JPH1147555A - 三弗化窒素の除害方法および除害用触媒 - Google Patents

三弗化窒素の除害方法および除害用触媒

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JPH1147555A
JPH1147555A JP9219761A JP21976197A JPH1147555A JP H1147555 A JPH1147555 A JP H1147555A JP 9219761 A JP9219761 A JP 9219761A JP 21976197 A JP21976197 A JP 21976197A JP H1147555 A JPH1147555 A JP H1147555A
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JP
Japan
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catalyst
component
hydrogen
nitrogen trifluoride
detoxification
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Application number
JP9219761A
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English (en)
Inventor
Takashi Jinbo
隆志 神保
Takeshi Yasutake
剛 安武
Isao Harada
功 原田
Hiroko Wachi
和知  浩子
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Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 NF3を安全、かつ効率的に長時間処
理する方法。 【解決手段】 Fe、Co、Ni、Cu、Zn、R
u、Rh、Pd、Ag、Ir、Pt、Auよりなる群か
ら選ばれる第1成分およびアルカリ金属弗化物、アルカ
リ土類金属弗化物のうち少なくとも1種以上よりなる第
2成分を含有する触媒の存在下、三弗化窒素を含む排ガ
スと水素とを反応させる三弗化窒素の除害方法であり、
また、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ru、Rh、P
d、Ag、Ir、Pt、Auよりなる群から選ばれる第
1成分とアルカリ金属弗化物、アルカリ土類金属弗化物
のうち少なくとも1種以上よりなる第2成分を含有する
三弗化窒素を除害するための触媒。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、三弗化窒素ガス
(以下、NF3と称す)の除害方法、およびNF3を除
害するための触媒に関する。
【0002】
【従来技術】現在、地球環境に悪影響をもたらすフロン
やCO2などに対して規制が行われていることは周知で
あり、NF3も自然界ではなかなか分解しない物質であ
る。NF3ガスは、近年、半導体製造に於いてクリーニ
ングガスとして多量に使用されている。しかし、毒性が
あり、地球温暖化効果が大きいことから、排ガス中に残
存するNF3を除去することが望まれている。
【0003】上記問題を解決する方法に、高温下で活性
炭を充填したカラムにNF3を含む排ガスを通気する方
法(特開昭62−237929号公報)が知られてい
る。しかしながら、この方法では、地球温暖化の原因の
一つとも言われるCF4を放出する結果となる。
【0004】また、金属酸化物と反応させて除害する方
法(特開平3−181316号公報)も知られている
が、これも約500℃の高温下で反応を行うことに加
え、NOxを生成するという問題がある。さらに、金属
酸化物は反応によって金属弗化物となりNF3除害能力
を失うので、定期的な金属弗化物の取り出しと金属酸化
物の充填が必要となり、ランニングコストが高くなると
いう欠点がある。
【0005】さらに、高温下でガス状の弗化物を生成す
るような金属を充填したカラムにNF3を通気する方法
(特開昭61−204025号公報)も知られている
が、これによって生成されるガス状の弗化物の2次処理
設備において金属酸化物微粒子が生成し、その処理が必
要になるという欠点がある。
【0006】以上の除害方法では除害装置に充填した除
害剤の交換または補充が必要で、そのためにランニング
コストが高くなるという共通の欠点がある。これに対
し、NF3を触媒の存在下還元性ガスと反応させて除害
する方法が知られており、触媒交換の頻度は前記除害剤
の交換頻度に比べてはるかに低いという利点がある。
【0007】特開平2−303524号公報には、還元
