JPH1138332A - レーザ光の光量調整装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 可変時の動作速度を高速にすることが可能で
あると共に、安価で且つ安全性も高く汎用性のあるレー
ザ光の光量調整装置を提供する。 【解決手段】 入射レーザ光１３の通路に反射面１４を
有する反射体１５を配置すると共に、反射体１５の反射
面１４の裏面側へ可変間隔ｄを置いて干渉体１６を配置
し、反射面１４に対する干渉体１６の位置を間隔調整手
段１７によって可変させると、可変間隔ｄに応じて透過
率Ｔが変化するので、予め設定して所望な光量の出射レ
ーザ光Ｒを得ることができると共に、間隔ｄを順次変化
させると光量を連続的に可変できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、入射レーザ光の光
量を可変させて所望の光量による出射レーザ光を得るレ
ーザ光の光量調整装置に係り、特に反射体に添装した干
渉体の間隔を調整して反射率又は透過率を可変すること
によって光量を調整するレーザ光の光量調整装置に関す
るものであり、例えばレーザ測遠機やレーザ加工機など
のように、レーザ光を用いた機器の光学系として使用さ
れる。

【０００２】

【従来の技術】この種のレーザ光量を可変する従来技術
としては、例えば円盤状のガラス板に反射可変コーティ
ングを施したフィルターを、光の通路上に配置して回転
させる方法（従来技術１）、偏光板による第１の偏光子
と、くさび状に重合した２枚のプリズム形結晶体による
第２の偏光子を光の通路上に配置し、第２の偏光子を回
転させる方法（従来技術２）、偏光ガラス板による第１
の偏光子と、電気光学効果を備えた結晶体による第２の
偏光子を光の通路上に配置し、第２の偏光子に屈折率を
変化させる高圧を印加する方法（従来技術３）などがあ
る。

【０００３】従来技術１は図１で示すように、光源であ
るレーザ発振器１から出射したレーザ光２の通路に、膜
厚を変化させた濃度可変フィルター３を配置してモータ
４で回転駆動させ、所望に光量を可変させた出射レーザ
光５を得るものである。

【０００４】従来技術２は図２で示すように、レーザ発
振器１のレーザ光２を通路に配置した第１の偏光子６で
偏光させた後に、外周面に歯形７ａ，８ａを形成したプ
リズム片７，８を重合した第２の偏光子９を通過させ、
その際に歯形７ａ，８ａに係合する歯車１０を介して第
２の偏光子９をモータ４で回転駆動させ、所望に光量を
可変させた出射レーザ光５を得るものである。

【０００５】従来技術３は図３で示すように、レーザ発
振器１のレーザ光２を通路に配置した第１の偏光子６で
偏光させた後に、例えば水晶などのように複屈折性の光
学的異方性を有する結晶体による第２の偏光子１１を通
過させ、その際に電源回路１２を介して高圧を印加する
ことによって屈折率を変化させ、この電気光学効果によ
って所望に光量を可変させた出射レーザ光５を得るもの
である。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従来技術１，２の場合
には、モータ４によって偏光子３，９を回転駆動させる
機械的動作を利用しているために、最大可変時の動作速
度が上限でも０．１秒程度ときわめて遅いので、ごく限
られた用途でしか使用することができず、従来技術３の
場合には、印加電圧を可変することで結晶体の偏光方向
を連続可変させているので、最大可変時の動作速度を数
μ秒程度の高速にすることができるが、電気光学効果を
備えた結晶体が高価であり且つ所望な均一の特性のもの
が得られ難いこと、また高圧の印加が必要なために安全
性の確保を十分行わなければならない共に、用途によっ
ては高圧の使用が望ましくない場合もあるので用途が制
限される恐れがあるなど、改善すべき課題が残されてい
た。

【０００７】そこで本発明では、前記した従来技術の課
題を改善して、最大可変時の動作速度を数μ秒程度の高
速にすることが可能であると共に、安価で且つ安全性も
高く汎用性のあるレーザ光の光量調整装置の提供を目的
とするものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明によるレーザ光の
光量調整装置では、レーザ光の通路に反射面を有する反
射体を配置すると共に、この反射体の反射面の裏面側へ
間隔を置いて干渉体を配置し、当該反射面に対する干渉
体の間隔位置を間隔調整手段によって可変させ、干渉量
（間隔に依存する透過率と反射率の比率）を調整して光
量を可変させた反射後又は透過後のレーザ光を取り出す
ことである。

