JPH1138345A - エラー補正偏向器を有する走査システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 位置決めエラーを補正する。 【解決手段】 表面を走査するシステムは、一以上の照
射ビームを照射するよう構成される照射光源と、一又は
複数の照射ビームを走査面上へ偏向する回転偏向器とを
含む。偏向器は、並進軸に沿って可動であり、偏向され
た一又は複数の照射ビームのパスを修正し、これによ
り、走査面に対する一又は複数の照射ビームのいかなる
調整不良をも補正する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、走査システムに関する
ものであり、具体的には、ビームの位置決めエラーを補
正するため並進軸に沿って可動な偏向器を有する走査シ
ステムに関する。

【０００２】

【従来技術】最近の電子プレ印刷処理では、レーザー走
査システムを用いて、次段の再生のための画像の書込み
即ち記録、あるいは事前に記録された画像を所定の解像
度で走査する。このような走査システムは、各種のプレ
印刷用の媒体上の画像の書込み又は記録、あるいは事前
に記録された画像の走査を行う。ここで媒体とは、感光
性又は感熱性の紙又はポリマーフィルム、感光性又は感
熱性のコーティング材又は消去可能な画像形成材料を施
した画像記録面あるいは感光性又は感熱性の紙、ポリマ
ーフィルム又はアルミ基材の印刷刷版材料等であり、こ
れらは全て電子画像再生に用いられる。このような媒体
は、通常湾曲した（平面でも良い）記録面上に取り付
け、一又は複数の記録用、即ち走査ビームで走査する。
このようなシステムの主たる構成要素としては、一般的
にはドラムシリンダである記録面と、ドラムシリンダ内
又は走査機構に対して可動なドラム内に可動に配置され
る走査機構とを具備する。また、このシステムは、走査
機構の制御及び事前に記録された画像の走査を行うプロ
セッサ及びそれに付随する記憶装置と、光検出器と、検
出器の処理装置とを含む。プロセッサ及び関連記憶装置
は、該システムに内蔵されるものでも、あるいは適当な
相互接続によりシステムから分離して配置しても良い。

【０００３】プロセッサは、保存されたプログラムの命
令に従い走査機構を制御し、シリンダードラム自体は固
定された状態で、シリンダードラムの内周面を一以上の
光線で走査することにより、シリンダードラムの内壁に
取付けられたプレート等の媒体上への画像の書込み又は
画像の読込みを行う。

【０００４】走査つまり記録は、シリンダーの内壁の一
部分のみに対して行われるが、これは通常、シリンダー
ドラムの内周の１２０°から３２０°の範囲である。一
般に、光線はシリンダーの中心軸に平行になるように照
射され、例えば回転鏡、ホロゴン、ペンタプリズム偏向
器等により偏向され、一走査線又は記録面上に同時に入
射する複数の走査線を形成する。偏向器は、モーターの
働きにより、シリンダードラムの中心軸と実質的に一致
する回転軸についてスピン即ち回転する。記録速度を高
めるために、ビーム偏向装置の回転速度を増加すること
が可能である。記録速度を更に高めるために、マルチビ
ーム走査が以前から提案されている。

【０００５】このようなマルチビーム走査の一提案とし
て、例えば米国特許番号５、２１４、５２８において考
察される様に、回転ドーブプリズムを一つの光源と共に
用いるものがある。ドーブプリズムを用いると、レーザ
ーダイオードアレイ等のマルチビーム源が有効に利用で
き、同時にマルチビーム補正要素及び関連器材が不要と
なる。加えて、ここで特記する必要のない理由により、
ドーブプリズムを用いるマルチビームシステムの走査速
度は、提案された他のタイプのマルチビームシステムの
走査速度より高めることが可能である。

【０００６】一般的なマルチビーム走査システムでは、
ドーブプリズムが光源と偏向器の間の光路に配置され
る。プリズムを、偏向器の回転軸と一致する軸（或いは
その回転軸と一致するようになる光軸）について、偏向
器の二分の一の回転速度で回転させる。ドーブプリズム
の回転により、プリズムを通過する全ての光線の軸回転
が二倍になるので、プリズムから射出する複数の光線
は、偏向器の回転と同期して回転することになる。この
ように、複数の光線が回転ドーブプリズムを通過するよ
う構成することにより、回転鏡により形成される複数の
走査線の交差を防止できる。マルチビーム走査システム
に関するドーブプリズムの動作の詳細記述については、
米国特許番号５,２１４,５２８を参照することができ
る。

