JPH1157579A - 乾燥炉及び乾燥装置 - Google Patents
乾燥炉及び乾燥装置Info
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- JPH1157579A JPH1157579A JP26259597A JP26259597A JPH1157579A JP H1157579 A JPH1157579 A JP H1157579A JP 26259597 A JP26259597 A JP 26259597A JP 26259597 A JP26259597 A JP 26259597A JP H1157579 A JPH1157579 A JP H1157579A
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/227—Drying of printed circuits
Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】従来の乾燥炉は熱のみの作用で乾燥をおこなっ
ているために乾燥時間がかかり、しかも乾燥時に有害な
物質が放出される。この発明によれば乾燥時間を従来の
装置に比べて数十分の一に短縮できると共に長時間の使
用に際しても良好な乾燥膜が得られる乾燥炉及び乾燥装
置を提供する。 【解決手段】樹脂等の有機物に波長帯域約３〜約７ミク
ロンの遠赤外線を当てると共に、酸素を含有する定圧定
温気体を供給して有機物表面で吸熱反応、酸化重合反応
を生じさせて有機物を乾燥する。乾燥前処理と乾燥とを
連赤外線放射体の電流値を変えて連続して行う。
ているために乾燥時間がかかり、しかも乾燥時に有害な
物質が放出される。この発明によれば乾燥時間を従来の
装置に比べて数十分の一に短縮できると共に長時間の使
用に際しても良好な乾燥膜が得られる乾燥炉及び乾燥装
置を提供する。 【解決手段】樹脂等の有機物に波長帯域約３〜約７ミク
ロンの遠赤外線を当てると共に、酸素を含有する定圧定
温気体を供給して有機物表面で吸熱反応、酸化重合反応
を生じさせて有機物を乾燥する。乾燥前処理と乾燥とを
連赤外線放射体の電流値を変えて連続して行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は金属印刷やプリント基板
等において金属板等の表面に塗布された樹脂等の有機物
を乾燥するための遠赤外線を利用した乾燥炉及び乾燥炉
を備える乾燥装置に関する。
等において金属板等の表面に塗布された樹脂等の有機物
を乾燥するための遠赤外線を利用した乾燥炉及び乾燥炉
を備える乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の遠赤外線を利用した乾燥炉は遠赤
外線の熱を使用して有機物を乾燥させていた。すなわ
ち、遠赤外線放射体が発熱体によって加熱されると共に
赤外線が放射する熱によって樹脂は硬化・乾燥される。
外線の熱を使用して有機物を乾燥させていた。すなわ
ち、遠赤外線放射体が発熱体によって加熱されると共に
赤外線が放射する熱によって樹脂は硬化・乾燥される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この乾
燥炉は熱のみの作用のために樹脂が乾燥されるために時
間がかかり、しかも乾燥時に樹脂から有害な物質が出さ
れ環境にとって好ましいことではなかった。
燥炉は熱のみの作用のために樹脂が乾燥されるために時
間がかかり、しかも乾燥時に樹脂から有害な物質が出さ
れ環境にとって好ましいことではなかった。
【０００４】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、その目的は乾燥時間を従来の装置に比べて数十
分の一に短縮することができると共に有害な物質を発生
することがない乾燥炉及び長時間乾燥を行っても常に良
好な乾燥膜質が得られる乾燥装置を提供することにあ
る。
もので、その目的は乾燥時間を従来の装置に比べて数十
分の一に短縮することができると共に有害な物質を発生
することがない乾燥炉及び長時間乾燥を行っても常に良
好な乾燥膜質が得られる乾燥装置を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明では基部上に設けられた有機物に波長帯域
約３〜約７ミクロンの遠赤外線を当てると共に、前記有
機物に酸素含有定圧定温気体を供給して前記有機物の表
面で化学反応を行って有機物を乾燥することを特徴とす