【０００９】例えば、図４で基本形態を示す透過型の場
合には、入射レーザ光１３の通路に反射面１４を有する
反射体１５を配置すると共に、反射体１５の反射面１４
の裏面側へ可変間隔ｄを置いて干渉体１６を配置し、反
射面１４に対する干渉体１６の位置を間隔調整手段１７
によって可変させると、可変間隔ｄに応じて透過率Ｔが
変化するので、予め設定して所望な光量の出射レーザ光
Ｒを得ることができると共に、間隔ｄを順次変化させる
と光量を連続的に可変できる。

【００１０】即ち、反射体１５の第１面から入射した光
は第２面の反射面１４で全反射して第３面から出射され
るが、この反射体１５の反射面１４に干渉体１６を次第
に接近させて間隔ｄが光波長の２倍程度になると、当該
干渉体１６の干渉作用で入射光の一部がロス光として反
射面１４から透過されて出射光が減少し、その反射率に
対する透過率の比率は図５でも明らかなように間隔ｄが
狭まるにつれて増加するので、この間隔ｄを所望に可変
させると必要な光量の出射光が得られ、透過型の場合に
は透過光を反射型の場合には反射光をそれぞれ利用す
る。

【００１１】従って反射型の実施形態の場合には、前記
反射体は入射光軸に対して傾斜する反射面を有するプリ
ズムで構成すると共に、この反射体に対して平板状の干
渉体を接離可能に装着させ、当該反射体と干渉体の間に
光量の可変調整を行う前記間隔調整手段を設け、前記入
射光軸と直角方向へ反射する出射レーザ光を取り出すこ
とができる。

【００１２】また複数減衰型の実施形態の場合には、前
記反射体を長方体で形成して長手方向に沿った両側面へ
所定間隔で干渉部を交互に配置し、この干渉部に対して
入反射するジグザグ状の光路を反射体内に構成させ、反
射体の反射面に対して平板状の干渉体を接離可能に装着
させると共に、当該反射体と干渉体の間に光量の可変調
整を行う前記間隔調整手段を設け、前記反射体の一端側
から干渉部に向けて入射した入射レーザ光を、反射体内
で複数回反射させて反射体の他端側から出射レーザ光を
取り出すことができる。

【００１３】更に前記した各種の実施形態において、例
えば前記反射体又は干渉体にはロス光による発熱に対す
る放熱手段を設け、この放熱手段を表面に熱吸収体を設
けた放熱体で構成したり、前記間隔調整手段として、前
記反射体と干渉体の間に電磁石と永久磁石を装着し、こ
の電磁石に印加する制御信号を可変させ、当該電磁石と
永久磁石の反発で前記間隔を調整したり、前記反射体と
干渉体の間に圧電アクチュエータを装着し、この圧電ア
クチュエータに印加する制御信号を可変させ、当該圧電
アクチュエータの伸縮で前記間隔を調整することが可能
である。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明によるレーザ光の光
量調整装置について、添付した図６〜１２に示す好適な
各種の実施形態に基づいて詳しく説明するが、図６は入
射レーザ光を反射させて出射する反射型をした実施形態
１による光量調整装置を、図７は同じく反射型で間隔調
整手段を変更した実施形態２による光量調整装置を、図
８は入射レーザ光を透過させて出射する透過型をした実
施形態３による光量調整装置を、図９は同じく透過型で
間隔調整手段を変更した実施形態４による光量調整装置
を、図１０は入射レーザ光を多重反射させた後に出射す
る複数減衰型をした実施形態５による光量調整装置を、
図１１は図１０における干渉部の拡大縦断面図を、図１
２は同じく複数減衰型で反射体の形状を変更した実施形
態６による光量調整装置を示す。

【００１５】（実施形態１） 図６の光量調整装置２０
は、入射レーザ光２１の光路を９０度変えて直角方向へ
反射させて出射レーザ光２２を取り出す反射型であり、
光軸に対して傾斜（望ましくは４５度前後、例えば４２
〜４８度）させた反射面２３を有する反射体２４を用
い、この反射体２５は光透過性を備えたガラスやプラス
チック或いは誘電体によるプリズムで形成すると共に、
反射面２３を除く入射側及び出射側の表面には反射損失
を減少させるために、例えばＳｉＯ2，ＴiＯ2などの誘
電体による無反射コーティング２５，２６が施されてい
る。

