JPH1149788A - （メタ）アクリロイルウレタン結合を有するホスホニウム化合物及びその製造方法 - Google Patents
（メタ）アクリロイルウレタン結合を有するホスホニウム化合物及びその製造方法Info
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- JPH1149788A JPH1149788A JP21355497A JP21355497A JPH1149788A JP H1149788 A JPH1149788 A JP H1149788A JP 21355497 A JP21355497 A JP 21355497A JP 21355497 A JP21355497 A JP 21355497A JP H1149788 A JPH1149788 A JP H1149788A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 不飽和結合を有するカチオン性ポリマーであ
る（メタ）アクリロイルウレタン結合を有するホスホニ
ウム化合物およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 ヒドロキシオルガノホスホニウム塩と
（メタ）アクリロイルイソシアネート化合物とを反応さ
せて、一般式（１）： 【化１】 で示される（メタ）アクリロイルウレタン結合を有する
ホスホニウム化合物を生成する。
る（メタ）アクリロイルウレタン結合を有するホスホニ
ウム化合物およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 ヒドロキシオルガノホスホニウム塩と
（メタ）アクリロイルイソシアネート化合物とを反応さ
せて、一般式（１）： 【化１】 で示される（メタ）アクリロイルウレタン結合を有する
ホスホニウム化合物を生成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明の（メタ）アクリロイ
ルウレタン結合を有するホスホニウム化合物は、新規不
飽和結合を有するカチオン性ポリマーであり、単独重
合、もしくは共重合させることにより、帯電防止剤、抗
菌剤、難燃剤、導電加工剤、染色改良剤、ポリマー改質
剤、凝集剤等に有用である。
ルウレタン結合を有するホスホニウム化合物は、新規不
飽和結合を有するカチオン性ポリマーであり、単独重
合、もしくは共重合させることにより、帯電防止剤、抗
菌剤、難燃剤、導電加工剤、染色改良剤、ポリマー改質
剤、凝集剤等に有用である。
【０００２】
【従来の技術】従来より不飽和結合を有するホスホニウ
ム化合物においては、アクリル酸エステル結合を有する
化合物が知られている。かかる化合物の製法は、下記に
例示する反応式（Ａ）に示すような、メタクリル酸クロ
ライドのような不飽和カルボン酸ハロゲン化物と２−ク
ロロエタノールのようなハロゲンを有する脂肪族アルコ
ールを、アミンの存在下で反応させ、蒸留精製後、トリ
オルガノホスフィンと反応させて製造する方法（特開平
７−２５７１４号公報）が知られている。
ム化合物においては、アクリル酸エステル結合を有する
化合物が知られている。かかる化合物の製法は、下記に
例示する反応式（Ａ）に示すような、メタクリル酸クロ
ライドのような不飽和カルボン酸ハロゲン化物と２−ク
ロロエタノールのようなハロゲンを有する脂肪族アルコ
ールを、アミンの存在下で反応させ、蒸留精製後、トリ
オルガノホスフィンと反応させて製造する方法（特開平
７−２５７１４号公報）が知られている。
【０００３】
【化５】
【０００４】この製造方法の問題点は、一段目の反応を
ピリジン、トリエチル−アミンのような塩基性触媒を用
いて反応するため、生成物を蒸留で精製分離する必要が
あるので収率が悪く、操作も非常に煩雑である。しかも
アルキレン鎖が大きくなるにつれて生成物の沸点は上昇
するので、合成できる化合物が制限される。さらに、二
段目の反応で、トリオルガノホスフィンと不飽和結合を
有するハロゲン化物とを反応させて四級ホスホニウム塩
化する反応は、高い反応温度、長い反応時間を要する。
しかも、このような重合し易い官能基をもつ化合物は、
通常、重合禁止剤を添加しても、反応温度を高温に長時
間加熱すると、重合を完全に防止することができない。
そのため、一般に収率が低く、得られた目的物に重合物
や未反応物が混入したりして純度の高いものが得られな
い。
ピリジン、トリエチル−アミンのような塩基性触媒を用
いて反応するため、生成物を蒸留で精製分離する必要が
あるので収率が悪く、操作も非常に煩雑である。しかも
アルキレン鎖が大きくなるにつれて生成物の沸点は上昇
するので、合成できる化合物が制限される。さらに、二
段目の反応で、トリオルガノホスフィンと不飽和結合を
有するハロゲン化物とを反応させて四級ホスホニウム塩
化する反応は、高い反応温度、長い反応時間を要する。
しかも、このような重合し易い官能基をもつ化合物は、
通常、重合禁止剤を添加しても、反応温度を高温に長時
間加熱すると、重合を完全に防止することができない。
そのため、一般に収率が低く、得られた目的物に重合物
や未反応物が混入したりして純度の高いものが得られな
い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、従来に
無い新規な不飽和結合を有するホスホニウム化合物モノ
マーについて鋭意検討を重ねたところ、（メタ）アクリ
ロイルウレタン結合を有する新規ホスホニウム化合物を
知見し、次いでその製造方法について鋭意研究を重ねた
結果、簡単な操作により純度が高く、しかも高収率に、
（メタ）アクリロイルウレタン結合を有するホスホニウ
ム化合物を製造する方法を見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は、ヒドロキシオルガノホスホニウム塩
と、イソシアネート基を有するビニル化合物を反応させ
ることにより、高収率、高純度に（メタ）アクリロイル
ウレタン結合を有するホスホニウム化合物及びその製造
方法を提供することを目的とする。
無い新規な不飽和結合を有するホスホニウム化合物モノ
マーについて鋭意検討を重ねたところ、（メタ）アクリ
ロイルウレタン結合を有する新規ホスホニウム化合物を
知見し、次いでその製造方法について鋭意研究を重ねた
結果、簡単な操作により純度が高く、しかも高収率に、
（メタ）アクリロイルウレタン結合を有するホスホニウ
ム化合物を製造する方法を見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は、ヒドロキシオルガノホスホニウム塩
と、イソシアネート基を有するビニル化合物を反応させ
ることにより、高収率、高純度に（メタ）アクリロイル
ウレタン結合を有するホスホニウム化合物及びその製造
方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、下記
一般式（１）：
一般式（１）：
【０００７】
【化６】
【０００８】（式中、Ｒ1はＨまたはＣＨ3、ｘは１〜
２、ｙは０または１、Ａは直鎖または分岐のアルキレ
ン、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、炭素数１〜１８の直鎖また
は分岐状のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アルカリール基又はアラルキル基のいずれかを示
し、それぞれが同じ基でも又は異なる基であってもよ
い）で示される（メタ）アクリロイルウレタン結合を有
するホスホニウム化合物を提供するものである。また、
その製造方法は、下記一般式（２）：
２、ｙは０または１、Ａは直鎖または分岐のアルキレ
ン、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、炭素数１〜１８の直鎖また
は分岐状のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アルカリール基又はアラルキル基のいずれかを示
し、それぞれが同じ基でも又は異なる基であってもよ
い）で示される（メタ）アクリロイルウレタン結合を有
するホスホニウム化合物を提供するものである。また、
その製造方法は、下記一般式（２）：
【０００９】
【化７】
【００１０】（式中、Ａは直鎖または分岐のアルキレ
ン、ＸはＣｌ、Ｂｒ又はＩ、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、炭
素数１〜１８の直鎖または分岐状のアルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基、アルカリール基又はアラルキ
ル基のいずれかを示し、それぞれが同じ基でも又は異な
る基であってもよい）で表されるヒドロキシオルガノホ
スホニウム塩と、下記一般式（３）：
ン、ＸはＣｌ、Ｂｒ又はＩ、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、炭
素数１〜１８の直鎖または分岐状のアルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基、アルカリール基又はアラルキ
ル基のいずれかを示し、それぞれが同じ基でも又は異な
る基であってもよい）で表されるヒドロキシオルガノホ
スホニウム塩と、下記一般式（３）：
【００１１】
【化８】
【００１２】（式中、Ｒ1はＨまたはＣＨ3、ｘは１〜
２、ｙは０または１）で表される（メタ）アルクリロイ
ルイソシアネート化合物とを反応させることを特徴とす
る一般式（１）の（メタ）アクリロイルウレタン結合を
有するホスホニウム化合物の製造方法を提供するもので
ある。
２、ｙは０または１）で表される（メタ）アルクリロイ
ルイソシアネート化合物とを反応させることを特徴とす
る一般式（１）の（メタ）アクリロイルウレタン結合を
有するホスホニウム化合物の製造方法を提供するもので
ある。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。 （出発物質） （ヒドロキシオルガノホスホニウム塩）一般式（２）で
表されるヒドロキシオルガノホスホニウム塩において、
式中のＡは、例えばメチレン基、エチレン基、トリメチ
レン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、エチル
−エチレン基等の直鎖または分岐のアルキレン基である
が、好ましくは炭素数１〜４の直鎖状のアルキレン基で
ある。また、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、同一の基であって
も、異なった基であってもよく、例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、１−メチルペン
チル基、２−メチルペンチル基、５−メチルヘキシル
基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチ
ル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基等が挙げ
られる。Ｘは、Ｃｌ、ＢｒおよびＩのハロゲンである。
特に好ましくは、ＣｌまたはＢｒである。上記の一般式
（２）の反応原料は、工業的に入手できるものであれ
ば、特に制限されるものではないが、これを製造するた
めの次の２つの公知方法を代表的に例示しておく。 （Ｉ）Ａがメチレン基の場合、下記一般式（４）：
表されるヒドロキシオルガノホスホニウム塩において、
式中のＡは、例えばメチレン基、エチレン基、トリメチ
レン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、エチル
−エチレン基等の直鎖または分岐のアルキレン基である
が、好ましくは炭素数１〜４の直鎖状のアルキレン基で
ある。また、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、同一の基であって
も、異なった基であってもよく、例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、１−メチルペン
チル基、２−メチルペンチル基、５−メチルヘキシル
基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチ
ル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基等が挙げ
られる。Ｘは、Ｃｌ、ＢｒおよびＩのハロゲンである。
特に好ましくは、ＣｌまたはＢｒである。上記の一般式
（２）の反応原料は、工業的に入手できるものであれ
ば、特に制限されるものではないが、これを製造するた
めの次の２つの公知方法を代表的に例示しておく。 （Ｉ）Ａがメチレン基の場合、下記一般式（４）：
【００１４】
【化９】
【００１５】（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前記と同義を
示す。）で表されるトリオルガノホスフィンをハロゲン
化水素の存在下でパラホルムアルデヒドと反応させる
と、次の反応式（Ｂ）により一般式（２）の化合物であ
