JPH1150836A - 内燃機関の触媒再生装置 - Google Patents
内燃機関の触媒再生装置Info
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Abstract
浄化する。 【解決手段】 ケーシング19内に収容された触媒18
を排気通路内に配置する。触媒18を迂回するバイパス
管21内に、通常閉弁される圧力低下弁23を配置す
る。燃料噴射弁8から膨張行程または排気行程に2次燃
料噴射を行うことにより触媒18に炭化水素を供給し、
この炭化水素によりNOX を還元する。触媒18が被毒
したと判断されたときには2次燃料噴射時期を早めて排
気温度を高めることにより触媒18を加熱し、圧力低下
弁23を開弁してケーシング19内の圧力を低下させ
る。
Description
装置に関する。
常、吸着機能を備えた多孔質担体を備えている。ところ
が、機関から排出される排気中にはSOF(有機可溶成
分)が含まれており、このSOFは触媒の多孔質担体内
に吸着される。ところが、多孔質担体の表面から離間し
た奥部に吸着されたSOFは多孔質担体から離脱しにく
く、また例えばゼオライトのような多孔質担体はそれ自
体触媒機能を備えているのでSOFが多孔質担体内に長
期にわたって存在すると次第に改質されることになる。
ところがこのように改質されたSOFが触媒金属を覆
い、或いは多孔質担体の細孔を目詰まりさせるようにな
るとNOX および還元剤が触媒金属に到達できなくな
り、斯くして触媒がSOFにより被毒することになる。
て多孔質担体の温度が或る程度高くなると燃焼する。そ
こで、触媒がSOFにより被毒したか否かを検出し、触
媒の被毒が検出されたときに触媒を加熱することにより
SOFを燃焼せしめ、それにより触媒を再生するように
したディーゼル機関の触媒再生装置が公知である(特開
平6−200737号公報参照)。
の表面上または表面付近に位置するSOFは比較的容易
に加熱されて燃焼せしめられる。しかしながら、多孔質
担体の奥部に位置するSOFを燃焼可能な温度まで加熱
するのは困難であり、すなわち触媒を十分に再生させる
のが困難であるという問題点がある。
に1番目の発明によれば、機関排気通路内に配置された
ケーシング内に触媒を収容した内燃機関において、触媒
が被毒したか否かを検出して触媒の被毒が検出されたと
きにケーシング内の排気圧力を低下させつつ触媒を加熱
することにより触媒を再生するようにしている。すなわ
ち1番目の発明では、ケーシング内の圧力を低下させる
ことによってSOFが触媒担体から離脱せしめられ或い
は触媒担体の表面付近まで移動せしめられるのでSOF
が容易に加熱、燃焼せしめられる。
において、前記触媒に触媒加熱用燃料を供給して触媒加
熱用燃料を触媒において燃焼せしめることにより触媒を
加熱するようにしている。すなわち2番目の発明では、
触媒を加熱するためのエネルギが低減される。また、3
番目の発明によれば2番目の発明において、前記触媒内
または触媒上流の前記ケーシング内に前記触媒加熱用燃
料を吸着可能な吸着材を収容し、吸着材の吸着容量はケ
ーシング内の排気圧力が低くなるにつれて小さくなり、
触媒を再生すべくケーシング内の排気圧力を低下させる
のに先立って吸着材内に触媒加熱用燃料を吸着させてお
き、触媒を再生すべくケーシング内の排気圧力が低下さ
れると吸着材から吸着されている触媒加熱用燃料が放出
されて触媒に供給されるようにしている。すなわち3番
目の発明では、単位時間当たりに触媒に供給される触媒
加熱用燃料量が増大される。
において、前記触媒が有機可溶成分またはイオウ分によ
り被毒したか否かを検出するようにしている。
関に適用した場合について説明する。しかしながら、本
発明を火花点火式機関に適用することもできる。図1を
参照すると、1は機関本体、2はピストン、3は燃焼
室、4は吸気ポート、5は吸気弁、6は排気ポート、7
は排気弁、8は燃焼室3内に燃料を直接噴射する電磁式
の燃料噴射弁をそれぞれ示す。各燃料噴射弁8は燃料用
蓄圧室9を介して燃料ポンプ10に接続される。このよ
うにすると各気筒の1燃焼サイクルにおいて複数回燃料
噴射を行うことができる。各気筒の吸気ポート4はそれ
ぞれ対応する吸気枝管11を介して共通のサージタンク
12に接続され、サージタンク12は吸気ダクト13を
介してエアフロメータ14およびエアクリーナ15に接