【００１６】反射体２４の反射面２３に隣接した裏面側
には、反射面２３と平行な干渉面を有する平板状の干渉
体２７を所定の可変間隔ｄを置いて配置し、この干渉体
２７は光透過性を備えたガラスやプラスチック或いは誘
電体による板材で形成すると共に、反射体２４に一端側
を固定した取付具２８の他端側によって移動可能な状態
で四隅の外周縁部が支持されている。

【００１７】取付具２８には、一端側に電磁石２９を他
端側に永久磁石３０をそれぞれ装着すると共に、電磁石
２９と永久磁石３０の間には干渉体２７に装着した永久
磁石３１を配置して間隔調整手段を構成し、反発するよ
うに磁極を設定した状態で永久磁石３０，３１を装着
し、電磁石２９にはリード線２９ａを介して外部に接続
された制御装置（図示を省略）から所望の制御信号が供
給される。

【００１８】取付具２８の他端側と干渉体２７の間は、
一定の反発磁力で干渉体２７を反射体２４側へ常時付勢
するので、その磁力を予め所望のバイアス値に設定して
置くことによって平行な間隔で干渉体２７の姿勢が保持
され、通電した際に永久磁石３１と反発するように磁極
を設定した電磁石２９は、その通電電流を制御すること
で反発磁力を可変できるので、永久磁石３０，３１によ
る付勢力に抗して干渉体２７を離間する方向へ押し戻
し、可変間隔ｄを所望（例えば、レーザ光源として波長
１０６０ｎｍのＮｄ−ＹＡＧを使用の場合には、０〜
２．５μｍ）に調整して透過率Ｔを可変させることで必
要とする光量を得ることができる。

【００１９】干渉体２７は、表裏両面に例えばＳｉＯ
2，ＴiＯ2などの誘電体を蒸着した多孔質膜による無反
射コーティング３６，３７を施し、この無反射コーティ
ング３６，３７によって反射角ｊに対して反射損失を減
少させ且つ反射体２４へ戻る光を減少させると共に、特
に表面側の無反射コーティング３６は反射体２４との間
が水分等の分子間力で張り付かないように、誘電体の多
孔質な蒸着膜で分子を吸着させるものであり、これによ
り透過率を１００％近くまで高めるように反射体２４と
の可変間隔ｄを限りなくゼロに近い状態まで調整するこ
とが可能となり、光量調整の可変幅を広げることができ
る。

【００２０】干渉体２７の裏面側には、放熱手段として
空隙部３２を隔てて熱吸収体３３を備えた放熱体３４を
配置し、この放熱体３４を取付具３５を介して干渉体２
７に装着させて放熱部を構成し、この放熱部は反射面２
３を透過して空隙部３２を介して伝導された透過ロス光
の熱を、熱吸収体３３で吸収して放熱体３４で外部へ放
熱するように作用させ、放熱体３４には例えばアルミニ
ウムや銅などの金属板を使用し、熱吸収体３３としては
例えばメラミンやエナメル等の塗装又は黒色クロムメッ
キ等の熱吸収性素材を放熱体３４の表面に被着して用い
る。

【００２１】取付具２８，３５は、インバー，真鍮，ア
ルミニウム等の金属素材を使用し、取付具２８と反射体
２４，電磁石２９，永久磁石３０の間と、取付具３５と
干渉体２７，放熱体３４の間及び、干渉体２７と永久磁
石３１の間（取付具３８を介して）は、例えばエポキシ
系接着剤その他公知の適宜な固着手段を用いてそれぞれ
固着し、干渉体２７と取付具２８との間は、可変間隔ｄ
の変化に対応して干渉体２７が移動できる状態に可動連
結手段３９を介在させて連結され、この可動連結手段３
９としては例えばシリコン系接着剤等の伸縮性又は可撓
性部材を介して接着したり、公知の摺動案内手段と抜け
止め係止手段を併用して実施する。

【００２２】以上に説明した反射型をした実施形態１の
光量調整装置２０では、入射レーザ光２１が反射体２４
に入射されると、反射面２３で反射して直角方向へ出射
レーザ光２２として出射され、一部は直進しながら干渉
体２７を透過してロス光となるが、その際に間隔調整手
段として用いた電磁石２９を制御して干渉体２７の位置
を移動し、反射体２４の反射面２３に対する干渉体２７
の可変間隔ｄを可変させることで反射率と透過率を相対
的に増減させ、反射側から所望の出射比率による出射レ
ーザ光２２を得ることができる。

