JPH1160622A - 重合用金属化合物及びそれを用いた芳香族ビニル化合物−オレフィン共重合体の製造方法 - Google Patents
重合用金属化合物及びそれを用いた芳香族ビニル化合物−オレフィン共重合体の製造方法Info
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- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 37
- -1 aromatic vinyl compound Chemical class 0.000 title claims description 60
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 title claims description 40
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 title claims description 9
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 title 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 35
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 28
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 claims abstract description 7
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 37
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 17
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 17
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 17
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 claims description 17
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000041 C6-C10 aryl group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Natural products C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 abstract description 5
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 abstract description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 abstract description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 abstract 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 18
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 18
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 17
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 9
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 description 8
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BXOUVIIITJXIKB-UHFFFAOYSA-N ethene;styrene Chemical group C=C.C=CC1=CC=CC=C1 BXOUVIIITJXIKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- AQZWEFBJYQSQEH-UHFFFAOYSA-N 2-methyloxaluminane Chemical compound C[Al]1CCCCO1 AQZWEFBJYQSQEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 5
- OJOSABWCUVCSTQ-UHFFFAOYSA-N cyclohepta-2,4,6-trienylium Chemical compound C1=CC=C[CH+]=C[CH]1 OJOSABWCUVCSTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OLFPYUPGPBITMH-UHFFFAOYSA-N tritylium Chemical group C1=CC=CC=C1[C+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 OLFPYUPGPBITMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- DQVXWCCLFKMJTQ-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenoxy)boronic acid Chemical compound CC1=CC=C(OB(O)O)C=C1 DQVXWCCLFKMJTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- RKFCXHVVSUTGSG-UHFFFAOYSA-N (2,4-dimethylphenoxy)boronic acid Chemical compound CC1=CC=C(OB(O)O)C(C)=C1 RKFCXHVVSUTGSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LCKLYZIOVDCDIS-UHFFFAOYSA-N (3,5-dimethylphenoxy)boronic acid Chemical compound CC1=CC(C)=CC(OB(O)O)=C1 LCKLYZIOVDCDIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 150000003613 toluenes Chemical class 0.000 description 3
- KBQNNOCVJFDHSC-UHFFFAOYSA-N (3-methylphenoxy)boronic acid Chemical compound CC1=CC=CC(OB(O)O)=C1 KBQNNOCVJFDHSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 2
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical group CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- 239000011954 Ziegler–Natta catalyst Substances 0.000 description 2
- SSBZEFBGQCOEIH-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].C1(=CC=CC=C1)C(C1=CC=CC=C1)=[Zr+2](C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC1=2)C1C=CC=C1 Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1(=CC=CC=C1)C(C1=CC=CC=C1)=[Zr+2](C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC1=2)C1C=CC=C1 SSBZEFBGQCOEIH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UCIKZESDXASJNG-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].C1=CC=C2C([Zr+2])C=CC2=C1 Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC=C2C([Zr+2])C=CC2=C1 UCIKZESDXASJNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000005234 alkyl aluminium group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- MSZJEPVVQWJCIF-UHFFFAOYSA-N butylazanide Chemical group CCCC[NH-] MSZJEPVVQWJCIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001460 carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical group CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical group CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 2
