JPH1164437A - Ic加熱装置 - Google Patents
Ic加熱装置Info
- Publication number
- JPH1164437A JPH1164437A JP9226868A JP22686897A JPH1164437A JP H1164437 A JPH1164437 A JP H1164437A JP 9226868 A JP9226868 A JP 9226868A JP 22686897 A JP22686897 A JP 22686897A JP H1164437 A JPH1164437 A JP H1164437A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating
- carrier
- temperature
- heating device
- air nozzle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 76
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 13
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高温時におけるICの電気的特性を測定する
機能を有するオートハンドラに設置され、ICを設定温
度まで加熱するIC加熱装置において、加熱効率を向上
させてICの加熱時間を短縮し、加熱装置の小型化を図
る。 【解決手段】 本発明は、IC3の電気的特性を自動的
に測定するオートハンドラに用いられるIC加熱装置に
おいて、IC3を測定部4側へ断続的に搬送する搬送手
段2と、搬送中のIC3を加熱する加熱手段1と、搬送
中のIC3の停止位置にあって、前記ICに温風を吹き
付けるエアーノズル33と、前記温風の温度を制御する
制御手段36とを備えることを特徴としている。
機能を有するオートハンドラに設置され、ICを設定温
度まで加熱するIC加熱装置において、加熱効率を向上
させてICの加熱時間を短縮し、加熱装置の小型化を図
る。 【解決手段】 本発明は、IC3の電気的特性を自動的
に測定するオートハンドラに用いられるIC加熱装置に
おいて、IC3を測定部4側へ断続的に搬送する搬送手
段2と、搬送中のIC3を加熱する加熱手段1と、搬送
中のIC3の停止位置にあって、前記ICに温風を吹き
付けるエアーノズル33と、前記温風の温度を制御する
制御手段36とを備えることを特徴としている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はIC加熱装置に係
り、特に、高温時におけるICの電気的特性を測定する
機能を有するオートハンドラに設置され、ICを設定温
度まで加熱するIC加熱装置に関する。
り、特に、高温時におけるICの電気的特性を測定する
機能を有するオートハンドラに設置され、ICを設定温
度まで加熱するIC加熱装置に関する。
【0002】
【従来の技術】この種のIC加熱装置には、従来より、
恒温槽方式とヒートプレート方式の2方式が知られてい
る。
恒温槽方式とヒートプレート方式の2方式が知られてい
る。
【0003】恒温槽方式によるIC加熱装置を図7及び
図8とともに説明する。図7は加熱装置の平面図、図8
は図7の部分断面図である。図中符号1は加熱手段であ
る恒温槽で、この恒温槽1は、装置内に搬送され、搬送
手段であるキャリア2に収納されたIC3を加熱するも
のである。恒温槽1はヒータ4及び温度センサ5を備
え、キャリア2を搬送するキャリア搬送部6と、キャリ
ア搬送部6にて搬送されたIC3の電気的特性を測定す
る測定部7とを覆っている。更に、ヒータ4及び温度セ
ンサ5は温度調節器8に接続され、温度調節器8の作用
により、恒温槽1内の温度が設定温度に制御される。ま
た、符号9は、恒温槽1内の空気を還流し、槽内の温度
分布を均一化するファンである。
図8とともに説明する。図7は加熱装置の平面図、図8
は図7の部分断面図である。図中符号1は加熱手段であ
る恒温槽で、この恒温槽1は、装置内に搬送され、搬送
手段であるキャリア2に収納されたIC3を加熱するも
のである。恒温槽1はヒータ4及び温度センサ5を備
え、キャリア2を搬送するキャリア搬送部6と、キャリ
ア搬送部6にて搬送されたIC3の電気的特性を測定す
る測定部7とを覆っている。更に、ヒータ4及び温度セ
ンサ5は温度調節器8に接続され、温度調節器8の作用
により、恒温槽1内の温度が設定温度に制御される。ま
た、符号9は、恒温槽1内の空気を還流し、槽内の温度
分布を均一化するファンである。
【0004】符号10は、前工程から移送されたIC3
を恒温槽1内に移送するとともに、測定済みのIC3を
次工程に移送する吸着ハンドである。具体的には、吸着
ハンド10はキャリア搬送部6のIC供給部6aに搬送
されるキャリア2にIC3を供給するとともに、キャリ
ア搬送部6のIC収容部6eから搬送されたキャリア2
上のIC3を恒温槽1外の次工程に移送する。また、符
号11は、恒温槽1の一壁に設けられた左右一対のシャ
ッタで、このシャッタ11は、恒温槽1への吸着ハンド