る。
めに、本発明では基部上に設けられた有機物に波長帯域
約３〜約７ミクロンの遠赤外線を当てると共に、前記有
機物に酸素含有定圧定温気体を供給して前記有機物の表
面で化学反応を行って有機物を乾燥することを特徴とす
る。
【０００６】本発明では基部上に設けられた有機物に波
長帯域約３〜約７ミクロンの遠赤外線及び電磁波を当
て、かつ前記有機物に酸素含有定圧定温気体を供給して
前記有機物の表面で化学反応を行って有機物を乾燥する
ことを特徴とする。
長帯域約３〜約７ミクロンの遠赤外線及び電磁波を当
て、かつ前記有機物に酸素含有定圧定温気体を供給して
前記有機物の表面で化学反応を行って有機物を乾燥する
ことを特徴とする。
【０００７】本発明では基部上に設けられた有機物に遠
赤外線を放射するための遠赤外線放射体と、前記遠赤外
線から波長帯域約３〜約７ミクロンの遠赤外線を当てる
と共に、炉外部から酸素を含む気体と前記放射体により
加熱された加熱気体とを混合して有機物の表面で化学反
応を行うための反応室とを備えることを特徴とする。
赤外線を放射するための遠赤外線放射体と、前記遠赤外
線から波長帯域約３〜約７ミクロンの遠赤外線を当てる
と共に、炉外部から酸素を含む気体と前記放射体により
加熱された加熱気体とを混合して有機物の表面で化学反
応を行うための反応室とを備えることを特徴とする。
【０００８】前記遠赤外線放射体の発熱等により加熱さ
れた気体を収容するための収容室をさらに備え、かつ前
記収容室及び／又は反応室は加熱気体を加速冷却するた
めの加速冷却手段とを備えることを特徴とする。
れた気体を収容するための収容室をさらに備え、かつ前
記収容室及び／又は反応室は加熱気体を加速冷却するた
めの加速冷却手段とを備えることを特徴とする。
【０００９】本発明では基部上に設けられた有機物に遠
赤外線を放射するための遠赤外線放射体と、酸素含有定
圧定温気体を形成するための気体形成手段と、前記遠赤
外線放射体から波長帯域約３〜約７ミクロンの遠赤外線
を当てると共に、前記酸素含有定圧定温気体を供給して
有機物の表面で化学反応を行うための反応室とを備える
ことを特徴とする。
赤外線を放射するための遠赤外線放射体と、酸素含有定
圧定温気体を形成するための気体形成手段と、前記遠赤
外線放射体から波長帯域約３〜約７ミクロンの遠赤外線
を当てると共に、前記酸素含有定圧定温気体を供給して
有機物の表面で化学反応を行うための反応室とを備える
ことを特徴とする。
【００１０】前記化学反応は吸熱反応と酸化重合反応で
あることを特徴とする。
あることを特徴とする。
【００１１】前記気体形成手段で形成された酸素含有定
圧定温気体の一部は前記反応室に導入され、そしてその
他の部分は大気に排出されることを特徴とする。
圧定温気体の一部は前記反応室に導入され、そしてその
他の部分は大気に排出されることを特徴とする。
【００１２】前記気体形成手段は前記遠赤外線放射体の
発熱等による高温気体に大気から導入される冷空気とを
混合して酸素含有定圧定温気体を形成することを特徴と
する。
発熱等による高温気体に大気から導入される冷空気とを
混合して酸素含有定圧定温気体を形成することを特徴と
する。
【００１３】前記酸素含有定圧定温気体を循環するため
の循環室を前記乾燥炉内に備えることを特徴とする。
の循環室を前記乾燥炉内に備えることを特徴とする。
【００１４】前記酸素含有定圧定温気体を前記有機物に
供給する際に、その供給量を制御するための供給量調節
手段を備えることを特徴とする。
供給する際に、その供給量を制御するための供給量調節
手段を備えることを特徴とする。
【００１５】前記供給炉調節手段は前記遠赤外線放射体
を取り付けた取付板に形成された開口であり、該開口の
面積は前記取付板の面積の約１／６〜１／１２であるこ
とを特徴とする。
を取り付けた取付板に形成された開口であり、該開口の
面積は前記取付板の面積の約１／６〜１／１２であるこ
とを特徴とする。
【００１６】前記遠赤外線放射体は遠赤外線放射層を備
える所定の曲率半径の凸面形状の金属板と、前記金属板
を加熱するための発熱体と、前記金属板と前記発熱体と
を絶縁する絶縁部材と、前記発熱体の下方に設けられて
前記金属板の凸面形状を形状及び／又は維持するための
手段とを備えることを特徴とする。
える所定の曲率半径の凸面形状の金属板と、前記金属板
を加熱するための発熱体と、前記金属板と前記発熱体と
を絶縁する絶縁部材と、前記発熱体の下方に設けられて
前記金属板の凸面形状を形状及び／又は維持するための
手段とを備えることを特徴とする。