【０００７】上述の走査システムにおいて、画質に悪影
響を及ぼすビームの位置決めエラーは、ドーブプリズム
（又は同様のビーム回転要素）の回転軸と、偏向器の回
転軸との位置合わせが不完全な場合に生じる。このドー
ブプリズムと偏向器の回転軸の調整不良は、例えば、ド
ーブプリズムのシャフト及び又は偏向器のシャフトに関
連する動揺等の動的異常や、ドーブプリズムと偏向器の
相対的な取り付け誤差によって引き起こされる。走査面
上に直線の走査線を形成する代わりに、不整合を有する
走査システムは、湾曲等の曲線を有する走査線を形成す
ることになる。走査線の曲がり又は湾曲が、全体として
走査された画像の質を実質的に低下させる。

【０００８】また、プリズムは偏向器の二分の一の回転
速度で回転するため、動揺等の動的な異常から生じるビ
ームの不整合により、複数のビーム群の間にツイン現象
が引き起こされる可能性がある。過度のツイン現象が生
じると、ツイン現象を回避するためシステムは偏向器の
一回転おきにのみ走査するように制限され、それによ
り、走査の品質を許容可能なものにする。従って、２ビ
ームシステムの有効走査速度は、シングルビームシステ
ムと等しく、４ビームシステムの有効走査速度は、シン
グルビームシステムの二倍、等になる。

【０００９】上述したビームの位置決めエラーは、様々
な技法を用いて低減させることが可能であり、例えば、
ドーブプリズム及び偏向器の取り付けに関して機械公差
を厳しくしたり、或いは偏向器におけるビーム径に対す
るドーブプリズムにおけるビーム径の比率を増大させた
りする。しかしながら、これらの技法は、走査面に対す
るビームの調整不良を完全に除去するには不十分であ
り、このような技法を用いても像影上の構造的影響を避
けようがない。

【００１０】米国特許番号５、０９７、３５１では、マ
ルチビームシステムを開示しているが、これはドーブプ
リズムの代りに可動反射鏡を制御し、２つのビームの各
々が異なる光路を辿るようにするもので、各光路には、
独立した集光器及びコリメート光学要素と音響光変調器
が設置される。制御反射鏡は、一方の光路にのみ配置さ
れ、ビームを回転偏向器の回転に同期して回転するよう
駆動される。直角位相光検出器アレイにより検出された
ビームの位置決めエラーは、走査処理の際に反射鏡を駆
動して位置合わせ角度を調整することによって補正され
る。

【００１１】しかし、これでは上述のシステムは複雑に
なり、該システムの実用的な実施が困難なものとなる。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】上記の考察により、本
発明の全般的目的は、ビームの位置決めエラーを補正
し、該エラーから生じる走査又は像影上の構造上の影響
を除去又は最小にするための簡易機構を含む走査システ
ムを提供することである。本発明の具体的な目的は、既
知の周期的なビームの位置決めエラーを、継続的なビー
ム位置の監視又は検出を必要とせずに補正可能にする機
構を含む走査システムを提供することである。本発明の
別の目的は、簡易エラー補正機構を用いて、位置調整不
良を補正可能な程度まで低減させる走査システム構造を
提供することである。

【００１３】本技術に習熟した者にとって、本発明の更
なる目的、利点、新規特徴については、本開示における
以下の詳細記述及び本発明の実施例により明らかとなろ
う。以下では、電子プレ印刷への応用における好適な実
施例に言及して本発明を記述しているが、本発明がこれ
らに限定されるものではないことを理解する必要があ
る。本技術における一般的な技能を有して、ここに教示
される内容に関与する者にとっては、更なる応用、修
正、及び他の分野における態様も、本出願において開示
及び請求される本発明の範囲内であり、それに関して本
発明が大きな有用性を持ちうることが認識されるであろ
う。

