JPH1140652A - 位置決め装置及び位置決め方法 - Google Patents

位置決め装置及び位置決め方法

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JPH1140652A
JPH1140652A JP9203926A JP20392697A JPH1140652A JP H1140652 A JPH1140652 A JP H1140652A JP 9203926 A JP9203926 A JP 9203926A JP 20392697 A JP20392697 A JP 20392697A JP H1140652 A JPH1140652 A JP H1140652A
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centering
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聡 金子
Katsunori Yamazaki
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数枚の基板を同時に位置決め可能にし、か
つ装置の小型化を図れるようにすること。 【解決手段】 垂直方向に適宜間隔をおいて配設されて
ウエハWを載置する複数の回転テーブル23と、回転テ
ーブル23上に載置されたウエハWの円周の少なくとも
3箇所に接触してウエハWの心出しを行う心出し手段2
5と、回転テーブル23にクラッチ26を有する伝達機
構27を介して連結するサーボモータ28と、回転テー
ブル23の外周側に配設されて回転するウエハWのノッ
チWaを検出する検出手段29と、検出手段29の検出
信号に基づいてクラッチ26を制御するCPU30とを
具備することにより、周囲の一部に判別用ノッチWaを
有する複数のウエハWを同時に位置決めすることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体ウ
エハのような基板の複数枚を同時に位置決めする位置決
め装置及び位置決め方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体製造装置の製造工程にお
いては、半導体ウエハやLCDガラス基板等の被処理用
の基板(以下にウエハ等という)を薬液やリンス液(洗
浄液)等の処理液が貯留された処理槽や乾燥部に順次搬
送して洗浄や乾燥等の処理を行う基板搬送処理装置が広
く採用されている。
【0003】このような基板搬送処理装置において、複
数枚例えば50枚のウエハ等を効率良く洗浄等するに
は、ウエハ等を垂直に配列して搬送すると共に、各処理
ユニットに搬入し、処理ユニットから搬出する方法が好
適とされている。また、この種の処理装置において、一
般に、未処理のウエハ等を収納する容器例えばキャリア
の搬入部と、処理済みのウエハ等を収納する容器例えば
キャリアの搬出部との間に複数の処理ユニットや搬送手
段の洗浄ユニット等をライン状に配列したシステムが採
用されている。
【0004】また、近年の半導体デバイスの微細高集積
化、量産化に伴ないウエハも8インチウエハから12イ
ンチウエハへと大口径化が進んでいる。
【0005】しかしながら、ウエハ等の大口径化に伴な
いウエハ等の大きさ及び重量が嵩むため、キャリア内の
ウエハを従来通り垂直状態のままで搬送すると、搬入及
び搬出部と処理部との間でウエハ等を受け渡しする際
に、位置ずれが生じたりウエハ等の移動によりパーティ
クルが発生し、製品歩留まりが低下するという問題があ
り、キャリア内のウエハを水平状態で搬送し、この状態
で装置の搬入・搬出部に設置されるようになってきた。
【0006】この問題を解決するために発明者、出願人
等は鋭意研究した結果、複数枚例えば50枚のウエハ等
を水平状態で搬入し、処理部に搬送する前に垂直状態に
姿勢変換して、処理部に搬送する技術を開発した。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、複数枚のウ
エハ等を水平状態から垂直状態に姿勢変換する際、複数
