のアルキル基又はフェニル基を有する2−トリシリルエ
トキシ基、更に、下記一般式(b’)又は下記一般式
(c’)で表される基である。
したものと同じであり、R1 は、水素原子、水酸基、無
置換の若しくは前記置換基を少なくとも1個有する炭素
原子数1〜10のアルカノイルオキシ基、炭素原子数7
〜15のアロイル基、炭素原子数1〜10のアルキルチ
オ基、無置換の若しくは前記置換基を1個以上有するア
リールチオ基、炭素原子数1〜18のアルコキシ基、分
岐状長鎖アルコキシ基、無置換の若しくは前記置換基を
1個以上有するアリールメトキシ基、炭素原子数1〜4
のアルキル基又はフェニル基を有する2−トリシリルエ
トキシ基、更に、下記一般式(b’)又は下記一般式
(c’)で表される基である。
【化39】 {但し、前記一般式(b’)及び(c’)において、R
10は水素原子、水酸基、炭素原子数1〜4のアルキル基
又はフェニル基を有する2−トリシリルエトキシ基、炭
素原子数1〜30のアルコキシ基、又は下記一般式
(d’)で表されるスフィンゴシンであり、R11は、水
素原子である。
10は水素原子、水酸基、炭素原子数1〜4のアルキル基
又はフェニル基を有する2−トリシリルエトキシ基、炭
素原子数1〜30のアルコキシ基、又は下記一般式
(d’)で表されるスフィンゴシンであり、R11は、水
素原子である。
【化40】 (但し、前記一般式(d’)において、R13はアジド、
アミン又はNHCOR14を示し、前記R14は炭素原子数
15〜25のアルキル基を示す)} ここで、前記一般式(3)において、前記R1 が前記置
換基を2個以上有する場合、この置換基は互いに異なっ
ていてもよい。また、前記置換基は前述したものと同じ
であり、この置換基のアルキル鎖上或いはアリール環上
に、さらに1回又は2回、上述の置換基が置換した基も
また、前記置換基に含まれる。〕
アミン又はNHCOR14を示し、前記R14は炭素原子数
15〜25のアルキル基を示す)} ここで、前記一般式(3)において、前記R1 が前記置
換基を2個以上有する場合、この置換基は互いに異なっ
ていてもよい。また、前記置換基は前述したものと同じ
であり、この置換基のアルキル鎖上或いはアリール環上
に、さらに1回又は2回、上述の置換基が置換した基も
また、前記置換基に含まれる。〕
【0030】また、本発明の第2の中間体としては、下
記一般式(5’)で表される化合物であることが望まし
い。
記一般式(5’)で表される化合物であることが望まし
い。
【化41】 〔但し、前記一般式(5’)において、R2 及びR
4 は、互いに同一若しくは異なっていてよく、水素原
子、炭素原子数1〜18のアルカノイル基、炭素原子数
7〜15のアロイル基、または無置換の若しくは置換基
を有するフェニルメチル基を表す。また、R5 は上記と
同じものを示す。また、R1 は、水素原子、水酸基、無
置換の若しくは前記置換基を少なくとも1個有する炭素
原子数1〜18のアルカノイル基、炭素原子数7〜15
のアロイル基、炭素原子数1〜10のアルキルチオ基、
無置換の若しくは前記置換基を1個以上有するアリール
チオ基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、分岐状長
鎖アルコキシ基、無置換の若しくは前記置換基を1個以
上有するアリールメトキシ基、炭素原子数1〜4のアル
キル基又はフェニル基を有する2−トリシリルエトキシ
基、更に、下記一般式(b)又は下記一般式(c)で表
される基である。
4 は、互いに同一若しくは異なっていてよく、水素原
子、炭素原子数1〜18のアルカノイル基、炭素原子数
7〜15のアロイル基、または無置換の若しくは置換基
を有するフェニルメチル基を表す。また、R5 は上記と
同じものを示す。また、R1 は、水素原子、水酸基、無
置換の若しくは前記置換基を少なくとも1個有する炭素
原子数1〜18のアルカノイル基、炭素原子数7〜15
のアロイル基、炭素原子数1〜10のアルキルチオ基、
無置換の若しくは前記置換基を1個以上有するアリール
チオ基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、分岐状長
鎖アルコキシ基、無置換の若しくは前記置換基を1個以
上有するアリールメトキシ基、炭素原子数1〜4のアル
キル基又はフェニル基を有する2−トリシリルエトキシ
基、更に、下記一般式(b)又は下記一般式(c)で表
される基である。
【化42】 {但し、前記一般式(b)及び(c)において、R
9 は、水素原子、炭素原子数1〜18のアルカノイル
基、炭素原子数7〜15のアロイル基、無置換の若しく
は置換基を有するフェニルメトキシ基を示し、R10は水
素原子、水酸基、炭素原子数1〜4のアルキル基又はフ
ェニル基を有する2−トリシリルエトキシ基、炭素原子
数1〜30のアルコキシ基、又は下記一般式(d)で表
されるスフィンゴシンであり、R11は、水素原子であ
る。
9 は、水素原子、炭素原子数1〜18のアルカノイル
基、炭素原子数7〜15のアロイル基、無置換の若しく
は置換基を有するフェニルメトキシ基を示し、R10は水
素原子、水酸基、炭素原子数1〜4のアルキル基又はフ
ェニル基を有する2−トリシリルエトキシ基、炭素原子
数1〜30のアルコキシ基、又は下記一般式(d)で表
されるスフィンゴシンであり、R11は、水素原子であ
る。
【化43】 (但し、前記一般式(d)において、R12は水素原子又
はベンゾイル基を示し、R13はアジド、アミン又はNH
COR14を示し、前記R14は炭素原子数15〜25のア
ルキル基を示す)} ここで、前記一般式(5’)において、前記R1 が前記
置換基を2個以上有する場合、この置換基は互いに異な
っていてもよい。また、前記置換基は上述したものと同
じである。〕
はベンゾイル基を示し、R13はアジド、アミン又はNH
COR14を示し、前記R14は炭素原子数15〜25のア
ルキル基を示す)} ここで、前記一般式(5’)において、前記R1 が前記
置換基を2個以上有する場合、この置換基は互いに異な
っていてもよい。また、前記置換基は上述したものと同
じである。〕
【0031】また、本発明の第1の中間体としては、特
に、下記一般式(4’)で表される化合物であることが
望ましい。
に、下記一般式(4’)で表される化合物であることが
望ましい。
【化44】 〔但し、前記一般式(4’)において、R15は、無置換
の若しくは置換基を有するフェニル基を示し、Zは、水
素原子又はハロゲン原子(少なくとも2つが同一であっ
てもよいし、すべて異なっていてもよい。)また、R1
及びR2 は前述したものと同じである。〕
の若しくは置換基を有するフェニル基を示し、Zは、水
素原子又はハロゲン原子(少なくとも2つが同一であっ
てもよいし、すべて異なっていてもよい。)また、R1
及びR2 は前述したものと同じである。〕
【0032】ここで、本発明の第1の中間体〔前記一般
式(4)〕及び第2の中間体〔前記一般式(5)〕にお
いては、前記R16が、フタルイミド環基(以下、フタル
イミド基又はフタルイミドと称することがある。)、2
−ナフトイルアミド基及び4−t−ブチルベンゾイルア
ミド基からなる群より選ばれた1種の基であってもよ
い。従って、本発明の第1の中間体の前駆体である前記
一般式(i)で表される化合物における前記R16も、前
述した基と同じ基であることが望ましい。なお、これら
の基においては、環部分が水素還元されたものであって
もよい。
式(4)〕及び第2の中間体〔前記一般式(5)〕にお
いては、前記R16が、フタルイミド環基(以下、フタル
イミド基又はフタルイミドと称することがある。)、2
−ナフトイルアミド基及び4−t−ブチルベンゾイルア
ミド基からなる群より選ばれた1種の基であってもよ
い。従って、本発明の第1の中間体の前駆体である前記
一般式(i)で表される化合物における前記R16も、前
述した基と同じ基であることが望ましい。なお、これら
の基においては、環部分が水素還元されたものであって
もよい。
【0033】次に、本発明における置換基を以下に説明
する。
する。
【0034】前記R1 や前記置換基における炭素原子数
1〜18のアルキル基とは、直鎖状若しくは分岐状のア
ルキル基であり、さらには、シクロアルキル基、(シク
ロアルキル)アルキル基又は(シクロアルキル)シクロ
アルキル基等である。
1〜18のアルキル基とは、直鎖状若しくは分岐状のア
ルキル基であり、さらには、シクロアルキル基、(シク
ロアルキル)アルキル基又は(シクロアルキル)シクロ
アルキル基等である。
【0035】具体的には、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、2−
ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、3−ペンチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、4−ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、5
−ノニル基、デシル基、ウンデシル基、6−ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、7−トリデシル基、テ
トラデシル基、ペンタデシル基、8−ペンタデシル基、
ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、9−ヘプタデシル
基、オクタデシル基、シクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基、シクロオクチル基、シクロペンチルメチル基、
シクロヘキシルメチル基、(4−シクロヘキシル)シク
ロヘキシル基などが挙げられる。
ル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、2−
ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、3−ペンチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、4−ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、5
−ノニル基、デシル基、ウンデシル基、6−ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、7−トリデシル基、テ
トラデシル基、ペンタデシル基、8−ペンタデシル基、
ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、9−ヘプタデシル
基、オクタデシル基、シクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基、シクロオクチル基、シクロペンチルメチル基、
シクロヘキシルメチル基、(4−シクロヘキシル)シク
ロヘキシル基などが挙げられる。
【0036】また、前記R1 や前記置換基における炭素
原子数1〜10のアルキル基を有するアリール基とは、
例えば、フェニル−炭素原子数1〜10のアルキル基、
即ち、末端にフェニル基を有する炭素原子数1〜10か
らなる直鎖状若しくは分岐状のアルキル基であり、具体
的には、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル
基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基、フェニル
ヘキシル基などを挙げることができる。
原子数1〜10のアルキル基を有するアリール基とは、
例えば、フェニル−炭素原子数1〜10のアルキル基、
即ち、末端にフェニル基を有する炭素原子数1〜10か
らなる直鎖状若しくは分岐状のアルキル基であり、具体
的には、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル
基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基、フェニル
ヘキシル基などを挙げることができる。
【0037】また、前記置換基や前記Zにおけるハロゲ
ン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子又はヨウ素原子を挙げることができる。
ン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子又はヨウ素原子を挙げることができる。
【0038】また、前記R1 及び前記置換基における炭
素原子数1〜18のアルコキシ基とは、直鎖状、分岐状
若しくは環状のアルコキシ基であって、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオ
キシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、
ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ
基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオ
キシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、
ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシリオキシ基、ヘプタ
デシルオキシ基、オクタデシルオキシ基などが挙げられ
る。
素原子数1〜18のアルコキシ基とは、直鎖状、分岐状
若しくは環状のアルコキシ基であって、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオ
キシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、
ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ
基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオ
キシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、
ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシリオキシ基、ヘプタ
デシルオキシ基、オクタデシルオキシ基などが挙げられ
る。
【0039】また、前記R1 及び前記置換基におけるア
リールとは、炭化水素、酸素原子を1つ含む炭化水素、
硫黄原子を1つ含む炭化水素、窒素原子を1つ含む炭化
水素、或いは窒素原子を2つ含む炭化水素のいずれか
が、環をなすことにより形成される。この環は、例え
ば、五員単環式、六員単環式、六員環と五員環とが縮合
した縮合多環式、或いは六員環同士が縮合した縮合多環
式の芳香環基を意味する。
リールとは、炭化水素、酸素原子を1つ含む炭化水素、
硫黄原子を1つ含む炭化水素、窒素原子を1つ含む炭化
水素、或いは窒素原子を2つ含む炭化水素のいずれか
が、環をなすことにより形成される。この環は、例え
ば、五員単環式、六員単環式、六員環と五員環とが縮合
した縮合多環式、或いは六員環同士が縮合した縮合多環
式の芳香環基を意味する。
【0040】即ち、例えば、フェニル基等の単環式芳香
族炭化水素基、例えば、ナフチル基、アントラセニル基
(アンスリル基)、フェナンスレニル基等の縮合多環式
芳香族炭化水素基、例えば、フリル基、チエニル基、ピ
リジル基、ピラジニル基、ベンゾフラニル(ベンゾ
〔b〕フラニル)基、イソベンゾフラニル(ベンゾ
〔c〕フラニル)基、ベンゾチエニル(ベンゾ〔b〕チ
エニル)基、イソベンゾチエニル(ベンゾ〔c〕チエニ
ル)基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、キノリニル
基、イソキノリニル基、キノキサリニル基、ナフチリジ
ニル基、フタラジニル基、キナゾリニル基等の酸素原
子、硫黄原子、或いは1ないし2個の窒素原子を含む芳
香族複素環式基等が挙げられる。
族炭化水素基、例えば、ナフチル基、アントラセニル基
(アンスリル基)、フェナンスレニル基等の縮合多環式
芳香族炭化水素基、例えば、フリル基、チエニル基、ピ
リジル基、ピラジニル基、ベンゾフラニル(ベンゾ
〔b〕フラニル)基、イソベンゾフラニル(ベンゾ
〔c〕フラニル)基、ベンゾチエニル(ベンゾ〔b〕チ
エニル)基、イソベンゾチエニル(ベンゾ〔c〕チエニ
ル)基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、キノリニル
基、イソキノリニル基、キノキサリニル基、ナフチリジ
ニル基、フタラジニル基、キナゾリニル基等の酸素原
子、硫黄原子、或いは1ないし2個の窒素原子を含む芳
香族複素環式基等が挙げられる。
【0041】このような基を形成するにあったての結合
枝の位置は、取り得る全ての位置より任意に選択するこ
とができる。なお、前記R1 におけるアリール基として
は、フェニル基が好ましい。
枝の位置は、取り得る全ての位置より任意に選択するこ
とができる。なお、前記R1 におけるアリール基として
は、フェニル基が好ましい。
【0042】また、前記R1 、R2 、R4 、R9 及び前
記置換基における炭素原子数1〜18のアルカノイル基
又は炭素原子数1〜18のアルカノイルとは、直鎖状又
は分岐状のアリキルカルボニル基、若しくはシクロアル
キルカルボニル基である。
記置換基における炭素原子数1〜18のアルカノイル基
又は炭素原子数1〜18のアルカノイルとは、直鎖状又
は分岐状のアリキルカルボニル基、若しくはシクロアル
キルカルボニル基である。
【0043】具体的には、ホルミル基、アセチル基、プ
ロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル
基、イソバレリル基、ピバロイル基、ペンタノイル基、
イソペンタノイル基、ネオペンタノイル基、ヘキサノイ
ル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノニル基、デ
カノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、ヘキ
サデカノイル基、ヘプタデカノイル基、オクタデカノイ
ル基、シクロペンタンカルボニル基、シクロヘキサンカ
ルボニル基等が挙げられる。
ロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル
基、イソバレリル基、ピバロイル基、ペンタノイル基、
イソペンタノイル基、ネオペンタノイル基、ヘキサノイ
ル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノニル基、デ
カノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、ヘキ
サデカノイル基、ヘプタデカノイル基、オクタデカノイ
ル基、シクロペンタンカルボニル基、シクロヘキサンカ
ルボニル基等が挙げられる。
【0044】また、前記置換基における炭素原子数1〜
18のアルカノイルアミノ基とは、炭素原子数1〜18
のアルキルカルボキサミド基と同義語であり、例えば、
炭素原子数1〜18の直鎖状若しくは分岐状のアルカノ
イル或いはシクロアルキルカルボニルが置換したアミノ
基である。
18のアルカノイルアミノ基とは、炭素原子数1〜18
のアルキルカルボキサミド基と同義語であり、例えば、
炭素原子数1〜18の直鎖状若しくは分岐状のアルカノ
イル或いはシクロアルキルカルボニルが置換したアミノ
基である。
【0045】具体的には、アセチルアミノ基、プロピオ
ニルアミノ基、ブチリルアミノ基、バレリルアミノ基、
ペンタノイルアミノ基、シクロペンチルカルボキサミド
基、シクロヘキシルカルボキサミド基、ヘプタノイルア
ミノ基、オクタノイルアミノ基、ノナノイルアミノ基、
デカノイルアミノ基、ウンデカノイルアミノ基、ドデカ
ノイルアミノ基、トリデカノイルアミノ基、テトラデカ
ノイルアミノ基、ペンタデカノイルアミノ基、ヘキサデ
カノイルアミノ基、ヘプタデカノイルアミノ基、オクタ
デカノイルアミノ基等が挙げられる。
ニルアミノ基、ブチリルアミノ基、バレリルアミノ基、
ペンタノイルアミノ基、シクロペンチルカルボキサミド
基、シクロヘキシルカルボキサミド基、ヘプタノイルア
ミノ基、オクタノイルアミノ基、ノナノイルアミノ基、
デカノイルアミノ基、ウンデカノイルアミノ基、ドデカ
ノイルアミノ基、トリデカノイルアミノ基、テトラデカ
ノイルアミノ基、ペンタデカノイルアミノ基、ヘキサデ
カノイルアミノ基、ヘプタデカノイルアミノ基、オクタ
デカノイルアミノ基等が挙げられる。
【0046】また、前記置換基は、炭素原子数1〜18
のアルキル基を有するモノカルバモイル基であってよ
く、これは、炭素原子数1〜18のアルキル基を有する
モノアミノカルボニル基と同意義であり、直鎖状若しく
は分岐状のアルキルアミノ或いはシクロアルキルアミノ
が置換したカルボニル基である。
のアルキル基を有するモノカルバモイル基であってよ
く、これは、炭素原子数1〜18のアルキル基を有する
モノアミノカルボニル基と同意義であり、直鎖状若しく
は分岐状のアルキルアミノ或いはシクロアルキルアミノ
が置換したカルボニル基である。
【0047】具体的には、メチルカルバモイル基、エチ
ルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカ
ルバモイル基、ペンチルカルバモイル基、シクロペンチ
ルカルバモイル基、ヘキシルカルバモイル基、シクロヘ
キシルカルバモイル基、ヘプチルカルバモイル基、オク
チルカルバモイル基、ノニルカルバモイル基、デシルカ
ルバモイル基、ウンデシルカルバモイル基、ドデシルカ
ルバモイル基、トリデシルカルバモイル基、テトラデシ
ルカルバモイル基、ペンタデシルカルバモイル基、ヘキ
サデシルカルバモイル基、ヘプタデシルカルバモイル
基、オクタデシルカルバモイル基等が挙げられる。
ルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカ
ルバモイル基、ペンチルカルバモイル基、シクロペンチ
ルカルバモイル基、ヘキシルカルバモイル基、シクロヘ
キシルカルバモイル基、ヘプチルカルバモイル基、オク
チルカルバモイル基、ノニルカルバモイル基、デシルカ
ルバモイル基、ウンデシルカルバモイル基、ドデシルカ
ルバモイル基、トリデシルカルバモイル基、テトラデシ
ルカルバモイル基、ペンタデシルカルバモイル基、ヘキ
サデシルカルバモイル基、ヘプタデシルカルバモイル
基、オクタデシルカルバモイル基等が挙げられる。
【0048】さらに、前記置換基における炭素原子数1
〜18のアルキル基を有するジカルバモイル基とは、炭
素原子数1〜18のアルキル基を有するジアミノカルボ
ニル基と同意義であって、例えば、ジメチルカルバモイ
ル基、ジエチルカルバモイル基等が挙げられる。
〜18のアルキル基を有するジカルバモイル基とは、炭
素原子数1〜18のアルキル基を有するジアミノカルボ
ニル基と同意義であって、例えば、ジメチルカルバモイ
ル基、ジエチルカルバモイル基等が挙げられる。
【0049】また、前記置換基のアルキル鎖上或いはア
リール環上に、さらに1回又は2回、上述の置換基が置
換した基もまた前記置換基に含まれる。即ち、具体的に
は、2−(2−エトキシエトキシ)−3−オキサペンチ
ルオキシ基、3,6−ジオキサオクチルオキシ基、3,
6,9−トリオキサウンデシルオキシ基、3,4,5−
トリメトキシベンジルオキシ基、2−ベンジルオキシエ
トキシ基、2−(3,4,5−トリメトキシベンジルオ
キシ)エトキシ基、7−フェニル−3,6−ジオキサヘ
プチルオキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2−(2
−ヒドロキシエトキシ)−8−ヒドロキシ−3,6−ジ
オキサオクチルオキシ基、1,1−ヒドロキシ−3,
6,9−トリオキサウンデシルオキシ基等も前記置換基
に含まれるものである。
リール環上に、さらに1回又は2回、上述の置換基が置
換した基もまた前記置換基に含まれる。即ち、具体的に
は、2−(2−エトキシエトキシ)−3−オキサペンチ
ルオキシ基、3,6−ジオキサオクチルオキシ基、3,
6,9−トリオキサウンデシルオキシ基、3,4,5−
トリメトキシベンジルオキシ基、2−ベンジルオキシエ
トキシ基、2−(3,4,5−トリメトキシベンジルオ
キシ)エトキシ基、7−フェニル−3,6−ジオキサヘ
プチルオキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2−(2
−ヒドロキシエトキシ)−8−ヒドロキシ−3,6−ジ
オキサオクチルオキシ基、1,1−ヒドロキシ−3,
6,9−トリオキサウンデシルオキシ基等も前記置換基
に含まれるものである。
【0050】上述した置換基のアルキル鎖上或いはアリ
ール環上における置換位置としては、糖鎖還元末端の酸
素原子と直接結合する炭素原子を除く、全ての炭素原子
上が可能である。
ール環上における置換位置としては、糖鎖還元末端の酸
素原子と直接結合する炭素原子を除く、全ての炭素原子
上が可能である。
【0051】これらの置換基は、そのアルキル鎖上或い
はアリール環上に、単に一つだけでなく、複数個(特に
2〜5個)置換することもできる。さらに、この場合の
置換基の種類は、少なくとも2種が同種のものであって
もよいし、全て異なるものであってもよい。
はアリール環上に、単に一つだけでなく、複数個(特に
2〜5個)置換することもできる。さらに、この場合の
置換基の種類は、少なくとも2種が同種のものであって
もよいし、全て異なるものであってもよい。
【0052】また、前記R5 における置換基を有するア
ロイル基とは、以下に記する置換基のうち、1種又は複
数種の置換基を、1個又は複数個、芳香環上に有するア
ロイル基(アリールカルボニル基)を意味する。
ロイル基とは、以下に記する置換基のうち、1種又は複
数種の置換基を、1個又は複数個、芳香環上に有するア
ロイル基(アリールカルボニル基)を意味する。
【0053】このような置換基としては、ハロゲン原
子、ニトロ基、トリフルオロメチル基、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、t−ブチル基、ペンチル基、3−ペンチル基、
イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基、4−ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、5−ノ
ニル基、デシル基、ウンデシル基、6−ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、7−トリデシル基、テトラ
デシル基、ペンタデシル基、8−ペンタデシル基、ヘキ
サデシル基、ヘプタデシル基、9−ヘプタデシル基、オ
クタデシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル
基、シクロオクチル基、シクロペンチルメチル基、シク
ロヘキシルメチル基、(4−シクロヘキシル)シクロヘ
キシル基等の炭素原子数1〜18個のアルキル基又はフ
ェニル基が挙げられる。
子、ニトロ基、トリフルオロメチル基、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、t−ブチル基、ペンチル基、3−ペンチル基、
イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基、4−ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、5−ノ
ニル基、デシル基、ウンデシル基、6−ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、7−トリデシル基、テトラ
デシル基、ペンタデシル基、8−ペンタデシル基、ヘキ
サデシル基、ヘプタデシル基、9−ヘプタデシル基、オ
クタデシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル
基、シクロオクチル基、シクロペンチルメチル基、シク
ロヘキシルメチル基、(4−シクロヘキシル)シクロヘ
キシル基等の炭素原子数1〜18個のアルキル基又はフ
ェニル基が挙げられる。
【0054】このような置換基としては、さらに、メト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペン
チルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキ
シ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オ
クチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウ
ンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキ
シ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基、
ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタ
デシルオキシ基等の炭素原子数1〜18のアルコキシ基
が挙げられる。
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペン
チルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキ
シ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オ
クチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウ
ンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキ
シ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基、
ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタ
デシルオキシ基等の炭素原子数1〜18のアルコキシ基
が挙げられる。
【0055】また、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、
置換基を有するベンジルオキシ基、アミノ基、ベンジル
アミノ基、置換基を有するベンジルアミノ基、炭素原子
数1〜18のモノアルキルアミノ基、各々が炭素原子数
1〜18のジアルキルアミノ基、アルキル鎖の炭素原子
数が1〜18のアルキルベンジルアミノ基が挙げられ
る。
置換基を有するベンジルオキシ基、アミノ基、ベンジル
アミノ基、置換基を有するベンジルアミノ基、炭素原子
数1〜18のモノアルキルアミノ基、各々が炭素原子数
1〜18のジアルキルアミノ基、アルキル鎖の炭素原子
数が1〜18のアルキルベンジルアミノ基が挙げられ
る。
【0056】例えば、アセチルアミノ基、プロピオニル
アミノ基、ブチリルアミノ基、バレリルアミノ基、ベン
タノイルアミノ基、シクロペンタンカルボキサミド基、
ヘキサノイルアミノ基、シクロヘキサンカルボキサミド
基、ヘプタノイルアミノ基、オクタノイルアミノ基、ノ
ナノイルアミノ基、デカノイルアミノ基、ウンデカノイ
ルアミノ基、ドデカノイルアミノ基、トリデカノイルア
ミノ基、テトラデカノイルアミノ基、ペンタデカノイル
アミノ基、ヘキサデカノイルアミノ基、ヘプタデカノイ
ルアミノ基、オクタデカノイルアミノ基等の炭素原子数
1〜18のアルカノイルアミノ基(アルキルカルボサミ
ド基)が挙げられる。
アミノ基、ブチリルアミノ基、バレリルアミノ基、ベン
タノイルアミノ基、シクロペンタンカルボキサミド基、
ヘキサノイルアミノ基、シクロヘキサンカルボキサミド
基、ヘプタノイルアミノ基、オクタノイルアミノ基、ノ
ナノイルアミノ基、デカノイルアミノ基、ウンデカノイ
ルアミノ基、ドデカノイルアミノ基、トリデカノイルア
ミノ基、テトラデカノイルアミノ基、ペンタデカノイル
アミノ基、ヘキサデカノイルアミノ基、ヘプタデカノイ
ルアミノ基、オクタデカノイルアミノ基等の炭素原子数
1〜18のアルカノイルアミノ基(アルキルカルボサミ
ド基)が挙げられる。
【0057】また、ベンゾイルアミノ基、ナフトイルア
ミノ基等の炭素原子数7〜15のアロイルアミノ基やカ
ルボキシル基が挙げられる。
ミノ基等の炭素原子数7〜15のアロイルアミノ基やカ
ルボキシル基が挙げられる。
【0058】例えば、メチルカルバモイル基、エチルカ
ルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバ
モイル基、ペンチルカルバモイル基、シクロペンチルカ
ルバモイル基、ヘキシルカルバモイル基、シクロヘキシ
ルカルバモイル基、ヘプチルカルバモイル基、オクチル
カルバモイル基、ノニルカルバモイル基、デシルカルバ
モイル基、ウンデシルカルバモイル基、ドデシルカルバ
モイル基、トリデシルカルバモイル基、テトラデシルカ
ルバモイル基、ペンタデシルカルバモイル基、ヘキサデ
シルカルバモイル基、ヘプタデシルカルバモイル基、オ
クタデシルカルバモイル基等のアルキル部分の炭素原子
数が1〜18のアルキルカルバモイル基(アルキルアミ
ノカルボニル基)、アリールカルバモイル基、炭素原子
数が1〜18ノアルキルチオ基、アリールチオ基、炭素
原子数が1〜18のアルキルスルホニル基、アリールス
ルホニル基及びシアノ基等を挙げることができる。
ルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバ
モイル基、ペンチルカルバモイル基、シクロペンチルカ
ルバモイル基、ヘキシルカルバモイル基、シクロヘキシ
ルカルバモイル基、ヘプチルカルバモイル基、オクチル
カルバモイル基、ノニルカルバモイル基、デシルカルバ
モイル基、ウンデシルカルバモイル基、ドデシルカルバ
モイル基、トリデシルカルバモイル基、テトラデシルカ
ルバモイル基、ペンタデシルカルバモイル基、ヘキサデ
シルカルバモイル基、ヘプタデシルカルバモイル基、オ
クタデシルカルバモイル基等のアルキル部分の炭素原子
数が1〜18のアルキルカルバモイル基(アルキルアミ
ノカルボニル基)、アリールカルバモイル基、炭素原子
数が1〜18ノアルキルチオ基、アリールチオ基、炭素
原子数が1〜18のアルキルスルホニル基、アリールス
ルホニル基及びシアノ基等を挙げることができる。
【0059】また、前記R6 における炭素原子数1〜1
0のアルキル基とは、直鎖状又は分岐状のアルキル基で
あり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル
基、ペンチル基、3−ペンチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
0のアルキル基とは、直鎖状又は分岐状のアルキル基で
あり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル
基、ペンチル基、3−ペンチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
【0060】また、前記R1 、R2 、R3 ,R4 、
R7 、R8 及びR9 における炭素原子数1〜10のアル
カノイル基又は炭素原子数1〜10のアルカノイルと
は、炭素原子数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキル
カルボニルであり、そのアルキル部分は1個又は複数個
のハロゲン原子等によって置換されていてもよい。
R7 、R8 及びR9 における炭素原子数1〜10のアル
カノイル基又は炭素原子数1〜10のアルカノイルと
は、炭素原子数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキル
カルボニルであり、そのアルキル部分は1個又は複数個
のハロゲン原子等によって置換されていてもよい。
【0061】具体的には、ホルミル基、アセチル基、ク
ロロアセチル基、ジクロロアセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバ
レリル基、ピバロイル基、ペンタノイル基、イソペンタ
ノイル基、ネオペンタノイル基等が挙げられ、特に好ま
しくは、アセチル基、クロロアセチル基、トリクロロア
セチル基等である。
ロロアセチル基、ジクロロアセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバ
レリル基、ピバロイル基、ペンタノイル基、イソペンタ
ノイル基、ネオペンタノイル基等が挙げられ、特に好ま
しくは、アセチル基、クロロアセチル基、トリクロロア
セチル基等である。
【0062】また、前記R1 、R2 、R3 ,R4 、
R5 、R7 及びR9 におけるアロイル基又はアロイルと
は、アリールカルボニル基と同意語であり、そのアリー
ル部分は、前記R1 や前記置換基におけるアリール基で
述べたような置換基を有するアリール基であってもよ
い。
R5 、R7 及びR9 におけるアロイル基又はアロイルと
は、アリールカルボニル基と同意語であり、そのアリー
ル部分は、前記R1 や前記置換基におけるアリール基で
述べたような置換基を有するアリール基であってもよ
い。
【0063】また、前記R2 、R3 及びR4 における置
換基を有するフェニルメチル基とは、フェニル環上にハ
ロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数1〜6のアルコキシ
基等の置換基を有するベンジル基を意味し、具体的に
は、4−フルオロベンジル基、4−ニトロベンジル基、
4−メトキシベンジル基等が挙げられる。特に、4−メ
トキシベンジル基が好ましい。
換基を有するフェニルメチル基とは、フェニル環上にハ
ロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数1〜6のアルコキシ
基等の置換基を有するベンジル基を意味し、具体的に
は、4−フルオロベンジル基、4−ニトロベンジル基、
4−メトキシベンジル基等が挙げられる。特に、4−メ
トキシベンジル基が好ましい。
【0064】また、前記R1 及びR10における炭素原子
数1〜4のアルキル基又はフェニル基を有する2−トリ
シリルエトキシ基とは、同種又は異種の炭素原子数1〜
4のアルキル基又はフェニル基が、ケイ素原子上に合計
3個置換した2−シリルエトキシ基を意味し、具体的に
は、2−トリメチルシリルエトキシ基、2−トリエチル
シリルエトキシ基、2−(トリイソプロピルシリル)エ
トキシ基、2−(t−ブチルジメチルシリル)エトキシ
基、2−(トリイソプロピルシリル)エトキシ基、2−
トリフェニルシリルエトキシ基、2−(t−ブチルジエ
チルシリル)エトキシ基、2−(ジフェニルメチルシリ
ル)エトキシ基、2−(t−ブチルジフェニルシリル)
エトキシ基等を挙げることができる。
数1〜4のアルキル基又はフェニル基を有する2−トリ
シリルエトキシ基とは、同種又は異種の炭素原子数1〜
4のアルキル基又はフェニル基が、ケイ素原子上に合計
3個置換した2−シリルエトキシ基を意味し、具体的に
は、2−トリメチルシリルエトキシ基、2−トリエチル
シリルエトキシ基、2−(トリイソプロピルシリル)エ
トキシ基、2−(t−ブチルジメチルシリル)エトキシ
基、2−(トリイソプロピルシリル)エトキシ基、2−
トリフェニルシリルエトキシ基、2−(t−ブチルジエ
チルシリル)エトキシ基、2−(ジフェニルメチルシリ
ル)エトキシ基、2−(t−ブチルジフェニルシリル)
エトキシ基等を挙げることができる。
【0065】また、前記一般式(A’)及び(B’)に
おいて、前記R17及び前記R18としては、例えば、OA
c、OBzなどのアシルオキシ基やアロイルオキシ基、
SMe、SEt、SPhなどのアルキルチオ基やアリー
ルチオ基、S(O)Me、S(O)Et、S(O)Ph
などのアルキルスルホキシド基やアリールスルホキシド
基、OC(=NH)CCl3 で表されるトリクロロアセ
トイミテート基、F、Br、Cl、Iで表されるハロゲ
ン原子、O−(CH2 )3 CH=CH2 で表される4−
ペンテニルオキシ基、SePhで表されるフェニルセレ
ニル基、O−P(O)(OMe)2 、O−P(O)(O
Et)2 、O−P(O)(OPh)2 などのジアルキル
ホスファート基やジアリールホスファート基、O−P
(OMe)2 、O−P(O)(OEt)2 、O−P
(O)(OPh)2などのジアルキルホスファイト基や
ジアリールホスファイト基、O−P(=NTs)(NP
h2 )2 で表されるジフェニルホスフィンイミテート
基、O−P(O)(NMe2 )2 で表されるテトラメチ
ルホスホロアミダート基などが挙げられる。また、前記
R19及び前記R20としては、例えば、水素原子又はSi
Me3 、SiEt3 、SiPh3 などのトリアルキルシ
ラン基やトリアリールシラン基などが挙げられる。
おいて、前記R17及び前記R18としては、例えば、OA
c、OBzなどのアシルオキシ基やアロイルオキシ基、
SMe、SEt、SPhなどのアルキルチオ基やアリー
ルチオ基、S(O)Me、S(O)Et、S(O)Ph
などのアルキルスルホキシド基やアリールスルホキシド
基、OC(=NH)CCl3 で表されるトリクロロアセ
トイミテート基、F、Br、Cl、Iで表されるハロゲ
ン原子、O−(CH2 )3 CH=CH2 で表される4−
ペンテニルオキシ基、SePhで表されるフェニルセレ
ニル基、O−P(O)(OMe)2 、O−P(O)(O
Et)2 、O−P(O)(OPh)2 などのジアルキル
ホスファート基やジアリールホスファート基、O−P
(OMe)2 、O−P(O)(OEt)2 、O−P
(O)(OPh)2などのジアルキルホスファイト基や
ジアリールホスファイト基、O−P(=NTs)(NP
h2 )2 で表されるジフェニルホスフィンイミテート
基、O−P(O)(NMe2 )2 で表されるテトラメチ
ルホスホロアミダート基などが挙げられる。また、前記
R19及び前記R20としては、例えば、水素原子又はSi
Me3 、SiEt3 、SiPh3 などのトリアルキルシ
ラン基やトリアリールシラン基などが挙げられる。
【0066】さらに、本発明の誘導体〔2−フルオロフ
コシル−α−(1→3又は1→4)−N−アロイルグル
コサミン誘導体〕は塩を形成していてもよく、このよう
な塩としては、例えば、ナトリウム塩、リチウム塩、カ
リウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等が挙げられ
る。
コシル−α−(1→3又は1→4)−N−アロイルグル
コサミン誘導体〕は塩を形成していてもよく、このよう
な塩としては、例えば、ナトリウム塩、リチウム塩、カ
リウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等が挙げられ
る。
【0067】以上の一般式は、具体的には、例えば、次
の化学構造式(α)、(β)、(γ)及び(δ)で表さ
れる2−フルオロフコシル−α−(1→3又は1→4)
−N−アロイルグルコサミン誘導体に関するものであ
る。但し、下記の構造式中、「Ac」とはアセチル基を
意味する。なお、これらの化合物は文献未載であり、優
れたセレクチン接着阻害活性や代謝安定性を示す誘導体
として提供できる化合物である。
の化学構造式(α)、(β)、(γ)及び(δ)で表さ
れる2−フルオロフコシル−α−(1→3又は1→4)
−N−アロイルグルコサミン誘導体に関するものであ
る。但し、下記の構造式中、「Ac」とはアセチル基を
意味する。なお、これらの化合物は文献未載であり、優
れたセレクチン接着阻害活性や代謝安定性を示す誘導体
として提供できる化合物である。
【化45】
【0068】次に、本発明の誘導体やその中間体、並び
にこれらの製造方法に関して、その例を説明する。
にこれらの製造方法に関して、その例を説明する。
【0069】フッ素置換ルイスX誘導体である本発明の
2−フルオロフコシル−α−(1→3又は1→4)−N
−アロイルグルコサミン誘導体は、前記一般式(1)や
前記構造式(α)、(β)、(γ)及び(δ)から分か
るように、その基本骨格は、ガラクト−ス部分と、2−
フオロフコース部分と、N−アロイルグルコサミン部分
とから構成されるものである。
2−フルオロフコシル−α−(1→3又は1→4)−N
−アロイルグルコサミン誘導体は、前記一般式(1)や
前記構造式(α)、(β)、(γ)及び(δ)から分か
るように、その基本骨格は、ガラクト−ス部分と、2−
フオロフコース部分と、N−アロイルグルコサミン部分
とから構成されるものである。
【0070】なお、本発明の誘導体の製造方法におい
て、例えば、保護されたシアリルルイスX誘導体をPd
−C/H2 で接触還元して脱ベンジルを行い、最終的に
グルコサミン部分にアロイルアミドを持つ本発明に基づ
くシアリルルイスX誘導体へ誘導しているが、このよう
な方法は本発明者によってはじめて見出されたものであ
る。例えば、この接触還元を避けるために、酸素法で骨
格部分を合成する方法が知られているが、これに対し
て、本発明によれば、非酵素的にアロイルグルコサミン
含有シアリルルイスX誘導体を得ることが可能である。
て、例えば、保護されたシアリルルイスX誘導体をPd
−C/H2 で接触還元して脱ベンジルを行い、最終的に
グルコサミン部分にアロイルアミドを持つ本発明に基づ
くシアリルルイスX誘導体へ誘導しているが、このよう
な方法は本発明者によってはじめて見出されたものであ
る。例えば、この接触還元を避けるために、酸素法で骨
格部分を合成する方法が知られているが、これに対し
て、本発明によれば、非酵素的にアロイルグルコサミン
含有シアリルルイスX誘導体を得ることが可能である。
【0071】まず、前記構造式(α)及び(β)で表さ
れる2−フルオロフコシル−α−(1→3)−N−アロ
イルグルコサミン誘導体について説明する。
れる2−フルオロフコシル−α−(1→3)−N−アロ
イルグルコサミン誘導体について説明する。
【0072】この誘導体に関して、新規フッ素含有フコ
シルグルコサミンラクトシド誘導体の製造方法として
は、例えば、下記の構造式(10)で表される化合物を始
めに合成し、次いで、下記構造式(11)、(12)で表さ
れる化合物に導いた後、下記構造式(13)で表されるシ
アリルガラクトース部分を反応させることで、シアリル
ルイスX糖鎖〔構造式(14)〕を得ることができる。但
し、式中、「Bn」とは、ベンジル基を意味し、「B
z」とは、ベンゾイル基を意味する(以下、同様)。
シルグルコサミンラクトシド誘導体の製造方法として
は、例えば、下記の構造式(10)で表される化合物を始
めに合成し、次いで、下記構造式(11)、(12)で表さ
れる化合物に導いた後、下記構造式(13)で表されるシ
アリルガラクトース部分を反応させることで、シアリル
ルイスX糖鎖〔構造式(14)〕を得ることができる。但
し、式中、「Bn」とは、ベンジル基を意味し、「B
z」とは、ベンゾイル基を意味する(以下、同様)。
【化46】
【0073】さらに、構造式(14)で示される化合物を
接触還元、アセチル化することで、そのナフタレン部分
が還元されたシアリルルイスX糖鎖誘導体〔構造式(1
5)〕を得ることができる。
接触還元、アセチル化することで、そのナフタレン部分
が還元されたシアリルルイスX糖鎖誘導体〔構造式(1
5)〕を得ることができる。
【化47】
【0074】次いで、脱アセチル化、アルカリ加水分解
によって本発明に基づく2−フルオロフコシル−N−ア
ロイルグルコサミン誘導体〔構造式(α)〕を製造する
ことができる。
によって本発明に基づく2−フルオロフコシル−N−ア
ロイルグルコサミン誘導体〔構造式(α)〕を製造する
ことができる。
【化48】
【0075】また、シアリルルイスX糖鎖誘導体〔構造
式(15)〕からは、例えば、Journal of Carbohydrate
Chemistry, 10 (1991) 549-560 に記載された方法によ
ってセラミドと呼ばれる脂質を導入することで、シアリ
ルルイスXガングリオシド誘導体へと誘導することも可
能である。
式(15)〕からは、例えば、Journal of Carbohydrate
Chemistry, 10 (1991) 549-560 に記載された方法によ
ってセラミドと呼ばれる脂質を導入することで、シアリ
ルルイスXガングリオシド誘導体へと誘導することも可
能である。
【0076】また、構造式(10)で表される化合物から
出発して、構造式(16)及び(17)で表される化合物へ
導いたのち、シアリルガラクトース〔構造式(13)〕を
導入することで、シアリルルイスX糖鎖〔構造式(1
8)〕を得ることもできる。
出発して、構造式(16)及び(17)で表される化合物へ
導いたのち、シアリルガラクトース〔構造式(13)〕を
導入することで、シアリルルイスX糖鎖〔構造式(1
8)〕を得ることもできる。
【化49】
【0077】この構造式(18)で表される化合物をさら
に、接触還元、アセチル化、脱アセチル化、及びアルカ
リ加水分解することで、本発明に基づく2−フルオロフ
コシル−N−アロイルグルコサミン誘導体〔構造式
(β)〕を製造することができる。
に、接触還元、アセチル化、脱アセチル化、及びアルカ
リ加水分解することで、本発明に基づく2−フルオロフ
コシル−N−アロイルグルコサミン誘導体〔構造式
(β)〕を製造することができる。
【化50】
【0078】次に、構造式(α)で示される2−フルオ
ロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導体〔2−フ
ルオロフコシル−α−(1→3)−N−アロイルグルコ
サミン誘導体〕の製造方法例を下記の反応スキーム1及
び反応スキーム2を参照に説明する。
ロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導体〔2−フ
ルオロフコシル−α−(1→3)−N−アロイルグルコ
サミン誘導体〕の製造方法例を下記の反応スキーム1及
び反応スキーム2を参照に説明する。
【0079】この反応工程では、2−(トリメチルシリ
ル)エチル O−(4,6−O−ベンジリデン−2−デ
オキシ−2−フタルイミド−β−D−グルコピラノシ
ル)−(1→3)−O−(2,4,6−トリ−O−ベン
ジル−β−D−ガラクトピラノシル)−(1→4)−
2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−D−グルコピラ
ノシド〔前記構造式(e)〕を出発原料に用いることが
できる。この化合物は、Carbohydrate Research, 200(1
990) 269-285 に記載した方法により合成することがで
きる。
ル)エチル O−(4,6−O−ベンジリデン−2−デ
オキシ−2−フタルイミド−β−D−グルコピラノシ
ル)−(1→3)−O−(2,4,6−トリ−O−ベン
ジル−β−D−ガラクトピラノシル)−(1→4)−
2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−D−グルコピラ
ノシド〔前記構造式(e)〕を出発原料に用いることが
できる。この化合物は、Carbohydrate Research, 200(1
990) 269-285 に記載した方法により合成することがで
きる。
【0080】まず、下記の反応スキーム1に示す如く、
反応促進剤としてジメチル(メチルチオ)スルホニウム
トリフレート(DMTST)を用いて、前記構造式
(f)で示されるメチル−3,4−ジ−O−ベンジル−
2−デオキシ−2−フルオロ−1−チオ−L−フコピラ
ノシド(この製造方法については、特開平9−0529
02号を参照)を前記構造式(e)で表される化合物と
反応させ、α−グリコシド誘導体〔構造式(10)〕を得
ることができる〔反応工程(a)〕。
反応促進剤としてジメチル(メチルチオ)スルホニウム
トリフレート(DMTST)を用いて、前記構造式
(f)で示されるメチル−3,4−ジ−O−ベンジル−
2−デオキシ−2−フルオロ−1−チオ−L−フコピラ
ノシド(この製造方法については、特開平9−0529
02号を参照)を前記構造式(e)で表される化合物と
反応させ、α−グリコシド誘導体〔構造式(10)〕を得
ることができる〔反応工程(a)〕。
【0081】次いで、このα−グリコシドの脱フタルイ
ミド化後、2−ナフトイル化〔構造式(11)〕してから
〔反応工程(b)〕、ベンジリデン基の還元的開裂〔構
造式(12)〕を行い〔反応工程(c)〕、これにシアリ
ルガラクトース部〔構造式(13)〕の導入を行う〔反応
工程(d)〕ことで、シアリルルイスX6糖〔構造式
(14);本発明の一般式(1)に対応する〕を得ること
ができる。但し、前記構造式(13)で表される化合物
は、前記構造式(g)で表される化合物と同じものであ
る(以下、同様)。
ミド化後、2−ナフトイル化〔構造式(11)〕してから
〔反応工程(b)〕、ベンジリデン基の還元的開裂〔構
造式(12)〕を行い〔反応工程(c)〕、これにシアリ
ルガラクトース部〔構造式(13)〕の導入を行う〔反応
工程(d)〕ことで、シアリルルイスX6糖〔構造式
(14);本発明の一般式(1)に対応する〕を得ること
ができる。但し、前記構造式(13)で表される化合物
は、前記構造式(g)で表される化合物と同じものであ
る(以下、同様)。
【0082】
【化51】
【化52】
【0083】さらに、下記の反応スキーム2に示す如
く、構造式(14)で表される化合物を接触還元に付し
〔反応工程(e)〕、アセチル化を行うことで、ナフタ
レンが部分還元された誘導体〔構造式(15)〕を得るこ
とができる。
く、構造式(14)で表される化合物を接触還元に付し
〔反応工程(e)〕、アセチル化を行うことで、ナフタ
レンが部分還元された誘導体〔構造式(15)〕を得るこ
とができる。
【0084】最後に、例えば、ナトリウムメトキシド、
水酸化ナトリウム等で処理すること〔反応工程(f)〕
で、構造式(α)で表される本発明の目的化合物の1つ
である化合物を得ることができる。
水酸化ナトリウム等で処理すること〔反応工程(f)〕
で、構造式(α)で表される本発明の目的化合物の1つ
である化合物を得ることができる。
【0085】
【化53】
【0086】上述の反応では、ナフタレン環の還元が生
じているが、一般式(1)における置換基R1 やR4 、
更には一般式(B)で表される基などを適宜変更するこ
とで、ナフタレン部分が部分的に還元されていない化合
物を得ることが可能である。このためには、例えば、前
記R1 がエチル−2,4,6−トリ−O−アセチル−β
−D−ガラクトシド−3−オキシル基、前記R4 がアセ
チル基、前記一般式(B)については、前記R2 がBn
となるようにすればよい。
じているが、一般式(1)における置換基R1 やR4 、
更には一般式(B)で表される基などを適宜変更するこ
とで、ナフタレン部分が部分的に還元されていない化合
物を得ることが可能である。このためには、例えば、前
記R1 がエチル−2,4,6−トリ−O−アセチル−β
−D−ガラクトシド−3−オキシル基、前記R4 がアセ
チル基、前記一般式(B)については、前記R2 がBn
となるようにすればよい。
【0087】次に、反応スキーム1及び反応スキーム2
を更に詳細に説明する。
を更に詳細に説明する。
【0088】まず、反応工程(a)においては、2−
(トリメチルシリル)エチル O−(4,6−O−ベン
ジリデン−2−デオキシ−2−フタルイミド−β−D−
グルコピラノシル)−(1→3)−O−(2,4,6−
トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノシル)−
(1→4)−2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−D
−グルコピラノシド〔構造式(e)〕と、メチル−3,
4−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−
1−チオ−L−フコピラノシド〔構造式(f)〕とを、
反応に関与しない溶媒(例えば、ベンゼン、トルエン、
塩化メチレン、またはこれらの混合溶媒等)中で適当な
グリコシル化触媒(例えば、N−ヨードスクシンイミド
/トリフルオロメタンスルホン酸スカンジウム、N−ヨ
ードスクシンイミド/テトラブチルアンモニウムトリフ
レート、ジメチル(メチルチオ)スルホニウムトリフレ
ート(DMTST)、N−ヨードスクシンイミド/トリ
フルオロメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホ
ン酸銀/メチルスルフェニルブロマイド等)及び合成フ
ッ石(モレキュラーシーブ)等の存在下、温度5℃〜1
0℃で2時間程度処理することにより、本発明の第1の
