JPH1148395A - 光触媒フィルム並びに自動車用ウインドウ及び建築物用窓ガラス - Google Patents
光触媒フィルム並びに自動車用ウインドウ及び建築物用窓ガラスInfo
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- JPH1148395A JPH1148395A JP9222007A JP22200797A JPH1148395A JP H1148395 A JPH1148395 A JP H1148395A JP 9222007 A JP9222007 A JP 9222007A JP 22200797 A JP22200797 A JP 22200797A JP H1148395 A JPH1148395 A JP H1148395A
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Landscapes
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- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 基材の一面に直接又は下地膜を介して光
触媒膜を形成すると共に、基材の他面に粘着剤層を形成
してなることを特徴とする光触媒フィルム。 【効果】 本発明の光触媒フィルムは、防汚フィルムと
して使用されて、自動車のウインドウ、建築物の窓ガラ
スなどの汚れを可及的に防止することができる。
触媒膜を形成すると共に、基材の他面に粘着剤層を形成
してなることを特徴とする光触媒フィルム。 【効果】 本発明の光触媒フィルムは、防汚フィルムと
して使用されて、自動車のウインドウ、建築物の窓ガラ
スなどの汚れを可及的に防止することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば自動車のウ
インドウ、各種建築物の窓ガラス等に貼付されて防汚効
果を与える光触媒フィルムに関する。また、本発明はか
かる光触媒フィルムが貼付された自動車のウインドウ及
び建築物の窓ガラスに関する。
インドウ、各種建築物の窓ガラス等に貼付されて防汚効
果を与える光触媒フィルムに関する。また、本発明はか
かる光触媒フィルムが貼付された自動車のウインドウ及
び建築物の窓ガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】自動車
のウインドウ、建築物の窓ガラスは、その外側は雨や
風、埃などによって汚染され、内側も埃、煙草のヤニ等
によって汚染される。このため、これらの汚れを除去す
べく、洗浄剤にて頻繁に洗浄することが行われている
が、洗浄作業は面倒であり、高層ビルなどにおいては危
険を伴う。
のウインドウ、建築物の窓ガラスは、その外側は雨や
風、埃などによって汚染され、内側も埃、煙草のヤニ等
によって汚染される。このため、これらの汚れを除去す
べく、洗浄剤にて頻繁に洗浄することが行われている
が、洗浄作業は面倒であり、高層ビルなどにおいては危
険を伴う。
【０００３】従って、自動車のウインドウ、建築物の窓
ガラスなどに対する汚染を可及的に減少する技術が望ま
れる。
ガラスなどに対する汚染を可及的に減少する技術が望ま
れる。
【０００４】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
自動車のウインドウ、建築物の窓ガラスなどに貼付して
用いられ、各種汚れを可及的に減少させることができる
光触媒フィルムを提供することを目的とする。更に、本
発明は、上記光触媒フィルムが貼付された自動車用ウイ
ンドウ及び建築物用窓ガラスを提供することを他の目的
とする。
自動車のウインドウ、建築物の窓ガラスなどに貼付して
用いられ、各種汚れを可及的に減少させることができる
光触媒フィルムを提供することを目的とする。更に、本
発明は、上記光触媒フィルムが貼付された自動車用ウイ
ンドウ及び建築物用窓ガラスを提供することを他の目的
とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明は、上記目的を達成するため、 請求項１：基材の一面に直接又は下地膜を介して光触媒
膜を形成すると共に、基材の他面に粘着剤層を形成して
なることを特徴とする光触媒フィルム 請求項２：光触媒膜が、互いに対向するターゲット間の
スパッタ空間の側方に基材を配置し、該基材上にスパッ
タ膜を形成する対向ターゲット式スパッタリング法にて
酸素分子を有するガスを含有する不活性ガス中でリアク
ティブスパッタリングを行うことによって得られた金属
酸化物膜からなるものである請求項１記載の光触媒フィ
ルム 請求項３：光触媒膜が酸化チタン膜である請求項１又は
２記載の光触媒フィルム 請求項４：基材が透明プラスチックフィルムである請求
項１，２又は３記載の光触媒フィルム 請求項５：請求項１乃至４のいずれか１項記載の光触媒
フィルムが貼付された自動車用ウインドウ 請求項６：請求項１乃至４のいずれか１項記載の光触媒
フィルムが貼付された建築物用窓ガラスを提供する。
発明は、上記目的を達成するため、 請求項１：基材の一面に直接又は下地膜を介して光触媒
膜を形成すると共に、基材の他面に粘着剤層を形成して
なることを特徴とする光触媒フィルム 請求項２：光触媒膜が、互いに対向するターゲット間の
スパッタ空間の側方に基材を配置し、該基材上にスパッ
タ膜を形成する対向ターゲット式スパッタリング法にて
酸素分子を有するガスを含有する不活性ガス中でリアク
ティブスパッタリングを行うことによって得られた金属
酸化物膜からなるものである請求項１記載の光触媒フィ
ルム 請求項３：光触媒膜が酸化チタン膜である請求項１又は
２記載の光触媒フィルム 請求項４：基材が透明プラスチックフィルムである請求
項１，２又は３記載の光触媒フィルム 請求項５：請求項１乃至４のいずれか１項記載の光触媒
フィルムが貼付された自動車用ウインドウ 請求項６：請求項１乃至４のいずれか１項記載の光触媒
フィルムが貼付された建築物用窓ガラスを提供する。
【０００６】上記光触媒フィルムは、自動車のウインド
ウ、建築物の窓ガラス、その他の各種物品に貼着して用
いられるが、その表面の光触媒膜に光（例えば自動車の
ウインドウ、建築物の窓ガラス等にあっては、外側は太
陽光、内側は室内光や窓ガラスを通って入ってきた紫外
光）が照射されると、光触媒が励起し、表面の光触媒膜
に付着した各種汚れが分解除去され、これによって汚染
が可及的に防止されるものである。
ウ、建築物の窓ガラス、その他の各種物品に貼着して用
いられるが、その表面の光触媒膜に光（例えば自動車の
ウインドウ、建築物の窓ガラス等にあっては、外側は太
陽光、内側は室内光や窓ガラスを通って入ってきた紫外
光）が照射されると、光触媒が励起し、表面の光触媒膜
に付着した各種汚れが分解除去され、これによって汚染
が可及的に防止されるものである。
【０００７】この場合、光触媒膜としては、スパッタリ
ング法等によって形成し得るが、特に対向ターゲット式
スパッタリング法により光触媒膜、特に酸化チタン膜を
作製すること、好ましくは不活性ガスと酸素分子を有す
るガスからの酸素ガスとの容量比を２：１〜１：３とし
てスパッタリングを行うこと、更に好ましくはターゲッ
トに対する投入パワーを高くして成膜することが高活性
化の点で有効である。
ング法等によって形成し得るが、特に対向ターゲット式
スパッタリング法により光触媒膜、特に酸化チタン膜を
作製すること、好ましくは不活性ガスと酸素分子を有す
るガスからの酸素ガスとの容量比を２：１〜１：３とし
てスパッタリングを行うこと、更に好ましくはターゲッ
トに対する投入パワーを高くして成膜することが高活性
化の点で有効である。
【０００８】即ち、対向ターゲット式スパッタリング法
は、特公昭６２−５６５７５号、同６３−２０３０４
号、特公平３−１８１０号公報等で公知の手法であり、
対向ターゲット式スパッタリング法で垂直磁気記録薄膜
などを成膜している。そして、この方法によれば、結晶
性の良好な膜を形成し得ることが記載されている。
は、特公昭６２−５６５７５号、同６３−２０３０４
号、特公平３−１８１０号公報等で公知の手法であり、
