JPH1161292A - 銅−炭素繊維複合体及びその製造方法 - Google Patents

銅−炭素繊維複合体及びその製造方法

Info

Publication number
JPH1161292A
JPH1161292A JP23210497A JP23210497A JPH1161292A JP H1161292 A JPH1161292 A JP H1161292A JP 23210497 A JP23210497 A JP 23210497A JP 23210497 A JP23210497 A JP 23210497A JP H1161292 A JPH1161292 A JP H1161292A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
carbon fiber
carbon
fiber composite
matrix
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23210497A
Other languages
English (en)
Inventor
Junya Kaneda
潤也 金田
Iwao Takase
磐雄 高瀬
Sumitaka Goto
純孝 後藤
Rikuo Kamoshita
陸男 鴨志田
Masatoshi Inagaki
正寿 稲垣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP23210497A priority Critical patent/JPH1161292A/ja
Publication of JPH1161292A publication Critical patent/JPH1161292A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Manufacture Of Alloys Or Alloy Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】銅マトリックス中に炭素繊維を含有した低熱膨
張,高熱伝導の銅−炭素繊維複合体及びその製造法を提
供する。 【解決手段】前記銅−炭素繊維複合体の銅マトリックス
と炭素繊維の界面に炭素と化合物を形成する金属元素を
含み、かつ銅あるいは炭素またはその両方に対して反応
又は固溶した界面層が存在し、銅マトリックスは実質的
に銅からなるものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な銅−炭素繊
維複合材に係わり、特に半導体装置用放熱基板等として
用いられる低熱膨張でかつ高熱伝導性の銅−炭素繊維複
合材料及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】銅は熱伝導度が大きく、広く放熱用の材
料として用いられている。しかし、熱膨張率が17×1
-6/°Kと大きいために半導体装置用放熱基板等の低
熱膨張性が要求される部材に用いることが出来ない。現
在、高密度半導体装置用放熱基板にはモリブデンが用い
られているが、より熱伝導度が高く、低コストの材料が
望まれている。これまでに、低熱膨張率の炭素繊維と高
熱伝導性の銅の複合化による、低熱膨張でかつ高熱伝導
の複合材の開発がなされてきた。その製造方法には、
(1)銅を溶湯にして炭素繊維に含浸させる方法、
(2)板あるいは箔状の銅と炭素繊維を交互に積層して
ホットプレスする方法、(3)炭素繊維に銅を蒸着ある
いはメッキにより付着させた後ホットプレスする方法が
ある。(1)の方法は、銅と炭素繊維の濡れ性が悪いこ
とから、炭素繊維の間隔の狭い複合体を得ようとすると
きには、炭素繊維間に銅が含浸出来ず、空洞が形成され
る。(2)の方法においても、(1)と同様な現象が生
じると考えられ、材料強度上好ましくない。(3)の方
法では、高度な蒸着あるいはメッキ技術が要求されると
いう問題点が挙げられる。
【0003】このような問題を解決するために、様々な
方法により銅−炭素繊維複合体の製造方法が開発されて
いる。特開昭51−5213号は、銅あるいは銅合金の粉末を
粘結剤と混合してスラリーとし、炭素繊維束に含浸させ
た後、プレスや焼結により所定の形状に固化する方法で
ある。特開昭52−89505 号,特開昭52−53720 号は、銅
あるいは炭素と反応する元素が固溶限以上添加された銅
合金を、軟化点以上の温度で加圧することにより炭素繊
維に含浸させ複合体を形成する方法である。また、特開