10の出入りに伴い開閉し、恒温槽1内の温度低下を防
止している。
を恒温槽1内に移送するとともに、測定済みのIC3を
次工程に移送する吸着ハンドである。具体的には、吸着
ハンド10はキャリア搬送部6のIC供給部6aに搬送
されるキャリア2にIC3を供給するとともに、キャリ
ア搬送部6のIC収容部6eから搬送されたキャリア2
上のIC3を恒温槽1外の次工程に移送する。また、符
号11は、恒温槽1の一壁に設けられた左右一対のシャ
ッタで、このシャッタ11は、恒温槽1への吸着ハンド
10の出入りに伴い開閉し、恒温槽1内の温度低下を防
止している。
【0005】符号12は、測定部7と吸着ハンド10と
の間に延設された左右一対のベルトで、このベルト12
はプーリ13間に掛け渡され、プーリ13は更にモータ
14の回転軸に連結されている。モータ14を駆動する
と、IC供給部6aに位置するキャリア2が、図中左側
のベルト12上を順次供給出口部6bに搬送されるとと
もに、収容入口部6dに位置するキャリア2が図中右側
のベルト12上を順次IC収容部6eに搬送される。ま
た、符号15は、キャリア搬送部6の周囲を囲い、搬送
中におけるキャリア2の姿勢のずれを防止する側面板で
ある。
の間に延設された左右一対のベルトで、このベルト12
はプーリ13間に掛け渡され、プーリ13は更にモータ
14の回転軸に連結されている。モータ14を駆動する
と、IC供給部6aに位置するキャリア2が、図中左側
のベルト12上を順次供給出口部6bに搬送されるとと
もに、収容入口部6dに位置するキャリア2が図中右側
のベルト12上を順次IC収容部6eに搬送される。ま
た、符号15は、キャリア搬送部6の周囲を囲い、搬送
中におけるキャリア2の姿勢のずれを防止する側面板で
ある。
【0006】符号16,16aはシリンダで、これらシ
リンダ16,16aは、そのピストンロッドにより、キ
ャリア2をそれぞれ供給出口部6b側から測定入口部6
c側、あるいはIC収容部6e側からIC供給部6a側
に押し出すものである。また、符号17は、測定入口部
6cにて吸着したIC3を測定部7に移送するととも
に、測定部7で試験されたIC3を、測定入口部6cに
待機する空のキャリア2に戻す吸着ハンドである。
リンダ16,16aは、そのピストンロッドにより、キ
ャリア2をそれぞれ供給出口部6b側から測定入口部6
c側、あるいはIC収容部6e側からIC供給部6a側
に押し出すものである。また、符号17は、測定入口部
6cにて吸着したIC3を測定部7に移送するととも
に、測定部7で試験されたIC3を、測定入口部6cに
待機する空のキャリア2に戻す吸着ハンドである。
【0007】次に、上記装置の動作を説明する。IC3
は、吸着ハンド10によりキャリア2に設置され、かつ
このキャリア2は、シリンダ16aにより押されてIC
供給部6aに搬送され、ベルト12上を供給出口部6b
に搬送される。また、キャリア2に収納されたIC3
は、搬送中、槽内の対流とキャリア2からの熱伝導によ
り、設定温度に加熱される。
は、吸着ハンド10によりキャリア2に設置され、かつ
このキャリア2は、シリンダ16aにより押されてIC
供給部6aに搬送され、ベルト12上を供給出口部6b
に搬送される。また、キャリア2に収納されたIC3
は、搬送中、槽内の対流とキャリア2からの熱伝導によ
り、設定温度に加熱される。
【0008】供給出口部6bに送られたキャリア2は、
図8に示すように、シリンダ16により押されて補助プ
レート18上を測定入口部6cに搬送され、更に、シリ
ンダ19により上昇された後、IC3のみが、吸着ハン
ド17にて上方から吸着される。吸着ハンド17に吸着
されたIC3は測定部7に移送され、測定部7にて試験
された後、再度吸着ハンド17に吸着され、測定入口部
6cに待機する空のキャリア2に戻される。
図8に示すように、シリンダ16により押されて補助プ
レート18上を測定入口部6cに搬送され、更に、シリ
ンダ19により上昇された後、IC3のみが、吸着ハン
ド17にて上方から吸着される。吸着ハンド17に吸着
されたIC3は測定部7に移送され、測定部7にて試験
された後、再度吸着ハンド17に吸着され、測定入口部
6cに待機する空のキャリア2に戻される。
【0009】測定済みのIC3を収納したキャリア2
は、次のキャリア2が測定入口部6cに搬送されるのと
同時に収容入口部6dに搬送され、ベルト12上を順次
IC収容部6eまで搬送される。IC収容部6eに搬送
されたIC3は、シリンダ16aにより押されてシャッ
タ11の正面に戻された後、再度吸着ハンド10に吸着
され、次工程に移送される。
は、次のキャリア2が測定入口部6cに搬送されるのと
同時に収容入口部6dに搬送され、ベルト12上を順次
IC収容部6eまで搬送される。IC収容部6eに搬送
されたIC3は、シリンダ16aにより押されてシャッ
タ11の正面に戻された後、再度吸着ハンド10に吸着
され、次工程に移送される。
【0010】一方、ヒートプレート方式によるIC加熱
装置を図9及び図10とともに説明する。図9は加熱装
置の平面図、図10は図9の断面図である。この装置で
は、キャリア搬送部6の下方に加熱手段であるヒートプ