るヒドロキシメチルホスホニウム化合物を得ることがで
きる。 [Hellmann, H., J. Bader, H. Birkner, and O. Schuma
cher, Ann., 659, 49 (1962)]
示す。）で表されるトリオルガノホスフィンをハロゲン
化水素の存在下でパラホルムアルデヒドと反応させる
と、次の反応式（Ｂ）により一般式（２）の化合物であ
るヒドロキシメチルホスホニウム化合物を得ることがで
きる。 [Hellmann, H., J. Bader, H. Birkner, and O. Schuma
cher, Ann., 659, 49 (1962)]
【００１６】
【化１０】
【００１７】（II）Ａがエチレン基やトリエチレン基、
テトラメチレン基等の場合、上記一般式（４）で表され
るトリオルガノホスフィンと、下記一般式（５）：
テトラメチレン基等の場合、上記一般式（４）で表され
るトリオルガノホスフィンと、下記一般式（５）：
【００１８】
【化１１】ＨＯ−Ａ−Ｘ （５）
【００１９】（式中、ＡおよびＸは前記と同義を示
す。）で表されるハロゲン化アルキルアルコールとを、
次の反応式（Ｃ）により原料化合物（２）のヒドロキシ
オルガノホスホニウム化合物を得ることができる。 [Petrov, K., A. Gavriliva, V. Nam, and V. Chuchkan
ova, Zh. Obsheh. Khim., 32, 3711 (1962)]
す。）で表されるハロゲン化アルキルアルコールとを、
次の反応式（Ｃ）により原料化合物（２）のヒドロキシ
オルガノホスホニウム化合物を得ることができる。 [Petrov, K., A. Gavriliva, V. Nam, and V. Chuchkan
ova, Zh. Obsheh. Khim., 32, 3711 (1962)]
【００２０】
【化１２】
【００２１】（アシルイソシアネート化合物）本発明の
原料である一般式（３）の化合物は、（メタ）アクリロ
イルイソシアネート、（メタ）アクリロイルオキシエチ
ルイソシアネート等である。 （反応条件）本発明の反応式は以下の反応式（Ｄ）：
原料である一般式（３）の化合物は、（メタ）アクリロ
イルイソシアネート、（メタ）アクリロイルオキシエチ
ルイソシアネート等である。 （反応条件）本発明の反応式は以下の反応式（Ｄ）：
【００２２】
【化１３】
【００２３】反応温度は、通常０〜１００℃、好ましく
は０〜５０℃であり、反応時間は、通常０.５〜２４時
間、好ましくは１〜３時間である。また必要に応じて熟
成反応を行えばよい。一般式（２）のヒドロキシオルガ
ノホスホニウム塩と一般式（３）の（メタ）アクリロイ
ルイソシアネート化合物との反応時のモル比は、１：１
〜１：２、好ましくは１：１〜１：１.２モル比が適当
である。また、このとき必要に応じて重合禁止剤および
反応溶媒を添加して反応を行う。重合禁止剤の種類は、
例えばハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエー
テル、フェノチアジン、２、６−ジターシャリブチルパ
ラクレゾール、チオ尿素、尿素、Ｎ−フェニル−Ｎ’−
イソプロピルパラフェニレンジアミン等を挙げることが
できるが、これに特に限定されるものではない。
は０〜５０℃であり、反応時間は、通常０.５〜２４時
間、好ましくは１〜３時間である。また必要に応じて熟
成反応を行えばよい。一般式（２）のヒドロキシオルガ
ノホスホニウム塩と一般式（３）の（メタ）アクリロイ
ルイソシアネート化合物との反応時のモル比は、１：１
〜１：２、好ましくは１：１〜１：１.２モル比が適当
である。また、このとき必要に応じて重合禁止剤および
反応溶媒を添加して反応を行う。重合禁止剤の種類は、
例えばハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエー
テル、フェノチアジン、２、６−ジターシャリブチルパ
ラクレゾール、チオ尿素、尿素、Ｎ−フェニル−Ｎ’−
イソプロピルパラフェニレンジアミン等を挙げることが
できるが、これに特に限定されるものではない。
【００２４】また、重合禁止剤の添加量は、得られる目
的物に対して１００〜１０,０００ｐｐｍ、好ましくは
５００〜５,０００ｐｐｍ、また溶媒量は、通常ホスホ
ニウム化合物に対して重量で２〜１０倍、好ましくは２
〜５倍程度であるが、これらは特に限定されるものでは
ない。また、溶媒は、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル、ブチロニトリル等のニトリル化合物、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプ
タン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、アセトン、
メチルエチル−ケトン、ＭＩＢＫ等のケトン類、ＤＭＳ
Ｏ、スルホラン等が挙げられるが、特に限定されるもの
ではない。溶媒や原料中の微量の水分を除去するため
に、共沸脱水を行うことが望ましい。共沸脱水後の反応
系内の水分量は、１０〜１,０００ｐｐｍ、好ましくは
１０〜１００ｐｐｍである。
的物に対して１００〜１０,０００ｐｐｍ、好ましくは
５００〜５,０００ｐｐｍ、また溶媒量は、通常ホスホ
ニウム化合物に対して重量で２〜１０倍、好ましくは２
〜５倍程度であるが、これらは特に限定されるものでは
ない。また、溶媒は、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル、ブチロニトリル等のニトリル化合物、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプ
タン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、アセトン、
メチルエチル−ケトン、ＭＩＢＫ等のケトン類、ＤＭＳ
Ｏ、スルホラン等が挙げられるが、特に限定されるもの
ではない。溶媒や原料中の微量の水分を除去するため
に、共沸脱水を行うことが望ましい。共沸脱水後の反応
系内の水分量は、１０〜１,０００ｐｐｍ、好ましくは
１０〜１００ｐｐｍである。
【００２５】（生成物：（メタ）アクリロイルウレタン
結合を有するホスホニウム化合物）上記の製造方法で得
られる、一般式（１）で表される（メタ）アクリロイル
ウレタン結合を有するホスホニウム化合物は、例えば、
トリエチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオキシ
メチル）ホスホニウムクロライド、トリ−ｎ−ブチル−
（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオキシメチル）ホス
ホニウム クロライド、トリ−ｎ−オクチル（Ｎ−メタ
クリロイルカルバモイルオキシメチル）ホスホニウム
クロライド、トリ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイル
カルバモイルオキシメチル）ホスホニウム ブロマイ
ド、トリ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモ
イルオキシエチル）ホスホニウムアイオダイド、トリ−
ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオキシ
エチル）ホスホニウム クロライド、トリ−ｎ−ブチル
−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオキシプロピル）
ホスホニウム クロライド、トリ−ｎ−ブチル−（Ｎ−
メタクリロイルカルバモイルオキシブチル）ホスホニウ
ム クロライド、トリ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロ
イルオキシエチルカルバモイルオキシエチル）ホスホニ
ウム クロライド等が挙げられる。本発明の化合物は、
単独重合、もしくは共重合することにより、各種の産業
分野、例えば製紙おけるスライム防止またはコントロー
ル剤、水、油脂、エマルジョン、紙、木材、ゴム、プラ
スチック、繊維、フィルム、塗料等の防腐、抗菌性、帯
電防止性、難燃性、防汚性を付与することができる。
結合を有するホスホニウム化合物）上記の製造方法で得
られる、一般式（１）で表される（メタ）アクリロイル
ウレタン結合を有するホスホニウム化合物は、例えば、
トリエチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオキシ
メチル）ホスホニウムクロライド、トリ−ｎ−ブチル−
（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオキシメチル）ホス
ホニウム クロライド、トリ−ｎ−オクチル（Ｎ−メタ
クリロイルカルバモイルオキシメチル）ホスホニウム
クロライド、トリ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイル
カルバモイルオキシメチル）ホスホニウム ブロマイ
ド、トリ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモ
イルオキシエチル）ホスホニウムアイオダイド、トリ−
ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオキシ
エチル）ホスホニウム クロライド、トリ−ｎ−ブチル
−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオキシプロピル）
ホスホニウム クロライド、トリ−ｎ−ブチル−（Ｎ−
メタクリロイルカルバモイルオキシブチル）ホスホニウ
ム クロライド、トリ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロ
イルオキシエチルカルバモイルオキシエチル）ホスホニ
ウム クロライド等が挙げられる。本発明の化合物は、
単独重合、もしくは共重合することにより、各種の産業
分野、例えば製紙おけるスライム防止またはコントロー
ル剤、水、油脂、エマルジョン、紙、木材、ゴム、プラ
スチック、繊維、フィルム、塗料等の防腐、抗菌性、帯
電防止性、難燃性、防汚性を付与することができる。
【００２６】
【作用】本発明は、一般式（１）で示される新規化合物
である。また、その製造方法は、一般式（２）と一般式
（３）でそれぞれ表される原料化合物を反応させること
により、容易に達成することができる。本発明では、下
記反応式（Ｅ）に示されるようにアシルイソシアネート
化合物とヒドロキシオルガノホスホニウム塩との反応
で、ビニル基を有するホスホニウム化合物を、容易な操
作で非常に高純度に収率良く得ることができる。イソシ
アネート基は、アルコールやアミンのような活性水素を
持つ化合物との反応性が非常に高いので、通常室温で混
合撹拌するだけで反応はほぼ１００％完了する。しか
も、反応においてハロゲン化水素のような副生物が生成
しないので、純度良く目的物を得ることができる。ま
た、近年アシルイソシアネート化合物も工業的に、比較
的安価に入手することができるようになったので、工業
的に実施することも十分に可能となった。
である。また、その製造方法は、一般式（２）と一般式
（３）でそれぞれ表される原料化合物を反応させること
により、容易に達成することができる。本発明では、下
記反応式（Ｅ）に示されるようにアシルイソシアネート
化合物とヒドロキシオルガノホスホニウム塩との反応
で、ビニル基を有するホスホニウム化合物を、容易な操
作で非常に高純度に収率良く得ることができる。イソシ
アネート基は、アルコールやアミンのような活性水素を
持つ化合物との反応性が非常に高いので、通常室温で混
合撹拌するだけで反応はほぼ１００％完了する。しか
も、反応においてハロゲン化水素のような副生物が生成
しないので、純度良く目的物を得ることができる。ま
た、近年アシルイソシアネート化合物も工業的に、比較
的安価に入手することができるようになったので、工業
的に実施することも十分に可能となった。
【００２７】
【化１４】
【００２８】
【実施例】以下、本発明を実施例によって更に説明する
が、これらに限定されるものではない。 （実施例 １） トリ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイル
オキシエチル）ホスホニウム クロライドの製造 撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた５
００ｍｌの四つ口フラスコを、十分に窒素で置換し、ト
リ−ｎ−ブチルホスフィン１５０ｇ（０.７４１モル）
を仕込んだ。８０℃にて２−クロロエタノール６２.７
ｇ（０.７７９モル）を３０分かけて滴下した。滴下と
ともに、白濁した。さらに、１２０℃で２時間熟成し
た。反応液は、非常に粘性が強い無色透明液体であっ
た。二硫化炭素により未反応のトリアルキルホスフィン
をチェックしたが検出されなかった。エバポレーターで
濃縮し、さらに真空ポンプで乾燥することにより、無色
透明粘性液体２０６.４ｇを得た。滴定純度は、１００.