昭53−104508号は粉末状高導電性金属,炭素粉,炭素と
反応する元素粉末,粘結剤を混合してスラリーとし、こ
れを高導電性金属被覆炭素繊維に含浸させた後、熱間加
圧成形あるいは溶解冷却成形を行い複合体を製造する方
法である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】これらの製造方法で得
られた銅−炭素繊維複合体は、熱膨張率がモリブデンと
同等に小さいものは得られているが、熱伝導率が低く、
モリブデンに代替するには至っていない。この原因は、
炭素繊維密度の増加と炭素と反応する元素の添加にあ
る。本来、銅と炭素とは互いに非固溶であり、濡れ性が
悪く、複合体と成り難い材料である。高熱伝導度,低熱
膨張率,高強度の銅−炭素繊維複合体は、銅マトリック
スと炭素繊維間の結合により炭素繊維が銅マトリックス
の熱膨張を抑え、かつ銅マトリックス中の熱伝導により
高い熱伝導率が維持されることが必要である。また、複
合体の内部に空洞や割れ等の材料強度上好ましくない要
因がないことも必要である。しかし、一般に銅と炭素繊
維の界面の結合力が弱いために炭素繊維が銅の熱膨張を
抑制できず、また濡れ性が悪いために銅の含浸が不十分
となり空洞が形成され易い。この問題を解決するため
に、炭素と反応する元素を添加することにより銅と炭素
繊維の濡れ性を改善し結合力を向上させた複合体が作製
されている。しかし、熱膨張率は小さくなるが、熱伝導
を担う銅マトリックス中に添加元素が固溶するために十
分な熱伝導度を得ることが出来ない。また、熱膨張率は
単位体積当りの炭素繊維本数が多くなるに従い低下する
が、これによっても熱伝導を担う銅の体積率が減少する
ために熱伝導度が低下する。従って、銅−炭素繊維複合
体においては、熱膨張率の抑制と熱伝導度の向上を同時
に達成することが困難であった。
【0005】本発明は、低熱膨張率と高熱伝導率を同時
に満たす銅−炭素繊維複合体及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、銅マトリック
スが不可避的不純物元素を除き実質的に銅のみから成
り、銅と炭素繊維の界面に銅あるいは炭素またはその両
方に対して反応又は固溶した界面層が存在する組織を有
する銅と炭素繊維複合体にある。即ち、銅と炭素繊維の
結合力を向上させた銅−炭素繊維複合体が有効であるこ
とを見出した。前記界面層は、銅より融点が高くかつ炭
素と化合物を形成する金属元素を含まなければならな
い。このような炭素化合物形成金属元素としては、S
i,Ti,V,Cr,Zr,Nb,Mo,Hf,Ta,
Wが好ましく、これらのうちの少なくとも一つの元素が
炭素繊維と銅マトリックスの界面に界面層を形成してい
る必要がある。また、銅と炭素繊維の界面にSi,T
i,Zr,Hfのうちの少なくとも一つの元素を含む界
面層が存在することがより好ましい。上記の金属元素添
加により、炭素繊維と銅マトリックス間の結合状態が改
善されても、銅マトリックス中に上記金属元素が固溶す
ると、複合体の熱伝導度を低下させる。そこで、銅マト
リックスは不可避的不純物元素を除き実質的に銅のみか
ら成るように製造するものでなければならない。
【0007】上記の銅−炭素繊維複合体において、炭素
繊維体積分率が小さいと熱膨張の抑制効果が小さく、ま
た炭素繊維体積分率が大きいと熱伝導度が小さくなる。
このため、炭素繊維体積分率は20%以上70%以下で
あることが好ましい。また、界面層の厚さが厚い場合に
は、隣接する炭素繊維間に界面層のみが存在し、銅が含
浸されないために、熱伝導度が低下する。このため、界
面層の平均厚さは2μm以下が好ましい。界面層の厚さ
を調整し、かつ銅マトリックス中に固溶する添加金属元
素濃度を抑えるためには、炭素繊維重量をMcf、炭素と
化合物を形成する金属元素の重量をMm、炭素と化合物
を形成する金属元素の比重をρとしたときに、銅−炭素
繊維複合体中に含まれる、炭素と化合物を形成する金属
元素それぞれについてのMm/(Mcf×ρ)の値の和が
0.1以下であることが必要である。このような材料組
織を有する銅−炭素繊維複合体は、熱膨張率12×10
-6/°K以下,熱伝導度120W/m°K以上を達成出
来る。
【0008】上記の銅−炭素繊維複合体は、銅粉末,炭
素繊維及び炭素と化合物を形成することが可能な金属元
素粉末を混合し、短時間で加熱加圧成形し、銅マトリッ
クスが実質的に銅からなり、前述の界面層を形成させる
ことを特徴とする銅−炭素繊維複合体の製造方法により
製造することが出来る。
【0009】上記の銅−炭素繊維複合体を、半導体素子
