JPH1166844A - Semiconductor storage device - Google Patents
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- JPH1166844A JPH1166844A JP9221460A JP22146097A JPH1166844A JP H1166844 A JPH1166844 A JP H1166844A JP 9221460 A JP9221460 A JP 9221460A JP 22146097 A JP22146097 A JP 22146097A JP H1166844 A JPH1166844 A JP H1166844A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 リフレッシュ動作時は、S/A動作のピーク
電流が増大し、通常のアクセス時に対応した電源発生回
路では電流供給能力が不足して各電源電圧のレベルが降
下して動作タイミングがずれてリフレッシュ動作を確実
に行うことができず、また、それを避けるためには、複
数の電源発生回路を設けて占有面積の増加および消費電
力の増大を招くことになる。
【解決手段】 メモリセルのリフレッシュを伴う半導体
記憶装置であって、前記リフレッシュ時にだけ所定の信
号lez,prepzを遅延させることにより、該リフ
レッシュ時の電圧降下による動作タイミングの遅れに合
わせてリフレッシュ動作を行わせるように構成する。
(57) [Summary] [PROBLEMS] During a refresh operation, the peak current of the S / A operation increases, and the power supply circuit corresponding to a normal access lacks current supply capability and the level of each power supply voltage drops. As a result, the refresh operation cannot be performed reliably due to a shift in operation timing, and in order to avoid this, a plurality of power generation circuits are provided to increase the occupied area and the power consumption. SOLUTION: This semiconductor memory device involves refreshing a memory cell, and delays predetermined signals lez and prepz only at the time of the refresh so that a refresh operation is performed in accordance with a delay of an operation timing due to a voltage drop at the time of the refresh. It is configured to be performed.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に関
し、特に、リフレッシュ動作を伴う揮発性の半導体記憶
装置に関する。DRAM(Dynamic Random Access Memo
ry) やシンクロナスDRAM(SDRAM)等の揮発性
メモリは、リフレッシュ動作が必要である。このリフレ
ッシュ動作は、メモリセルの再書き込み動作であり、ま
た、リフレッシュ時間は規定により決められていて、一
度に動作するS/Aの数に対応して、各種電源発生回路
の供給電流が設定されている。The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a volatile semiconductor memory device with a refresh operation. DRAM (Dynamic Random Access Memo)
ry) and volatile memories such as synchronous DRAM (SDRAM) require a refresh operation. This refresh operation is a rewrite operation of a memory cell, and a refresh time is determined by a rule, and supply currents of various power supply generation circuits are set according to the number of S / As operating at one time. ing.
【0002】ところで、昨今では、活性化アレイを細分
化して消費電流を減らし、アクセス動作を高速化しよう
という半導体記憶装置が登場して来ている。これらのチ
ップ(半導体記憶装置)においても、リフレッシュ時の
S/Aの数は従来チップと同じであるため、アクティブ
時とリフレッシュ時において、各電源発生回路の消費電
流に大きな差が生じることになっている。そこで、複数
の電源発生回路を設けるものも提案されているが電源部
の占有面積や消費電力の面で問題があり、電源部の占有
面積の増加や消費電力の増大を伴うことなく、確実なリ
フレッシュ動作を行うことのできる半導体記憶装置の提
供が要望されている。In recent years, semiconductor memory devices have been introduced which attempt to reduce the current consumption by subdividing the activation array and speed up the access operation. Also in these chips (semiconductor storage devices), the number of S / As at the time of refresh is the same as that of the conventional chip, so that a large difference occurs in the current consumption of each power generation circuit between active and refresh. ing. Therefore, a device provided with a plurality of power generation circuits has been proposed, but has problems in terms of the occupied area of the power supply unit and power consumption. There is a demand for a semiconductor memory device capable of performing a refresh operation.