レート21が設置され、かつ図10に示すように、ヒー
トプレート21にはヒータ22と温度センサ23が内蔵
されている。ヒータ22及び温度センサ23は温度制御
部24に接続され、温度制御部24の作用により、ヒー
トプレート21の温度が設定温度に制御される。また、
図10中符号25は、キャリア搬送部6及びヒートプレ
ート21を下方及び側方から覆う断熱ブロックで、この
断熱ブロック25ははシリコンガラス等の断熱材で形成
され、ヒートプレート21の放熱を防止している。
装置を図9及び図10とともに説明する。図9は加熱装
置の平面図、図10は図9の断面図である。この装置で
は、キャリア搬送部6の下方に加熱手段であるヒートプ
レート21が設置され、かつ図10に示すように、ヒー
トプレート21にはヒータ22と温度センサ23が内蔵
されている。ヒータ22及び温度センサ23は温度制御
部24に接続され、温度制御部24の作用により、ヒー
トプレート21の温度が設定温度に制御される。また、
図10中符号25は、キャリア搬送部6及びヒートプレ
ート21を下方及び側方から覆う断熱ブロックで、この
断熱ブロック25ははシリコンガラス等の断熱材で形成
され、ヒートプレート21の放熱を防止している。
【0011】図9中符号26,27,28,29は、キ
ャリア搬送部6の四隅に設置され、キャリア搬送部6内
のキャリア2をIC供給部6a、供給出口部6b、測定
入口部6c、収容入口部6d、及びIC収容部6eへと
循環移動させるシリンダである。
ャリア搬送部6の四隅に設置され、キャリア搬送部6内
のキャリア2をIC供給部6a、供給出口部6b、測定
入口部6c、収容入口部6d、及びIC収容部6eへと
循環移動させるシリンダである。
【0012】この装置の場合、IC3は、吸着ハンド1
0によりキャリア2に収納され、このキャリア2が、シ
リンダ26,27,28,29により押されてヒートプ
レート21上をすべり移動する間、キャリア2内のIC
3がヒートプレート21からの熱伝導により加熱され、
設定温度に昇温される。測定入口部6cに搬送されたI
C3は、吸着ハンド17にて測定部7に移送され、測定
部7にて試験された後、再度吸着ハンド17にてキャリ
ア2に戻される。測定済みのIC3が収納されたキャリ
ア2は、ヒートプレート21上を順次IC収容部6eま
で搬送される。IC収容部6eに搬送されたIC3は、
再度吸着ハンド10に吸着され、次工程に移送される。
0によりキャリア2に収納され、このキャリア2が、シ
リンダ26,27,28,29により押されてヒートプ
レート21上をすべり移動する間、キャリア2内のIC
3がヒートプレート21からの熱伝導により加熱され、
設定温度に昇温される。測定入口部6cに搬送されたI
C3は、吸着ハンド17にて測定部7に移送され、測定
部7にて試験された後、再度吸着ハンド17にてキャリ
ア2に戻される。測定済みのIC3が収納されたキャリ
ア2は、ヒートプレート21上を順次IC収容部6eま
で搬送される。IC収容部6eに搬送されたIC3は、
再度吸着ハンド10に吸着され、次工程に移送される。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記従来技
術による方法では、例えば28mm角のモールドパッケ
ージで厚さが30mm程度のICでは、約60秒程度の
加熱時間を要しており、仮にδtが2秒で動作すると仮
定すると、恒温槽内に必要なICの容量は30個とな
り、大型の加熱装置を必要とする。また、近年のオート
ハンドラでは2個あるいは4個のICを並列処埋する場
合があるが、この場合には加熱装置にも2倍あるいは4
倍の容量が要求されるため、やはり加熱装置が大型化す
る。
術による方法では、例えば28mm角のモールドパッケ
ージで厚さが30mm程度のICでは、約60秒程度の
加熱時間を要しており、仮にδtが2秒で動作すると仮
定すると、恒温槽内に必要なICの容量は30個とな
り、大型の加熱装置を必要とする。また、近年のオート
ハンドラでは2個あるいは4個のICを並列処埋する場
合があるが、この場合には加熱装置にも2倍あるいは4
倍の容量が要求されるため、やはり加熱装置が大型化す
る。
【0014】更に、恒温槽方式のIC加熱装置では、循
環熱風内に複数のICを循環させることにより、ICの
加熱精度を高めている。しかしながら、恒温槽1内の温
度を均一に保持するために、槽内の広範囲にわたり加熱
空気を均一に対流させなけれぱならず、その結果、個々
のIC3に当る風量が限定されてIC3の加熱時間が長
くなり、IC3の加熱時間を短くするためには、大型の
熱源が必要となって加熱装置が大型化するという問題が
ある。
環熱風内に複数のICを循環させることにより、ICの
加熱精度を高めている。しかしながら、恒温槽1内の温
度を均一に保持するために、槽内の広範囲にわたり加熱
空気を均一に対流させなけれぱならず、その結果、個々
のIC3に当る風量が限定されてIC3の加熱時間が長
くなり、IC3の加熱時間を短くするためには、大型の
熱源が必要となって加熱装置が大型化するという問題が
ある。
【0015】一方、ヒートプレート方式のIC加熱装置
