JPH1150233A - 有機化合物容器、有機蒸着源、及び真空蒸着装置 - Google Patents
有機化合物容器、有機蒸着源、及び真空蒸着装置Info
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Abstract
を提供する。 【解決手段】本発明は、容器本体11に設けた収容部1
2に有機薄膜材料を収納し、その蒸気を真空槽内に放出
させる有機化合物容器10であり、収容部の底面13の
面積よりも放出口14の面積の方が大きくなるようにさ
れている。従って、発生した蒸気が収容部12内を上方
に移動する際に、次第に広がってゆき、真空槽内に放出
されると、側方に拡散する量が増える。真空槽内に蒸気
が均一に拡散するので、大口径基板表面に均一な膜厚の
有機薄膜を形成することができる。同じ容器本体に複数
の収納部を設けると一層効果的である。
Description
かり、特に、粉体状の有機化合物を蒸発材料とし、有機
化合物蒸気を放出させる有機蒸着源及び、その有機蒸着
源を有する真空蒸着装置に関する。
合、有機化合物の方が反応系や特性が多様であり、ま
た、低エネルギーで表面処理できることから、近年、機
能性有機薄膜が着目されている。
EL素子、圧電センサ、焦電センサ、電気絶縁膜等、種
々のものがあるが、これらのうち、有機EL素子はディ
スプレイパネルとして利用できることから非常に注目さ
れている。
の概略構成図であり、ガラス基板b上に、透明導電膜か
ら成るアノード電極膜c、P型の有機薄膜d、N型の有
機薄膜e、カソード電極膜fがこの順で形成されてい
る。この有機EL素子aのアノード電極膜cとカソード
電極膜fとの間に電圧を印加すると、有機薄膜d、eの
界面が発光し、ガラス基板bを透過して外部にEL光g
を放射させることができる。
的に真空蒸着法が用いられており、有機蒸着源を真空槽
内に配置し、有機薄膜材料の蒸気を放出させ、成膜対象
の基板表面に付着させると有機薄膜を形成できるように
なっている。
〜2000℃程度と高温であるのに対し、有機薄膜材料
である有機化合物は蒸気圧が高く、蒸発温度は0℃(場
合によっては零下)〜400℃の間にあるのが普通であ
る。また、有機化合物は分解し易く、その分解温度が蒸
発温度に近接し、蒸発温度を超えるとすぐに分解してし
まうものも多い。
る有機蒸着源は、金属蒸着源と異なり、比較的低温で精
密に温度制御できる機能が必要となる。
が、真空中では粉体を構成する粒子間が真空断熱される
ため、熱伝導が悪く、赤外線を用いて加熱すると局所的
に過熱状態になり、突沸を生じやすいという問題があ
る。従って、金属薄膜等の無機系薄膜の形成に適した真
空蒸着装置を、有機薄膜の形成に転用するのは困難であ
る。
に、図6に示すような専用の真空蒸着装置150が用い
られており、真空槽151底壁に、図7に示すような有
機蒸着源140を配置し、その内部に、図8に示す有機
化合物容器110を装着し、真空槽151内に、有機化
合物容器110内に収納された有機薄膜材料の蒸気を放
出させている。
図8を参照し、該有機化合物容器110は、不透明なセ
ラミック材料が円柱形形状に成形されて成る容器本体1
11と、その容器本体111の上端部周囲に設けられた
つば部119とを有しており、容器本体111の上端部
側から孔が穿設され、その孔が形成する空間によって収
容部112が構成されている。従って、有機化合物容器
110の全体形状は、略有底円筒形を呈している。
7を参照し、該有機蒸着源140はケーシング141を
有しており、ケーシング141内には、その内壁面に近
い位置から、リフレクタ143、マイクロヒータ14
6、均熱管147がこの順に配置されており、均熱管1
47底面には熱電対149が設けられ、図示しない測定
装置と熱電対149とによって、均熱管147の温度を
測定できるように構成されている。
底壁に配置されており、有機化合物容器110内に粉体
状の有機薄膜材料120を収納した状態で、均熱管14
7内に装着し、蒸着孔144を有する蓋142を上部か
らかぶせると、有機薄膜形成の準備が完了する。
基板ホルダ152が設けられており、その基板ホルダ1