対向ターゲット式スパッタリング法で垂直磁気記録薄膜
などを成膜している。そして、この方法によれば、結晶
性の良好な膜を形成し得ることが記載されている。
【０００９】ところで、触媒活性が高い酸化チタン膜を
得るためにはアナターゼ型の結晶系がリッチである必要
があるが、酸化チタンの成膜に当り、種々の方法で結晶
性の高い薄膜を形成することはできるものの、得られた
結晶系はルチル型のものが多いため、光触媒効果が低い
ものである。ところが、対向ターゲット式スパッタリン
グ法により酸化チタンを成膜した場合、低温でアナター
ゼリッチの光触媒膜を作製することができ、特にアルゴ
ンガスと酸素ガスとの比率を上記の比率とすることによ
り、アナターゼ型結晶がよりリッチな光触媒膜を形成し
得ること、また、投入パワーを高くすることで膜質を粗
くし、表面積を大きくすることができるので、触媒活性
をより高くし得るものである。
得るためにはアナターゼ型の結晶系がリッチである必要
があるが、酸化チタンの成膜に当り、種々の方法で結晶
性の高い薄膜を形成することはできるものの、得られた
結晶系はルチル型のものが多いため、光触媒効果が低い
ものである。ところが、対向ターゲット式スパッタリン
グ法により酸化チタンを成膜した場合、低温でアナター
ゼリッチの光触媒膜を作製することができ、特にアルゴ
ンガスと酸素ガスとの比率を上記の比率とすることによ
り、アナターゼ型結晶がよりリッチな光触媒膜を形成し
得ること、また、投入パワーを高くすることで膜質を粗
くし、表面積を大きくすることができるので、触媒活性
をより高くし得るものである。
【００１０】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の光触媒フィルムは、図１にその一例を示したよ
うに、基材１１の一面に下地膜１２を介して光触媒膜１
３を形成すると共に、基材１１の他面に粘着剤層１４を
形成し、必要により、剥離フィルム１５を剥離可能に貼
着したものである。なお、この光触媒フィルムは、剥離
フィルム１５を除いて、全体として透明に形成すること
が好ましい。
本発明の光触媒フィルムは、図１にその一例を示したよ
うに、基材１１の一面に下地膜１２を介して光触媒膜１
３を形成すると共に、基材１１の他面に粘着剤層１４を
形成し、必要により、剥離フィルム１５を剥離可能に貼
着したものである。なお、この光触媒フィルムは、剥離
フィルム１５を除いて、全体として透明に形成すること
が好ましい。
【００１１】上記基材としては、透明プラスチックフィ
ルムが好ましく、例えばポリエステル、アクリル樹脂、
セルロース樹脂、ポリカーボネートなどのフィルムを用
いることができる。その厚さは、特に限定されないが、
通常１０〜３００μｍ、特に２０〜１００μｍである。
ルムが好ましく、例えばポリエステル、アクリル樹脂、
セルロース樹脂、ポリカーボネートなどのフィルムを用
いることができる。その厚さは、特に限定されないが、
通常１０〜３００μｍ、特に２０〜１００μｍである。
【００１２】下地膜は、必要により省略し得るが、基材
としてプラスチックフィルムを用いた場合、その劣化を
防ぐため、下地膜を形成することが望ましい。下地膜と
しては、ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＩＴＯなどの光
触媒能を有さない透明酸化物のほか、透明の金属硫化
物、窒化物、ホウ化物、炭化物等の光によって劣化し難
いものが好適である。この下地膜の厚さも適宜選定され
るが、通常１０Å〜５μｍ、特に２０Å〜１μｍであ
り、これら下地膜は、スパッタリング法、真空蒸着法等
の気相めっき法、その他の適宜手段で形成することがで
きる。
としてプラスチックフィルムを用いた場合、その劣化を
防ぐため、下地膜を形成することが望ましい。下地膜と
しては、ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＩＴＯなどの光
触媒能を有さない透明酸化物のほか、透明の金属硫化
物、窒化物、ホウ化物、炭化物等の光によって劣化し難
いものが好適である。この下地膜の厚さも適宜選定され