では、IC3をヒートプレート21からの熱伝動により
加熱しているため、IC3のパッケージ形状によって
は、ヒートプレート21ヘの接触面積が少なくなり、加
熱時間が長くなるという問題がある。
では、IC3をヒートプレート21からの熱伝動により
加熱しているため、IC3のパッケージ形状によって
は、ヒートプレート21ヘの接触面積が少なくなり、加
熱時間が長くなるという問題がある。
【0016】本発明は、上記課題を解消するためになさ
れたもので、加熱効率を向上させてICの加熱時間を短
縮することにより、加熱装置の小型化を図ることを目的
とする。
れたもので、加熱効率を向上させてICの加熱時間を短
縮することにより、加熱装置の小型化を図ることを目的
とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明は、ICの電気的
特性を自動的に検査するオートハンドラに用いられるI
C加熱装置において、ICを測定部側へ断続的に搬送す
る搬送手段と、搬送中の前記ICを加熱する加熱手段
と、搬送中の前記ICの停止位置にあって、前記ICに
温風を吹き付けるエアーノズルと、前記温風の温度を制
御する制御手段とを備えることをその特徴としている。
特性を自動的に検査するオートハンドラに用いられるI
C加熱装置において、ICを測定部側へ断続的に搬送す
る搬送手段と、搬送中の前記ICを加熱する加熱手段
と、搬送中の前記ICの停止位置にあって、前記ICに
温風を吹き付けるエアーノズルと、前記温風の温度を制
御する制御手段とを備えることをその特徴としている。
【0018】更に、前記IC搬送経路を複数列にわたり
並列して設け、前記経路内に配設された複数の前記IC
を同時に搬送してもよい。
並列して設け、前記経路内に配設された複数の前記IC
を同時に搬送してもよい。
【0019】一方、前記加熱手段には、槽内温度が自在
に制御可能な恒温槽またはヒータを内蔵したヒートプレ
ートが用いられる。また、前記搬送手段には、前記恒温
槽内または前記ヒートプレート上にあって前記ICを収
納し、かつ前記測定部側へ断続的に移動するキャリア、
あるいは前記恒温槽内にあって前記ICが載置され、か
つ前記測定部側へ断続的に回転するターンテーブルが使
用される。
に制御可能な恒温槽またはヒータを内蔵したヒートプレ
ートが用いられる。また、前記搬送手段には、前記恒温
槽内または前記ヒートプレート上にあって前記ICを収
納し、かつ前記測定部側へ断続的に移動するキャリア、
あるいは前記恒温槽内にあって前記ICが載置され、か
つ前記測定部側へ断続的に回転するターンテーブルが使
用される。
【0020】前記ICに吹き付ける温風の温度を、前記
ICに対する加熱温度の設定値より高く設定し、かつ前
記エアーノズルの前段に方向制御弁を設け、搬送中の前
記ICに対する温風の吹き付け時間を制御してもよい。
ICに対する加熱温度の設定値より高く設定し、かつ前
記エアーノズルの前段に方向制御弁を設け、搬送中の前
記ICに対する温風の吹き付け時間を制御してもよい。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明のIC加熱装置の実
施形態を、図面に基づき説明する。なお、上記従来の装
置と同様の構成を有する部材については、同一の符号を
付与し、その説明を省略する。
施形態を、図面に基づき説明する。なお、上記従来の装
置と同様の構成を有する部材については、同一の符号を
付与し、その説明を省略する。
【0022】図1及び図2は、本発明による第1の実施
形態を示すもので、本発明を恒温槽1を用いた加熱装置
に適用した場合を示している。図1は加熱装置の平面
図、図2は図1の部分断面図である。
形態を示すもので、本発明を恒温槽1を用いた加熱装置
に適用した場合を示している。図1は加熱装置の平面
図、図2は図1の部分断面図である。
【0023】図1中符号31は、IC供給部6aから供
給出口部6bに至るキャリア2上に、ベルト12に沿っ
て延設された固定プレートで、固定プレート31には、
温風加熱部32から分岐し、キャリア2に収納されたI
C3の中央部に向けそれぞれ開口する複数のエアーノズ
ル33が等間隔で埋設されている。また、図2中符号3
4は、エアーノズル33の吹き出し口近傍に設置された
温度センサ、符号35は、温風加熱器32に供給する空
気量を測定する流量計である。
給出口部6bに至るキャリア2上に、ベルト12に沿っ
て延設された固定プレートで、固定プレート31には、
温風加熱部32から分岐し、キャリア2に収納されたI
C3の中央部に向けそれぞれ開口する複数のエアーノズ
ル33が等間隔で埋設されている。また、図2中符号3
4は、エアーノズル33の吹き出し口近傍に設置された
温度センサ、符号35は、温風加熱器32に供給する空
気量を測定する流量計である。
【0024】IC供給部6aに供給されたIC3は、供
給出口部6bへの搬送中に、恒温槽1内の対流とキャリ
ア2からの熱伝導に加え、エアーノズル33から吹き付
けられる温風により、設定温度に加熱される。この場
合、エアーノズル33から設定温度と同温度の温風が吹
き出すよう、温風加熱器32と温度センサ34の双方を