中間体である、下記一般式(4’)で表される化合物に
誘導することができる。但し、この一般式(4’)で表
される化合物は、構造式(10)で表される化合物に対応
するものである。
(トリメチルシリル)エチル O−(4,6−O−ベン
ジリデン−2−デオキシ−2−フタルイミド−β−D−
グルコピラノシル)−(1→3)−O−(2,4,6−
トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノシル)−
(1→4)−2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−D
−グルコピラノシド〔構造式(e)〕と、メチル−3,
4−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−
1−チオ−L−フコピラノシド〔構造式(f)〕とを、
反応に関与しない溶媒(例えば、ベンゼン、トルエン、
塩化メチレン、またはこれらの混合溶媒等)中で適当な
グリコシル化触媒(例えば、N−ヨードスクシンイミド
/トリフルオロメタンスルホン酸スカンジウム、N−ヨ
ードスクシンイミド/テトラブチルアンモニウムトリフ
レート、ジメチル(メチルチオ)スルホニウムトリフレ
ート(DMTST)、N−ヨードスクシンイミド/トリ
フルオロメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホ
ン酸銀/メチルスルフェニルブロマイド等)及び合成フ
ッ石(モレキュラーシーブ)等の存在下、温度5℃〜1
0℃で2時間程度処理することにより、本発明の第1の
中間体である、下記一般式(4’)で表される化合物に
誘導することができる。但し、この一般式(4’)で表
される化合物は、構造式(10)で表される化合物に対応
するものである。
【化54】 (但し、前記一般式(4’)において、R15は無置換の
若しくは置換基を有するフェニル基を示し、Zは、少な
くとも2つが同一の或いは全て異なる水素原子又はハロ
ゲン原子であり、また、R1 及びR2 は上述したものと
同じである。)
若しくは置換基を有するフェニル基を示し、Zは、少な
くとも2つが同一の或いは全て異なる水素原子又はハロ
ゲン原子であり、また、R1 及びR2 は上述したものと
同じである。)
【0089】次に、反応工程(b)においては、反応に
関与しない溶媒(例えば、ベンゼン、トルエン、塩化メ
チレン、ジクロロエタン、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムア
ミド、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イ
ソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、又
はこれらの混合溶媒等)中、フタルイミドの脱保護化剤
(例えば、ヒドラジン、エチレンジアミン等、又はこれ
らの混合物)の存在下、温度30℃〜100℃で6時間
〜24時間処理することで、グルコサミン部分のフタル
イミドを除去して、そのまま又は精製した後、アシル化
の条件で使用される塩基性有機触媒(例えば、ジメチル
アミノピリジン、ジエチルアミノピリジン、1,8−ジ
アザビシクロ〔5,4,0〕7−ウンデセン、1,5−
ジアザビシクロ〔4,3,0〕5−ノネン等、又はこれ
らの混合物)存在下、塩基性有機溶媒(例えば、トリメ
チルアミン、ピリジン、γ−ルチジン、ピペリジン、N
−メチルモルホリン等、又はこれらの混合溶媒)中、2
−ナフトイルクロライドを温度5℃〜50℃で反応させ
ることで、ナフトイル化体である構造式(11)で表され
る化合物(本発明の第1の中間体の一つ)へ変換するこ
とができる。
関与しない溶媒(例えば、ベンゼン、トルエン、塩化メ
チレン、ジクロロエタン、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムア
ミド、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イ
ソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、又
はこれらの混合溶媒等)中、フタルイミドの脱保護化剤
(例えば、ヒドラジン、エチレンジアミン等、又はこれ
らの混合物)の存在下、温度30℃〜100℃で6時間
〜24時間処理することで、グルコサミン部分のフタル
イミドを除去して、そのまま又は精製した後、アシル化
の条件で使用される塩基性有機触媒(例えば、ジメチル
アミノピリジン、ジエチルアミノピリジン、1,8−ジ
アザビシクロ〔5,4,0〕7−ウンデセン、1,5−
ジアザビシクロ〔4,3,0〕5−ノネン等、又はこれ
らの混合物)存在下、塩基性有機溶媒(例えば、トリメ
チルアミン、ピリジン、γ−ルチジン、ピペリジン、N
−メチルモルホリン等、又はこれらの混合溶媒)中、2
−ナフトイルクロライドを温度5℃〜50℃で反応させ
ることで、ナフトイル化体である構造式(11)で表され
る化合物(本発明の第1の中間体の一つ)へ変換するこ
とができる。
【0090】次に、反応工程(c)においては、前記構
造式(11)で表される化合物のベンジリデン部分を、反
応に関与しない溶媒(例えば、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、アセトニトリル、プロピオニトリル、
ベンゼン、トルエン、塩化メチレン等、又はこれらの混
合溶媒)中、還元的に開裂する反応試剤(例えば、シア
ノ水素化ホウ素ナトリウム−塩化水素、ボラン・トリメ
チルアミン錯体−塩化アルミニウム、ボラン・ジメチル
アミン錯体−三フッ化ホウ素・エーテル錯体等)を用い
て開裂して、構造式(12)で表される化合物(本発明の
第2の中間体の一つ)を得ることができる。
造式(11)で表される化合物のベンジリデン部分を、反
応に関与しない溶媒(例えば、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、アセトニトリル、プロピオニトリル、
ベンゼン、トルエン、塩化メチレン等、又はこれらの混
合溶媒)中、還元的に開裂する反応試剤(例えば、シア
ノ水素化ホウ素ナトリウム−塩化水素、ボラン・トリメ
チルアミン錯体−塩化アルミニウム、ボラン・ジメチル
アミン錯体−三フッ化ホウ素・エーテル錯体等)を用い
て開裂して、構造式(12)で表される化合物(本発明の
第2の中間体の一つ)を得ることができる。
【0091】次に、反応工程(d)において、前記構造
式(12)で表される化合物は、そのグルコサミン部分の
4位の水酸基を除いてすべての水酸基がベンゾイル基等
で保護されているので、前記グリコシル化促進剤の存在
下で、シアリルガラクトース〔構造式(13)〕を導入す
ることで構造式(14)で表される化合物〔これは、一般
式(1)で表される本発明の誘導体に含まれるものであ
る。〕を得ることができる。
式(12)で表される化合物は、そのグルコサミン部分の
4位の水酸基を除いてすべての水酸基がベンゾイル基等
で保護されているので、前記グリコシル化促進剤の存在
下で、シアリルガラクトース〔構造式(13)〕を導入す
ることで構造式(14)で表される化合物〔これは、一般
式(1)で表される本発明の誘導体に含まれるものであ
る。〕を得ることができる。
【0092】このシアリルガラクトースの導入は、反応
に関与しない溶媒、例えば、ベンゼン、トルエン、塩化
メチレン、ジクロロエタン、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン等、又はこれらの混合溶媒)中で、適当な
グルコシル化促進剤(例えば、N−ヨードスクシンイミ
ド/トリフルオロメタンスルホン酸スカンジウム、N−
ヨードスクシンイミド/テトラブチルアンモニウムトリ
フレート、ジメチル(メチルチオ)スルホニウムトリフ
レート(DMTST)、N−ヨードスクシンイミド/ト
リフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸銀/メチルスルフェニルブロマイド等)及び合成
フッ石(モレキュラーシーブ)の存在下、温度5℃〜3
5℃で12時間〜24時間処理することで行うことがで
きる。
に関与しない溶媒、例えば、ベンゼン、トルエン、塩化
メチレン、ジクロロエタン、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン等、又はこれらの混合溶媒)中で、適当な
グルコシル化促進剤(例えば、N−ヨードスクシンイミ
ド/トリフルオロメタンスルホン酸スカンジウム、N−
ヨードスクシンイミド/テトラブチルアンモニウムトリ
フレート、ジメチル(メチルチオ)スルホニウムトリフ
レート(DMTST)、N−ヨードスクシンイミド/ト
リフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸銀/メチルスルフェニルブロマイド等)及び合成
フッ石(モレキュラーシーブ)の存在下、温度5℃〜3
5℃で12時間〜24時間処理することで行うことがで
きる。
【0093】次に、反応工程(e)においては、このよ
うにして得られたシアリルルイスX糖鎖のベンジル基
を、反応に関与しない溶媒(例えば、メタノール、エタ
ノール、n−プロパノール、イソプロパノール、酢酸エ
チル、酢酸メチル、酢酸等、又はこれらの混合溶媒)
中、接触還元触媒(例えば、パラジウム−炭素、水酸化
パラジウム−炭素、パラジウム−硫酸バリウム等)の存
在下、水素供与体(例えば、水素ガス、シクロヘキセ
ン、シクロヘキサジエン、ギ酸、ギ酸アンモニウム塩
等)を0℃〜50℃で10〜120時間作用させること
で除去し、遊離した水酸基を塩基性有機溶媒(例えば、
ピリジン、トリエチルアミン、γ−ルチジン、ピペリジ
ン、N−メチルモルホリン等、又はこれらの混合溶媒)
中、アセチル化剤(例えば、無水酢酸、塩化アセチル
等)を0℃〜60℃で2時間〜40時間反応させること
でアセチル化して、構造式(15)で表される化合物を得
ることができる〔これは、一般式(1)で表される本発
明の誘導体に含まれるものである〕。
うにして得られたシアリルルイスX糖鎖のベンジル基
を、反応に関与しない溶媒(例えば、メタノール、エタ
ノール、n−プロパノール、イソプロパノール、酢酸エ
チル、酢酸メチル、酢酸等、又はこれらの混合溶媒)
中、接触還元触媒(例えば、パラジウム−炭素、水酸化
パラジウム−炭素、パラジウム−硫酸バリウム等)の存
在下、水素供与体(例えば、水素ガス、シクロヘキセ
ン、シクロヘキサジエン、ギ酸、ギ酸アンモニウム塩
等)を0℃〜50℃で10〜120時間作用させること
で除去し、遊離した水酸基を塩基性有機溶媒(例えば、
ピリジン、トリエチルアミン、γ−ルチジン、ピペリジ
ン、N−メチルモルホリン等、又はこれらの混合溶媒)
中、アセチル化剤(例えば、無水酢酸、塩化アセチル
等)を0℃〜60℃で2時間〜40時間反応させること
でアセチル化して、構造式(15)で表される化合物を得
ることができる〔これは、一般式(1)で表される本発
明の誘導体に含まれるものである〕。
【0094】次に、反応工程(f)においては、水酸基
の保護基であるベンゾイル基(Bn)及びアセチル基
(Ac)を、プロトン性溶媒(例えば、水、メタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノー
ル、n−ブタノール、t−ブタノール等、又はこれらの
混合溶媒)中、アルカリ金属アルコキシドやアルカリ土
類金属アルコキシド(例えば、ナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、ナトリウム−t−ブトキシド、
リチウムメトキシド、マグネシウムメトキシド、カルシ
ウムメトキシド等)、又は水酸化アルカリ金属や水酸化
アルカリ土類金属(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
リチウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸
化カルシウム等)を用い、温度0℃〜40℃で2時間〜
48時間反応させることにより、本発明に基づく2−フ
ルオロフコシル−α−(1→3)−N−テトラヒドロナ
フチルグルコサミン誘導体として、構造式(α)で表さ
れる化合物を得ることができる。
の保護基であるベンゾイル基(Bn)及びアセチル基
(Ac)を、プロトン性溶媒(例えば、水、メタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノー
ル、n−ブタノール、t−ブタノール等、又はこれらの
混合溶媒)中、アルカリ金属アルコキシドやアルカリ土
類金属アルコキシド(例えば、ナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、ナトリウム−t−ブトキシド、
リチウムメトキシド、マグネシウムメトキシド、カルシ
ウムメトキシド等)、又は水酸化アルカリ金属や水酸化
アルカリ土類金属(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
リチウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸
化カルシウム等)を用い、温度0℃〜40℃で2時間〜
48時間反応させることにより、本発明に基づく2−フ
ルオロフコシル−α−(1→3)−N−テトラヒドロナ
フチルグルコサミン誘導体として、構造式(α)で表さ
れる化合物を得ることができる。
【0095】次に、前記構造式(β)で示される本発明
の誘導体の製造方法例を下記の反応スキーム3及び反応
スキーム4を参照に説明する。
の誘導体の製造方法例を下記の反応スキーム3及び反応
スキーム4を参照に説明する。
【0096】この反応工程では、2−(トリメチルシリ
ル)エチル O−(2−デオキシ−3,4−ジ−O−ベ
ンジル−2−フルオロ−α−フコピラノシル)−(1→
3)−O−(4,6−O−ベンジリデン−2−デオキシ
−2−フタルイミド−β−D−グルコピラノシル)−
(1→3)−O−(2,4,6−トリ−O−ベンジル−
β−D−ガラクトピラノシル)−(1→4)−2,3,
6−トリ−O−ベンジル−β−D−グルコピラノシド
〔構造式(10)〕を出発原料に使用できる。
ル)エチル O−(2−デオキシ−3,4−ジ−O−ベ
ンジル−2−フルオロ−α−フコピラノシル)−(1→
3)−O−(4,6−O−ベンジリデン−2−デオキシ
−2−フタルイミド−β−D−グルコピラノシル)−
(1→3)−O−(2,4,6−トリ−O−ベンジル−
β−D−ガラクトピラノシル)−(1→4)−2,3,
6−トリ−O−ベンジル−β−D−グルコピラノシド
〔構造式(10)〕を出発原料に使用できる。
【0097】まず、下記の反応スキーム3に示す如く、
構造式(10)で表される化合物を脱フタルイミド化後、
4−t−ブチルベンゾイル化〔構造式(16)〕してから
〔反応工程(g)〕、ベンジリデン基の還元的開裂〔構
造式(17)〕を行い〔反応工程(h)〕、これにシアリ
ルガラクトース部〔構造式(13)〕の導入を行う〔反応
工程(i)〕ことで、シアリルルイスX6糖〔構造式
(18);本発明の一般式(1)に対応する〕を得ること
ができる。
構造式(10)で表される化合物を脱フタルイミド化後、
4−t−ブチルベンゾイル化〔構造式(16)〕してから
〔反応工程(g)〕、ベンジリデン基の還元的開裂〔構
造式(17)〕を行い〔反応工程(h)〕、これにシアリ
ルガラクトース部〔構造式(13)〕の導入を行う〔反応
工程(i)〕ことで、シアリルルイスX6糖〔構造式
(18);本発明の一般式(1)に対応する〕を得ること
ができる。
【0098】
【化55】
【化56】
【0099】さらに、下記の反応スキーム4に示す如
く、構造式(18)で表される化合物を接触還元に付し
〔反応工程(i)〕、アセチル化を行うことで、ナフタ
レンが部分還元された誘導体〔構造式(19)〕を得るこ
とができる。
く、構造式(18)で表される化合物を接触還元に付し
〔反応工程(i)〕、アセチル化を行うことで、ナフタ
レンが部分還元された誘導体〔構造式(19)〕を得るこ
とができる。
【0100】最後に、例えば、ナトリウムメトキシド、
水酸化ナトリウム等で処理すること〔反応工程(k)〕
で、構造式(β)で表される本発明の目的化合物の1つ
である化合物を得ることができる。
水酸化ナトリウム等で処理すること〔反応工程(k)〕
で、構造式(β)で表される本発明の目的化合物の1つ
である化合物を得ることができる。
【0101】
【化57】
【0102】次に、反応スキーム3及び反応スキーム4
を更に詳細に説明する。
を更に詳細に説明する。
【0103】まず、反応工程(g)においては、構造式
(10)で表される化合物を、反応に関与しない溶媒(例
えば、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ジクロロエ
タン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、メタノール、
エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n
−ブタノール、イソブタノール、又はこれらの混合溶媒
等)中、フタルイミドの脱保護化剤(例えば、ヒドラジ
ン、エチレンジアミン等、又はこれらの混合物)の存在
下、温度30℃〜100℃で6時間〜24時間処理する
ことで、グルコサミン部分のフタルイミドを除去して、
そのまま又は精製した後、アシル化の条件で使用される
有機塩基触媒(例えば、ジメチルアミノピリジン、ジエ
チルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ〔5,
4,0〕7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ
〔4,3,0〕5−ノネン等、又はこれらの混合物)存
在下、塩基性有機溶媒(例えば、トリメチルアミン、ピ
リジン、γ−ルチジン、ピペリジン、N−メチルモルホ
リン等、又はこれらの混合溶媒)中、4−t−ブチルベ
ンズクロライドを温度5℃〜50℃で反応させることに
より、4−t−ブチルベンゾイル化体である構造式(1
6)で表される化合物(本発明の第1の中間体の一つ)
へ変換することができる。
(10)で表される化合物を、反応に関与しない溶媒(例
えば、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ジクロロエ
タン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、メタノール、
エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n
−ブタノール、イソブタノール、又はこれらの混合溶媒
等)中、フタルイミドの脱保護化剤(例えば、ヒドラジ
ン、エチレンジアミン等、又はこれらの混合物)の存在
下、温度30℃〜100℃で6時間〜24時間処理する
ことで、グルコサミン部分のフタルイミドを除去して、
そのまま又は精製した後、アシル化の条件で使用される
有機塩基触媒(例えば、ジメチルアミノピリジン、ジエ
チルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ〔5,
4,0〕7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ
〔4,3,0〕5−ノネン等、又はこれらの混合物)存
在下、塩基性有機溶媒(例えば、トリメチルアミン、ピ
リジン、γ−ルチジン、ピペリジン、N−メチルモルホ
リン等、又はこれらの混合溶媒)中、4−t−ブチルベ
ンズクロライドを温度5℃〜50℃で反応させることに
より、4−t−ブチルベンゾイル化体である構造式(1
6)で表される化合物(本発明の第1の中間体の一つ)
へ変換することができる。
【0104】次に、反応工程(h)においては、前記構
造式(16)で表される化合物のベンジリデン部分を、反
応に関与しない溶媒(例えば、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、アセトニトリル、プロピオニトリル、
ベンゼン、トルエン、塩化メチレン等、又はこれらの混
合溶媒)中、還元的に開裂する反応試剤(例えば、シア
ノ水素化ホウ素ナトリウム−塩化水素、ボラン・トリメ
チルアミン錯体−塩化アルミニウム、ボラン・ジメチル
アミン錯体−三フッ化ホウ素・エーテル錯体等)を用い
て開裂して、構造式(17)で表される化合物(本発明の
第2の中間体の一つ)を得ることができる。
造式(16)で表される化合物のベンジリデン部分を、反
応に関与しない溶媒(例えば、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、アセトニトリル、プロピオニトリル、
ベンゼン、トルエン、塩化メチレン等、又はこれらの混
合溶媒)中、還元的に開裂する反応試剤(例えば、シア
ノ水素化ホウ素ナトリウム−塩化水素、ボラン・トリメ
チルアミン錯体−塩化アルミニウム、ボラン・ジメチル
アミン錯体−三フッ化ホウ素・エーテル錯体等)を用い
て開裂して、構造式(17)で表される化合物(本発明の
第2の中間体の一つ)を得ることができる。
【0105】次に、反応工程(i)において、前記構造
式(17)で表される化合物は、そのグルコサミン部分の
4位の水酸基を除いてすべての水酸基がベンゾイル基等
で保護されているので、前記グリコシル化促進剤の存在
下で、シアリルガラクトース〔構造式(13)〕を導入す
ることで構造式(18)で表される化合物〔これは、一般
式(1)で表される本発明の誘導体に含まれるものであ
る。〕を得ることができる。
式(17)で表される化合物は、そのグルコサミン部分の
4位の水酸基を除いてすべての水酸基がベンゾイル基等
で保護されているので、前記グリコシル化促進剤の存在
下で、シアリルガラクトース〔構造式(13)〕を導入す
ることで構造式(18)で表される化合物〔これは、一般
式(1)で表される本発明の誘導体に含まれるものであ
る。〕を得ることができる。
【0106】このシアリルガラクトースの導入は、反応
に関与しない溶媒、例えば、ベンゼン、トルエン、塩化
メチレン、ジクロロエタン、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン等、又はこれらの混合溶媒)中で、適当な
グルコシル化促進剤(例えば、N−ヨードスクシンイミ
ド/トリフルオロメタンスルホン酸スカンジウム、N−
ヨードスクシンイミド/テトラブチルアンモニウムトリ
フレート、ジメチル(メチルチオ)スルホニウムトリフ
レート(DMTST)、N−ヨードスクシンイミド/ト
リフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸銀/メチルスルフェニルブロマイド等)及び合成
フッ石(モレキュラーシーブ)の存在下、温度5℃〜3
5℃で12時間〜24時間処理することで行うことがで
きる。
に関与しない溶媒、例えば、ベンゼン、トルエン、塩化
メチレン、ジクロロエタン、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン等、又はこれらの混合溶媒)中で、適当な
グルコシル化促進剤(例えば、N−ヨードスクシンイミ
ド/トリフルオロメタンスルホン酸スカンジウム、N−
ヨードスクシンイミド/テトラブチルアンモニウムトリ
フレート、ジメチル(メチルチオ)スルホニウムトリフ
レート(DMTST)、N−ヨードスクシンイミド/ト
リフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸銀/メチルスルフェニルブロマイド等)及び合成
フッ石(モレキュラーシーブ)の存在下、温度5℃〜3
5℃で12時間〜24時間処理することで行うことがで
きる。
【0107】次に、反応工程(j)においては、このよ
うにして得られたシアリルルイスX糖鎖のベンジル基
を、反応に関与しない溶媒(例えば、メタノール、エタ
ノール、n−プロパノール、イソプロパノール、酢酸エ
チル、酢酸メチル、酢酸等、又はこれらの混合溶媒)
中、接触還元触媒(例えば、パラジウム−炭素、水酸化
パラジウム−炭素、パラジウム−硫酸バリウム等)の存
在下、水素供与体(例えば、水素ガス、シクロヘキセ
ン、シクロヘキサジエン、ギ酸、ギ酸アンモニウム塩
等)を0℃〜50℃で10〜120時間作用させること
で除去し、遊離した水酸基を塩基性有機溶媒(例えば、
ピリジン、トリエチルアミン、γ−ルチジン、ピペリジ
ン、N−メチルモルホリン等、又はこれらの混合溶媒)
中、アセチル化剤(例えば、無水酢酸、塩化アセチル
等)を0℃〜60℃で2時間〜40時間反応させること
でアセチル化して、構造式(19)で表される化合物を得
ることができる〔これは、一般式(1)で表される本発
明の誘導体に含まれるものである〕。
うにして得られたシアリルルイスX糖鎖のベンジル基
を、反応に関与しない溶媒(例えば、メタノール、エタ
ノール、n−プロパノール、イソプロパノール、酢酸エ
チル、酢酸メチル、酢酸等、又はこれらの混合溶媒)
中、接触還元触媒(例えば、パラジウム−炭素、水酸化
パラジウム−炭素、パラジウム−硫酸バリウム等)の存
在下、水素供与体(例えば、水素ガス、シクロヘキセ
ン、シクロヘキサジエン、ギ酸、ギ酸アンモニウム塩
等)を0℃〜50℃で10〜120時間作用させること
で除去し、遊離した水酸基を塩基性有機溶媒(例えば、
ピリジン、トリエチルアミン、γ−ルチジン、ピペリジ
ン、N−メチルモルホリン等、又はこれらの混合溶媒)
中、アセチル化剤(例えば、無水酢酸、塩化アセチル
等)を0℃〜60℃で2時間〜40時間反応させること
でアセチル化して、構造式(19)で表される化合物を得
ることができる〔これは、一般式(1)で表される本発
明の誘導体に含まれるものである〕。
【0108】最後に、反応工程(k)においては、水酸
基の保護基であるベンゾイル基(Bn)及びアセチル基
(Ac)を、プロトン性溶媒(例えば、水、メタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノー
ル、n−ブタノール、t−ブタノール等、又はこれらの
混合溶媒)中、アルカリ金属アルコキシドやアルカリ土
類金属アルコキシド(例えば、ナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、ナトリウム−t−ブトキシド、
リチウムメトキシド、マグネシウムメトキシド、カルシ
ウムメトキシド等)、又は水酸化アルカリ金属や水酸化
アルカリ土類金属(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
リチウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸
化カルシウム等)を用い、温度0℃〜40℃で2時間〜
48時間反応させることにより、本発明の2−フルオロ
フコシル−α−(1→3)−N−4−t−ブチルベンゾ
イルグルコサミン誘導体として、構造式(β)で表され
る化合物を得ることができる。
基の保護基であるベンゾイル基(Bn)及びアセチル基
(Ac)を、プロトン性溶媒(例えば、水、メタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノー
ル、n−ブタノール、t−ブタノール等、又はこれらの
混合溶媒)中、アルカリ金属アルコキシドやアルカリ土
類金属アルコキシド(例えば、ナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、ナトリウム−t−ブトキシド、
リチウムメトキシド、マグネシウムメトキシド、カルシ
ウムメトキシド等)、又は水酸化アルカリ金属や水酸化
アルカリ土類金属(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
リチウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸
化カルシウム等)を用い、温度0℃〜40℃で2時間〜
48時間反応させることにより、本発明の2−フルオロ
フコシル−α−(1→3)−N−4−t−ブチルベンゾ
イルグルコサミン誘導体として、構造式(β)で表され
る化合物を得ることができる。
【0109】次に、前記構造式(γ)及び(δ)に示し