０％で、収率は９８.５％であった。分析結果により、
生成物はトリ−ｎ−ブチル−（２−ヒドロキシエチル）
ホスホニウム クロライドであった。
が、これらに限定されるものではない。 （実施例 １） トリ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイル
オキシエチル）ホスホニウム クロライドの製造 撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた５
００ｍｌの四つ口フラスコを、十分に窒素で置換し、ト
リ−ｎ−ブチルホスフィン１５０ｇ（０.７４１モル）
を仕込んだ。８０℃にて２−クロロエタノール６２.７
ｇ（０.７７９モル）を３０分かけて滴下した。滴下と
ともに、白濁した。さらに、１２０℃で２時間熟成し
た。反応液は、非常に粘性が強い無色透明液体であっ
た。二硫化炭素により未反応のトリアルキルホスフィン
をチェックしたが検出されなかった。エバポレーターで
濃縮し、さらに真空ポンプで乾燥することにより、無色
透明粘性液体２０６.４ｇを得た。滴定純度は、１００.
０％で、収率は９８.５％であった。分析結果により、
生成物はトリ−ｎ−ブチル−（２−ヒドロキシエチル）
ホスホニウム クロライドであった。
【００２９】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；２４７ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；３５、３７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）： ０.９７（ｔ、Ｊ＝６.９
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４９〜１.７０（ｍ、１２Ｈ）、２.
３１〜２.５０（ｍ、６Ｈ）、２.５０〜２.７０（ｍ、
２Ｈ）、４.０４（ｄ、ｔ、Ｊ＝２０.９Ｈｚ、Ｊ＝９.
２Ｈｚ、２Ｈ）、５.９１（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２００、２９７５、２
９５０、２７９０、１４６８、１４１８、１３８５、１
３２０、１２３８、１１６０、１０７０、１００２、９
２０、８１０、７２０
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４９〜１.７０（ｍ、１２Ｈ）、２.
３１〜２.５０（ｍ、６Ｈ）、２.５０〜２.７０（ｍ、
２Ｈ）、４.０４（ｄ、ｔ、Ｊ＝２０.９Ｈｚ、Ｊ＝９.
２Ｈｚ、２Ｈ）、５.９１（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２００、２９７５、２
９５０、２７９０、１４６８、１４１８、１３８５、１
３２０、１２３８、１１６０、１０７０、１００２、９
２０、８１０、７２０
【００３０】撹拌機、温度計、および蒸留ラインを備え
た３００ｍｌの四つ口フラスコに、得られたトリ−ｎ−
ブチル−（２−ヒドロキシエチル）ホスホニウム クロ
ライド１４.１ｇ（０.０５モル）をアセトン２００ｍｌ
に溶解して仕込んだ。常圧にて撹拌しながら加熱して、
アセトンを約１００ｍｌ留出させた。冷却後、塩化カル
シウム管を備えたコンデンサーをつけて、重合禁止剤と
してハイドロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇを添
加し、滴下ロートでメタクリロイルイソシアネート６.
２ｇ（０.０５モル、純度９０％）を室温にて１時間か
けて滴下し、さらに４０℃にて３時間撹拌した。熟成
後、４０℃以下の温度で、反応液を濃縮しさらに真空ポ
ンプで乾燥すると、微黄色の粘性液体２０.４ｇが得ら
れた。過塩素酸による非水滴定純度は９５.１％で、収
率は９８.３％であった。分析結果により、生成物はト
リ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオ
キシエチル）ホスホニウム クロライドであった。
た３００ｍｌの四つ口フラスコに、得られたトリ−ｎ−
ブチル−（２−ヒドロキシエチル）ホスホニウム クロ
ライド１４.１ｇ（０.０５モル）をアセトン２００ｍｌ
に溶解して仕込んだ。常圧にて撹拌しながら加熱して、
アセトンを約１００ｍｌ留出させた。冷却後、塩化カル
シウム管を備えたコンデンサーをつけて、重合禁止剤と
してハイドロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇを添
加し、滴下ロートでメタクリロイルイソシアネート６.
２ｇ（０.０５モル、純度９０％）を室温にて１時間か
けて滴下し、さらに４０℃にて３時間撹拌した。熟成
後、４０℃以下の温度で、反応液を濃縮しさらに真空ポ
ンプで乾燥すると、微黄色の粘性液体２０.４ｇが得ら
れた。過塩素酸による非水滴定純度は９５.１％で、収
率は９８.３％であった。分析結果により、生成物はト
リ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオ
キシエチル）ホスホニウム クロライドであった。
【００３１】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；３５８ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；３５、３７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）： ０.９６（ｔ、Ｊ＝７.１
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４８〜１.８１（ｍ、１２Ｈ）、１.
９５（ｓ、３Ｈ）、２.２２〜２.５０（ｍ、６Ｈ）、
２.８９〜３.１８（ｍ、２Ｈ）、４.６０（ｄ、ｔ、Ｊ
＝１５.０Ｈｚ、Ｊ＝９.０Ｈｚ、２Ｈ）、５.９０
（ｓ、１Ｈ）、６.３３（ｓ、１Ｈ）、１０.８２（ｓ、
１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２００、２９４０、１
７７３、１６８０、１６３６、１５１０、１４６０、１
２１２、１０５０、９１８、７４５
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４８〜１.８１（ｍ、１２Ｈ）、１.
９５（ｓ、３Ｈ）、２.２２〜２.５０（ｍ、６Ｈ）、
２.８９〜３.１８（ｍ、２Ｈ）、４.６０（ｄ、ｔ、Ｊ
＝１５.０Ｈｚ、Ｊ＝９.０Ｈｚ、２Ｈ）、５.９０
（ｓ、１Ｈ）、６.３３（ｓ、１Ｈ）、１０.８２（ｓ、
１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２００、２９４０、１
７７３、１６８０、１６３６、１５１０、１４６０、１
２１２、１０５０、９１８、７４５
【００３２】（実施例 ２） トリ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイル
オキシエチル）ホスホニウム ブロマイドの製造 撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた５
００ｍｌの四つ口フラスコを、十分に窒素で置換し、ト
リ−ｎ−ブチルホスフィン１５０ｇ（０.７４１モル）
を仕込んだ。５０℃にて２−ブロモエタノール９７.３
ｇ（０.７７９モル）を３０分かけて滴下した。さら
に、１２０℃で２時間熟成した。反応液を、二硫化炭素
を用いてトリアルキルホスフィンの残留を確認したが、
検出されなかった。エバポレーターで濃縮し、さらに真
空ポンプで乾燥することにより、無色透明粘性液体２３
７.４ｇを得た。滴定純度は、９９.４％で、収率は９
７.３％であった。分析結果により、生成物はトリ−ｎ
−ブチル−（２−ヒドロキシエチル）ホスホニウム ブ
ロマイドであった。
オキシエチル）ホスホニウム ブロマイドの製造 撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた５
００ｍｌの四つ口フラスコを、十分に窒素で置換し、ト
リ−ｎ−ブチルホスフィン１５０ｇ（０.７４１モル）
を仕込んだ。５０℃にて２−ブロモエタノール９７.３
ｇ（０.７７９モル）を３０分かけて滴下した。さら
に、１２０℃で２時間熟成した。反応液を、二硫化炭素
を用いてトリアルキルホスフィンの残留を確認したが、
検出されなかった。エバポレーターで濃縮し、さらに真
空ポンプで乾燥することにより、無色透明粘性液体２３
７.４ｇを得た。滴定純度は、９９.４％で、収率は９
７.３％であった。分析結果により、生成物はトリ−ｎ
−ブチル−（２−ヒドロキシエチル）ホスホニウム ブ
ロマイドであった。
【００３３】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；２４７ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；７９、８１1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）： ０.９６（ｔ、Ｊ＝６.８
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４８〜１.７０（ｍ、１２Ｈ）、２.
３３〜２.５０（ｍ、６Ｈ）、２.５０〜２.７１（ｍ、
２Ｈ）、４.０６（ｄ、ｔ、Ｊ＝２０.９Ｈｚ、Ｊ＝９.
２Ｈｚ、２Ｈ）、５.９１（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２８５、２９５０、２
８９０、１６２２、１４６２、１３８１、１３０６、１
２３０、１０５５、９５５、９０４、８０４、７３０
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４８〜１.７０（ｍ、１２Ｈ）、２.
３３〜２.５０（ｍ、６Ｈ）、２.５０〜２.７１（ｍ、
２Ｈ）、４.０６（ｄ、ｔ、Ｊ＝２０.９Ｈｚ、Ｊ＝９.