るが、通常１０Å〜５μｍ、特に２０Å〜１μｍであ
り、これら下地膜は、スパッタリング法、真空蒸着法等
の気相めっき法、その他の適宜手段で形成することがで
きる。
【００１３】一方、上記粘着剤層は、アクリル系、エポ
キシ系等の公知の粘・接着剤、或いはエチレン−酢酸ビ
ニル共重合体に有機過酸化物もしくは光開始剤を添加し
て熱もしくは光架橋型の粘・接着剤にて形成することが
できる。なお、その厚さは、通常１〜５００μｍ、特に
５〜１００μｍである。
キシ系等の公知の粘・接着剤、或いはエチレン−酢酸ビ
ニル共重合体に有機過酸化物もしくは光開始剤を添加し
て熱もしくは光架橋型の粘・接着剤にて形成することが
できる。なお、その厚さは、通常１〜５００μｍ、特に
５〜１００μｍである。
【００１４】また、剥離フィルムとしては、公知のもの
を使用することができる。
を使用することができる。
【００１５】本発明において、光触媒膜としては、光触
媒活性を有するチタン、亜鉛、タングステン、鉄等の金
属酸化物によって形成することができる。その形成法は
特に制限されないが、酸素分子を有するガスを含有する
不活性ガス中で金属ターゲットを用いてリアクティブス
パッタリングを行うことによって形成することが好まし
い。なお、光触媒膜の厚さは、通常０．０５〜５μｍで
あり、好ましくは０．３〜１μｍとすることができる。
媒活性を有するチタン、亜鉛、タングステン、鉄等の金
属酸化物によって形成することができる。その形成法は
特に制限されないが、酸素分子を有するガスを含有する
不活性ガス中で金属ターゲットを用いてリアクティブス
パッタリングを行うことによって形成することが好まし
い。なお、光触媒膜の厚さは、通常０．０５〜５μｍで
あり、好ましくは０．３〜１μｍとすることができる。
【００１６】ここで、スパッタリングは公知の方法にて
行うことができ、通常のマグネトロンスパッタリング法
等にて形成することができるが、特に対向ターゲット式
スパッタリング法を採用することが好ましい。
行うことができ、通常のマグネトロンスパッタリング法
等にて形成することができるが、特に対向ターゲット式
スパッタリング法を採用することが好ましい。
【００１７】この対向ターゲット式スパッタリング装置
としては、公知の装置を用いることができ、例えば図２
に示す装置を使用し得る。即ち、図２において、１は内
部を脱気真空可能な装置本体で、この装置本体１内に一
対の金属ターゲット２，２が互いに所定間隔離間対向し
て配置されたものである。これらターゲット２，２は、
それぞれ支持部３ａ，３ａを有するホールド３，３に保
持され、これらホールド３，３を介して直流電源（スパ
ッタ電源）４の陰極に接続されていると共に、上記ター
ゲット２，２の背後に磁石５，５が互いに異なる磁極が
対向するように配置され、上記ターゲット２，２間のス
パッタ空間６にターゲット２，２に対して垂直方向の磁
界が発生するようになっている。そして、上記スパッタ
空間６の側方には、スパッタ膜を形成すべき基板７が配
置されたものである。なお、８は基板７を所定方向に移
動可能に支持する支持部材である。
としては、公知の装置を用いることができ、例えば図２
に示す装置を使用し得る。即ち、図２において、１は内
部を脱気真空可能な装置本体で、この装置本体１内に一
対の金属ターゲット２，２が互いに所定間隔離間対向し
て配置されたものである。これらターゲット２，２は、
それぞれ支持部３ａ，３ａを有するホールド３，３に保
持され、これらホールド３，３を介して直流電源（スパ
ッタ電源）４の陰極に接続されていると共に、上記ター
ゲット２，２の背後に磁石５，５が互いに異なる磁極が
対向するように配置され、上記ターゲット２，２間のス
パッタ空間６にターゲット２，２に対して垂直方向の磁
界が発生するようになっている。そして、上記スパッタ
空間６の側方には、スパッタ膜を形成すべき基板７が配
置されたものである。なお、８は基板７を所定方向に移
動可能に支持する支持部材である。
【００１８】上記のような装置を用いてスパッタリング
を行い、基板上に光触媒膜を形成するに際し、使用する
金属ターゲットとしては、光触媒作用を有する金属酸化