を搭載した半導体装置の熱伝導性基板として用いること
により、半導体装置の品質において信頼性が高く、放熱
性に優れた半導体装置を提供することが出来る。
【0010】本発明は、低熱膨張で、かつ高熱伝導性の
銅−炭素繊維複合体を提供する。銅と炭素繊維とは、互
いに非固溶であり、濡れ性が悪く、複合体を作製し難
い。また、複合体を作製しても熱膨張を充分に抑制出来
なかったり、また熱伝導度を低下させたりする。そこ
で、銅マトリックスと炭素繊維の間に炭素と化合物を形
成することの出来る金属元素を含む界面層を形成するこ
とにより、銅マトリックスと炭素繊維の結合力を向上さ
せ、所定の熱膨張率及び熱伝導度を達成することが出来
た。ここでは、炭素と化合物を形成することの出来る金
属元素としては、周期率表で4A,5A,6A族の元素
及びSi、すなわちSi,Ti,V,Cr,Zr,N
b,Mo,Hf,Ta,Wが好ましい。特に、界面層形
成及び銅マトリックスとの反応の点でSi,Ti,Z
r,Hfが好ましい。また、優れた熱伝導性を維持する
上で、銅マトリックスは、不可避的不純物元素を除き実
質的に銅のみから成っていなければならない。特に、銅
−炭素繊維複合体に添加されている、炭素と化合物を形
成することの出来る金属元素は、銅マトリックス中に含
まれていないことが好ましいが、銅マトリックス中に含
まれる上記添加元素の定量分析分解能に限界があること
から、分析により検出される上記添加元素濃度は0.5w
t.%以下とする。
【0011】本発明の銅−炭素繊維複合体の熱膨張率
は、主に炭素繊維の体積分率に依存し、また、熱伝導度
は主に炭素繊維体積分率及び銅マトリックスへの添加元
素の固溶量に依存する。放熱用基板に用いるためには、
熱膨張率12×10-6/°K以下及び熱伝導度120W
/m°K以上が必要である。
【0012】炭素繊維体積分率は、銅−炭素繊維複合体
の熱膨張率,熱伝導度共に影響を及ぼす。炭素繊維体積
分率と熱膨張率及び熱伝導度の関係から、上記特性を達
成するのは、炭素繊維体積分率が20〜70%のときで
あった。しかし、炭素繊維の種類や銅−炭素繊維複合体
製造時の条件のばらつき等を考慮すると、炭素繊維体積
分率が30〜60%が好ましい。
【0013】銅マトリックスと炭素繊維界面に形成され
ている界面層は、その厚さが増すと隣接する炭素繊維間
に含浸されて熱伝導を担うべき銅の量が減少し、所定の
熱伝導度を得ることが出来なくなる可能性がある。そこ
で、炭素繊維体積分率を約50%に固定して、炭素化合
物を形成するための添加金属元素量を変化させて、界面
層厚さの異なる銅−炭素繊維複合体を作製し、その熱伝
導特性を評価した。その結果、界面層厚さが平均2μm
以下であれば、目標の熱伝導度を保持できることが確認
された。より薄い界面層となれば、より高い熱伝導度を
達成することが出来ることから、原子層レベルでの炭素
化合物の形成が理想的であるが、銅−炭素繊維複合体製
造の点で、0.05μm 程度が限界であると考えられる
ことから、平均0.05〜1μm の界面層厚さが好まし
い。
【0014】炭素化合物形成のための添加金属元素量
は、上記のように界面層厚さに影響を与えるだけでな
く、銅マトリックス中に固溶して、銅マトリックスの熱
伝導度を低下させる。そこで、添加金属元素量と熱伝導
度の関係を調査した。その結果、目標の熱伝導度を達成
するためには、銅−炭素繊維複合体中の添加金属元素重
量比をMm、炭素繊維重量比をMcf、添加金属元素の比
重をρとしたときMm/(Mcf×ρ)の値が0.1 以下
であることが必要である。特に、銅マトリックス中への
固溶量を低減させるため、及び実質的に均一な界面層を
得るためには、Mm/(Mcf×ρ)の値は0.005以
上で0.08以下が好ましい。
【0015】上記のような材料組織及び特性を有する銅
−炭素繊維複合体は、銅粒子,炭素繊維及び炭素と化合
物を形成することが可能な金属元素粒子を混合し、加
熱,加圧成形して作製した。上記の炭素と化合物を形成
することが可能な金属元素は、具体的にはSi,Ti,
V,Cr,Zr,Nb,Mo,Hf,Ta,Wである。
これらのうち、特にSi,Ti,Zr,Hfが好まし
い。これらの金属元素は0.2〜5 重量%、より0.5
〜3 重量%が好ましい。また、上記の加熱,加圧成形
は、真空中が好ましいが、銅マトリックス中への酸素の
固溶を抑制出来る減圧あるいは不活性ガス雰囲気でもよ
い。加熱温度は、銅の融点以上であることが好ましい
が、800℃以上であればよい。加圧力は加熱温度に依
存するので、加熱温度に応じた加圧力を加える必要があ
