JPH1150263A - 安定化水素吸蔵合金の製造方法 - Google Patents
安定化水素吸蔵合金の製造方法Info
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Abstract
ニウムとニッケルを主成分とする組成又はそのチタニウ
ムの一部をジルコニウムで置換した組成を有する水素吸
蔵合金をフッ化処理して安定化する方法を提供する。 【解決手段】 前記水素吸蔵合金に10原子%以下の量
の希土類金属を溶融含有させたのち、フッ素イオン含有
水溶液で処理することにより、該合金の表面及び粒界面
に希土類金属のフッ化物又は水酸化物を形成させる。
Description
面にフッ化物を形成させることにより、水素化反応特性
と電気化学的特性の初期特性が著しく改善され、かつ長
期間にわたって特性が劣化することなく使用しうる水素
吸蔵合金を製造する方法に関するものである。
蔵合金が注目され、積極的に応用研究がなされている。
この水素吸蔵合金は、圧力を加えたり、温度を低くした
りすると水素を吸収して金属水素化合物になり、発熱
し、逆に圧力を下げたり、温度を高くしたりすると、吸
収していた水素を再び放出して熱を奪うという性質を有
している。したがって、このような性質を利用して、該
水素貯蔵合金を、水素そのものや熱エネルギーの貯蔵、
あるいは化学エネルギーと熱エネルギーの変換などに利
用することが可能であり、例えば水素貯蔵装置や排熱利
用のヒートポンプ、ケミカルエンジンや、ニッケル−水
素電池の電極材料などに利用することが試みられてい
る。
2型として分類されるチタニウム又はジルコニウムとニ
ッケルを主成分とするC−14構造若しくはC−15構
造をもつラベース相系の水素吸蔵合金例えばTi0.1Z
r0.9V0.2Mn0.6Co0.1Ni1.1や、AB型として分
類されるチタニウム又はジルコニウムとニッケルを主成
分とする水素吸蔵合金例えばTi0.7Zr0.3Ni0.5M
n0.5などが理論的水素吸蔵量が多く電気化学的容量も
大きいことから、水素貯蔵材料や電極材料として期待さ
れているが、これらは表面がち密な状態で酸化されるこ
とにより水素化反応特性や充電−放電特性、特に初期活
性化特性が悪く、水素化−脱水素化反応や充電−放電の
繰り返しにより急速にその機能を低下するという欠点が
ある。前記の酸化により形成される層は、アルカリ処理
により一時的に除去することは可能であるが、長期間に
わたって使用すると、耐酸化性や耐被毒性をそう失する
ため実用に供することは非常に困難であった。
を主成分とする水素吸蔵合金について、フッ化処理する
ことにより、長期間にわたって安定に使用できるものが
得られることを見出したが(特開平7−207493号
公報)、AB2型、AB型及びBCC型合金について、
同様のフッ化処理を施すと、表面酸化物は容易に除去し
うるが表面におけるフッ化物形成が行われず、安定化は
不成功に終った。
ッ化処理による安定化が困難であったチタニウムとニッ
ケルを主成分とする組成又はそのチタニウムの一部をジ
ルコニウムで置換した組成を有する水素吸蔵合金をフッ
化処理して安定化する方法を提供するためになされたも
のである。
とニッケルあるいはこの両方とジルコニウムを成分とし
て含むAB2型、AB型及びBCC型合金のフッ化処理
による安定化を可能にするために鋭意研究を重ねた結
果、これらの合金中に希土類金属を微量だけ溶解させ
て、希土類系ニッケル合金、例えばLaNi3の新たな
相を母合金間に分散状態で形成させたのち、これをフッ
化処理することにより、その目的を達成しうることを見
出し、この知見に基づいて本発明をなすに至った。
ルを主成分とする組成又はそのチタニウムの一部がジル
コニウムで置換された組成を有する水素吸蔵合金に10
原子%以下の量の希土類金属を溶融含有させたのち、フ
ッ素イオン含有水溶液で処理することにより、該合金の
表面及び粒界面に希土類金属のフッ化物又は水酸化物を