【００１７】本発明ではそれぞれに遠赤外線放射体の組
立体を配設してなり、有機物中の溶剤を除去するための
乾燥前処理炉と主乾燥炉とを備え、前記乾燥前処理炉と
前記主乾燥炉に配設された前記遠赤外線放射体は電流値
において異なることを特徴とする。
立体を配設してなり、有機物中の溶剤を除去するための
乾燥前処理炉と主乾燥炉とを備え、前記乾燥前処理炉と
前記主乾燥炉に配設された前記遠赤外線放射体は電流値
において異なることを特徴とする。
【００１８】前記乾燥前処理炉及び前記主乾燥炉の遠赤
外線放射体の組立体は複数の区分に分割されており、前
記遠赤外線放射体は各区分ごとに上下に移動可能に設け
られていることを特徴とする。
外線放射体の組立体は複数の区分に分割されており、前
記遠赤外線放射体は各区分ごとに上下に移動可能に設け
られていることを特徴とする。
【００１９】前記主乾燥炉は請求項３又は５に記載の乾
燥炉を備えることを特徴とする。
燥炉を備えることを特徴とする。
【００２０】
【作用】本発明に従う乾燥炉は樹脂等の有機物を約３〜
約７ミクロンの遠赤外線の放射による熱と遠赤外線放射
体の加熱に伴う熱、さらには遠赤外線放射体から出され
る電磁波が有機物に当てられると共に、有機物に酸素含
有定圧定温気体が供給される。かくして、有機物の表面
では遠赤外線による吸熱反応と酸素含有気体による酸化
重合反応とが起こり有機物が硬化・乾燥される。
約７ミクロンの遠赤外線の放射による熱と遠赤外線放射
体の加熱に伴う熱、さらには遠赤外線放射体から出され
る電磁波が有機物に当てられると共に、有機物に酸素含
有定圧定温気体が供給される。かくして、有機物の表面
では遠赤外線による吸熱反応と酸素含有気体による酸化
重合反応とが起こり有機物が硬化・乾燥される。
【００２１】酸素含有定圧定温気体は遠赤外線放射体の
熱等による加熱気体と大気からの空気を適切に混合して
作られる。この作成された気体を乾燥炉内を循環させる
ことにより乾燥作用を長時間にわたりメンテナンスを必
要とすることなしに行うことが可能となる。
熱等による加熱気体と大気からの空気を適切に混合して
作られる。この作成された気体を乾燥炉内を循環させる
ことにより乾燥作用を長時間にわたりメンテナンスを必
要とすることなしに行うことが可能となる。
【００２２】主乾燥に先立つて乾燥される樹脂の有機物
中の溶剤を除去するために主乾燥中に有害な物質を出す
ことなく、しかも品質の優れた被乾燥膜を作ことができ
る。
中の溶剤を除去するために主乾燥中に有害な物質を出す
ことなく、しかも品質の優れた被乾燥膜を作ことができ
る。
【００２３】本乾燥炉は金属印刷、プリント基板、液晶
及び内装材等の表面に塗布された有機物の乾燥に使用す
ることができる。これら用途に使用する場合には、遠赤
外線放射体の電流値を変えることによって適切な乾燥を
行うことができる。
及び内装材等の表面に塗布された有機物の乾燥に使用す
ることができる。これら用途に使用する場合には、遠赤
外線放射体の電流値を変えることによって適切な乾燥を
行うことができる。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施例を図面に基
づき詳述する。
づき詳述する。
【００２５】図１は乾燥装置の概略図を示す。該図にお
いて、乾燥装置１０は乾燥前処理炉１２と主乾燥炉１４
を備える。さらに乾燥装置は基部に設けられた有機物を
乾燥する前に前記基部を予め加熱するための加熱装置を
乾燥装置の前に配置してもよい。乾燥された有機物は次
に冷却装置１６で冷却される。ここで有機物を備えた基
部１７は前記乾燥前処理炉１２と主乾燥炉１４からなる
前記乾燥装置１０及び冷却装置１６をベルトコンベヤに
乗せられて搬送される。なお、前処理炉１２は排ガスを
集めるフード２０がその上方に配設されている。
いて、乾燥装置１０は乾燥前処理炉１２と主乾燥炉１４
を備える。さらに乾燥装置は基部に設けられた有機物を
乾燥する前に前記基部を予め加熱するための加熱装置を
乾燥装置の前に配置してもよい。乾燥された有機物は次
に冷却装置１６で冷却される。ここで有機物を備えた基
部１７は前記乾燥前処理炉１２と主乾燥炉１４からなる
前記乾燥装置１０及び冷却装置１６をベルトコンベヤに
乗せられて搬送される。なお、前処理炉１２は排ガスを
集めるフード２０がその上方に配設されている。
【００２６】図２は乾燥装置を構成する乾燥前処理炉及
び主乾燥炉並びに冷却装置の平面図である。ここで遠赤
外線放射体は符号２２で示されている。そして該放射体