枚のウエハ等の全体を整列すなわち位置決めさせる必要
がある。ウエハ等を位置決めする手段としては、ウエハ
等を回転テーブル上に載置して回転させて、ウエハ等に
設けられた判別用切欠(ノッチ)を例えばセンサ等で検
出して位置決めする装置が知られている(特開平5−2
18179号公報参照)。
【0008】しかしながら、この方法では1枚のウエハ
等の位置検出は可能であるが、水平状態の複数枚のウエ
ハ等を同時に位置決めするには、複数枚のウエハ等の全
てを同一回転中心におき、同一条件でノッチ等を検出し
て行わなければならないため、構造が複雑になると共
に、位置決めの作業が煩雑となるなどの問題があり、従
来のこの種の検出装置をそのまま適用することはできな
い。また、複数枚例えば50枚のウエハ等を同時に位置
決めするには、隣接するウエハ等の間隔をできる限り狭
くして行う方が装置の小型化が図れる点で望ましい。
【0009】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、水平状態に配列された複数枚の基板を同時に位置決
め可能にし、かつ装置の小型化を図れるようにした位置
決め装置及び位置決め方法を提供することを目的とする
ものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の位置決め装置は、周囲の一部に判別
用切欠を有する複数の基板を位置決めする位置決め装置
であって、 垂直方向に適宜間隔をおいて配設されて上
記基板を載置する複数の回転テーブルと、 上記回転テ
ーブルに載置された上記基板の周囲の周縁部の少なくと
も3箇所に接触して基板の心出しを行う心出し手段と、
上記回転テーブルに接断手段を有する伝達機構を介し
て連結する回転駆動手段と、 上記回転テーブルの外周
側に配設されて回転する上記基板の判別用切欠を検出す
る検出手段と、上記検出手段の検出信号に基づいて上記
接断手段を制御する制御手段と、を具備することを特徴
とする。
【0011】また、請求項2記載の位置決め装置は、周
囲の一部に判別用切欠を有する複数の基板を位置決めす
る位置決め装置であって、 垂直方向に適宜間隔をおい
て配設されて上記基板を載置する複数の回転テーブル
と、 上記回転テーブルに対して相対移動して回転テー
ブルとの間で上記基板を受け渡しするガイドと、 上記
回転テーブルに載置された上記基板の周囲の周縁部の少
なくとも3箇所に接触して基板の心出しを行う心出し手
段と、 上記回転テーブルに接断手段を有する伝達機構
を介して連結する回転駆動手段と、 上記回転テーブル
の外周側に配設されて回転する上記基板の判別用切欠を
検出する検出手段と、上記検出手段の検出信号に基づい
て上記接断手段を制御する制御手段と、を具備すること
を特徴とする。この発明の位置決め装置において、上記
検出手段を、回転テーブルの周方向に適宜間隔をおいて
配設される2つのセンサにて形成することができる(請
求項3)。また、上記回転駆動手段により駆動される複
数の回転軸の異なる高さ位置に、接断手段及び伝達機構
を介して回転テーブルを配設する方が好ましい(請求項
4)。
【0012】この発明の位置決め装置において、上記接
断手段とは、回転テーブルの回転運動を断続又は接続す
る手段をいい、例えばクラッチ、あるいは歯車やローラ
等を用いることができる。
【0013】また、請求項5記載の位置決め方法は、請
求項1ないし4のいずれかに記載の位置決め装置を用い
て周囲の一部に判別用切欠を有する複数の基板を位置決
めする位置決め方法であって、 回転テーブル上に載置
された基板を心出し手段により心出しする工程と、 上
記回転テーブルを回転して検出手段により基板の判別用
切欠を検出し、判別用切欠が検出された基板の回転テー
ブルを停止する工程と、を有することを特徴とする。
【0014】また、請求項6記載の位置決め方法は、請
求項1ないし4のいずれかに記載の位置決め装置を用い
て周囲の一部に判別用切欠を有する複数の基板を位置決
めする位置決め方法であって、 回転テーブル上に載置
された基板を心出し手段により心出しする工程と、 上
記回転テーブルを回転して検出手段により基板の判別用