２Ｈｚ、２Ｈ）、５.９１（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２８５、２９５０、２
８９０、１６２２、１４６２、１３８１、１３０６、１
２３０、１０５５、９５５、９０４、８０４、７３０
【００３４】撹拌機、温度計、および蒸留ラインを備え
た３００ｍｌの四つ口フラスコに、得られたトリ−ｎ−
ブチル−（２−ヒドロキシエチル）ホスホニウム ブロ
マイド１６.５ｇ（０.０５モル）をアセトン２００ｍｌ
に溶解して仕込んだ。常圧にて撹拌しながら加熱して、
アセトンを約１００ｍｌ留出させた。冷却後、塩化カル
シウム管を備えたコンデンサーをつけて、重合禁止剤と
してハイドロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇを添
加し、滴下ロートでメタクリロイルイソシアネート６.
２ｇ（０.０５モル、純度９０％）を室温にて１時間か
けて滴下し、さらに４０℃にて３時間撹拌した。熟成
後、４０℃以下の温度で、反応液を濃縮しさらに真空ポ
ンプで乾燥すると、微黄色の粘性液体２１.８ｇが得ら
れた。過塩素酸による非水滴定純度は９９.５％で、収
率は９９.０％であった。分析結果により、生成物はト
リ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオ
キシエチル）ホスホニウム ブロマイドであった。
た３００ｍｌの四つ口フラスコに、得られたトリ−ｎ−
ブチル−（２−ヒドロキシエチル）ホスホニウム ブロ
マイド１６.５ｇ（０.０５モル）をアセトン２００ｍｌ
に溶解して仕込んだ。常圧にて撹拌しながら加熱して、
アセトンを約１００ｍｌ留出させた。冷却後、塩化カル
シウム管を備えたコンデンサーをつけて、重合禁止剤と
してハイドロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇを添
加し、滴下ロートでメタクリロイルイソシアネート６.
２ｇ（０.０５モル、純度９０％）を室温にて１時間か
けて滴下し、さらに４０℃にて３時間撹拌した。熟成
後、４０℃以下の温度で、反応液を濃縮しさらに真空ポ
ンプで乾燥すると、微黄色の粘性液体２１.８ｇが得ら
れた。過塩素酸による非水滴定純度は９９.５％で、収
率は９９.０％であった。分析結果により、生成物はト
リ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオ
キシエチル）ホスホニウム ブロマイドであった。
【００３５】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；３５８ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；７９、８１1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）： ０.９８（ｔ、Ｊ＝７.0
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４５〜１.８１（ｍ、１２Ｈ）、１.
９６（ｓ、３Ｈ）、２.２２〜２.５１（ｍ、６Ｈ）、
２.８７〜３.１９（ｍ、２Ｈ）、４.６０（ｄ、ｔ、Ｊ
＝１５.０Ｈｚ、Ｊ＝８.９Ｈｚ、２Ｈ）、５.９２
（ｓ、１Ｈ）、６.３２（ｓ、１Ｈ）、１０.８１（ｓ、
１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２２０、２９４０、１
７７１、１６７９、１６３８、１５０８、１４６１、１
２１１、１０４８、９１７、７４５
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４５〜１.８１（ｍ、１２Ｈ）、１.
９６（ｓ、３Ｈ）、２.２２〜２.５１（ｍ、６Ｈ）、
２.８７〜３.１９（ｍ、２Ｈ）、４.６０（ｄ、ｔ、Ｊ
＝１５.０Ｈｚ、Ｊ＝８.９Ｈｚ、２Ｈ）、５.９２
（ｓ、１Ｈ）、６.３２（ｓ、１Ｈ）、１０.８１（ｓ、
１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２２０、２９４０、１
７７１、１６７９、１６３８、１５０８、１４６１、１
２１１、１０４８、９１７、７４５
【００３６】（実施例 ３） トリ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイル
オキシエチル）ホスホニウム アイオダイドの製造 撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた５
００ｍｌの四つ口フラスコを、十分に窒素で置換し、ト
リ−ｎ−ブチルホスフィン１５０ｇ（０.７４１モル）
を仕込んだ。２−ヨードエタノール１２７.４ｇ（０.７
４１モル）を５０〜５５℃に保ちながら約１時間かけて
滴下した。さらに、８０℃で２時間熟成した。反応液
を、二硫化炭素を用いてトリアルキルホスフィンの残留
を確認したが、検出されなかった。エバポレーターで濃
縮し、さらに真空ポンプで乾燥することにより、融点４
３.６〜４５.２℃のロウ状白色固体２７３.５ｇを得
た。潮解性はほとんどなかった。滴定純度は、１００.
０％で、収率は９８.６％であった。分析結果により、
生成物はトリ−ｎ−ブチル−（２−ヒドロキシエチル）
ホスホニウム アイオダイドであった。
オキシエチル）ホスホニウム アイオダイドの製造 撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた５
００ｍｌの四つ口フラスコを、十分に窒素で置換し、ト
リ−ｎ−ブチルホスフィン１５０ｇ（０.７４１モル）
を仕込んだ。２−ヨードエタノール１２７.４ｇ（０.７
４１モル）を５０〜５５℃に保ちながら約１時間かけて
滴下した。さらに、８０℃で２時間熟成した。反応液
を、二硫化炭素を用いてトリアルキルホスフィンの残留
を確認したが、検出されなかった。エバポレーターで濃
縮し、さらに真空ポンプで乾燥することにより、融点４
３.６〜４５.２℃のロウ状白色固体２７３.５ｇを得
た。潮解性はほとんどなかった。滴定純度は、１００.
０％で、収率は９８.６％であった。分析結果により、
生成物はトリ−ｎ−ブチル−（２−ヒドロキシエチル）
ホスホニウム アイオダイドであった。
【００３７】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；２４７ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；１２７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）： ０.９９（ｔ、Ｊ＝６.６
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４３〜１.７０（ｍ、１２Ｈ）、２.
３１〜２.５０（ｍ、６Ｈ）、２.６２〜２.７９（ｍ、
２Ｈ）、４.０７（ｄ、ｔ、Ｊ＝２０.８Ｈｚ、Ｊ＝９.
１Ｈｚ、２Ｈ）、５.９１（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ-1）：３２９５、２８７０、
１４４０、１３８０、１３００、１２１５、１０５０、
１０００、９００、７８８
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４３〜１.７０（ｍ、１２Ｈ）、２.
３１〜２.５０（ｍ、６Ｈ）、２.６２〜２.７９（ｍ、
２Ｈ）、４.０７（ｄ、ｔ、Ｊ＝２０.８Ｈｚ、Ｊ＝９.
１Ｈｚ、２Ｈ）、５.９１（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ-1）：３２９５、２８７０、
１４４０、１３８０、１３００、１２１５、１０５０、
１０００、９００、７８８
【００３８】撹拌機、温度計、および蒸留ラインを備え
た３００ｍｌの四つ口フラスコに、得られたトリ−ｎ−
ブチル−（２−ヒドロキシエチル）ホスホニウム ブロ
マイド１８.７ｇ（０.０５モル）をアセトン２００ｍｌ
に溶解して仕込んだ。常圧にて撹拌しながら加熱して、
アセトンを約１００ｍｌ留出させた。冷却後、塩化カル
シウム管を備えたコンデンサーをつけて、重合禁止剤と
してハイドロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇを添
加し、滴下ロートでメタクリロイルイソシアネート６.
２ｇ（０.０５モル、純度９０％）を室温にて１時間か
けて滴下し、さらに４０℃にて３時間撹拌した。熟成
後、４０℃以下の温度で、反応液を濃縮しさらに真空ポ
ンプで乾燥すると、微黄色の粘性液体２２.９ｇが得ら
れた。過塩素酸による非水滴定純度は９３.９％で、収
率は９７.１％であった。分析結果により、生成物はト
リ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオ
キシエチル）ホスホニウム アイオダイドであった。
た３００ｍｌの四つ口フラスコに、得られたトリ−ｎ−
ブチル−（２−ヒドロキシエチル）ホスホニウム ブロ
マイド１８.７ｇ（０.０５モル）をアセトン２００ｍｌ
に溶解して仕込んだ。常圧にて撹拌しながら加熱して、
アセトンを約１００ｍｌ留出させた。冷却後、塩化カル
シウム管を備えたコンデンサーをつけて、重合禁止剤と
してハイドロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇを添
加し、滴下ロートでメタクリロイルイソシアネート６.
２ｇ（０.０５モル、純度９０％）を室温にて１時間か
けて滴下し、さらに４０℃にて３時間撹拌した。熟成
後、４０℃以下の温度で、反応液を濃縮しさらに真空ポ
ンプで乾燥すると、微黄色の粘性液体２２.９ｇが得ら
れた。過塩素酸による非水滴定純度は９３.９％で、収
率は９７.１％であった。分析結果により、生成物はト
リ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオ
キシエチル）ホスホニウム アイオダイドであった。
【００３９】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；３５８ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；１２７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）： ０.９８（ｔ、Ｊ＝７.０
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４８〜１.７０（ｍ、１２Ｈ）、１.
９７（ｓ、３Ｈ）、２.４８〜２.５３（ｍ、６Ｈ）、
２.９０〜３.１９（ｍ、２Ｈ）、４.６１（ｄ、ｔ、Ｊ
＝１５.０Ｈｚ、Ｊ＝８.９Ｈｚ、２Ｈ）、５.７７
（ｓ、１Ｈ）、６.１７（ｓ、１Ｈ）、１０.８２（ｓ、
１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３３３０、２９７５、２
９４５、２８９０、１７７３、１７１０、１６３５、１
５０２、１４６０、１３８０、１２１６、１１５３、１
１１５、１０５０、１０００、９２０、８００
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４８〜１.７０（ｍ、１２Ｈ）、１.