【0003】[0003]
【従来の技術】図1は従来の半導体記憶装置の一例にお
けるメモリセルアレイ部および電源発生回路を概念的に
示すブロック図である。図1において、参照符号101
は半導体記憶装置(メモリチップ),121〜124は
メモリセルアレイ部,103は電源電圧発生器,そし
て,104は昇圧レベル発生器を示している。2. Description of the Related Art FIG. 1 is a block diagram conceptually showing a memory cell array section and a power supply generating circuit in an example of a conventional semiconductor memory device. In FIG. 1, reference numeral 101 indicates
Denotes a semiconductor memory device (memory chip), 121 to 124 denote memory cell array units, 103 denotes a power supply voltage generator, and 104 denotes a boost level generator.
【0004】図1に示す従来の半導体記憶装置(例え
ば、SDRAM)は、共通の電源電圧発生器103およ
び昇圧レベル発生器104が複数(例えば、4つ)のメ
モリセルアレイ部121〜124に対する各電源電圧の
供給を行うように構成されている。ここで、電源電圧発
生器103は、例えば、各メモリセルアレイ部121〜
124におけるS/A(センスアンプ)に電源電圧を供
給し、また、昇圧レベル発生器104は、各メモリセル
アレイ部121〜124における選択されたワード線を
駆動するために使用する昇圧レベルを発生する。In the conventional semiconductor memory device (for example, SDRAM) shown in FIG. 1, a common power supply voltage generator 103 and a boosted level generator 104 have a power supply for a plurality (for example, four) of memory cell array units 121 to 124. It is configured to supply a voltage. Here, the power supply voltage generator 103 includes, for example, each of the memory cell array units 121 to 121.
A power supply voltage is supplied to an S / A (sense amplifier) 124, and a boosted level generator 104 generates a boosted level used to drive a selected word line in each of the memory cell array units 121 to 124. .
【0005】従来のDRAM(SDRAM)において、
リフレッシュ時間は規定により、例えば、8k回/64
msec.と決められており、256MビットのDRAMに
おいては、64ミリ秒の間に8k回のリフレッシュ動作
を行なうようになっている。つまり、一度に動作するS
/A(センスアンプ)の数は、256M÷8k回=32
k個となり、通常のアクセス時(読み出しまたは書き込
み時)の8k個に対して4倍のS/Aが一斉に動作する
ことになる。In a conventional DRAM (SDRAM),
The refresh time is, for example, 8k times / 64 according to regulations.
msec., and in a 256 Mbit DRAM, the refresh operation is performed 8k times in 64 milliseconds. That is, S that operates at once
/ A (sense amplifier) number is 256M は 8k times = 32
The number becomes k, and the S / A that is four times as many as 8 k in the normal access (at the time of reading or writing) operates simultaneously.
【0006】これにより、S/A動作のピーク電流が増
大することになり、その結果、通常のアクセス時(通常
動作モード時)に対応した駆動能力を有する電源電圧発
生器103を設けた半導体記憶装置においては、リフレ
ッシュ動作時(リフレッシュ動作モード時)におけるS
/Aに対する電流供給能力が不足してS/Aがビット線
対間の電位差を増幅する時間が通常のアクセス時よりも
長くかかる。また、従来において、通常のアクセス時は
1つのメモリセルアレイ部内のワード線が選択されるの
に対して、リフレッシュ動作時は、例えば、4つのメモ
リセルアレイ部内の各ワード線が選択されるようになっ
ている。従って、ワード線を駆動する昇圧レベル発生器
104は、通常のアクセス時(通常動作モード時)とリ
フレッシュ動作時(リフレッシュ動作モード時)とで異
なる大きさの負荷を駆動しなければならないことにな
る。As a result, the peak current of the S / A operation increases, and as a result, the semiconductor memory provided with the power supply voltage generator 103 having a driving capability corresponding to a normal access (in a normal operation mode). In the device, S in a refresh operation (in a refresh operation mode)
The time required for the S / A to amplify the potential difference between the pair of bit lines is longer than that during normal access due to insufficient current supply capability for / A. Conventionally, a word line in one memory cell array section is selected during normal access, whereas a word line in four memory cell array sections is selected during a refresh operation, for example. ing. Therefore, the boosted level generator 104 for driving the word line must drive different loads during normal access (during normal operation mode) and during refresh operation (during refresh operation mode). .