制御手段36にて制御する。
給出口部6bへの搬送中に、恒温槽1内の対流とキャリ
ア2からの熱伝導に加え、エアーノズル33から吹き付
けられる温風により、設定温度に加熱される。この場
合、エアーノズル33から設定温度と同温度の温風が吹
き出すよう、温風加熱器32と温度センサ34の双方を
制御手段36にて制御する。
【0025】ここで、エアーノズル33から吹き出す温
風の流量は多いほど加熱効果が大きいが、キャリア2内
のIC3を吹き飛ぱす恐れがあるため、エアーノズル1
本あたりの流量を、5NL/min〜10NL/min
程度とするのが適当である。更に、図2に示すように、
エアーノズル33の吹き出し口とキャリア2に収納され
たIC3の被加熱面3aとの間隔は、3〜5mmに設定
されている。これは、この間隔が5mmを越えると流速
が低下して加熱効率が悪くなり、3mm未満となるとI
C3がエアーノズル33の流量に影響し、分岐したエア
ーノズル33間の流量に差が生じ、加熱効率がばらつく
ためである。また、エアーノズル33の先端部の形状
は、被加熱面3aに一様に温風が通過するように、被加
熱面3aと平行とされている。
風の流量は多いほど加熱効果が大きいが、キャリア2内
のIC3を吹き飛ぱす恐れがあるため、エアーノズル1
本あたりの流量を、5NL/min〜10NL/min
程度とするのが適当である。更に、図2に示すように、
エアーノズル33の吹き出し口とキャリア2に収納され
たIC3の被加熱面3aとの間隔は、3〜5mmに設定
されている。これは、この間隔が5mmを越えると流速
が低下して加熱効率が悪くなり、3mm未満となるとI
C3がエアーノズル33の流量に影響し、分岐したエア
ーノズル33間の流量に差が生じ、加熱効率がばらつく
ためである。また、エアーノズル33の先端部の形状
は、被加熱面3aに一様に温風が通過するように、被加
熱面3aと平行とされている。
【0026】この装置では、測定部14に向け搬送中の
IC3が、それぞれの停止位置において効率よく加熱さ
れるため、例えば25℃から125℃まで加熱した場
合、ICの昇温時間が約2/3に短縮される。その結
果、加熱するIC3の容量を従来の約2/3に削減でき
るため、加熱装置の小型化が可能となる。
IC3が、それぞれの停止位置において効率よく加熱さ
れるため、例えば25℃から125℃まで加熱した場
合、ICの昇温時間が約2/3に短縮される。その結
果、加熱するIC3の容量を従来の約2/3に削減でき
るため、加熱装置の小型化が可能となる。
【0027】一方、熱容量が大きいICに対しては、十
分な加熱時間が必要となるが、このようなICに対して
は、図3に示すように、キャリア2の搬送経路を複数列
設け、加熱するICの容量を増やす方法がある。この装
置では、キャリア搬送部6のうち、IC供給部6aから
供給出口部6bに至る搬送経路がA列〜D列の4列設け
られ、かつ個々の搬送経路上には、ベルト12と直交す
る方向に延設された固定プレート31が、個々のキャリ
ア2に収納されたIC3に向けそれぞれエアーノズル3
3が開口するよう、IC供給部6aから供給出口部6b
に向け、複数列配設されている。
分な加熱時間が必要となるが、このようなICに対して
は、図3に示すように、キャリア2の搬送経路を複数列
設け、加熱するICの容量を増やす方法がある。この装
置では、キャリア搬送部6のうち、IC供給部6aから
供給出口部6bに至る搬送経路がA列〜D列の4列設け
られ、かつ個々の搬送経路上には、ベルト12と直交す
る方向に延設された固定プレート31が、個々のキャリ
ア2に収納されたIC3に向けそれぞれエアーノズル3
3が開口するよう、IC供給部6aから供給出口部6b
に向け、複数列配設されている。
【0028】図3に示す装置では、ICの搬送経路が4
列設けてあるため、IC供給部6aの数も4ケ所とな
り、全てのIC供給部6aにICが供給されるのに要す
る時間も、図1に示す装置の4倍必要となる。更に、図
3に示す装置では、キャリア搬送部6が4列一括してキ
ャリア2を搬送する構造となっているので、キャリア2
が測定部7に送られる間隔は図1に示す装置の4倍とな
り、ICの加熱時間も4倍確保できる。
列設けてあるため、IC供給部6aの数も4ケ所とな
り、全てのIC供給部6aにICが供給されるのに要す
る時間も、図1に示す装置の4倍必要となる。更に、図
3に示す装置では、キャリア搬送部6が4列一括してキ
ャリア2を搬送する構造となっているので、キャリア2
が測定部7に送られる間隔は図1に示す装置の4倍とな
り、ICの加熱時間も4倍確保できる。
【0029】また、本発明に係る加熱機構を、図4に示
すような、搬送手段としてターンテーブル40を用いた
IC3の搬送機構に適用することも可能である。ターン
テーブル40を用いた搬送機構は、周方向に沿って等間
隔でIC3が収納されたターンテーブル40をIC3の
収納ピッチだけ回転させてIC3を搬送するもので、測
定部7へのIC3の供給速度が速く、かつ簡易な機構で
実現できる利点がある。
すような、搬送手段としてターンテーブル40を用いた
IC3の搬送機構に適用することも可能である。ターン