９７（ｓ、３Ｈ）、２.４８〜２.５３（ｍ、６Ｈ）、
２.９０〜３.１９（ｍ、２Ｈ）、４.６１（ｄ、ｔ、Ｊ
＝１５.０Ｈｚ、Ｊ＝８.９Ｈｚ、２Ｈ）、５.７７
（ｓ、１Ｈ）、６.１７（ｓ、１Ｈ）、１０.８２（ｓ、
１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３３３０、２９７５、２
９４５、２８９０、１７７３、１７１０、１６３５、１
５０２、１４６０、１３８０、１２１６、１１５３、１
１１５、１０５０、１０００、９２０、８００
【００４０】（実施例 ４） トリ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイル
オキシメチル）ホスホニウム クロライドの製造 撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた１
Ｌの四つ口フラスコを、十分に窒素で置換し、トリ−ｎ
−ブチルホスフィン１５０ｇ（０.７４１モル）、パラ
ホルムアルデヒド２３.４ｇ（０.７７９モル）、純水２
００ｍｌを添加した。室温下、（１＋１）塩酸水溶液１
６２ｇ（０.７７９モル）を３０分かけて徐々に滴下し
たところ、内温は３８℃まで上昇した。さらに、６０℃
で２時間熟成した。反応液を、二硫化炭素を用いてトリ
アルキルホスフィンの残留を確認したが、検出されなか
った。エバポレーターで濃縮し、さらに真空ポンプで乾
燥することにより、白色個体２０１.８ｇを得た。融点
は、強い潮解性のために測定できなかった。過塩素酸に
よる非水滴定から求めた純度は、９８.７％で、収率は
１００％であった。分析結果により、生成物はトリ−ｎ
−ブチル−（ヒドロキシメチル）ホスホニウム クロラ
イドであった。
オキシメチル）ホスホニウム クロライドの製造 撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた１
Ｌの四つ口フラスコを、十分に窒素で置換し、トリ−ｎ
−ブチルホスフィン１５０ｇ（０.７４１モル）、パラ
ホルムアルデヒド２３.４ｇ（０.７７９モル）、純水２
００ｍｌを添加した。室温下、（１＋１）塩酸水溶液１
６２ｇ（０.７７９モル）を３０分かけて徐々に滴下し
たところ、内温は３８℃まで上昇した。さらに、６０℃
で２時間熟成した。反応液を、二硫化炭素を用いてトリ
アルキルホスフィンの残留を確認したが、検出されなか
った。エバポレーターで濃縮し、さらに真空ポンプで乾
燥することにより、白色個体２０１.８ｇを得た。融点
は、強い潮解性のために測定できなかった。過塩素酸に
よる非水滴定から求めた純度は、９８.７％で、収率は
１００％であった。分析結果により、生成物はトリ−ｎ
−ブチル−（ヒドロキシメチル）ホスホニウム クロラ
イドであった。
【００４１】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；２３３ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；３５、３７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）： ０.９８（ｔ、Ｊ＝６.７
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４３〜１.７１（ｍ、１２Ｈ）、２.
３１〜２.５０（ｍ、６Ｈ）、３.８９〜４.１０（ｍ、
２Ｈ）、５.９１（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２９６、２８７１、１
４４０、１３８１、１３００、１２１４、１０５０、１
０００、８０９、７８５
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４３〜１.７１（ｍ、１２Ｈ）、２.
３１〜２.５０（ｍ、６Ｈ）、３.８９〜４.１０（ｍ、
２Ｈ）、５.９１（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２９６、２８７１、１
４４０、１３８１、１３００、１２１４、１０５０、１
０００、８０９、７８５
【００４２】撹拌機、温度計、および蒸留ラインを備え
た３００ｍｌの四つ口フラスコに、得られたトリ−ｎ−
ブチル−（ヒドロキシメチル）ホスホニウム クロライ
ド１３.４ｇ（０.０５モル）をアセトン２００ｍｌに溶
解して仕込んだ。常圧にて撹拌しながら加熱して、アセ
トンを約１００ｍｌ留出させた。冷却後、塩化カルシウ
ム管を備えたコンデンサーをつけて、重合禁止剤として
ハイドロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇを添加
し、滴下ロートでメタクリロイルイソシアネート６.２
ｇ（０.０５モル、純度９０％）を室温にて１時間かけ
て滴下し、さらに４０℃にて３時間撹拌した。熟成後、
４０℃以下の温度で、反応液を濃縮しさらに真空ポンプ
で乾燥すると、微黄色の粘性液体１９.４ｇが得られ
た。過塩素酸による非水滴定純度は９６.２％で、収率
は９８.２％であった。分析結果により、生成物はトリ
−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオキ
シメチル）ホスホニウム クロライドであった。
た３００ｍｌの四つ口フラスコに、得られたトリ−ｎ−
ブチル−（ヒドロキシメチル）ホスホニウム クロライ
ド１３.４ｇ（０.０５モル）をアセトン２００ｍｌに溶
解して仕込んだ。常圧にて撹拌しながら加熱して、アセ
トンを約１００ｍｌ留出させた。冷却後、塩化カルシウ
ム管を備えたコンデンサーをつけて、重合禁止剤として
ハイドロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇを添加
し、滴下ロートでメタクリロイルイソシアネート６.２
ｇ（０.０５モル、純度９０％）を室温にて１時間かけ
て滴下し、さらに４０℃にて３時間撹拌した。熟成後、
４０℃以下の温度で、反応液を濃縮しさらに真空ポンプ
で乾燥すると、微黄色の粘性液体１９.４ｇが得られ
た。過塩素酸による非水滴定純度は９６.２％で、収率
は９８.２％であった。分析結果により、生成物はトリ
−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオキ
シメチル）ホスホニウム クロライドであった。
【００４３】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；３４４ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；３５、３７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）： ０.９７（ｔ、Ｊ＝６.７
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４４〜１.７０（ｍ、１２Ｈ）、１.
９８（ｓ、３Ｈ）、２.４６〜２.５３（ｍ、６Ｈ）、
４.４９〜４.７０（ｍ、２Ｈ）、５.７７（ｓ、１
Ｈ）、６.１８（ｓ、１Ｈ）、１０.８２（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３３２７、２７７６、２
９４５、２８９０、１７７２、１７１０、１６３５、１
５０１、１４６０、１３８０、１２１５、１１５２、１
１１４、１０５０、１０００、９１８、７４５
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４４〜１.７０（ｍ、１２Ｈ）、１.
９８（ｓ、３Ｈ）、２.４６〜２.５３（ｍ、６Ｈ）、
４.４９〜４.７０（ｍ、２Ｈ）、５.７７（ｓ、１
Ｈ）、６.１８（ｓ、１Ｈ）、１０.８２（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３３２７、２７７６、２
９４５、２８９０、１７７２、１７１０、１６３５、１
５０１、１４６０、１３８０、１２１５、１１５２、１
１１４、１０５０、１０００、９１８、７４５
【００４４】（実施例 ５） トリ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイル
オキシブチル）ホスホニウム クロライドの製造 撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた５
００ｍｌの四つ口フラスコを、十分に窒素で置換し、ト
リ−ｎ−ブチルホスフィン１５０ｇ（０.７４１モル）
を仕込んだ。１４０℃で、４−クロロ−１−ブタノール
６２.７ｇ（０.７７９モル）を還流しないように、４時
間かけて徐々に滴下した。さらに、同温度で３時間熟成
させた。二硫化炭素による反応チェックをしたところ、
赤色に着色したことから、未反応のトリアルキルホスフ
ィンが検出された。よって、純水５００ｍｌに溶解さ
せ、トルエン３００ｍｌで抽出洗浄し、未反応のトリ−
ｎ−ブチルホスフィンを除去した。水層をエバポレータ
ーで濃縮し、さらに真空ポンプで乾燥することにより、
無色透明粘性液体２０９.９ｇを得た。滴定純度は、９
９.８％で、収率は９０.９％であった。分析結果によ
り、生成物はトリ−ｎ−ブチル−（４−ヒドロキシブチ
ル）ホスホニウム クロライドであった。
オキシブチル）ホスホニウム クロライドの製造 撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた５
００ｍｌの四つ口フラスコを、十分に窒素で置換し、ト
リ−ｎ−ブチルホスフィン１５０ｇ（０.７４１モル）
を仕込んだ。１４０℃で、４−クロロ−１−ブタノール
６２.７ｇ（０.７７９モル）を還流しないように、４時
間かけて徐々に滴下した。さらに、同温度で３時間熟成
させた。二硫化炭素による反応チェックをしたところ、
赤色に着色したことから、未反応のトリアルキルホスフ
ィンが検出された。よって、純水５００ｍｌに溶解さ
せ、トルエン３００ｍｌで抽出洗浄し、未反応のトリ−
ｎ−ブチルホスフィンを除去した。水層をエバポレータ
ーで濃縮し、さらに真空ポンプで乾燥することにより、
無色透明粘性液体２０９.９ｇを得た。滴定純度は、９
９.８％で、収率は９０.９％であった。分析結果によ
り、生成物はトリ−ｎ−ブチル−（４−ヒドロキシブチ
ル）ホスホニウム クロライドであった。
【００４５】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；２７５ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；３５、３７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）： ０.９７（ｔ、Ｊ＝６.９
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４９〜１.７０（ｍ、１２Ｈ）、１.
７６〜２.０３（ｍ、４Ｈ）、２.３１〜２.５０（ｍ、
６Ｈ）、２.５０〜２.７０（ｍ、２Ｈ）、４.０４
（ｄ、ｔ、Ｊ＝２０.５Ｈｚ、Ｊ＝９.０Ｈｚ、２Ｈ）、
５.９１（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２４０、２９２０、２
８６０、１４５８、１４０２、１３７８、１３０８、１
２２７、１０９０、９９５、９６０、９０８、８０２、
７１８
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４９〜１.７０（ｍ、１２Ｈ）、１.
７６〜２.０３（ｍ、４Ｈ）、２.３１〜２.５０（ｍ、
６Ｈ）、２.５０〜２.７０（ｍ、２Ｈ）、４.０４
（ｄ、ｔ、Ｊ＝２０.５Ｈｚ、Ｊ＝９.０Ｈｚ、２Ｈ）、
５.９１（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２４０、２９２０、２
８６０、１４５８、１４０２、１３７８、１３０８、１
２２７、１０９０、９９５、９６０、９０８、８０２、
７１８
【００４６】撹拌機、温度計、および蒸留ラインを備え
た３００ｍｌの四つ口フラスコに、得られたトリ−ｎ−
ブチル−（４−ヒドロキシブチル）ホスホニウム クロ
ライド１５.６ｇ（０.０５モル）をアセトン２００ｍｌ
に溶解して仕込んだ。常圧にて撹拌しながら加熱して、
アセトンを約１００ｍｌ留出させた。冷却後、塩化カル
シウム管を備えたコンデンサーをつけて、重合禁止剤と
してハイドロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇを添
加し、滴下ロートでメタクリロイルイソシアネート６.