【0007】ここで、例えば、DRAMのリフレッシュ
動作は、メモリセルの再書き込み動作であり、ワード線
(WL)が立ち上がってからセンスアンプ(S/A)が
動作し、さらに、ビット線(BL,/BL)のレベル差
が十分になったところでワード線を閉じ、これらの動作
を繰り返す事によりリフレッシュ動作が行われる。この
一連の動作で、電源の電圧降下(バンプダウン)が起こ
った時に問題となるのは、ワード線の立ち上がりが遅く
なり、メモリセルからのデータが出て来ていないうち
に、センス動作が始まってしまう危険性があること、お
よび、ビット線が開ききっていない状態で、ワード線が
閉じてしまうこと等である。Here, for example, a refresh operation of a DRAM is a rewrite operation of a memory cell, a sense amplifier (S / A) operates after a word line (WL) rises, and a bit line (BL, The refresh operation is performed by closing the word line when the level difference of (/ BL) becomes sufficient and repeating these operations. In this series of operations, when the voltage drop (bump down) of the power supply occurs, the problem is that the rising of the word line is delayed and the sensing operation starts before data from the memory cell comes out. And that the word line is closed when the bit line is not fully opened.
【0008】図2は従来の半導体記憶装置の他の例にお
けるメモリセルアレイ部および電源発生回路を概念的に
示すブロック図である。図2において、参照符号101
は半導体記憶装置(メモリチップ),121〜124は
メモリセルアレイ部,131〜134は電源電圧発生
器,そして,141〜144は昇圧レベル発生器を示し
ている。FIG. 2 is a block diagram conceptually showing a memory cell array portion and a power supply generating circuit in another example of the conventional semiconductor memory device. In FIG.
Denotes a semiconductor memory device (memory chip), 121 to 124 denote memory cell array units, 131 to 134 denote power supply voltage generators, and 141 to 144 denote boosted level generators.
【0009】前述した図1に示す従来の半導体記憶装置
においては、複数のメモリセルアレイ部121〜124
に対して共通の電源部(電源電圧発生器103および昇
圧レベル発生器104)を設けるように構成されていた
のに対して、図2に示す従来の半導体記憶装置は、リフ
レッシュ動作時におけるS/A(センスアンプ)の消費
電流の増大に対応すべく、各メモリセルアレイ部121
〜124に対して、それぞれ電源電圧発生器131〜1
34および昇圧レベル発生器141〜144を設け、リ
フレッシュ動作時の消費電流に対応させるようになって
いる。ここで、複数の電源電圧発生器131〜134お
よび昇圧レベル発生器141〜144は、リフレッシュ
動作時だけ活性化させるように構成してもよい。In the above-described conventional semiconductor memory device shown in FIG. 1, a plurality of memory cell array units 121 to 124 are provided.
, A common power supply unit (power supply voltage generator 103 and boosted level generator 104) is provided. On the other hand, the conventional semiconductor memory device shown in FIG. In order to cope with an increase in current consumption of A (sense amplifier), each memory cell array unit 121
To the power supply voltage generators 131-1 to 131-124, respectively.
34 and booster level generators 141 to 144 are provided to correspond to the current consumption during the refresh operation. Here, the plurality of power supply voltage generators 131 to 134 and the boosted level generators 141 to 144 may be configured to be activated only during the refresh operation.
【0010】図3は従来の半導体記憶装置の一例におけ
る要部構成を示すブロック回路図であり、図4は図3の
半導体記憶装置のリフレッシュ動作を説明するためのタ
イミング図であり、そして、図5は従来の半導体記憶装
置におけるメモリセルアレイ部の要部の一構成例を示す
ブロック回路図である。図3および図5において、参照
符号105はプリチャージ制御回路,106はロウ系制
御回路(row系制御回路),107はワードデコーダ
制御回路,そして,110はセンスアンプ制御回路(S
/A制御回路)を示している。また、図5において、参
照符号108はワードデコーダ,109はコラムデコー
ダ,111はセンスアンプ活性化回路(S/A活性化回
路),そして,112はセンスアンプ(S/A)を示し
ている。FIG. 3 is a block circuit diagram showing a main part of an example of a conventional semiconductor memory device. FIG. 4 is a timing chart for explaining a refresh operation of the semiconductor memory device of FIG. 5 is a block circuit diagram showing a configuration example of a main part of a memory cell array unit in a conventional semiconductor memory device. 3 and 5, reference numeral 105 is a precharge control circuit, 106 is a row control circuit (row control circuit), 107 is a word decoder control circuit, and 110 is a sense amplifier control circuit (S
/ A control circuit). In FIG. 5, reference numeral 108 denotes a word decoder, 109 denotes a column decoder, 111 denotes a sense amplifier activating circuit (S / A activating circuit), and 112 denotes a sense amplifier (S / A).