形成させることを特徴とする安定化水素吸蔵合金の製造
方法を提供するものである。また、この際、フッ素イオ
ン含有水溶液の水素イオン濃度をpH4.5〜8.0の
範囲で調整して、合金表面上での水素化反応を促進させ
ることにより生じる格子膨張と収縮による微細で複雑な
表面構造を形成させ、比表面積を50〜500倍程度増
大する方法を提供するものである。
水素吸蔵合金は、チタニウムとニッケルを主成分とする
組成又はそのチタニウムの一部をジルコニウムで置換し
た組成を有するAB2型、AB型及びBCC型合金であ
る。この合金は、チタニウム、ニッケル及びジルコニウ
ム以外にマンガン、バナジウム、コバルト、アルミニウ
ム、カルシウムなどを含有することができる。これらの
合金の中でAB2型のものの例としては、Ti0.1Zr
0.9V0.2Mn0.6Co0.1Ni1.1を、AB型のものの例
としては、Ti0.7Zr0.3Ni0.5Mn0.5を、BCC型
のものの例としては、TiV3Ni0.5をそれぞれ挙げる
ことができる。
せる希土類金属としては、スカンジウム、イットリウ
ム、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プ
ロメチウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウ
ム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビ
ウム、ツリウム、イッテルビウム及びルテチウムがある
が、本発明方法においては、これらを単独で用いてもよ
いし、2種以上の混合物例えばミッシュメタルを用いて
もよい。特に好ましい希土類金属はランタンである。
金に上記の希土類金属を10原子%以下、好ましくは
0.5〜5原子%の範囲で添加し、溶融して含有させる
ことが必要である。この含有量があまり少ないと、後続
のフッ化処理の際、十分なフッ化物が生成しないし、ま
た10原子%よりも大きくなると水素吸蔵能力が低下す
る。
希土類金属を含有させるには、あらかじめ製造した水素
吸蔵合金を溶融し、これに所定量の希土類金属を添加
し、均一に分散させてもよいし、また原料の水素吸蔵合
金の組成に対応する各成分とともに所定量の希土類金属
を混合し、これを溶融して合金としてもよい。この際の
溶融温度としては、水素吸蔵合金の組成に左右される
が、通常900〜1800℃の範囲内である。この溶融
は、一般に合金を製造する場合に用いられている任意の
方法例えば電気炉法やアーク溶解法などによって行うこ
とができる。この際、アルゴンのような不活性ガス雰囲
気中で行うのが望ましい。このようにして、希土類金属
を含有させたことにより、原料の水素吸蔵合金の水素吸
蔵能力は全くそこなわれることはない。
水素吸蔵合金は機械的に500μm以下、好ましくは5
0〜300μmの粒径の粒子に粉砕され、フッ素イオン
含有水溶液により処理される。この際必要ならば、この
合金粒子に水素化/脱水素化処理を繰り返し施すことに
より、さらに微粉砕して、粒径を小さくしてもよいし、
また、このようにして得た合金粒子を常法に従いプレス
成形してペレットとしたのち、後続工程に供給すること
もできる。
吸蔵合金のフッ化に用いるフッ素イオン含有水溶液とし
ては、特開平7−207493号公報及び特願平8−1
32264号明細書に記載されているもの、例えば六フ
ッ化金属化合物の水溶液やフッ化アルカリ0.2〜1
0.0重量%を含む水溶液を、フッ化水素によりpH
2.0〜6.5に調整した処理液を挙げることができ
る。この際のフッ化アルカリとしては、フッ化ナトリウ
ム、フッ化カリウム、フッ化アンモニウムなどが用いら
れるが、特にフッ化カリウムが好ましい。これらのフッ
化アルカリは、0.2〜10.0重量%の範囲の濃度で
水に溶解される。特に好ましい濃度は、フッ化ナトリウ
ムの場合0.3〜3.0重量%、フッ化カリウムの場合
0.5〜5.0重量%、フッ化アンモニウムの場合0.