テーブル40を用いた搬送機構は、周方向に沿って等間
隔でIC3が収納されたターンテーブル40をIC3の
収納ピッチだけ回転させてIC3を搬送するもので、測
定部7へのIC3の供給速度が速く、かつ簡易な機構で
実現できる利点がある。
【0030】しかしながら、ターンテーブル40の外周
部にIC3が収納されるため、ICの容量を増加させる
ためにはターンテーブル40の径を大きくしなくてはな
らず、コンパクトな装置の実現には不利である。図4の
例では、IC3がターンテーブル40上に供給されてか
ら測定部7に搬送されるまでの温風加熱部40a上に、
固定プレート31を介してエアーノズル33をIC3の
収納ピッチと等間隔で取り付けることにより、IC3の
昇温時間を短縮してターンテーブル40上のIC3の容
量を削減し、装置の大型化というターンテーブル40の
短所を補完している。
部にIC3が収納されるため、ICの容量を増加させる
ためにはターンテーブル40の径を大きくしなくてはな
らず、コンパクトな装置の実現には不利である。図4の
例では、IC3がターンテーブル40上に供給されてか
ら測定部7に搬送されるまでの温風加熱部40a上に、
固定プレート31を介してエアーノズル33をIC3の
収納ピッチと等間隔で取り付けることにより、IC3の
昇温時間を短縮してターンテーブル40上のIC3の容
量を削減し、装置の大型化というターンテーブル40の
短所を補完している。
【0031】図5及び図6は、本発明を、ヒートプレー
ト21を用いた加熱装置に適用した場合を示している。
図5は加熱装置の平面図、図6は図5の部分断面図であ
る。
ト21を用いた加熱装置に適用した場合を示している。
図5は加熱装置の平面図、図6は図5の部分断面図であ
る。
【0032】この装置の場合、ヒートプレート21の設
定温度は、エアーノズル33による温風の吹き付けがな
い状態で、キャリア2に収納されてIC3の温度が目的
温度になるよう、予め実験的に求めておく。また、エア
ーノズル33により吹き付ける温風の温度は、IC3の
目的温度に設定する。
定温度は、エアーノズル33による温風の吹き付けがな
い状態で、キャリア2に収納されてIC3の温度が目的
温度になるよう、予め実験的に求めておく。また、エア
ーノズル33により吹き付ける温風の温度は、IC3の
目的温度に設定する。
【0033】この装置では、IC3は、測定部7に搬送
されるまでの間、ヒートプレート21により常時下方か
ら加熱され、かつIC供給部6aから供給出口部6bへ
の搬送中においては、それぞれの停止位置にて上面から
吹き付けられた温風により加熱されるため、加熱効率が
更に向上する。その結果、加熱するIC3の容量が従来
より削減されるため、加熱装置を小型化できる。
されるまでの間、ヒートプレート21により常時下方か
ら加熱され、かつIC供給部6aから供給出口部6bへ
の搬送中においては、それぞれの停止位置にて上面から
吹き付けられた温風により加熱されるため、加熱効率が
更に向上する。その結果、加熱するIC3の容量が従来
より削減されるため、加熱装置を小型化できる。
【0034】ICの加熱時間を更に短縮したい場合、エ
アーノズル33からIC3に吹き付けられる温風の温度
をIC3の目的温度より5〜10℃程度高く設定すると
ともに、エアーノズル33の前段に方向切換弁を設け、
温風の吹き付け時間を制御する方法もある。この方法で
は、温風の温度、吹き付け時間、吹き付け間隔等を予め
実験的に求めておき、この結果に基づいて温風の吹き付
けを制御する。しかしながら、キャリア2の搬送サイク
ルが数パターン存在する場合、このパターン毎に温風の
吹き付け条件を変更する必要が生じ、制御が複雑とな
る。すなわち、この方法は、キャリア2が一定のサイク
ルで搬送される搬送機構において特に有効であるといえ
る。
アーノズル33からIC3に吹き付けられる温風の温度
をIC3の目的温度より5〜10℃程度高く設定すると
ともに、エアーノズル33の前段に方向切換弁を設け、
温風の吹き付け時間を制御する方法もある。この方法で
は、温風の温度、吹き付け時間、吹き付け間隔等を予め
実験的に求めておき、この結果に基づいて温風の吹き付
けを制御する。しかしながら、キャリア2の搬送サイク
ルが数パターン存在する場合、このパターン毎に温風の
吹き付け条件を変更する必要が生じ、制御が複雑とな
る。すなわち、この方法は、キャリア2が一定のサイク
ルで搬送される搬送機構において特に有効であるといえ
る。
【0035】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、I
Cに近距離から温風を吹き付けて効率よく加熱するた
め、従来の恒温槽やヒートプレートのみによる加熱に比
べICの加熱時間が短縮され、その結果、加熱するIC
の容量を従来より削減でき、加熱装置の小型化が可能と
なるという効果が得られる。
Cに近距離から温風を吹き付けて効率よく加熱するた
め、従来の恒温槽やヒートプレートのみによる加熱に比
べICの加熱時間が短縮され、その結果、加熱するIC
の容量を従来より削減でき、加熱装置の小型化が可能と
なるという効果が得られる。
【図1】 本発明による第1の実施形態を示す平面図で