性ガスとして水素を用いる方法が開示されている。還元
触媒としては元素周期表第Vlll族元素およびCu、
Cr、Znからなる群より選ばれた1種以上を含む金属
が挙げられている。しかしながら、本発明者らの知見に
よればこれらの触媒を通常使用されるアルミナ、シリ
カ、チタニア、シリカ−アルミナ等の担体に担持して使
用すると、触媒活性が経時的に低下し、安定した触媒性
能が得られないことがわかった。
【0008】特開平8−131774号公報には、還元
性ガスとして炭化水素を用いる方法が開示されている
が、NF3と炭化水素との反応でCF4が生成する恐れ
があり、地球温暖化防止の観点からは望ましくない。特
開平3−65219号公報には塩化水素を用いる方法が
開示されているが、腐食性かつ毒性ガスである塩化水素
を使用することは望ましくない。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、NF3を安
全、かつ効率的に除害する方法およびその触媒を提供す
ることにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来技術
の欠点を改良し工業的実施の可能な方法について鋭意検
討した結果、特定の金属とアルカリ金属あるいはアルカ
リ土類金属の弗化物を担体とする触媒を用いることによ
り、NF3を除害する方法を見出し、本発明を完成した
ものである。
【0011】すなわち、本発明はFe、Co、Ni、C
u、Zn、Ru、Rh、Pd、Ag、Ir、Pt、Au
よりなる群から選ばれる第1成分およびアルカリ金属弗
化物、アルカリ土類金属弗化物のうち少なくとも1種以
上よりなる第2成分を含有する触媒の存在下、三弗化窒
素を含む排ガスと水素とを反応させることを特徴とする
三弗化窒素の除害方法であり、また、Fe、Co、N
i、Cu、Zn、Ru、Rh、Pd、Ag、Ir、P
t、Auよりなる群から選ばれる第1成分とアルカリ金
属弗化物、アルカリ土類金属弗化物のうち少なくとも1
種以上よりなる第2成分を含有することを特徴とする三
弗化窒素を除害するための触媒に関する。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明を更に詳細に説明す
る。本発明の除害方法は超LSIエッチング装置からの
排ガス、CVDクリーニングガスの排ガス、NF3容器
からの漏洩ガスなど、NF3を含むガスの除害に適用さ
れる。NF3を含むガスは水素と反応し除害される。
【0013】本発明で用いられる触媒は、Fe、Co、
Ni、Cu、Zn、Ru、Rh、Pd、Ag、Ir、P
t、Auよりなる群から選ばれる第1成分とアルカリ金
属弗化物、アルカリ土類金属弗化物のうち少なくとも1
種以上よりなる第2成分からなるものである。
【0014】第1成分の中では、Ni、Ru、Pd、P
tが活性が高く、特に望ましい。触媒に含まれる第1成
分の含有量は、0.01〜70重量%、好ましくは0.
1〜50重量%が好適である。含有量が0.01重量%
未満では触媒活性が低過ぎ、70重量%を越えると活性
成分の分散が悪くなり、やはり触媒活性が低下するので
好ましくない。第1成分の含有量の最適値は金属の種類
によって異なり、例えば第1成分がNiの場合は10〜
50重量%、第1成分がRu、Pd、Ptの場合は0.
1〜5重量%が好ましい。第2成分はLi、Na、K、
Rb、Cs、Mg、Ca、Sr、またはBaの弗化物で
ある。
【0015】触媒の形状は、球状、タブレット状、リン
グ状、破砕品(不定型)等、任意の形状を用いることが
できる。成形にあたっては第2成分を所定の形状に成形
した後に、含浸、コーティング等の公知の方法で第1成
分を担持しても良く、また、第1成分と第2成分を乾式
または湿式で混合した後、所定の形状に成形しても良
い。
【0016】触媒の製造法としては、第2成分からなる
成形担体を第1成分の化合物を含む溶液に浸漬し、しか
るのちに乾燥、焼成して第1成分を含浸担持する方法を
とることができる。また、第1成分の水溶性塩の水溶液
と適当な沈殿剤とを混合して第1成分の化合物からなる
沈殿を生成せしめ、これをスラリー状のまま、あるいは
乾燥後に第2成分と混合し、成形、焼成して触媒とする
こともできる。さらに、単体金属状あるいは化合物の状
態の第1成分粉末を第2成分と混合し、成形、焼成して
触媒とする方法をとることもできる。本発明の触媒はそ
の製造方法によって限定されるものではなく、上記以外
の方法で製造した触媒も本発明の範囲に含まれる。
【0017】触媒の存在下、水素とNF3との反応温度
は、通常室温から600℃の範囲で適宜選択される。な
かでも100〜450℃、好ましくは150〜300℃
で反応させるのがよい。反応温度が低すぎると工業的に
許容される速度で反応を進めることができず、反応温度