切欠を検出し、判別用切欠が検出された基板の回転テー
ブルを停止する工程と、 全ての基板の回転が停止した
後、再度全ての回転テーブルを上記回転速度より遅い回
転速度で回転させて、判別用切欠の回転方向先端側を検
出手段で検知した後、回転を停止する工程と、を有する
ことを特徴とする。この場合、全ての基板の回転が停止
した後、再度全ての回転テーブルを上記回転速度より遅
い回転速度で回転する方向には、逆方向も含むことがで
きる(請求項7)。
【0015】上記のように構成されるこの発明によれ
ば、垂直方向に配設される複数の各回転テーブル上に載
置される基板を心出し手段によって心出しした後、同時
に回転させて検出手段により基板に設けられた判別用切
欠を検出し、その検出信号に基づいて回転テーブルを停
止して、基板の位置決めを行うことができる(請求項
1,5)。
【0016】また、回転テーブルに対して相対移動して
回転テーブルとの間で基板を受け渡しするガイドを用い
ることで、位置決め前の基板の回転テーブルへの受け渡
し、位置決め後の基板の回転テーブルからの受け取りを
円滑にすることができる(請求項2)。
【0017】また、検出手段を、回転テーブルの周方向
に適宜間隔をおいて配設される2つのセンサにて形成す
ることにより、一方のセンサによって判別用切欠を検知
し、他方のセンサによって判別用切欠の未検知の場合
に、判別用切欠の位置決めを行うことができるので、正
確な位置決めを行うことができる(請求項3)。
【0018】また、回転駆動手段により駆動される複数
の回転軸の異なる高さ位置に、接断手段及び伝達機構を
介して回転テーブルを配設することにより、回転テーブ
ル間の間隔を狭くすることができるので、装置の小型化
を図ることができる(請求項4)。
【0019】また、判別用切欠が検出された基板の回転
テーブルを停止し、全ての基板の回転が停止した後、再
度全ての回転テーブルを上記回転速度より遅い回転速度
で回転させて、判別用切欠の回転方向先端側を検出手段
で検知した後、回転を停止することにより、更に基板の
位置決め精度を向上させることができる(請求項6,
7)。
【0020】
【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施の形態を
図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では半導
体ウエハの洗浄・乾燥処理システムに適用した場合につ
いて説明する。
【0021】図1はこの発明に係る位置決め装置を適用
した洗浄・乾燥処理システムの第一実施形態を示す概略
平面図、図2はその概略側面図である。
【0022】上記洗浄・乾燥処理システムは、被処理用
の基板である半導体ウエハW(以下にウエハという)を
水平状態に収納する容器例えばキャリア1を搬入、搬出
するための搬入・搬出部2と、ウエハWを薬液、洗浄液
等の液処理すると共に乾燥処理する処理部3と、搬入・
搬出部2と処理部3との間に位置してウエハWの受渡
し、位置調整及び姿勢変換等を行うインターフェース部
4と、処理部3とインターフェース部4に渡って設けら
れる搬送路5とを具備してなる。
【0023】この場合、上記搬入・搬出部2は、洗浄・
乾燥処理システムの一側端部に併設して設けられる搬入
部6と搬出部7とで構成されている。また、搬入部6及
び搬出部7のキャリア1の搬入口6a及び搬出口7aに
は、キャリア1を搬入部6、搬出部7に出入れ自在のス
ライド式の載置テーブル8が設けられている。また、搬
入部6と搬出部7には、それぞれキャリアリフタ9が配
設され、このキャリアリフタ9によってインターフェー
ス部4の上方に設けられたキャリア待機部10へウエハ
Wを収容するキャリア1を搬送するか、あるいは、キャ
リア待機部10にある空のキャリア1を搬送し得るよう
に構成されている。キャリア待機部10には、キャリア
搬送ロボット(図示せず)が配設されており、このキャ
リア搬送ロボットによってキャリア待機部10内に搬送
されたウエハWを収容するキャリア1を背部側に移動し
得るように構成されている。
【0024】また、上記搬送路5と対向する位置には、
それぞれスライダ11を介して第1の姿勢変換装置12