た2−フルオロフコシル−α−(1→4)−N−アロイ
ルグルコサミン誘導体について説明する。
た2−フルオロフコシル−α−(1→4)−N−アロイ
ルグルコサミン誘導体について説明する。
【0110】この誘導体については、例えば、Carbohyd
rate Research, 200, 269-285(1990) に記載された方法
を参考して、構造式(20)で表される化合物から構造式
(21)で表される化合物を合成した後、本発明に基づい
て、前記構造式(γ)で表された化合物、及び前記構造
式(δ)で表された化合物へ誘導することができる。即
ち、Journal of Carbohydrate Chemistry, 13, 641-654
(1994)を参考にして、構造式(21)で表される化合物を
合成した後、本発明の目的化合物である前記構造式
(γ)で表された化合物、及び前記構造式(δ)で表さ
れた化合物を得ることが可能である。
rate Research, 200, 269-285(1990) に記載された方法
を参考して、構造式(20)で表される化合物から構造式
(21)で表される化合物を合成した後、本発明に基づい
て、前記構造式(γ)で表された化合物、及び前記構造
式(δ)で表された化合物へ誘導することができる。即
ち、Journal of Carbohydrate Chemistry, 13, 641-654
(1994)を参考にして、構造式(21)で表される化合物を
合成した後、本発明の目的化合物である前記構造式
(γ)で表された化合物、及び前記構造式(δ)で表さ
れた化合物を得ることが可能である。
【0111】構造式(21)で表される化合物は、既知の
化合物である2−(トリメチルシリル)エチル O−
(3,4,6−O−アセチル−2−デオキシ−2−フタ
ルイミド−β−D−グルコピラノシル)−(1→3)−
O−(2,4,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラ
クトピラノシル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O
−ベンジル−β−D−グルコピラノシド〔構造式(2
0)〕を出発原料として、脱アセチル化、脱フタルイミ
ド化及び2−ナフトイル化して得ることができる。
化合物である2−(トリメチルシリル)エチル O−
(3,4,6−O−アセチル−2−デオキシ−2−フタ
ルイミド−β−D−グルコピラノシル)−(1→3)−
O−(2,4,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラ
クトピラノシル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O
−ベンジル−β−D−グルコピラノシド〔構造式(2
0)〕を出発原料として、脱アセチル化、脱フタルイミ
ド化及び2−ナフトイル化して得ることができる。
【0112】さらに、構造式(22)に示すように、ベン
ジリデン基の導入後、この部分の還元的開裂を行うこと
で構造式(23)で表される化合物を得ることができる。
ジリデン基の導入後、この部分の還元的開裂を行うこと
で構造式(23)で表される化合物を得ることができる。
【化58】
【0113】また、下記構造式(13)で表されるシアリ
ルガラクトース部となる化合物の導入は、例えばトリフ
ルオロメタンスルホン酸銀/メチルスルフェニルブロマ
イドを用いることができる。
ルガラクトース部となる化合物の導入は、例えばトリフ
ルオロメタンスルホン酸銀/メチルスルフェニルブロマ
イドを用いることができる。
【化59】
【0114】さらに、1つしか残っていない水酸基に、
反応促進剤として例えば、N−ヨードスクシンイミド/
トリフルオロメタンスルホン酸を用いて、メチル−3,
4−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−
1−チオ−L−フコピラノシドを反応させ、α−グリコ
シド誘導体を得ることができる。
反応促進剤として例えば、N−ヨードスクシンイミド/
トリフルオロメタンスルホン酸を用いて、メチル−3,
4−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−
1−チオ−L−フコピラノシドを反応させ、α−グリコ
シド誘導体を得ることができる。
【0115】このようにして、下記の構造式(24)で表
されるシアリルルイスa6糖鎖(これは、本発明の一般
式(1)に対応するものである。)を得ることが可能で
ある。
されるシアリルルイスa6糖鎖(これは、本発明の一般
式(1)に対応するものである。)を得ることが可能で
ある。
【0116】さらに、前記構造式(24)で表される化合
物を接触還元に付し、アセチル化を行うことで、そのナ
フタレン部分が還元された構造式(25)で表される誘導
体を得ることができる。
物を接触還元に付し、アセチル化を行うことで、そのナ
フタレン部分が還元された構造式(25)で表される誘導
体を得ることができる。
【0117】最後に、ナトリウムメトキシド、水酸化ナ
トリウム等で処理することで、本発明の目的物の1つで
ある構造式(γ)で表される2−フルオロフコシル−N
−アロイルグルコサミン誘導体を得ることができる。
トリウム等で処理することで、本発明の目的物の1つで
ある構造式(γ)で表される2−フルオロフコシル−N
−アロイルグルコサミン誘導体を得ることができる。
【化60】
【0118】また、構造式(25)で表されるシアリルル
イスa糖鎖からは、Journal of Carbohydrate Chemistr
y, 13, (1994) 641-654 に記載された方法を参照に、セ
ラミドと称される脂質を導入することでシアリルルイス
aガングリオシド誘導体へ誘導することができる。
イスa糖鎖からは、Journal of Carbohydrate Chemistr
y, 13, (1994) 641-654 に記載された方法を参照に、セ
ラミドと称される脂質を導入することでシアリルルイス
aガングリオシド誘導体へ誘導することができる。
【0119】また、構造式(20)で表される化合物から
出発して、脱アセチル化、脱フタルイミド化及び4−t
−ブチルベンゾイル化を行うことで得られる構造式(2
6)で表される化合物にベンジリデン基を導入〔構造式
(27)〕後、この部分の還元的開裂を行うことで、構造
式(28)で表される化合物を得ることが可能である。
出発して、脱アセチル化、脱フタルイミド化及び4−t
−ブチルベンゾイル化を行うことで得られる構造式(2
6)で表される化合物にベンジリデン基を導入〔構造式
(27)〕後、この部分の還元的開裂を行うことで、構造
式(28)で表される化合物を得ることが可能である。
【化61】
【0120】また、シアリルガラクトース部となる構造
式(13)で表される化合物の導入は、例えば、トリフル
オロメタンスルホン酸銀/メチルスルフェニルブロマイ
ドを用いることができる。
式(13)で表される化合物の導入は、例えば、トリフル
オロメタンスルホン酸銀/メチルスルフェニルブロマイ
ドを用いることができる。
【化62】
【0121】さらに、1つしか残っていない水酸基に、
反応促進剤として例えば、N−ヨードスクシンイミド/
トリフルオロメタンスルホン酸を用いて、メチル−3,
4−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−
1−チオ−L−フコピラノシドを反応させ、α−グリコ
シド誘導体を得ることができる。
反応促進剤として例えば、N−ヨードスクシンイミド/
トリフルオロメタンスルホン酸を用いて、メチル−3,
4−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−
1−チオ−L−フコピラノシドを反応させ、α−グリコ
シド誘導体を得ることができる。
【0122】このようにして、下記の構造式(29)で表
されるシアリルルイスa6糖(これは、本発明の一般式
(1)に対応するものである。)を得ることが可能であ
る。
されるシアリルルイスa6糖(これは、本発明の一般式
(1)に対応するものである。)を得ることが可能であ
る。
【0123】さらに、前記構造式(29)で表される化合
物を接触還元に付し、アセチル化を行うことで、そのナ
フタレン部分が還元された構造式(30)で表される誘導
体を得ることができる。
物を接触還元に付し、アセチル化を行うことで、そのナ
フタレン部分が還元された構造式(30)で表される誘導
体を得ることができる。
【0124】最後に、ナトリウムメトキシド、水酸化ナ
トリウム等で処理することで、本発明の目的物である構
造式(δ)で表される2−フルオロフコシル−N−アロ
イルグルコサミン誘導体を得ることができる。
トリウム等で処理することで、本発明の目的物である構
造式(δ)で表される2−フルオロフコシル−N−アロ
イルグルコサミン誘導体を得ることができる。
【化63】
【0125】また、構造式(30)で表されるシアリルル
イスa糖鎖からは、Journal of Carbohydrate Chemistr
y, 13, (1994) 641-654 に記載された方法を参照に、セ
ラミドと称される脂質を導入することでシアリルルイス
aガングリオシド誘導体を合成することができる。
イスa糖鎖からは、Journal of Carbohydrate Chemistr
y, 13, (1994) 641-654 に記載された方法を参照に、セ
ラミドと称される脂質を導入することでシアリルルイス
aガングリオシド誘導体を合成することができる。
【0126】次に、構造式(γ)で示される2−フルオ
ロフコシル−α−(1→4)−N−テトラヒドロナフチ
ルグルコサミン誘導体は、下記の反応スキーム5及び反
応スキーム6に示すような反応工程により製造すること
ができる。
ロフコシル−α−(1→4)−N−テトラヒドロナフチ
ルグルコサミン誘導体は、下記の反応スキーム5及び反
応スキーム6に示すような反応工程により製造すること
ができる。
【0127】この反応工程では、2−(トリメチルシリ
ル)エチル O−(3,4,6−トリ−O−アセチル−
2−デオキシ−2−フタルイミド−β−D−グルコピラ
ノシル)−(1→3)−O−(2,4,6−トリ−O−
ベンジル−β−D−ガラクトピラノシル)−(1→4)
−2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−D−グルコピ
ラノシド〔構造式(20)〕を出発原料に用いることがで
きる。この化合物は、Carbohydrate Research, 200(199
0) 269-285 に記載した方法により合成される。但し、
前記構造式(20)で表される化合物は、前記構造式
(h)で表される化合物に対応するものである。
ル)エチル O−(3,4,6−トリ−O−アセチル−
2−デオキシ−2−フタルイミド−β−D−グルコピラ
ノシル)−(1→3)−O−(2,4,6−トリ−O−
ベンジル−β−D−ガラクトピラノシル)−(1→4)
−2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−D−グルコピ
ラノシド〔構造式(20)〕を出発原料に用いることがで
きる。この化合物は、Carbohydrate Research, 200(199
0) 269-285 に記載した方法により合成される。但し、
前記構造式(20)で表される化合物は、前記構造式
(h)で表される化合物に対応するものである。
【0128】まず、下記の反応スキーム5に示す如く、
この化合物〔構造式(20)〕を脱アセチル化及び脱フタ
ルイミド化した後、2−ナフトイル化〔構造式(21)〕
し〔反応工程(l)〕、次いで、ベンジリデン基を導入
する〔構造式(22)、反応工程(m)〕。
この化合物〔構造式(20)〕を脱アセチル化及び脱フタ
ルイミド化した後、2−ナフトイル化〔構造式(21)〕
し〔反応工程(l)〕、次いで、ベンジリデン基を導入
する〔構造式(22)、反応工程(m)〕。
【0129】次いで、このベンジリデン基の還元的開裂
を行い〔構造式(23)、反応工程(n)〕、構造式(1
3)で表されるシアリルガラクトース部を導入し、さら
に反応促進剤として、例えば、N−ヨードスクシンイミ
ド/トリフルオロメタンスルホン酸を用いて、メチル−
3,4−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオ
ロ−1−チオ−L−フコピラノシドを反応させる〔反応
工程(o)〕ことにより、構造式(24)で表されるシア
リルルイスa6糖(これは、一般式(1)で表される本
発明の誘導体に相当する。)を得ることができる。
を行い〔構造式(23)、反応工程(n)〕、構造式(1
3)で表されるシアリルガラクトース部を導入し、さら
に反応促進剤として、例えば、N−ヨードスクシンイミ
ド/トリフルオロメタンスルホン酸を用いて、メチル−
3,4−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオ
ロ−1−チオ−L−フコピラノシドを反応させる〔反応
工程(o)〕ことにより、構造式(24)で表されるシア
リルルイスa6糖(これは、一般式(1)で表される本
発明の誘導体に相当する。)を得ることができる。
【0130】
【化64】
【化65】
【0131】さらに、下記の反応スキーム6に示す如
く、構造式(24)で表される化合物を接触還元に付し
〔反応工程(p)〕、アセチル化を行うことで、ナフタ
レンが部分還元された誘導体〔構造式(25)〕を得るこ
とができる。
く、構造式(24)で表される化合物を接触還元に付し
〔反応工程(p)〕、アセチル化を行うことで、ナフタ
レンが部分還元された誘導体〔構造式(25)〕を得るこ
とができる。
【0132】最後に、例えば、ナトリウムメトキシド、
水酸化ナトリウム等で処理する〔反応工程(q)〕こと
で、構造式(γ)で表される本発明の目的化合物の1つ
である化合物を得ることができる。
水酸化ナトリウム等で処理する〔反応工程(q)〕こと
で、構造式(γ)で表される本発明の目的化合物の1つ
である化合物を得ることができる。
【0133】
【化66】
【0134】上述の反応では、ナフタレン環の還元が生
じているが、一般式(1)における置換基R1 やR4 、
更には一般式(B)で表される基などを適宜変更するこ
とで、ナフタレン部分が部分的に還元されていない化合
物を得ることが可能である。このためには、上記と同様
に、例えば、前記R1 がエチル−2,4,6−トリ−O
−アセチル−β−D−ガラクトシド−3−オキシル基、
前記R4 がアセチル基、前記一般式(B)については前
記R2 がBnとなるようにすればよい。
じているが、一般式(1)における置換基R1 やR4 、
更には一般式(B)で表される基などを適宜変更するこ
とで、ナフタレン部分が部分的に還元されていない化合
物を得ることが可能である。このためには、上記と同様
に、例えば、前記R1 がエチル−2,4,6−トリ−O
−アセチル−β−D−ガラクトシド−3−オキシル基、
前記R4 がアセチル基、前記一般式(B)については前
記R2 がBnとなるようにすればよい。
【0135】次に、反応スキーム5及び反応スキーム6
を更に詳細に説明する。
を更に詳細に説明する。
【0136】まず、反応工程(l)においては、2−
(トリメチルシリル)エチル O−(3,4,6−トリ
−O−アセチル−2−デオキシ−2−フタルイミド−β
−D−グルコピラノシル)−(1→3)−O−(2,
4,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノ
シル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O−ベンジル
−β−D−グルコピラノシド〔構造式(20)〕を出発原
料にして、プロトン性溶媒(例えば、水、メタノール、
エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n
−ブタノール、t−ブタノール等、又はこれらの混合溶
媒)中、アルカリ金属アルコキシドやアルカリ土類金属
アルコキシド(例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、ナトリウム−t−ブトキシド、リチウ
ムメトキシド、マグネシウムメトキシド、カルシウムメ
トキシド等)、又は水酸化アルカリ金属や水酸化アルカ
リ土類金属(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウ
ム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カル
シウム等)を用い、温度0℃〜40℃で2時間〜48時
間反応させることにより、アセチル基を除去する。
(トリメチルシリル)エチル O−(3,4,6−トリ
−O−アセチル−2−デオキシ−2−フタルイミド−β
−D−グルコピラノシル)−(1→3)−O−(2,
4,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノ
シル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O−ベンジル
−β−D−グルコピラノシド〔構造式(20)〕を出発原
料にして、プロトン性溶媒(例えば、水、メタノール、
エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n
−ブタノール、t−ブタノール等、又はこれらの混合溶
媒)中、アルカリ金属アルコキシドやアルカリ土類金属
アルコキシド(例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、ナトリウム−t−ブトキシド、リチウ
ムメトキシド、マグネシウムメトキシド、カルシウムメ
トキシド等)、又は水酸化アルカリ金属や水酸化アルカ
リ土類金属(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウ
ム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カル
シウム等)を用い、温度0℃〜40℃で2時間〜48時
間反応させることにより、アセチル基を除去する。
【0137】その後、反応に関与しない溶媒(例えば、
ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ジクロロエタン、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスル
ホキシド、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタ
ノール、イソブタノール等、又はこれらの混合溶媒)
中、フタルイミドの脱保護化剤(例えば、ヒドラジン、
エチレンジアミン等、又はこれらの混合物)の存在下、
温度30℃〜100℃で6時間〜24時間処理すること
で、グルコサミン部分のフタルイミドを除去して、その
まま又は精製した後、反応に関与しない溶媒(例えば、
ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ジクロロエタン、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスル
ホキシド、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタ
ノール、イソブタノール等、又はこれらの混合溶媒)
中、2−ナフトイルクロライドを、温度5℃〜50℃で
2時間〜24時間反応させることで、ナフトイル化体で
ある構造式(21)で表される化合物へ変換することがで
きる。
ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ジクロロエタン、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスル
ホキシド、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタ
ノール、イソブタノール等、又はこれらの混合溶媒)
中、フタルイミドの脱保護化剤(例えば、ヒドラジン、
エチレンジアミン等、又はこれらの混合物)の存在下、
温度30℃〜100℃で6時間〜24時間処理すること
で、グルコサミン部分のフタルイミドを除去して、その
まま又は精製した後、反応に関与しない溶媒(例えば、
ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ジクロロエタン、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスル
ホキシド、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタ
ノール、イソブタノール等、又はこれらの混合溶媒)
中、2−ナフトイルクロライドを、温度5℃〜50℃で
2時間〜24時間反応させることで、ナフトイル化体で
ある構造式(21)で表される化合物へ変換することがで
きる。
【0138】次に、反応工程(m)においては、前記構
造式(21)で表される化合物の4,6位の水酸基に、例
えば、ベンズアルデヒドジメチルアセタール−p−トル
エンスルホン酸、ベンズアルデヒド−無水塩化亜鉛、ベ
ンズアルデヒド−濃硫酸等の存在下、ベンジリデン基を
導入し、構造式(22)で表される化合物を得ることがで
きる。
造式(21)で表される化合物の4,6位の水酸基に、例
えば、ベンズアルデヒドジメチルアセタール−p−トル
エンスルホン酸、ベンズアルデヒド−無水塩化亜鉛、ベ
ンズアルデヒド−濃硫酸等の存在下、ベンジリデン基を
導入し、構造式(22)で表される化合物を得ることがで
きる。
【0139】次に、反応工程(n)においては、前記ベ
ンジリデン基を導入した構造式(22)で表される化合物
を得た後、反応に関与しない溶媒(例えば、ベンゼン、
トルエン、塩化メチレン、ジクロロエタン、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、n−
プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イ
ソブタノール等、又はこれらの混合溶媒)中、還元的に
開裂する反応試剤(例えば、シアノ水素化ホウ素ナトリ
ウム−塩化水素、ボラン・トリメチルアミン錯体−塩化
アルミニウム、ボラン・ジメチルアミン錯体−三フッ化
ホウ素・エーテル錯体等)を用いて前記ベンジリデン基
を開裂させて、構造式(23)で表される化合物を得るこ
とができる。
ンジリデン基を導入した構造式(22)で表される化合物
を得た後、反応に関与しない溶媒(例えば、ベンゼン、
トルエン、塩化メチレン、ジクロロエタン、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、n−
プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イ
ソブタノール等、又はこれらの混合溶媒)中、還元的に
開裂する反応試剤(例えば、シアノ水素化ホウ素ナトリ
ウム−塩化水素、ボラン・トリメチルアミン錯体−塩化
アルミニウム、ボラン・ジメチルアミン錯体−三フッ化
ホウ素・エーテル錯体等)を用いて前記ベンジリデン基
を開裂させて、構造式(23)で表される化合物を得るこ
とができる。
【0140】次に、反応工程(o)において、前記構造
式(23)で表される化合物は、そのグルコサミン部分の
3,4位の2個の水酸基以外がベンジル基等で保護され
ているので、構造式(13)のシアリルガラクトースに次
いで、前記構造式(f)で表されるメチル−3,4−ジ
−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−1−チ
オ−L−フコピラノシドを順次導入することが可能にな
る。
式(23)で表される化合物は、そのグルコサミン部分の
3,4位の2個の水酸基以外がベンジル基等で保護され
ているので、構造式(13)のシアリルガラクトースに次
いで、前記構造式(f)で表されるメチル−3,4−ジ
−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−1−チ
オ−L−フコピラノシドを順次導入することが可能にな
る。
【0141】この反応は、反応に関与しない溶媒(例え
ば、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ジクロロエタ
ン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等、又はこ
れらの混合溶媒)中で、適当なグルコシル化促進剤(例
えば、N−ヨードスクシンイミド/トリフルオロメタン
スルホン酸スカンジウム、N−ヨードスクシンイミド/
テトラブチルアンモニウムトリフレート、ジメチル(メ
チルチオ)スルホニウムトリフレート(DMTST)、
N−ヨードスクシンイミド/トリフルオロメタンスルホ
ン酸、トリフルオロメタンスルホン酸銀/メチルスルフ
ェニルブロマイド等)及び合成フッ石(モレキュラーシ
ーブ)等の存在下、温度5℃〜35℃で12時間〜24
時間処理することにより、構造式(24)で表されるシア
リルルイスa6糖(これは、本発明の一般式(1)に対
応するものである。)を得ることができる。
ば、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ジクロロエタ
ン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等、又はこ
れらの混合溶媒)中で、適当なグルコシル化促進剤(例
えば、N−ヨードスクシンイミド/トリフルオロメタン
スルホン酸スカンジウム、N−ヨードスクシンイミド/
テトラブチルアンモニウムトリフレート、ジメチル(メ
チルチオ)スルホニウムトリフレート(DMTST)、
N−ヨードスクシンイミド/トリフルオロメタンスルホ
ン酸、トリフルオロメタンスルホン酸銀/メチルスルフ
ェニルブロマイド等)及び合成フッ石(モレキュラーシ
ーブ)等の存在下、温度5℃〜35℃で12時間〜24
時間処理することにより、構造式(24)で表されるシア
リルルイスa6糖(これは、本発明の一般式(1)に対
応するものである。)を得ることができる。
【0142】次に、反応工程(p)においては、得られ
たシアリルルイスa糖鎖のベンジル基を反応に関与しな
い溶媒(例えば、メタノール、エタノール、n−プロパ
ノール、イソプロパノール、酢酸エチル、酢酸メチル、
酢酸等、又はこれらの混合溶媒)中、接触還元触媒(例
えば、パラジウム−炭素、水酸化パラジウム−炭素、パ
ラジウム−硫酸バリウム等)の存在下、水素供与体(例
えば、水素ガス、シクロヘキセン、シクロヘキサジエ
ン、ギ酸、ギ酸アンモニウム塩等)を0℃〜50℃で1
0時間〜120時間作用させることで除去し、遊離した
水酸基を塩基性有機溶媒(例えば、ピリジン、トリエチ
ルアミン、γ−ルチジン、ピペリジン、N−メチルモル
ホリン等、又はこれらの混合溶媒)中、アセチル化剤
(例えば、無水酢酸、塩化アセチル等)を用い、0℃〜
60℃で2時間〜40時間反応させることでアセチル化
して、構造式(25)で表される化合物を得ることができ
る。
たシアリルルイスa糖鎖のベンジル基を反応に関与しな
い溶媒(例えば、メタノール、エタノール、n−プロパ
ノール、イソプロパノール、酢酸エチル、酢酸メチル、
酢酸等、又はこれらの混合溶媒)中、接触還元触媒(例
えば、パラジウム−炭素、水酸化パラジウム−炭素、パ
ラジウム−硫酸バリウム等)の存在下、水素供与体(例
えば、水素ガス、シクロヘキセン、シクロヘキサジエ
ン、ギ酸、ギ酸アンモニウム塩等)を0℃〜50℃で1
0時間〜120時間作用させることで除去し、遊離した
水酸基を塩基性有機溶媒(例えば、ピリジン、トリエチ
ルアミン、γ−ルチジン、ピペリジン、N−メチルモル
ホリン等、又はこれらの混合溶媒)中、アセチル化剤
(例えば、無水酢酸、塩化アセチル等)を用い、0℃〜
60℃で2時間〜40時間反応させることでアセチル化
して、構造式(25)で表される化合物を得ることができ
る。
【0143】最後に、反応工程(q)においては、水酸
基の保護基であるベンゾイル基及びアセチル基を、プロ
トン性溶媒(例えば、水、メタノール、エタノール、n
−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、