- ZCBSOTLLNBJIEK-UHFFFAOYSA-N silane titanium Chemical compound [SiH4].[Ti] ZCBSOTLLNBJIEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-O tributylazanium Chemical compound CCCC[NH+](CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O triethylammonium ion Chemical compound CC[NH+](CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ANEFWEBMQHRDLH-UHFFFAOYSA-N tris(2,3,4,5,6-pentafluorophenyl) borate Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1OB(OC=1C(=C(F)C(F)=C(F)C=1F)F)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ANEFWEBMQHRDLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YITAERDJEQNELZ-UHFFFAOYSA-N (4-ethylphenoxy)boronic acid Chemical compound CCC1=CC=C(OB(O)O)C=C1 YITAERDJEQNELZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEHKFJHSWRFHFA-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenoxy)-phenoxyborinic acid Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1OB(O)OC1=CC=CC=C1 MEHKFJHSWRFHFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVZJLSYJROEPSQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1C KVZJLSYJROEPSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- ISRGONDNXBCDBM-UHFFFAOYSA-N 2-chlorostyrene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C=C ISRGONDNXBCDBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVSMQHYREUQGRX-UHFFFAOYSA-N 2-ethyloxaluminane Chemical compound CC[Al]1CCCCO1 YVSMQHYREUQGRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexylamine Chemical compound C1CCCCC1NC1CCCCC1 XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920010524 Syndiotactic polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229910007926 ZrCl Inorganic materials 0.000 description 1
- VFGIWZUJSSKCAS-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].C1CCC(C1)=[Zr++](C1C=Cc2ccccc12)C1C=Cc2ccccc12 Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1CCC(C1)=[Zr++](C1C=Cc2ccccc12)C1C=Cc2ccccc12 VFGIWZUJSSKCAS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NWSFGQHZCFKWMU-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].C1CCC(CC1)=[Zr++](C1C=Cc2ccccc12)C1C=Cc2ccccc12 Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1CCC(CC1)=[Zr++](C1C=Cc2ccccc12)C1C=Cc2ccccc12 NWSFGQHZCFKWMU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005603 alternating copolymer Polymers 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229920006038 crystalline resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- SPWVRYZQLGQKGK-UHFFFAOYSA-N dichloromethane;hexane Chemical compound ClCCl.CCCCCC SPWVRYZQLGQKGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGHYBJVUQGTEEB-UHFFFAOYSA-M dimethylalumanylium;chloride Chemical compound C[Al](C)Cl JGHYBJVUQGTEEB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DWCMDRNGBIZOQL-UHFFFAOYSA-N dimethylazanide;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C DWCMDRNGBIZOQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical group C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- DQYBDCGIPTYXML-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;hydrate Chemical compound O.CCOCC DQYBDCGIPTYXML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LIWAQLJGPBVORC-UHFFFAOYSA-N ethylmethylamine Chemical group CCNC LIWAQLJGPBVORC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 1
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N methylidenecarbene Chemical compound C=[C] SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-O phenylazanium Chemical compound [NH3+]C1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000719 pyrrolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-O triphenylphosphanium Chemical compound C1=CC=CC=C1[PH+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- GIIXTFIYICRGMZ-UHFFFAOYSA-N tris(2,3-dimethylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=CC(P(C=2C(=C(C)C=CC=2)C)C=2C(=C(C)C=CC=2)C)=C1C GIIXTFIYICRGMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1C COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORUFTXBRVJTAFU-UHFFFAOYSA-N tris(4-fluorophenyl) borate Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1OB(OC=1C=CC(F)=CC=1)OC1=CC=C(F)C=C1 ORUFTXBRVJTAFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBAJXDYVZBHCGT-UHFFFAOYSA-N tris(pentafluorophenyl)borane Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1B(C=1C(=C(F)C(F)=C(F)C=1F)F)C1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F OBAJXDYVZBHCGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、芳香族ビニル化合物−オレフィン
共重合体などの芳香族ビニル化合物含有共重合体の重合
用遷移金属化合物、およびそれを用いた芳香族ビニル化
合物−オレフィン共重合体の製造方法を提供するもので
ある。 【解決手段】 下記の一般式(1)または(2)で表さ
れる、芳香族ビニル化合物含有共重合体重合用の遷移金
属化合物およびそれを用いた共重合体の高く実用的な製
造方法。 【化1】 【化2】
共重合体などの芳香族ビニル化合物含有共重合体の重合
用遷移金属化合物、およびそれを用いた芳香族ビニル化
合物−オレフィン共重合体の製造方法を提供するもので
ある。 【解決手段】 下記の一般式(1)または(2)で表さ
れる、芳香族ビニル化合物含有共重合体重合用の遷移金
属化合物およびそれを用いた共重合体の高く実用的な製
造方法。 【化1】 【化2】
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、芳香族ビニル化合
物−オレフィン共重合体などの芳香族ビニル化合物含有
共重合体の重合用遷移金属化合物、およびそれを用いた
芳香族ビニル化合物−オレフィン共重合体の製造方法に
関する。
物−オレフィン共重合体などの芳香族ビニル化合物含有
共重合体の重合用遷移金属化合物、およびそれを用いた
芳香族ビニル化合物−オレフィン共重合体の製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】オレフィンと芳香族ビニル化合物、例え
ばエチレンとスチレンの共重合体は、いわゆる不均一系
チーグラ−ナッタ触媒を用いて検討がなされてきた。例
えば、Polymer Bulletin,20,23
7−241(1988)、Macromolecule
s,24,5476(1991)。しかしながら、従来
の不均一系チーグラ−ナッタ触媒系は、活性が低く、ま
たそれによって得られた共重合体はスチレンの含有量が
低く、均一、規則的な共重合構造を有せず、更に、ポリ
エチレンやアイソタクティク、アタクティクのポリスチ
レン等のホモポリマーを多く含むなど、実用的では無
い。
ばエチレンとスチレンの共重合体は、いわゆる不均一系
チーグラ−ナッタ触媒を用いて検討がなされてきた。例
えば、Polymer Bulletin,20,23
7−241(1988)、Macromolecule
s,24,5476(1991)。しかしながら、従来
の不均一系チーグラ−ナッタ触媒系は、活性が低く、ま
たそれによって得られた共重合体はスチレンの含有量が
低く、均一、規則的な共重合構造を有せず、更に、ポリ
エチレンやアイソタクティク、アタクティクのポリスチ
レン等のホモポリマーを多く含むなど、実用的では無
い。
【0003】また、遷移金属化合物と有機アルミニウム
化合物からなるいわゆる均一系チーグラ−ナッタ触媒系
を用いて得られるスチレン−エチレン共重合体及びその
製造方法がいくつか知られている。特開平3−1630
88号公報、特開平7−53618号公報では、いわゆ