5〜8.0重量%の範囲である。
合物を水に溶解して得られるF-イオン、HF2 -イオン
とともに、H+イオンを含むフッ化水素水溶液、K+イオ
ン、NH4 +イオンのような陽イオンが共存するフッ化物
水溶液などを用いることができる。この際の溶媒として
は、通常水単独が用いられるが、場合によりアルコー
ル、アセトンのような水溶性溶媒を併用することもでき
る。そして、このフッ素イオン含有水溶液には、ニッケ
ル化合物例えばフッ化ニッケルをあらかじめ含有させて
おき、水素吸蔵合金中からニッケルが溶出するのを抑制
したり、あるいは溶出により減少するニッケル成分を補
足することができる。
好適に行うには、例えばまずM3AlF6、M2TiF6、
M2ZrF6、M2SiF6(ただし、Mはカリウムやナト
リウムなどのアルカリ金属である)などのフッ化金属化
合物を重量/容量比(W/V)で0.01〜0.5程度
となるように水に溶解し、十分に撹拌、混合して過飽和
水溶液を調製する。次いで、この過飽和水溶液中に、前
記合金粒子を浸せきし、通常常圧下に0〜60℃程度、
好ましくは15〜40℃の温度において、0.5〜5時
間処理する。
ニウムとニッケルを主成分とする組成又はそのチタニウ
ムの一部がジルコニウムで置換された組成を有する水素
吸蔵合金中に、希土類系ニッケル合金例えばLaNi3
の新たな相が生成し、これが母合金相間に分散された状
態でフッ化物を形成する。そして、このフッ化されたL
a−Ni合金相の水素に対する強い選択性と透過性によ
って、水素化反応特性と電気化学的特性の初期特性の著
しい向上が得られる。この際、水素イオン濃度をpH
4.5〜8.0の範囲内に維持し、処理時間と水素イオ
ン濃度との関係を適当に制御すると希土類金属のフッ化
物例えばフッ化ランタンの代りに、希土類金属の水酸化
物例えば水酸化ランタンが合金表面及び粒界面に生成す
る。また、フッ素イオン含有水溶液中にニッケルイオン
をあらかじめ溶解させておけば、この処理によりフッ化
物の生成と同時に金属ニッケルの還元を生じ、水素透過
性が向上し、かつ表面保護機能とともに伝導性の高い表
面層が形成される。
水素化あるいは充電/放電の繰り返しの際の格子の膨張
/収縮による細かなひび割れが発生すると、フッ化物や
ニッケルの保護層を有しない新たな表面を生じ、それが
耐被毒性及び繰り返し寿命の低下を招来するおそれがあ
る。このため、あらかじめ細かなひび割れによる新しい
表面を作り、その表面に保護層を形成させておき、前記
のようなトラブルを避けるのが望まれる。
水溶液による処理の過程で、フッ化水素水溶液を補充す
るか、あるいは酢酸水溶液や酢酸ナトリウム水溶液のよ
うな緩衝液を添加することにより、水素イオン濃度をp
H4.5〜8.0の範囲内で調整し、比表面積が大き
く、粒径の小さい粒子を製造することができる。これ
は、水溶液中の水素イオンが合金表面上での水素化反応
によって水素化物を形成し、その際に格子が膨張して微
細なひび割れを生じたもので、フッ素イオン含有水溶液
による処理は、フッ化された合金粒子を形成するだけで
はなく、同時にひび割れを発生させて比表面積を増大さ
せるものである。
る。 (イ)酸化物被膜が除去され、水素吸蔵能力が長期間に
わたって持続する。 (ロ)希土類金属ニッケル系合金相とその表面及び粒界
面でのフッ化物の形成により水素化特性が向上する。 (ハ)金属ニッケルと水酸化物が表面及び粒界面に形成
し、電気伝導性及び熱伝導性が向上する。 (ニ)金属ニッケルの還元により複合層が形成され、耐
食性や耐被毒性などの表面保護機能と電気伝導性及び熱
伝導性が向上する。 (ホ)フッ化物生成過程で進行する水素化反応により微
細な亀裂を生じ、これによって比表面積が増大し、増加
した表面及び粒界面に形成される希土類金属フッ化物又
は水酸化物と金属ニッケルとの複合相により、耐食性及
び耐被毒性などの表面保護機能と電気伝導性及び熱伝導
性が向上する。
明する。
0.625gに、ランタン5原子%を添加し、アルゴン雰
囲気下でアーク溶解法により溶解したのち、冷却する操
作を5回繰り返して均一な組成とした。この際の最大電
圧は250Vであった。次いで、これを機械的に粉砕
し、粒径26μm以下の粒子径をもつランタン含有水素
吸蔵合金粉末を調製した。別に特開平7−207493
号公報に記載された方法に従い、K3AlF640gを水
100gに溶解し、さらにNiF20.5gを加えて溶
解したのち、HFによりpH5.3に調整し、フッ素イ
オン含有水溶液を調製した。このようにして得たフッ素