t−ブタノール等、又はこれらの混合溶媒)中、アルカ
リ金属アルコキシドやアルカリ土類金属アルコキシド
(例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、ナトリウム−t−ブトキシド、リチウムメトキシ
ド、マグネシウムメトキシド、カルシウムメトキシド
等)、又は水酸化アルカリ金属や水酸化アルカリ土類金
属(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸
化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム
等)を用い、温度0℃〜40℃で2時間〜48時間反応
させることにより、本発明の2−フルオロフコシル−α
−(1→4)−N−テトラヒドロナフチルグルコサミン
誘導体として、構造式(γ)で表される化合物を得るこ
とができる。
基の保護基であるベンゾイル基及びアセチル基を、プロ
トン性溶媒(例えば、水、メタノール、エタノール、n
−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、
t−ブタノール等、又はこれらの混合溶媒)中、アルカ
リ金属アルコキシドやアルカリ土類金属アルコキシド
(例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、ナトリウム−t−ブトキシド、リチウムメトキシ
ド、マグネシウムメトキシド、カルシウムメトキシド
等)、又は水酸化アルカリ金属や水酸化アルカリ土類金
属(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸
化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム
等)を用い、温度0℃〜40℃で2時間〜48時間反応
させることにより、本発明の2−フルオロフコシル−α
−(1→4)−N−テトラヒドロナフチルグルコサミン
誘導体として、構造式(γ)で表される化合物を得るこ
とができる。
【0144】次に、前記構造式(δ)で表される2−フ
ルオロフコシル−α−(1→4)−N−4−t−ブチル
ベンゾイルグルコサミン誘導体の製造方法を、下記のス
キーム7及びスキーム8を参照に説明する。
ルオロフコシル−α−(1→4)−N−4−t−ブチル
ベンゾイルグルコサミン誘導体の製造方法を、下記のス
キーム7及びスキーム8を参照に説明する。
【0145】この反応工程では、2−(トリメチルシリ
ル)エチル O−(3,4,6−トリ−O−アセチル−
2−デオキシ−2−フタルイミド−β−D−グルコピラ
ノシル)−(1→3)−O−(2,4,6−トリ−O−
ベンジル−β−D−ガラクトピラノシル)−(1→4)
−2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−D−グルコピ
ラノシド〔構造式(20)〕を出発原料に用いることがで
きる。
ル)エチル O−(3,4,6−トリ−O−アセチル−
2−デオキシ−2−フタルイミド−β−D−グルコピラ
ノシル)−(1→3)−O−(2,4,6−トリ−O−
ベンジル−β−D−ガラクトピラノシル)−(1→4)
−2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−D−グルコピ
ラノシド〔構造式(20)〕を出発原料に用いることがで
きる。
【0146】まず、下記の反応スキーム7に示す如く、
この化合物〔構造式(20)〕を脱アセチル化及び脱フタ
ルイミド化した後、4−t−ブチルベンゾイル化し〔構
造式(26)、反応工程(r)〕、次いで、前記構造式
(26)で表される化合物にベンジリデン基を導入する
〔構造式(27)、反応工程(s)〕。
この化合物〔構造式(20)〕を脱アセチル化及び脱フタ
ルイミド化した後、4−t−ブチルベンゾイル化し〔構
造式(26)、反応工程(r)〕、次いで、前記構造式
(26)で表される化合物にベンジリデン基を導入する
〔構造式(27)、反応工程(s)〕。
【0147】次いで、このベンジリデン基の還元的開裂
を行い〔構造式(28)、反応工程(t)〕、さらに反応
促進剤として、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸
銀/メチルスルフェニルブロマイドを用いて、構造式
(13)で表されるシアリルガラクトース部を導入し、次
に、例えば、N−ヨードスクシンイミド/トリフルオロ
メタンスルホン酸を用いて、メチル−3,4−ジ−O−
ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−1−チオ−L
−フコピラノシドを反応させる〔反応工程(u)〕こと
により、構造式(29)で表されるシアリルルイスa6糖
(これは、一般式(1)で表される本発明の誘導体に相
当する。)を得ることができる。
を行い〔構造式(28)、反応工程(t)〕、さらに反応
促進剤として、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸
銀/メチルスルフェニルブロマイドを用いて、構造式
(13)で表されるシアリルガラクトース部を導入し、次
に、例えば、N−ヨードスクシンイミド/トリフルオロ
メタンスルホン酸を用いて、メチル−3,4−ジ−O−
ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−1−チオ−L
−フコピラノシドを反応させる〔反応工程(u)〕こと
により、構造式(29)で表されるシアリルルイスa6糖
(これは、一般式(1)で表される本発明の誘導体に相
当する。)を得ることができる。
【0148】
【化67】
【化68】
【0149】さらに、下記の反応スキーム8に示す如
く、構造式(29)で表される化合物を接触還元に付し
〔反応工程(v)〕、アセチル化を行うことで、ナフタ
レンが部分還元された誘導体〔構造式(30)〕を得るこ
とができる。
く、構造式(29)で表される化合物を接触還元に付し
〔反応工程(v)〕、アセチル化を行うことで、ナフタ
レンが部分還元された誘導体〔構造式(30)〕を得るこ
とができる。
【0150】最後に、例えば、ナトリウムメトキシド、
水酸化ナトリウム等で処理する〔反応工程(w)〕こと
で、構造式(δ)で表される本発明の目的化合物を得る
ことができる。
水酸化ナトリウム等で処理する〔反応工程(w)〕こと
で、構造式(δ)で表される本発明の目的化合物を得る
ことができる。
【0151】
【化69】
【0152】次に、反応スキーム7及び反応スキーム8
を更に詳細に説明する。
を更に詳細に説明する。
【0153】まず、反応工程(r)においては、2−
(トリメチルシリル)エチル O−(3,4,6−トリ
−O−アセチル−2−デオキシ−2−フタルイミド−β
−D−グルコピラノシル)−(1→3)−O−(2,
4,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノ
シル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O−ベンジル
−β−D−グルコピラノシド〔構造式(20)〕を出発原
料にして、プロトン性溶媒(例えば、水、メタノール、
エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n
−ブタノール、t−ブタノール等、又はこれらの混合溶
媒)中、アルカリ金属アルコキシドやアルカリ土類金属
アルコキシド(例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、ナトリウム−t−ブトキシド、リチウ
ムメトキシド、マグネシウムメトキシド、カルシウムメ
トキシド等)、又は水酸化アルカリ金属や水酸化アルカ
リ土類金属(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウ
ム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カル
シウム等)を用い、温度0℃〜40℃で2時間〜48時
間反応させることにより、アセチル基を除去する。
(トリメチルシリル)エチル O−(3,4,6−トリ
−O−アセチル−2−デオキシ−2−フタルイミド−β
−D−グルコピラノシル)−(1→3)−O−(2,
4,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノ
シル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O−ベンジル
−β−D−グルコピラノシド〔構造式(20)〕を出発原
料にして、プロトン性溶媒(例えば、水、メタノール、
エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n
−ブタノール、t−ブタノール等、又はこれらの混合溶
媒)中、アルカリ金属アルコキシドやアルカリ土類金属
アルコキシド(例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、ナトリウム−t−ブトキシド、リチウ
ムメトキシド、マグネシウムメトキシド、カルシウムメ
トキシド等)、又は水酸化アルカリ金属や水酸化アルカ
リ土類金属(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウ
ム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カル
シウム等)を用い、温度0℃〜40℃で2時間〜48時
間反応させることにより、アセチル基を除去する。
【0154】その後、反応に関与しない溶媒(例えば、
ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ジクロロエタン、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスル
ホキシド、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタ
ノール、イソブタノール等、又はこれらの混合溶媒)
中、フタルイミドの脱保護化剤(例えば、ヒドラジン、
エチレンジアミン等、又はこれらの混合物)の存在下、
温度30℃〜100℃で6時間〜24時間処理すること
で、グルコサミン部分のフタルイミドを除去して、その
まま又は精製した後、反応に関与しない溶媒(例えば、
ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ジクロロエタン、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスル
ホキシド、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタ
ノール、イソブタノール等、又はこれらの混合溶媒)
中、4−t−ブチルベンゾイルクロライドを、温度5℃
〜50℃で2時間〜24時間反応させることで、4−t
−ブチルベンゾイル化体である構造式(26)で表される
化合物へ変換することができる。
ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ジクロロエタン、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスル
ホキシド、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタ
ノール、イソブタノール等、又はこれらの混合溶媒)
中、フタルイミドの脱保護化剤(例えば、ヒドラジン、
エチレンジアミン等、又はこれらの混合物)の存在下、
温度30℃〜100℃で6時間〜24時間処理すること
で、グルコサミン部分のフタルイミドを除去して、その
まま又は精製した後、反応に関与しない溶媒(例えば、
ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ジクロロエタン、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスル
ホキシド、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタ
ノール、イソブタノール等、又はこれらの混合溶媒)
中、4−t−ブチルベンゾイルクロライドを、温度5℃
〜50℃で2時間〜24時間反応させることで、4−t
−ブチルベンゾイル化体である構造式(26)で表される
化合物へ変換することができる。
【0155】次に、反応工程(s)においては、前記構
造式(26)で表される化合物の4,6位の水酸基に、例
えば、ベンズアルデヒドジメチルアセタール−p−トル
エンスルホン酸、ベンズアルデヒド−無水塩化亜鉛、ベ
ンズアルデヒド−濃硫酸等の存在下、ベンジリデン基を
導入し、構造式(27)で表される化合物を得ることがで
きる。
造式(26)で表される化合物の4,6位の水酸基に、例
えば、ベンズアルデヒドジメチルアセタール−p−トル
エンスルホン酸、ベンズアルデヒド−無水塩化亜鉛、ベ
ンズアルデヒド−濃硫酸等の存在下、ベンジリデン基を
導入し、構造式(27)で表される化合物を得ることがで
きる。
【0156】次に、反応工程(t)においては、前記ベ
ンジリデン基を導入した構造式(27)で表される化合物
を得た後、反応に関与しない溶媒(例えば、ベンゼン、
トルエン、塩化メチレン、ジクロロエタン、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、n−
プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イ
ソブタノール等、又はこれらの混合溶媒)中、還元的に
開裂する反応試剤(例えば、シアノ水素化ホウ素ナトリ
ウム−塩化水素、ボラン・トリメチルアミン錯体−塩化
アルミニウム、ボラン・ジメチルアミン錯体−三フッ化
ホウ素・エーテル錯体等)を用いて前記ベンジリデン基
を開裂させて、構造式(28)で表される化合物を得るこ
とができる。
ンジリデン基を導入した構造式(27)で表される化合物
を得た後、反応に関与しない溶媒(例えば、ベンゼン、
トルエン、塩化メチレン、ジクロロエタン、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、n−
プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イ
ソブタノール等、又はこれらの混合溶媒)中、還元的に
開裂する反応試剤(例えば、シアノ水素化ホウ素ナトリ
ウム−塩化水素、ボラン・トリメチルアミン錯体−塩化
アルミニウム、ボラン・ジメチルアミン錯体−三フッ化
ホウ素・エーテル錯体等)を用いて前記ベンジリデン基
を開裂させて、構造式(28)で表される化合物を得るこ
とができる。
【0157】次に、反応工程(u)において、前記構造
式(28)で表される化合物は、そのグルコサミン部分の
3,4位の2個の水酸基以外がベンジル基等で保護され
ているので、構造式(13)のシアリルガラクトースに次
いで、前記構造式(f)で表されるメチル−3,4−ジ
−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−1−チ
オ−L−フコピラノシドを順次導入することが可能にな
る。
式(28)で表される化合物は、そのグルコサミン部分の
3,4位の2個の水酸基以外がベンジル基等で保護され
ているので、構造式(13)のシアリルガラクトースに次
いで、前記構造式(f)で表されるメチル−3,4−ジ
−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−1−チ
オ−L−フコピラノシドを順次導入することが可能にな
る。
【0158】この反応は、反応に関与しない溶媒(例え
ば、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ジクロロエタ
ン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等、又はこ
れらの混合溶媒)中で、適当なグルコシル化促進剤(例
えば、N−ヨードスクシンイミド/トリフルオロメタン
スルホン酸スカンジウム、N−ヨードスクシンイミド/
テトラブチルアンモニウムトリフレート、ジメチル(メ
チルチオ)スルホニウムトリフレート(DMTST)、
N−ヨードスクシンイミド/トリフルオロメタンスルホ
ン酸、トリフルオロメタンスルホン酸銀/メチルスルフ
ェニルブロマイド等)及び合成フッ石(モレキュラーシ
ーブ)等の存在下、温度5℃〜35℃で12時間〜24
時間処理することにより、構造式(29)で表されるシア
リルルイスa6糖(これは、本発明の一般式(1)に対
応するものである。)を得ることができる。
ば、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ジクロロエタ
ン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等、又はこ
れらの混合溶媒)中で、適当なグルコシル化促進剤(例
えば、N−ヨードスクシンイミド/トリフルオロメタン
スルホン酸スカンジウム、N−ヨードスクシンイミド/
テトラブチルアンモニウムトリフレート、ジメチル(メ
チルチオ)スルホニウムトリフレート(DMTST)、
N−ヨードスクシンイミド/トリフルオロメタンスルホ
ン酸、トリフルオロメタンスルホン酸銀/メチルスルフ
ェニルブロマイド等)及び合成フッ石(モレキュラーシ
ーブ)等の存在下、温度5℃〜35℃で12時間〜24
時間処理することにより、構造式(29)で表されるシア
リルルイスa6糖(これは、本発明の一般式(1)に対
応するものである。)を得ることができる。
【0159】次に、反応工程(v)においては、このよ
うにして得られたシアリルルイスa糖鎖のベンジル基を
反応に関与しない溶媒(例えば、メタノール、エタノー
ル、n−プロパノール、イソプロパノール、酢酸エチ
ル、酢酸メチル、酢酸等、又はこれらの混合溶媒)中、
接触還元触媒(例えば、パラジウム−炭素、水酸化パラ
ジウム−炭素、パラジウム−硫酸バリウム等)の存在
下、水素供与体(例えば、水素ガス、シクロヘキセン、
シクロヘキサジエン、ギ酸、ギ酸アンモニウム塩等)を
0℃〜50℃で10時間〜120時間作用させることで
除去し、次いで、遊離した水酸基を塩基性有機溶媒(例
えば、ピリジン、トリエチルアミン、γ−ルチジン、ピ
ペリジン、N−メチルモルホリン等、又はこれらの混合
溶媒)中、アセチル化剤(例えば、無水酢酸、塩化アセ
チル等)を用い、0℃〜60℃で2時間〜40時間反応
させることでアセチル化して、構造式(30)で表される
化合物を得ることができる。
うにして得られたシアリルルイスa糖鎖のベンジル基を
反応に関与しない溶媒(例えば、メタノール、エタノー
ル、n−プロパノール、イソプロパノール、酢酸エチ
ル、酢酸メチル、酢酸等、又はこれらの混合溶媒)中、
接触還元触媒(例えば、パラジウム−炭素、水酸化パラ
ジウム−炭素、パラジウム−硫酸バリウム等)の存在
下、水素供与体(例えば、水素ガス、シクロヘキセン、
シクロヘキサジエン、ギ酸、ギ酸アンモニウム塩等)を
0℃〜50℃で10時間〜120時間作用させることで
除去し、次いで、遊離した水酸基を塩基性有機溶媒(例
えば、ピリジン、トリエチルアミン、γ−ルチジン、ピ
ペリジン、N−メチルモルホリン等、又はこれらの混合
溶媒)中、アセチル化剤(例えば、無水酢酸、塩化アセ
チル等)を用い、0℃〜60℃で2時間〜40時間反応
させることでアセチル化して、構造式(30)で表される
化合物を得ることができる。
【0160】最後に、反応工程(w)においては、水酸
基の保護基であるベンゾイル基及びアセチル基を、プロ
トン性溶媒(例えば、水、メタノール、エタノール、n
−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、
t−ブタノール等、又はこれらの混合溶媒)中、アルカ
リ金属アルコキシドやアルカリ土類金属アルコキシド
(例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、ナトリウム−t−ブトキシド、リチウムメトキシ
ド、マグネシウムメトキシド、カルシウムメトキシド
等)、又は水酸化アルカリ金属や水酸化アルカリ土類金
属(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸
化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム
等)を用い、温度0℃〜40℃で2時間〜48時間反応
させることにより、本発明に基づく2−フルオロフコシ
ル−α−(1→4)−N−4−t−ブチルベンゾイルグ
ルコサミン誘導体として、構造式(δ)で表される化合
物を得ることができる。
基の保護基であるベンゾイル基及びアセチル基を、プロ
トン性溶媒(例えば、水、メタノール、エタノール、n
−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、
t−ブタノール等、又はこれらの混合溶媒)中、アルカ
リ金属アルコキシドやアルカリ土類金属アルコキシド
(例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、ナトリウム−t−ブトキシド、リチウムメトキシ
ド、マグネシウムメトキシド、カルシウムメトキシド
等)、又は水酸化アルカリ金属や水酸化アルカリ土類金
属(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸
化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム
等)を用い、温度0℃〜40℃で2時間〜48時間反応
させることにより、本発明に基づく2−フルオロフコシ
ル−α−(1→4)−N−4−t−ブチルベンゾイルグ
ルコサミン誘導体として、構造式(δ)で表される化合
物を得ることができる。
【0161】
【実施例】以下、本発明を具体的な実施例について説明
するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。
するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。
【0162】参考例 目的:2−(トリメチルシリル)エチル O−(4,6
−O−ベンジリデン−2−デオキシ−2−フタルイミド
−β−D−グルコピラノシル)−(1→3)−O−
(2,4,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクト
ピラノシル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O−ベ
ンジル−β−グルコピラノシド〔前記構造式(e):以
下、化合物(e)と略す〕の合成
−O−ベンジリデン−2−デオキシ−2−フタルイミド
−β−D−グルコピラノシル)−(1→3)−O−
(2,4,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクト
ピラノシル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O−ベ
ンジル−β−グルコピラノシド〔前記構造式(e):以
下、化合物(e)と略す〕の合成
【0163】2−(トリメチルシリル)エチル O−
(3,4,6−トリ−O−アセチル−2−デオキシ−2
−フタルイミド−β−D−グルコピラノシル)−(1→
3)−O−(2,4,6−トリ−O−ベンジル−β−D
−ガラクトピラノシル)−(1→4)−2,3,6−ト
リ−O−ベンジル−β−グルコピラノシド0.515g
(0.368mmol)を無水メタノール2.2mLに
溶かし、アルゴン雰囲気下、ナトリウムメトキシド16
mg(0.296mmol)を加え、室温で2時間攪拌
した。
(3,4,6−トリ−O−アセチル−2−デオキシ−2
−フタルイミド−β−D−グルコピラノシル)−(1→
3)−O−(2,4,6−トリ−O−ベンジル−β−D
−ガラクトピラノシル)−(1→4)−2,3,6−ト
リ−O−ベンジル−β−グルコピラノシド0.515g
(0.368mmol)を無水メタノール2.2mLに
溶かし、アルゴン雰囲気下、ナトリウムメトキシド16
mg(0.296mmol)を加え、室温で2時間攪拌
した。
【0164】得られた反応溶液を直接に、アンバーライ
トIR120B(H+ )のカラムにより中和した(溶出
溶媒:メタノール)。次に、溶出液を合わせて減圧濃縮
して得た残渣を無水ジメチルホルミアミド4.7mLに
溶かし、アルゴン雰囲気下、ベンズアルデヒドジメチル
アセタール0.35mL(2.33mmol)とp−ト
ルエンスルホン酸・1水和物9mg(0.047mmo
l)とを加え、室温で16時間攪拌した。
トIR120B(H+ )のカラムにより中和した(溶出
溶媒:メタノール)。次に、溶出液を合わせて減圧濃縮
して得た残渣を無水ジメチルホルミアミド4.7mLに
溶かし、アルゴン雰囲気下、ベンズアルデヒドジメチル
アセタール0.35mL(2.33mmol)とp−ト
ルエンスルホン酸・1水和物9mg(0.047mmo
l)とを加え、室温で16時間攪拌した。
【0165】得られた反応液をアンバーライトIRA−
410(OH- )の層を通した(溶出液:メタノー
ル)。次に、溶出した液を合わせて、減圧下で濃縮した
後、残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー
(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)により精製して、2
−(トリメチルシリル)エチル O−(4,6−O−ベ
ンジリデン−2−デオキシ−2−フタルイミド−β−D
−グルコピラノシル)−(1→3)−O−(2,4,6
−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノシル)
−(1→4)−2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−
グルコピラノシド〔上記化合物(e)〕を259mg
(収率53%)得た。
410(OH- )の層を通した(溶出液:メタノー
ル)。次に、溶出した液を合わせて、減圧下で濃縮した
後、残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー
(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)により精製して、2
−(トリメチルシリル)エチル O−(4,6−O−ベ
ンジリデン−2−デオキシ−2−フタルイミド−β−D
−グルコピラノシル)−(1→3)−O−(2,4,6
−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノシル)
−(1→4)−2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−
グルコピラノシド〔上記化合物(e)〕を259mg
(収率53%)得た。
【0166】この化合物の分析結果は次の通りである。 C80H87NO17Si(分子量1362.7) IRKBr max cm-1:3475(OH), 1715(イミド), 1090
(エーテル),860, 840 (Me3Si) , 735, 700(Ph) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 7.6-6.8(m, 39H, Phthal + 7P
h),5.59(s, 1H, PhCH), 0.98(m, 2H, CH2SiMe3). 質量分析 : m/z C80H87NO17Siについての計算値 1362.
5821(M+H); 理論値 1362.5850
(エーテル),860, 840 (Me3Si) , 735, 700(Ph) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 7.6-6.8(m, 39H, Phthal + 7P
h),5.59(s, 1H, PhCH), 0.98(m, 2H, CH2SiMe3). 質量分析 : m/z C80H87NO17Siについての計算値 1362.