る拘束幾何構造を有する錯体を用いて得られる、正常な
スチレン連鎖が存在しないスチレン−エチレン共重合
体、いわゆる擬似ランダム共重合体が記載されている。
なお、正常なSt連鎖とはヘッド−テイル結合の連鎖を
いう。また、以下でスチレンをStと記す場合がある。
しかし、この擬似ランダム共重合体中に存在するスチレ
ン−エチレンの交互構造のフェニル基には立体規則性は
ない。更に、活性も実用上不十分である。
化合物からなるいわゆる均一系チーグラ−ナッタ触媒系
を用いて得られるスチレン−エチレン共重合体及びその
製造方法がいくつか知られている。特開平3−1630
88号公報、特開平7−53618号公報では、いわゆ
る拘束幾何構造を有する錯体を用いて得られる、正常な
スチレン連鎖が存在しないスチレン−エチレン共重合
体、いわゆる擬似ランダム共重合体が記載されている。
なお、正常なSt連鎖とはヘッド−テイル結合の連鎖を
いう。また、以下でスチレンをStと記す場合がある。
しかし、この擬似ランダム共重合体中に存在するスチレ
ン−エチレンの交互構造のフェニル基には立体規則性は
ない。更に、活性も実用上不十分である。
【0004】特開平6−49132号公報、及びPol
ymer Preprints,Japan,42,2
292(1993)には、架橋Cp系Zr錯体(ここで
Cpはシクロペンタジエニルを表す)と助触媒からなる
触媒を用いて同様の正常なSt連鎖の存在しないスチレ
ン−エチレン共重合体、いわゆる擬似ランダム共重合体
の製造方法が記載されている。この擬似ランダム共重合
体中に存在するスチレン−エチレンの交互構造のフェニ
ル基には実質的な立体規則性はない。また、この触媒系
では活性は、実用上不十分である。
ymer Preprints,Japan,42,2
292(1993)には、架橋Cp系Zr錯体(ここで
Cpはシクロペンタジエニルを表す)と助触媒からなる
触媒を用いて同様の正常なSt連鎖の存在しないスチレ
ン−エチレン共重合体、いわゆる擬似ランダム共重合体
の製造方法が記載されている。この擬似ランダム共重合
体中に存在するスチレン−エチレンの交互構造のフェニ
ル基には実質的な立体規則性はない。また、この触媒系
では活性は、実用上不十分である。
【0005】一方、置換フェノール系配位子を有するT
i錯体を用いて得られる、スチレン−エチレン交互共重
合体が知られている(特開平3−250007号公報、
及びStud.Surf.Sci.Catal.,51
7(1990))。この共重合体は実質的にエチレンと
スチレンの交互構造からなることが特徴である。得られ
る共重合体は、実質的に交互構造のみが含まれる共重合
体であるがゆえに、共重合体中のエチレン50mol
%、スチレン50mol%の組成比を変えることは実質
的に困難である。フェニル基の立体規則性はアイソタク
ティクであるが、アイソタクティクダイアッド分率mで
0.92程度であり、重量平均分子量は2万程度と低
く、結晶性ポリマーとしての実用物性を与えるためには
はなはだ不十分である。さらに付け加えるなら、触媒活
性が極めて低く、シンジオタクティクのポリスチレン等
との混合物として得られるため実用的とはいい難い。
i錯体を用いて得られる、スチレン−エチレン交互共重
合体が知られている(特開平3−250007号公報、
及びStud.Surf.Sci.Catal.,51
7(1990))。この共重合体は実質的にエチレンと
スチレンの交互構造からなることが特徴である。得られ
る共重合体は、実質的に交互構造のみが含まれる共重合
体であるがゆえに、共重合体中のエチレン50mol
%、スチレン50mol%の組成比を変えることは実質
的に困難である。フェニル基の立体規則性はアイソタク
ティクであるが、アイソタクティクダイアッド分率mで
0.92程度であり、重量平均分子量は2万程度と低
く、結晶性ポリマーとしての実用物性を与えるためには
はなはだ不十分である。さらに付け加えるなら、触媒活
性が極めて低く、シンジオタクティクのポリスチレン等
との混合物として得られるため実用的とはいい難い。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、芳香族ビニ
ル化合物含有共重合体重合用、例えば芳香族ビニル化合
物とオレフィンの共重合用の遷移金属化合物、及びそれ
を用いた活性が高く実用的な芳香族ビニル化合物含有共
重合体の製造方法を提供することにある。
ル化合物含有共重合体重合用、例えば芳香族ビニル化合
物とオレフィンの共重合用の遷移金属化合物、及びそれ
を用いた活性が高く実用的な芳香族ビニル化合物含有共
重合体の製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記の一般式
(1)、(2)で表される、芳香族ビニル化合物含有共
重合体、好ましくは芳香族ビニル化合物とオレフィンの
共重合体重合用の遷移金属化合物である。
(1)、(2)で表される、芳香族ビニル化合物含有共
重合体、好ましくは芳香族ビニル化合物とオレフィンの
共重合体重合用の遷移金属化合物である。
【0008】
【化7】
【0009】式中、Ind1、Ind2は、下記の一般
式(6)で表される非置換または置換インデニル基であ
り、Ind1とInd2は互いに同一であっても、異な
っていても良い。
式(6)で表される非置換または置換インデニル基であ
り、Ind1とInd2は互いに同一であっても、異な
っていても良い。
【0010】
【化8】
【0011】ここで、R7、R7’、R7''、R7''’
は水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜10
のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、
ハロゲン原子、OSiR83 基、SiR83 基またはP
R82 基(R8はいずれも炭素数1〜10の炭化水素基
を表す)であり、互いに同一でも異なっていても良い。
また、隣接するR7、R7’、R7''、R7''’基は一
体となって5〜8員環の芳香環または脂肪環を形成して
も良い。
は水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜10
のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、
ハロゲン原子、OSiR83 基、SiR83 基またはP
R82 基(R8はいずれも炭素数1〜10の炭化水素基
を表す)であり、互いに同一でも異なっていても良い。
また、隣接するR7、R7’、R7''、R7''’基は一
体となって5〜8員環の芳香環または脂肪環を形成して
も良い。
【0012】Ind1またはInd2としては、非置換
インデニル基としては1−インデニルが、置換インデニ
ル基としては4−アルキル−1−インデニル、4−アリ
ール−1−インデニル、4,5−ジアルキル−1−イン
デニル、4,6−ジアルキル−1−インデニル、5,6
−ジアルキル−1−インデニル、4,5,6−トリアル
キル−1−インデニル、5−アリール−1−インデニ
ル、5,6−ジアリール−1−インデニル、4,5−ジ
アリール−1−インデニル、4,6−ジアリール−1−
インデニル等が挙げられる。
インデニル基としては1−インデニルが、置換インデニ
ル基としては4−アルキル−1−インデニル、4−アリ
ール−1−インデニル、4,5−ジアルキル−1−イン
デニル、4,6−ジアルキル−1−インデニル、5,6
−ジアルキル−1−インデニル、4,5,6−トリアル
キル−1−インデニル、5−アリール−1−インデニ
ル、5,6−ジアリール−1−インデニル、4,5−ジ
アリール−1−インデニル、4,6−ジアリール−1−
インデニル等が挙げられる。
【0013】R1は水素、炭素数1〜20のアルキル
基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜20のア
ルキルアリール基であり、互いに同一でも異なっていて
も良い。また、隣接するR1基は一体となって5〜8員
環の脂肪環を形成しても良い。zは2から10までの整
数を表す。
基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜20のア
ルキルアリール基であり、互いに同一でも異なっていて
も良い。また、隣接するR1基は一体となって5〜8員
環の脂肪環を形成しても良い。zは2から10までの整
数を表す。
【0014】かかる、Ind1とInd2を架橋する置
換基としては、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデ
ン、シクロヘプチリデン、3−メチルシクロペンチリデ
ン、4−フェニルシクロヘキシリデン、3,4−ジメチ
ルシクロヘプチリデン、3−フェニルシクロヘキシリデ
ン基等が挙げられる。
換基としては、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデ
ン、シクロヘプチリデン、3−メチルシクロペンチリデ
ン、4−フェニルシクロヘキシリデン、3,4−ジメチ
ルシクロヘプチリデン、3−フェニルシクロヘキシリデ
ン基等が挙げられる。
【0015】X1、X2は、水素、ハロゲン原子、アル
キル基、アリール基、シリル基、アルコキシ基または下
記の一般式(3)で表されるアミド基である。ハロゲン
原子としては塩素、臭素等が、アルキル基としてはメチ
ル基、エチル基等が、アリール基としてはフェニル基等
が、シリル基としてはトリメチルシリル基等が、アルコ
キシル基としてはメトキシ基、エトキシ基、イソプロポ
キシ基等が挙げられる。また、X1とX2は互いに同一
であっても、異なっていても良い。
キル基、アリール基、シリル基、アルコキシ基または下
記の一般式(3)で表されるアミド基である。ハロゲン
原子としては塩素、臭素等が、アルキル基としてはメチ
ル基、エチル基等が、アリール基としてはフェニル基等
が、シリル基としてはトリメチルシリル基等が、アルコ
キシル基としてはメトキシ基、エトキシ基、イソプロポ
キシ基等が挙げられる。また、X1とX2は互いに同一
であっても、異なっていても良い。
【0016】
【化9】
【0017】式中、A1、A2は水素、炭素数1〜20
のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基または炭素
数7〜20のアルキルアリール基であり、互いに同一で
も異なっていても良い。また、A1、A2基は一体とな
って5〜8員環の芳香環または脂肪環を形成しても良
い。
のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基または炭素
数7〜20のアルキルアリール基であり、互いに同一で
も異なっていても良い。また、A1、A2基は一体とな
って5〜8員環の芳香環または脂肪環を形成しても良
い。
【0018】かかるアミド基の例としては、ジメチルア
ミド基、ジエチルアミド基、ジイソプロピルアミド基、
ジフェニルアミド基、メチルエチルアミド基、ピロリジ
ニル基、ピペリジニル基、ピリジニル基等が挙げられ
る。
ミド基、ジエチルアミド基、ジイソプロピルアミド基、
ジフェニルアミド基、メチルエチルアミド基、ピロリジ
ニル基、ピペリジニル基、ピリジニル基等が挙げられ
る。
【0019】好ましいX1、X2としてジメチルアミド
基、ジエチルアミド基が挙げられる。当該置換基を選択
した場合の利点として、遷移金属化合物を合成する際に
従来より公知である配位子のリチウム塩を−78℃の低
温で四塩化ジルコニウム等と反応させるプロセスがなく
なり、錯体の製造プロセスが大幅に簡略化され、結果と