52上に基板153(図9では符号bのガラス基板)を、
有機蒸着源140と対向させて配置し、真空槽151内
を所定圧力まで真空排気する。
発熱させると、マイクロヒータ146から赤外線が放射
され、均熱管147が、マイクロヒータ146からの赤
外線と、リフレクタ143で反射された赤外線とによっ
て加熱される。この均熱管147が加熱されると、熱伝
導により、有機化合物容器110が加熱される。
47の温度を測定し、有機化合物容器110が過熱され
ないように、マイクロヒータ146への通電量を制御し
ながら、有機薄膜材料120を昇温させる。
っしたところで、有機蒸着源140側のシャッター15
6を開け、有機薄膜材料120の蒸気を真空槽151内
に放出させる。
56によって測定しておき、放出速度が安定したところ
で基板153側のシャッター157を開け、基板156
表面へ有機薄膜材料120の蒸気を付着させると、有機
薄膜が形成され始める。
ば、均熱管147によって赤外線が遮蔽されるので、有
機薄膜材料120に直接赤外線が照射されることはな
く、有機薄膜材料120が過熱状態になって突沸が生じ
たり、分解することがない。
せる際、基板153を基板ホルダ152と一緒に回転さ
せておくと、有機薄膜材料120の蒸気が均一に到達
し、基板153表面に膜厚分布のよい有機薄膜が得られ
るようになっている。
10では、有機薄膜材料120は容器本体111の内壁
面115からの熱伝導によって加熱されるため、熱伝導
率が低い粉体中では、有機薄膜材料120は周辺部分だ
けが加熱され、その中央部分の温度が上昇せず、中央部
分に位置する粉体粒子が蒸発せずに残ってしまうという
問題がある。
に加熱するために、蒸気放出口が有機薄膜材料120蒸
気の付着物で閉塞されない範囲で、収容部112をでき
るだけ小口径化する努力が成されている。実験による
と、収容部112の直径が25mmでは有機薄膜材料1
21を全部蒸発させることができず、19mmでは全部
蒸発させることができている。
示装置には一層の大口径化が求められており、そのた
め、大口径のガラス基板表面に有機薄膜を均一に形成で
きる真空蒸着装置の開発が望まれている。
機薄膜を形成するためには、できるだけ広い面積の放出
口114から有機薄膜材料の蒸気を放出させた方が有利
であるのに、収容部112を小口径化すると、放出口1
14が狭くなり、放出源が点状になってしまい、大口径
基板に均一な膜厚の有機薄膜を形成できないという問題
がある。
い有機蒸着源140を多数配置しても、各有機蒸着源1
40の上方位置で膜厚が厚く、有機蒸着源140が配置
されていない上方位置では膜厚の薄い有機薄膜しか得る
ことができず、その解決が望まれていた。
の不都合を解決するために創作されたもので、その目的
は、大口径基板に均一な有機薄膜を形成できる技術を提
供することにある。
に、請求項1記載の発明は、容器本体と、前記容器本体
に設けられた孔で構成された収容部とを有し、前記収容
部に有機薄膜材料を収納して真空槽内に配置し、前記容
器本体を加熱すると、前記収容部上端の放出口から前記
真空槽内に向けて、前記有機薄膜材料の蒸気を放出でき
るように構成された有機化合物容器であって、前記収容
部は底面の面積よりも放出口の面積の方が大きくされて
いることを特徴とする。
前記収容部を前記容器本体に複数設けることができる。
収容部は円錐台形状に成形することができる。
れか1項記載の有機化合物容器については、請求項4記
載の発明のように、前記容器本体を、カーボングラファ
イト製、炭化珪素製、又は炭化珪素がコーティングされ
たカーボングラファイト製にすることが望ましい。
であって、請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の
有機化合物容器と、前記有機化合物容器の周囲に配置さ
れたヒータとを有し、前記ヒータに通電すると、前記有
機化合物容器を加熱できるように構成されたことを特徴
とする。
置であって、真空槽内に、請求項5記載の有機蒸着源
が、少なくとも1個以上配置されていることを特徴とす
る。
本体に設けられた孔によって収容部が構成されており、