２ｇ（０.０５モル、純度９０％）を室温にて１時間か
けて滴下し、さらに４０℃にて３時間撹拌した。熟成
後、４０℃以下の温度で、反応液を濃縮しさらに真空ポ
ンプで乾燥すると、微黄色の粘性液体２２.２ｇが得ら
れた。過塩素酸による非水滴定純度は９４.２％で、収
率は９９.３％であった。分析結果により、生成物はト
リ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオ
キシエチル）ホスホニウム クロライドであった。
た３００ｍｌの四つ口フラスコに、得られたトリ−ｎ−
ブチル−（４−ヒドロキシブチル）ホスホニウム クロ
ライド１５.６ｇ（０.０５モル）をアセトン２００ｍｌ
に溶解して仕込んだ。常圧にて撹拌しながら加熱して、
アセトンを約１００ｍｌ留出させた。冷却後、塩化カル
シウム管を備えたコンデンサーをつけて、重合禁止剤と
してハイドロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇを添
加し、滴下ロートでメタクリロイルイソシアネート６.
２ｇ（０.０５モル、純度９０％）を室温にて１時間か
けて滴下し、さらに４０℃にて３時間撹拌した。熟成
後、４０℃以下の温度で、反応液を濃縮しさらに真空ポ
ンプで乾燥すると、微黄色の粘性液体２２.２ｇが得ら
れた。過塩素酸による非水滴定純度は９４.２％で、収
率は９９.３％であった。分析結果により、生成物はト
リ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオ
キシエチル）ホスホニウム クロライドであった。
【００４７】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；３８６ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；３５、３７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）： ０.９８（ｔ、Ｊ＝６.９
Ｈｚ、９Ｈ）、１.３２〜１.６９（ｍ、１２Ｈ）、１.
７９〜２.０３（ｍ、７Ｈ）、２.３０〜２.５１（ｍ、
６Ｈ）、２.９０〜３.０８（ｍ、２Ｈ）、４.１８〜４.
３１（ｍ、２Ｈ）、５.７２（ｓ、１Ｈ）、６.２７
（ｓ、１Ｈ）、１０.４２（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３１５５、２９５０、１
７７２、１６７８、１６２７、１５１７、１４６０、１
２２０、１１６２、１０９９、９１２、８０５、７２０
Ｈｚ、９Ｈ）、１.３２〜１.６９（ｍ、１２Ｈ）、１.
７９〜２.０３（ｍ、７Ｈ）、２.３０〜２.５１（ｍ、
６Ｈ）、２.９０〜３.０８（ｍ、２Ｈ）、４.１８〜４.
３１（ｍ、２Ｈ）、５.７２（ｓ、１Ｈ）、６.２７
（ｓ、１Ｈ）、１０.４２（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３１５５、２９５０、１
７７２、１６７８、１６２７、１５１７、１４６０、１
２２０、１１６２、１０９９、９１２、８０５、７２０
【００４８】（実施例 ６） トリ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイル
オキシブチル）ホスホニウム クロライドの製造 撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた５
００ｍｌの四つ口フラスコを、十分に窒素で置換し、ト
リ−ｎ−ブチルホスフィン１５０ｇ（０.７４１モル）
を仕込んだ。１４０℃で、４−クロロ−１−ブタノール
６２.７ｇ（０.７７９モル）を還流しないように、４時
間かけて徐々に滴下した。さらに、同温度で３時間熟成
させた。二硫化炭素による反応チェックをしたところ、
赤色に着色したことから、未反応のトリアルキルホスフ
ィンが検出された。よって、純水５００ｍｌに溶解さ
せ、トルエン３００ｍｌで抽出洗浄し、未反応のトリ−
ｎ−ブチルホスフィンを除去した。水層をエバポレータ
ーで濃縮し、さらに真空ポンプで乾燥することにより、
無色透明粘性液体２０９.９ｇを得た。滴定純度は、９
９.８％で、収率は９０.９％であった。分析結果によ
り、生成物はトリ−ｎ−ブチル−（４−ヒドロキシブチ
ル）ホスホニウム クロライドであった。
オキシブチル）ホスホニウム クロライドの製造 撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた５
００ｍｌの四つ口フラスコを、十分に窒素で置換し、ト
リ−ｎ−ブチルホスフィン１５０ｇ（０.７４１モル）
を仕込んだ。１４０℃で、４−クロロ−１−ブタノール
６２.７ｇ（０.７７９モル）を還流しないように、４時
間かけて徐々に滴下した。さらに、同温度で３時間熟成
させた。二硫化炭素による反応チェックをしたところ、
赤色に着色したことから、未反応のトリアルキルホスフ
ィンが検出された。よって、純水５００ｍｌに溶解さ
せ、トルエン３００ｍｌで抽出洗浄し、未反応のトリ−
ｎ−ブチルホスフィンを除去した。水層をエバポレータ
ーで濃縮し、さらに真空ポンプで乾燥することにより、
無色透明粘性液体２０９.９ｇを得た。滴定純度は、９
９.８％で、収率は９０.９％であった。分析結果によ
り、生成物はトリ−ｎ−ブチル−（４−ヒドロキシブチ
ル）ホスホニウム クロライドであった。
【００４９】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；２７５ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；３５、３７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）： ０.９７（ｔ、Ｊ＝６.９
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４９〜１.７０（ｍ、１２Ｈ）、１.
７６〜２.０３（ｍ、４Ｈ）、２.３１〜２.５０（ｍ、
６Ｈ）、２.５０〜２.７０（ｍ、２Ｈ）、４.０４
（ｄ、ｔ、Ｊ＝２０.５Ｈｚ、Ｊ＝９.０Ｈｚ、２Ｈ）、
５.９１（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２４０、２９２０、２
８６０、１４５８、１４０２、１３７８、１３０８、１
２２７、１０９０、９９５、９６０、９０８、８０２、
７１８
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４９〜１.７０（ｍ、１２Ｈ）、１.
７６〜２.０３（ｍ、４Ｈ）、２.３１〜２.５０（ｍ、
６Ｈ）、２.５０〜２.７０（ｍ、２Ｈ）、４.０４
（ｄ、ｔ、Ｊ＝２０.５Ｈｚ、Ｊ＝９.０Ｈｚ、２Ｈ）、
５.９１（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２４０、２９２０、２
８６０、１４５８、１４０２、１３７８、１３０８、１
２２７、１０９０、９９５、９６０、９０８、８０２、
７１８
【００５０】撹拌機、温度計、および蒸留ラインを備え
た３００ｍｌの四つ口フラスコに、得られたトリ−ｎ−
ブチル−（４−ヒドロキシブチル）ホスホニウム クロ
ライド１５.６ｇ（０.０５モル）をアセトン２００ｍｌ
に溶解して仕込んだ。常圧にて撹拌しながら加熱して、
アセトンを約１００ｍｌ留出させた。冷却後、塩化カル
シウム管を備えたコンデンサーをつけて、重合禁止剤と
してハイドロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇを添
加し、滴下ロートでメタクリロイルイソシアネート６.
２ｇ（０.０５モル、純度９０％）を室温にて１時間か
けて滴下し、さらに４０℃にて３時間撹拌した。熟成
後、４０℃以下の温度で、反応液を濃縮しさらに真空ポ
ンプで乾燥すると、微黄色の粘性液体２２.２ｇが得ら
れた。過塩素酸による非水滴定純度は９４.２％で、収
率は９９.３％であった。分析結果により、生成物はト
リ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオ
キシエチル）ホスホニウム クロライドであった。
た３００ｍｌの四つ口フラスコに、得られたトリ−ｎ−
ブチル−（４−ヒドロキシブチル）ホスホニウム クロ
ライド１５.６ｇ（０.０５モル）をアセトン２００ｍｌ
に溶解して仕込んだ。常圧にて撹拌しながら加熱して、
アセトンを約１００ｍｌ留出させた。冷却後、塩化カル
シウム管を備えたコンデンサーをつけて、重合禁止剤と
してハイドロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇを添
加し、滴下ロートでメタクリロイルイソシアネート６.
２ｇ（０.０５モル、純度９０％）を室温にて１時間か
けて滴下し、さらに４０℃にて３時間撹拌した。熟成
後、４０℃以下の温度で、反応液を濃縮しさらに真空ポ
ンプで乾燥すると、微黄色の粘性液体２２.２ｇが得ら
れた。過塩素酸による非水滴定純度は９４.２％で、収
率は９９.３％であった。分析結果により、生成物はト
リ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオ
キシエチル）ホスホニウム クロライドであった。
【００５１】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；３８６ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；３５、３７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）： ０.９８（ｔ、Ｊ＝６.９
Ｈｚ、９Ｈ）、１.３２〜１.６９（ｍ、１２Ｈ）、１.
９７（ｓ、３Ｈ）、２.３０〜２.５１（ｍ、６Ｈ）、２.
９０〜３.０８（ｍ、２Ｈ）、４.１８〜４.３１（ｍ、
２Ｈ）、５.７２（ｓ、１Ｈ）、６.２７（ｓ、１Ｈ）、
１０.４２（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３１５５、２９５０、１
７７２、１６７８、１６２７、１５１７、１４６０、１
２２０、１１６２、１０９９、９１２、８０５、７２０
Ｈｚ、９Ｈ）、１.３２〜１.６９（ｍ、１２Ｈ）、１.
９７（ｓ、３Ｈ）、２.３０〜２.５１（ｍ、６Ｈ）、２.