【００２３】即ち、例えば電磁石２９の磁力を弱めて永
久磁石３１に対する反発力を小さくすると、可変間隔ｄ
が狭まって反射面２３に無反射コーティング３６面が当
接する状態に干渉体２７が接近した場合に、反射率は最
小で透過率は最大となって最小の出射光量となり、この
状態から電磁石２９の磁力を次第に強めて永久磁石３１
に対する反発力を順次大きくすると、干渉体２７は反射
面２３から離間しながら可変間隔ｄを広げてその間に反
射率は増加して透過率は減少するので、連続的な可変光
量を出射レーザ光２２として取り出すことができ、予め
設定された最大間隔位置まで移動した際には反射率は最
大で透過率は最小となって最大の出射光量となり、この
最大間隔位置は使用するレーザ光の波長の２倍程度に設
定しておくことが望ましい。

【００２４】この実施形態１による反射型の光量調整装
置２０では、干渉体２７を透過させないレーザ光を出射
レーザ光２２として使用するので、干渉体２７による透
過損失がなく光路長も一定であること、可変間隔ｄを可
変させる間隔調整手段として電磁石２９と永久磁石３
０，３１の組み合わせを用いているので、構成が簡単で
且つ制御も容易であるから安価に提供できること、干渉
体２７及び熱吸収体３３に対して入射レーザ光２１を略
４５度で入射させることにより、０度入射に比べて単位
面積当たりのエネルギーを２分の１に減少することがで
きる。

【００２５】（実施形態２） 図７の光量調整装置４０
は、実施形態１と同様に反射型で可変間隔ｄを可変させ
る間隔調整手段を変更したものであり、基本形態は実施
形態１と同様であるから同様の部材には同じ符号を付し
て詳細な説明は省略し、相違する部分を中心として詳細
に説明するが、この実施形態では間隔調整手段として電
磁石２９及び永久磁石３０，３１の代わりに圧電アクチ
ュエータを用いたものである。

【００２６】即ち、プリズムで形成された反射体２４の
反射面２３側の外周囲に、インバー，真鍮，アルミニウ
ム等の金属素材を使用した取付具４１を、例えばエポキ
シ系接着剤その他公知の適宜な固着手段を用いてそれぞ
れ固着すると共に、方形板状の干渉体２７のの外周囲
に、インバー，真鍮，アルミニウム等の金属素材を使用
した取付具４２を、例えばエポキシ系接着剤その他公知
の適宜な固着手段を用いてそれぞれ固着し、この取付具
４１と取付具４２の間に所望の可変間隔ｄを得るための
圧電アクチュエータ４３を配置し、例えばエポキシ系接
着剤その他公知の適宜な固着手段を用いて当該取付具４
１，４２にそれぞれ連結させる。

【００２７】この圧電アクチュエータ４３は、リード線
４３ａを介して外部の制御装置（図示を省略）と接続さ
れ、制御装置から供給される制御信号（所望な可変電圧
を電極の両端へ印加する）によって力学的なひずみを生
じ、そのひずみによる伸縮作動で可変間隔ｄを可変する
ことができるので、実施形態１の場合と同様に入射レー
ザ光２１に対して反射体２４の反射面２３における反射
率と透過率を相対的に増減させ、反射側から出射レーザ
光２２を得ることができ、実施形態１に比べて剛性が高
く且つ正確な制御ができる利点がある。

【００２８】（実施形態３） 図８の光量調整装置５０
は、反射体２４に入射した入射レーザ光２１の光路をそ
のまま直進させ、干渉体５１を透過した出射レーザ光２
２を取り出す透過型であるが、実施形態１と同様に可変
間隔ｄを可変させる間隔調整手段として電磁石２９及び
永久磁石３０，３１を用いる等、実施形態１と共通する
構成も多いので、同様の部材には同じ符号を付して詳細
な説明は省略し、相違する部分を中心として詳細に説明
する。

【００２９】反射体２４は、光軸に対して傾斜（望まし
くは４５度前後、例えば４２〜４８度）させた反射面２
３を有するプリズムで形成され、入射面とその直角面に
は実施形態１と同様に無反射コーティング２５，２６が
施され、干渉体５１は、反射面２３と平行な干渉面を有
するプリズムを、光透過性を備えたガラスやプラスチッ
ク或いは誘電体で形成し、反射体２４の反射面２３に隣
接した裏面側に所定の可変間隔ｄを置いて配置し、干渉
面と出射面には実施形態１と同様に無反射コーティング
３６，３７が施されている。