して低コストで遷移金属化合物を合成できる点が挙げら
れる。Mは、Zr、HfまたはTiである。
基、ジエチルアミド基が挙げられる。当該置換基を選択
した場合の利点として、遷移金属化合物を合成する際に
従来より公知である配位子のリチウム塩を−78℃の低
温で四塩化ジルコニウム等と反応させるプロセスがなく
なり、錯体の製造プロセスが大幅に簡略化され、結果と
して低コストで遷移金属化合物を合成できる点が挙げら
れる。Mは、Zr、HfまたはTiである。
【0020】
【化10】
【0021】式中、Ind3、Ind4は、一般式
(1)におけるInd1、Ind2と同じ構造を表す。
(1)におけるInd1、Ind2と同じ構造を表す。
【0022】R2は水素、炭素数1〜20のアルキル
基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜20のア
ルキルアリール基であり、互いに同一でも異なっていて
も良い。また、隣接するR2基は一体となって5〜8員
環の脂肪環を形成しても良い。
基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜20のア
ルキルアリール基であり、互いに同一でも異なっていて
も良い。また、隣接するR2基は一体となって5〜8員
環の脂肪環を形成しても良い。
【0023】x、yは0から10までの整数を表し、x
とyの和は2以上である。R3、R3’、R3''、R
3''’は水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6
〜10のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリー
ル基、ハロゲン原子、OSiR43 基、SiR43 基ま
たはPR42 基(R4はいずれも炭素数1〜10の炭化
水素基を表す)であり、互いに同一でも異なっていても
良い。また、隣接するR3、R3’、R3''、R3''’
基は一体となって5〜8員環の芳香環または脂肪環を形
成しても良い。
とyの和は2以上である。R3、R3’、R3''、R
3''’は水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6
〜10のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリー
ル基、ハロゲン原子、OSiR43 基、SiR43 基ま
たはPR42 基(R4はいずれも炭素数1〜10の炭化
水素基を表す)であり、互いに同一でも異なっていても
良い。また、隣接するR3、R3’、R3''、R3''’
基は一体となって5〜8員環の芳香環または脂肪環を形
成しても良い。
【0024】X3、X4は、一般式(1)におけるX
1、X2と同じ構造を示す。Mは、Zr、HfまたはT
iである。
1、X2と同じ構造を示す。Mは、Zr、HfまたはT
iである。
【0025】かかる遷移金属化合物の例としては下記の
化合物が挙げられる。例えば、一般式(1)で表される
遷移金属化合物としては、シクロペンチリデンビス(1
−インデニル)ジルコニウムジクロリド、シクロヘキシ
リデンビス(1−インデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、シクロヘプチリデンビス(1−インデニル)ジルコ
ニウムジクロリド、3−メチルシクロペンチリデンビス
(1−インデニル)ジルコニウムジクロリド、シクロペ
ンチリデン(1−インデニル)(4−フェニル−1−イ
ンデニル)ジルコニウムジクロリド、シクロペンチリデ
ンビス(1−インデニル)ビスジメチルアミドジルコニ
ウム、シクロヘキシリデンビス(1−インデニル)ビス
ジメチルアミドジルコニウム、シクロヘプチリデンビス
(1−インデニル)ビスジメチルアミドジルコニウム、
3−メチルシクロペンチリデンビス(1−インデニル)
ビスジメチルアミドジルコニウム、シクロペンチリデン
(1−インデニル)(4−フェニル−1−インデニル)
ビスジメチルアミドジルコニウム、シクロペンチリデン
ビス(1−インデニル)ビスジイソプロピルアミドジル
コニウム、シクロペンチリデンビス(1−インデニル)
ビスジイソプロピルアミドジルコニウム、シクロペンチ
リデンビス(1−インデニル)ビスジフェニルアミドジ
ルコニウム、シクロペンチリデンビス(1−インデニ
ル)ビスピロリジニルジルコニウム、シクロペンチリデ
ンビス(1−インデニル)ビスジピペリジニルジルコニ
ウム、シクロペンチリデンビス(1−インデニル)ビス
ジピリジニルジルコニウム、シクロペンチリデンビス
(1−インデニル)ジメチルアミドジルコニウムクロリ
ド等が挙げられる。
化合物が挙げられる。例えば、一般式(1)で表される
遷移金属化合物としては、シクロペンチリデンビス(1
−インデニル)ジルコニウムジクロリド、シクロヘキシ
リデンビス(1−インデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、シクロヘプチリデンビス(1−インデニル)ジルコ
ニウムジクロリド、3−メチルシクロペンチリデンビス
(1−インデニル)ジルコニウムジクロリド、シクロペ
ンチリデン(1−インデニル)(4−フェニル−1−イ
ンデニル)ジルコニウムジクロリド、シクロペンチリデ
ンビス(1−インデニル)ビスジメチルアミドジルコニ
ウム、シクロヘキシリデンビス(1−インデニル)ビス
ジメチルアミドジルコニウム、シクロヘプチリデンビス
(1−インデニル)ビスジメチルアミドジルコニウム、
3−メチルシクロペンチリデンビス(1−インデニル)
ビスジメチルアミドジルコニウム、シクロペンチリデン
(1−インデニル)(4−フェニル−1−インデニル)
ビスジメチルアミドジルコニウム、シクロペンチリデン
ビス(1−インデニル)ビスジイソプロピルアミドジル
コニウム、シクロペンチリデンビス(1−インデニル)
ビスジイソプロピルアミドジルコニウム、シクロペンチ
リデンビス(1−インデニル)ビスジフェニルアミドジ
ルコニウム、シクロペンチリデンビス(1−インデニ
ル)ビスピロリジニルジルコニウム、シクロペンチリデ
ンビス(1−インデニル)ビスジピペリジニルジルコニ
ウム、シクロペンチリデンビス(1−インデニル)ビス
ジピリジニルジルコニウム、シクロペンチリデンビス
(1−インデニル)ジメチルアミドジルコニウムクロリ
ド等が挙げられる。
【0026】また、一般式(2)で表される遷移金属錯
体の例としては、2−インダニリデンビス(1−インデ
ニル)ジルコニウムジクロリド、2−インダニリデンビ
ス(1−インデニル)ビスジメチルアミドジルコニウ
ム、2−インダニリデンビス(1−インデニル)ビスジ
エチルアミドジルコニウム、1−インダニリデンビス
(1−インデニル)ジルコニウムジクロリド、1−イン
ダニリデンビス(1−インデニル)ビスジメチルアミド
ジルコニウム、1−インダニリデンビス(1−インデニ
ル)ビスジエチルアミドジルコニウム等が挙げられる。
体の例としては、2−インダニリデンビス(1−インデ
ニル)ジルコニウムジクロリド、2−インダニリデンビ
ス(1−インデニル)ビスジメチルアミドジルコニウ
ム、2−インダニリデンビス(1−インデニル)ビスジ
エチルアミドジルコニウム、1−インダニリデンビス
(1−インデニル)ジルコニウムジクロリド、1−イン
ダニリデンビス(1−インデニル)ビスジメチルアミド
ジルコニウム、1−インダニリデンビス(1−インデニ
ル)ビスジエチルアミドジルコニウム等が挙げられる。
【0027】特に好ましい遷移金属としてシクロペンチ
リデンビス(1−インデニル)ビスジメチルアミドジル
コニウムが挙げられる。
リデンビス(1−インデニル)ビスジメチルアミドジル
コニウムが挙げられる。
【0028】以上、Zr錯体を例示したが、Ti、Hf
錯体も上記と同様の化合物が好適に用いられる。また、
以上の錯体はラセミ体を用いるが、D体を用いても、L
体を用いても良い。
錯体も上記と同様の化合物が好適に用いられる。また、
以上の錯体はラセミ体を用いるが、D体を用いても、L
体を用いても良い。
【0029】また本発明は、これらの遷移金属化合物と
助触媒から構成される重合触媒を用いて重合する芳香族
ビニル化合物−オレフィン共重合体の製造方法である。
本発明で用いる助触媒としては、従来遷移金属化合物と
組み合わせて用いられている助触媒を使用することがで
きるが、そのような助触媒として、アルミノキサン(ま
たはアルモキサンと記す)またはほう素化合物が好適に
用いられる。更に本発明は、その際用いられる助触媒が
下記の一般式(4)、(5)で示されるアルミノキサン
である芳香族ビニル化合物−オレフィン共重合体の製造
方法である。
助触媒から構成される重合触媒を用いて重合する芳香族
ビニル化合物−オレフィン共重合体の製造方法である。
本発明で用いる助触媒としては、従来遷移金属化合物と
組み合わせて用いられている助触媒を使用することがで
きるが、そのような助触媒として、アルミノキサン(ま
たはアルモキサンと記す)またはほう素化合物が好適に
用いられる。更に本発明は、その際用いられる助触媒が
下記の一般式(4)、(5)で示されるアルミノキサン
である芳香族ビニル化合物−オレフィン共重合体の製造
方法である。
【0030】
【化11】
【0031】式中、R5は炭素数1〜5のアルキル基、
炭素数6〜10のアリール基、または水素、mは2〜1
00の整数である。それぞれのR5は互いに同一でも異
なっていても良い。
炭素数6〜10のアリール基、または水素、mは2〜1
00の整数である。それぞれのR5は互いに同一でも異
なっていても良い。
【0032】
【化12】
【0033】式中、R6は炭素数1〜5のアルキル基、
炭素数6〜10のアリール基、または水素、nは2〜1
00の整数である。それぞれのR6は互いに同一でも異
なっていても良い。
炭素数6〜10のアリール基、または水素、nは2〜1
00の整数である。それぞれのR6は互いに同一でも異
なっていても良い。
【0034】アルミノキサンとしては好ましくは、メチ
ルアルモキサン、エチルアルモキサン、トリイソブチル
アルモキサンが用いられるが、特に好ましくはメチルア
ルモキサンが用いられる。必要に応じ、これら種類の異
なるアルモキサンの混合物を用いてもよい。また、これ
らアルモキサンとアルキルアルミニウム、例えば、トリ
メチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイ
ソブチルアルミニウムやハロゲンを含むアルキルアルミ
ニウム、例えばジメチルアルミニウムクロライド等を併
用してもよい。
ルアルモキサン、エチルアルモキサン、トリイソブチル
アルモキサンが用いられるが、特に好ましくはメチルア
ルモキサンが用いられる。必要に応じ、これら種類の異
なるアルモキサンの混合物を用いてもよい。また、これ
らアルモキサンとアルキルアルミニウム、例えば、トリ
メチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイ
ソブチルアルミニウムやハロゲンを含むアルキルアルミ
ニウム、例えばジメチルアルミニウムクロライド等を併
用してもよい。
【0035】助触媒として用いられるほう素化合物は、
トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)ボレート、{トリチルテトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)ボレート}、リチウムテトラ(ペンタ
フルオロフェニル)ボレート、トリ(ペンタフルオロフ