は図３に示されるように開口２４を有する取付板２６に
千鳥状に配設されている。この取付板２４はコ字形状枠
体内に配置され取付られている。これらの構成からなる
遠赤外線放射体の組立体は前記乾燥前処理炉及び主乾燥
炉においてそれぞれ３つの区分Ａ、Ｂ、Ｃ、及びＤ，
Ｅ，Ｆに別れて設けられている。なお、分割の仕方はこ
れに限らず種々そ仕方、例えば２分割と４分割、３分割
と４分割等も可能である。そして、各区分はそれぞれ独
立して電気的に制御可能であり、しかも前記組立体は独
立して上下に移動可能である。この遠赤外線放射体と基
部上の有機物との距離は上述した吸熱反応並びに酸化重
合反応適切に行われるように設定される。
び主乾燥炉並びに冷却装置の平面図である。ここで遠赤
外線放射体は符号２２で示されている。そして該放射体
は図３に示されるように開口２４を有する取付板２６に
千鳥状に配設されている。この取付板２４はコ字形状枠
体内に配置され取付られている。これらの構成からなる
遠赤外線放射体の組立体は前記乾燥前処理炉及び主乾燥
炉においてそれぞれ３つの区分Ａ、Ｂ、Ｃ、及びＤ，
Ｅ，Ｆに別れて設けられている。なお、分割の仕方はこ
れに限らず種々そ仕方、例えば２分割と４分割、３分割
と４分割等も可能である。そして、各区分はそれぞれ独
立して電気的に制御可能であり、しかも前記組立体は独
立して上下に移動可能である。この遠赤外線放射体と基
部上の有機物との距離は上述した吸熱反応並びに酸化重
合反応適切に行われるように設定される。
【００２７】図４は主乾燥炉１４の該略図を示す。該図
において、主乾燥炉１４は約３〜約７ミクロンの遠赤外
線を放射するための遠赤外線放射体２２と、有機物を備
える基部１７及び前記遠赤外線放射体２２を収納するた
めの反応炉２８と、酸素含有定圧定温気体循環室３０
と、定圧定温気体を作成すると共に酸素を含む気体を混
合して酸素含有定圧定温気体形成手段と３２と、前記有
機物を備える基部を搬送するベルトコンベア３４とを備
える。前記取付板２６はフレキシブルダクト３４に一体
的に取付けられて上下方向に移動可能である。前記循環
室３０とダクト３４との間に遮蔽体３６が設けられてい
る。
において、主乾燥炉１４は約３〜約７ミクロンの遠赤外
線を放射するための遠赤外線放射体２２と、有機物を備
える基部１７及び前記遠赤外線放射体２２を収納するた
めの反応炉２８と、酸素含有定圧定温気体循環室３０
と、定圧定温気体を作成すると共に酸素を含む気体を混
合して酸素含有定圧定温気体形成手段と３２と、前記有
機物を備える基部を搬送するベルトコンベア３４とを備
える。前記取付板２６はフレキシブルダクト３４に一体
的に取付けられて上下方向に移動可能である。前記循環
室３０とダクト３４との間に遮蔽体３６が設けられてい
る。
【００２８】酸素含有定圧定温気体が取付板２６の開口
２４を通して循環室３０から反応室２８に導入される。
この開口面積は放射体取付面積の約１／６〜約１／１２
である。この面積割合を変えることによって供給される
気体の導入量が変化する。この導入される気体の量によ
って乾燥される有機物の硬度に影響を与える。かくし
て、上述した面積割合が有機物に最適な硬さを与えるの
に好ましい数値である。そして、遠赤外線放射体には例
えば２００Ｖ、３４０Ｗが使用される。
２４を通して循環室３０から反応室２８に導入される。
この開口面積は放射体取付面積の約１／６〜約１／１２
である。この面積割合を変えることによって供給される
気体の導入量が変化する。この導入される気体の量によ
って乾燥される有機物の硬度に影響を与える。かくし
て、上述した面積割合が有機物に最適な硬さを与えるの
に好ましい数値である。そして、遠赤外線放射体には例
えば２００Ｖ、３４０Ｗが使用される。
【００２９】前記気体形成手段３２は有機物に所定の圧
力、所定の温度を提供するための定圧低温気体を形成す
ると共に有機物と酸化重合反応を生じさせるための酸素
含有気体を前記定圧定温気体と混合する作用を行う。
力、所定の温度を提供するための定圧低温気体を形成す
ると共に有機物と酸化重合反応を生じさせるための酸素
含有気体を前記定圧定温気体と混合する作用を行う。
【００３０】すなわち、乾燥作用ににおいて遠赤外線放
射体の放射面の発熱及び遠赤外線放射の波長帯域の振動
波長に伴う発熱により上昇された高温気体が反応室２８
から循環熱吸込通路３８を通して気体形成手段３２に運
ばれる。送られてきた気体の圧力、温度が所定の圧力、
温度より高いことがセンサーで検知されると、気体形成
手段３２には大気の冷たい空気が空気取入口１４０を通