続される。一方、各気筒の排気ポート6は共通の排気マ
ニホルド16に接続され、この排気マニホルド16は排
気管17を介して触媒18を収容したケーシング19に
接続され、このケーシング19は排気管20に接続され
る。また、触媒18を迂回して排気管17と排気管20
とを互いに接続するバイパス管21が設けられており、
このバイパス管21内にはアクチュエータ22により駆
動される圧力低下弁23が配置される。この圧力低下弁
23は通常閉弁に維持されている。なお、各燃料噴射弁
8およびアクチュエータ22は電子制御ユニット30か
らの出力信号に基づいてそれぞれ制御される。
ルコンピュータからなり、双方向性バス31を介して相
互に接続されたROM(リードオンリメモリ)32、R
AM(ランダムアクセスメモリ)33、CPU(マイク
ロプロセッサ)34、入力ポート35、および出力ポー
ト36を具備する。エアフロメータ14は吸入空気量G
aに比例した出力電圧を発生し、踏み込み量センサ37
はアクセルペダル38の踏み込み量DEPに比例した出
力電圧を発生する。また、ケーシング19の排気流入口
に隣接する排気管17にはケーシング19内に流入する
排気の温度に比例した出力電圧を発生する温度センサ3
9uが取り付けられ、ケーシング19の排気流出口に隣
接する排気管20にはケーシング19から流出した排気
の温度に比例した出力電圧を発生する温度センサ39d
が取り付けられる。これらエアフロメータ14、踏み込
み量センサ37、および温度センサ39u,39dの出
力電圧はそれぞれ対応するAD変換器40を介して入力
ポート35に入力される。さらに、入力ポート35には
クランクシャフトが例えば30度回転する毎に出力パル
スを発生するクランク角センサ41が接続される。CP
U34ではこの出力パルスに基づいて機関回転数Nが算
出される。一方、出力ポート36はそれぞれ対応する駆
動回路42を介して各燃料噴射弁8およびアクチュエー
タ22にそれぞれ接続される。
ライト、アルミナAl2 O3 、シリカアルミナSiO2
・Al2 O3 、活性炭、チタニアTiO2 のような多孔
質担体上に白金Pt、パラジウムPd、ロジウムRh、
イリジウムIrのような貴金属、または銅Cu、鉄F
e、コバルトCo、ニッケルNiのような遷移金属をイ
オン交換により担持させることにより形成される。ゼオ
ライトとして例えばZSM−5型、フェリエライト、モ
ルデナイトなどの高シリカ含有ゼオライトを用いること
ができる。この触媒18は例えば炭化水素HC、一酸化
炭素COなどの還元剤を含む酸素雰囲気において流入す
る排気中のNOX をこれらHC、COなどと選択的に反
応せしめ、それによってNOX を窒素N2 に還元するこ
とができる。すなわち、触媒18は流入する排気中が還
元剤を含んでいると、たとえ酸素雰囲気であっても流入
する排気中のNOX を還元する。
排出されるスモークやパティキュレートを低減するため
に常時、空燃比を理論空燃比よりもリーンに維持してお
り、したがって触媒18に流入する排気は常時、酸素雰
囲気に維持されている。その結果、触媒18においてN
OX が常時、良好に還元される。この場合、機関から排
出される未燃HCやCOなどがNOX の還元剤として作
用しうる。しかしながら、ディーゼル機関から排出され
る未燃HC量などに比べて浄化すべきNOX 量は圧倒的
に多く、すなわちNOX を良好に浄化するための還元剤
が不足する。そこで、図1の内燃機関では触媒18に還
元剤を2次的に供給し、それによって還元剤がNOX に
対し不足しないようにしている。
に、触媒18上流の排気通路内に還元剤を供給する還元
剤供給装置を設けてもよい。また、還元剤として例えば
ガソリン、イソオクタン、ヘキサン、ヘプタン、軽油、
灯油のような炭化水素、液体の状態で保存しうるブタ
ン、プロパンのような炭化水素、水素、或いはアンモニ
アなどを用いることができる。しかしながら、図1の内
燃機関では還元剤として機関の燃料(炭化水素)を用
い、燃料噴射弁8から膨張行程または排気行程に燃料噴
射を行うことにより触媒18に還元剤を供給するように
している。このように膨張行程または排気行程に行われ
る燃料噴射は例えば圧縮上死点周りにおいて行われる通
常の機関出力のための燃料噴射とは異なるものであり、
この燃料は機関出力にほとんど寄与しない。このように
すると別個の還元剤供給装置および還元剤タンクを必要