物ＭｅＯx（ＭｅはＡｌ，Ｃｏ，Ｃｕ，Ｆｅ，Ｉｎ，Ｍ
ｇ，Ｓｎ，Ｔｉ，Ｚｎ等の金属を示し、ｘは金属の種類
によって異なるが、０〜１０、好ましくは０〜５の範囲
の正数であり、ｘは必ずしも金属の価数に相当していな
くてもよい）を得るための金属酸化物に対応した金属が
選定されるが、特には酸化チタン膜を形成するチタンが
好ましい。
を行い、基板上に光触媒膜を形成するに際し、使用する
金属ターゲットとしては、光触媒作用を有する金属酸化
物ＭｅＯx（ＭｅはＡｌ，Ｃｏ，Ｃｕ，Ｆｅ，Ｉｎ，Ｍ
ｇ，Ｓｎ，Ｔｉ，Ｚｎ等の金属を示し、ｘは金属の種類
によって異なるが、０〜１０、好ましくは０〜５の範囲
の正数であり、ｘは必ずしも金属の価数に相当していな
くてもよい）を得るための金属酸化物に対応した金属が
選定されるが、特には酸化チタン膜を形成するチタンが
好ましい。
【００１９】また、上記スパッタリングを行う上で真空
度は０．１〜１００ｍＴｏｒｒ、特に１〜３０ｍＴｏｒ
ｒとした後、不活性ガスと酸素分子を有するガスが導入
される。ここで、上記スパッタ空間に供給される酸素分
子を有するガス（酸化性ガス）としては、公知のガスを
使用することができ、具体的には、酸素、オゾン、空
気、水等が挙げられ、通常は酸素が用いられる。また、
不活性ガスとしては、ヘリウム、アルゴンなどを用いる
ことができ、特に工業的に安価なアルゴンが好適に使用
し得る。
度は０．１〜１００ｍＴｏｒｒ、特に１〜３０ｍＴｏｒ
ｒとした後、不活性ガスと酸素分子を有するガスが導入
される。ここで、上記スパッタ空間に供給される酸素分
子を有するガス（酸化性ガス）としては、公知のガスを
使用することができ、具体的には、酸素、オゾン、空
気、水等が挙げられ、通常は酸素が用いられる。また、
不活性ガスとしては、ヘリウム、アルゴンなどを用いる
ことができ、特に工業的に安価なアルゴンが好適に使用
し得る。
【００２０】この場合、不活性ガスと酸素分子を有する
ガスとは、不活性ガスと酸素ガスとの比率が２：１〜
１：３、特に１．５：１〜１：２（容量比）となるよう
に導入することが好ましい。これにより酸化チタンを成
膜する場合は高活性のアナターゼ型リッチの酸化チタン
結晶を形成し得る。上記比率を逸脱すると、ルチル型結
晶が多くなるおそれがある。なお、上記ガスの流量は、
チャンバーの大きさ、カソードの数などにより適宜選定
されるが、不活性ガスと酸素分子を有するガスとの合計
量で、通常２〜１０００ｃｃ／ｍｉｎ程度である。
ガスとは、不活性ガスと酸素ガスとの比率が２：１〜
１：３、特に１．５：１〜１：２（容量比）となるよう
に導入することが好ましい。これにより酸化チタンを成
膜する場合は高活性のアナターゼ型リッチの酸化チタン
結晶を形成し得る。上記比率を逸脱すると、ルチル型結
晶が多くなるおそれがある。なお、上記ガスの流量は、
チャンバーの大きさ、カソードの数などにより適宜選定
されるが、不活性ガスと酸素分子を有するガスとの合計
量で、通常２〜１０００ｃｃ／ｍｉｎ程度である。
【００２１】投入電力も適宜選定されるが、高い投入電
力とすることが好ましく、例えば２枚の直径１００ｍｍ
のターゲットを用いた場合、４００ワット以上、特に８
００ワット以上とすることが推奨され、この場合、ター
ゲット面積当りのエネルギー量を１．３Ｗ／ｃｍ2以
上、好ましくは２．６Ｗ／ｃｍ2以上、特に５．１Ｗ／
ｃｍ2以上とすることが推奨され、これにより得られる
光触媒膜の膜質を粗くすると共に、表面積を大きくでき
るので、光触媒膜の性能を更に向上させることができ
る。この場合、供給電力が４００ワット未満、ターゲッ
ト面積当りのエネルギー量が１．３Ｗ／ｃｍ2未満であ
ると、活性の高い光触媒膜を得ることができなくなる場
合がある。
力とすることが好ましく、例えば２枚の直径１００ｍｍ
のターゲットを用いた場合、４００ワット以上、特に８
００ワット以上とすることが推奨され、この場合、ター
ゲット面積当りのエネルギー量を１．３Ｗ／ｃｍ2以
上、好ましくは２．６Ｗ／ｃｍ2以上、特に５．１Ｗ／
ｃｍ2以上とすることが推奨され、これにより得られる
光触媒膜の膜質を粗くすると共に、表面積を大きくでき