して大気吸入ファン４２によって前記高温気体を所定の
圧力、所定の温度にするに必要な量だけ取り入れられ
る。かくして酸素含有定圧定温気体が形成される。
射体の放射面の発熱及び遠赤外線放射の波長帯域の振動
波長に伴う発熱により上昇された高温気体が反応室２８
から循環熱吸込通路３８を通して気体形成手段３２に運
ばれる。送られてきた気体の圧力、温度が所定の圧力、
温度より高いことがセンサーで検知されると、気体形成
手段３２には大気の冷たい空気が空気取入口１４０を通
して大気吸入ファン４２によって前記高温気体を所定の
圧力、所定の温度にするに必要な量だけ取り入れられ
る。かくして酸素含有定圧定温気体が形成される。
【００３１】このようにして作られた酸素含有定圧定温
気体は気体形成手段３２内の循環ファン４４によって送
り出されて循環除塵フィルター４６を通して循環ダクト
４８に運ばれる。そして循環室３０から取付体の開口２
４を通して反応室２８に導入される。反応室に入った酸
素含有定圧定温気体は遠赤外線の放射とともに有機物表
面で吸熱反応及び酸化重合反応を行って有機物を乾燥・
硬化させる。
気体は気体形成手段３２内の循環ファン４４によって送
り出されて循環除塵フィルター４６を通して循環ダクト
４８に運ばれる。そして循環室３０から取付体の開口２
４を通して反応室２８に導入される。反応室に入った酸
素含有定圧定温気体は遠赤外線の放射とともに有機物表
面で吸熱反応及び酸化重合反応を行って有機物を乾燥・
硬化させる。
【００３２】なお、上述において大気から空気が気体形
成手段に導入されると、大気から導入された空気の量と
同量の気体及び大気の空気が昇温された分の気体が排気
口５０から大気に排出される。ここで、大気から導入さ
れる空気の量と排出される定圧定温気体の量は取入口４
０及び排気口５０に設けられた調節弁５１によって調節
される。かくして、乾燥炉内に酸素含有定圧定温気体が
常に循環される。
成手段に導入されると、大気から導入された空気の量と
同量の気体及び大気の空気が昇温された分の気体が排気
口５０から大気に排出される。ここで、大気から導入さ
れる空気の量と排出される定圧定温気体の量は取入口４
０及び排気口５０に設けられた調節弁５１によって調節
される。かくして、乾燥炉内に酸素含有定圧定温気体が
常に循環される。
【００３３】図５は本発明の主乾燥炉の他の実施例の正
面図を示す。該図において、乾燥炉は約３〜約７ミクロ
ンの遠赤外線を放射する遠赤外線放射体２２と、遠赤外
線を当てると共に、大気より導入された酸素を含む気体
と遠赤外線放射体の発熱により昇温した気体とを混合し
て吸熱反応、酸化重合反応を生じるための反応室２８と
を備え、さらに遠赤外線放射体の発熱により上方に移動
した昇温気体を冷却するための冷却室５２を備える。
面図を示す。該図において、乾燥炉は約３〜約７ミクロ
ンの遠赤外線を放射する遠赤外線放射体２２と、遠赤外
線を当てると共に、大気より導入された酸素を含む気体
と遠赤外線放射体の発熱により昇温した気体とを混合し
て吸熱反応、酸化重合反応を生じるための反応室２８と
を備え、さらに遠赤外線放射体の発熱により上方に移動
した昇温気体を冷却するための冷却室５２を備える。
【００３４】ここで、乾燥作用中で遠赤外線放射体の発
熱及び放射に伴う発熱によって昇温気体は遠赤外線放射
体の上方に設けられて空間６２に留まる。従って、この
高温になった空間を冷やすことが炉の操作上好ましい。
そこでこの実施例では、排気筒５４を前記空間５２の気
圧より低くして空間内の昇温気体を加速的に排気させて
いる。この排気作用ににおいて空間内の昇温気体が排気
される際にこの空間に大気から空気が取入口５６から強
制的に吹き込まれる。かくして大気から冷たい空気が吹
き込まれると該空間内の昇温気体は空冷されて該空間内
の温度は下げられる。よって該空間が冷却の作用を行う
冷却室に相当する。前記排気筒５４は全長２メートル、
断面積７５平方ミリメートルを有する。単に冷却さえる
場合には前記空間に多数の孔を設けることにしてもよ
い。
熱及び放射に伴う発熱によって昇温気体は遠赤外線放射
体の上方に設けられて空間６２に留まる。従って、この
高温になった空間を冷やすことが炉の操作上好ましい。
そこでこの実施例では、排気筒５４を前記空間５２の気
圧より低くして空間内の昇温気体を加速的に排気させて
いる。この排気作用ににおいて空間内の昇温気体が排気
される際にこの空間に大気から空気が取入口５６から強
制的に吹き込まれる。かくして大気から冷たい空気が吹
き込まれると該空間内の昇温気体は空冷されて該空間内