容器本体を不透明な材料で構成し、赤外線によって加熱
すると、容器本体に収納された有機薄膜材料を、容器本
体壁面からの熱伝導によって昇温させることができる。
従って、有機薄膜材料は局所的な過熱状態にならず、有
機薄膜材料の蒸気が安定に発生する。
的に飛び出すが、有機薄膜材料の蒸気は分子量が大きい
ため、ガス流となって移動する。従って、収容部内で発
生した有機薄膜材料の蒸気は、内壁面に沿って移動する
際に、方向性ができてしまう。本発明の有機化合物容器
では、収容部底面の面積よりも、収納部上端の放出口の
面積の方が広くされており、典型的には円錐台形状にさ
れている。従って、有機薄膜材料の蒸気は収容部内を移
動する際に次第に広がってゆき、放出口から出る際に
は、真空槽内の広い範囲向かって放出され、大口径基板
表面に有機薄膜材料の蒸気が均一に付着し、均一な膜厚
の有機薄膜を形成することが可能となっている。
生した蒸気は収容部内を広がらないで移動するので、真
空槽内に放出されると収容部の中心軸線方向に向かうた
め、基板表面では、有機化合物容器の真上位置の有機薄
膜は厚くなり、他の位置では薄くなってしまう。
本体に複数の収容部を設けておくと、個々の収容部の放
出口の面積を小さくしながら放出口全体の面積を大きく
できるので、一層口径の大きな基板に均一に有機薄膜を
形成させることができる。この場合、各収容部を異なる
方向に向けておくと、真空槽内に放出される有機薄膜材
料の蒸気を一層均一に拡散させることができる。
く、有機薄膜材料と反応せず、また、不純物が溶出しな
い材料であることが必要であり、特に、粉体状の有機薄
膜材料を用いる場合には、不透明なことが望ましいの
で、カーボングラファイトや炭化珪素、又は炭化珪素を
コーティングしたカーボングラファイトで構成させると
よい。
を巻回し、容器本体を直接加熱できるようにしておく
と、粉体状の有機薄膜材料は突沸せず、温度制御性のよ
い有機蒸着源が得られる。
れば、有機薄膜の形成に適した真空蒸着装置を構成する
ことができる。特に、1台の真空槽に複数個配置し、一
緒に有機薄膜材料の蒸気を放出させた場合には、より大
口径の基板表面に均一な有機薄膜を形成することが可能
となる。
発明の有機化合物容器の第一例であり、同図(a)は平面
図、同図(b)はI−I線截断面図である。この有機化合
物容器10は、カーボングラファイトブロックが略円柱
形形状に成形されて成る容器本体11を有しており、そ
の上部底面の周囲には、つば部19が設けられている。
設されており、その孔が形成する空間によって収容部1
2が構成されている。従って、容器本体11の全体形状
は、略有底円筒形形状を呈している。
されており、上端の放出口14の直径は約10mmにさ
れている。従って、底面13の面積は、放出口14の面
積よりも小さくされている。底面13及び放出口14は
円形であり、収容部12全体は円錐台形状を呈してい
る。
を収納し、容器本体11を加熱すると有機薄膜材料が容
器本体11の壁面から熱せられ、有機薄膜材料の蒸気が
発生する。その蒸気は、図4に示すように、放出口14
から放出される(図4では有機薄膜材料は図示しな
い。)。
で、その内壁面15が構成する錐面の母線17は、中心
軸線18に対して広がっており、収容部12を有機薄膜
材料の蒸気40が収容部12内を上方に移動する際に、
次第に広がってゆき、その状態で放出口14から放出さ
れる。従って、その蒸気は、中心軸線18方向の他、母
線17方向にも放出されるため、側方に向けて、多量の
有機薄膜材料の蒸気40が拡散する。
収容部12では真空槽内に蒸気40が均一に拡散し、大
口径基板表面に膜厚分布の均一な有機薄膜を形成でき
る。
明の有機化合物容器の第二例を示しており、同図(a)は
平面図、同図(b)はII−II線截断面図である。この
有機化合物容器20は、第一例の有機化合物容器10と
同様に、カーボングラファイトから成る容器本体21を
有している。該容器本体21は略円柱形形状に成形され
ており、その上部底面側から4個の孔が穿設され、それ
らの孔が各々形成する空間によって、4個の収容部22
1〜224が構成されている。