９０〜３.０８（ｍ、２Ｈ）、４.１８〜４.３１（ｍ、
２Ｈ）、５.７２（ｓ、１Ｈ）、６.２７（ｓ、１Ｈ）、
１０.４２（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３１５５、２９５０、１
７７２、１６７８、１６２７、１５１７、１４６０、１
２２０、１１６２、１０９９、９１２、８０５、７２０
【００５２】（実施例 ７） トリエチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオキシ
エチル）ホスホニウムクロライドの製造 撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた１
Ｌの四つ口フラスコを、十分に窒素で置換し、トリエチ
ルホスフィン１００ｇ（０.８４６モル）、トルエン４
００ｍｌを仕込んだ。８０℃にて２−クロロエタノール
７４.９ｇ（０.９３０モル）を１時間かけて滴下した。
さらに、１００℃で３時間熟成した。反応液を、二硫化
炭素を用いてトリアルキルホスフィンの残留を確認した
が、検出されなかった。エバポレーターで濃縮し、さら
に真空ポンプで乾燥することにより、無色透明粘性液体
１６５.０ｇを得た。滴定純度は、９９.０％で、収率は
９７.２％であった。生成物はトリエチル−（２−ヒド
ロキシエチル）ホスホニウム クロライドであった。
エチル）ホスホニウムクロライドの製造 撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた１
Ｌの四つ口フラスコを、十分に窒素で置換し、トリエチ
ルホスフィン１００ｇ（０.８４６モル）、トルエン４
００ｍｌを仕込んだ。８０℃にて２−クロロエタノール
７４.９ｇ（０.９３０モル）を１時間かけて滴下した。
さらに、１００℃で３時間熟成した。反応液を、二硫化
炭素を用いてトリアルキルホスフィンの残留を確認した
が、検出されなかった。エバポレーターで濃縮し、さら
に真空ポンプで乾燥することにより、無色透明粘性液体
１６５.０ｇを得た。滴定純度は、９９.０％で、収率は
９７.２％であった。生成物はトリエチル−（２−ヒド
ロキシエチル）ホスホニウム クロライドであった。
【００５３】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；１６３ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；３５、３７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）： ０.９８（ｔ、Ｊ＝６.８
Ｈｚ、９Ｈ）、２.１８〜２.４２（ｍ、６Ｈ）、２.４
９〜２.７１（ｍ、２Ｈ）、４.０１（ｄ、ｔ、Ｊ＝２
０.４Ｈｚ、Ｊ＝９.０Ｈｚ、２Ｈ）、５.９０（ｓ、１
Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２００、２９７６、２
９４９、２７８８、１４６５、１４１５、１３８２、１
３１１、１２３８、１１６０、１０６８、１０００、９
１１、８０８、７１２
Ｈｚ、９Ｈ）、２.１８〜２.４２（ｍ、６Ｈ）、２.４
９〜２.７１（ｍ、２Ｈ）、４.０１（ｄ、ｔ、Ｊ＝２
０.４Ｈｚ、Ｊ＝９.０Ｈｚ、２Ｈ）、５.９０（ｓ、１
Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２００、２９７６、２
９４９、２７８８、１４６５、１４１５、１３８２、１
３１１、１２３８、１１６０、１０６８、１０００、９
１１、８０８、７１２
【００５４】撹拌機、温度計、および蒸留ラインを備え
た３００ｍｌの四つ口フラスコに、得られたトリエチル
−（２−ヒドロキシエチル）ホスホニウム クロライド
１０.０ｇ（０.０５モル）をアセトン２００ｍｌに溶解
して仕込んだ。常圧にて撹拌しながら加熱して、アセト
ンを約１００ｍｌ留出させた。冷却後、塩化カルシウム
管を備えたコンデンサーをつけて、重合禁止剤としてハ
イドロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇを添加し、
滴下ロートでメタクリロイルイソシアネート６.２ｇ
（０.０５モル、純度９０％）を室温にて１時間かけて
滴下し、さらに４０℃にて３時間撹拌した。熟成後、４
０℃以下の温度で、反応液を濃縮しさらに真空ポンプで
乾燥すると、微黄色の粘性液体１５.４ｇが得られた。
過塩素酸による非水滴定純度は９８.６％で、収率は９
７.９％であった。分析結果により、生成物はトリエチ
ル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオキシエチル）
ホスホニウム クロライドであった。
た３００ｍｌの四つ口フラスコに、得られたトリエチル
−（２−ヒドロキシエチル）ホスホニウム クロライド
１０.０ｇ（０.０５モル）をアセトン２００ｍｌに溶解
して仕込んだ。常圧にて撹拌しながら加熱して、アセト
ンを約１００ｍｌ留出させた。冷却後、塩化カルシウム
管を備えたコンデンサーをつけて、重合禁止剤としてハ
イドロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇを添加し、
滴下ロートでメタクリロイルイソシアネート６.２ｇ
（０.０５モル、純度９０％）を室温にて１時間かけて
滴下し、さらに４０℃にて３時間撹拌した。熟成後、４
０℃以下の温度で、反応液を濃縮しさらに真空ポンプで
乾燥すると、微黄色の粘性液体１５.４ｇが得られた。
過塩素酸による非水滴定純度は９８.６％で、収率は９
７.９％であった。分析結果により、生成物はトリエチ
ル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイルオキシエチル）
ホスホニウム クロライドであった。
【００５５】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；２７４ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；３５、３７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）： ０.９７（ｔ、Ｊ＝６.８
Ｈｚ、９Ｈ）、２.１８〜２.４２（ｍ、６Ｈ）、１.９
８（ｓ、３Ｈ）、２.７０〜３.１９（ｍ、２Ｈ）、４.
６０（ｄ、ｔ、Ｊ＝１５.３Ｈｚ、Ｊ＝９.２Ｈｚ、２
Ｈ）、５.９１（ｓ、１Ｈ）、６.３６（ｓ、１Ｈ）、１
０.６９（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３１９２、２９４３、１
７７４、１６８０、１６３６、１５０８、１４６０、１
２１３、１０５０、９１７、７４３
Ｈｚ、９Ｈ）、２.１８〜２.４２（ｍ、６Ｈ）、１.９
８（ｓ、３Ｈ）、２.７０〜３.１９（ｍ、２Ｈ）、４.
６０（ｄ、ｔ、Ｊ＝１５.３Ｈｚ、Ｊ＝９.２Ｈｚ、２
Ｈ）、５.９１（ｓ、１Ｈ）、６.３６（ｓ、１Ｈ）、１
０.６９（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３１９２、２９４３、１
７７４、１６８０、１６３６、１５０８、１４６０、１
２１３、１０５０、９１７、７４３
【００５６】（実施例 ８） トリ−ｎ−オクチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイ
ルオキシエチル）ホスホニウム クロライドの製造 撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた５
００ｍｌの四つ口フラスコを、十分に窒素で置換し、ト
リ−ｎ−オクチルホスフィン１５０ｇ（０.４０５モ
ル）、２−クロロエタノール３９.１ｇ（０.４８６モ
ル）を仕込んだ。混和せずに二層に分離し、反応による
発熱は認められなかった。窒素気流下、撹拌しながら徐
々に温度をあげて、最終的に１５０℃で８時間反応させ
た。冷却後、反応液を二硫化炭素を用いてトリアルキル
ホスフィンの残留を確認したが検出されなかった。反応
液をエバポレーターで濃縮し、さらに真空ポンプで乾燥
することにより、ロウ状白色固体１９０.１ｇを得た。
滴定純度は、９６.１％で、収率は１００.０％であっ
た。生成物はトリ−ｎ−オクチル−（２−ヒドロキシエ
チル）ホスホニウム クロライドであった。
ルオキシエチル）ホスホニウム クロライドの製造 撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた５
００ｍｌの四つ口フラスコを、十分に窒素で置換し、ト
リ−ｎ−オクチルホスフィン１５０ｇ（０.４０５モ
ル）、２−クロロエタノール３９.１ｇ（０.４８６モ
ル）を仕込んだ。混和せずに二層に分離し、反応による
発熱は認められなかった。窒素気流下、撹拌しながら徐
々に温度をあげて、最終的に１５０℃で８時間反応させ
た。冷却後、反応液を二硫化炭素を用いてトリアルキル
ホスフィンの残留を確認したが検出されなかった。反応
液をエバポレーターで濃縮し、さらに真空ポンプで乾燥
することにより、ロウ状白色固体１９０.１ｇを得た。
滴定純度は、９６.１％で、収率は１００.０％であっ
た。生成物はトリ−ｎ−オクチル−（２−ヒドロキシエ
チル）ホスホニウム クロライドであった。
【００５７】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；４１５ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；３５、３７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）： ０.９６（ｔ、Ｊ＝６.７
Ｈｚ、９Ｈ）、１.１３〜２.１０（ｍ、３６Ｈ）、２.
３１〜２.５０（ｍ、６Ｈ）、２.５０〜２.７０（ｍ、
２Ｈ）、４.０２（ｄ、ｔ、Ｊ＝２０.６Ｈｚ、Ｊ＝９.
０Ｈｚ、２Ｈ）、５.９０（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２００、２９７４、２
９４８、２７９２、１４６５、１４１５、１３８３、１
３２０、１２３５、１１６０、１０６８、１００１、９
２０、８１０、７２５
Ｈｚ、９Ｈ）、１.１３〜２.１０（ｍ、３６Ｈ）、２.
３１〜２.５０（ｍ、６Ｈ）、２.５０〜２.７０（ｍ、
２Ｈ）、４.０２（ｄ、ｔ、Ｊ＝２０.６Ｈｚ、Ｊ＝９.
０Ｈｚ、２Ｈ）、５.９０（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２００、２９７４、２
９４８、２７９２、１４６５、１４１５、１３８３、１
３２０、１２３５、１１６０、１０６８、１００１、９
２０、８１０、７２５
【００５８】撹拌機、温度計、および蒸留ラインを備え
た３００ｍｌの四つ口フラスコに、得られたトリ−ｎ−
オクチル（２−ヒドロキシエチル）ホスホニウム クロ
ライド２３.５ｇ（０.０５モル）をアセトン２００ｍｌ
に溶解して仕込んだ。常圧にて撹拌しながら加熱して、
アセトンを約１００ｍｌ留出させた。冷却後、塩化カル
シウム管を備えたコンデンサーをつけて、重合禁止剤と
してハイドロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇを添
加し、滴下ロートでメタクリロイルイソシアネート６.