が高すぎると装置の耐熱性、耐食性に問題が生じ、設備
費が高くなるので好ましくない。
【0018】触媒の存在下、水素とNF3との反応にお
ける安全性の確保は特に重要である。これには水素とN
F3が爆発性混合気体を形成しないようガス組成を制御
することは勿論であるが、反応に伴う発熱による反応器
の温度上昇が適切な範囲に抑えられることが重要であ
る。このため、NF3は水素と混合されるに先立って不
活性ガスによって2容量%(以後、容量%は単に%で表
示)以下、好ましくは1.5%以下、さらに好ましくは
1%以下に希釈される。希釈用の不活性ガスとしては通
常窒素が用いられる。
【0019】添加される水素のNF3に対するモル比は
1.5〜10、好ましくは1.5〜5が好適である。モ
ル比が1.5未満ではNF3の分解率が低くなり好まし
くない。また、モル比が10を越えてもNF3の分解率
は上昇せず、可燃性ガスである水素が多量に残留するの
で好ましくない。また、水素濃度が5%以下であれば、
仮にNF3との反応が起こらず、水素がNF3除害設備
内で消費されずにそのまま大気中に放出されても爆発の
恐れがないため、水素濃度が5%以下であることが好ま
しい。仮にNF3濃度1.5%、水素濃度5%とすると
水素のNF3に対するモル比は3.3となり、前記の好
ましいモル比の範囲に含まれる。反応の空間速度は10
0〜100,000hr−1、好ましくは500〜5
0,000hr−1が好適である。
【0020】触媒の存在下、NF3と水素との反応によ
り、弗化水素等の弗素化合物が生成する。この弗素化合
物を除去するための吸着剤として、アルカリ土類酸化物
やソーダライムのような塩基性酸化物、弗化ナトリウ
ム、モレキュラーシーブ、活性アルミナ等が使用され
る。これらの吸着剤は安価であり、結果としてNF3除
害プロセスのランニングコストが低減される。また、弗
化水素等の弗素化合物をスクラバーで処理する方法も用
いることができる。
【0021】
【実施例】以下、実施例により本発明の方法をさらに具
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。また、重量%はwt%に、容量%は単
に%で表す。 実施例1 ニッケル粉末30wt%と弗化カルシウム粉末70wt
%をビニール袋の中で均一に混合し、少量の水を加えて
自動乳鉢でペースト状の混合物を調製した。この混合物
を120℃、1時間乾燥した後、粒径0.5mm以下に
粉砕し、打錠成型で直径5mm、高さ5mmのタブレッ
トを製造した。このようにして得られたNi(30wt
%)/CaF2触媒を粒径1〜2mmに粉砕し、40m
lを内径20mmの流通式反応器に充填した。また、粒
径1〜2mmのソーダライム500mlを内径20mm
の流通式反応器に充填し、前記触媒を充填した反応器の
下流側に接続した。NF31%、水素5%、残部窒素か
らなるガスを空間速度(SV)1200hr−1で反応
器に供給し、250℃で反応させた。反応開始から1時
間後、5時間後、および100時間後にソーダライム充
填反応器(吸着装置)出口の排ガスをガスクロマトグラ
フで分析したが、NF3は検出されなかった。また、吸
着装置出口の排ガスを水を入れたバブラーを通過させ、
水に溶解した成分の分析を行った結果、弗素化合物は検
出されなかった。
【0022】実施例2 ニッケル粉末30wt%、弗化ナトリウム粉末70wt
%をビニール袋の中で均一に混合し、そのまま打錠成型
して直径5mm、高さ5mmのタブレットを製造した。
このようにして得られたNi(30wt%)/NaF触
媒を粒径1〜2mmに粉砕し、そのうち40mlを用い
て、実施例1と同様に反応を行った。反応開始から1時
間後、5時間後、および100時間後にソーダライム充
填反応器(吸着装置)出口の排ガスをガスクロマトグラ
フで分析した結果、NF3は検出されなかった。
【0023】実施例3 弗化カルシウム成形体を粒径1〜2mmに粉砕した。塩
化パラジウム(PdCl2)1.67gを1N−KCl
水溶液100mlに溶解し、そこに前記弗化カルシウム
粉砕品100gを投入した。室温で1時間静置後水素化
ホウ素ナトリウム0.3gを添加してパラジウムを還元
した。還元終了後溶液を濾過で除き、120℃で1時間
乾燥し、次いで400℃、1時間焼成してPd(1wt
%)/CaF2触媒を製造した。この触媒40mlを内
径20mmの流通式反応器に充填した。また、粒径1〜
2mmのソーダライム500mlを内径20mmの流通
式反応器に充填し、前記触媒を充填した反応器の下流側
に接続した。NF31%、水素5%、残部窒素からなる
ガスを空間速度(SV)1200hr−1で反応器に供
給し、220℃で反応させた。反応開始から1時間後、
5時間後、および100時間後にソーダライム充填反応
器(吸着装置)出口の排ガスをガスクロマトグラフで分