る。この方法によれば、上記金属元素の銅中への固溶を
抑え、かつ銅と炭素繊維界面に良好な界面層を形成する
ことが出来る。
【0016】このような製造方法で作製された、所定の
組織及び特性を有す銅−炭素繊維複合体は、低熱膨張及
び高熱伝導が必要とされる部位に適用することが出来
る。特に、銅−炭素繊維複合体と窒化アルミ及びアルミ
ナの板との銀ろうによる接合が可能であることから、半
導体装置の熱伝導性基板に適用することが出来る。
【0017】
【発明の実施の形態】
(実施例1)銅−炭素繊維複合体の製造方法を示す。
【0018】ピッチ系炭素繊維を2〜6mmの長さに切断
し、これに直径10μm以下のTi粒子を混合した。更
に、その炭素繊維とTi粒子混合物とに100メッシュ
以下のCu粒子を混合した。混合重量比は、炭素繊維:
Cu粒子:Ti粒子=9.54(g):36.4(g):2.
05(g)であった。また、一連の混合により炭素繊維
は切断されたままの状態より多少粉砕された。炭素繊
維,Cu粒子,Ti粒子の混合物1を0.1mmt のCu
板で作った箱(Cu容器)2の中に入れ、図1に示す加
熱加圧成形装置に入れた。ただし、図1では、加熱加圧
成形装置の断面を示している。加熱加圧成形装置には雰
囲気制御のためにチャンバー3が設けられており、その
中には加熱炉4が設置されている。混合物1は、側面黒
鉛治具5,上部黒鉛板6,上部湯だめ付き黒鉛板7,下
部黒鉛板8,下部湯だめ付き黒鉛板9で包囲した後、湯
流れ防止皿10にのせて、加熱炉4内に設置した。この
とき、加圧のための下部加圧治具11,上部加圧治具1
2は、混合物1が加熱炉4の中央に位置するように調節
した。上記の状態に設置,調節した後、チャンバー3内
を1×10-5Torr以上の真空度とした。なお、Cu容器
2と黒鉛製治具の隙間にはCu粒を充填した。
【0019】この後、混合物1に加圧治具にて20kg/
cm2 の圧力をかけた状態で、1100℃,10min の加熱加
圧成形を実施した。これにより、直径65mm,厚さ4mm
の円板上の銅−炭素繊維複合体を作製した。
【0020】このようにして作製した銅−炭素繊維複合
体の走査型電子顕微鏡(SEM)によって観察した結
果、黒いコントラストの部分が炭素繊維、白いコントラ
ストの部分が銅マトリックス、そして、炭素繊維と銅マ
トリックスの界面に存在する灰色の界面層が観察され
た。SEMに備えられている元素分析装置(EDX)で
炭素繊維,界面層,銅マトリックスの各部分を分析し、
図2,図3,図4に示す結果を得た。これより、炭素繊
維と銅マトリックスの界面にTi,Cu,炭素を含む界
面層が形成されていることがわかる。また、銅マトリッ
クス中には、実質的に銅からのX線ピークしか観察され
ていない。作製した銅−炭素繊維複合体の各元素重量比
は、Cu:Ti:C=87.2:2.6:10.2 であっ
た。
【0021】(実施例2)実施例1に示す銅−炭素繊維
複合体と同じ製造方法により、約30,50,70%の
炭素繊維体積分率となるように銅−炭素繊維複合体を作
製した。このとき炭素繊維とTi粒子の重量比はほぼ
4:1となるようにした。作製した円板状銅−炭素繊維
複合体を室温〜300℃の間で熱膨張率を測定した。ま
た、熱伝導度をレーザーフラッシュ法で測定した。得ら
れた熱膨張率及び熱伝導度と炭素繊維体積分率の関係を
それぞれ図5,図6に示す。これらより、12×10-6
/°K以下の熱膨張率と120W/m°K以上の熱伝導
度を共に達成するには、炭素繊維体積分率は20〜70
%が適当である。
【0022】(実施例3)炭素繊維体積分率を約50%
に固定して、炭素繊維とTi粒子の重量比がほぼ4:
1,2:1,1:1となるように配合して、実施例1と
同じ製造方法を用いて銅−炭素繊維複合体を作製した。
作製した銅−炭素繊維複合体の熱伝導度をレーザーフラ
ッシュ法で測定した。また、Tiを含む界面層の平均厚
さは、SEM写真より測定した。そこで、図7に示す界
面層厚さと熱伝導度の関係を得た。これより、120W
/m°K以上の熱伝導度を得るためには、2μm以下の
界面層厚さが適当である。
【0023】また、銅−炭素繊維複合体に混合したTi
と炭素繊維の重量比と熱伝導度の関係を整理すると、T
i重量をMm、炭素繊維重量をMcf、金属Tiの比重を
ρとしたとき、図8の関係を得た。これより、120W
/m°K以上の熱伝導度を得るためには、Mm/(Mcf
×ρ)の値が0.1 以下が適当である。
【0024】(実施例4)炭素繊維体積分率を約50
%、Mm/(Mcf×ρ)の値がほぼ0.05 と成るよう