おり、それらの底面231〜234の直径は約5mm、放
出口241〜244の直径は約10mmにされている。従
って、放出口241〜244の面積は、底面231〜234
の面積よりも広く、それぞれ略円錐台形状を呈してい
る。
は、有機化合物容器20の中心軸線28に対し、側方に
広がるように傾斜されており、且つ、中心軸線28に遠
い母線の傾斜の方が大きくなるようにされている。従っ
て、各収容部221〜224は中心軸線に対して傾斜して
おり、粉体状の有機薄膜材料を配置し、加熱た場合に
は、各週要部221〜224内を上方に移動する際に次第
に広がるばかりでなく、真空槽内に放出される際に、中
心軸線28を中心として放射状に放出されるので、第一
例の有機化合物容器10よりも、一層均一に拡散する。
明の有機化合物容器の第三例を示しており、同図(a)は
平面図、同図(b)はIII−III線截断面図である。
合物容器10、20と同様に、カーボングラファイトか
ら成る容器本体31を有している。その容器本体31
は、略円柱形形状に成形された円柱部36と、半球形形
状に成形され、底面が円柱部36状に配置された半球部
37とで構成されており、半球部37側から4個の孔が
穿設され、各孔が形成する空間によって4個の収容部3
21〜324が構成されている。従って、各収容部321
〜324の放出口341〜344は半球部37表面に位置
している。それら放出口341〜344は対称に配置され
ている。
容部221〜224と同様に、底面331〜334の直径が
放出口341〜344の直径よりも小さくされており、各
収容部321〜324の壁面は351〜354は、中心軸線
38に対して外方に向けて傾斜されている。その傾斜
は、上記第二例の有機化合物容器20と同様に、中心軸
線38から離れるほど大きくなるようにされている。
機化合物容器20と異なり、放出口341〜344は半球
部37上に位置しているため、各放出口341〜344の
縁部分は、中心軸線38側では容器本体31壁面が最上
部まで存し、外周側では、壁面が低位置で終端してい
る。
れた有機薄膜材料の蒸気は、収容部321〜324内を移
動する際に広がるばかりでなく、放出口341〜344の
中心軸線38側よりも外周側の方から先に真空槽内に放
出されるので、側方に拡散する蒸気の量は、第二例の有
機化合物容器20よりも更に多くなり、より大口径の基
板表面に均一な有機薄膜を形成できるようになる。
0、20、30を、従来技術の有機化合物容器110に
替え、有機薄膜を形成する場合を説明する。有機化合物
容器10、20、30(いずれか1個)の収容部12、2
2、32に有機薄膜材料を収納させた状態で、図5に示
す有機蒸着源40のケーシング41内に装着し、真空蒸
着装置50の真空槽51底壁に配置する。
ダ52に基板53を保持させ、基板53を有機蒸着源4
0に対向させた状態にする。真空槽51内を真空排気し
た後、有機化合物容器10、20、30に直接巻き回し
たマイクロヒータ46に通電し、放出口14、24、3
4から有機薄膜材料の蒸気を放出させる。
に有機薄膜材料の蒸気を均一に放出させ、膜厚モニター
56によって成膜レートを測定しながら基板53表面に
有機薄膜材料の蒸気を付着させる。
緒に回転させておき、大口径の基板53表面に均一な膜
厚の有機薄膜を形成する。
30はカーボングラファイトで構成させたが、炭化珪素
で構成させてもよい。また、炭化珪素をコーティングし
たカーボングラファイトで構成させてもよい。更に、カ
ーボングラファイトや炭化珪素に他の材料を表面コーテ
ィングしたものでもよい。
と反応せず、また、不純物が溶出しない材料であればよ
い。特に、カーボングラファイトや炭化珪素、又は炭化
珪素をコーティングしたカーボングラファイトは上記条
件を満たし、不透明で赤外線を遮蔽するので、有機化合
物容器10、20、30にマイクロヒータを直接巻回し
て加熱しても、有機薄膜材料に赤外線が照射されること
はない。従って、有機蒸着源40に均熱管を設ける必要
がなくなる。
51内に1個の有機蒸着源40を配置したが、1台の真
空槽51に対し、本発明の有機化合物容器10、20、
30のいずれかを装着した有機蒸着源40を複数個配置