るので、光触媒膜の性能を更に向上させることができ
る。この場合、供給電力が４００ワット未満、ターゲッ
ト面積当りのエネルギー量が１．３Ｗ／ｃｍ2未満であ
ると、活性の高い光触媒膜を得ることができなくなる場
合がある。
【００２２】なお、電源は、図示の例では直流電流であ
るが、これに限られず、例えば高周波電源等を使用する
ことができ、また装置の構成も図示の例に限定されるも
のではない。
るが、これに限られず、例えば高周波電源等を使用する
ことができ、また装置の構成も図示の例に限定されるも
のではない。
【００２３】更に、スパッタリングのその他の条件は公
知の条件でよく、例えばスパッタリング時の圧力は１ｍ
Ｔｏｒｒ〜１Ｔｏｒｒとし得る。
知の条件でよく、例えばスパッタリング時の圧力は１ｍ
Ｔｏｒｒ〜１Ｔｏｒｒとし得る。
【００２４】この場合、上記金属酸化物膜表面に、公知
のイオン注入方法、装置にて白金、ニッケル、クロム、
コバルト、錫、ニオブ、タンタル等の金属イオンを１×
１０15〜１×１０18個／ｃｍ2程度イオン注入すること
ができ、これによって光触媒膜をより高活性に形成する
ことができる。
のイオン注入方法、装置にて白金、ニッケル、クロム、
コバルト、錫、ニオブ、タンタル等の金属イオンを１×
１０15〜１×１０18個／ｃｍ2程度イオン注入すること
ができ、これによって光触媒膜をより高活性に形成する
ことができる。
【００２５】また、本発明において、光触媒膜１３は、
図３に示したように、上記のようにして形成される金属
酸化物膜１３ａと白金、ニッケル、クロム、コバルト、
錫、ニオブ、タンタルから選ばれる金属薄膜１３ｂとが
最表面層が金属酸化物膜１３ａとなるように交互に積層
すると共に、最表面層から最下層に達する深さの孔又は
溝１３ｃを多数形成したものとすることができ、これに
より光触媒膜１３の比表面積が増大すると共に、上記金
属薄膜による光触媒膜の電荷分離促進作用で光触媒活性
を更に増大させることができる。なお、上記金属酸化物
膜と金属薄膜との合計積層数は２〜数十層とすることが
できる。また、上記孔又は溝は、レーザー等によって形
成し得るが、その形状は図示のＶ字状に限られず、種々
選定し得る。孔又は溝の形成個数も限定されないが、通
常０．００１〜５ｍｍ間隔で形成することができる。
図３に示したように、上記のようにして形成される金属
酸化物膜１３ａと白金、ニッケル、クロム、コバルト、
錫、ニオブ、タンタルから選ばれる金属薄膜１３ｂとが
最表面層が金属酸化物膜１３ａとなるように交互に積層
すると共に、最表面層から最下層に達する深さの孔又は
溝１３ｃを多数形成したものとすることができ、これに
より光触媒膜１３の比表面積が増大すると共に、上記金
属薄膜による光触媒膜の電荷分離促進作用で光触媒活性
を更に増大させることができる。なお、上記金属酸化物
膜と金属薄膜との合計積層数は２〜数十層とすることが
できる。また、上記孔又は溝は、レーザー等によって形
成し得るが、その形状は図示のＶ字状に限られず、種々
選定し得る。孔又は溝の形成個数も限定されないが、通
常０．００１〜５ｍｍ間隔で形成することができる。
【００２６】上記光触媒膜の厚さは適宜選定し得るが、
通常、積層膜一層当り２０〜２００Å、特に２０〜５０
Å、光触媒膜としては０．０５〜１μｍ、特に０．２５
〜０．７μｍとすることができる。
通常、積層膜一層当り２０〜２００Å、特に２０〜５０
Å、光触媒膜としては０．０５〜１μｍ、特に０．２５
〜０．７μｍとすることができる。
【００２７】本発明の光触媒フィルムは、自動車のウイ
ンドウ、建築物の窓ガラス等に貼着して用いられて、そ
の汚染を防止する防汚フィルムとして好適に使用するこ
とができる。
ンドウ、建築物の窓ガラス等に貼着して用いられて、そ
の汚染を防止する防汚フィルムとして好適に使用するこ
とができる。
【００２８】
【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
【００２９】〔実施例１、比較例１〕厚さ５０μｍのＰ
ＥＴフィルムの表面に、まず下地膜（ＳｎＯ2）を成膜