ェニル)ボラン、トリメチルアンモニウムテトラフェニ
ルボレート、トリエチルアンモニウムテトラフェニルボ
レート、トリプロピルアンモニウムテトラフェニルボレ
ート、トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラフェニル
ボレート、トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラ(p
−トリル)フェニルボレート、トリ(n−ブチル)アン
モニウムテトラ(p−エチルフェニル)ボレート、トリ
(n−ブチル)アンモニウムテトラ(ペンタフルオロフ
ェニル)ボレート、トリメチルアンモニウムテトラ(p
−トリル)ボレート、トリメチルアンモニウムテトラキ
ス−3,5−ジメチルフェニルボレート、トリエチルア
ンモニウムテトラキス−3,5−ジメチルフェニルボレ
ート、トリブチルアンモニウムテトラキス−3,5−ジ
メチルフェニルボレート、トリブチルアンモニウムテト
ラキス−2,4−ジメチルフェニルボレート、アニリニ
ウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、N,
N’−ジメチルアニリニウムテトラフェニルボレート、
N,N’−ジメチルアニリニウムテトラキス(p−トリ
ル)ボレート、N,N’−ジメチルアニリニウムテトラ
キス(m−トリル)ボレート、N,N’−ジメチルアニ
リニウムテトラキス(2,4−ジメチルフェニル)ボレ
ート、N,N’−ジメチルアニリニウムテトラキス
(3,5−ジメチルフェニル)ボレート、N,N’−ジ
メチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート、N,N’−ジエチルアニリニウムテトラ
キス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N’−
2,4,5−ペンタメチルアニリニウムテトラフェニル
ボレート、N,N’−2,4,5−ペンタエチルアニリ
ニウムテトラフェニルボレート、ジ−(イソプロピル)
アンモニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレー
ト、ジ−シクロヘキシルアンモニウムテトラフェニルボ
レート、トリフェニルホスホニウムテトラフェニルボレ
ート、トリ(メチルフェニル)ホスホニウムテトラフェ
ニルボレート、トリ(ジメチルフェニル)ホスホニウム
テトラフェニルボレート、トリフェニルカルベニウムテ
トラキス(p−トリル)ボレート、トリフェニルカルベ
ニウムテトラキス(m−トリル)ボレート、トリフェニ
ルカルベニウムテトラキス(2,4−ジメチルフェニ
ル)ボレート、トリフェニルカルベニウムテトラキス
(3,5−ジメチルフェニル)ボレート、トロピリウム
テトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トロピリ
ウムテトラキス(p−トリル)ボレート、トロピリウム
テトラキス(m−トリル)ボレート、トロピリウムテト
ラキス(2,4−ジメチルフェニル)ボレート、トロピ
リウムテトラキス(3,5−ジメチルフェニル)ボレー
ト等である。これらほう素化合物と上記有機アルミニウ
ム化合物を同時に用いても差し支えない。特にほう素化
合物を助触媒として用いる場合、重合系内に含まれる水
等の重合に悪影響を与える不純物の除去に、トリイソブ
チルアルミニウム等のアルキルアルミ化合物の添加は有
効である。
トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)ボレート、{トリチルテトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)ボレート}、リチウムテトラ(ペンタ
フルオロフェニル)ボレート、トリ(ペンタフルオロフ
ェニル)ボラン、トリメチルアンモニウムテトラフェニ
ルボレート、トリエチルアンモニウムテトラフェニルボ
レート、トリプロピルアンモニウムテトラフェニルボレ
ート、トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラフェニル
ボレート、トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラ(p
−トリル)フェニルボレート、トリ(n−ブチル)アン
モニウムテトラ(p−エチルフェニル)ボレート、トリ
(n−ブチル)アンモニウムテトラ(ペンタフルオロフ
ェニル)ボレート、トリメチルアンモニウムテトラ(p
−トリル)ボレート、トリメチルアンモニウムテトラキ
ス−3,5−ジメチルフェニルボレート、トリエチルア
ンモニウムテトラキス−3,5−ジメチルフェニルボレ
ート、トリブチルアンモニウムテトラキス−3,5−ジ
メチルフェニルボレート、トリブチルアンモニウムテト
ラキス−2,4−ジメチルフェニルボレート、アニリニ
ウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、N,
N’−ジメチルアニリニウムテトラフェニルボレート、
N,N’−ジメチルアニリニウムテトラキス(p−トリ
ル)ボレート、N,N’−ジメチルアニリニウムテトラ
キス(m−トリル)ボレート、N,N’−ジメチルアニ
リニウムテトラキス(2,4−ジメチルフェニル)ボレ
ート、N,N’−ジメチルアニリニウムテトラキス
(3,5−ジメチルフェニル)ボレート、N,N’−ジ
メチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート、N,N’−ジエチルアニリニウムテトラ
キス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N’−
2,4,5−ペンタメチルアニリニウムテトラフェニル
ボレート、N,N’−2,4,5−ペンタエチルアニリ
ニウムテトラフェニルボレート、ジ−(イソプロピル)
アンモニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレー
ト、ジ−シクロヘキシルアンモニウムテトラフェニルボ
レート、トリフェニルホスホニウムテトラフェニルボレ
ート、トリ(メチルフェニル)ホスホニウムテトラフェ
ニルボレート、トリ(ジメチルフェニル)ホスホニウム
テトラフェニルボレート、トリフェニルカルベニウムテ
トラキス(p−トリル)ボレート、トリフェニルカルベ
ニウムテトラキス(m−トリル)ボレート、トリフェニ
ルカルベニウムテトラキス(2,4−ジメチルフェニ
ル)ボレート、トリフェニルカルベニウムテトラキス
(3,5−ジメチルフェニル)ボレート、トロピリウム
テトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トロピリ
ウムテトラキス(p−トリル)ボレート、トロピリウム
テトラキス(m−トリル)ボレート、トロピリウムテト
ラキス(2,4−ジメチルフェニル)ボレート、トロピ
リウムテトラキス(3,5−ジメチルフェニル)ボレー
ト等である。これらほう素化合物と上記有機アルミニウ
ム化合物を同時に用いても差し支えない。特にほう素化
合物を助触媒として用いる場合、重合系内に含まれる水
等の重合に悪影響を与える不純物の除去に、トリイソブ
チルアルミニウム等のアルキルアルミ化合物の添加は有
効である。
【0036】本発明に用いられる芳香族ビニル化合物と
しては、スチレンおよび各種の置換スチレン、例えばp
−メチルスチレン、m−メチルスチレン、o−メチルス
チレン、o−t−ブチルスチレン、m−t−ブチルスチ
レン、p−t−ブチルスチレン、p−クロロスチレン、
o−クロロスチレン、α−メチルスチレン等が挙げら
れ、またジビニルベンゼン等の一分子中に複数個のビニ
ル基を有する化合物等も挙げられる。工業的には好まし
くはスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレ
ン、特に好ましくはスチレンが用いられる。また、本発
明に用いられるオレフィンとしては、炭素数2〜20の
α−オレフィン、すなわちエチレン、プロピレン、1−
ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、1
−オクテンや環状オレフィン、すなわちノルボルネンや
ノルボルナジエンが適当である。なかでも、エチレン、
プロピレンが好ましく、エチレンが特に好ましい。以下
の説明においてはオレフィンとしてエチレンを例に説明
する。
しては、スチレンおよび各種の置換スチレン、例えばp
−メチルスチレン、m−メチルスチレン、o−メチルス
チレン、o−t−ブチルスチレン、m−t−ブチルスチ
レン、p−t−ブチルスチレン、p−クロロスチレン、
o−クロロスチレン、α−メチルスチレン等が挙げら
れ、またジビニルベンゼン等の一分子中に複数個のビニ
ル基を有する化合物等も挙げられる。工業的には好まし
くはスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレ
ン、特に好ましくはスチレンが用いられる。また、本発
明に用いられるオレフィンとしては、炭素数2〜20の
α−オレフィン、すなわちエチレン、プロピレン、1−
ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、1
−オクテンや環状オレフィン、すなわちノルボルネンや
ノルボルナジエンが適当である。なかでも、エチレン、
プロピレンが好ましく、エチレンが特に好ましい。以下
の説明においてはオレフィンとしてエチレンを例に説明
する。
【0037】本発明の共重合体を製造するにあたって
は、オレフィン、上記に例示した芳香族ビニル化合物、
金属錯体である遷移金属化合物および助触媒を接触させ
るが、溶媒を用いずに液状モノマー中で重合させる方
法、あるいはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘ
キサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ置換ベ
ンゼン、クロロ置換トルエン、塩化メチレン、クロロホ
ルム等の飽和脂肪族または芳香族炭化水素またはハロゲ
ン化炭化水素の単独または混合溶媒を用いる方法があ
る。また、必要に応じ、バッチ重合、連続重合、回分式
重合、あるいは予備重合等の方法を用いることができ
る。
は、オレフィン、上記に例示した芳香族ビニル化合物、
金属錯体である遷移金属化合物および助触媒を接触させ
るが、溶媒を用いずに液状モノマー中で重合させる方
法、あるいはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘ
キサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ置換ベ
ンゼン、クロロ置換トルエン、塩化メチレン、クロロホ
ルム等の飽和脂肪族または芳香族炭化水素またはハロゲ
ン化炭化水素の単独または混合溶媒を用いる方法があ
る。また、必要に応じ、バッチ重合、連続重合、回分式
重合、あるいは予備重合等の方法を用いることができ
る。
【0038】重合温度は、−78℃から200℃が適当
であり、好ましくは0℃〜160℃である。−78℃よ
り低い重合温度は工業的に不利であり、200℃を超え
ると金属錯体の分解が起こるので適当ではない。
であり、好ましくは0℃〜160℃である。−78℃よ
り低い重合温度は工業的に不利であり、200℃を超え
ると金属錯体の分解が起こるので適当ではない。
【0039】助触媒として有機アルミニウム化合物を用
いる場合には、錯体の金属に対し、アルミニウム原子/