としない。以下では、このように膨張行程または排気行
程に行われる燃料噴射を2次燃料噴射と称する。なお、
2次燃料噴射は例えば圧縮上死点後150°クランク角
度において行われる。
質担体を備えているので炭化水素(還元剤)を物理吸着
でもって吸着可能であり、すなわち触媒18は炭化水素
(還元剤)吸着材として作用しうる。この場合、触媒1
8の炭化水素吸着容量は例えば触媒18の温度が低くな
るにつれて大きくなる。したがって、触媒18は触媒1
8の温度が低くなると流入する排気中の炭化水素を蓄
え、触媒18の温度が高くなると蓄えている炭化水素を
放出する炭化水素吸放出作用を行うと考えることができ
る。
たに流入した炭化水素によるNOX還元作用と、触媒1
8から放出された炭化水素によるNOX 還元作用とが行
われることになる。しかしながら本願発明者らによれ
ば、触媒18に新たに流入する炭化水素によるNOX 還
元作用よりも触媒18から放出された炭化水素によるN
OX 還元作用のほうが優れていることが確認されてい
る。
れたNOX 還元作用を有しているかについては明らかに
されていない部分もある。しかしながら、NOX 還元作
用が以下のようなメカニズムで行われているためである
と考えられる。すなわち、触媒18を多孔質担体に白金
Ptを担持させて形成した場合を示す図2を参照する
と、排気中の炭化水素HCは一旦多孔質担体内に吸着さ
れる。この吸着された炭化水素HCは多孔質担体内を移
動し、次いで例えば触媒18の温度が高くなると多孔質
担体から放出される。この場合、炭化水素HCは白金P
t粒子の表面に沿いつつまたは白金Pt粒子の極く近く
において多孔質担体から放出され、次いで白金Pt粒子
の表面上に移動する。すなわち、触媒18内に炭化水素
HCを吸着させた後に触媒18から炭化水素HCを放出
させるようにすると多量の炭化水素HCが白金Pt粒子
の表面上に存在しうる。一方、NOX および炭化水素H
Cが互いに隣接して白金Pt粒子の表面上に存在すると
このNOX が炭化水素HCにより還元される。したがっ
て、このように白金Pt粒子の表面上に多量の炭化水素
HCが存在すると流入する排気中のNOX を良好に還元
することができることになる。これに対し、触媒18に
吸着されることなく触媒18内を流動する炭化水素HC
は必ずしも白金Pt粒子の表面上に到達しない。したが
って、白金Pt粒子の表面上に存在する炭化水素はそれ
ほど多くなく、斯くしてこの場合にはNOX を必ずしも
十分に還元することができない。
に新たに流入する炭化水素によるNOX 還元作用に加
え、触媒18から放出された炭化水素によるNOX 還元
作用も行われており、したがって触媒18においてNO
X を良好に浄化できることになる。ところが、機関から
排出される排気中にはSOF(有機可溶成分)が含まれ
ており、還元剤ばかりでなくこのSOFも触媒18の多
孔質担体内に吸着される。ところが、多孔質担体の表面
から離間した奥部に吸着されたSOFは多孔質担体から
離脱しにくく、また例えばゼオライトのような多孔質担
体はそれ自体触媒機能を備えているのでSOFが多孔質
担体内に長期にわたって存在すると次第に改質されるこ
とになる。ところがこのように改質されたSOFが触媒
金属を覆い、或いは多孔質担体の細孔を目詰まりさせる
ようになるとNOX および還元剤が触媒金属に到達でき
なくなり、斯くして触媒18がSOFにより被毒するこ
とになる。
ばSO2 の形のイオウ分も含まれており、このイオウ分
も触媒18の多孔質担体内に吸着される。ところが、触
媒18内に例えばバリウムBaのようなアルカリ土類金
属が含まれていると多孔質担体内に吸着されたイオウ分
は硫酸塩(BaSO4 )を形成し、この硫酸塩は化学的
に安定であるので多孔質担体から離脱しにくい。その結
果、多孔質担体の炭化水素吸着能力が低下し、或いは多
孔質担体の細孔を目詰まりさせ、斯くして触媒18がイ
オウ分により被毒することになる。
孔質担体の温度が高くなると燃焼し、硫酸塩は多孔質担
体の温度が高くなると分解してSO2 の形で多孔質担体
から離脱する。する。そこで、図1の内燃機関では触媒
18がSOFまたはイオウ分により被毒したか否かを判
断し、被毒していると判断されたときには触媒18を加
熱してSOFを燃焼せしめ、或いは硫酸塩を分解し、そ
れにより触媒18を再生するようにしている。
付近に位置するSOFまたはイオウ分は比較的容易に加