5821(M+H); 理論値 1362.5850
【0167】実施例1 目的:2−(トリメチルシリル)エチル O−(3,4
−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−α
−L−フコピラノシル−(1→3)−O−(4,6−O
−ベンジリデン−2−デオキシ−2−フタルイミド−β
−D−グルコピラノシル)−(1→3)−O−(2,
4,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノ
シル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O−ベンジル
−β−グルコピラノシド〔前記構造式(10):以下、化
合物(10)と略す〕の合成
−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−α
−L−フコピラノシル−(1→3)−O−(4,6−O
−ベンジリデン−2−デオキシ−2−フタルイミド−β
−D−グルコピラノシル)−(1→3)−O−(2,
4,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノ
シル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O−ベンジル
−β−グルコピラノシド〔前記構造式(10):以下、化
合物(10)と略す〕の合成
【0168】前記構造式(f)で表されるメチル 3,
4−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−
1−チオ−β−L−フコピラノース3.5mg(0.0
75mmol)と、上記参照例で得た化合物(e)75
mg(0.055mmol)を無水ベンゼン2.3mL
に溶解し、アルゴン雰囲気下、活性化したモレキュラー
シーブ(粒径4Å)0.4gを加えた。
4−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−
1−チオ−β−L−フコピラノース3.5mg(0.0
75mmol)と、上記参照例で得た化合物(e)75
mg(0.055mmol)を無水ベンゼン2.3mL
に溶解し、アルゴン雰囲気下、活性化したモレキュラー
シーブ(粒径4Å)0.4gを加えた。
【0169】室温で16時間攪拌後、約7℃に冷却し、
ジメチル(メチルチオ)スルホニウムトリフレート(D
MTST)120mg(0.465mmol)を加え、
同温度で2時間攪拌した。さらに、4℃に冷却したメタ
ノール1.2mL、次いでトリエチルアミン0.4mL
を加え、同温度で30分間攪拌した。
ジメチル(メチルチオ)スルホニウムトリフレート(D
MTST)120mg(0.465mmol)を加え、
同温度で2時間攪拌した。さらに、4℃に冷却したメタ
ノール1.2mL、次いでトリエチルアミン0.4mL
を加え、同温度で30分間攪拌した。
【0170】次いで、不溶部を吸引濾別し、ジクロロメ
タンで洗浄した。濾液及び洗浄液を合わせて水で洗浄
後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。
タンで洗浄した。濾液及び洗浄液を合わせて水で洗浄
後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。
【0171】残渣をフラッシュクロマトグラフィー(n
−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)に供し、前記化合物
(10)を75mg(収率80.6%)得た。
−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)に供し、前記化合物
(10)を75mg(収率80.6%)得た。
【0172】この化合物の分析結果は次の通りである。 C100H108NO20FSi (分子量1691.1) [α] D 23= -41.6 °(c 1.025, クロロホルム) IRKBr max cm-1:3470(NH), 1715(イミド), 1100
(エーテル),860, 835 (Me3Si) , 735, 700(Ph) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 7.8-6.8(m, 49H, Phthal + 9P
h),5.57(s, 1H, PhCH),4.89(d, 1H, J1,2=4.1Hz, H-1,
フコース部),0.98(m, 2H, CH2SiMe3),0.79(d, 3H, J5,6
=6.5Hz, H-6, フコース部).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-207(ddd,JF,3H=9.4Hz,JF,1H
=3.3Hz,2-F). 質量分析 : m/z C100H108NO20FSi についての計算値 1
690.7296(M+H); 理論値 1690.7308
(エーテル),860, 835 (Me3Si) , 735, 700(Ph) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 7.8-6.8(m, 49H, Phthal + 9P
h),5.57(s, 1H, PhCH),4.89(d, 1H, J1,2=4.1Hz, H-1,
フコース部),0.98(m, 2H, CH2SiMe3),0.79(d, 3H, J5,6
=6.5Hz, H-6, フコース部).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-207(ddd,JF,3H=9.4Hz,JF,1H
=3.3Hz,2-F). 質量分析 : m/z C100H108NO20FSi についての計算値 1
690.7296(M+H); 理論値 1690.7308
【0173】実施例2 目的:2−(トリメチルシリル)エチル O−(3,4
−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−α
−L−フコピラノシル−(1→3)−O−(4,6−O
−ベンジリデン−2−デオキシ−2−ナフタミド−β−
D−グルコピラノシル)−(1→3)−O−(2,4,
6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノシ
ル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O−ベンジル−
β−グルコピラノシド〔前記構造式(11):以下、化
合物(11)と略す〕の合成
−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−α
−L−フコピラノシル−(1→3)−O−(4,6−O
−ベンジリデン−2−デオキシ−2−ナフタミド−β−
D−グルコピラノシル)−(1→3)−O−(2,4,
6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノシ
ル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O−ベンジル−
β−グルコピラノシド〔前記構造式(11):以下、化
合物(11)と略す〕の合成
【0174】実施例1で得た化合物(10)285mg
(0.169mmol)をアルゴン雰囲気下でn−ブタ
ノール26mLに溶かし、エチレンジアミン8.8mL
を加え、温度82℃で20時間攪拌加熱した。
(0.169mmol)をアルゴン雰囲気下でn−ブタ
ノール26mLに溶かし、エチレンジアミン8.8mL
を加え、温度82℃で20時間攪拌加熱した。
【0175】次いで、温度60℃以下での減圧濃縮後の
残渣にピリジン48mL、2−ナフトイルクロライド7
50mg(3.93mmol)、さらに、N,N−ジメ
チルアミノピリジン25mg(0.205mmol)を
加えた後、12時間、アルゴン雰囲気下、室温で攪拌し
た。
残渣にピリジン48mL、2−ナフトイルクロライド7
50mg(3.93mmol)、さらに、N,N−ジメ
チルアミノピリジン25mg(0.205mmol)を
加えた後、12時間、アルゴン雰囲気下、室温で攪拌し
た。
【0176】次いで、温度0℃に冷却後、メタノール9
mLを加え、同温度で2時間攪拌した。
mLを加え、同温度で2時間攪拌した。
【0177】再度、減圧濃縮後の残渣をフラッシュクロ
マトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:2)
により精製して、前記化合物(11)を236mg(収率
81.7%)得た。
マトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:2)
により精製して、前記化合物(11)を236mg(収率
81.7%)得た。
【0178】この化合物の分析結果は次の通りである。 C103H112NO19FSi (分子量1715.1) [α] D 23= -41.2 °(c 1.04,クロロホルム) IRKBr max cm-1:3415(NH), 1685, 1520(アミド),
1095(エーテル),860, 835 (Me3Si) , 735, 695(Ph) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 8.0-6.8(m, 52H, 2-Naphth +
9Ph),5.49(s, 1H, PhCH),5.05(d, 1H, J1,2=3.8Hz, H-
1, フコース部),0.90(m, 2H, CH2SiMe3),0.73(d, J5,6=
6.4Hz, H-6, フコース部).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-207(幅広ddd, JF,2H =50H
z, J F,3H =8.9Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C103H112NO19FSi についての計算値 1
714.7660(M+H); 理論値 1714.7686
1095(エーテル),860, 835 (Me3Si) , 735, 695(Ph) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 8.0-6.8(m, 52H, 2-Naphth +
9Ph),5.49(s, 1H, PhCH),5.05(d, 1H, J1,2=3.8Hz, H-
1, フコース部),0.90(m, 2H, CH2SiMe3),0.73(d, J5,6=
6.4Hz, H-6, フコース部).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-207(幅広ddd, JF,2H =50H
z, J F,3H =8.9Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C103H112NO19FSi についての計算値 1
714.7660(M+H); 理論値 1714.7686
【0179】実施例3 目的:2−(トリメチルシリル)エチル O−(3,4
−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−α
−L−フコピラノシル−(1→3)−O−(6−O−ベ
ンジル−2−デオキシ−2−ナフタミド−β−D−グル
コピラノシル)−(1→3)−O−(2,4,6−トリ
−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノシル)−(1
→4)−2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−グルコ
ピラノシド〔前記構造式(12):以下、化合物(12)と
略す〕の合成
−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−α
−L−フコピラノシル−(1→3)−O−(6−O−ベ
ンジル−2−デオキシ−2−ナフタミド−β−D−グル
コピラノシル)−(1→3)−O−(2,4,6−トリ
−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノシル)−(1
→4)−2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−グルコ
ピラノシド〔前記構造式(12):以下、化合物(12)と
略す〕の合成
【0180】実施例2で得た化合物(11)46mg
(0.0268mmol)を無水テトラヒドロフラン
1.2mLに溶解し、アルゴン雰囲気下で活性化したモ
レキュラーシーブ(粒径4Å)180mgを加えた。
(0.0268mmol)を無水テトラヒドロフラン
1.2mLに溶解し、アルゴン雰囲気下で活性化したモ
レキュラーシーブ(粒径4Å)180mgを加えた。
【0181】次いで、室温で1時間攪拌後、同温度でシ
アノ水素化ホウ素ナトリウム140mg(2.22mm
ol)を加えてから、温度0℃に冷却し、1モル/塩酸
−エーテル溶液2.8mL(2.8mmol)をアルゴ
ン雰囲気下で滴下した。
アノ水素化ホウ素ナトリウム140mg(2.22mm
ol)を加えてから、温度0℃に冷却し、1モル/塩酸
−エーテル溶液2.8mL(2.8mmol)をアルゴ
ン雰囲気下で滴下した。
【0182】次いで、室温へ昇温してから、15分間攪
拌し、ジクロロメタン5mLと水1mLとを加えて不溶
部を濾別後、ジクロロメタンで洗浄した。
拌し、ジクロロメタン5mLと水1mLとを加えて不溶
部を濾別後、ジクロロメタンで洗浄した。
【0183】この濾液及び洗浄液とを合わせて、2モル
/塩酸水溶液、5%重曹水、次いで、飽和食塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。
/塩酸水溶液、5%重曹水、次いで、飽和食塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。
【0184】次いで、減圧濃縮処理を施し、この残渣を
フラッシュクロマトグラフィー(溶出液;n−ヘキサ
ン:酢酸エチル=2:1)に供して、化合物(12)を2
3mg(収率50.0%)得た。
フラッシュクロマトグラフィー(溶出液;n−ヘキサ
ン:酢酸エチル=2:1)に供して、化合物(12)を2
3mg(収率50.0%)得た。
【0185】この化合物の分析結果は次の通りである。 C103H114NO19FSi (分子量1717.1) [α] D 23= -19.0 °(c 0.51,クロロホルム) IRKBr max cm-1:3700-3200(OH,NH), 1670, 1495(ア
ミド),1070(エーテル), 860, 840(Me3Si) ,735, 695
(Ph) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 8.1-6.8(m, 52H, 2-Naphth +
9Ph),5.81(d, 1H, J=8.9Hz, OH),1.16(d, 3H, J5,6=6.5
Hz, H-6, フコース部),0.97(m, 2H, CH2SiMe3).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-207(ddd, J F,2H =51Hz, J
F,3H =8.9Hz, JF,1H=2.8Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C103H114NO19FSi についての計算値 1
716.7817(M+H); 理論値 1716.7661
ミド),1070(エーテル), 860, 840(Me3Si) ,735, 695
(Ph) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 8.1-6.8(m, 52H, 2-Naphth +
9Ph),5.81(d, 1H, J=8.9Hz, OH),1.16(d, 3H, J5,6=6.5
Hz, H-6, フコース部),0.97(m, 2H, CH2SiMe3).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-207(ddd, J F,2H =51Hz, J
F,3H =8.9Hz, JF,1H=2.8Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C103H114NO19FSi についての計算値 1
716.7817(M+H); 理論値 1716.7661
【0186】実施例4 目的:2−(トリメチルシリル)エチル O−(メチル
5−アセタミド−4,7,8,9−テトラ−O−アセ
チル−3,5−ジデオキシ−D−グリセロ−α−D−ガ
ラクト−2−ヌノロピラノシロネート)−(2→3)−
O−(2,4,6−トリ−O−ベンゾイル−β−D−ガ
ラクトピラノシル−(1→4)−O−〔(3,4−ジ−
O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−α−L−
フコピラノシル−(1→3)〕−O−(6−O−ベンジ
ル−2−デオキシ−2−ナフタミド−β−D−グルコピ
ラノシル)−(1→3)−O−(2,4,6−トリ−O
−ベンジル−β−D−ガラクトピラノシル)−(1→
4)−2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−グルコピ
ラノシド〔前記構造式(14):以下、化合物(14)と略
す〕の合成
5−アセタミド−4,7,8,9−テトラ−O−アセ
チル−3,5−ジデオキシ−D−グリセロ−α−D−ガ
ラクト−2−ヌノロピラノシロネート)−(2→3)−
O−(2,4,6−トリ−O−ベンゾイル−β−D−ガ
ラクトピラノシル−(1→4)−O−〔(3,4−ジ−
O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−α−L−
フコピラノシル−(1→3)〕−O−(6−O−ベンジ
ル−2−デオキシ−2−ナフタミド−β−D−グルコピ
ラノシル)−(1→3)−O−(2,4,6−トリ−O
−ベンジル−β−D−ガラクトピラノシル)−(1→
4)−2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−グルコピ
ラノシド〔前記構造式(14):以下、化合物(14)と略
す〕の合成
【0187】実施例3で得た化合物(12)82.3mg
(0.048mmol)及びO−(メチル 5−アセタ
ミド−4,7,8,9−テトラ−O−アセチル−3,5
−ジデオキシ−D−グリセロ−α−D−ガラクト−2−
ヌノロピラノシロネート)−(2→3)−O−(2,
4,6−トリ−O−ベンゾイル−1−チオ−β−D−ガ
ラクトピラノシド〔前記構造式(13)=前記構造式
(g)〕を無水ジクロロメタン3.6mLに溶解し、ア
ルゴン雰囲気下で活性化したモレキュラーシーブ(粒径
4Å)500mgを加えた。
(0.048mmol)及びO−(メチル 5−アセタ
ミド−4,7,8,9−テトラ−O−アセチル−3,5
−ジデオキシ−D−グリセロ−α−D−ガラクト−2−
ヌノロピラノシロネート)−(2→3)−O−(2,
4,6−トリ−O−ベンゾイル−1−チオ−β−D−ガ
ラクトピラノシド〔前記構造式(13)=前記構造式
(g)〕を無水ジクロロメタン3.6mLに溶解し、ア
ルゴン雰囲気下で活性化したモレキュラーシーブ(粒径
4Å)500mgを加えた。
【0188】次いで、室温で2.5時間攪拌後、同温度
でジメチル(メチルチオ)スルホニウムトリフレート
(DMTST)72mg(0.28mmol)を加え、
アルゴン雰囲気下、同温度で20時間攪拌した。
でジメチル(メチルチオ)スルホニウムトリフレート
(DMTST)72mg(0.28mmol)を加え、
アルゴン雰囲気下、同温度で20時間攪拌した。
【0189】次いで、これを氷冷してから、メタノール
0.4mL、及びトリメチルアミン0.2mLを加え、
同温度で30分間攪拌した。
0.4mL、及びトリメチルアミン0.2mLを加え、
同温度で30分間攪拌した。
【0190】次いで、ジクロロメタンで希釈後、濾過及
び洗浄を行い、得られた濾液と洗浄液とを合わせて、水
で洗浄した。さらに、これを硫酸ナトリウムで乾燥さ
せ、減圧濃縮で得られる残渣をフラッシュクロマトグラ
フィー(溶出液;n−ヘキサン:酢酸エチル=1:3)
に供して、化合物(14)を72.7mg(収率56.9
%)得た。
び洗浄を行い、得られた濾液と洗浄液とを合わせて、水
で洗浄した。さらに、これを硫酸ナトリウムで乾燥さ
せ、減圧濃縮で得られる残渣をフラッシュクロマトグラ
フィー(溶出液;n−ヘキサン:酢酸エチル=1:3)
に供して、化合物(14)を72.7mg(収率56.9
%)得た。
【0191】この化合物の分析結果は次の通りである。 C150H163N2O39FSi(分子量2665.0) [α] D 23= -12.9 °(c 0.52,クロロホルム) IRKBr max cm-1:3400(NH), 1740, 1260(エステ
ル),1690, 1500(アミド), 1070(エーテル),860, 8
05 (Me3Si) , 735, 715(Ph) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 8.3-7.0(m, 67H, 2-Naphth +
12Ph),5.67(m, 1H, H-8, シアル酸部),5.56(dd, 1H, J
1,2=8.3Hz, J2,3=9.6Hz, H-2, ガラクトース部),5.35
(幅広 d, 1H, J3,4=J4,5=3.5Hz,H-2, ガラクトース
部),5.28(dd, 1H, J7,8=9.6Hz, J6,7=2.6Hz, H-7, シ
アル酸部),3.81(s, 3H, OCH3),2.51(dd, 1H, J3e,3a=1
2.5Hz, J3e,4=4.5Hz, H-3e, シアル酸部),2.18, 2.00,
1.97, 1.84(4s, 12H, 4AcO),1.56(s, 3H, AcN),1.11(d,
3H, J5,6=6.4Hz, H-6, シアル酸部),1.01(m, 2H, Me3S
iCH2CH2O).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-208(幅広ddd, JF,2H =49Hz,
J F,3H =7.50Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C150H163N2O39FSiについての計算値 2
665.0698(M+H); 理論値 2665.0736
ル),1690, 1500(アミド), 1070(エーテル),860, 8
05 (Me3Si) , 735, 715(Ph) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 8.3-7.0(m, 67H, 2-Naphth +
12Ph),5.67(m, 1H, H-8, シアル酸部),5.56(dd, 1H, J
1,2=8.3Hz, J2,3=9.6Hz, H-2, ガラクトース部),5.35
(幅広 d, 1H, J3,4=J4,5=3.5Hz,H-2, ガラクトース
部),5.28(dd, 1H, J7,8=9.6Hz, J6,7=2.6Hz, H-7, シ
アル酸部),3.81(s, 3H, OCH3),2.51(dd, 1H, J3e,3a=1
2.5Hz, J3e,4=4.5Hz, H-3e, シアル酸部),2.18, 2.00,
1.97, 1.84(4s, 12H, 4AcO),1.56(s, 3H, AcN),1.11(d,
3H, J5,6=6.4Hz, H-6, シアル酸部),1.01(m, 2H, Me3S
iCH2CH2O).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-208(幅広ddd, JF,2H =49Hz,
J F,3H =7.50Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C150H163N2O39FSiについての計算値 2
665.0698(M+H); 理論値 2665.0736
【0192】実施例5 目的:2−(トリメチルシリル)エチル O−(メチル
5−アセタミド−4,7,8,9−テトラ−O−アセ
チル−3,5−ジデオキシ−D−グリセロ−α−D−ガ
ラクト−2−ヌノロピラノシロネート)−(2→3)−
O−(2,4,6−トリ−O−ベンゾイル−β−D−ガ
ラクトピラノシル−(1→4)−O−〔(3,4−ジ−
O−アセチル−2−デオキシ−2−フルオロ−α−L−
フコピラノシル−(1→3)〕−O−〔6−O−アセチ
ル−2−デオキシ−2−(5,6,7,8−テトラヒド
ロナフタミド)−β−D−グルコピラノシル〕−(1→
3)−O−(2,4,6−トリ−O−アセチル−β−D
−ガラクトピラノシル)−(1→4)−2,3,6−ト
リ−O−アセチル−β−D−グルコピラノシド〔前記構
造式(15):以下、化合物(15)と略す〕の合成
5−アセタミド−4,7,8,9−テトラ−O−アセ
チル−3,5−ジデオキシ−D−グリセロ−α−D−ガ
ラクト−2−ヌノロピラノシロネート)−(2→3)−
O−(2,4,6−トリ−O−ベンゾイル−β−D−ガ
ラクトピラノシル−(1→4)−O−〔(3,4−ジ−
O−アセチル−2−デオキシ−2−フルオロ−α−L−
フコピラノシル−(1→3)〕−O−〔6−O−アセチ
ル−2−デオキシ−2−(5,6,7,8−テトラヒド
ロナフタミド)−β−D−グルコピラノシル〕−(1→
3)−O−(2,4,6−トリ−O−アセチル−β−D
−ガラクトピラノシル)−(1→4)−2,3,6−ト
リ−O−アセチル−β−D−グルコピラノシド〔前記構
造式(15):以下、化合物(15)と略す〕の合成
【0193】実施例4で得た化合物(14)25mg
(0.0093mmol)を、エタノール4.2mL及
び酢酸1.3mLに溶かし、10%パラジウム−炭素2
8mgの存在下、45℃に加温しながら、常圧水素圧で
4日間接触還元した。
(0.0093mmol)を、エタノール4.2mL及
び酢酸1.3mLに溶かし、10%パラジウム−炭素2
8mgの存在下、45℃に加温しながら、常圧水素圧で
4日間接触還元した。
【0194】次いで、これを濾過した後、溶媒を減圧濃
縮し、得られた残渣にピリジン4mL、無水酢酸2mL
を加えて、室温で20時間攪拌した。
縮し、得られた残渣にピリジン4mL、無水酢酸2mL
を加えて、室温で20時間攪拌した。
【0195】これを減圧濃縮し、得られた残渣をフラッ
シュクロマトグラフィー(溶出液;n−ヘキサン:酢酸
エチル=1:6)に供して、化合物(15)を12mg
(収率57.2%)得た。
シュクロマトグラフィー(溶出液;n−ヘキサン:酢酸
エチル=1:6)に供して、化合物(15)を12mg
(収率57.2%)得た。
【0196】この化合物の分析結果は次の通りである。 C105H131N2O48FSi(分子量2236.2) [α] D 23= -20.0 °(c 0.43,クロロホルム) IRKBr max cm-1:3380(NH), 1750, 1230(エステ
ル),1700, 1540(アミド), 1070(エーテル),860, 8
40 (Me3Si) , 720(Ph) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 8.3-7.0(m, 18H, 4HNaph + 3P
h),5.66(m, 1H, H-8, シアル酸部),4.46(d, 1H, J1,2=
7.9Hz, H-1, グルコース部),3.80(s, 3H, OCH3),2.83
(幅広 s, 4H, テトラヒドロナフタレン部),2.41(dd, 1
H, J3a,3e=12.6Hz, J3e,4=4.5Hz, H-3e, シアル酸部),
2.14, 2.13, 2.09 ×2, 2.09, 2.08, 2.07, 2.05, 2.0
2, 2.01,1.98, 1.91, 1.90(13s, 39H, 13AcO),1.56(s,
3H, AcN),1.08(d, 3H, J5,6=6.5Hz, H-6, フコース部),
0.89(m, 2H, Me3SiCH2).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-208(幅広 dd, JF,2H=50Hz,
JF,3H=9.9Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C105H131N2O48FSiについての計算値 2
236.7736(M+H); 理論値 2236.7709
ル),1700, 1540(アミド), 1070(エーテル),860, 8
40 (Me3Si) , 720(Ph) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 8.3-7.0(m, 18H, 4HNaph + 3P
h),5.66(m, 1H, H-8, シアル酸部),4.46(d, 1H, J1,2=
7.9Hz, H-1, グルコース部),3.80(s, 3H, OCH3),2.83
(幅広 s, 4H, テトラヒドロナフタレン部),2.41(dd, 1
H, J3a,3e=12.6Hz, J3e,4=4.5Hz, H-3e, シアル酸部),
2.14, 2.13, 2.09 ×2, 2.09, 2.08, 2.07, 2.05, 2.0
2, 2.01,1.98, 1.91, 1.90(13s, 39H, 13AcO),1.56(s,
3H, AcN),1.08(d, 3H, J5,6=6.5Hz, H-6, フコース部),
0.89(m, 2H, Me3SiCH2).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-208(幅広 dd, JF,2H=50Hz,
JF,3H=9.9Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C105H131N2O48FSiについての計算値 2
236.7736(M+H); 理論値 2236.7709
【0197】実施例6 目的:2−(トリメチルシリル)エチルO−(5−アセ
タミド−3,5−ジデオキシ−D−グリセロ−α−D−
ガラクト−2−ヌノロピラノシロン酸)−(2→3)−
O−β−D−ガラクトピラノシル−(1→4)−O−
〔(2−デオキシ−2−フルオロ−α−L−フコピラノ
シル)−(1→3)〕−O−〔(2−デオキシ−2−
(5,6,7,8−テトラヒドロナフタミド)−β−D
−グルコピラノシル〕−(1→3)〕−O−β−D−ガ
ラクトピラノシル)−(1→4)−β−D−グルコピラ
ノシド〔前記構造式(α):以下、化合物(α)と略
す〕の合成
タミド−3,5−ジデオキシ−D−グリセロ−α−D−
ガラクト−2−ヌノロピラノシロン酸)−(2→3)−
O−β−D−ガラクトピラノシル−(1→4)−O−
〔(2−デオキシ−2−フルオロ−α−L−フコピラノ
シル)−(1→3)〕−O−〔(2−デオキシ−2−
(5,6,7,8−テトラヒドロナフタミド)−β−D
−グルコピラノシル〕−(1→3)〕−O−β−D−ガ
ラクトピラノシル)−(1→4)−β−D−グルコピラ
ノシド〔前記構造式(α):以下、化合物(α)と略
す〕の合成
【0198】実施例5で得た化合物(15)12mg
(0.0053mmol)を、無水エタノール1.0m
Lに溶解し、アルゴン雰囲気下、室温でナトリウムメト
キシド10mg(0.19mmol)を加えた後、温度
40℃で21時間攪拌した。
(0.0053mmol)を、無水エタノール1.0m
Lに溶解し、アルゴン雰囲気下、室温でナトリウムメト
キシド10mg(0.19mmol)を加えた後、温度
40℃で21時間攪拌した。
【0199】次いで、室温に放冷後、水0.8mLを加
え、8時間攪拌した。さらに、アンバーライトIR12
0(H+ )の層を通し(溶出液;メタノール)、減圧濃
縮した残渣をセファデックスLH20(15g)による
ゲル濾過カラムクロマトグラフィー(溶出液;メタノー
ル)に供して、化合物(α)を6.2mg(収率85.
0%)を得た。
え、8時間攪拌した。さらに、アンバーライトIR12
0(H+ )の層を通し(溶出液;メタノール)、減圧濃
縮した残渣をセファデックスLH20(15g)による
ゲル濾過カラムクロマトグラフィー(溶出液;メタノー
ル)に供して、化合物(α)を6.2mg(収率85.