と第2の姿勢変換装置12Aが互いに平行に配設されて
いる。また、第1及び第2の姿勢変換装置12,12A
の背部側には、それぞれ水平方向(X,Y方向),垂直
方向(Z方向)及び回転(θ方向)可能なウエハ取出し
アーム13とウエハ収納アーム14が互いに平行に配設
されると共に、ウエハ取出しアーム13の側方にはこの
発明に係る位置決め装置としてのノッチアライナー15
が配設されている。更に、ウエハ取出しアーム13及び
ウエハ収納アーム14と対向する位置に第2の容器搬送
手段である搬入用キャリアリフタ16及び搬出用キャリ
アリフタ17が配設されて、上記キャリア待機部10に
待機されたキャリア1との間でウエハWの受け渡しを行
うように構成されている。
【0025】一方、上記処理部3には、ウエハWに付着
するパーティクルや有機物汚染を除去する第1の処理ユ
ニット18と、ウエハWに付着する金属汚染を除去する
第2の処理ユニット19と、ウエハWに付着する化学酸
化膜を除去すると共に乾燥処理する乾燥処理装置を具備
する洗浄・乾燥処理ユニット20及びチャック洗浄ユニ
ット21が直線状に配列されており、これら各ユニット
18〜21と対向する位置に設けられた上記搬送路5
に、X,Y方向(水平方向)、Z方向(垂直方向)及び
回転(θ)可能なウエハ搬送アーム22が配設されてい
る。
【0026】次に、この発明に係る位置決め装置につい
て説明する。上記位置決め装置15(ノッチアライナ)
は、図3及び図4に示すように、同一鉛直線上に適宜間
隔をおいて配設されてウエハWを載置する複数例えば7
個の回転テーブル23と、この回転テーブル23に対し
て上下方向に相対移動して回転テーブル23との間でウ
エハWを受け渡しするガイド24と、回転テーブル23
上に載置されたウエハWの周囲の周縁部の少なくとも3
箇所に接触してエウエハWの心出しを行う心出し手段2
5と、回転テーブル23に接断手段例えばクラッチ26
を有する伝達機構27を介して連結する回転駆動手段2
8と、回転テーブル23の外周側に配設されて回転する
ウエハWの判別用切欠例えばノッチWaを検出する検出
手段29と、検出手段29の検出信号に基づいてクラッ
チ26を制御する制御手段30とで主に構成されてい
る。
【0027】この場合、回転テーブル23は、基台31
上に立設する支持部材32の一側面に略水平に突設され
る伝導ケース33に取り付けられる軸23aにベアリン
グ34を介して水平方向に回転自在に支承されている
(図5及び図6参照)。また、支持部材32の他側面に
は、略水平に突設されるブラケット35を介して取付部
材36が垂設されており、この取付部材36に装着され
る軸受37を介して互いに平行な2本の回転軸38a,
38bが回転自在に垂設されている。これら回転軸38
a,38bのうちの一方38aの下部には回転駆動手段
であるサーボモータ28が連結されており、両回転軸3
8a,38bにそれぞれ装着されるプーリ39a,39
bにタイミングベルト40が掛け渡されて、サーボモー
タ28の駆動が両回転軸38a,38bに伝達されるよ
うに構成されている。
【0028】また、図7に示すように、両回転軸38
a,38bの異なる高さ位置にはクラッチ26を介して
駆動プーリ41が装着されており、これら駆動プーリ4
1と、回転テーブル23のボス部に装着された従動プー
リ42とに伝達用タイミングベルト43が掛け渡されて
伝達機構27が構成されている。この場合、一方の回転
軸38aには適宜間隔をおいて4個のクラッチ26及び
駆動プーリ41が装着され、他方の回転軸38bにおけ
る上記一方の回転軸38aに装着されるクラッチ26及
び駆動プーリ41間のピッチと半ピッチずれた位置に3
個のクラッチ26及び駆動プーリ41が装着されてい
る。このように2本の回転軸38a,38bの異なる高
さ位置にクラッチ26を介して駆動プーリ41を装着す
ることにより、複数例えば7個のクラッチ26及び駆動
プーリ41の間隔並びに回転テーブル23の間隔を狭く
することができる。したがって、装置の小型化を図るこ
とができる。
【0029】上記ガイド24は、図3、図8及び図9に
示すように、支持部材32の両側に張り出した状態で突