し、その上に酸化チタン膜を成膜した。この場合、下地
膜及び酸化チタン膜は、いずれも図２に示す装置を用い
て表１に示す条件で対向ターゲット式スパッタリング法
により行った。その後裏面に透明のアクリル系粘着剤層
を形成した。
ＥＴフィルムの表面に、まず下地膜（ＳｎＯ2）を成膜
し、その上に酸化チタン膜を成膜した。この場合、下地
膜及び酸化チタン膜は、いずれも図２に示す装置を用い
て表１に示す条件で対向ターゲット式スパッタリング法
により行った。その後裏面に透明のアクリル系粘着剤層
を形成した。
【００３０】
【表１】
【００３１】次に、この光触媒フィルムを自動車の窓ガ
ラスの外側に貼着し、屋外で１ヶ月間使用した後の窓ガ
ラス外側表面の汚れを目視により評価し、光触媒フィル
ムが貼着されていない窓ガラスの汚れと比較した。結果
を表２に示す。
ラスの外側に貼着し、屋外で１ヶ月間使用した後の窓ガ
ラス外側表面の汚れを目視により評価し、光触媒フィル
ムが貼着されていない窓ガラスの汚れと比較した。結果
を表２に示す。
【００３２】
【表２】
【００３３】〔実施例２、比較例２〕実施例１と同様に
して光触媒フィルムを作製した。この場合、下地膜（Ｓ
ｎＯ2）及び酸化チタン膜の成膜条件は下記表３の通り
とした。
して光触媒フィルムを作製した。この場合、下地膜（Ｓ
ｎＯ2）及び酸化チタン膜の成膜条件は下記表３の通り
とした。
【００３４】
【表３】
【００３５】次に、この光触媒フィルムを建物の窓ガラ
スの室内側に貼着し、３ヶ月後の室内側の汚れを目視に
より評価し、光触媒フィルムが貼着されていない窓ガラ
スの汚れと比較した。結果を表４に示す。
スの室内側に貼着し、３ヶ月後の室内側の汚れを目視に
より評価し、光触媒フィルムが貼着されていない窓ガラ
スの汚れと比較した。結果を表４に示す。
【００３６】
【表４】
【００３７】
【発明の効果】本発明の光触媒フィルムは、防汚フィル
ムとして使用されて、自動車のウインドウ、建築物の窓
ガラスなどの汚れを可及的に防止することができる。
ムとして使用されて、自動車のウインドウ、建築物の窓
ガラスなどの汚れを可及的に防止することができる。
【図１】本発明の光触媒フィルムの一例を示す断面図で
ある。
ある。
【図２】対向ターゲット式スパッタリング装置の一例を
示す概略図である。
示す概略図である。
【図３】光触媒膜の一例を示す概略断面図である。
１ 装置本体 ２ 金属ターゲット ３ ホールド ３ａ 支持部 ４ 直流電源 ５ 磁石 ６ スパッタ空間 ７ 基板 ８ 支持部材 １１ 基材 １２ 下地膜 １３ 光触媒膜 １３ａ 金属酸化物膜 １３ｂ 金属薄膜 １３ｃ 孔又は溝 １４ 粘着剤層
Claims (6)
- 【請求項１】 基材の一面に直接又は下地膜を介して光
触媒膜を形成すると共に、基材の他面に粘着剤層を形成
してなることを特徴とする光触媒フィルム。 - 【請求項２】 光触媒膜が、互いに対向するターゲット
間のスパッタ空間の側方に基材を配置し、該基材上にス
パッタ膜を形成する対向ターゲット式スパッタリング法
にて酸素分子を有するガスを含有する不活性ガス中でリ
アクティブスパッタリングを行うことによって得られた
金属酸化物膜からなるものである請求項１記載の光触媒
フィルム。 - 【請求項３】 光触媒膜が酸化チタン膜である請求項１
又は２記載の光触媒フィルム。 - 【請求項４】 基材が透明プラスチックフィルムである
請求項１，２又は３記載の光触媒フィルム。 - 【請求項５】 請求項１乃至４のいずれか１項記載の光
触媒フィルムが貼付された自動車用ウインドウ。 - 【請求項６】 請求項１乃至４のいずれか１項記載の光
触媒フィルムが貼付された建築物用窓ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9222007A JPH1148395A (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 光触媒フィルム並びに自動車用ウインドウ及び建築物用窓ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9222007A JPH1148395A (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 光触媒フィルム並びに自動車用ウインドウ及び建築物用窓ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1148395A true JPH1148395A (ja) | 1999-02-23 |