の温度は下げられる。よって該空間が冷却の作用を行う
冷却室に相当する。前記排気筒５４は全長２メートル、
断面積７５平方ミリメートルを有する。単に冷却さえる
場合には前記空間に多数の孔を設けることにしてもよ
い。
【００３５】一方、前記反応室において遠赤外線放射体
から約３〜約７ミクロンの遠赤外線並びに電磁波が有機
物に向かって供給される共に、大気より供給された酸素
を含有する気体と遠赤外線放射体の発熱により昇温した
気体とが混合されて吸熱反応、酸化重合反応が起こる。
また、この反応室においても、反応室内の昇温気体を排
気筒６０を反応室の気圧より低くして室内の昇温気体を
加速的に排気している。この排気作用において、室内の
昇温気体が排気される際に、この室内に大気から空気が
取入口５８を通して吹き込まれる。かくして、大気から
冷たい空気が吹き込まれると該室内の昇温気体は冷やさ
れてると共に、酸素含有定圧定温気体が反応室内に形成
される。
から約３〜約７ミクロンの遠赤外線並びに電磁波が有機
物に向かって供給される共に、大気より供給された酸素
を含有する気体と遠赤外線放射体の発熱により昇温した
気体とが混合されて吸熱反応、酸化重合反応が起こる。
また、この反応室においても、反応室内の昇温気体を排
気筒６０を反応室の気圧より低くして室内の昇温気体を
加速的に排気している。この排気作用において、室内の
昇温気体が排気される際に、この室内に大気から空気が
取入口５８を通して吹き込まれる。かくして、大気から
冷たい空気が吹き込まれると該室内の昇温気体は冷やさ
れてると共に、酸素含有定圧定温気体が反応室内に形成
される。
【００３６】乾燥装置を構成している他方の乾燥前処理
炉１２は乾燥される有機物に遠赤外線を放射するための
遠赤外線放射体２２を備えている。この遠赤外線放射体
２２は図６に示されうように取付片６１に取付られてい
る。この取付片６１は所定の間隔をもって配設されてい
る。なお、乾燥前処理炉１２は有機物と酸化重合反応を
生じる必要がないために酸素を積極的に有機物に供給さ
せる必要はない。従って、主乾燥炉と異なり、空気を出
し入れする構成を有していない。該炉は前処理で処理さ
れた有機物中の溶剤を排気するために炉の頭部に多数の
孔が設けられている。該炉の遠赤外線放射体は例えば２
００Ｖ、２２０Ｗが使用される。
炉１２は乾燥される有機物に遠赤外線を放射するための
遠赤外線放射体２２を備えている。この遠赤外線放射体
２２は図６に示されうように取付片６１に取付られてい
る。この取付片６１は所定の間隔をもって配設されてい
る。なお、乾燥前処理炉１２は有機物と酸化重合反応を
生じる必要がないために酸素を積極的に有機物に供給さ
せる必要はない。従って、主乾燥炉と異なり、空気を出
し入れする構成を有していない。該炉は前処理で処理さ
れた有機物中の溶剤を排気するために炉の頭部に多数の
孔が設けられている。該炉の遠赤外線放射体は例えば２
００Ｖ、２２０Ｗが使用される。
【００３７】図６はこれらの乾燥炉で使用される遠赤外
線放射体の分解図を示す。該図において、遠赤外線放射
体２２は遠赤外線放射層６２を備え曲率半径１０００Ｒ
の凸面形状を有する金属板６４と、金属板６４を加熱す
るための電極６６を備える発熱体６８と、金属板６４、
７４と前記発熱体６８とを絶縁する絶縁部材７０、７１
と、前記発熱体の下方に設けられて前記金属板に凸面形
状を形成し及び／又は維持するための手段７２とを備え
る金属板７４とを備える。そして上下の金属板はかしめ
て固定される。なお符号７６は取付板に固定するための
フランジであり、符号７８はリード線である。
線放射体の分解図を示す。該図において、遠赤外線放射
体２２は遠赤外線放射層６２を備え曲率半径１０００Ｒ
の凸面形状を有する金属板６４と、金属板６４を加熱す
るための電極６６を備える発熱体６８と、金属板６４、
７４と前記発熱体６８とを絶縁する絶縁部材７０、７１
と、前記発熱体の下方に設けられて前記金属板に凸面形
状を形成し及び／又は維持するための手段７２とを備え
る金属板７４とを備える。そして上下の金属板はかしめ
て固定される。なお符号７６は取付板に固定するための
フランジであり、符号７８はリード線である。
【００３８】ここで前記遠赤外線放射層を備える金属板
はＡｌ板又はステンレス板が使用される。前者はスカイ
アルニウム（株）製の商品名「スーパレイ」であり、後
者は川崎製鉄（株）製の商品名「サーファス」である。
はＡｌ板又はステンレス板が使用される。前者はスカイ
アルニウム（株）製の商品名「スーパレイ」であり、後