【００３０】反射体２４と干渉体５１の間は、反射体２
４に一端側を固定した取付具２８の他端側に、可動連結
手段３９を介して干渉体５１を移動可能な状態で連結
し、取付具２８には電磁石２９と永久磁石３０を干渉体
５１には永久磁石３１を実施形態１と同様に配置し、こ
れらの電磁石２９と永久磁石３０，３０を間隔調整手段
として可変間隔ｄの調整が行われる。

【００３１】実施形態１では干渉体側に配置した放熱手
段は、この実施形態では反射体２４の入射面と直角な面
に配置して取付具３５を介して反射体２４に装着し、反
射面２３で反射して空隙部３２を介して伝導された反射
ロス光の熱を、熱吸収体３３で吸収して放熱体３４で外
部へ放熱するように作用させている。

【００３２】以上に説明した透過型をした実施形態３の
光量調整装置５０では、入射レーザ光２１が反射体２４
に入射されると、反射面２３から干渉体５１を透過して
直進方向へ出射レーザ光２２として出射され、一部は直
角方向へ反射してロス光となるが、その際に間隔調整手
段として用いた電磁石２９を制御して干渉体５１の位置
を移動し、反射体２４の反射面２３に対する干渉体５１
の可変間隔ｄを可変させることで反射率と透過率を相対
的に増減させ、透過側から所望の出射比率による出射レ
ーザ光２２を得ることができる。

【００３３】即ち、可変間隔ｄを狭めて反射体２４の反
射面２３に干渉体５１を接近させると、反射率は次第に
減少して透過率は次第に増加すると共に、可変間隔ｄを
広げて反射体２４の反射面２３から干渉体５１を離間さ
せると、反射率は次第に増加して透過率は次第に減少
し、出射光量は最も接近した状態が最大で最も離間した
状態が最小となり、その間の出射光量を連続的に可変し
て出射レーザ光２２として、干渉体５１側から取り出す
ことができる。

【００３４】この実施形態３による反射型の光量調整装
置５０では、入射レーザ光２１と出射レーザ光２２の光
路方向が変わらないので、配置が簡単になって装置に組
み込んだ際に簡単且つ安価な構成にすることができるこ
と、反射体２４を透過することによる光路長の変化に対
し、同一の形状及び寸法をしたプリズムによる干渉体５
１を対置することで光路長を一定に保持できる等の利点
がある。

【００３５】（実施形態４） 図９の光量調整装置６０
は、実施形態３と同様に透過型で且つ、可変間隔ｄを可
変させる間隔調整手段として実施形態２と同様に圧電ア
クチュエータ４３を使用するものであって、これらの実
施形態２，３を組み合わせた作用効果を奏するものであ
るから、同様の部材には同じ符号を付して詳細な説明は
省略する。

【００３６】（実施形態５） 図１０の光量調整装置７
０は、反射体７２の所定位置に奇数個又は偶数個の干渉
部７１を配置し、この干渉部７１に向けて入射した入射
レーザ光２１を反射体７２内で複数回反射させ、ジグザ
グ状の光路で伝送しながら出射レーザ光２２を取り出す
複数減衰型であり、図１０（Ａ）の光量調整装置７０Ａ
は奇数個の干渉部７１によって奇数回反射させた状態で
出射する場合を示し、図１０（Ｂ）の光量調整装置７０
Ｂは偶数個の干渉部７１によって偶数回反射させた状態
で出射する場合を示す。

【００３７】この光量調整装置７０は、光透過性を備え
たガラスやプラスチック或いは誘電体による長尺の方形
板状体で反射体７２を形成し、反射体７２の入射側の端
部には光軸と直交する４５度に傾斜させた入射面を有す
るプリズムで形成した入射体７３を装着すると共に、出
射側の端部には光軸と直交する４５度に傾斜させた出射
面を有するプリズムで形成した出射体７４を装着し、こ
の出射体７４は奇数回反射の場合には入射体７３と同じ
側面側へ、偶数回反射の場合には入射体７３と反対側へ
それぞれ配置し、入射体７３の入射面と出射体７４の出
射面には無反射コーティング７５，７６が施されてい
る。