熱されて燃焼または分解せしめられる。しかしながら、
多孔質担体の表面から離間した奥部に位置するSOFま
たはイオウ分を燃焼または分解可能な温度まで加熱する
のは困難であり、したがって触媒18を長時間にわたっ
て加熱する必要があり、多大なエネルギが必要となる。
19内の排気圧力にも依存し、すなわちケーシング19
内の排気圧力が低くなるにつれて多孔質担体の吸着容量
が小さくなる。言い換えると、ケーシング19内の排気
圧力が低くなると多孔質担体に吸着されているSOFが
放出される。また、硫酸塩の分解温度もケーシング19
内の排気圧力に依存し、すなわちケーシング19内の排
気圧力が低くなるにつれて硫酸塩の分解温度が低くな
る。
生すべきときにはケーシング19内の排気圧力を低下さ
せつつ触媒18を加熱するようにしている。その結果、
多孔質担体の奥部に位置していたSOFが多孔質担体か
ら離脱せしめられ、或いは多孔質担体の表面付近まで移
動せしめられるので容易に加熱、燃焼せしめられる。ま
た、硫酸塩の分解温度が低下せしめられるので多孔質担
体内の硫酸塩が容易に分解せしめられる。したがって、
触媒18を容易に再生できることになる。
転運転時にはケーシング19内の排気圧力が低下するの
で低負荷、低回転運転時に触媒18を加熱すれば触媒1
8を十分に再生できると考えられる。しかしながら、こ
のような通常の機関運転による排気圧力変動では、触媒
18からSOFを十分に放出させ、或いは硫酸塩の分解
温度を十分に低下させるために必要な圧力低下は得られ
ない。そこで、本実施態様ではケーシング19上流の排
気通路から分岐したバイパス管21を設けると共にこの
バイパス管21内に圧力低下弁23を配置し、触媒18
の再生作用を行うべきときには圧力低下弁23を全開に
することによりケーシング19内の排気圧力を低下せし
めるようにしている。すなわち、圧力低下弁23を全開
にすると機関から排出された排気のほとんどがバイパス
管21内を流通するのでケーシング19内の排気圧力を
通常運転時よりも極めて低く、例えば大気圧程度まで低
下させることができる。
量は触媒温度が高くなるにつれて小さくなる。したがっ
て、触媒温度を高くすれば触媒18から例えばSOFを
十分に放出できると考えられる。ところが物理吸着が行
われる多孔質担体の吸着容量は温度よりも圧力に大きく
依存し、すなわちケーシング19内の排気圧力が高けれ
ば触媒温度を高くしても触媒18から例えばSOFを十
分に放出させることはできず、ケーシング19内の排気
圧力が低ければ触媒温度を低くしたとしても触媒18か
ら例えばSOFを十分に放出させることができる。ま
た、触媒18全体を概ね一定温度まで加熱するのに必要
な時間よりもケーシング19内全体の圧力を概ね一定圧
力まで低下させる時間のほうが極めて短い。そこで本発
明では、触媒18を再生すべきときにはケーシング19
内の排気圧力を低下させるようにしている。
再生方法について詳細に説明する。まず、触媒18がS
OFまたはイオウ分により被毒したか否かを検出する方
法について説明する。本実施態様では触媒18に流入す
る排気の温度と触媒18から流出する排気の温度との差
に基づいて触媒18が被毒したか否かを検出するように
している。すなわち、触媒18が活性状態にある場合、
触媒18が被毒していなければ触媒18において2次燃
料噴射により供給された炭化水素の酸化反応が活発に生
ずるので触媒18から排出される排気の温度すなわち出
口温度Tdは触媒18に流入する排気の温度すなわち入
口温度Tuよりも高くなり、出口温度Tdと入口温度T
uの温度差(Td−Tu)はしきい値DLTよりも大き
く維持される。ところが、触媒18が被毒すると炭化水
素の酸化反応が不活発になるのでこの温度差(Td−T
u)がしきい値DLTよりも小さくなる。そこで本実施
態様では、しきい値DLTを例えば機関運転状態に応じ
て予め求めておき、出口温度Tdと入口温度Tuの温度
差(Td−Tu)がこのしきい値DLTよりも小さくな
ったときに触媒18が被毒していると判断するようにし
ている。なお、設定値DLTは例えばアクセルペダルの
踏み込み量DEPと機関回転数Nとの関数として図3に
示すマップの形で予めROM32内に記憶されている。
方法について説明する。本実施態様におけるように燃焼
室3内において2次燃料噴射を行うようにすると2次燃
料噴射による炭化水素の一部が燃焼室3内で燃焼せしめ