錯体金属原子比で0.1〜100000、好ましくは1
0〜10000の比で用いられる。0.1より小さいと
有効に金属錯体を活性化出来ず、100000を超える
と経済的に不利となる。助触媒としてほう素化合物を用
いる場合には、ほう素原子/錯体金属原子比で0.01
〜100の比で用いられるが、好ましくは0.1〜1
0、特に好ましくは1で用いられる。0.01より小さ
いと有効に金属錯体を活性化出来ず、100を超えると
経済的に不利となる。金属錯体と助触媒は、重合槽外で
混合、調製しても、重合時に槽内で混合してもよい。本
発明の共重合体には、本発明の効果を妨げない範囲でポ
リマーに通常用いられる添加剤、助剤等を添加すること
が出来る。好適な添加剤、助剤としては酸化防止剤、滑
材、可塑剤、紫外線吸収剤、安定剤、顔料、着色剤、充
填剤、発泡剤等が挙げられる。
いる場合には、錯体の金属に対し、アルミニウム原子/
錯体金属原子比で0.1〜100000、好ましくは1
0〜10000の比で用いられる。0.1より小さいと
有効に金属錯体を活性化出来ず、100000を超える
と経済的に不利となる。助触媒としてほう素化合物を用
いる場合には、ほう素原子/錯体金属原子比で0.01
〜100の比で用いられるが、好ましくは0.1〜1
0、特に好ましくは1で用いられる。0.01より小さ
いと有効に金属錯体を活性化出来ず、100を超えると
経済的に不利となる。金属錯体と助触媒は、重合槽外で
混合、調製しても、重合時に槽内で混合してもよい。本
発明の共重合体には、本発明の効果を妨げない範囲でポ
リマーに通常用いられる添加剤、助剤等を添加すること
が出来る。好適な添加剤、助剤としては酸化防止剤、滑
材、可塑剤、紫外線吸収剤、安定剤、顔料、着色剤、充
填剤、発泡剤等が挙げられる。
【0040】本発明で得られる芳香族ビニル化合物−エ
チレン共重合体は、芳香族ビニル化合物含量がモル分率
で1〜99.9%未満では、その構造中に含まれる下記
の一般式(7)で示されるエチレンと芳香族ビニル化合
物の交互構造のフェニル基の立体規則性が下式(I)で
与えられるアイソタクティクダイアッド分率m(メソダ
イアッド分率)で0.75より大きいこと、かつ下式
(II)で与えられる交互構造指数λが70より小さ
く、1より大きいことを特徴とする芳香族ビニル化合物
−エチレン共重合体である。 m=Am/(Ar+Am) 式(I) ここで、Arは13C−NMRにより得られる25pp
m付近に観察されるメチレン炭素由来のr(ラセミダイ
アッド)構造に由来するピーク面積で、測定条件や溶媒
によって若干シフトする場合があるが、例えば、重クロ
ロホルムを溶媒とし、テトラメチルシランを基準とした
場合には25.4〜25.5ppm付近に現れ、重テト
ラクロロエタンを溶媒とし重テトラクロロエタンの三重
線の中心ピーク(73.89ppm)を基準とした場合
には25.3〜25.4ppm付近に現れる。同様に、
Amは、m(メソダイアッド)構造に由来するピーク
で、例えば、重クロロホルムを溶媒とし、テトラメチル
シランを基準とした場合には25.2〜25.3ppm
付近に現れ、重テトラクロロエタンを溶媒とし重テトラ
クロロエタンの三重線の中心ピークを基準とした場合に
は25.1〜25.2ppm付近に現れる。 λ=A3/A2×100 式(II) ここでA3は、13C−NMR測定により得られる、下
記の一般式(7’)で示される芳香族ビニル化合物−エ
チレン交互構造に由来する3種類のピークa、b、cの
面積の総和である。また、A2はTMSを基準とした1
3C−NMRにより0〜50ppmの範囲に観測される
主鎖メチレン及びメチン炭素に由来するピークの面積の
総和である。
チレン共重合体は、芳香族ビニル化合物含量がモル分率
で1〜99.9%未満では、その構造中に含まれる下記
の一般式(7)で示されるエチレンと芳香族ビニル化合
物の交互構造のフェニル基の立体規則性が下式(I)で
与えられるアイソタクティクダイアッド分率m(メソダ
イアッド分率)で0.75より大きいこと、かつ下式
(II)で与えられる交互構造指数λが70より小さ
く、1より大きいことを特徴とする芳香族ビニル化合物
−エチレン共重合体である。 m=Am/(Ar+Am) 式(I) ここで、Arは13C−NMRにより得られる25pp
m付近に観察されるメチレン炭素由来のr(ラセミダイ
アッド)構造に由来するピーク面積で、測定条件や溶媒
によって若干シフトする場合があるが、例えば、重クロ
ロホルムを溶媒とし、テトラメチルシランを基準とした
場合には25.4〜25.5ppm付近に現れ、重テト
ラクロロエタンを溶媒とし重テトラクロロエタンの三重
線の中心ピーク(73.89ppm)を基準とした場合
には25.3〜25.4ppm付近に現れる。同様に、
Amは、m(メソダイアッド)構造に由来するピーク
で、例えば、重クロロホルムを溶媒とし、テトラメチル
シランを基準とした場合には25.2〜25.3ppm
付近に現れ、重テトラクロロエタンを溶媒とし重テトラ
クロロエタンの三重線の中心ピークを基準とした場合に
は25.1〜25.2ppm付近に現れる。 λ=A3/A2×100 式(II) ここでA3は、13C−NMR測定により得られる、下
記の一般式(7’)で示される芳香族ビニル化合物−エ
チレン交互構造に由来する3種類のピークa、b、cの
面積の総和である。また、A2はTMSを基準とした1
3C−NMRにより0〜50ppmの範囲に観測される
主鎖メチレン及びメチン炭素に由来するピークの面積の
総和である。
【0041】
【化13】
【0042】式中、Phはフェニル基等の芳香族基、w
は繰り返し単位数を示し2以上の整数を表す。
は繰り返し単位数を示し2以上の整数を表す。
【0043】
【化14】
【0044】式中、Phはフェニル基等の芳香族基、w
は繰り返し単位数を示し2以上の整数を表す。
は繰り返し単位数を示し2以上の整数を表す。
【0045】本発明によって得られる芳香族ビニル化合
物−エチレン共重合体は、エチレンと芳香族ビニル化合
物の高い立体規則性を有する交互構造と、同時に種々の
長さのエチレン連鎖、芳香族ビニル化合物の異種結合、
芳香族ビニル化合物の連鎖等の多様な構造を併せて有す
るという特徴を持つ。本発明では共重合体中の芳香族ビ
ニル化合物の含量によって交互構造の割合を、上記の式
で得られるλ値で1〜70未満の範囲で種々変更可能で
ある。この立体規則的な交互構造は結晶可能な構造であ
るので、本発明の共重合体は、芳香族ビニル化合物の含
量により、あるいは適当な方法で結晶化度を制御するこ
とにより、結晶性、非結晶性、部分的に結晶構造を有す
るポリマーという多様な特性を与えることが可能であ
る。λ値が70未満であることは、結晶性ポリマーであ
りながら、有意の靭性、透明性を与えるために、また、
部分的に結晶性のポリマーとなるために、あるいは、非
結晶性のポリマーとなるために重要である。
物−エチレン共重合体は、エチレンと芳香族ビニル化合
物の高い立体規則性を有する交互構造と、同時に種々の
長さのエチレン連鎖、芳香族ビニル化合物の異種結合、
芳香族ビニル化合物の連鎖等の多様な構造を併せて有す
るという特徴を持つ。本発明では共重合体中の芳香族ビ
ニル化合物の含量によって交互構造の割合を、上記の式
で得られるλ値で1〜70未満の範囲で種々変更可能で
ある。この立体規則的な交互構造は結晶可能な構造であ
るので、本発明の共重合体は、芳香族ビニル化合物の含
量により、あるいは適当な方法で結晶化度を制御するこ
とにより、結晶性、非結晶性、部分的に結晶構造を有す
るポリマーという多様な特性を与えることが可能であ
る。λ値が70未満であることは、結晶性ポリマーであ
りながら、有意の靭性、透明性を与えるために、また、
部分的に結晶性のポリマーとなるために、あるいは、非
結晶性のポリマーとなるために重要である。
【0046】本発明の共重合体は、従来の立体規則性を
有しない芳香族ビニル化合物−エチレン共重合体に比べ
てそれぞれの芳香族ビニル化合物含量の領域、種々の結
晶化度において、初期引張弾性率、堅さ、破断強度、伸
び、耐溶剤性等の性能が向上し、熱可塑性エラストマ
−、透明軟質樹脂、あるいは新規結晶性樹脂として特長
有る物性を示す。さらに、芳香族ビニル化合物含量を変
更することで、ガラス転移点を広い範囲で変更すること
が可能である。すなわち、本発明によって得られる共重
合体は、その芳香族ビニル化合物含量領域で異なった特
徴ある物性を示す。
有しない芳香族ビニル化合物−エチレン共重合体に比べ
てそれぞれの芳香族ビニル化合物含量の領域、種々の結
晶化度において、初期引張弾性率、堅さ、破断強度、伸
び、耐溶剤性等の性能が向上し、熱可塑性エラストマ
−、透明軟質樹脂、あるいは新規結晶性樹脂として特長
有る物性を示す。さらに、芳香族ビニル化合物含量を変
更することで、ガラス転移点を広い範囲で変更すること
が可能である。すなわち、本発明によって得られる共重
合体は、その芳香族ビニル化合物含量領域で異なった特
徴ある物性を示す。
【0047】
【実施例】以下に実施例を挙げ、本発明を説明するが、
本発明は以下の実施例に限定されるものではない。な
お、以下の説明においてMeはメチル基を、Phはフェ
ニル基を、Fluはフルオレニル基を、Cpはシクロペ
ンタジエニル基を表す。
本発明は以下の実施例に限定されるものではない。な
お、以下の説明においてMeはメチル基を、Phはフェ
ニル基を、Fluはフルオレニル基を、Cpはシクロペ
ンタジエニル基を表す。
【0048】各実施例、比較例で得られた共重合体の分
析は以下の手段によって実施した。13C−NMRスペ
クトルは、日本電子社製α−500により、重クロロホ
ルム溶媒または重1,1,2,2−テトラクロロエタン
溶媒を用い、TMSを基準として測定した。ピーク面積
の定量を行う13C−NMRスペクトル測定は、NOE
を消去させたプロトンゲートデカップリング法により、
パルス幅は45°パルスを用い、繰り返し時間5秒を標
準として行った。ちなみに、同一条件で、但し繰り返し
時間を1.5秒に変更して測定してみたが、共重合体の
ピーク面積定量値は、繰り返し時間5秒の場合と測定誤
差範囲内で一致した。
析は以下の手段によって実施した。13C−NMRスペ
クトルは、日本電子社製α−500により、重クロロホ
ルム溶媒または重1,1,2,2−テトラクロロエタン
溶媒を用い、TMSを基準として測定した。ピーク面積
の定量を行う13C−NMRスペクトル測定は、NOE
を消去させたプロトンゲートデカップリング法により、
パルス幅は45°パルスを用い、繰り返し時間5秒を標
準として行った。ちなみに、同一条件で、但し繰り返し
時間を1.5秒に変更して測定してみたが、共重合体の
ピーク面積定量値は、繰り返し時間5秒の場合と測定誤
差範囲内で一致した。
【0049】共重合体中のスチレン含量の決定は、1H
−NMRで行い、機器は日本電子社製α−500を用い
た。重クロロホルム溶媒または、重1,1,2,2−テ
トラクロロエタンを用いTMSを基準として、フェニル
基プロトン由来のピーク(6.5〜7.5ppm)とア
ルキル基由来のプロトンピーク(0.8〜3ppm)の
強度比較で行った。実施例中の分子量は、GPC(ゲル
パーミエーションクロマトグラフィー)を用いて標準ポ
リスチレン換算の重量平均分子量、数平均分子量を求め
た。室温でTHFに可溶な共重合体は、THFを溶媒と
し、東ソー社製HLC−8020を用い測定した。ガラ
ス転移温度および融点はDSCで行い、DSC測定はセ
イコー電子社製DSC200を用いてN2 気流下昇温速
度10℃/minで行なった。GC−MSの測定装置は
島津製作所製QP−1000を用いた。