設される支持部44に垂設されるリニアレール45に摺
動自在に係合する摺動子46aを有する可動体46bに
連結される垂直方向に移動可能な略U字形のガイド板4
7と、このガイド板47の同心円上(具体的にはウエハ
Wの外径よりやや外側の同心円上)の複数箇所例えば4
箇所に突設されるウエハ支持用の支持突起48とで構成
されており、可動体46bにジョイント46cを介して
連結する昇降手段例えば垂直エアーシリンダ46dのピ
ストンロッド46eの伸縮動作によって回転テーブル2
3に対して相対移動し得るように構成されている。この
ガイド24は各回転テーブル23にウエハWを受け渡す
ものであるため、回転テーブル23と同様に7個配設さ
れている。
【0030】この場合、ガイド板47の内方空間49
は、回転テーブル23が干渉しないように回転テーブル
23の外径より大きな円弧部を有している。また、図3
における中心線Cに関して対向する2組の支持突起48
間の寸法は、ウエハ搬送アーム22の横幅より大きく形
成されている。
【0031】なおこの場合、支持突起48は、ウエハW
に接触するため、ウエハWのダメージを少なくする必要
があるので、例えばポリエーテルエーテルケトン(PE
EK)製部材にて形成されている。また、支持突起48
は、図5(b)に拡大して示すように、ガイド板47上
に固定される大径円柱部48aの上端に面取り部48b
を設け、大径円柱部48aの上面にウエハWを支持する
段部48cを残してテーパ状突部48dを突設してな
り、テーパ状突部48dの基端部に垂直カット面48e
が設けられて、ウエハWの端部との接触によるこじれ等
を防止している。また、ガイド24がウエハWを支持し
ていない状態の待機時は、支持突起48のテーパ状突部
48dは、回転テーブル23上に載置されるウエハWよ
り上方に突出しており、何等かの衝撃等によってウエハ
Wが移動してもテーパ状突部48dによってウエハWの
脱落等を阻止することができるようになっている。
【0032】上記心出し手段25は、図10及び図11
に示すように、基台31上における回転テーブル23の
回転中心の同心円上の3箇所に配設されると共に、半径
方向に移動可能なシリンダ体50a,50b,50c
と、これら各シリンダ体50a,50b,50cの先端
側上面にそれぞれ起立する心出し棒51とで主に構成さ
れている。
【0033】この場合、シリンダ体50a,50b,5
0cは架台30側に図示しない固定部材をもって横架さ
れるガイドレール52に摺動自在な可動体53を側方に
設けてなり、各シリンダ体50a,50b,50cは、
図10(b)に示すように、一次側ポート54aに接続
する第1の供給管55aと、二次側ポート54bに接続
する第2の供給管55bと切換弁56を介して図示しな
いエアー供給源に接続されており、エアー供給源から供
給されるエアーによって半径方向に移動し得るように構
成されている。したがって、3個のシリンダ体50a,
50b,50c及び心出し棒51が半径方向に同時に移
動することにより、回転テーブル23上に載置されるウ
エハWが3本の心出し棒51と接触して、ウエハWの心
出しが行われる。
【0034】なおこの場合、心出し棒51は、例えばス
テンレス鋼製心棒51aの表面にポリエーテルエーテル
ケトン(PEEK)製の外装筒51bを被着してなり、
ウエハWに接触する際のウエハWのダメージを少なくす
るように考慮されている。
【0035】一方、上記検出手段29は、図3及び図1
2に示すように、各回転テーブル23上に載置されるウ
エハWの外周側に適宜間隔をおいて配置される2個のセ
ンサ29a,29bにて形成されており、これらセンサ
29a,29bによってウエハWに設けられたノッチW
aを検出した信号を上記制御手段30例えば中央演算処
理装置(CPU)に伝達し、この検出情報とCPU30
に予め記憶された情報とを比較演算処理し、その出力信
号を各伝達機構27のクラッチ26に伝達することによ
ってクラッチ26を“断”状態にし得るように構成され
ている。また、CPU30からの信号がサーボモータ2
8に伝達されてサーボモータ28が作動、停止されるよ
うになっている。
【0036】次に、上記のように構成される位置決め装