られる。この場合、膨張行程または排気行程において2
次燃料噴射時期が早いときほど燃焼室3内で燃焼せしめ
られる炭化水素量が多くなり、すなわち2次燃料噴射時
期が早いときほど触媒18内に流入する排気の温度が高
くなる。触媒18内に流入する排気の温度が高くなると
触媒18の温度も高くなり、触媒18の温度が或る程度
高くなると2次燃料噴射による炭化水素の一部が触媒1
8においてNOX よりも酸素と活発に反応するようにな
る。すなわち、2次燃料噴射による炭化水素(燃料)が
触媒加熱用燃料として作用して触媒18において燃焼
し、その結果触媒18の温度が速やかに上昇する。そこ
で本実施態様では、触媒18を加熱すべきときには2次
燃料噴射時期を通常の2次燃料噴射時期よりも膨張行程
または排気行程において早めるようにしている。すなわ
ち、触媒18を加熱すべきときには2次燃料噴射時期を
例えば圧縮上死点後90°クランク角度から120°程
度に定めている。このようにすると触媒18を加熱する
ために追加の要素を必要とせず、複雑な制御も必要とし
ない。また、触媒18を加熱するためのエネルギを低減
することができる。
るために触媒18上流の排気通路内に追加の燃料供給装
置を設けてもよい。また、触媒加熱用燃料として例えば
ガソリン、イソオクタン、ヘキサン、ヘプタン、軽油、
灯油のような炭化水素、液体の状態で保存しうるブタ
ン、プロパンのような炭化水素、水素、或いはアンモニ
アなどを用いることができる。しかしながら、本実施態
様におけるように2次燃料噴射でもって炭化水素を供給
するようにすると別個の燃料供給装置および燃料タンク
を必要としない。
温度を代表する出口温度Tdが予め定められた設定温度
T1よりも高くなると、すなわちSOFが燃焼可能であ
りかつイオウ分が分解可能な温度まで触媒18が加熱さ
れると2次燃料噴射が停止され、すなわち触媒18の加
熱作用が停止される。次いで圧力低下弁23が開弁さ
れ、その結果ケーシング19内の圧力が低下せしめられ
て触媒18内のSOFが一斉に放出される。このとき触
媒18の温度はSOFが燃焼可能な温度よりも高く維持
されており、しかも触媒18は酸化雰囲気に維持されて
いるので触媒18から放出されたSOFが良好に燃焼す
る。また、このとき触媒18内の硫酸塩が一斉に分解し
て触媒18から放出され、斯くして触媒18が再生され
る。なお、本実施態様において設定温度T1は例えば6
00℃に定められるが、触媒18のイオウ分による被毒
を考慮しない場合には設定温度T1を例えば400℃に
定めることができる。
比較的高く維持されるが、SOFの燃焼が終了すると出
口温度Tdが次第に低下する。そこで、出口温度Tdが
T1よりも低く定められた設定温度T2(例えば300
℃)よりも低くなったときには触媒18の再生作用が完
了したと判断して圧力低下弁23を閉弁し、2次燃料噴
射を再開する。
ためのルーチンを示している。このルーチンは設定時間
毎の割り込みによって実行される。図4を参照すると、
まずステップ50では触媒18の被毒検出条件が成立し
ているか否かが判別される。本実施態様では、触媒18
が活性状態にありかつ前回の触媒再生作用から一定時間
以上経過しているときに被毒検出条件が成立していると
判断され、それ以外は被毒検出条件が成立していないと
判断される。被毒検出条件が成立していないときには処
理サイクルを終了し、被毒検出条件が成立しているとき
には次いでステップ51に進む。ステップ51ではしき
い値DLTが現在の機関運転状態に基づき図3のマップ
を用いて算出される。続くステップ52では出口温度T
dと入口温度Tuとの温度差(Td−Tu)がしきい値
DLTよりも小さいか否かが判別される。(Td−T
u)≧DLTのときには触媒18が被毒していないと判
断して処理サイクルを終了する。これに対し、(Td−
Tu)<DLTのときには触媒18が被毒していると判
断して次いでステップ53に進み、被毒フラグをセット
した後に処理サイクルを終了する。この被毒フラグは予
めリセットされており、触媒18が被毒していると判断
されたときにセットされ、触媒18の再生作用が完了す
ると再びリセットされる。
のルーチンを示している。このルーチンは設定時間毎の
割り込みによって実行される。図5を参照すると、まず
ステップ60では上述の被毒フラグがセットされている
か否かが判別される。被毒フラグがセットされていない