【００３８】干渉部７１は図１１で示すように、反射体
７２の長手方向に沿った両側面へ所定間隔で交互に配置
され、反射体７２の反射面７２ａから可変間隔ｄを置い
た位置に平板状で表面に無反射コーティング７７を施し
た干渉体７８を平行に配置し、この干渉体７８と一端側
を反射体７２に固着した取付具７９の他端側との間を、
間隔調整手段として用いた圧電アクチュエータ８０を介
して連結すると共に、一端側を反射体７２に固着した取
付具８１の他端側に、放熱手段として熱吸収体８２を備
えた放熱体８３を取り付けたものである。

【００３９】この干渉部７１の基本構造と作用は、先に
説明した実施形態１，２の反射型の場合と同様に、圧電
アクチュエータ８１はリード線８１ａを介して外部の制
御装置から供給された制御信号によって伸縮作動し、反
射体７２対する干渉体７８との可変間隔ｄを可変するこ
とができるので、入射体７３を介して４５度の入射角で
反射面７２ａに入射した入射レーザ光２１に対して反射
率と透過率を相対的に増減させ、可変間隔ｄに対応した
光量の減衰を与えて所望なレーザ光量による出射レーザ
光２２を出射体７４を介して４５度の出射角で出射す
る。

【００４０】従って、実施形態５の光量調整装置７０で
は、入射レーザ光２１が入射体７３を介して反射体７２
に入射されると、各干渉部７１ａ〜７１ｎのある反射面
７２ａに対して４５度の角度で入射及び反射を繰り返
し、その間に干渉部７１の設置数ｎに対応してｎ段階で
光量の減衰を受け、累積された減衰光量の残りが出射体
７４を介して出射レーザ光２２として出射されるので、
例えば干渉部を３カ所に設けて各干渉部における最小の
透過率をそれぞれ１％（０．０１）とすると、その積で
ある０．０００１％（０．０００００１）が減衰される
ことになり、単体による先の実施形態の場合に比べて減
衰量の微調整が可能である。

【００４１】（実施形態６） 図１２の光量調整装置９
０は、実施形態１１の場合と同様に複数減衰型である
が、反射体９１，９２へ直接に入射レーザ光２１を入射
して実施形態１１と同様の干渉部７１で所望に光量を可
変させ、その出射レーザ光２２を反射体９１，９２から
直接に出射させるように、入射体７３と出射体７４を省
略して反射体９１の一部を変更したものであり、図１２
（Ａ）の光量調整装置９０Ａは奇数個の干渉部７１によ
って奇数回反射させた状態で出射する場合を、図１２
（Ｂ）の光量調整装置９０Ｂは偶数個の干渉部７１によ
って偶数回反射させた状態で出射する場合をそれぞれ示
す。

【００４２】この光量調整装置９０では、反射体９１，
９２の入射側に入射レーザ光２１の光軸と直交する入射
面を設けると共に、反射体９１，９２の出射側に出射レ
ーザ光２２の光軸と直交する出射面を設け、当該入射面
及び出射面にそれぞれ無反射コーティング９３，９４を
施したものであり、基本構成と作用効果は実施形態５と
同様であるから説明は省略する。

【００４３】

【発明の効果】以上に説明した実施形態でも明らかなよ
うに、本発明によるレーザ光の光量調整装置では、反射
体に添装した干渉体の間隔を適宜な間隔調整手段によっ
て可変調整するというきわめて簡単な構成により、所望
の光量によるレーザ出力を容易に得ることができると共
に、連続状に光量を可変させたレーザ出力を速い動作速
度で得ることができ、間隔調整手段による光量の可変制
御も容易で且つ正確に行うことが可能であり、これらを
実施する装置も格別に高価なものを必要としないので安
価に提供できる等の効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来技術１による光量調整装置の概略説明図で
ある。