者は川崎製鉄（株）製の商品名「サーファス」である。
【００３９】また、前記遠赤外線放射体の分光放射輝度
及び分光放射率は約３〜約７ミクロンの波長帯域でそれ
ぞれ理論値の９０％以上に達している。
及び分光放射率は約３〜約７ミクロンの波長帯域でそれ
ぞれ理論値の９０％以上に達している。
【発明の効果】本発明による乾燥炉及び乾燥装置は乾燥
時間を従来の装置に比べて数十分の一に短縮することが
きると共に有害な物質を発生することなく、しかも長時
間使用しても常に良好な乾燥膜が得られる。
時間を従来の装置に比べて数十分の一に短縮することが
きると共に有害な物質を発生することなく、しかも長時
間使用しても常に良好な乾燥膜が得られる。
【図１】図１は本発明の乾燥装置の概略図である。
【図２】図２は図１の乾燥装置の平面図である。
【図３】図３は遠赤外線放射体を取り付けるための取付
板の平面図である。
板の平面図である。
【図４】図４は本発明の一実施例の乾燥炉の正面図であ
る。
る。
【図５】図５は本発明の他の実施例の乾燥炉の正面図で
ある。
ある。
【図６】図６は遠赤外線を取り付けるための取付片の平
面図である。
面図である。
【図７】図７は遠赤外線放射体の分解図である。
１０ 乾燥装置 １２ 乾燥前処理炉 １４ 主乾燥炉 １６ 冷却装置 １７ 基部 ２２ 遠赤外線放射体 ２４ 開口 ２６ 取付板 ２８ 反応室 ３０ 循環室 ３２ 酸素含有定圧定温気体形成手段 ３８ 熱吸収通路 ４０ ５６ ５８ 空気取入口 ５０ 排気口 ５２ 冷却室 ５４ ６０ 排気筒
Claims (15)
- 【請求項１】基部上に設けられた有機物に波長帯域約３
〜約７ミクロンの遠赤外線を当てると共に、前記有機物
に酸素含有定圧定温気体を供給して前記有機物の表面で
化学反応を行って有機物を乾燥するための乾燥炉。 - 【請求項２】基部上に設けられた有機物に波長帯域約３
〜約７ミクロンの遠赤外線及び電磁波を当て、かつ前記
有機物に酸素含有定圧定温気体を供給して前記有機物の
表面で化学反応を行って有機物を乾燥するための乾燥
炉。 - 【請求項３】基部上に設けられた有機物に遠赤外線を放
射するための遠赤外線放射体と、前記遠赤外線から波長
帯域約３〜約７ミクロンの遠赤外線を当てると共に、炉
外部から酸素を含む気体と前記放射体により加熱された
加熱気体とを混合して有機物の表面で化学反応を行うた
めの反応室とを備える乾燥炉。 - 【請求項４】前記遠赤外線放射体の発熱により加熱され
た気体を収容するための収容室をさらに備え、かつ前記
収容室及び／又は前記反応室は加熱気体を加速冷却する
ための加速冷却手段を備えることを特徴とする請求項３
に記載の乾燥炉。 - 【請求項５】基部上に設けられた有機物に遠赤外線を放
射するための遠赤外線放射体と、酸素含有定圧定温気体
を形成するための気体形成手段と、前記遠赤外線放射体
から波長帯域約３〜約７ミクロンの遠赤外線を当てると
共に、前記酸素含有定圧定温気体を供給して有機物の表
面で化学反応を行うための反応室とを備える乾燥炉。 - 【請求項６】前記化学反応は吸熱反応と酸化重合反応で
あることを特徴とする請求項１、２、３又は５に記載の
乾燥炉。 - 【請求項７】前記気体形成手段で形成された酸素含有定
圧定温気体の一部は前記反応室に導入され、そしてその
他の部分は大気に排出されることを特徴とする請求項５
に記載の乾燥炉。 - 【請求項８】前記気体形成手段は前記遠赤外線放射体の
発熱等による高温気体に大気から導入される冷空気とを
混合して酸素含有定圧定温気体を形成することを特徴と
する請求項５に記載の乾燥炉。 - 【請求項９】前記酸素含有定圧定温気体を循環するため
の循環室を前記乾燥炉内に備えることを特徴とする請求
項５に記載の乾燥炉。 - 【請求項１０】前記酸素含有定圧定温気体を前記有機物
に供給する際に、その供給量を制御するための供給量調
節手段を備えることを特徴とする請求項５に記載の乾燥
炉。 - 【請求項１１】前記供給炉調節手段は前記遠赤外線放射
体を取り付けた取付板に形成された開口であり、該開口
の面積は前記取付板の面積の約１／６〜１／１２である
ことを特徴とする請求項１０に記載の乾燥炉。 - 【請求項１２】前記遠赤外線放射体は遠赤外線放射層を
備える所定の曲率半径の凸面形状の金属板と、前記金属
板を加熱するための発熱体と、前記金属板と前記発熱体
とを絶縁する絶縁部材と、前記発熱体の下方に設けられ
て前記金属板の凸面形状を形状及び／又は維持するため
の手段とを備えることを特徴とする請求項１、２、３及