イオン含有水溶液100ml中に、前記のランタン含有
水素吸蔵合金粉末5gを投入し、30℃において30分
間かきまぜたのち、ろ別し、洗水中にフッ素イオンが認
められなくなるまで水洗し、減圧乾燥することにより、
安定化水素吸蔵合金を製造した。
ウム3gを溶解し、さらにこれにフッ化ニッケル1.2
gとクエン酸三ナトリウム水和物7.4gを溶解した溶
液と、0.3重量%フッ化水素水溶液100mlに次亜
リン酸ナトリウム4.0gを溶解した溶液とを混合し、
安定化処理用のフッ素イオン含有水溶液を調製した。次
に、このフッ素イオン含有水溶液200ml中に実施例
1と同じランタン含有水素吸蔵合金粉末10gを投入
し、30℃において30分間かきまぜたのち、実施例1
と同様に水洗、乾燥することにより安定化水素吸蔵合金
を製造した。
をもつランタン含有水素吸蔵合金粉末5gを、実施例1
で用いたのと同じフッ素イオン含有水溶液200mlに
より、酢酸ナトリウムを含む酢酸水溶液を用いて、pH
を6.0〜8.0の範囲内で制御しながら30℃におい
て30分間フッ化処理した。この処理を、30分サイク
ルで繰り返したときの、pHの経時的変化を図1に示
す。このようにして、処理した後のランタン含有水素吸
蔵合金粉末の比表面積をBET法により測定したところ
5.72m2/gであり、処理前のものに比べ約84倍
も増大していることが分った。
0.6の粉末(A)、これに実施例1と同様にしてランタ
ン5原子%を含有させた合金の粉末(B)、前記(A)
を実施例1と同様にしてフッ化処理したもの(C)及び
前記(B)を実施例1と同様にしてフッ化処理したもの
(D)を用いて、次のようにして試験した。すなわち、
それぞれの粉末試料に対し、ポリテトラフルオロエチレ
ン5重量%を加え、4ton/cm2の圧力を用いて圧
縮成形し、直径13mm、厚さ1.5mmのペレットと
した。次に、このペレットを試験電極とし、60μHz
〜100kHzの周波数領域においてインピーダンスを
測定し、その結果を図2及び図3に示した。これらの図
から明らかなように、ランタンの有無にかかわらず、フ
ッ化処理を施した試料(C)及び(D)は、未処理試料
(A)及び(D)に比較してインピーダンスは大きく低
下している。また、ランタンの添加によりインピーダン
スは低下しているが、このことは、電気伝導性及びイオ
ン伝導性の低い酸化皮膜がなく、伝導性の大きい金属ニ
ッケルで覆われた表面形態を生じていることを示唆して
いる。最もインピーダンス低下の著しいのは、ランタン
添加合金をフッ化処理した試料(D)であり、図2から
このもののインピーダンスの著しい低下が電気及びイオ
ン伝導性の向上と密接に関係していることが分る。
0.6の粉末(A)、これにランタン5原子%を含有させ
た合金の粉末(B)、(A)を実施例2と同様にしてフ
ッ化処理したもの(E)及び(B)を実施例2と同様に
してフッ化処理したもの(F)をそれぞれ試料粉末とし
て用いて、以下の試験を行った。すなわち、それぞれの
粉末試料100重量部に対し、ニッケル粉末300重量
部及びポリテトラフルオロエチレン粉末20重量部を加
え、十分に混合したのち、4ton/cm2の圧力で圧
縮成形し、直径13mm、厚さ1.5mmのペレットを
作製した。次に、このペレットを試験電極とし、6N−
KOH電解液中で、正極Ni(OH)2、参照電極Hg
/HgOを用いて充電/放電試験を行った。この際の試
験条件は、雰囲気温度20℃、充電200mA/gで3
時間、休止時間10分、放電150mA/g、放電深度
−0.6Vであった。この試験結果を、サイクル数と放
電容量との関係を示すグラフとして図4に示す。この図
から分るように、フッ化処理を施さない試料の(A)と
(B)ではランタン未添加の方(A)が添加したもの
(B)よりも放電容量が高いが、いずれも初期放電容量
は低い。また、フッ化処理を施した試料(E)と(F)
では、ランタンを添加したもの(F)の方が明らかに優
れており、ランタンを添加してフッ化処理を施すことに
より、安定した高放電容量が得られることが分る。
ラフ。
のインピーダンス測定の結果を示す、虚部を縦軸、実部
を横軸としたグラフ。
インピーダンス測定の結果を示す、虚部を縦軸、実部を
横軸としたグラフ。
容量の関係を示すグラフ。
Claims (3)
- 【請求項1】 チタニウムとニッケルを主成分とする組
成又はそのチタニウムの一部がジルコニウムで置換され
た組成を有する水素吸蔵合金に10原子%以下の量の希
土類金属を溶融含有させたのち、フッ素イオン含有水溶