にSi,Zr,Hfをそれぞれ配合して、実施例1と同
じ方法で銅−炭素繊維複合体を作製した。これらの熱膨
張率、及び熱伝導度は表1に示す値となった。これよ
り、Si,Zr,Hfは、Tiと同様に炭素繊維と銅マ
トリックスの界面に界面層を形成する効果が期待でき
る。
【0025】
【表1】
【0026】(実施例5)実施例1で作製した直径65
mm,厚さ4mmの銅−炭素繊維複合体上に、銀ろうを用い
て、一辺40mm,厚さ1mmの正方形の窒化アルミ板を接
合した。接合は、800℃で3min 保持し、3℃/min
の冷却速度で冷却した。この接合方法では、銅−炭素繊
維複合体と窒化アルミの接合体に割れは観察されなかっ
た。また、反りもなかったことから、良好な接合状態で
あると言うことが出来る。上記銅−炭素繊維複合体,炭
化アルミ接合体を−50〜125℃での熱サイクル試験
を実施した。その結果、300サイクルまでは、接合体
の劣化は観察されなかった。
【0027】
【発明の効果】本発明によれば、低コストで低熱膨張,
高熱伝導の銅−炭素繊維複合体が得られる。また、本発
明の銅−炭素繊維複合体を半導体装置の熱伝導性基板と
して用いることにより、半導体装置の品質において信頼
性が高く、放熱性に優れた半導体装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】加熱加圧成形装置の断面図。
【図2】銅−炭素繊維複合体の炭素繊維部分のEDX分
析結果。
【図3】銅−炭素繊維複合体の界面層部分のEDX分析
結果。
【図4】銅−炭素繊維複合体の銅マトリックス部分のE
DX分析結果。
【図5】銅−炭素繊維複合体の炭素繊維体積分率と熱膨
張率との関係を示す線図。
【図6】銅−炭素繊維複合体の炭素繊維体積分率と熱伝
導度の関係を示す線図。
【図7】銅−炭素繊維複合体の炭素化合物層厚さと熱伝
導度の関係を示す線図。
【図8】銅−炭素繊維複合体の金属添加量と熱伝導度の
関係を示す線図。
【符号の説明】
1…混合物、2…Cu容器、3…チャンバー、4…加熱
炉、5…側面黒鉛治具、6…上部黒鉛板、7…上部湯だ
め付き黒鉛板、8…下部黒鉛板、9…下部湯だめ付き黒
鉛板、10…湯流れ防止皿、11…下部加圧治具、12
…上部加圧治具。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鴨志田 陸男 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 稲垣 正寿 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】銅マトリックス中に炭素繊維を含有する銅
    −炭素繊維複合体において、銅マトリックスが不可避的
    不純物元素を除き実質的に銅から成り、銅と炭素繊維と
    の界面に金属元素を有し、該金属元素が炭素あるいは銅
    またはその両方に対して反応又は固溶した界面層が存在
    することを特徴とする銅−炭素繊維複合体。
  2. 【請求項2】銅マトリックス中に炭素繊維を含有する銅
    −炭素繊維複合体において、銅マトリックスが不可避的
    不純物元素を除き実質的に銅から成り、銅と炭素繊維と
    の界面に銅より融点が高く、炭素と化合物を形成する金
    属元素を有し、該金属元素が前記炭素あるいは銅または
    その両方に対して反応又は固溶した界面層を有すること
    を特徴とする銅−炭素繊維複合体。
  3. 【請求項3】銅マトリックス中に炭素繊維を含有する銅
    −炭素繊維複合体において、銅マトリックスが不可避的
    不純物元素を除き実質的に銅から成り、銅と炭素繊維と
    の界面にSi,Ti,V,Cr,Zr,Nb,Mo,H
    f,Ta,Wのうちの少なくとも一つの金属元素を含
    み、該金属元素が前記炭素あるいは銅またはその両方に
    対して反応又は固溶した界面層を有することを特徴とす
    る銅−炭素繊維複合体。
  4. 【請求項4】請求項1〜3のいずれかにおいて、 前記金属元素はその重量比でMm、その比重をρ、炭素
    の含有量を重量比でMcfとしたときに、Mm/(Mcf×
    ρ)の値が0.1 以下であることを特徴とする銅−炭素
    繊維複合体。
  5. 【請求項5】請求項1〜4のいずれかにおいて、 前記炭素繊維はその体積率で20〜70%であることを
    特徴とする銅−炭素繊維複合体。
  6. 【請求項6】請求項1〜4のいずれかにおいて、 前記界面層の厚さが2.0μm 以下であることを特徴と