0%)を得た。
【0200】この化合物の分析結果は次の通りである。 C57H91N2O32FSi(分子量1363.4) [α] D 23= -30.0 °(c 0.50,メタノール) IRKBr max cm-1:3700-3200(OH,NH), 2930, 2850(メ
チル、メチレン),1740 (カルボン酸), 1635, 1555(ア
ミド),1070(エーテル).1 H-NMR (CD3OD;TMS): δ 7.6-7.0(m, 3H, 4HNaph),5.26
(d, 1H, H-8, J1,2=3.8Hz, H-1, フコース部),2.88(d
d, 1H, J3a,3e=12.7Hz, J3e,4=2.5Hz, H-3e, シアル酸
部),2.80(幅広 s, 4H, テトラヒドロナフタレン部),2.0
2(s, 3H, AcN),1.17(d, 3H, J5,6=6.5Hz, H-6, フコー
ス部),1.00(m, 2H, Me3SiCH2).19 F-NMR (CD3OD;CFCl3):δ-163(幅広 dd, JF,2H=50Hz,
JF,3H=10.8Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C57H91N2O32FSiについての計算値 136
3.5837(M+H); 理論値 1363.5392
チル、メチレン),1740 (カルボン酸), 1635, 1555(ア
ミド),1070(エーテル).1 H-NMR (CD3OD;TMS): δ 7.6-7.0(m, 3H, 4HNaph),5.26
(d, 1H, H-8, J1,2=3.8Hz, H-1, フコース部),2.88(d
d, 1H, J3a,3e=12.7Hz, J3e,4=2.5Hz, H-3e, シアル酸
部),2.80(幅広 s, 4H, テトラヒドロナフタレン部),2.0
2(s, 3H, AcN),1.17(d, 3H, J5,6=6.5Hz, H-6, フコー
ス部),1.00(m, 2H, Me3SiCH2).19 F-NMR (CD3OD;CFCl3):δ-163(幅広 dd, JF,2H=50Hz,
JF,3H=10.8Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C57H91N2O32FSiについての計算値 136
3.5837(M+H); 理論値 1363.5392
【0201】実施例7 目的:2−(トリメチルシリル)エチル O−(3,4
−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−α
−L−フコピラノシル−(1→3)−O−〔4,6−O
−ベンジリデン−2−デオキシ−2−(4−t−ブチル
ベンズアミド)−β−D−グルコピラノシル〕−(1→
3)−O−(2,4,6−トリ−O−ベンジル−β−D
−ガラクトピラノシル)−(1→4)−2,3,6−ト
リ−O−ベンジル−β−グルコピラノシド〔前記構造式
(16):以下、化合物(16)と略す〕の合成
−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−α
−L−フコピラノシル−(1→3)−O−〔4,6−O
−ベンジリデン−2−デオキシ−2−(4−t−ブチル
ベンズアミド)−β−D−グルコピラノシル〕−(1→
3)−O−(2,4,6−トリ−O−ベンジル−β−D
−ガラクトピラノシル)−(1→4)−2,3,6−ト
リ−O−ベンジル−β−グルコピラノシド〔前記構造式
(16):以下、化合物(16)と略す〕の合成
【0202】実施例1で得た化合物(10)291mg
(0.172mmol)をアルゴン雰囲気下でn−ブタ
ノール24mLに溶かし、エチレンジアミン6mLを加
え、温度8℃で20時間攪拌加熱した。
(0.172mmol)をアルゴン雰囲気下でn−ブタ
ノール24mLに溶かし、エチレンジアミン6mLを加
え、温度8℃で20時間攪拌加熱した。
【0203】次いで、温度60℃以下での減圧濃縮後の
残渣にピリジン48mL、4−t−ブチルベンゾイルク
ロライド0.8mL(4.19mmol)、さらにN,
N−ジメチルアミノピリジン30mg(0.246mm
ol)を加えた後、16時間、アルゴン雰囲気下、室温
で攪拌した。
残渣にピリジン48mL、4−t−ブチルベンゾイルク
ロライド0.8mL(4.19mmol)、さらにN,
N−ジメチルアミノピリジン30mg(0.246mm
ol)を加えた後、16時間、アルゴン雰囲気下、室温
で攪拌した。
【0204】次いで、温度0℃に冷却後、メタノール9
mLを加え、室温で3時間攪拌した。
mLを加え、室温で3時間攪拌した。
【0205】再度、減圧濃縮後の残渣をフラッシュクロ
マトグラフィー(溶出液;n−ヘキサン:酢酸エチル=
3:1)により精製して、化合物(16)を280mg
(収率94.6%)得た。
マトグラフィー(溶出液;n−ヘキサン:酢酸エチル=
3:1)により精製して、化合物(16)を280mg
(収率94.6%)得た。
【0206】この化合物の分析結果は次の通りである。 C103H118NO19FSi (分子量1715.1) [α] D 23= -39.1 °(c 0.97,クロロホルム)1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 7.6-6.8(m, 49H, t-BuBz + 9P
h),5.56(s, 1H, PhCH),5.07(d, 1H, J1,2=3.8Hz, H-1,
フコース部),1.25(s, 9H, t-Bu),1.00(m, 2H, CH2SiM
e3),0.79(d, J5,6=6.4Hz, H-6, フコース部).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-207(ddd, JF,2H=50Hz, J
F,3H=9.4Hz, J F,1H=2.7Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C103H118NO19FSi についての計算値 1
721.8163(M+H); 理論値 1721.8177
h),5.56(s, 1H, PhCH),5.07(d, 1H, J1,2=3.8Hz, H-1,
フコース部),1.25(s, 9H, t-Bu),1.00(m, 2H, CH2SiM
e3),0.79(d, J5,6=6.4Hz, H-6, フコース部).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-207(ddd, JF,2H=50Hz, J
F,3H=9.4Hz, J F,1H=2.7Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C103H118NO19FSi についての計算値 1
721.8163(M+H); 理論値 1721.8177
【0207】実施例8 目的:2−(トリメチルシリル)エチル O−(3,4
−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−α
−L−フコピラノシル−(1→3)−O−〔6−O−ベ
ンジル−2−デオキシ−2−(4−t−ブチルベンズア
ミド)−β−D−グルコピラノシル〕−(1→3)−O
−(2,4,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラク
トピラノシル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O−
ベンジル−β−グルコピラノシド〔前記構造式(17):
以下、化合物(17)と略す〕の合成
−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−α
−L−フコピラノシル−(1→3)−O−〔6−O−ベ
ンジル−2−デオキシ−2−(4−t−ブチルベンズア
ミド)−β−D−グルコピラノシル〕−(1→3)−O
−(2,4,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラク
トピラノシル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O−
ベンジル−β−グルコピラノシド〔前記構造式(17):
以下、化合物(17)と略す〕の合成
【0208】実施例7で得た化合物(16)214mg
(0.124mmol)を無水テトラヒドロフラン10
mLに溶解し、アルゴン雰囲気下、活性化したモレキュ
ラーシーブ(粒径4Å)900mgを加えた。
(0.124mmol)を無水テトラヒドロフラン10
mLに溶解し、アルゴン雰囲気下、活性化したモレキュ
ラーシーブ(粒径4Å)900mgを加えた。
【0209】次いで、室温で1時間攪拌後、同温度でシ
アノ水素化ホウ素ナトリウム700mg(11.1mm
ol)を加えてから、温度0℃に冷却し、1モル/塩酸
−エーテル溶液13mL(13mmol)をアルゴン雰
囲気下で滴下した。
アノ水素化ホウ素ナトリウム700mg(11.1mm
ol)を加えてから、温度0℃に冷却し、1モル/塩酸
−エーテル溶液13mL(13mmol)をアルゴン雰
囲気下で滴下した。
【0210】次いで、室温へ昇温してから、20分間攪
拌し、ジクロロメタン20mLと水15mLとを加えて
不溶部を濾別後、ジクロロメタンで洗浄した。
拌し、ジクロロメタン20mLと水15mLとを加えて
不溶部を濾別後、ジクロロメタンで洗浄した。
【0211】得られた濾液及び洗浄液とを合わせて、2
モル/塩酸水溶液、5%重曹水、次いで、飽和食塩水で
洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。
モル/塩酸水溶液、5%重曹水、次いで、飽和食塩水で
洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。
【0212】次いで、減圧濃縮処理を施し、この残渣を
フラッシュクロマトグラフィー(溶出液;n−ヘキサ
ン:酢酸エチル=2:1)に供して、化合物(17)を1
86mg(収率86.8%)得た。
フラッシュクロマトグラフィー(溶出液;n−ヘキサ
ン:酢酸エチル=2:1)に供して、化合物(17)を1
86mg(収率86.8%)得た。
【0213】この化合物の分析結果は次の通りである。 C103H120NO19FSi (分子量1723.1) [α] D 23= -14.2 °(c 1.05,クロロホルム) IRKBr max cm-1:3430(OH,NH), 1675, 1495 (アミ
ド),1070(エーテル), 860, 840(Me3Si) ,735, 700(P
h) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 8.1-6.8(m, 49H, t-BuBz + 9P
h),5.71(d, 1H, J=8.8Hz, OH),5.05(d, J1,2=3.7Hz, H-
1, フコース部),1.29(s, 9H, t-Bu),1.17(d, 3H, J5,6=
6.5Hz, H-6, フコース部),1.00(m, 2H, CH2SiMe3).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-207(ddd, J F,2H=51Hz, J
F,3H=8.9Hz, J F,1H=2.8Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C103H120NO19FSi についての計算値 1
723.8320(M+H); 理論値 1723.8343
ド),1070(エーテル), 860, 840(Me3Si) ,735, 700(P
h) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 8.1-6.8(m, 49H, t-BuBz + 9P
h),5.71(d, 1H, J=8.8Hz, OH),5.05(d, J1,2=3.7Hz, H-
1, フコース部),1.29(s, 9H, t-Bu),1.17(d, 3H, J5,6=
6.5Hz, H-6, フコース部),1.00(m, 2H, CH2SiMe3).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-207(ddd, J F,2H=51Hz, J
F,3H=8.9Hz, J F,1H=2.8Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C103H120NO19FSi についての計算値 1
723.8320(M+H); 理論値 1723.8343
【0214】実施例9 目的:2−(トリメチルシリル)エチル O−(メチル
5−アセタミド−4,7,8,9−テトラ−O−アセ
チル−3,5−ジデオキシ−D−グリセロ−α−D−ガ
ラクト−2−ヌノロピラノシロネート)−(2→3)−
O−(2,4,6−トリ−O−ベンゾイル−β−D−ガ
ラクトピラノシル−(1→4)−O−〔(3,4−ジ−
O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−α−L−
フコピラノシル−(1→3)〕−O−〔6−O−ベンジ
ル−2−デオキシ−2−(4−t−ブチルベンズアミ
ド)−β−D−グルコピラノシル〕−(1→3)−O−
(2,4,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクト
ピラノシル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O−ベ
ンジル−β−グルコピラノシド〔前記構造式(18):以
下、化合物(18)と略す〕の合成
5−アセタミド−4,7,8,9−テトラ−O−アセ
チル−3,5−ジデオキシ−D−グリセロ−α−D−ガ
ラクト−2−ヌノロピラノシロネート)−(2→3)−
O−(2,4,6−トリ−O−ベンゾイル−β−D−ガ
ラクトピラノシル−(1→4)−O−〔(3,4−ジ−
O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−α−L−
フコピラノシル−(1→3)〕−O−〔6−O−ベンジ
ル−2−デオキシ−2−(4−t−ブチルベンズアミ
ド)−β−D−グルコピラノシル〕−(1→3)−O−
(2,4,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクト
ピラノシル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O−ベ
ンジル−β−グルコピラノシド〔前記構造式(18):以
下、化合物(18)と略す〕の合成
【0215】実施例8で得た化合物(17)196mg
(0.114mmol)及びメチルO−(メチル 5−
アセタミド−4,7,8,9−テトラ−O−アセチル−
3,5−ジデオキシ−D−グリセロ−α−D−ガラクト
−2−ヌノロピラノシロネート)−(2→3)−O−
(2,4,6−トリ−O−ベンゾイル−1−チオ−β−
D−ガラクトピラノシド〔前記構造式(13)〕を無水ジ
クロロメタン6mLに溶解し、アルゴン雰囲気下、活性
化したモレキュラーシーブ(粒径4Å)500mgを加
えた。
(0.114mmol)及びメチルO−(メチル 5−
アセタミド−4,7,8,9−テトラ−O−アセチル−
3,5−ジデオキシ−D−グリセロ−α−D−ガラクト
−2−ヌノロピラノシロネート)−(2→3)−O−
(2,4,6−トリ−O−ベンゾイル−1−チオ−β−
D−ガラクトピラノシド〔前記構造式(13)〕を無水ジ
クロロメタン6mLに溶解し、アルゴン雰囲気下、活性
化したモレキュラーシーブ(粒径4Å)500mgを加
えた。
【0216】次いで、室温で12時間攪拌後、同温度で
ジメチル(メチルチオ)スルホニウムトリフレート(D
MTST)165mg(0.639mmol)を加え、
アルゴン雰囲気下、同温度で24時間攪拌した。
ジメチル(メチルチオ)スルホニウムトリフレート(D
MTST)165mg(0.639mmol)を加え、
アルゴン雰囲気下、同温度で24時間攪拌した。
【0217】次いで、これを氷冷してから、メタノール
0.6mL、及びトリメチルアミン0.3mLを加え、
同温度で30分間攪拌した。
0.6mL、及びトリメチルアミン0.3mLを加え、
同温度で30分間攪拌した。
【0218】次いで、ジクロロメタンで希釈後、濾過及
び洗浄を行い、得られた濾液と洗浄液とを合わせて、炭
酸ナトリウム水、次いで飽和食塩水で洗浄した。さら
に、これを硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧濃縮で得ら
れた残渣をフラッシュクロマトグラフィー(溶出液;n
−ヘキサン:酢酸エチル=1:3)に供して、化合物
(18)を141mg(収率46.4%)得た。
び洗浄を行い、得られた濾液と洗浄液とを合わせて、炭
酸ナトリウム水、次いで飽和食塩水で洗浄した。さら
に、これを硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧濃縮で得ら
れた残渣をフラッシュクロマトグラフィー(溶出液;n
−ヘキサン:酢酸エチル=1:3)に供して、化合物
(18)を141mg(収率46.4%)得た。
【0219】この化合物の分析結果は次の通りである。 C150H169N2O39FSi(分子量2671.0) [α] D 23= -16.3 °(c 0.895, クロロホルム) IRKBr max cm-1:3400(NH), 1740, 1270(エステ
ル),1670, 1500(アミド), 1100(エーテル),860, 8
40 (Me3Si) , 735, 715(Ph) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 8.3-6.8(m, 64H, t-BuBz + 12
Ph),5.70(m, 1H, H-8, シアル酸部),5.51(dd, 1H, J1,2
=8.1Hz, J2,3=9.8Hz, H-2, ガラクトース部),5.39(幅
広 d, 1H, J3,4=J4,5=3.8Hz,H-2, ガラクトース部),5.
26(dd, 1H, J7,8=9.6Hz, J6,7=2.6Hz, H-7, シアル酸
部),3.81(s, 3H, OCH3),2.47(dd, 1H, J3e,3a=12.8Hz,
J3e,4=4.5Hz, H-3e, シアル酸部),2.17, 1.98, 1.95,
1.83(4s, 12H, 4AcO),1.56(s, 3H, AcN),1.25(s, 9H, t
-Bu),1.14(d, 3H, J5,6=6.4Hz, H-6, シアル酸部),1.02
(m, 2H, Me3SiCH2CH2O).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-208(幅広 dd, JF,2H=50Hz,
JF,3H=7.1Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C150H169N2O39FSiについての計算値 2
671.1168(M+H); 理論値 2671.1107
ル),1670, 1500(アミド), 1100(エーテル),860, 8
40 (Me3Si) , 735, 715(Ph) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 8.3-6.8(m, 64H, t-BuBz + 12
Ph),5.70(m, 1H, H-8, シアル酸部),5.51(dd, 1H, J1,2
=8.1Hz, J2,3=9.8Hz, H-2, ガラクトース部),5.39(幅
広 d, 1H, J3,4=J4,5=3.8Hz,H-2, ガラクトース部),5.
26(dd, 1H, J7,8=9.6Hz, J6,7=2.6Hz, H-7, シアル酸
部),3.81(s, 3H, OCH3),2.47(dd, 1H, J3e,3a=12.8Hz,
J3e,4=4.5Hz, H-3e, シアル酸部),2.17, 1.98, 1.95,
1.83(4s, 12H, 4AcO),1.56(s, 3H, AcN),1.25(s, 9H, t
-Bu),1.14(d, 3H, J5,6=6.4Hz, H-6, シアル酸部),1.02
(m, 2H, Me3SiCH2CH2O).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-208(幅広 dd, JF,2H=50Hz,
JF,3H=7.1Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C150H169N2O39FSiについての計算値 2
671.1168(M+H); 理論値 2671.1107
【0220】実施例10 目的:2−(トリメチルシリル)エチル O−(メチル
5−アセタミド−4,7,8,9−テトラ−O−アセ
チル−3,5−ジデオキシ−D−グリセロ−α−D−ガ
ラクト−2−ヌノロピラノシロネート)−(2→3)−
O−(2,4,6−トリ−O−ベンゾイル−β−D−ガ
ラクトピラノシル−(1→4)−O−〔(3,4−ジ−
O−アセチル−2−デオキシ−2−フルオロ−α−L−
フコピラノシル−(1→3)〕−O−〔6−O−アセチ
ル−2−デオキシ−2−(4−t−ブツルベンズアミ
ド)−β−D−グルコピラノシル〕−(1→3)−O−
(2,4,6−トリ−O−アセチル−β−D−ガラクト
ピラノシル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O−ア
セチル−β−D−グルコピラノシド〔前記構造式(1
9):以下、化合物(19)と略す〕の合成
5−アセタミド−4,7,8,9−テトラ−O−アセ
チル−3,5−ジデオキシ−D−グリセロ−α−D−ガ
ラクト−2−ヌノロピラノシロネート)−(2→3)−
O−(2,4,6−トリ−O−ベンゾイル−β−D−ガ
ラクトピラノシル−(1→4)−O−〔(3,4−ジ−
O−アセチル−2−デオキシ−2−フルオロ−α−L−
フコピラノシル−(1→3)〕−O−〔6−O−アセチ
ル−2−デオキシ−2−(4−t−ブツルベンズアミ
ド)−β−D−グルコピラノシル〕−(1→3)−O−
(2,4,6−トリ−O−アセチル−β−D−ガラクト
ピラノシル)−(1→4)−2,3,6−トリ−O−ア
セチル−β−D−グルコピラノシド〔前記構造式(1
9):以下、化合物(19)と略す〕の合成
【0221】実施例9で得た化合物(18)138mg
(0.0516mmol)を、エタノール18.3mL
及び酢酸6.7mLに溶かし、10%パラジウム−炭素
140mgを加え、45℃に加温しながら、常圧水素圧
で4日間接触還元した。
(0.0516mmol)を、エタノール18.3mL
及び酢酸6.7mLに溶かし、10%パラジウム−炭素
140mgを加え、45℃に加温しながら、常圧水素圧
で4日間接触還元した。
【0222】次いで、これを濾過した後、溶媒を減圧濃
縮し、得られた残渣にピリジン6mL、無水酢酸4mL
を加えて、室温で13時間攪拌した。
縮し、得られた残渣にピリジン6mL、無水酢酸4mL
を加えて、室温で13時間攪拌した。
【0223】これを減圧濃縮し、得られた残渣をフラッ
シュクロマトグラフィー(溶出液;n−ヘキサン:酢酸
エチル=1:6)に供して、化合物(19)を95.5m
g(収率82.7%)得た。
シュクロマトグラフィー(溶出液;n−ヘキサン:酢酸
エチル=1:6)に供して、化合物(19)を95.5m
g(収率82.7%)得た。
【0224】この化合物の分析結果は次の通りである。 C105H133N2O48FSi(分子量2238.2) [α] D 24= -23.4 °(c 0.88,クロロホルム) IRKBr max cm-1:3400(NH), 1750, 1230(エステ
ル),1670, 1535(アミド), 1070(エーテル),860, 8
40 (Me3Si) , 715(Ph) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 8.3-7.3(m, 19H, t-BuBz + 3P
h),5.68(m, 1H, H-8, シアル酸部),4.42(d, 1H, J1,2=
7.9Hz, H-1, グルコース部),3.80(s, 3H, OCH3),2.42(d
d, 1H, J3a,3e=12.6Hz, J3e,4=4.5Hz, H-3e, シアル酸
部),2.14, 2.10, 2.10 ×2, 2.09, 2.08, 2.06, 2.02,
2.01,1.99, 1.92, 1.91, 1.79 (13s, 39H, 13AcO),1.58
(s, 3H, AcN),1.34(s, 9H, t-Bu),1.09(d, 3H, J5,6=6.
5Hz, H-6, フコース部),0.89(m, 2H, Me3SiCH2).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-208(幅広 dd, JF,2H=50Hz,
JF,3H=9.4Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C105H133N2O48FSiについての計算値 2
238.7893(M+H); 理論値 2238.7841
ル),1670, 1535(アミド), 1070(エーテル),860, 8
40 (Me3Si) , 715(Ph) .1 H-NMR (CDCl3;TMS): δ 8.3-7.3(m, 19H, t-BuBz + 3P
h),5.68(m, 1H, H-8, シアル酸部),4.42(d, 1H, J1,2=
7.9Hz, H-1, グルコース部),3.80(s, 3H, OCH3),2.42(d
d, 1H, J3a,3e=12.6Hz, J3e,4=4.5Hz, H-3e, シアル酸
部),2.14, 2.10, 2.10 ×2, 2.09, 2.08, 2.06, 2.02,
2.01,1.99, 1.92, 1.91, 1.79 (13s, 39H, 13AcO),1.58
(s, 3H, AcN),1.34(s, 9H, t-Bu),1.09(d, 3H, J5,6=6.