液で処理することにより、該合金の表面及び粒界面に希
土類金属のフッ化物又は水酸化物を形成させることを特
徴とする安定化水素吸蔵合金の製造方法。 - 【請求項2】 希土類金属がランタンである請求項1記
載の製造方法。 - 【請求項3】 フッ素イオン含有水溶液の水素イオン濃
度をpH4.5〜8.0の範囲で制御する請求項1又は
2記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9206083A JPH1150263A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 安定化水素吸蔵合金の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9206083A JPH1150263A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 安定化水素吸蔵合金の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1150263A true JPH1150263A (ja) | 1999-02-23 |
| JPH1150263A5 JPH1150263A5 (ja) | 2005-05-26 |
Family
ID=16517548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9206083A Pending JPH1150263A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 安定化水素吸蔵合金の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1150263A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016130561A1 (en) * | 2015-02-11 | 2016-08-18 | Basf Corporation | Hydrogen storage alloys |
| WO2016130624A1 (en) * | 2015-02-11 | 2016-08-18 | Basf Corporation | Hydrogen storage alloys |
| WO2016130621A1 (en) * | 2015-02-11 | 2016-08-18 | Basf Corporation | Hydrogen storage alloys |
| US10109855B2 (en) | 2015-02-11 | 2018-10-23 | Basf Corporation | Hydrogen storage alloys |
-
1997
- 1997-07-31 JP JP9206083A patent/JPH1150263A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016130561A1 (en) * | 2015-02-11 | 2016-08-18 | Basf Corporation | Hydrogen storage alloys |
| WO2016130624A1 (en) * | 2015-02-11 | 2016-08-18 | Basf Corporation | Hydrogen storage alloys |
| WO2016130621A1 (en) * | 2015-02-11 | 2016-08-18 | Basf Corporation | Hydrogen storage alloys |
| CN107208202A (zh) * | 2015-02-11 | 2017-09-26 | 巴斯夫公司 | 储氢合金 |
| CN107208203A (zh) * | 2015-02-11 | 2017-09-26 | 巴斯夫公司 | 储氢合金 |
| CN107208201A (zh) * | 2015-02-11 | 2017-09-26 | 巴斯夫公司 | 储氢合金 |
| US10109855B2 (en) | 2015-02-11 | 2018-10-23 | Basf Corporation | Hydrogen storage alloys |
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