ときには次いでステップ61に進み、2次燃料噴射時期
TSFIがNORMとされる。このNORMは例えば圧
縮上死点後150°クランク角である。次いでステップ
62に進んで2次燃料噴射を行った後に処理サイクルを
終了する。したがって、還元剤としての炭化水素が触媒
18に供給される。なお、このとき圧力低下弁23は閉
弁されている。
されているときには次いでステップ63に進み、触媒1
8の加熱作用が完了したときにセットされ、それ以外は
リセットされる加熱フラグがセットされているか否かが
判別される。加熱フラグは通常リセットされているので
次いでステップ64に進み、2次燃料噴射時期TSFI
がADVとされる。このADVはNORMよりも早い例
えば圧縮上死点後90°クランク角である。次いでステ
ップ65に進み、2次燃料噴射が実行される。次いでス
テップ66に進み、出口温度Tdが設定温度T1よりも
高いか否かが判別される。Td≦T1のときには処理サ
イクルを終了し、これに対しTd>T1となったときに
は、すなわちSOFが燃焼可能でありかつイオウ分が分
解可能な温度まで触媒18が加熱されたときには次いで
ステップ67に進み、加熱フラグ67をセットする。次
いでステップ68に進んで圧力低下弁23を開弁し、し
たがってケーシング19内の圧力が低下せしめられる。
次いで処理サイクルを終了する。
プ63からステップ69に進み、2次燃料噴射が停止さ
れる。続くステップ70では出口温度Tdが設定温度T
2よりも低いか否かが判別される。Td≧T2のときに
は次いで処理サイクルを終了する。これに対し、Td<
T2のときには触媒18の再生作用が完了したと判断
し、次いでステップ71に進んで被毒フラグをリセット
し、次いでステップ72に進んで加熱フラグをリセット
する。次いでステップ73では圧力低下弁23が閉弁さ
れる。
ると、バイパス管21の排気流出端よりも上流の排気管
20内にはアクチュエータ43により駆動される圧力上
昇弁44が配置される。この圧力上昇弁44は通常、開
弁に維持されているが、排気ブレーキとして用いること
もできる。電子制御ユニット30の出力ポート36は対
応する駆動回路42を介してアクチュエータ43に接続
され、アクチュエータ43は電子制御ユニット30から
の出力信号に基づいて制御される。また、ケーシング1
9の排気流入口に隣接する排気管17にはケーシング1
9内に流入する排気中のNOX 濃度に比例した出力電圧
を発生する上流側濃度センサ45uが取り付けられ、ケ
ーシング19の排気流出口に隣接する排気管20にはケ
ーシング19から流出した排気中のNOX 濃度に比例し
た出力電圧を発生する下流側濃度センサ45dが取り付
けられる。これら濃度センサ45u,45dの出力電圧
はそれぞれ対応するAD変換器40を介して電子制御ユ
ニット30の入力ポート35に入力される。
19内には炭化水素を吸着可能な吸着材46が収容され
る。吸着材46は例えばシリカSiO2 のように触媒機
能を備えていないか或いは触媒機能が低い多孔質材から
形成される。この吸着材46の吸着容量はケーシング1
9内の排気圧力が低くなるにつれて小さくなり、したが
って吸着材46はケーシング19内の排気圧力が高くな
ると流入する排気中の炭化水素を蓄え、ケーシング19
内の排気圧力が低くなると吸着している炭化水素を放出
する吸放出作用を備えていると考えることができる。
射時期を早めて触媒18に流入する排気の温度を高め、
このとき2次燃料噴射による炭化水素が触媒加熱用燃料
として作用して触媒18において燃焼することにより触
媒18を加熱するようにしている。このように触媒18
を加熱する場合、単位時間当たりに触媒18に供給され
る触媒加熱用燃料量を多くすれば触媒18の加熱時間を
短縮することができ、したがって触媒18の再生時間を
短縮することができる。ところが、1回の2次燃料噴射
で噴射可能な燃料量には限界があり、また単位時間当た
りに行われる2次燃料噴射回数は機関回転数に依存す
る。したがって、2次燃料噴射でもって触媒18に触媒
加熱用燃料を供給するようにすると単位時間当たりに触
媒18に多量の触媒加熱用燃料を供給することができな
い。
すると吸着材46に吸着されている炭化水素が一斉に放
出され、この炭化水素は次いで触媒18に到る。また、
触媒18を再生すべきときには図1の内燃機関と同様に
ケーシング19内の排気圧力が低下せしめられる。そこ