【図２】従来技術２による光量調整装置の概略説明図で
ある。

【図３】従来技術３による光量調整装置の概略説明図で
ある。

【図４】本発明による光量調整装置の基本形態の一つで
ある透過型の概略説明図である。

【図５】図４における可変間隔ｄと透過率の関係を示す
特性曲線図である。

【図６】入射レーザ光を反射させて出射する反射型をし
た実施形態１による光量調整装置の縦断面図を示す。

【図７】図６と同じ反射型で間隔調整手段を変更した実
施形態２による光量調整装置の縦断面図を示す。

【図８】入射レーザ光を透過させて出射する透過型をし
た実施形態３による光量調整装置の縦断面図を示す。

【図９】図８と同じ透過型で間隔調整手段を変更した実
施形態４による光量調整装置の縦断面図を示す。

【図１０】入射レーザ光を多重反射させた後に出射する
複数減衰型をした実施形態５による光量調整装置の縦断
面図を示す。

【図１１】図１０における干渉部の拡大縦断面図を示
す。

【図１２】図１０と同じ複数減衰型で反射体の形状を変
更した実施形態６による光量調整装置の縦断面図を示
す。

【符号の説明】

２０，４０，５０，６０，７０，９０ 光量調整装置 ２１ 入射レーザ光 ２２ 出射レーザ光 ２３，７２ａ 反射面 ２４，７２ 反射体 ２５，２６，３６，３７，７５，７６，７７，９３，９
４無反射コーティング ２７，５１，７８，９１，９２ 干渉体 ２８，３５，３８，４１，４２，７９，８１ 取付具 ２９ 電磁石 ３０，３１ 永久磁石 ３３，８２ 熱吸収体 ３４，８３ 放熱体 ３９ 可動連結手段 ４３，８０ 圧電アクチュエータ ７１ 干渉部 ７３ 入射体 ７４ 出射体 ｄ 可変間隔

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 入射レーザ光の通路に反射面を有する反
   射体を配置すると共に、この反射体の反射面の裏面側へ
   間隔を置いて干渉体を配置し、当該反射面に対する干渉
   体の間隔位置を間隔調整手段で可変させ、干渉量（間隔
   に依存する透過率と反射率の比率）を調整して光量を可
   変させた反射後又は透過後のレーザ光を出射レーザ光と
   して取り出すことを特徴としたレーザ光の光量調整装
   置。
2. 【請求項２】 前記反射体は入射光軸に対して傾斜する
   反射面を有するプリズムで構成すると共に、この反射体
   に対して平板状の干渉体を接離可能に装着させ、当該反
   射体と干渉体の間に光量の可変調整を行う前記間隔調整
   手段を設け、前記入射光軸と直角方向へ反射する出射レ
   ーザ光を取り出す請求項１に記載したレーザ光の光量調
   整装置。
3. 【請求項３】 前記反射体は入射光軸に対して傾斜する
   反射面を有するプリズムで構成すると共に、この反射体
   に対して対向状に配置するプリズムで形成した干渉体を
   接離可能に装着させ、当該反射体と干渉体の間に光量の
   可変調整を行う前記間隔調整手段を設け、前記入射光軸
   と直線方向へ透過する出射レーザ光を取り出す請求項１
   に記載したレーザ光の光量調整装置。
4. 【請求項４】 前記反射体を長方体で形成して長手方向
   に沿った両側面へ所定間隔で干渉部を交互に配置し、こ
   の干渉部に対して入反射するジグザグ状の光路を反射体
   内に構成させ、反射体の反射面に対して平板状の干渉体
   を接離可能に装着させると共に、当該反射体と干渉体の
   間に光量の可変調整を行う前記間隔調整手段を設け、前
   記反射体の一端側から干渉部に向けて入射した入射レー
   ザ光を、反射体内で複数回反射させて反射体の他端側か
   ら出射レーザ光を取り出す請求項１に記載したレーザ光
   の光量調整装置。
5. 【請求項５】 前記反射体又は干渉体にロス光による発
   熱に対する放熱手段を設けた請求項１乃至請求項４のい
   ずれかに記載したレーザ光の光量調整装置。
6. 【請求項６】 前記放熱手段は、表面に熱吸収体を設け
   た放熱体である請求項４に記載したレーザ光の光量調整
   装置。
7. 【請求項７】 前記間隔調整手段として、前記反射体と
   干渉体の間に電磁石と永久磁石を装着し、この電磁石に
   印加する制御信号を可変させ、当該電磁石と永久磁石の
   反発で前記間隔を調整する請求項１乃至請求項６のいず
   れか記載したレーザ光の光量調整装置。
8. 【請求項８】 前記間隔調整手段として、前記反射体と
   干渉体の間に圧電アクチュエータを装着し、この圧電ア
   クチュエータに印加する制御信号を可変させ、当該圧電
   アクチュエータの伸縮で前記間隔を調整する請求項１乃
   至請求項６のいずれか記載したレーザ光の光量調整装
   置。