5Hz, H-6, フコース部),0.89(m, 2H, Me3SiCH2).19 F-NMR (CDCl3;CFCl3):δ-208(幅広 dd, JF,2H=50Hz,
JF,3H=9.4Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C105H133N2O48FSiについての計算値 2
238.7893(M+H); 理論値 2238.7841
【0225】実施例11 目的:2−(トリメチルシリル)エチルO−(5−アセ
タミド−3,5−ジデオキシ−D−グリセロ−α−D−
ガラクト−2−ヌノロピラノシロン酸)−(2→3)−
O−β−D−ガラクトピラノシル−(1→4)−O−
〔(2−デオキシ−2−フルオロ−α−L−フコピラノ
シル)−(1→3)〕−O−〔(2−デオキシ−2−
(4−t−ブチルベンズアミド)−β−D−グルコピラ
ノシル〕−(1→3)〕−O−β−D−ガラクトピラノ
シル)−(1→4)−β−D−グルコピラノシド〔前記
構造式(β):以下、化合物(β)と略す〕の合成
タミド−3,5−ジデオキシ−D−グリセロ−α−D−
ガラクト−2−ヌノロピラノシロン酸)−(2→3)−
O−β−D−ガラクトピラノシル−(1→4)−O−
〔(2−デオキシ−2−フルオロ−α−L−フコピラノ
シル)−(1→3)〕−O−〔(2−デオキシ−2−
(4−t−ブチルベンズアミド)−β−D−グルコピラ
ノシル〕−(1→3)〕−O−β−D−ガラクトピラノ
シル)−(1→4)−β−D−グルコピラノシド〔前記
構造式(β):以下、化合物(β)と略す〕の合成
【0226】実施例10で得た化合物(19)95.5m
g(0.0426mmol)を、無水エタノール6.5
mLに溶解し、アルゴン雰囲気下、室温でナトリウムメ
トキシド40mg(0.74mmol)を加えた後、温
度40℃で24時間攪拌した。
g(0.0426mmol)を、無水エタノール6.5
mLに溶解し、アルゴン雰囲気下、室温でナトリウムメ
トキシド40mg(0.74mmol)を加えた後、温
度40℃で24時間攪拌した。
【0227】次いで、室温に放冷後、水0.9mLを加
えて8時間攪拌した。さらに、アンバーライトIR12
0(H+ )の層を通し(溶出液;メタノール)、減圧濃
縮した残渣をセファデックスLH20(25g)による
ゲル濾過カラムクロマトグラフィー(溶出液;メタノー
ル)に供して、化合物(β)を56.2mg(収率9
6.6%)を得た。
えて8時間攪拌した。さらに、アンバーライトIR12
0(H+ )の層を通し(溶出液;メタノール)、減圧濃
縮した残渣をセファデックスLH20(25g)による
ゲル濾過カラムクロマトグラフィー(溶出液;メタノー
ル)に供して、化合物(β)を56.2mg(収率9
6.6%)を得た。
【0228】この化合物の分析結果は次の通りである。 C57H97N2O32FSi(分子量1365.4) [α] D 23= -30.4 °(c 0.50,メタノール) IRKBr max cm-1:3700-3200(OH,NH), 2950(メチル),
1740 (カルボン酸), 1630, 1550(アミド),1070(エ
ーテル).1 H-NMR (CD3OD;TMS): δ 7.8-7.4(dd, 4H, t-BuBz),5.2
6(d, 1H, H-8, J1,2=4.0Hz, H-1, フコース部),4.27
(d, 1H, J1,2=7.8Hz, H-1, グルコース部),2.88(dd, 1
H, J3a,3e=12.7Hz, J3e,4=2.9Hz, H-3e, シアル酸部),
2.01(s, 3H, AcN),1.35(s, 9H, t-Bu),1.16(d, 3H, J
5,6=6.5Hz, H-6, フコース部),1.00(m, 2H, Me3SiCH2).19 F-NMR (CD3OD;CFCl3):δ-162(幅広 dd, JF,2H=51Hz,
JF,3H=10.8Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C57H97N2O32FSiについての計算値 136
5.5543(M+H); 理論値 1365.5560 計算値 1387.5363(M+Na); 理論値 1387.5384
1740 (カルボン酸), 1630, 1550(アミド),1070(エ
ーテル).1 H-NMR (CD3OD;TMS): δ 7.8-7.4(dd, 4H, t-BuBz),5.2
6(d, 1H, H-8, J1,2=4.0Hz, H-1, フコース部),4.27
(d, 1H, J1,2=7.8Hz, H-1, グルコース部),2.88(dd, 1
H, J3a,3e=12.7Hz, J3e,4=2.9Hz, H-3e, シアル酸部),
2.01(s, 3H, AcN),1.35(s, 9H, t-Bu),1.16(d, 3H, J
5,6=6.5Hz, H-6, フコース部),1.00(m, 2H, Me3SiCH2).19 F-NMR (CD3OD;CFCl3):δ-162(幅広 dd, JF,2H=51Hz,
JF,3H=10.8Hz, 2-F). 質量分析 : m/z C57H97N2O32FSiについての計算値 136
5.5543(M+H); 理論値 1365.5560 計算値 1387.5363(M+Na); 理論値 1387.5384
【0229】代謝安定性の評価 各種シアリルルイスX誘導体のα−フコシターゼに対す
る代謝安定性を評価した。
る代謝安定性を評価した。
【0230】なお、実施例((2F-Fuc-t-Bu) SLcXOSE
)、比較例1(SLeX Ganglioside)及び比較例2((2F
-Fuc) SLeX Ganglioside )で使用した各種シアリルル
イスX誘導体の構造式を次に示す。但し、本実施例で用
いた化合物は、前記実施例11で得られた前記構造式
(β)で表される化合物である。
)、比較例1(SLeX Ganglioside)及び比較例2((2F
-Fuc) SLeX Ganglioside )で使用した各種シアリルル
イスX誘導体の構造式を次に示す。但し、本実施例で用
いた化合物は、前記実施例11で得られた前記構造式
(β)で表される化合物である。
【化70】
【0231】各シアリルルイスX誘導体30mmolを
蒸留水0.1mLに溶解してから、28℃でα−フコシ
ターゼの硫酸アンモニウム懸濁液(和光純薬社製:2un
its/mg protein以上)0.1mLを加え、反応経過時間
毎に、反応水溶液をシリカゲルTLCプレート(メルク
社製5715)にチャージした。
蒸留水0.1mLに溶解してから、28℃でα−フコシ
ターゼの硫酸アンモニウム懸濁液(和光純薬社製:2un
its/mg protein以上)0.1mLを加え、反応経過時間
毎に、反応水溶液をシリカゲルTLCプレート(メルク
社製5715)にチャージした。
【0232】2cm展開(展開溶媒;n−ブタノール:
酢酸:水=8:5:4の混合溶液)し、リン酸モリブデ
ン・リン酸・硫酸混合水溶液に浸潤後、加熱して発色さ
せた。
酢酸:水=8:5:4の混合溶液)し、リン酸モリブデ
ン・リン酸・硫酸混合水溶液に浸潤後、加熱して発色さ
せた。
【0233】なお、各シアリルルイスX誘導体(基質)
及びα−フコシターゼによる分解物のTLCプレートに
おける移動率(Rf)は次の通りであった。 比較例1 基質(SLeX Ganglioside):Rf=0.75 分解物 :Rf=0.20 比較例2 基質((2F-Fuc) SLeX Ganglioside ):Rf=0.75 分解物 :Rf=0.20 実施例 基質((2-Fuc-t-bu) SIcXOSE):Rf=0.70 分解物 :Rf=0.20
及びα−フコシターゼによる分解物のTLCプレートに
おける移動率(Rf)は次の通りであった。 比較例1 基質(SLeX Ganglioside):Rf=0.75 分解物 :Rf=0.20 比較例2 基質((2F-Fuc) SLeX Ganglioside ):Rf=0.75 分解物 :Rf=0.20 実施例 基質((2-Fuc-t-bu) SIcXOSE):Rf=0.70 分解物 :Rf=0.20
【0234】すなわち、各分解物のRf(移動率)が全
て0.20と同一の値を示すことが分かった。
て0.20と同一の値を示すことが分かった。
【0235】また、各シアリルルイスX誘導体がα−フ
コシターゼにより分解され、フコース部分の取れた対応
する誘導体が、それぞれの分解物として生成しているこ
とが質量分析計によって確認された。
コシターゼにより分解され、フコース部分の取れた対応
する誘導体が、それぞれの分解物として生成しているこ
とが質量分析計によって確認された。
【0236】さらに、下記の表1に示す各反応時間経過
後の各スポット面積(以下、単に面積と称することがあ
る。)から各シアリルルイスX誘導体の残存率を次のよ
うにして求めた。なお、各面積は、デンシトメータ(ソ
フトウエア:VILBER LOURMATBIOID V 6.31a)を用いて
測定した。 シアリルルイスX誘導体残存率=(原料の面積)/(原
料の面積と分解物の面積との合計)
後の各スポット面積(以下、単に面積と称することがあ
る。)から各シアリルルイスX誘導体の残存率を次のよ
うにして求めた。なお、各面積は、デンシトメータ(ソ
フトウエア:VILBER LOURMATBIOID V 6.31a)を用いて
測定した。 シアリルルイスX誘導体残存率=(原料の面積)/(原
料の面積と分解物の面積との合計)
【0237】得られた各シアリルルイスX誘導体の各時
間毎のスポット面積を下記の表1にに示す。また、この
スポット面積から導いた各シアリルルイスX誘導体の残
存率をグラフ化したものを図1に示す。
間毎のスポット面積を下記の表1にに示す。また、この
スポット面積から導いた各シアリルルイスX誘導体の残
存率をグラフ化したものを図1に示す。
【0238】 但し、*はTLCに基づく発色が完全に消失したもので
ある。
ある。
【0239】図1より、本実施例の化合物は、α−フコ
シターゼに対する安定性が優れていることが明らかとな
った。
シターゼに対する安定性が優れていることが明らかとな
った。
【0240】天然型シアリルルイスXガングリオシド
(比較例1:SLeX Ganglioside)は、α−フコシターゼ
により速やかに分解されており、また、フコースの2位
の水酸基がフッ素原子で置換されたシアリルルイスXガ
ングリオシド(比較例2:(2F-Fuc) SLeX Ganglioside
)は、α−フコシターゼによる分解にやや抵抗性を示
しており、より代謝安定性に優れていることがわかる。
(比較例1:SLeX Ganglioside)は、α−フコシターゼ
により速やかに分解されており、また、フコースの2位
の水酸基がフッ素原子で置換されたシアリルルイスXガ
ングリオシド(比較例2:(2F-Fuc) SLeX Ganglioside
)は、α−フコシターゼによる分解にやや抵抗性を示
しており、より代謝安定性に優れていることがわかる。
【0241】本実施例の化合物(構造式(β):(2F-Fu
c-t-Bu) SLcXOSE )では、α−フコシターゼによる分解
反応に対してより強く抵抗することがわかった。すなわ
ち、本実施例の化合物は、他の誘導体より、α−フコシ
ターゼに対して分解されにくく、代謝安定性に著しく優
れていることがわかる。この結果、セレクチン接着阻害
活性も十分に保持することができると思われる。
c-t-Bu) SLcXOSE )では、α−フコシターゼによる分解
反応に対してより強く抵抗することがわかった。すなわ
ち、本実施例の化合物は、他の誘導体より、α−フコシ
ターゼに対して分解されにくく、代謝安定性に著しく優
れていることがわかる。この結果、セレクチン接着阻害
活性も十分に保持することができると思われる。
【0242】
【発明の作用効果】本発明の誘導体は、N−アロイルグ
ルコサミンの3位又は4位の水酸基を2−フルオロフコ
ースで置換した2−フルオロフコシル−N−アロイルグ
ルコサミン誘導体であって、特に、2−フルオロフコー
ス部分を有しているので、フコシターゼ等の分解酵素に
対する代謝安定性が優れ、さらに、N−アロイルグルコ
サミン部分にアロイル基を有しているので、セレクチン
接着阻害活性に優れたものとなり、例えば白血球がセレ
クチンに接着する過程を極めて選択的に阻害すると同時
に、代謝安定性に優れた誘導体を提供することができ
る。
ルコサミンの3位又は4位の水酸基を2−フルオロフコ
ースで置換した2−フルオロフコシル−N−アロイルグ
ルコサミン誘導体であって、特に、2−フルオロフコー
ス部分を有しているので、フコシターゼ等の分解酵素に
対する代謝安定性が優れ、さらに、N−アロイルグルコ
サミン部分にアロイル基を有しているので、セレクチン
接着阻害活性に優れたものとなり、例えば白血球がセレ
クチンに接着する過程を極めて選択的に阻害すると同時
に、代謝安定性に優れた誘導体を提供することができ
る。
【0243】これらのことにより、白血球の一種である
好中球依存性、かつセレクチン依存性の急性炎症等を抑
制でき、さらに、経皮的冠動脈形成術(PTCA)など
の再開通療法時の心筋虚血再灌流障害、急性呼吸窮迫症
候群(ARDS)、炎症や炎症に伴う血栓形成、多発性
硬化症、気管支喘息、リウマチ、自己免疫疾患、アレル
ギー性疾患などの慢性疾患、糖尿病、眼疾患、乾癬及び
癌の治療、改善及び予防を目的とする医薬組成物等とし
て有用である。
好中球依存性、かつセレクチン依存性の急性炎症等を抑
制でき、さらに、経皮的冠動脈形成術(PTCA)など
の再開通療法時の心筋虚血再灌流障害、急性呼吸窮迫症
候群(ARDS)、炎症や炎症に伴う血栓形成、多発性
硬化症、気管支喘息、リウマチ、自己免疫疾患、アレル
ギー性疾患などの慢性疾患、糖尿病、眼疾患、乾癬及び
癌の治療、改善及び予防を目的とする医薬組成物等とし
て有用である。
【0244】また、本発明の誘導体の製造方法によれ
ば、本発明の誘導体を再現性よく、かつ優れた収率で製
造することができる。
ば、本発明の誘導体を再現性よく、かつ優れた収率で製
造することができる。
【0245】さらに、本発明の誘導体の中間体は、本発
明の誘導体及びその製造方法における有用な合成中間体
であって、本発明の中間体の製造方法によれば、本発明
の誘導体の中間体を再現性良くかつ優れた収率で得るこ
とができる。
明の誘導体及びその製造方法における有用な合成中間体
であって、本発明の中間体の製造方法によれば、本発明
の誘導体の中間体を再現性良くかつ優れた収率で得るこ
とができる。
【図1】α−フコシターゼ添加後の経過時間によるシア
リルルイスX誘導体残存率を示すグラフである。
リルルイスX誘導体残存率を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI A61K 31/70 ADU A61K 31/70 ADU AED AED
Claims (22)
- 【請求項1】 下記の一般式(1)で表される2−フル
オロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導体。 【化1】 〔但し、前記一般式(1)において、X、Yは、下記一
般式(A)または(B)で表される基であって、X=一
般式(A)の場合は、Y=一般式(B)であり、X=一
般式(B)の場合は、Y=一般式(A)である。 【化2】 ここで、前記一般式(A)において、Rは、水素原子、
水酸基の保護基、リン酸残基、硫酸残基、又は下記一般
式(a)で表されるシアリル基である。 【化3】 (但し、前記一般式(a)において、R6 は、水素原
子、ナトリウム原子又は炭素原子数1〜10のアルキル
基を示し、R7 は、水素原子、炭素原子数1〜10のア
ルカノイル基又は炭素原子数7〜15のアロイル基を示
し、R8 は、アセチル基、ヒドロキシアセチル基又は炭
素原子数1〜10のアルカノイルオキシアセチル基を示
す。) また、前記一般式(1)において、R1 は水素原子、水
酸基、無置換の若しくは置換基を1個以上有する炭素原
子数1〜10のアルカノイルオキシ基、炭素原子数7〜
15のアロイルオキシ基、無置換の若しくは置換基を1
個以上有するアリールチオ基、炭素原子数1〜18のア
ルコキシ基、分岐状長鎖アルコキシ基、無置換の若しく
は置換基を1個以上有するアリールメトキシ基、炭素原
子数1〜4のアルキル基又はフェニル基を有する2−ト
リシリルエトキシ基、又は下記の一般式(b)又は
(c)で表される基である。 【化4】 {但し、前記一般式(b)及び(c)において、R
9 は、水素原子、炭素原子数1〜10のアルカノイル
基、炭素原子数7〜15のアロイル基、又は無置換の若
しくは置換基を有するフェニルメトキシ基を示し、R10
は、水素原子、水酸基、炭素原子数1〜4のアルキル基
又はフェニル基を有する2−トリシリルエトキシ基、炭
素原子数1〜30のアルコキシ基、又は下記一般式
(d)で表される基、R11は、水素原子、又は−O−C
(=NH)CCl3 を示す。 【化5】 (但し、前記一般式(d)において、R12は、水素原子
又はベンゾイル基を示し、R13はアジド、アミン、又は
NHCOR14(R14は炭素原子数15〜25のアルキル
基)で表されるスフィンゴシンを示し、R11は、水素原
子、又は−O−C(=NH)CCl3 を示す)}。ま
た、前記一般式(1)、(A)及び(B)において、R
2 、R3 及びR4 は、水素原子、炭素原子数1〜10の
アルカノイル基、炭素原子数7〜15のアロイル基、又
は無置換の若しくは置換基を有するフェニルメチル基
(但し、R2 、R3 及びR4 は少なくとも2つが互いに
同一であってよいし、或いは異なっていてもよい)を示
し、R5 は無置換の若しくは置換基を有するアロイル基
を示す。〕 - 【請求項2】 下記一般式(2)で表される、請求項1
に記載した2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコ
サミン誘導体。 【化6】 (但し、前記一般式(2)において、R、R1 及びR5
は上記したものと同じである。) - 【請求項3】 下記一般式(3)で表される、請求項1
に記載した2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコ
サミン誘導体。 【化7】 (但し、前記一般式(3)において、R、R1 及びR5
は上記したものと同じである。) - 【請求項4】 下記構造式(α)で表される、請求項1
に記載した2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコ
サミン誘導体。 【化8】 - 【請求項5】 下記構造式(β)で表される、請求項1
に記載した2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコ
サミン誘導体。 【化9】 - 【請求項6】 下記構造式(γ)で表される、請求項1
に記載した2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコ
サミン誘導体。 【化10】 - 【請求項7】 下記構造式(δ)で表される、請求項1
に記載した2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコ
サミン誘導体。 【化11】 - 【請求項8】 請求項1に記載した一般式(1)で表さ
れる2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン
誘導体を製造するに際し、下記一般式(A’)及び下記
一般式(B’)で表される化合物と、下記一般式
(C’)で表されるアロイルグルコサミン誘導体とを用
いる、2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミ
ン誘導体の製造方法。 【化12】 (但し、前記一般式(A’)、(B’)及び(C’)に
おいて、R、R1 、R2、R3 、R4 及びR5 は前記し
たものと同じであり、R17、R18、R19及びR20は、そ
れぞれ反応性を示す基であって、R17はR19又はR20と
の反応性を示し、R18はR19又はR20との反応性を示
す)。 - 【請求項9】 請求項2に記載した一般式(2)で表さ
れる2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン
誘導体を製造するに際し、 前記一般式(C’)のアロイルグルコサミン誘導体と前
記一般式(B’)の2−フルオロフコースとの反応を経
て2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘
導体の中間体を合成し、次いで、この中間体と前記一般
式(A’)のガラクトース誘導体とを反応させた後、水
素化を行う工程を含む、 請求項8に記載した2−フルオロフコシル−N−アロイ
ルグルコサミン誘導体の製造方法。 - 【請求項10】 請求項3に記載した一般式(3)で表
される2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミ
ン誘導体を製造するに際し、 前記一般式(C’)のアロイルグルコサミン誘導体と前
記一般式(A’)のガラクトース誘導体との反応を経て
2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導
体の中間体を合成し、次いで、この中間体と上記一般式
(B’)の2−フルオロフコースとを反応させた後、水
素化を行う工程を含む、請求項8に記載した2−フルオ
ロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導体の製造方
法。 - 【請求項11】 請求項4に記載した構造式(α)で表
される2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミ
ン誘導体を製造するに際し、 下記構造式(e)で表される2−(トリメチルシリル)
エチル−O−(4,6−O−ベンジリデン−2−デオキ
シ−2−フタルイミド−β−D−グルコピラノシル)−
(1→3)−O−(2,4,6−トリ−O−ベンジル−
β−D−ガラクトピラノシル)−(1→4)−2,3,
6−トリ−O−ベンジル−β−D−グルコピラノシド
と、 下記構造式(f)で表されるメチル−3,4−ジ−O−
ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−1−チオ−L
−フコピラノシドとを反応させた後、前記フタルイミド
基に代えて2−ナフタミド基を置換導入し、次いで、前
記ベンジリデン基を開裂させた後、得られた2−フルオ
ロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導体の中間体
と、下記構造式(g)で表されるシアリルガラクトース
誘導体とを反応させて前記開裂部分に置換導入し、しか
る後に、水素還元及びアセチル化、加水分解を経る、請
求項8に記載した2−フルオロフコシル−N−アロイル
グルコサミン誘導体の製造方法。 【化13】 - 【請求項12】 請求項5に記載した構造式(β)で表
される2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミ
ン誘導体を製造するに際し、 前記構造式(e)で表される2−(トリメチルシリル)
エチル−O−(4,6−O−ベンジリデン−2−デオキ
シ−2−フタルイミド−β−D−グルコピラノシル)−
(1→3)−O−(2,4,6−トリ−O−ベンジル−
β−D−ガラクトピラノシル)−(1→4)−2,3,
6−トリ−O−ベンジル−β−D−グルコピラノシド
と、 前記構造式(f)で表されるメチル−3,4−ジ−O−
ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−1−チオ−L
−フコピラノシドとを反応させた後、前記フタルイミド
基に代えて4−t−ブチルベンズアミド基を置換導入
し、次いで、前記ベンジリデン基を開裂させた後、得ら
れた2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン
誘導体の中間体と、下記構造式(g)で表されるシアリ
ルガラクトース誘導体とを反応させて前記開裂部分に置
換導入し、しかる後に、水素還元及びアセチル化、加水
分解を経る、請求項8に記載した2−フルオロフコシル
−N−アロイルグルコサミン誘導体の製造方法。 - 【請求項13】 請求項6に記載した構造式(γ)で表
される2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミ
ン誘導体を製造するに際し、 下記構造式(h)で表される2−(トリメチルシリル)
エチル−O−(3,4,6−トリ−O−アセチル−2−
デオキシ−2−フタルイミド−β−D−グルコピラノシ
ル)−(1→3)−O−(2,4,6−トリ−O−ベン
ジル−β−D−ガラクトピラノシル)−(1→4)−
2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−D−グルコピラ
ノシドの前記フタルイミド基に、2−ナフタミド基を置
換導入すると共に、前記O−アセチル基を加水分解で水
酸基化し、 次いで、この水酸基の脱水縮合化によってベンジリデン
基を形成した後、このベンジリデン基を開裂させ、得ら
れた2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン
誘導体の中間体に、前記構造式(g)で表されるシアリ
ルガラクトース誘導体を反応させて前記開裂部分に置換
導入した後、前記構造式(f)で表されるメチル−3,
4−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−
1−チオ−L−フコピラノシドを反応させ、しかる後
に、水素還元及びアセチル化、加水分解を経る、請求項
8に記載した2−フルオロフコシル−N−アロイルグル
コサミン誘導体の製造方法。 【化14】 - 【請求項14】 請求項7に記載した構造式(δ)で表
される2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミ
ン誘導体を製造するに際し、 前記構造式(h)で表される2−(トリメチルシリル)
エチル−O−(3,4,6−トリ−O−アセチル−2−
デオキシ−2−フタルイミド−β−D−グルコピラノシ
ル)−(1→3)−O−(2,4,6−トリ−O−ベン
ジル−β−D−ガラクトピラノシル)−(1→4)−
2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−D−グルコピラ
ノシドの前記フタルイミド基に、4−t−ブチルベンズ
アミド基を置換導入すると共に、前記O−アセチル基を
加水分解で水酸基化し、 次いで、この水酸基の脱水縮合化によってベンジリデン
基を形成した後、このベンジリデン基を開裂させ、得ら
れた2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン
誘導体の中間体に、前記構造式(g)で表されるシアリ
ルガラクトース誘導体を反応させて前記開裂部分に置換
導入した後、前記構造式(f)で表されるメチル−3,
4−ジ−O−ベンジル−2−デオキシ−2−フルオロ−
1−チオ−L−フコピラノシドを反応させ、しかる後
に、水素還元及びアセチル化、加水分解を経る、請求項
8に記載した2−フルオロフコシル−N−アロイルグル
コサミン誘導体の製造方法。 - 【請求項15】 下記一般式(4)で表される2−フル
オロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導体の中間
体。 【化15】 (但し、前記一般式(4)において、R1 及びR2 は、
請求項1に記載したものと同じであり、R15は、無置換
び若しくは置換基を有するフェニル基を示し、R16は無
置換の若しくは置換基を有するアロイル基を示す。) - 【請求項16】 前記R16がフタルイミド環基、2−ナ
フトイルアミド基及び4−t−ブチルベンゾイルアミド
基からなる群より選ばれた1種の基である、請求項15
に記載した2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコ
サミン誘導体の中間体。 - 【請求項17】 下記一般式(5)で表される2−フル
オロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導体の中間
体。 【化16】 (但し、前記一般式(5)において、R1 、R2 及びR
4 は請求項1に記載したものと同じ、R16は請求項15
に記載したものと同じである。) - 【請求項18】 前記R16が、フタルイミド環基、2−
ナフトイルアミド基及び4−t−ブチルベンゾイルアミ
ド基からなる群より選ばれた1種の基である、請求項1
7に記載した2−フルオロフコシル−N−アロイルグル
コサミン誘導体の中間体。 - 【請求項19】 請求項15に記載した一般式(4)で
表される2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサ
ミン誘導体の中間体を製造するに際し、 下記一般式(i)で表されるアロイルグルコサミン誘導
体と、請求項8に記載した一般式(B’)で表される化
合物とを反応させる、2−フルオロフコシル−N−アロ
イルグルコサミン誘導体の中間体の製造方法。 【化17】 (但し、前記一般式(i)において、R1 、R15及びR
16は、請求項15に記載したものと同じであり、R20は
請求項8に記載したものと同じである。) - 【請求項20】 前記一般式(4)における前記R16と
して、フタルイミド環基、2−ナフトイルアミド基及び
4−t−ブチルベンゾイルアミド基からなる群より選ば
れた1種の基を用いる、請求項19に記載した2−フル
オロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導体の中間
体の製造方法。 - 【請求項21】 請求項17に記載した一般式(5)で
表される2−フルオロフコシル−N−アロイルグルコサ
ミン誘導体の中間体を製造するに際し、 請求項8に記載した前記一般式(4)で表される2−フ
ルオロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導体の中
間体のベンジリデン環基を開裂させる、2−フルオロフ
コシル−N−アロイルグルコサミン誘導体の中間体の製
造方法。 - 【請求項22】 前記一般式(5)における前記R16と
して、フタルイミド環基、2−ナフトイルアミド基及び
4−t−ブチルベンゾイルアミド基からなる群より選ば
れた1種の基を用いる、請求項21記載した2−フルオ
ロフコシル−N−アロイルグルコサミン誘導体の中間体
の製造方法。
Priority Applications (5)
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| JP9193668A JPH1135593A (ja) | 1997-07-18 | 1997-07-18 | 2−フルオロフコシル−n−アロイルグルコサミン誘導体及びその中間物、並びにそれらの製造方法 |
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