    する銅−炭素繊維複合体。
  7. 【請求項7】請求項1〜6のいずれかにおいて、 熱膨張率が12×10-6/°K以下及び熱伝導度が12
    0W/m°K以上であることを特徴とする銅−炭素繊維
    複合体。
  8. 【請求項8】銅マトリックス中に炭素繊維を含有する銅
    −炭素繊維複合体の製造方法において、銅粉末,炭素繊
    維及び該炭素繊維と化合物を形成する金属元素粉末を混
    合した後、加熱加圧成形し、 前記銅マトリックスが不可避的不純物元素を除き実質的
    に銅から成り、銅と炭素繊維との界面に炭素あるいは銅
    またはその両方に対して反応又は固溶した界面層を形成
    させることを特徴とする銅−炭素繊維複合体の製造方
    法。
  9. 【請求項9】銅マトリックス中に炭素繊維を含有する銅
    −炭素繊維複合体の製造方法において、銅粉末,炭素繊
    維及び銅より融点が高く、炭素と化合物を形成する金属
    元素粉末を混合した後、加熱加圧成形し、 前記銅マトリックスが不可避的不純物元素を除き実質的
    に銅から成り、銅より融点が高く、炭素と化合物を形成
    する前記金属元素粉末が前記炭素あるいは銅またはその
    両方に対して反応又は固溶した界面層を形成させること
    を特徴とする銅−炭素繊維複合体の製造方法。
  10. 【請求項10】銅マトリックス中に炭素繊維を含有する
    銅−炭素繊維複合体の製造方法において、銅粉末,炭素
    繊維及びSi,Ti,V,Cr,Zr,Nb,Mo,H
    f,Ta,W粉末のうちの少なくとも一つの金属元素粉
    末を混合した後、加熱加圧成形し、 前記銅マトリックスが不可避的不純物元素を除き実質的
    に銅から成り、前記金属元素粉末が前記炭素あるいは銅
    またはその両方に対して反応又は固溶した界面層を形成
    させることを特徴とする銅−炭素繊維複合体の製造方
    法。
  11. 【請求項11】銅マトリックス中に炭素繊維を含有する
    銅−炭素繊維複合体において、該複合体の熱膨張率が1
    2×10-6/°K以下及び熱伝導率が120W/m°K
    以上であることを特徴とする銅−炭素繊維複合体。
  12. 【請求項12】半導体素子を熱伝導性基板に搭載した半
    導体装置において、前記基板は請求項1〜7及び11の
    いずれかに記載の銅−炭素繊維複合体からなることを特
    徴とする半導体装置。
JP23210497A 1997-08-28 1997-08-28 銅−炭素繊維複合体及びその製造方法 Pending JPH1161292A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23210497A JPH1161292A (ja) 1997-08-28 1997-08-28 銅−炭素繊維複合体及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23210497A JPH1161292A (ja) 1997-08-28 1997-08-28 銅−炭素繊維複合体及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1161292A true JPH1161292A (ja) 1999-03-05

Family

ID=16934077

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23210497A Pending JPH1161292A (ja) 1997-08-28 1997-08-28 銅−炭素繊維複合体及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1161292A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6933531B1 (en) 1999-12-24 2005-08-23 Ngk Insulators, Ltd. Heat sink material and method of manufacturing the heat sink material
JP2013536587A (ja) * 2010-08-25 2013-09-19 イスパノ・シユイザ 少なくとも1つのセラミック部品を含むプリント回路