ある。
ある。
【図2】 図1の加熱装置の部分断面図である。
【図3】 本発明による第2の実施形態を示す平面図で
ある。
ある。
【図4】 本発明による第3の実施形態を示す平面図で
ある。
ある。
【図5】 本発明による第4の実施形態を示す平面図で
ある。
ある。
【図6】 図5の加熱装置の部分断面図である。
【図7】 従来技術による恒温槽方式の加熱装置の平面
図である。
図である。
【図8】 図7の加熱装置の部分断面図である。
【図9】 従来技術によるヒートプレート方式の加熱装
置の平面図である。
置の平面図である。
【図10】 図9の加熱装置の部分断面図である。
1 恒温槽(加熱手段) 2 キャリア(搬送手段) 3 IC 7 測定部 21 ヒートプレート(加熱手段) 22 ヒータ 36 制御手段 33 エアーノズル 40 ターンテーブル(搬送手段)
Claims (6)
- 【請求項1】 ICの電気的特性を自動的に測定するオ
ートハンドラに用いられるIC加熱装置において、 ICを測定部側へ断続的に搬送する搬送手段と、搬送中
の前記ICを加熱する加熱手段と、搬送中の前記ICの
停止位置にあって、前記ICに温風を吹き付けるエアー
ノズルと、前記温風の温度を制御する制御手段とを備え
ることを特徴とするIC加熱装置。 - 【請求項2】 前記ICの搬送経路を複数列にわたり並
列して設け、前記経路内に配設された複数の前記ICを
同時に搬送することを特徴とする請求項1記載のIC加
熱装置。 - 【請求項3】 前記加熱手段が、槽内温度が自在に制御
可能な恒温槽とされ、前記搬送手段が、前記恒温槽内に
あって前記ICを収納し、かつ前記測定部側へ断続的に
移動するキャリアであることを特徴とする請求項1また
は2記載のIC加熱装置。 - 【請求項4】 前記加熱手段が、槽内温度が自在に制御
可能な恒温槽とされ、前記搬送手段が、前記恒温槽内に
あって前記ICが載置され、かつ前記測定部側へ断続的
に回転するターンテーブルであることを特徴とする請求
項1または2記載のIC加熱装置。 - 【請求項5】 前記加熱手段がヒータを内蔵したヒート
プレートとされ、前記搬送手段が、前記ICを収納し、
かつ前記ヒートプレート上を前記測定部方向へ断続的に
移動するキャリアであることを特徴とする請求項1また
は2記載のIC加熱装置。 - 【請求項6】 前記ICに吹き付ける温風の温度を、前
記ICに対する加熱温度の設定値より高く設定し、かつ
前記エアーノズルの前段に方向制御弁を設け、搬送中の
前記ICに対する温風の吹き付け時間を制御することを
特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項記載のIC
加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9226868A JPH1164437A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | Ic加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9226868A JPH1164437A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | Ic加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1164437A true JPH1164437A (ja) | 1999-03-05 |
Family
ID=16851841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9226868A Pending JPH1164437A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | Ic加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1164437A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008142754A1 (ja) * | 2007-05-18 | 2008-11-27 | Advantest Corporation | 電子部品試験装置及び電子部品試験方法 |
| WO2010016119A1 (ja) * | 2008-08-06 | 2010-02-11 | 株式会社アドバンテスト | 電子部品ハンドリング装置 |
| JP2010534843A (ja) * | 2007-10-05 | 2010-11-11 | ムルティテスト・エレクトロニッシェ・ジステーメ・ゲーエムベーハー | 電子部品、特にicを保持しかつ移動するプランジャ |
| JP2012032157A (ja) * | 2010-07-28 | 2012-02-16 | Risoh Kesoku Kk Ltd | 熱衝撃試験装置 |
| JP2013152094A (ja) * | 2012-01-24 | 2013-08-08 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 物品検査装置および当該物品検査装置を備えた物品分類装置 |