【0011】図3および図5に示されるように、row
系制御回路106には、ロウアドレスストローブ信号/
rasが供給され、該row系制御回路106は、ワー
ドデコーダ制御回路107に対して信号braszを出
力すると共にプリチャージ制御回路105に対して信号
prezを出力する。ワードデコーダ制御回路107
は、複数のワードデコーダ(ワードデコーダ列)10
8,S/A制御回路110およびプリチャージ制御回路
105に対して信号pwlzを出力し、また、プリチャ
ージ制御回路105は、row系制御回路106に対し
て信号prepzを帰還する。そして、S/A制御回路
110は、複数のS/A(センスアンプ列)112に対
して信号lezを出力する。As shown in FIG. 3 and FIG.
The system control circuit 106 supplies a row address strobe signal /
The row system control circuit 106 outputs a signal brasz to the word decoder control circuit 107 and outputs a signal prez to the precharge control circuit 105. Word decoder control circuit 107
Are a plurality of word decoders (word decoder arrays) 10
8. The signal pwlz is output to the S / A control circuit 110 and the precharge control circuit 105, and the precharge control circuit 105 feeds back the signal prepz to the row control circuit 106. Then, the S / A control circuit 110 outputs a signal lez to a plurality of S / A (sense amplifier arrays) 112.
【0012】図3に示されるように、プリチャージ制御
回路105は、信号prezおよびpwlzが入力され
たナンドゲートNAND5,複数のインバータI51〜
I55,複数の抵抗R51〜R54,および,複数のキ
ャパシタC51〜C54を備えて構成されている。ま
た、S/A制御回路110は、複数のインバータI11
〜I18,複数の抵抗R11〜R15,複数のキャパシ
タC11〜C15,および,ノアゲートNOR1を備え
て構成されている。As shown in FIG. 3, a precharge control circuit 105 includes a NAND gate NAND5 to which signals prez and pwlz are input, and a plurality of inverters I51 to I51.
I55, a plurality of resistors R51 to R54, and a plurality of capacitors C51 to C54. The S / A control circuit 110 includes a plurality of inverters I11
To I18, a plurality of resistors R11 to R15, a plurality of capacitors C11 to C15, and a NOR gate NOR1.
【0013】図5に示されるように、複数のワードデコ
ーダ(ワードデコーダ列)108は、ワードデコーダ制
御回路107からの信号pwlzを受け取ると共に、ロ
ウアドレスを受け取って、所定のワード線WLを選択す
るようになっている。また、S/A活性化回路111
は、S/A制御回路110からの信号lezを受け取
り、複数のS/A(センスアンプ列)112に対して信
号nsa,psaを供給する。As shown in FIG. 5, a plurality of word decoders (word decoder columns) 108 receive a signal pwlz from a word decoder control circuit 107, receive a row address, and select a predetermined word line WL. It has become. Also, the S / A activation circuit 111
Receives the signal lez from the S / A control circuit 110 and supplies the signals nsa and psa to a plurality of S / A (sense amplifier arrays) 112.
【0014】コラムデコーダ109はコラムアドレスを
受け取って対応するS/A112を選択する。各S/A
112は、S/A活性化回路111からの信号nsa,
psaを受け取って、それぞれ対応するビット線BL,
/BLと、ワードデコーダ108により選択されたワー
ド線WLとの交差個所に設けられたメモリセルMCから
の微少電位を増幅する。The column decoder 109 receives a column address and selects a corresponding S / A 112. Each S / A
112 is a signal nsa from the S / A activation circuit 111,
psa, and receives the corresponding bit line BL,
It amplifies the minute potential from the memory cell MC provided at the intersection of / BL and the word line WL selected by the word decoder 108.