【００１４】

【課題を解決するための手段及び作用】本発明により、
高品質のグラフィックアート用イメージセッタ、製版
機、又はスキャナーにおける利用に最適な走査システム
及び走査技法が提供される。本走査システムは、回転偏
向器へと導かれる一以上のビームを照射する一以上のレ
ーザー又は他のタイプの照射光源、あるいはエミッター
アレイを含み、この偏向器は、一又は複数のビームを走
査面上に偏向走査することにより、画像の記録、書込
み、走査を行うよう構成される。偏向器は、反射鏡を用
いるものが望ましいが、ホロゴンやプリズム等の本技術
分野で既知の反射面を用いることも可能である。複数の
ビームを用いて高速走査を行う本発明の実施例では、ビ
ーム回転要素（通常は回転ドーブプリズム）を照射光源
と偏向器の間に配置してビームを中心光軸について回転
させ、それにより、隣接する走査線間の間隔を一定に保
っている。

【００１５】走査面に対する一又は複数のビームの位置
決めエラーを補正するため、回転軸に平行かつ望ましく
は回転軸と一致する並進軸に沿って偏向器のシャフトを
動かすことにより、偏向器の軸方向位置を調整する。偏
向器を再度位置決めすることにより、不整合に関わるビ
ームエラーを補正するために必要なだけ、偏向ビームの
パスを変位させる。

【００１６】偏向器を移動させる手段は、偏向器のシャ
フトに固定された永久磁石と、リニア駆動ステータコイ
ルとを含むリニアモータを有することが可能である。制
御手段は、偏向器を軸方向に必要なだけ移動させるよう
ステータコイルに電流を与える。偏向器及びビーム回転
要素の回転と同期して偏向器を移動させることにより、
ビーム回転要素及び偏向器の不整合や、ビーム回転要素
及び又は偏向器のシャフトの動揺によって生じるビーム
の位置決めエラーを補正することが可能である。

【００１７】走査システムの好適な態様では、ビームの
位置決めエラーの測定は、製造及びテスト工程におい
て、つまりエンドユーザが該システムを操作する以前に
行われる。走査面に対するビームの位置決めエラーを、
ビーム回転要素（即ち、ドーブプリズム）の回転角の関
数として特性化することにより、測定されたビームの位
置ずれの補正に必要な偏向器の並進運動を符号化し、リ
ニアモータ制御手段に保存することが可能である。従っ
て、走査処理時に制御手段が偏向器の並進運動を駆動す
ることにより、ビームの位置決めエラーが補正される。
この技法によると、ビームの位置を継続的に測定するた
めの検出器を走査システムに組み込む必要がなくなる。

【００１８】前述の技法は、個々の走査システムのビー
ムの位置決めエラーを、ドーブプリズムの回転角の周期
的な関数として単純に特性化できると仮定したものであ
ることは認識されるであろう。例えば、ドーブプリズム
及び又は偏向器のモーターの性能劣化等による、走査シ
ステムの動作寿命に伴い、ビームの位置決めエラーが実
質変動することが予測される場合、走査システムに検出
器を組み込んで、連続的又は定期的にビームの位置決め
エラーの検出を行うことが有効な場合がある。リニアモ
ーター制御手段を検出器に相互接続することにより、検
出されたビームの位置に応じて偏向器を並進運動させ、
ビームの位置決めエラーを補正することが可能である。

【００１９】本発明の更なる特徴により、マルチビーム
走査システムに新たな構造が提供されるが、それは、ビ
ームの位置決めエラー、特に偏向器に対するビーム回転
要素の不整合の結果生じるエラーを最小にするものであ
る。この構造ではユニタリハウジングを利用しており、
ユニタリハウジングには、ビーム回転要素、コリメート
及び集光器、偏向器を含む、走査システムの主要な全構
成要素が装着及び配置されている。単一のハウジングを
用いることにより、ビーム回転要素と偏向器の軸が実質
的に一致することになるが、これは、両要素が取り付け
られるボアが同時に加工形成されるためである。ビーム
の位置決めエラーを更に減少させるため、ビーム回転要
素及び偏向器のマウントと同時に、照射光源の取り付け
面を加工形成してもよい。

【００２０】前述の構成は、ビーム回転要素及び偏向器
の不整合から生じるビームの位置決めエラーを全て除去
するものではないが、偏向器を移動又はオフセットさせ
ることにより、ビームの位置決めエラーを容易に補正可
能な程度にまで低減させることが可能である。

【００２１】

【実施例】図１は、本発明の第一の実施例による走査シ
ステム１０を示す。走査システムは、偏向器１４へ導か
れる複数の照射ビームを照射するよう構成される照射光
源１２を含む。偏向器は、これらのビームを走査面１６
上に偏向する。本好適実施例は、２ビームシステムを用
いて記述及び示されるが、より多くのビームを用いるシ
ステムも本発明の範囲内において実現可能であることは
理解されよう。

【００２２】ビーム回転要素は回転ドーブプリズム１８
を含むことが望ましく、照射光源１２と偏向器１４の間
に配置される。ドーブプリズム１８は、偏向器１４の回
転と同期して、２つのビームをビーム回転軸について回
転させるよう動作し、これにより、一定の間隔を有す
る、交差することのない走査線が走査面１６上に形成さ
れる。通常、２つのビームのうち第一のビームは、ドー
ブプリズム１８の回転軸（ビーム回転軸）と実質的に一
致するパスに沿って導かれる。２つのビームのうち第二
のビームは、ビーム回転軸と実質的に平行であるが離れ
て位置するパスに沿って導かれ、そこでドーブプリズム
１８によってビーム回転軸について回転される。ビーム
回転軸は、偏向器１４の回転軸と実質的に一致する。ド
ーブプリズム１８を偏向器１４の回転速度の二分の一で
回転させることにより、ドーブプリズム１８から射出す
るビームは、偏向器１４の回転と同期して回転すること
になる。

【００２３】ドーブプリズム１８を射出したビームは、
コリメート光学要素２０及び集光器２２を通過し、偏向
器１４で偏向されて、走査面１６上に走査線を形成す
る。走査面１６は、偏向器１４の回転軸と設計上一致す
る長手方向の中心軸を有するシリンダードラム２４の内
部に位置決めされることが望ましい。偏向器１４、コリ
メート光学要素２０及び集光器２２、更に望ましくはド
ーブプリズム１８が、カートリッジアセンブリ２６に装
着される。このアセンブリは、走査処理の際にドラム２
４の長手方向の軸に沿って移動するよう構成される。

【００２４】理想的な条件の下では、偏向器が回転して
いる間中、２つのビームは各々同じ位置において偏光器
１４に入射する。このようにして、直線かつ互いに平行
な走査線が走査面１６上に形成される。しかし、ビーム
に位置決めエラーがあると、ビームが偏向器を「ふらつ
き」がちとなり、走査された画像の画質を実質的に低下
させ得る弓状の又は波状の走査線を生成することにな
る。ビームの位置決めエラーは、機械的な取付け公差に
付随して生じるドーブプリズム１８及び偏向器１４の不
整合、或いはドーブプリズム及び又は偏向器の回転の動
揺に一般に帰因する。

【００２５】ビームの位置決めエラーを補正するため、
偏向器１４は、並進する、即ち並進軸に沿って直線運動
する（図１の矢印で示す）よう更に構成される。以下に
詳細な考察を行うように、偏向器の並進を制御して偏向
後のビームのパスを修正することにより、ビームの位置
決めエラーを補正し、不都合な走査線の湾曲や撓みを防
止する。

【００２６】図２を参照して、並進偏向器１４の構成を
例示する。偏向器１４は、入射ビームを、偏向された光
路に沿って走査面へ偏向する反射鏡３０を含むヘッド部
２８を有する。ここでは、反射鏡を用いた偏向器を参照
しているが、走査システムにおいて一般に利用される各
種偏向器、例えばホロゴンやプリズムを用いる偏向器等
も本発明の範囲内であることを注記しておく。

【００２７】偏向器のヘッド部２８は、シャフト３２に
取り付けられる又は一体成形され、このシャフトは、偏
向器の回転及び並進運動の慣性（イナーシャ）を最小に
するために中空構造となっていることが有効である。シ
ャフトは回転軸について回転するように、空気軸受３４
によって支持される。本技術分野で周知の直流回転モー
ター３６により偏向器１４を回転させる。偏向器の並進
は、永久磁石４０及びリニア駆動ステータコイル４２を
有するリニアモーター３８によって行うことが可能であ
り、このステータコイルに、偏向器の所望の並進運動に
応じて電流が与えられる。リニアモーター制御手段４４
は、偏向器１４の回転運動（光学ロータリーエンコーダ
ー４６により検出される）と同期してリニアモータ３８
を駆動し、これにより、走査面１６に対するビームの不
整合を補正するよう偏向器１４が位置決めされる。偏向
器の並進軸は、回転軸と設計上一致することを注記して
おく。

【００２８】図２を参照して示されるように、偏向器１
４に入射するビーム（一又は複数）の偏向後のパス（一
又は複数）は、偏向器の軸方向位置により決定される。
従って、リニアモーター３８の操作によって偏向器１４
を並進させることにより、偏向されたビームが走査面１
６に入射する位置を調整することができる。図２では、
第一の位置から第二の位置（点線で示す）への偏向器１
４の並進により、入射ビームの偏向後のパスが移動す
る。一つのビームに対する偏向器の平行移動の結果が示
されているが、マルチビームシステムにおける偏向器の
並進によって、各ビームに対して実質的に同等の移動が
生じるであろうことは理解されよう。また、偏向器の並
進は、複数のビーム間の相対的距離に影響を与えるもの
ではないことも認識されよう。

【００２９】走査処理の際、リニアモーター３８は、ビ
ーム（一又は複数）の調整不良に応じて、リニアモータ
ー制御手段４４により駆動され、偏向器の軸方向位置が
適切に再調整され、これにより、偏向器１４の回転中の
どのような位置でもビーム（一又は複数）の調整不良が
補正される。光学部品の物理的な調整不良、あるいはド
ーブプリズム１８及び又は偏向器１４の回転に付随する
動的異常によって生じる走査システムのビームの位置決
めエラーは、ドーブプリズム１８の回転毎に繰り返され
ることに注目する。従って、走査面１６に対するビーム
（一又は複数）の調整不良を、ドーブプリズムの回転角
の関数として特性化することが可能である。ビームの位
置決めエラーデータを、製造及びテスト工程において、
即ち個々の走査システムの組立て後、かつエンドユーザ
が該システムを走査処理に利用する前に、獲得すること
が望ましい。ビームの位置決めエラーデータは、例え
ば、偏向器が「休止」（並進していない）位置に保持さ
れた状態で参照パターンを像影し、その所望のパターン
から形成される画像における基準からのずれを測定する
ことにより獲得可能である。このように、走査システム
の操作に先立って、ビームの調整不良の補正に必要な偏
向器の軸方向運動を符合化し、リニアモーター制御手段
に永久保存することも可能である。

【００３０】前述の技法は、ビームの位置決めエラーデ
ータ、即ちドーブプリズムの回転角の関数としてのビー
ムの不整合が、各走査システムの実質的に不変な特性で
あると仮定したものであることは理解されるであろう。
例えば、ドーブプリズム及び又は偏向器のモーターの性
能劣化等により、ビームの位置決め挙動が時間の経過に
伴い実質的に変化することが予測される場合、偏向器又
はその他の基準位置に対する一以上のビームの不整合を
検出するために適した検出システムを、走査システムに
組み込むことが有効な場合もある。

【００３１】図３を参照して、基準位置に対するビーム
の調整不良を検出する検出システム（１０２で示す）を
含む走査システム１００を示す。ビームスプリッタ１０
４は、ドーブプリズム１８と集光器２２の間に配置さ
れ、一以上のビームの一部分を偏向する。偏向されたビ
ームは、レンズ１０５によって光電検出器１０６に集光
され、そこで光電検出器に入射したビーム（一又は複
数）の基準位置に対する位置決めエラーが検出される。
プロセッサ１０８が光電検出器１０６と相互接続され、
光電検出器からの出力信号を処理し、検出された調整不
良に応じた補正信号を生成する。これらの信号は、リニ
アモーター制御手段４４に送られ、ビームの偏向された
パスを調整するよう偏向器１４の並進運動を駆動し、ビ
ームの調整不良を補正する。

【００３２】ビームの調整不良の検出は、オフライン
で、即ち走査処理の前に行うのが望ましい。従って、プ
ロセッサ１０８は、走査前の「サンプリング」期間に検
出された調整不良に関するデータを保存するためのメモ
リを含む場合もある。走査処理の際には、プロセッサ１
０８が、保存されたデータを用いてドーブプリズム１８
の回転に同期した信号をリニアモーター制御手段４４へ
発し、これにより、偏向器を並進させ位置決めエラーを
相殺する。

【００３３】通常、走査面１６はシリンダードラム２４
の内周全体にまたがることはないため、シリンダードラ
ム２４の内周の、書き込みが行われない部分を走査ビー
ムが走査する間に、ビームの調整不良の検出が可能であ
る。或いは、走査面１６がシリンダードラム２４の内周
に装填される前、又ははカートリッジアセンブリ２６が
走査面１６上を移動する前に検出することも可能であ
る。

【００３４】図４は、別の走査システム２００を示し、
ビームの調整不良を補正する並進偏向器１４がここでも
用いられている。走査システム２００は、図１で示した
走査システム１０に酷似しているが、図４に示されたシ
ステムでは、ユニタリハウジング２０２が、ドーブプリ
ズム１８、偏向器１４、コリメート光学器２０及び集光
器２２を含む、走査システム２００の主要な構成要素を
装着及び配置させている。この構造は、ドーブプリズム
と偏向器のため独立したハウジングを使用し、更にこの
個々のハウジングが機械的に整合されていることを必要
とする従来技術の走査システムとは異なるものである。
それとは対照的に、ハウジング２０２では、一つのボア
２０４を設け偏向器１４及びドーブプリズム１８をその
中で回転するよう取り付けることにより、ドーブプリズ
ム１８と偏向器１４が実質的に同一直線上の回転軸を有
するよう保証している。このようにして、ドーブプリズ
ム１８と偏向器１４の調整不良から生じるビームの位置
決めエラーを最小にすることが可能となる。ビームの位
置決めエラーを更に低減させるため、照射光源（図示せ
ず）の装着面を、ドーブプリズム１８及び偏向器１４を
取り付ける中心ボア２０４と同時に加工形成することも
可能である。

【００３５】前述の構造は、ビームの位置決めエラーを
完全に除去するものではないが、このようなエラーを、
並進偏向器の働きによって補正可能な範囲まで抑えるこ
とを提案するものである。

【００３６】また、好適な実施例によって本発明を上述
してきたが、本発明はこれらに限定されるものではない
ことは、本技術分野に習熟した者にとって理解されるで
あろう。上述した発明の様々な特徴及び要旨は、単独で
又は組合せて用いることが可能である。また、特定の環
境における特定の応用、例えば電子プレ印刷への応用へ
の実施に関連して本発明を記述してきたが、本発明の利
便性はこれらに限定されるものではなく、いかなる環境
及び実施においても有益に活用できることは、本技術に
習熟した者にとって認識されるであろう。従って、以下
の請求項は、ここに開示された発明の充分な活用及び精
神という見地から解釈されるべきである。

【００３７】本発明は、以下の特徴を有する。

【００３８】１． 走査システム（１００）は、一以上
の照射ビームを照射するよう構成された照射光源（１
２）と、走査面（１６）上に前記一以上の照射ビームを
偏向するよう構成された偏向器（１４）とを具備し、前
記偏向器は、回転軸について回転可能であり、更に前記
偏向器を並進軸に沿って移動させることにより、前記走
査面に対する前記一以上の照射ビームの位置決めエラー
を補正する装置を具備することを特徴とする走査システ
ム。

【００３９】２． 前記偏向器は、反射鏡（３０）を含
むことを特徴とする上記１に記載の走査システム。

【００４０】３． 前記並進軸は、前記回転軸と実質的
に平行であることを特徴とする上記１に記載の走査シス
テム。

【００４１】４． 前記走査面は、シリンダードラム
（２４）の内部に設けられる湾曲した走査面を含み、前
記シリンダードラムは、前記偏向器の前記回転軸と実質
的に平行な長手方向の中心軸を有することを特徴とする
上記１に記載の走査システム。

【００４２】５． 前記偏向器を移動させるための前記
装置は、リニアモーター（３８）と、前記リニアモータ
ーと関連して動作し、前記偏向器を所定の位置まで前記
並進軸に沿って移動させる制御装置（４４）とを具備す
ることを特徴とする上記１に記載の走査システム。

【００４３】６． 前記制御装置は、前記偏向器の回転
と同期して動作することを特徴とする上記５に記載の走
査システム。

【００４４】７． 前記照射光源は、複数の照射ビーム
を照射するよう構成され、前記偏向器は、前記複数のビ
ームを走査面上へ偏向するよう構成され、更に前記複数
のビームをビーム回転軸について回転させるビーム回転
要素（１８）を含むことを特徴とする上記１に記載の走
査システム。

【００４５】８． 前記ビーム回転要素は、ドーブプリ
ズムを含むことを特徴とする上記７に記載の走査システ
ム。

【００４６】９． 前記偏向器と前記ビーム回転要素
は、ユニタリハウジング（２０２）内に取り付けられる
ことを特徴とする上記７に記載の走査システム。

【００４７】１０． 走査面（１６）を走査する方法に
おいて、一以上の照射ビームを照射し（１２）、偏向器
（１４）からの前記一以上の照射ビームを偏向して、前
記走査面上に一以上の走査線を形成する工程を含み、前
記偏向器は、回転軸について回転可能であり、前記走査
面を走査する間に、前記偏向器を前記回転軸と実質的に
平行な並進軸に沿って移動させて、前記走査面に対する
前記一以上の照射ビームの不整合を補正する工程を更に
含むことを特徴とする走査方法。

【００４８】１１． 前記走査面に対する前記一以上の
照射ビームの位置決めエラーを特性化するビームの位置
決めエラーデータを獲得し（１０２）、前記ビームの位
置決めエラーデータを記憶媒体に保存し、走査処理の際
に、前記並進装置を前記ビームの位置決めエラーデータ
に応じて駆動して（４４）、前記一以上の照射ビームの
前記位置決めエラーを補正する工程を更に含むことを特
徴とする上記１０に記載の走査方法。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による並進偏向器を有する走査システム
の第一実施例の模式図である。

【図２】並進偏向器の詳細模式図であり、特に、偏向さ
れた光路を調整する偏向器の動作を示す。

【図３】本発明による並進偏向器を有する走査システム
の第二実施例の模式図であり、該走査システムは、ビー
ムの位置決めを継続的に検出する検出器を含んでいる。

【図４】本発明による並進偏向器を有する走査システム
の第三実施例の模式図であり、ビームの位置決めエラー
を最小にするためユニタリハウジングを用いている。

【符号の説明】

１００ 走査システム １２ 照射光源 １４ 偏向器 １６ 走査面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 595022371 200 ＢＡＬＬＡＲＤＶＡＬＥ ＳＴＲＥ ＥＴ，ＷＥＬＭＩＮＧＴＯＮ，ＭＡＳＳＡ ＣＨＵＳＥＴＴＳ 01887，Ｕ．Ｓ．Ａ.

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 走査システムにおいて、 一以上の照射ビームを照射するよう構成された照射光源
   と、 走査面上に前記一以上の照射ビームを偏向するよう構成
   された偏向器とを具備し、前記偏向器は、回転軸につい
   て回転可能であり、更に前記偏向器を並進軸に沿って移
   動させることにより、前記走査面に対する前記一以上の
   照射ビームの位置決めエラーを補正する装置を具備する
   ことを特徴とする走査システム。
2. 【請求項２】 走査面を走査する方法において、 一以上の照射ビームを照射し、 偏向器からの前記一以上の照射ビームを偏向して、前記
   走査面上に一以上の走査線を形成する工程を含み、前記
   偏向器は、回転軸について回転可能であり、 前記走査面を走査する間に、前記偏向器を前記回転軸と
   実質的に平行な並進軸に沿って移動させて、前記走査面
   に対する前記一以上の照射ビームの不整合を補正する工
   程を更に含むことを特徴とする走査方法。