Family
ID=16775651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9222007A Pending JPH1148395A (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 光触媒フィルム並びに自動車用ウインドウ及び建築物用窓ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1148395A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005220337A (ja) * | 2004-01-09 | 2005-08-18 | Nichiban Co Ltd | 粘着シート、表面光沢装飾シート、及びインクジェット印刷用メディア |
| WO2008086436A1 (en) * | 2007-01-09 | 2008-07-17 | Artscape, Inc. | Specification insulating sheet |
| US8007896B2 (en) | 2004-05-13 | 2011-08-30 | Artscape, Inc. | Textured window film |
| US9278577B2 (en) | 2013-11-15 | 2016-03-08 | Artscape, Inc. | Decorative coverings |
| US10334840B2 (en) | 2004-05-13 | 2019-07-02 | Artscape Inc. | Bird anti-collision window film |
-
1997
- 1997-08-04 JP JP9222007A patent/JPH1148395A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005220337A (ja) * | 2004-01-09 | 2005-08-18 | Nichiban Co Ltd | 粘着シート、表面光沢装飾シート、及びインクジェット印刷用メディア |
| US8007896B2 (en) | 2004-05-13 | 2011-08-30 | Artscape, Inc. | Textured window film |
| US10334840B2 (en) | 2004-05-13 | 2019-07-02 | Artscape Inc. | Bird anti-collision window film |
| WO2008086436A1 (en) * | 2007-01-09 | 2008-07-17 | Artscape, Inc. | Specification insulating sheet |
| US9278577B2 (en) | 2013-11-15 | 2016-03-08 | Artscape, Inc. | Decorative coverings |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040702 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040811 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041007 |
|
| A02 | Decision of refusal |
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