してもよい。
機薄膜材料を収納し、一緒に蒸気を放出させると、より
一層大口径の基板表面に均一な有機薄膜を形成できるよ
うになる。
薄膜材料を配置してもよい。例えば、多層有機膜を形成
する場合や、ドーパントと有機薄膜の母材となる有機化
合物とを別々の有機蒸着源40に収納させる場合であ
る。
を形成できる。収納部を大面積化せずに済むので、有機
薄膜材料が残ってしまうことはない。
説明するための図
31……容器本体 12、22、32……収容部
14、24、34……放出口 40……有機蒸着源
46……ヒータ 50……真空蒸着装置
Claims (6)
- 【請求項1】容器本体と、前記容器本体に設けられた孔
で構成された収容部とを有し、 前記収容部に有機薄膜材料を収納して真空槽内に配置
し、前記容器本体を加熱すると、前記収容部上端の放出
口から前記真空槽内に向けて、前記有機薄膜材料の蒸気
を放出できるように構成された有機化合物容器であっ
て、 前記収容部は底面の面積よりも放出口の面積の方が大き
くされていることを特徴とする有機化合物容器。 - 【請求項2】前記収容部は前記容器本体に複数設けられ
ていることを特徴とする請求項1記載の有機化合物容
器。 - 【請求項3】前記収容部は円錐台形状に成形されている
ことを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか1項
記載の有機化合物容器。 - 【請求項4】請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載
の有機化合物容器であって、前記容器本体は、カーボン
グラファイト製、炭化珪素製、又は炭化珪素がコーティ
ングされたカーボングラファイト製であることを特徴と
する有機化合物容器。 - 【請求項5】請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載
の有機化合物容器と、 前記有機化合物容器の周囲に配置されたヒータとを有
し、前記ヒータに通電すると、前記有機化合物容器を加
熱できるように構成されたことを特徴とする有機蒸着
源。 - 【請求項6】真空槽内に、請求項5記載の有機蒸着源
が、少なくとも1個以上配置されていることを特徴とす
る真空蒸着装置。
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|---|---|---|---|
| JP21817097A JP3817036B2 (ja) | 1997-07-29 | 1997-07-29 | 有機化合物蒸発用容器、有機蒸着源、及び真空蒸着装置 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3817036B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003027218A (ja) * | 2001-06-11 | 2003-01-29 | Applied Films Gmbh & Co Kg | 大面積基板のコーティング装置 |
| JP2006152440A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Samsung Sdi Co Ltd | 蒸発源及びこれを備えた蒸着装置 |
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1997
- 1997-07-29 JP JP21817097A patent/JP3817036B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US8012260B2 (en) | 2001-06-11 | 2011-09-06 | Applied Materials Gmbh & Co. Kg | Apparatus and method for coating an areal substrate |
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