−NMRで行い、機器は日本電子社製α−500を用い
た。重クロロホルム溶媒または、重1,1,2,2−テ
トラクロロエタンを用いTMSを基準として、フェニル
基プロトン由来のピーク(6.5〜7.5ppm)とア
ルキル基由来のプロトンピーク(0.8〜3ppm)の
強度比較で行った。実施例中の分子量は、GPC(ゲル
パーミエーションクロマトグラフィー)を用いて標準ポ
リスチレン換算の重量平均分子量、数平均分子量を求め
た。室温でTHFに可溶な共重合体は、THFを溶媒と
し、東ソー社製HLC−8020を用い測定した。ガラ
ス転移温度および融点はDSCで行い、DSC測定はセ
イコー電子社製DSC200を用いてN2 気流下昇温速
度10℃/minで行なった。GC−MSの測定装置は
島津製作所製QP−1000を用いた。
【0050】実験例 <遷移金属化合物の合成>下式のrac−(1,1−シ
クロペンチリデン)ビス(1−インデニル)ビスジメチ
ルアミドジルコニウムは以下の合成法で合成した。
クロペンチリデン)ビス(1−インデニル)ビスジメチ
ルアミドジルコニウムは以下の合成法で合成した。
【0051】1,1−シクロペンチリデンビス(1−
インデン)の合成 Ar雰囲気下、粉砕した水酸化カリウム0.285mo
lを1,2−ジメトキシエタン(以下DMEと略記)1
50mlに懸濁させ、0.215molのインデンを滴
下し、1時間還流させた。その後、0.107molの
シクロペンタノンを滴下し、4日間還流させた。反応物
を水、ジエチルエーテル中に注ぎ、有機層を分離、飽和
食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧
下、留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(ヘキサン−ジクロロメタン)で精製
し、1,1−シクロペンチリデンビス(1−インデン)
を黄白色結晶として3.2g(収率10%)得た。GC
−MS測定により、目的物であることを確認した。
インデン)の合成 Ar雰囲気下、粉砕した水酸化カリウム0.285mo
lを1,2−ジメトキシエタン(以下DMEと略記)1
50mlに懸濁させ、0.215molのインデンを滴
下し、1時間還流させた。その後、0.107molの
シクロペンタノンを滴下し、4日間還流させた。反応物
を水、ジエチルエーテル中に注ぎ、有機層を分離、飽和
食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧
下、留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(ヘキサン−ジクロロメタン)で精製
し、1,1−シクロペンチリデンビス(1−インデン)
を黄白色結晶として3.2g(収率10%)得た。GC
−MS測定により、目的物であることを確認した。
【0052】rac−1,1−シクロペンチリデンビ
ス(1−インデニル)ビスジメチルアミドジルコニウム
の合成 Ar雰囲気下、4.3mmolの1,1−シクロペンチ
リデンビス(1−インデン)と3.7mmolのジルコ
ニウムテトラキスジメチルアミド、{Zr(NMe2 )
4 }をトルエン25mlとともに仕込み、120℃で5
日間攪拌した。減圧下、トルエンを留去し、茶色の固体
を得た。この一部をとり、ヘキサンで数回洗浄し、乾燥
し、オレンジ色粉末のrac−1,1−シクロペンチリ
デンビス(1−インデニル)ビスジメチルアミドジルコ
ニウムを0.1g得た。1H−NMRスペクトル測定に
より、7.83ppm(d、2H)、7.48ppm
(d、2H)、7.03ppm(t、2H)、6.72
ppm(t、2H)、6.52ppm(d、2H)、
6.37ppm(d、2H)、6.26ppm(d、2
H)、3.03ppm(m、2H)、2.85ppm
(m、2H)、2.37ppm(s、12H)、1.9
7ppm(m、2H)、1.90ppm(m、2H)の
位置にピークを有する。測定はTMSを基準とし、CD
Cl3 を溶媒として行なった。
ス(1−インデニル)ビスジメチルアミドジルコニウム
の合成 Ar雰囲気下、4.3mmolの1,1−シクロペンチ
リデンビス(1−インデン)と3.7mmolのジルコ
ニウムテトラキスジメチルアミド、{Zr(NMe2 )
4 }をトルエン25mlとともに仕込み、120℃で5
日間攪拌した。減圧下、トルエンを留去し、茶色の固体
を得た。この一部をとり、ヘキサンで数回洗浄し、乾燥
し、オレンジ色粉末のrac−1,1−シクロペンチリ
デンビス(1−インデニル)ビスジメチルアミドジルコ
ニウムを0.1g得た。1H−NMRスペクトル測定に
より、7.83ppm(d、2H)、7.48ppm
(d、2H)、7.03ppm(t、2H)、6.72
ppm(t、2H)、6.52ppm(d、2H)、
6.37ppm(d、2H)、6.26ppm(d、2
H)、3.03ppm(m、2H)、2.85ppm
(m、2H)、2.37ppm(s、12H)、1.9
7ppm(m、2H)、1.90ppm(m、2H)の
位置にピークを有する。測定はTMSを基準とし、CD
Cl3 を溶媒として行なった。
【0053】<共重合体の合成> 実施例1 容量1L、攪拌機及び加熱用ジャケット付のオートクレ
ーブを用いて重合を行った。脱水したトルエン400m
l、脱水したスチレン80mlを仕込み、内温50℃に
加熱攪拌した。窒素を約40Lバブリングして系内をパ
ージし、トリイソブチルアルミニウム0.84mmo
l、メチルアルモキサン(東ソーアクゾ社製、MMAO
−3A)をAl基準で8.4mmol加えた。ただちに
エチレンを導入し、圧力10Kg/cm2 Gで安定した
後に、オートクレーブ上に設置した触媒タンクから、触
媒rac−1,1−シクロペンチリデンビス(1−イン
デニル)ビスジメチルアミドジルコニウムを4.2μm
ol、トリイソブチルアルミニウム0.84mmolを
溶かしたトルエン溶液約50mlをオートクレーブに加
えた。触媒投入後、約30分で重合熱により内温は最高
90℃まで上昇した。圧力を10Kg/cm2 Gに維持
しながら2時間重合を実施した。重合終了後、得られた
重合液を激しく攪拌した過剰のメタノール中に少量ずつ
投入し生成したポリマーを析出させた。減圧下、60℃
で重量変化が認められなくなるまで乾燥したところ、1
74gのポリマーを得た。
ーブを用いて重合を行った。脱水したトルエン400m
l、脱水したスチレン80mlを仕込み、内温50℃に
加熱攪拌した。窒素を約40Lバブリングして系内をパ
ージし、トリイソブチルアルミニウム0.84mmo
l、メチルアルモキサン(東ソーアクゾ社製、MMAO
−3A)をAl基準で8.4mmol加えた。ただちに
エチレンを導入し、圧力10Kg/cm2 Gで安定した
後に、オートクレーブ上に設置した触媒タンクから、触
媒rac−1,1−シクロペンチリデンビス(1−イン
デニル)ビスジメチルアミドジルコニウムを4.2μm
ol、トリイソブチルアルミニウム0.84mmolを
溶かしたトルエン溶液約50mlをオートクレーブに加
えた。触媒投入後、約30分で重合熱により内温は最高
90℃まで上昇した。圧力を10Kg/cm2 Gに維持
しながら2時間重合を実施した。重合終了後、得られた
重合液を激しく攪拌した過剰のメタノール中に少量ずつ
投入し生成したポリマーを析出させた。減圧下、60℃
で重量変化が認められなくなるまで乾燥したところ、1
74gのポリマーを得た。
【0054】実施例2 容量1L、攪拌機及び加熱用ジャケット付のオートクレ
ーブを用いて重合を行った。脱水したトルエン80m
l、脱水したスチレン400mlを仕込み、内温50℃
に加熱攪拌した。窒素を約40Lバブリングして系内を
パージし、トリイソブチルアルミニウム0.84mmo
l、メチルアルモキサン(東ソーアクゾ社製、MMAO
−3A)をAl基準で21.0mmol加えた。ただち
にエチレンを導入し、圧力1Kg/cm2 Gで安定した
後に、オートクレーブ上に設置した触媒タンクから、触
媒rac−1,1−シクロペンチリデンビス(1−イン
デニル)ビスジメチルアミドジルコニウムを21.0μ
mol、トリイソブチルアルミニウム0.84mmol
を溶かしたトルエン溶液約50mlをオートクレーブに
加えた。触媒投入後、約10分で重合熱により内温は最
高57℃まで上昇した。圧力を1Kg/cm2 Gに維持
しながら3.5時間重合を実施した。重合終了後、得ら
れた重合液を激しく攪拌した過剰のメタノール中に少量
ずつ投入し生成したポリマーを析出させた。減圧下、6
0℃で重量変化が認められなくなるまで乾燥したとこ
ろ、96.3gのポリマーを得た。
ーブを用いて重合を行った。脱水したトルエン80m
l、脱水したスチレン400mlを仕込み、内温50℃
に加熱攪拌した。窒素を約40Lバブリングして系内を
パージし、トリイソブチルアルミニウム0.84mmo
l、メチルアルモキサン(東ソーアクゾ社製、MMAO
−3A)をAl基準で21.0mmol加えた。ただち
にエチレンを導入し、圧力1Kg/cm2 Gで安定した
後に、オートクレーブ上に設置した触媒タンクから、触
媒rac−1,1−シクロペンチリデンビス(1−イン
デニル)ビスジメチルアミドジルコニウムを21.0μ
mol、トリイソブチルアルミニウム0.84mmol
を溶かしたトルエン溶液約50mlをオートクレーブに
加えた。触媒投入後、約10分で重合熱により内温は最
高57℃まで上昇した。圧力を1Kg/cm2 Gに維持
しながら3.5時間重合を実施した。重合終了後、得ら
れた重合液を激しく攪拌した過剰のメタノール中に少量
ずつ投入し生成したポリマーを析出させた。減圧下、6
0℃で重量変化が認められなくなるまで乾燥したとこ
ろ、96.3gのポリマーを得た。
【0055】実施例3 容量10L、攪拌機及び加熱冷却用ジャケット付のオー
トクレーブを用いて重合を行った。脱水したトルエン4
000ml、脱水したスチレン800mlを仕込み、内
温50℃に加熱攪拌した。窒素を約100Lバブリング
して系内をパージし、トリイソブチルアルミニウム8.
4mmol、メチルアルモキサン(東ソーアクゾ社製、
MMAO−3A)をAl基準で84mmol加えた。た
だちにエチレンを導入し、圧力10Kg/cm2 Gで安
定した後に、オートクレーブ上に設置した触媒タンクか
ら、触媒rac−1,1−シクロペンチリデンビス(1
−インデニル)ビスジメチルアミドジルコニウムを8.
4μmol、トリイソブチルアルミニウム0.84mm
olを溶かしたトルエン溶液約50mlをオートクレー
ブに加えた。内温を50℃、エチレン圧を10Kg/c
m2 G(エチレン圧11気圧)に維持しながら2.5時
間重合を実施した。重合中は、反応液温及びエチレンの
消費速度を流量積算計によりモニターして、重合反応が
実質的に終了するまで重合を実施した。重合終了後、得
られた重合液を激しく攪拌した過剰のメタノール中に少
量ずつ投入し生成したポリマーを析出させた。減圧下、
60℃で重量変化が認められなくなるまで乾燥したとこ
ろ、686gのポリマーを得た。
トクレーブを用いて重合を行った。脱水したトルエン4
000ml、脱水したスチレン800mlを仕込み、内
温50℃に加熱攪拌した。窒素を約100Lバブリング
して系内をパージし、トリイソブチルアルミニウム8.
4mmol、メチルアルモキサン(東ソーアクゾ社製、
MMAO−3A)をAl基準で84mmol加えた。た
だちにエチレンを導入し、圧力10Kg/cm2 Gで安
定した後に、オートクレーブ上に設置した触媒タンクか
ら、触媒rac−1,1−シクロペンチリデンビス(1
−インデニル)ビスジメチルアミドジルコニウムを8.