析した結果、NF3は検出されなかった。
【0024】比較例1 弗化カルシウムに代えてγ−アルミナを用いた他は実施
例1と同様にしてNi(30wt%)/Al2O3触媒
を製造した。この触媒40mlを用いて実施例1と同じ
条件でNF3の還元分解実験を行ったところ、反応開始
から1時間後および5時間後ではソーダライム充填反応
器(吸着装置)出口の排ガス中にNF3は検出されなか
ったが、100時間後には0.17%のNF3が検出さ
れた。
【0025】比較例2 弗化カルシウムに代えてチタニアを用いた他は実施例1
と同様にしてNi(30wt%)/TiO2触媒を製造
した。この触媒40mlを用いて実施例1と同じ条件で
NF3の還元分解実験を行ったところ、反応開始から1
時間後ではソーダライム充填反応器(吸着装置)出口の
排ガス中にNF3は検出されなかったが、5時間後には
0.01%、100時間後には0.20%のNF3が検
出された。
【0026】比較例3 弗化カルシウムに代えて粒径1〜2mmのγ−アルミナ
を用いた他は実施例3と同様にしてPd(1wt%)/
Al2O3触媒を製造した。この触媒40mlを用いて
実施例3と同じ条件でNF3の還元分解実験を行ったと
ころ、反応開始から1時間後および5時間後ではソーダ
ライム充填反応器(吸着装置)出口の排ガス中にNF3
は検出されなかったが、100時間後には0.25%の
NF3が検出された。
【0027】実施例4〜7 ニッケル粉末に代えて鉄、コバルト、銅、亜鉛の粉末を
用いた他は実施例1と同様にして、Fe(30wt%)
/CaF2、Co(30wt%)/CaF2、Cu(3
0wt%)/CaF2、およびZn(30wt%)/C
aF2触媒を調製した。実施例1と同じ条件でNF3の
還元分解実験を行った結果を表1に示す。
【0028】実施例8〜10 塩化パラジウムPdCl2に代えて塩化ルテニウムRu
Cl3、塩化ロジウムRhCl3、および塩化白金酸H
2PtCl6の所定量を用いた他は実施例3と同様にし
て、それぞれRu(1wt%)/CaF2、Rh(1w
t%)/CaF2、Pt(1wt%)/CaF2触媒を
調製した。実施例3と同じ条件でNF3の還元分解実験
を行った結果を表1に示す。
【0029】
【表1】
【0030】
【発明の効果】本発明は特定の金属とアルカリ金属ある
いはアルカリ土類金属の弗化物を担体とする触媒を用い
ることにより、NF3の除害が長時間にわたって安定的
に行うことが可能となった。すなわち、本発明の比較例
は比較的短時間にNF3の除害ができなくなる。これに
対し、本発明の実施例は100時間を超えてもNF3の
除害が可能となり長時間にわたって安定的に除害を行う
ことができるのである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 和知 浩子 山口県下関市彦島迫町七丁目1番1号 三 井東圧化学株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 Fe、Co、Ni、Cu、Zn、R
    u、Rh、Pd、Ag、Ir、Pt、Auよりなる群か
    ら選ばれる第1成分およびアルカリ金属弗化物、アルカ
    リ土類金属弗化物のうち少なくとも1種以上よりなる第
    2成分を含有する触媒の存在下、三弗化窒素を含む排ガ
    スと水素とを反応させることを特徴とする三弗化窒素の
    除害方法。
  2. 【請求項2】 Fe、Co、Ni、Cu、Zn、R
    u、Rh、Pd、Ag、Ir、Pt、Auよりなる群か
    ら選ばれる第1成分とアルカリ金属弗化物、アルカリ土
    類金属弗化物のうち少なくとも1種以上よりなる第2成
    分を含有することを特徴とする三弗化窒素を除害するた
    めの触媒。
JP9219761A 1997-08-01 1997-08-01 三弗化窒素の除害方法および除害用触媒 Pending JPH1147555A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6921519B2 (en) 2001-01-24 2005-07-26 Ineos Fluor Holdings Limited Decomposition of fluorine containing compounds

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6921519B2 (en) 2001-01-24 2005-07-26 Ineos Fluor Holdings Limited Decomposition of fluorine containing compounds

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