JPH1152271A - 光走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】走査光量が均一な光走査装置を提供すること。 【解決手段】光学素子と被走査面の間に光量制御素子を
配置する。また、この光量制御素子には、ネガティブ感
光材を用い、個別の光走査装置からでる走査光をネガテ
ィブ感光材に照射して、その後現像処理して形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザプリンタや
複写機などの光走査装置に関するものであり、特に走査
光の光量ばらつきを少なくした、高機能、高性能機に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来の光走査装置を図２に示す。半導体
レ−ザ等の光源１から光が発生し、その光はコリメ−タ
レンズ２で平行光にされる。そのあと、回転多面鏡４の
面倒れ補正のために入れているシリンドリカルレンズ３
を通り、回転多面鏡４で偏向走査される。そのあと、Ｆ
θレンズ５を通り感光体６上へ絞り込まれる。

【０００３】従来の光走査装置の走査方向の光量分布
は、一定でなくかつ、ロット差、個体差によっても走査
方向の光量分布が異なっていた。図３はその様子を示し
たものであり、３種類のレーザプリンタの光量分布を示
したものである。図２に示すような、１枚構成のＦθレ
ンズ系よりも、複数枚からなるＦθレンズ系の方が、光
量分布のばらつきが大きくなり、図３に示す例よりもさ
らにばらついている場合もある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】前記の従来技術におい
ては次のような欠点があった。

【０００５】例えば、レーザプリンタで、走査光の光量
がばらついた場合、感光体上に書き込む光量がばらつく
ため、書き込み光によって消去される感光体の表面電位
レベルがばらつき、その結果印刷濃度がばらつくという
問題が発生していた。

【０００６】

【課題を解決するための手段】前記問題を解決するため
本発明では、光源と光源からの光を偏向走査させる回転
多面鏡と偏向走査された光を所定の場所に結像させるた
めの光学素子からなる光走査装置において、光学素子と
被走査面の間に光量制御素子を配置して解決する。

【０００７】なお、前記光走査装置に用いる光量制御素
子は、光量制御素子にネガティブ感光材を用い、個別の
光走査装置からでる走査光を該ネガティブ感光材に照射
して、その後現像処理して形成している。また、光量制
御素子形成時のネガティブ感光材の露光位置と、光走査
装置の光量制御素子として配置する位置を同一にするこ
とで精度良く光量ばらつきをおさえることができる。

【０００８】前記光量制御素子は、光量制御素子形成時
のネガティブ感光材の露光時の光スポット径を、光走査
装置として用いる場合よりも大きくしたり、光スポット
の走査方向と垂直の方向に、ネガティブ感光材を移動さ
せるようにすればより広範囲に光を照射できるので、光
量制御素子を配置しやすくすることができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明を説
明する。

【００１０】図１において、半導体レ−ザ等の光源１か
ら光が発生し、その光はコリメ−タレンズ２で平行光に
される。そのあと、回転多面鏡４の面倒れ補正のために
入れているシリンドリカルレンズ３を通り、回転多面鏡
４で偏向走査される。そのあと、Ｆθレンズ５を通り感
光体６上へ絞り込まれる。このＦθレンズ５と感光体６
の間に光量制御素子７を入れることで感光体６上での走
査光の光量ばらつきを無くすということが本発明の特徴
である。

【００１１】この光量制御素子７の形成について以下に
述べる。概略図を図４に示す。光源１、コリメ−タレン
ズ２、シリンドリカルレンズ３、回転多面鏡４Ｆθレン
ズ５は図１に示した光走査装置と同一のものである。光
走査装置に使われている個別の部品を利用することで、
個別の光走査装置の走査光量分布を補正することができ
る。８はネガティブ感光材であり、銀塩写真等に用いら
れているフィルム等を使用すれば良い。ネガティブ感光
材８は図５の様に、露光光量を大きくすると透過濃度が
高くなり、逆に露光光量を小さくすると透過濃度が低く
なるという特性を持つ。また、図６のように透過濃度が
高いと透過光量は低下し、透過濃度が低いと透過光量は
高くなるという関係がある。つまり、個別の走査光量分
布を持つ光走査装置を利用して、前記のような原理を利
用し光量制御素子７を形成し、それをその光走査装置に
配置すれば走査光量分布の均一な光走査装置を得ること
ができる。この光量制御素子７を形成するときにネガテ
ィブ感光材８を配置した場所と同じところに、光量制御
素子７を配置すれば精度良く走査光量を均一にできる。
また、光量制御素子７を形成する場所を、光学系の最終
部品と、感光体の間にしておけば、光学部品すべてに起
因する走査光量ばらつきを補正することのできる、光量
制御素子を形成することができる。

【００１２】なお、ネガティブ感光材８を露光するとき
は、図７のスポット９に示すように通常の光走査装置と
して用いるスポット径よりも大きくして広い面積が露光
できるようにすれば光量制御素子７の配置が容易にな
る。また、図８に示すように、ネガティブ感光材８を光
の走査方向と垂直な方向へ移動させれば、ネガティブ感
光材８の全面を走査光１０、１１のようにスポット９で
走査、露光でき、光量制御素子７の配置が容易になる。

【００１３】このネガティブ感光材８は露光後現像処理
して、光量制御素子７を得ることができる。

【００１４】

【発明の効果】以上説明したように請求項１の発明によ
れば、回転多面鏡やＦθレンズ等により走査光量の分布
がばらついている光走査装置においても、光量制御素子
を配置しているので、走査光の光量が均一になり、印刷
濃度のそろった印刷を行なうことができる。

【００１５】また、請求項２以下の発明によれば、回転
多面鏡やＦθレンズ等により走査光量の分布がばらつい
ている光走査装置においても、個別に形成した光量制御
素子を配置しているので、走査光の光量が均一になり、
印刷濃度のそろった印刷を行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の１実施例を示す斜視図である。

【図２】 従来装置の１例を示す斜視図である。

【図３】 走査光量のばらついている様子を示した特性
図である。

【図４】 本発明の光量制御素子形成の１例を示す斜視
図である。

【図５】 ネガティブ感光材の露光光量と透過濃度の関
係を示した特性図である。

【図６】 ネガティブ感光材の透過濃度と透過光量の関
係を示した特性図である。

【図７】 ネガティブ感光材への露光の様子を示した説
明図である。

【図８】 ネガティブ感光材への露光の様子を示した説
明図である。

【符号の説明】

１は半導体レ−ザ等の光源、２はコリメ−タレンズ、３
はシリンドリカルレンズ、４は回転多面鏡、５はＦθレ
ンズ、６は感光体、７は光量制御素子、８はネガティブ
感光材、９は光スポット、１０、１１は走査線である。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源と、光源からの光を偏向走査させる
   回転多面鏡と、偏向走査された光を所定の場所に結像さ
   せるための光学素子とを備えた光走査装置において、光
   学素子と被走査面の間に光量制御素子を配置することを
   特徴とする光走査装置。
2. 【請求項２】 前記光量制御素子は、ネガティブ感光材
   を用い、個別の光走査装置からでる走査光を該ネガティ
   ブ感光材に照射してその後現像処理して形成されたもの
   であることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
3. 【請求項３】 前記光量制御素子は、ネガティブ感光材
   の露光位置と、光走査装置の光量制御素子として配置す
   る位置を同一にして用いられることを特徴とする請求項
   ２に記載の光走査装置。
4. 【請求項４】 前記光量制御素子は、光量制御素子形成
   時のネガティブ感光材の露光時の光スポット径を、光走
   査装置として用いる場合よりも大きくして形成されたも
   のであることを特徴とする請求項２に記載の光走査装
   置。
5. 【請求項５】 前記光量制御素子は、光量制御素子形成
   時のネガティブ感光材の露光時に、光スポットの走査方
   向と垂直の方向にネガティブ感光材を移動させるように
   して形成されたものであることを特徴とする請求項２に
   記載の光走査装置。