| JP2014139586A (ja) * | 2014-04-23 | 2014-07-31 | Risoh Kesoku Kk Ltd | 熱衝撃試験装置 |
-
1997
- 1997-08-22 JP JP9226868A patent/JPH1164437A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008142754A1 (ja) * | 2007-05-18 | 2008-11-27 | Advantest Corporation | 電子部品試験装置及び電子部品試験方法 |
| JPWO2008142754A1 (ja) * | 2007-05-18 | 2010-08-05 | 株式会社アドバンテスト | 電子部品試験装置及び電子部品試験方法 |
| JP2010534843A (ja) * | 2007-10-05 | 2010-11-11 | ムルティテスト・エレクトロニッシェ・ジステーメ・ゲーエムベーハー | 電子部品、特にicを保持しかつ移動するプランジャ |
| US8232815B2 (en) | 2007-10-05 | 2012-07-31 | Multitest Elektronische Systeme Gmbh | Plunger for holding and moving electronic components in particular ICS |
| WO2010016119A1 (ja) * | 2008-08-06 | 2010-02-11 | 株式会社アドバンテスト | 電子部品ハンドリング装置 |
| JP2012032157A (ja) * | 2010-07-28 | 2012-02-16 | Risoh Kesoku Kk Ltd | 熱衝撃試験装置 |
| JP2013152094A (ja) * | 2012-01-24 | 2013-08-08 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 物品検査装置および当該物品検査装置を備えた物品分類装置 |
| JP2014139586A (ja) * | 2014-04-23 | 2014-07-31 | Risoh Kesoku Kk Ltd | 熱衝撃試験装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3246891B2 (ja) | 熱処理装置 | |
| KR100618261B1 (ko) | 막형성방법 및 막형성장치 | |
| US6216475B1 (en) | Cooling device and cooling method | |
| US6222161B1 (en) | Heat treatment apparatus | |
| US6744020B2 (en) | Heat processing apparatus | |
| KR101059309B1 (ko) | 가열 장치, 도포, 현상 장치 및 가열 방법 | |
| CN107658237B (zh) | 热处理装置、基板处理装置和热处理方法 | |
| KR100612546B1 (ko) | 열판의 냉각 방법 및 가열 처리 장치 | |
| US6319322B1 (en) | Substrate processing apparatus | |
| KR100602108B1 (ko) | 처리시스템 | |
| JPH0574699A (ja) | 処理装置 | |
| KR20020068952A (ko) | 기판처리장치 | |
| JP2003051439A (ja) | 熱処理方法及び熱処理装置 | |
| KR102099103B1 (ko) | 가열 플레이트 냉각 방법 및 기판 처리 장치 | |
| JP2003022947A (ja) | 熱処理装置 | |
| JPH07201719A (ja) | 熱処理装置及び熱処理方法 | |
| KR20210003433A (ko) | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 | |
| JP4053728B2 (ja) | 加熱・冷却処理装置及び基板処理装置 | |
| JP3335905B2 (ja) | 熱処理装置 | |
| JP2002203779A (ja) | 加熱処理装置 | |
| JPH1157580A (ja) | 乾燥装置ユニット | |
| JP3266843B2 (ja) | 熱処理装置 | |
| JP3543887B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3325834B2 (ja) | 熱処理装置及び熱処理方法 | |
| JP3538330B2 (ja) | 処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20000328 |