で本実施態様では、触媒18の再生作用を行うべくケー
シング19内の排気圧力を低下するのに先立って吸着材
46内に炭化水素を予め吸着させておき、触媒18の再
生作用を行うべくケーシング19内の排気圧力を低下さ
せたときに吸着材から炭化水素が放出されこの炭化水素
が触媒18に供給されるようにしている。この場合、吸
着材46からは多量の炭化水素が一斉に放出され、この
多量の炭化水素は次いで触媒18に到って燃焼する。し
たがって、触媒18が速やかに加熱せしめられる。
るためには吸着材46に多量の炭化水素を予め吸着させ
ておけばよいが、上述したように吸着材46の吸着容量
はケーシング19内の排気圧力が低くなるにつれて大き
くなる。そこで本実施態様では、触媒18の被毒が検出
されたときにはまず圧力上昇弁44を一定時間だけ閉弁
してケーシング19内の排気圧力を高め、同時に2次燃
料噴射を行って吸着材46内に多量の炭化水素が吸着さ
れるようにしている。なお、この場合の2次燃料噴射時
期を早めることにより触媒18を加熱しておくと、次い
で吸着材46から放出されて触媒18に到った炭化水素
が速やかに燃焼を開始することができる。
する排気中のNOX 濃度と触媒18から流出する排気中
のNOX 濃度との差に基づいて触媒18が被毒したか否
かを検出するようにしている。すなわち、触媒18が被
毒すると触媒18に流入したNOX の一部は還元される
ことなく触媒18から排出されるようになる。そこで本
実施態様では上流側濃度センサ45uにより検出された
触媒18の入口部におけるNOX 濃度CNUと下流側濃
度センサ45dにより検出された触媒18の出口部にお
けるNOX 濃度CNDの差DCN(=CNU−CND)
を算出すると共にこの差DCNの平均値AVEを算出
し、この平均値AVEが設定値CN1よりも低いときに
は触媒18がSOFまたはイオウ分により被毒している
と判断するようにしている。
照して本実施態様をさらに詳細に説明する。図7および
図8に示すルーチンは設定時間毎の割り込みによってそ
れぞれ実行される。まず、触媒18の被毒を検出するた
めのルーチンを示す図7を参照すると、まずステップ8
0では触媒18の被毒検出条件が成立しているか否かが
判別される。本実施態様でも触媒18が活性状態にあり
かつ前回の触媒再生作用から一定時間以上経過している
ときに被毒検出条件が成立していると判断され、それ以
外は被毒検出条件が成立していないと判断される。被毒
検出条件が成立していないときには処理サイクルを終了
し、被毒検出条件が成立しているときには次いでステッ
プ81に進む。
るNOX 濃度CNUと触媒18の出口部におけるNOX
濃度CNDの差DCN(=CNU−CND)が算出され
る。続くステップ82ではこの差DCNの積算値SDが
算出され、続くステップ83ではDCNの積算回数を表
すカウント値Cが1だけインクリメントされる。続くス
テップ84ではカウント値Cが一定値nになったか否か
が判別される。C<nのときには処理サイクルを終了
し、C=nとなったときには次いでステップ85に進
む。ステップ85ではDCNの平均値AVE(=SD/
n)が算出される。続くステップ86では積算値SDが
クリアされ(SD=0)、続くステップ87ではカウン
ト値Cがクリアされる(C=0)。続くステップ88で
は平均値AVEが設定値CN1よりも小さいか否かが判
別される。AVE≧CN1のときは触媒18が被毒して
いないと判断して処理サイクルを終了する。これに対
し、AVE<CN1のときには触媒18が被毒している
と判断して次いでステップ89に進み、被毒フラグをセ
ットした後に処理サイクルを終了する。この被毒フラグ
は予めリセットされており、触媒18が被毒していると
判断されたときにセットされ、触媒18の再生作用が完
了すると再びリセットされる。
のルーチンを示す図8を参照すると、まずステップ90
では上述の被毒フラグがセットされているか否かが判別
される。被毒フラグがセットされていないときには次い
でステップ91に進み、2次燃料噴射時期TSFIがN
ORMとされる。このNORMは例えば圧縮上死点後1
50°クランク角である。次いでステップ92に進んで
2次燃料噴射を行った後に処理サイクルを終了する。し
たがって、還元剤としての炭化水素が触媒18に供給さ
れる。なお、このとき圧力低下弁23は閉弁されてお
り、圧力上昇弁44は開弁されている。ステップ90に
おいて被毒フラグがセットされているときには次いでス
テップ93に進み、吸着材46への炭化水素吸着作用が
完了したときにセットされ、それ以外はリセットされる
吸着フラグがセットされているか否かが判別される。吸
着フラグは通常リセットされているので次いでステップ
94に進み、圧力上昇弁44が閉弁される。この場合の
圧力上昇弁44の開度は機関背圧の上昇に伴う機関出力
の低下を許容範囲内に維持しつつケーシング19内の排
気圧力を十分に上昇させるのに最適な開度であって予め
実験により求められている。次いでステップ95に進
み、2次燃料噴射時期TSFIがADVとされる。この
ADVはNORMよりも早い例えば圧縮上死点後90°
クランク角である。次いでステップ96に進み、2次燃
料噴射が実行される。したがって、触媒加熱用燃料とし
ての炭化水素が吸着材46内に吸着される。また、触媒
18が加熱される。次いでステップ97に進み、圧力上
昇弁44が閉弁されてから一定時間が経過した否か、す
なわち吸着材46への炭化水素吸着作用が一定時間だけ
行われたか否かが判別される。一定時間が経過していな
いときには処理サイクルを終了し、これに対し一定時間
が経過したときには吸着材46内に触媒18を十分に加
熱するのに十分な量の炭化水素が吸着されたと判断して
次いでステップ98に進み、吸着フラグをセットする。
次いでステップ99に進んで圧力低下弁23を開弁し、
次いでステップ100に進んで圧力上昇弁44を開弁し
た後に処理サイクルを終了する。
プ93からステップ101に進み、2次燃料噴射が停止
される。続くステップ102では圧力低下弁23開弁さ
れてから一定時間が経過したか否か、すなわち触媒18
の再生作用が一定時間だけ行われたか否かが判別され
る。一定時間が経過していないときには次いで処理サイ
クルを終了する。これに対し、一定時間が経過したとき
には触媒18の再生作用が完了したと判断し、次いでス
テップ103に進んで被毒フラグをリセットし、次いで
ステップ104に進んで吸着フラグをリセットする。次
いでステップ105では圧力低下弁23が閉弁される。
グ19内の圧力を制御するためにバイパス管21を設け
ると共にバイパス管21内に圧力低下弁23を配置して
この圧力低下弁23の開度を制御し、或いは排気管20
内に圧力上昇弁44を配置してこの圧力上昇弁44の開
度を制御するようにしている。しかしながら、例えば排
気マニホルド16とサージタンク11とを互いに接続す
るEGR通路内にEGRガス量を制御するEGR制御弁
を配置してこのEGR制御弁の開度を制御することによ
りケーシング19内の圧力を制御するようにすることも
できる。或いは、ケーシング19下流の排気通路内に排
気駆動式過給機を設け、この過給機のウエストゲート弁
の開度を制御することによりケーシング19内の圧力を
制御するようにすることもできる。
きるので排気を良好に浄化することができる。
還元作用を説明する図である。
ある。
トである。
ためのフローチャートである。
するためのフローチャートである。
Claims (4)
- 【請求項1】 機関排気通路内に配置されたケーシング
内に触媒を収容した内燃機関において、触媒が被毒した
か否かを検出して触媒の被毒が検出されたときにケーシ
ング内の排気圧力を低下させつつ触媒を加熱することに
より触媒を再生するようにした内燃機関の触媒再生装
置。 - 【請求項2】 前記触媒に触媒加熱用燃料を供給して該
触媒加熱用燃料を触媒において燃焼せしめることにより
触媒を加熱するようにした請求項1に記載の内燃機関の
触媒再生装置。 - 【請求項3】 前記触媒内または触媒上流の前記ケーシ
ング内に前記触媒加熱用燃料を吸着可能な吸着材を収容
し、該吸着材の吸着容量はケーシング内の排気圧力が低
くなるにつれて小さくなり、触媒を再生すべくケーシン
グ内の排気圧力を低下させるのに先立って吸着材内に触
媒加熱用燃料を吸着させておき、触媒を再生すべくケー
シング内の排気圧力が低下されると吸着材から吸着され
ている触媒加熱用燃料が放出されて触媒に供給されるよ
うにした請求項2に記載の内燃機関の触媒再生装置。 - 【請求項4】 前記触媒が有機可溶成分またはイオウ分
により被毒したか否かを検出するようにした請求項1に
記載の内燃機関の触媒再生装置。
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