4μmol、トリイソブチルアルミニウム0.84mm
olを溶かしたトルエン溶液約50mlをオートクレー
ブに加えた。内温を50℃、エチレン圧を10Kg/c
m2 G(エチレン圧11気圧)に維持しながら2.5時
間重合を実施した。重合中は、反応液温及びエチレンの
消費速度を流量積算計によりモニターして、重合反応が
実質的に終了するまで重合を実施した。重合終了後、得
られた重合液を激しく攪拌した過剰のメタノール中に少
量ずつ投入し生成したポリマーを析出させた。減圧下、
60℃で重量変化が認められなくなるまで乾燥したとこ
ろ、686gのポリマーを得た。
【0056】実施例4 触媒量を21μmolに、スチレンを2400mlに、
トルエンを2400mlに、重合時間を2時間に変更し
た以外は実施例3と同様に重合及び後処理を実施した。
その結果1354gのポリマーを得た。
トルエンを2400mlに、重合時間を2時間に変更し
た以外は実施例3と同様に重合及び後処理を実施した。
その結果1354gのポリマーを得た。
【0057】比較例1 文献J.Am.Chem.Soc.,110,6255
(1988)を参考に、Ewen型Zr錯体である、下
式のジフェニルメチレン(フルオレニル)(シクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド({Flu−CP
h2 −Cp}ZrCl2 )を合成した。
(1988)を参考に、Ewen型Zr錯体である、下
式のジフェニルメチレン(フルオレニル)(シクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド({Flu−CP
h2 −Cp}ZrCl2 )を合成した。
【0058】
【化15】
【0059】触媒をジフェニルメチレン(フルオレニ
ル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド
に、触媒量を164μmolに、エチレン圧を3Kg/
cm2Gに、トルエンを800mlに、スチレンを40
00mlに、重合時間を4時間に変更した以外は実施例
3と同様に重合及び後処理を実施した。その結果286
gのポリマーを得た。
ル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド
に、触媒量を164μmolに、エチレン圧を3Kg/
cm2Gに、トルエンを800mlに、スチレンを40
00mlに、重合時間を4時間に変更した以外は実施例
3と同様に重合及び後処理を実施した。その結果286
gのポリマーを得た。
【0060】比較例2 特開平7−053618号公報を参考に、CGCT(拘
束幾何構造)型Ti錯体(第3級ブチルアミド)ジメチ
ル(テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニル)シラ
ンチタンジクロライド、({CpMe4 −SiMe2 −
NtBu}TiCl2 )を合成した。
束幾何構造)型Ti錯体(第3級ブチルアミド)ジメチ
ル(テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニル)シラ
ンチタンジクロライド、({CpMe4 −SiMe2 −
NtBu}TiCl2 )を合成した。
【0061】触媒をCGCT(拘束幾何構造)型Ti錯
体(第3級ブチルアミド)ジメチル(テトラメチル−η
5 −シクロペンタジエニル)シランチタンジクロライド
21μmolに、トルエンを1500mlに、スチレン
を3300mlに変更した他は、実施例3と同様に重合
及び後処理を実施した。その結果550gのポリマーを
得た。
体(第3級ブチルアミド)ジメチル(テトラメチル−η
5 −シクロペンタジエニル)シランチタンジクロライド
21μmolに、トルエンを1500mlに、スチレン
を3300mlに変更した他は、実施例3と同様に重合
及び後処理を実施した。その結果550gのポリマーを
得た。
【0062】各実施例、比較例の重合条件及び重合結果
を表1に示す。また、各実施例、比較例で得られた共重
合体のスチレン含量、分子量、分子量分布、融点、ガラ
ス転移温度を表2に示す。更に、λ値、m値を表3に示
す。
を表1に示す。また、各実施例、比較例で得られた共重
合体のスチレン含量、分子量、分子量分布、融点、ガラ
ス転移温度を表2に示す。更に、λ値、m値を表3に示
す。
【0063】
【表1】
【0064】
【表2】
【0065】
【表3】
【0066】本発明の遷移金属化合物成分を用いた場
合、いずれのスチレン含量においても従来法に比較して
著しく高い活性及び単位触媒あたりの生産性を示す。
合、いずれのスチレン含量においても従来法に比較して
著しく高い活性及び単位触媒あたりの生産性を示す。
【0067】本発明で得られる共重合体の一例として、
実施例4で得られた共重合体のNMRスペクトルを図1
〜図3に、またGPCチャ−トを図4に示す。
実施例4で得られた共重合体のNMRスペクトルを図1
〜図3に、またGPCチャ−トを図4に示す。
【0068】
【発明の効果】本発明の遷移金属化合物を用いれば、芳
香族ビニル化合物含有共重合体、例えば芳香族ビニル化
合物とオレフィンの共重合体を、非常に活性が高く実用
的な方法で製造することが出来る。
香族ビニル化合物含有共重合体、例えば芳香族ビニル化
合物とオレフィンの共重合体を、非常に活性が高く実用
的な方法で製造することが出来る。
【図1】 実施例4で得られた共重合体の1H−NMR
スペクトル
スペクトル
【図2】 実施例4で得られた共重合体のC13−NM
Rスペクトル、全体図
Rスペクトル、全体図
【図3】 実施例4で得られた共重合体のC13−NM
Rスペクトル、メチン、メチレン領域
Rスペクトル、メチン、メチレン領域
【図4】 実施例4で得られた共重合体のGPCチャー
ト
ト
Claims (5)
- 【請求項1】 下記の一般式(1)または(2)で表さ
れることを特徴とする芳香族ビニル化合物含有共重合体
重合用の遷移金属化合物。 【化1】 式中、Ind1、Ind2は、非置換または置換インデ
ニル基であり、Ind1とInd2は互いに同一であっ
ても、異なっていても良い。R1は水素、炭素数1〜2
0のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数
7〜20のアルキルアリール基であり、互いに同一でも
異なっていても良い。また、同一の炭素原子に結合する
R1基または隣接する炭素に結合するR1基は一体とな
って5〜8員環の脂肪環を形成しても良い。zは2から
10までの整数を表す。X1、X2は、水素、ハロゲン
原子、アルキル基、アリール基、シリル基、アルコキシ
基または下記の一般式(3)で表されるアミド基であ
り、X1とX2は互いに同一であっても、異なっていて
も良い。 【化2】 式中、A1、A2は水素、炭素数1〜20のアルキル
基、炭素数6〜10のアリール基または炭素数7〜20
のアルキルアリール基であり、互いに同一でも異なって
いても良い。また、A1、A2基は一体となって5〜8
員環の芳香環または脂肪環を形成しても良い。Mは、Z
r、HfまたはTiである。 【化3】 式中、Ind3、Ind4は、非置換または置換インデ
ニル基であり、Ind3とInd4は互いに同一であっ
ても、異なっていても良い。R2は水素、炭素数1〜2
0のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数
7〜20のアルキルアリール基であり、互いに同一でも
異なっていても良い。また、隣接するR2基は一体とな
って5〜8員環の脂肪環を形成しても良い。x、yは0
から10までの整数を表し、xとyの和は2以上であ
る。R3、R3’、R3''、R3''’は水素、炭素数1
〜20のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭
素数7〜20のアルキルアリール基、ハロゲン原子、O
SiR43 基、SiR43 基またはPR42 基(R4は
いずれも炭素数1〜10の炭化水素基を表す)であり、
互いに同一でも異なっていても良い。また、隣接するR
3、R3’、R3''、R3''’基は一体となって5〜8
員環の芳香環または脂肪環を形成しても良い。X3、X
4は、水素、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、
シリル基、アルコキシ基または下記の一般式(3)で表
されるアミド基であり、X3とX4は互いに同一であっ
ても、異なっていても良い。 【化4】 式中、A1、A2は水素、炭素数1〜20のアルキル
基、炭素数6〜10のアリール基または炭素数7〜20
のアルキルアリール基であり、互いに同一でも異なって
いても良い。また、A1、A2基は一体となって5〜8
員環の芳香環または脂肪環を形成しても良い。Mは、Z
r、HfまたはTiである。 - 【請求項2】 MがZrであり、かつ芳香族ビニル化合
物−オレフィン共重合体重合用であることを特徴とする
請求項1記載の遷移金属化合物。 - 【請求項3】 請求項2記載の遷移金属化合物と助触媒
を用いて重合することを特徴とする芳香族ビニル化合物
−オレフィン共重合体の製造方法。 - 【請求項4】 助触媒が下記の一般式(4)または
(5)で示されるアルミノキサン(またはアルモキサン
と記す)であることを特徴とする請求項3記載の芳香族
ビニル化合物−オレフィン共重合体の製造方法。 【化5】 式中、R5は炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜1
0のアリール基、または水素、mは2〜100の整数で
ある。それぞれのR5は互いに同一でも異なっていても
良い。 【化6】 式中、R6は炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜1
0のアリール基、または水素、nは2〜100の整数で
ある。それぞれのR6は互いに同一でも異なっていても
良い。 - 【請求項5】 オレフィンがエチレンであることを特徴
とする請求項3記載の芳香族ビニル化合物−オレフィン
共重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21959897A JPH1160622A (ja) | 1997-08-14 | 1997-08-14 | 重合用金属化合物及びそれを用いた芳香族ビニル化合物−オレフィン共重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21959897A JPH1160622A (ja) | 1997-08-14 | 1997-08-14 | 重合用金属化合物及びそれを用いた芳香族ビニル化合物−オレフィン共重合体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1160622A true JPH1160622A (ja) | 1999-03-02 |
Family
ID=16738050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21959897A Pending JPH1160622A (ja) | 1997-08-14 | 1997-08-14 | 重合用金属化合物及びそれを用いた芳香族ビニル化合物−オレフィン共重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1160622A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015182984A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 日本ポリプロ株式会社 | メタロセン錯体及びオレフィン重合体の製造方法 |
| JP2015193605A (ja) * | 2014-03-20 | 2015-11-05 | 日本ポリプロ株式会社 | メタロセン錯体およびオレフィン重合体の製造方法 |
-
1997
- 1997-08-14 JP JP21959897A patent/JPH1160622A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015193605A (ja) * | 2014-03-20 | 2015-11-05 | 日本ポリプロ株式会社 | メタロセン錯体およびオレフィン重合体の製造方法 |
| JP2015182984A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 日本ポリプロ株式会社 | メタロセン錯体及びオレフィン重合体の製造方法 |
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