置15による位置決め方法について説明する。まず、図
4及び図5に実線で示すように、ガイド24を回転テー
ブル23より下方の位置に待機しておき、この状態で、
所定のピッチに配列した複数例えば7枚のウエハWをウ
エハ取出しアーム13によって保持して、回転テーブル
23の上方へ搬送する。次に、ガイド24が昇降手段に
よって上昇され、ガイド24の支持突起48の段部48
c上にウエハWの縁部を係合させた後、上昇してウエハ
Wを受け取る。ウエハWをガイド24に受け渡した後、
ウエハ取出しアーム13は回転テーブル23の上方から
後退する。ウエハ取出しアーム13が後退した後、昇降
手段を逆方向に駆動してガイド24を下降させ、ガイド
24の支持突起48にて支持されたウエハWを回転テー
ブル23上に載置する。
【0037】次に、心出し手段25を駆動してシリンダ
体50a,50b,50c及び心出し棒51を同時に中
心側に移動してウエハWの心出し(センタリング)を行
う。心出し後、シリンダ体50a,50b,50c及び
心出し棒51は待機位置に復帰する。
【0038】次に、クラッチ26を接続状態にした状態
で、サーボモータ28を駆動して回転テーブル23を1
回転以上例えば370°回転すると共に、ウエハWを回
転する。ウエハWの回転中にセンサ29aでノッチWa
を検知した場合、その検出信号がCPU30に伝達され
ノッチWaを検出したウエハWを載置する回転テーブル
23の伝達機構27のクラッチ26を切る。センサ29
aで検知後(1〜2秒後)センサ29bがノッチWaを
検知しなければノッチ位置はセンサ29aと29bの間
に位置することが確認される。センサ29a及び29b
共ノッチWaを検知した場合は、全回転軸38a,38
bが停止するまでクラッチ26を切っておく。このよう
にして全回転軸38a,38bすなわち全回転テーブル
23の回転(370°)終了後、サーボモータ28を停
止させる。
【0039】次に、センサ29a,29b共ノッチWa
を検知した回転テーブル23の回転軸38a,38bの
クラッチ26を接続して再びサーボモータ28を駆動
し、回転テーブル23及びウエハWを回転させて同様に
センサ29aでノッチWaの検知を行い、クラッチ26
を切る。なお、更に、センサ29a及び29b共ノッチ
Waを検知した場合には、CPU30からアラームやラ
ンプ等の表示手段(図示せず)に信号を送って、その旨
を表示する。
【0040】上記のようにして全回転軸38a,38b
及び回転テーブル23におけるセンサ29aによるノッ
チWaの検知、センサ29bによるノッチWaの未検知
になった場合、ウエハWの位置決めが終了する。この位
置決め終了後、全クラッチ26を接続し、サーボモータ
28を所定のパルス数で回転してノッチWaを所定の箇
所まで回転移動する。
【0041】次に、昇降手段(図示せず)を駆動し、ガ
イド24を上昇させて、回転テーブル23上に載置され
たウエハWをガイド24の支持突起48にて受け取る。
この状態で、ウエハWの下方側にウエハ取出しアーム1
3が侵入する。次に、ガイド24が下降し、ガイド24
にて支持されたウエハWをウエハ取出しアーム13上に
受け渡す。ウエハWを受け取ったウエハ取出しアーム1
3は回転テーブル23の上方から後退して、ウエハWを
第1の姿勢変換装置12に搬送する。そして、第1の姿
勢変換装置12でウエハWは垂直状態に姿勢変換され
る。
【0042】上記実施形態では、センサ29aによるノ
ッチWaの検知、センサ29bによるノッチWaの未検
知になった場合でウエハWの位置決めを行う場合につい
て説明したが、この位置決め後に再度ウエハWを低速度
で回転させてノッチWaを検知させるようにしてもよ
い。すなわち、図13に示すように、センサ29aによ
るノッチWaの検知、センサ29bによるノッチWaの
未検知になった後、更に位置決めされた全てのウエハW
を最初の位置決め時の回転速度より遅い回転速度例えば
超低速回転で同一方向あるいは逆方向に回転(図13で
は逆方向に回転)させ、センサ29a又は29bでノッ
チWaの角部を検知した後、クラッチ26を切るように
してもよい。このように、最初の位置決め後、再度低速
度でウエハWを回転させて、ノッチWaを検知してクラ
ッチ26を切るようにすることにより、すべり等によっ
て各ウエハWのノッチWa位置が不揃いとなるのを可及
的に少なくすることができ、より精度の高い位置決めを
行うことができる。
【0043】なお、上記実施形態では、判別用切欠がノ
ッチである場合について説明したが、ノッチ以外の判別
用切欠例えばオリフラ(orifura)を設けたもの
であっても同様に位置決めすることができる。また、上
記実施形態では、この発明の位置決め装置を半導体ウエ
ハの洗浄・乾燥処理システムに適用した場合について説
明したが、洗浄処理以外の処理システムにも適用できる
ことは勿論であり、また、半導体ウエハ以外の円形の基
板等にも適用できることは勿論である。
【0044】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、上記のように構成されているので、以下のような優
れた効果が得られる。
【0045】1)請求項1又は5記載の発明によれば、
垂直方向に配設される複数の各回転テーブル上に載置さ
れる基板を心出し手段によって心出しした後、同時に回
転させて検出手段により基板に設けられた判別用切欠を
検出し、その検出信号に基づいて回転テーブルを停止し
て、基板の位置決めを行うことができる。したがって、
水平状態に配列された複数の基板を同時に位置決めする
ことができる。
【0046】2)請求項2記載の発明によれば、回転テ
ーブルに対して相対移動して回転テーブルとの間で基板
を受け渡しするガイドを用いることで、上記1)に加え
て位置決め前の基板の回転テーブルへの受け渡し、位置
決め後の基板の回転テーブルからの受け取りを円滑にす
ることができる。したがって、位置決めされる基板のセ
ット時間の短縮が図れると共に、位置決め後の基板の取
り出し時間を短縮することができ、位置決めの作業効率
の向上を図ることができる。
【0047】3)請求項3記載の発明によれば、検出手
段を、回転テーブルの周方向に適宜間隔をおいて配設さ
れる2つのセンサにて形成することにより、一方のセン
サによって判別用切欠を検知し、他方のセンサによって
判別用切欠の未検知の場合に、判別用切欠の位置決めを
行うことができるので、正確な位置決めを行うことがで
きる。
【0048】4)請求項4記載の発明によれば、回転駆
動手段により駆動される複数の回転軸の異なる高さ位置
に、接断手段及び伝達機構を介して回転テーブルを配設
することにより、回転テーブル間の間隔を狭くすること
ができるので、上記1)に加えて装置の小型化を図るこ
とができる。
【0049】5)請求項6又は7記載の発明によれば、
判別用切欠が検出された基板の回転テーブルを停止し、
全ての基板の回転が停止した後、再度全ての回転テーブ
ルを上記回転速度より遅い回転速度で回転させて、判別
用切欠の回転方向先端側を検出手段で検知した後、回転
を停止することにより、更に基板の位置決め精度を向上
させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係る位置決め装置を適用した洗浄・
乾燥処理システムの第一実施形態を示す概略平面図であ
る。
【図2】上記洗浄・乾燥処理システムの概略側面図であ
る。
【図3】この発明に係る位置決め装置の一例を示す要部
平面図である。
【図4】図3の側面図である。
【図5】この発明における回転テーブルとガイドを示す
断面図(a)及びガイドの要部拡大断面図(b)であ
る。
【図6】上記回転テーブルの回転部を示す拡大断面図で
ある。
【図7】上記回転テーブルの回転駆動手段を示す概略側
面図である。
【図8】この発明におけるガイドを示す概略平面図であ
る。
【図9】上記ガイドの概略側面図である。
【図10】この発明における心出し手段を示す概略平面
図(a)及び心出し手段の配管図(b)である。
【図11】上記心出し手段の要部を示す斜視図である。
【図12】この発明における検出手段を示す概略平面図
である。
【図13】この発明における判別用切欠の別の検知方法
の一例を示す概略平面図である。
【符号の説明】