CN105087986A (zh) * 2015-08-27 2015-11-25 江苏大学 一种互不固溶铜-碳过饱和固溶体的制备方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6933531B1 (en) 1999-12-24 2005-08-23 Ngk Insulators, Ltd. Heat sink material and method of manufacturing the heat sink material
JP2013536587A (ja) * 2010-08-25 2013-09-19 イスパノ・シユイザ 少なくとも1つのセラミック部品を含むプリント回路
CN105087986A (zh) * 2015-08-27 2015-11-25 江苏大学 一种互不固溶铜-碳过饱和固溶体的制备方法
CN105087986B (zh) * 2015-08-27 2017-04-05 江苏大学 一种互不固溶铜‑碳过饱和固溶体的制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4862169B2 (ja) 熱伝導性材料
CA2505593C (en) Semiconductor substrate having copper/diamond composite material and method of making same
JP3351778B2 (ja) 炭素基金属複合材料板状成形体および製造方法
EP2179976A1 (en) Composite material having high thermal conductivity and low thermal expansion coefficient
JP3493844B2 (ja) 半導体基板材料とその製造方法及び該基板を用いた半導体装置
JP2002080280A (ja) 高熱伝導性複合材料及びその製造方法
WO2000027776A1 (fr) Materiau composite metallique a base de carbone, et procedes de preparation et d'utilisation correspondants
JP2004197153A (ja) ダイヤモンド−金属複合材料およびその製造方法
WO2000076940A1 (fr) Materiau composite et dispositif a semi-conducteur comprenant celui-ci
US7433187B2 (en) Heat spreader module
US20050263877A1 (en) Laminated radiation member, power semiconductor apparatus, and method for producing the same
WO2020013300A1 (ja) 金属-炭化珪素質複合体、及び金属-炭化珪素質複合体の製造方法
JP6595740B1 (ja) 金属−炭化珪素質複合体及びその製造方法
TWI283463B (en) Members for semiconductor device
US20020192453A1 (en) Composite material having a high thermal conductivity and method for manufacturing the composite material
JPH1180858A (ja) 複合材料及びその製造方法
JP2004076043A (ja) セラミックス−金属系複合材料及びその製造方法
WO2001040138A1 (en) Porous silicon carbide sintered compact and silicon carbide metal composite suitable for use in table for wafer polishing machine
JP2003188324A (ja) 放熱基材、放熱基材の製造方法、及び放熱基材を含む半導体装置
JPS60166282A (ja) セラミツクス複合組成物およびその製造法
JP2014187252A (ja) 接合材、接合構造体およびその製造方法、並びに半導体モジュール
CN109321882A (zh) 改善金刚石/镁复合电子封装材料界面结合的镀层及方法
JPH11157964A (ja) 板状複合体とそれを用いた放熱部品
CN121592923A (zh) 一种石墨烯界面修饰金刚石铜复合材料及其制备方法和应用
JP2820566B2 (ja) 半導体パッケージ用放熱部材の製造方法