２ｇ（０.０５モル、純度９０％）を室温にて１時間か
けて滴下し、さらに４０℃にて３時間撹拌した。熟成
後、４０℃以下の温度で、反応液を濃縮しさらに真空ポ
ンプで乾燥すると、微黄色の粘性液体２７.９ｇが得ら
れた。過塩素酸による非水滴定純度は９８.５％で、収
率は９７.７％であった。分析結果により、生成物はト
リ−ｎ−オクチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイル
オキシエチル）ホスホニウム クロライドであった。
た３００ｍｌの四つ口フラスコに、得られたトリ−ｎ−
オクチル（２−ヒドロキシエチル）ホスホニウム クロ
ライド２３.５ｇ（０.０５モル）をアセトン２００ｍｌ
に溶解して仕込んだ。常圧にて撹拌しながら加熱して、
アセトンを約１００ｍｌ留出させた。冷却後、塩化カル
シウム管を備えたコンデンサーをつけて、重合禁止剤と
してハイドロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇを添
加し、滴下ロートでメタクリロイルイソシアネート６.
２ｇ（０.０５モル、純度９０％）を室温にて１時間か
けて滴下し、さらに４０℃にて３時間撹拌した。熟成
後、４０℃以下の温度で、反応液を濃縮しさらに真空ポ
ンプで乾燥すると、微黄色の粘性液体２７.９ｇが得ら
れた。過塩素酸による非水滴定純度は９８.５％で、収
率は９７.７％であった。分析結果により、生成物はト
リ−ｎ−オクチル−（Ｎ−メタクリロイルカルバモイル
オキシエチル）ホスホニウム クロライドであった。
【００５９】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；５２６ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；３５、３７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）： ０.９６（ｔ、Ｊ＝７.０
Ｈｚ、９Ｈ）、１.０９〜２.１０（ｍ、３９Ｈ）、２.
３１〜２.５０（ｍ、６Ｈ）、２.８８〜３.２０（ｍ、
２Ｈ）、４.６１（ｄ、ｔ、Ｊ＝１５.０Ｈｚ、Ｊ＝９.
０Ｈｚ、２Ｈ）、５.８９（ｓ、１Ｈ）、６.３２（ｍ、
１Ｈ）、１０.７１（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２００、２９４２、１
７７１、１６７９、１６３４、１５０８、１４５８、１
２１３、１０４８、９１６、７４５
Ｈｚ、９Ｈ）、１.０９〜２.１０（ｍ、３９Ｈ）、２.
３１〜２.５０（ｍ、６Ｈ）、２.８８〜３.２０（ｍ、
２Ｈ）、４.６１（ｄ、ｔ、Ｊ＝１５.０Ｈｚ、Ｊ＝９.
０Ｈｚ、２Ｈ）、５.８９（ｓ、１Ｈ）、６.３２（ｍ、
１Ｈ）、１０.７１（ｓ、１Ｈ） ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：３２００、２９４２、１
７７１、１６７９、１６３４、１５０８、１４５８、１
２１３、１０４８、９１６、７４５
【００６０】（実施例 ９） トリ−ｎ−ブチル−（Ｎ−メタクリロイルオキシエチル
カルバモイルオキシエチル）ホスホニウム クロライド
の製造 撹拌機、温度計、および窒素導入管を備えた１００ｍｌ
の四つ口フラスコに、実施例１で得られたトリ−ｎ−ブ
チル−（２−ヒドロキシエチル）ホスホニウムクロライ
ド１４.１ｇ（０.０５モル）、重合禁止剤としてハイド
ロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇ、メタクリロイ
ルオキシエチルイソシアネート７.８５ｇ（０.０５モ
ル、昭和電工製、純度９８.８％）を室温にて滴下し、
８０℃にて４時間反応させた。反応液を真空ポンプで乾
燥すると、微黄色の粘性液体２２.２ｇが得られた。過
塩素酸による非水滴定純度は９８.６％で、収率は９９.
９％であった。分析結果により、生成物はトリ−ｎ−ブ
チル−（Ｎ−メタクリロイルオキシエチルカルバモイル
オキシエチル）ホスホニウム クロライドであった。
カルバモイルオキシエチル）ホスホニウム クロライド
の製造 撹拌機、温度計、および窒素導入管を備えた１００ｍｌ
の四つ口フラスコに、実施例１で得られたトリ−ｎ−ブ
チル−（２−ヒドロキシエチル）ホスホニウムクロライ
ド１４.１ｇ（０.０５モル）、重合禁止剤としてハイド
ロキノンモノメチルエーテル０.０５ｇ、メタクリロイ
ルオキシエチルイソシアネート７.８５ｇ（０.０５モ
ル、昭和電工製、純度９８.８％）を室温にて滴下し、
８０℃にて４時間反応させた。反応液を真空ポンプで乾
燥すると、微黄色の粘性液体２２.２ｇが得られた。過
塩素酸による非水滴定純度は９８.６％で、収率は９９.
９％であった。分析結果により、生成物はトリ−ｎ−ブ
チル−（Ｎ−メタクリロイルオキシエチルカルバモイル
オキシエチル）ホスホニウム クロライドであった。
【００６１】ＦＡＢ−ＭＳ（Ｐｏｓ.）；４０２ ＦＡＢ−ＭＳ（Ｎｅｇ.）；３５、３７1 Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、δ）：０.９７（ｔ、ｊ＝６.６
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４３〜１.６９（ｍ、１２Ｈ）、１.
９４（ｓ、３Ｈ）、２.２５〜２.５１（ｍ、６Ｈ）、
２.５１〜２.７１（ｍ、２Ｈ）、２.８０〜３.０１
（ｍ、２Ｈ）、３.４２〜３.５６（ｍ、２Ｈ）、４.１
８〜４.３１（ｍ、２Ｈ）、５.５６（ｓ、１Ｈ）、６.
１７（ｓ、１Ｈ）、９.３３（ｓ、１Ｈ）、 ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：２９６１、２９３３、２
８７５、１７１８、１６７１、１６３８、１５６２、１
４６１、１２６０、１１６１、１０５０、８１７
Ｈｚ、９Ｈ）、１.４３〜１.６９（ｍ、１２Ｈ）、１.
９４（ｓ、３Ｈ）、２.２５〜２.５１（ｍ、６Ｈ）、
２.５１〜２.７１（ｍ、２Ｈ）、２.８０〜３.０１
（ｍ、２Ｈ）、３.４２〜３.５６（ｍ、２Ｈ）、４.１
８〜４.３１（ｍ、２Ｈ）、５.５６（ｓ、１Ｈ）、６.
１７（ｓ、１Ｈ）、９.３３（ｓ、１Ｈ）、 ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）：２９６１、２９３３、２
８７５、１７１８、１６７１、１６３８、１５６２、１
４６１、１２６０、１１６１、１０５０、８１７
【００６２】
【発明の効果】本発明は前記のように構成したので、帯
電防止剤、抗菌剤、難燃剤、導電加工剤、染色改良剤、
ポリマー改質剤、凝集剤等に有用な、新規な不飽和結合
を有するカチオン性ポリマーである（メタ）アクリロイ
ルウレタン結合を有するホスホニウム化合物を提供す
る。本発明はまた、上記新規化合物を工業的に簡単に製
造する方法を提供する。
電防止剤、抗菌剤、難燃剤、導電加工剤、染色改良剤、
ポリマー改質剤、凝集剤等に有用な、新規な不飽和結合
を有するカチオン性ポリマーである（メタ）アクリロイ
ルウレタン結合を有するホスホニウム化合物を提供す
る。本発明はまた、上記新規化合物を工業的に簡単に製
造する方法を提供する。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒ1はＨまたはＣＨ3、ｘは１〜２、ｙは０また
は１、Ａは直鎖または分岐のアルキレン、ＸはＣｌ、Ｂ
ｒ又はＩであり、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、炭素数１〜１
８の直鎖または分岐状のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルカリール基又はアラルキル基のい
ずれかを示し、それぞれが同じ基でも又は異なる基であ
ってもよい。）で示される（メタ）アクリロイルウレタ
ン結合を有するホスホニウム化合物。 - 【請求項２】 下記一般式（２）： 【化２】 （式中、Ａは直鎖または分岐のアルキレン、ＸはＣｌ、
Ｂｒ又はＩ、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、炭素数１〜１８の
直鎖または分岐状のアルキル基、シクロアルキル基、ア
リール基、アルカリール基又はアラルキル基のいずれか
を示し、それぞれが同じ基でも又は異なる基であっても
よい）で表されるヒドロキシオルガノホスホニウム塩
と、下記一般式（３）： 【化３】 （式中、Ｒ1はＨまたはＣＨ3、ｘは１〜２、ｙは０また
は１）で表される（メタ）アクリロイルイソシアネート
化合物とを反応させて、一般式（１）： 【化４】 （式中、Ｒ1はＨまたはＣＨ3、ｘは１〜２、ｙは０また
は１、Ａは直鎖または分岐のアルキレン、ＸはＣｌ、Ｂ
ｒ又はＩ、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、炭素数１〜１８の直
鎖または分岐状のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アルカリール基又はアラルキル基のいずれかを
示し、それぞれが同じ基でも又は異なる基であってもよ
い。）で示される（メタ）アクリロイルウレタン結合を
有するホスホニウム化合物を生成することを特徴とする
（メタ）アクリロイルウレタン結合を有するホスホニウ
ム化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21355497A JPH1149788A (ja) | 1997-08-07 | 1997-08-07 | （メタ）アクリロイルウレタン結合を有するホスホニウム化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21355497A JPH1149788A (ja) | 1997-08-07 | 1997-08-07 | （メタ）アクリロイルウレタン結合を有するホスホニウム化合物及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1149788A true JPH1149788A (ja) | 1999-02-23 |
Family
ID=16641136
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21355497A Pending JPH1149788A (ja) | 1997-08-07 | 1997-08-07 | （メタ）アクリロイルウレタン結合を有するホスホニウム化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1149788A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014091803A (ja) * | 2012-11-06 | 2014-05-19 | Nof Corp | ホスホリルコリン基含有（メタ）アクリレート化合物、その製造方法、及びその重合体 |
-
1997
- 1997-08-07 JP JP21355497A patent/JPH1149788A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014091803A (ja) * | 2012-11-06 | 2014-05-19 | Nof Corp | ホスホリルコリン基含有（メタ）アクリレート化合物、その製造方法、及びその重合体 |
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