び５に記載の乾燥炉。 - 【請求項１３】それぞれに遠赤外線放射体の組立体を配
設してなり、有機物中の溶剤を除去するための乾燥前処
理炉と主乾燥炉とを備え、前記乾燥前処理炉と前記主乾
燥炉に配設された前記遠赤外線放射体は電流値において
異なる乾燥装置。 - 【請求項１４】前記乾燥前処理炉及び前記主乾燥炉の遠
赤外線放射体の組立体は複数の区分に分割されており、
前記遠赤外線放射体は各区分ごとに上下に移動可能に設
けられていることを特徴とする請求項１３に記載の乾燥
装置。 - 【請求項１５】前記主乾燥炉は請求項３又は５に記載の
乾燥炉を備える乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26259597A JPH1157579A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | 乾燥炉及び乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26259597A JPH1157579A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | 乾燥炉及び乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1157579A true JPH1157579A (ja) | 1999-03-02 |
Family
ID=17377991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26259597A Pending JPH1157579A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | 乾燥炉及び乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1157579A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102586740A (zh) * | 2012-02-27 | 2012-07-18 | 浙江理工大学 | 一种双层膜超导整流器件的制备方法 |
| CN102997637A (zh) * | 2012-11-19 | 2013-03-27 | 王兆进 | 一种双循环风道红外烘干机 |
| JP2015037128A (ja) * | 2013-08-14 | 2015-02-23 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板乾燥装置および基板乾燥方法 |
| CN111988923A (zh) * | 2020-09-01 | 2020-11-24 | 陈圆圆 | 一种集成电路板加工用电镀装置 |
-
1997
- 1997-08-22 JP JP26259597A patent/JPH1157579A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102586740A (zh) * | 2012-02-27 | 2012-07-18 | 浙江理工大学 | 一种双层膜超导整流器件的制备方法 |
| CN102997637A (zh) * | 2012-11-19 | 2013-03-27 | 王兆进 | 一种双循环风道红外烘干机 |
| JP2015037128A (ja) * | 2013-08-14 | 2015-02-23 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板乾燥装置および基板乾燥方法 |
| CN111988923A (zh) * | 2020-09-01 | 2020-11-24 | 陈圆圆 | 一种集成电路板加工用电镀装置 |
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20040402 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060621 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20060912 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20070123 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |