JPH11544A - 分散方法及び分散機 - Google Patents
分散方法及び分散機Info
- Publication number
- JPH11544A JPH11544A JP9166652A JP16665297A JPH11544A JP H11544 A JPH11544 A JP H11544A JP 9166652 A JP9166652 A JP 9166652A JP 16665297 A JP16665297 A JP 16665297A JP H11544 A JPH11544 A JP H11544A
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- JP
- Japan
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- vessel
- bead
- processing material
- dispersed
- magnetic
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- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 媒体（ビ−ズ）を用いて処理材料を液体中に
分散する。 【解決手段】 ベッセル（１）内にビ−ズ（４）を層状
に充填する。このビ−ズ（４）の一部若しくは全部は、
磁気作用により移動する磁気感応体（６）で構成されて
いる。上記ベッセル（１）の外周には、上記磁気感応体
（６）を微振動させるよう交流移動磁界コイル（７）が
設けられている。上記ベッセル（１）の材料投入口
（２）には、処理材料を１００気圧〜３００気圧の高圧
でベッセル内に圧入するための高圧プランジャ−ポンプ
（８）が設けられている。上記高圧プランジャ−ポンプ
（８）でベッセル（１）内に圧入された処理材料は、ビ
−ズ充填層の狭い間隙を通過する間に微粒子化され、分
散される。この間、上記磁気感応体（６）が微振動して
いるので、上記ビ−ズの充填層が目詰りすることはな
い。
分散する。 【解決手段】 ベッセル（１）内にビ−ズ（４）を層状
に充填する。このビ−ズ（４）の一部若しくは全部は、
磁気作用により移動する磁気感応体（６）で構成されて
いる。上記ベッセル（１）の外周には、上記磁気感応体
（６）を微振動させるよう交流移動磁界コイル（７）が
設けられている。上記ベッセル（１）の材料投入口
（２）には、処理材料を１００気圧〜３００気圧の高圧
でベッセル内に圧入するための高圧プランジャ−ポンプ
（８）が設けられている。上記高圧プランジャ−ポンプ
（８）でベッセル（１）内に圧入された処理材料は、ビ
−ズ充填層の狭い間隙を通過する間に微粒子化され、分
散される。この間、上記磁気感応体（６）が微振動して
いるので、上記ビ−ズの充填層が目詰りすることはな
い。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、処理材料を微粒子
化し液体中に分散する湿式の分散方法及び分散機に関
し、特に媒体を用いて連続的に分散できるようにした分
散方法及び分散機の改良に係るものである。
化し液体中に分散する湿式の分散方法及び分散機に関
し、特に媒体を用いて連続的に分散できるようにした分
散方法及び分散機の改良に係るものである。
【０００２】
【従来の技術】処理材料を微粒子化し、液体中に分散す
る装置は、種々用いられており、その中で処理材料を微
粒子化するために媒体（ビ−ズ）を用いるものとして
は、媒体分散機が広く知られている。この媒体分散機
は、ベッセル内にビ−ズを充填し、攪拌翼、ピンその他
の攪拌手段を用いて該ビ−ズを激しく運動させ、該ビ−
ズ間に生じるせん断力、摩砕力によって処理材料を微粒
子化しているが、この装置では上述の攪拌手段が必要で
あり、また衝撃でビ−ズが破損し、その破片が製品中に
混入するおそれもあった。
る装置は、種々用いられており、その中で処理材料を微
粒子化するために媒体（ビ−ズ）を用いるものとして
は、媒体分散機が広く知られている。この媒体分散機
は、ベッセル内にビ−ズを充填し、攪拌翼、ピンその他
の攪拌手段を用いて該ビ−ズを激しく運動させ、該ビ−
ズ間に生じるせん断力、摩砕力によって処理材料を微粒
子化しているが、この装置では上述の攪拌手段が必要で
あり、また衝撃でビ−ズが破損し、その破片が製品中に
混入するおそれもあった。
【０００３】上記のようなビ−ズを用いずに、ノズル等
から処理材料を高速（高圧）で噴出させ粒子間で相互衝
突させたり、壁面等に衝突させて微粒子化する装置も知
られているが、微細なノズル等から噴出させる構造のた
め目詰り等の問題を生じることがあった。
から処理材料を高速（高圧）で噴出させ粒子間で相互衝
突させたり、壁面等に衝突させて微粒子化する装置も知
られているが、微細なノズル等から噴出させる構造のた
め目詰り等の問題を生じることがあった。
【０００４】
【発明の解決課題】本発明は、上記のようにビ−ズを用
いて処理材料を微粒子化し、液体中に分散する分散機に
おいて、従来のようにビ−ズをベッセル内で攪拌等する
ための攪拌手段を用いることなく、また目詰り等も生じ
ないようにした分散方法及び分散機を提供することを目
的とする。
いて処理材料を微粒子化し、液体中に分散する分散機に
おいて、従来のようにビ−ズをベッセル内で攪拌等する
ための攪拌手段を用いることなく、また目詰り等も生じ
ないようにした分散方法及び分散機を提供することを目
的とする。
【０００５】
【課題解決の手段】本発明によれば、ベッセル内に微小
粒径のビ−ズを層状に充填し、該ビ−ズの一部若しくは
全部を磁気感応体とし、該ベッセルの外周に上記磁気感
応体を微振動させるよう移動磁界発生手段を設け、上記
ベッセル内に処理材料を高圧送給手段で圧入し、上記ビ
−ズ充填層を通過する間に該処理材料を微粒子化し、分
散するようにした分散方法及び分散機が提供され、ビ−
ズ間の目詰りは、上記移動磁界発生手段によって磁気感
応体を微振動させることにより防止される。
粒径のビ−ズを層状に充填し、該ビ−ズの一部若しくは
全部を磁気感応体とし、該ベッセルの外周に上記磁気感
応体を微振動させるよう移動磁界発生手段を設け、上記
ベッセル内に処理材料を高圧送給手段で圧入し、上記ビ
−ズ充填層を通過する間に該処理材料を微粒子化し、分
散するようにした分散方法及び分散機が提供され、ビ−
ズ間の目詰りは、上記移動磁界発生手段によって磁気感
応体を微振動させることにより防止される。
【０００６】
【発明の実施の形態】図において、ベッセル（１）は、
一端に処理材料を投入するための材料投入口（２）を有
し、他端に分散処理された処理材料を吐出するための吐
出口（３）をを有し、内部には適宜部位に設けたビ−ズ
投入口（図示略）からビ−ズ（４）が層状に充填され、
該ビ−ズ（４）が流出しないよう両側にはグリッド（仕
切り板）（５），（５）が設けられている。なお、図に
示す実施例では、上記材料投入口（２）と吐出口（３）
を、後記する処理材料の移動方向に沿って直線状に設け
てあるが、該ベッセル内を処理材料が通過する時間を長
くするよう投入口（２）や吐出口（３）の位置を変えて
もよい。
一端に処理材料を投入するための材料投入口（２）を有
し、他端に分散処理された処理材料を吐出するための吐
出口（３）をを有し、内部には適宜部位に設けたビ−ズ
投入口（図示略）からビ−ズ（４）が層状に充填され、
該ビ−ズ（４）が流出しないよう両側にはグリッド（仕
切り板）（５），（５）が設けられている。なお、図に
示す実施例では、上記材料投入口（２）と吐出口（３）
を、後記する処理材料の移動方向に沿って直線状に設け
てあるが、該ベッセル内を処理材料が通過する時間を長
くするよう投入口（２）や吐出口（３）の位置を変えて
もよい。
【０００７】上記ビ−ズ（４）は、微小な粒径の球体、
円筒体、円柱体、角柱体、くら型その他の適宜の形状に
形成され、層状に充填した際、図２に示すようにビ−ズ
間の間隙が約１μ〜５０μ程度、好ましくは、１μ〜１
０μ、特に好ましくは約５μ以下となるような密度に充
填されるが、この間隙は処理材料の性状や所望の分散粒
径等に応じて適宜に選定すればよい。なお該ビ−ズの一
部若しくは全部は強磁性体等の磁性材料や非磁性導電材
料等磁気に感応して移動する磁気感応体（６）・・・と
してある。
円筒体、円柱体、角柱体、くら型その他の適宜の形状に
形成され、層状に充填した際、図２に示すようにビ−ズ
間の間隙が約１μ〜５０μ程度、好ましくは、１μ〜１
０μ、特に好ましくは約５μ以下となるような密度に充
填されるが、この間隙は処理材料の性状や所望の分散粒
径等に応じて適宜に選定すればよい。なお該ビ−ズの一
部若しくは全部は強磁性体等の磁性材料や非磁性導電材
料等磁気に感応して移動する磁気感応体（６）・・・と
してある。
【０００８】上記ベッセル（１）の外周には、上記磁気
感応体（６）に磁気作用を及ぼして微振動させるよう移
動磁界発生手段（７）が設けられている。図において、
該移動磁界発生手段（７）は、交流移動磁界コイルを用
いて５０Hz，６０Hz等の交番磁界を発生するようにして
あるが、その他の適宜の手段を用いることができる。な
お、該手段による磁気作用がベッセル（１）の中心部に
充分及びにくいようなときは、図３に示すように上記ベ
ッセル（１）を断面長方形等の略扁平状に形成するとよ
い。
感応体（６）に磁気作用を及ぼして微振動させるよう移
動磁界発生手段（７）が設けられている。図において、
該移動磁界発生手段（７）は、交流移動磁界コイルを用
いて５０Hz，６０Hz等の交番磁界を発生するようにして
あるが、その他の適宜の手段を用いることができる。な
お、該手段による磁気作用がベッセル（１）の中心部に
充分及びにくいようなときは、図３に示すように上記ベ
ッセル（１）を断面長方形等の略扁平状に形成するとよ
い。
【０００９】上記ベッセル（１）の材料投入口（２）に
は、該ベッセル内に処理材料を高圧で圧入するよう高圧
送給手段（８）が設けられている。図において、該手段
（８）としては、高圧プランジャ−ポンプを用い、約１
００気圧〜３００気圧、好ましくは１５０気圧〜３００
気圧程度の高圧で処理材料をベッセル内に送給するよう
にしてあるが、この圧力は、処理材料の性状等に応じて
適宜の圧力とされ、またその他のポンプを用いることが
できる。
は、該ベッセル内に処理材料を高圧で圧入するよう高圧
送給手段（８）が設けられている。図において、該手段
（８）としては、高圧プランジャ−ポンプを用い、約１
００気圧〜３００気圧、好ましくは１５０気圧〜３００
気圧程度の高圧で処理材料をベッセル内に送給するよう
にしてあるが、この圧力は、処理材料の性状等に応じて
適宜の圧力とされ、またその他のポンプを用いることが
できる。
【００１０】上記高圧送給手段（８）によりベッセル
（１）内に処理材料を１００気圧〜３００気圧等の高圧
で圧入すると、該処理材料は、上記ビ−ズ（４）・・・
間の微小間隙を通過する際に生じるせん断力、摩砕力に
より微粒子化され、液体中に分散され、吐出口（３）か
ら排出される。この間、上記移動磁界発生手段（７）に
よる磁気作用で上記ビ−ズ中の磁気感応体（６）が微振
動するので、ビ−ズ間に処理材料が目詰りすることはな
い。
（１）内に処理材料を１００気圧〜３００気圧等の高圧
で圧入すると、該処理材料は、上記ビ−ズ（４）・・・
間の微小間隙を通過する際に生じるせん断力、摩砕力に
より微粒子化され、液体中に分散され、吐出口（３）か
ら排出される。この間、上記移動磁界発生手段（７）に
よる磁気作用で上記ビ−ズ中の磁気感応体（６）が微振
動するので、ビ−ズ間に処理材料が目詰りすることはな
い。
【００１１】図４は他の実施例を示す説明図である。図
において、上記ベッセル（１）内には、複数のグリッド
（５）・・・を設けてあり、これにより該ベッセル
（１）内を複数の充填室(9a)，(9b)，(9c)・・・に区画
する。そして材料投入口側の充填室(9a)のビ−ズ（４）
は吐出口側より粒径の大きなビ−ズを充填し、ビ−ズ間
の間隙も大きくし、吐出口側に向かって順次ビ−ズの粒
径を小さく、ビ−ズ間の間隙も小さく形成してある。こ
の装置によれば、多段の充填室(9a)，(9b)，(9c)を順次
通過する間に次第に処理材料が微粒子化され、効率よく
分散することができる。
において、上記ベッセル（１）内には、複数のグリッド
（５）・・・を設けてあり、これにより該ベッセル
（１）内を複数の充填室(9a)，(9b)，(9c)・・・に区画
する。そして材料投入口側の充填室(9a)のビ−ズ（４）
は吐出口側より粒径の大きなビ−ズを充填し、ビ−ズ間
の間隙も大きくし、吐出口側に向かって順次ビ−ズの粒
径を小さく、ビ−ズ間の間隙も小さく形成してある。こ
の装置によれば、多段の充填室(9a)，(9b)，(9c)を順次
通過する間に次第に処理材料が微粒子化され、効率よく
分散することができる。
【００１２】
【発明の効果】本発明は上記のように構成され、ベッセ
ル内にビ−ズを層状に充填し、該ビ−ズの一部若しくは
全部を磁気感応体で構成し、上記ベッセルの外周に設け
た移動磁界発生手段で上記磁気感応体を微振動させ、該
ベッセルの投入口から高圧送給手段により高圧で処理材
料を該ベッセル内に圧入して分散するようにしたので、
上記処理材料はビ−ズの充填層の狭い間隙を通過する間
に微粒子化され、分散されて吐出口から吐出し、その際
上記ビ−ズは移動磁界発生手段により上記磁気感応体が
微振動するから、目詰り等を生じるおそれがなく、連続
的に分散処理を行うことができるものである。
ル内にビ−ズを層状に充填し、該ビ−ズの一部若しくは
全部を磁気感応体で構成し、上記ベッセルの外周に設け
た移動磁界発生手段で上記磁気感応体を微振動させ、該
ベッセルの投入口から高圧送給手段により高圧で処理材
料を該ベッセル内に圧入して分散するようにしたので、
上記処理材料はビ−ズの充填層の狭い間隙を通過する間
に微粒子化され、分散されて吐出口から吐出し、その際
上記ビ−ズは移動磁界発生手段により上記磁気感応体が
微振動するから、目詰り等を生じるおそれがなく、連続
的に分散処理を行うことができるものである。
【図１】本発明の一実施例を示す説明図。
【図２】充填層の一部を拡大して示す説明図。
【図３】ベッセルの他の実施例を示す説明図。
【図４】本発明の他の実施例を示す説明図。
１ ベッセル ２ 材料投入口 ３ 吐出口 ４ ビ−ズ ５ グリッド ６ 磁気感応体 ７ 移動磁界発生手段 ８ 高圧送給手段
Claims (2)
- 【請求項１】 ベッセル内に一部若しくは全部を磁気感
応体とした微小なビ−ズを層状に充填し、該ビ−ズ充填
層を磁気作用により微振動させ、該ビ−ズ充填層に処理
材料を１００気圧〜３００気圧の圧力で圧送し、該ビ−
ズ充填層間を通過する間に処理材料を微粒子化し分散す
ることを特徴とする分散方法。 - 【請求項２】 ベッセル内に微小粒径のビ−ズを層状に
充填し、該ビ−ズの一部若しくは全部を磁気に感応して
移動する磁気感応体とし、上記ベッセルの外周に上記磁
気感応体に磁気作用を及ぼして微振動させるよう移動磁
界発生手段を設け、上記ベッセルの材料投入口に処理材
料を該ベッセル内に圧入するよう高圧送給手段を設け、
上記ビ−ズ充填層を通過する間に上記処理材料を微粒子
化し分散させベッセルの吐出口から吐出することを特徴
とする分散機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16665297A JP3711526B2 (ja) | 1997-06-10 | 1997-06-10 | 分散方法及び分散機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16665297A JP3711526B2 (ja) | 1997-06-10 | 1997-06-10 | 分散方法及び分散機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11544A true JPH11544A (ja) | 1999-01-06 |
| JP3711526B2 JP3711526B2 (ja) | 2005-11-02 |
Family
ID=15835245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16665297A Expired - Fee Related JP3711526B2 (ja) | 1997-06-10 | 1997-06-10 | 分散方法及び分散機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3711526B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20220017270A (ko) * | 2020-08-04 | 2022-02-11 | 한국생산기술연구원 | 자성입자를 포함하는 고효율의 팩베드 반응기 |
| KR20220031377A (ko) * | 2020-09-04 | 2022-03-11 | 한국생산기술연구원 | 자성입자를 포함하는 고효율의 유동층 반응기 |
-
1997
- 1997-06-10 JP JP16665297A patent/JP3711526B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20220017270A (ko) * | 2020-08-04 | 2022-02-11 | 한국생산기술연구원 | 자성입자를 포함하는 고효율의 팩베드 반응기 |
| KR20220031377A (ko) * | 2020-09-04 | 2022-03-11 | 한국생산기술연구원 | 자성입자를 포함하는 고효율의 유동층 반응기 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3711526B2 (ja) | 2005-11-02 |
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