W 半導体ウエハ(基板) Wa ノッチ(判別用切欠) 23 回転テーブル 24 ガイド 25 心出し手段 26 クラッチ(接続手段) 27 伝達機構 28 サーボモータ(回転駆動手段) 29 検出手段 29a,29b センサ 30 CPU(制御手段) 38a,38b 回転軸

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 周囲の一部に判別用切欠を有する複数の
    基板を位置決めする位置決め装置であって、 垂直方向に適宜間隔をおいて配設されて上記基板を載置
    する複数の回転テーブルと、 上記回転テーブルに載置された上記基板の周囲の周縁部
    の少なくとも3箇所に接触して基板の心出しを行う心出
    し手段と、 上記回転テーブルに接断手段を有する伝達機構を介して
    連結する回転駆動手段と、 上記回転テーブルの外周側に配設されて回転する上記基
    板の判別用切欠を検出する検出手段と、 上記検出手段の検出信号に基づいて上記接断手段を制御
    する制御手段と、を具備することを特徴とする位置決め
    装置。
  2. 【請求項2】 周囲の一部に判別用切欠を有する複数の
    基板を位置決めする位置決め装置であって、 垂直方向に適宜間隔をおいて配設されて上記基板を載置
    する複数の回転テーブルと、 上記回転テーブルに対して相対移動して回転テーブルと
    の間で上記基板を受け渡しするガイドと、 上記回転テーブルに載置された上記基板の周囲の周縁部
    の少なくとも3箇所に接触して基板の心出しを行う心出
    し手段と、 上記回転テーブルに接断手段を有する伝達機構を介して
    連結する回転駆動手段と、 上記回転テーブルの外周側に配設されて回転する上記基
    板の判別用切欠を検出する検出手段と、 上記検出手段の検出信号に基づいて上記接断手段を制御
    する制御手段と、を具備することを特徴とする位置決め
    装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2記載の位置決め装置にお
    いて、 上記検出手段が、回転テーブルの周方向に適宜間隔をお
    いて配設される2つのセンサからなることを特徴とする
    位置決め装置。
  4. 【請求項4】 請求項1又は2記載裏の位置決め装置に
    おいて、 上記回転駆動手段により駆動される複数の回転軸の異な
    る高さ位置に、接断手段及び伝達機構を配設してなるこ
    とを特徴とする位置決め装置。
  5. 【請求項5】 請求項1ないし4のいずれかに記載の位
    置決め装置を用いて周囲の一部に判別用切欠を有する複
    数の基板を位置決めする位置決め方法であって、 回転テーブル上に載置された基板を心出し手段により心
    出しする工程と、 上記回転テーブルを回転して検出手段により基板の判別
    用切欠を検出し、判別用切欠が検出された基板の回転テ
    ーブルを停止する工程と、を有することを特徴とする位
    置決め方法。
  6. 【請求項6】 請求項1ないし4のいずれかに記載の位
    置決め装置を用いて周囲の一部に判別用切欠を有する複
    数の基板を位置決めする位置決め方法であって、 回転テーブル上に載置された基板を心出し手段により心
    出しする工程と、 上記回転テーブルを回転して検出手段により基板の判別
    用切欠を検出し、判別用切欠が検出された基板の回転テ
    ーブルを停止する工程と、 全ての基板の回転が停止した後、再度全ての回転テーブ
    ルを上記回転速度より遅い回転速度で回転させて、判別
    用切欠の回転方向先端側を検出手段で検知した後、回転
    を停止する工程と、を有することを特徴とする位置決め
    方法。
  7. 【請求項7】 請求項6記載の位置決め方法において、 全ての基板の回転が停止した後、再度全ての回転テーブ
    ルを上記回転速度より遅い回転速度で回転する方向が、
    逆方向であることを含むことを特徴とする位置決め方
    法。
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