【0015】次に、従来の半導体記憶装置のリフレッシ
ュ動作を説明する。図4に示されるように、図3の半導
体記憶装置のリフレッシュ動作は、まず、ロウアドレス
ストローブ信号/rasが高レベル“H”から低レベル
“L”に変化するのを受けて、row系制御回路106
の出力信号brasz(row系のアクセス信号)およ
び信号prezがそれぞれ低レベル“L”から高レベル
“H”に立ち上がる。Next, a refresh operation of the conventional semiconductor memory device will be described. As shown in FIG. 4, in the refresh operation of the semiconductor memory device of FIG. 3, first, when row address strobe signal / ras changes from high level "H" to low level "L", row control is performed. Circuit 106
(The row access signal) and the signal prez rise from the low level “L” to the high level “H”.
【0016】さらに、ワードデコーダ制御回路107の
出力信号pwlz(ワード線WLを立ち上げる基となる
信号)が発生され(低レベル“L”から高レベル“H”
に変化し)、S/A制御回路110から出力されるセン
スアンプ動作を活性化する信号lezが、抵抗R11,
R13〜R15およびキャパシタC11,C13〜C1
5等による所定時間(遅延時間DT12)だけ遅延して
低レベル“L”から高レベル“H”に立ち上がる。ま
た、プリチャージ制御回路105の出力信号prepz
は、信号pwlzが高レベル“H”の状態で信号pre
zが高レベル“H”に変化するのを受けて、抵抗R51
〜R54およびキャパシタC51〜C54等による所定
時間(遅延時間DT11)だけ遅延して低レベル“L”
から高レベル“H”に立ち上がる。すなわち、プリチャ
ージ制御回路105は、所定のタイミングで信号pre
pzを発生してrow系制御回路106に帰還し、プリ
チャージ動作を実行する。Further, an output signal pwlz (a signal from which the word line WL is raised) of the word decoder control circuit 107 is generated (from low level "L" to high level "H").
), And the signal lez that activates the sense amplifier operation output from the S / A control circuit 110 is connected to the resistor R11,
R13 to R15 and capacitors C11 and C13 to C1
After rising by a predetermined time (delay time DT12) such as 5 or the like, the signal rises from the low level "L" to the high level "H". Also, the output signal prepz of the precharge control circuit 105
Indicates that the signal prel is high when the signal pwlz is at a high level "H".
When z changes to a high level “H”, the resistance R51
To R54 and a predetermined time (delay time DT11) by the capacitors C51 to C54, etc.
Rises to a high level "H". That is, the precharge control circuit 105 outputs the signal pre at a predetermined timing.
The signal pz is generated and returned to the row control circuit 106 to execute a precharge operation.
【0017】すなわち、row系制御回路106は、信
号prezを受け取って、その出力信号braszを高
レベル“H”から低レベル“L”に変化させ、それに応
じてワードデコーダ制御回路107の出力信号pwlz
も高レベル“H”から低レベル“L”に変化する。さら
に、信号pwlzの変化を受けて、S/A制御回路11
0から出力される信号lezが、抵抗R11,R12お
よびキャパシタC11,C12等による所定時間だけ遅
延されて高レベル“H”から低レベル“L”に変化す
る。That is, the row control circuit 106 receives the signal prez, changes the output signal brasz from the high level “H” to the low level “L”, and accordingly outputs the output signal pwlz of the word decoder control circuit 107.
Also changes from the high level “H” to the low level “L”. Further, in response to a change in the signal pwlz, the S / A control circuit 11
The signal lez output from 0 changes from a high level "H" to a low level "L" after being delayed by a predetermined time by the resistors R11 and R12 and the capacitors C11 and C12.
【0018】ここで、S/A制御回路110における遅
延時間DT12およびプリチャージ制御回路105にお
ける遅延時間DT11は、抵抗およびキャパシタのCR
ディレイにより予め定められている。図6は図5のメモ
リセルアレイ部におけるS/A活性化回路の一例を示す
回路図であり、また、図7は図5のメモリセルアレイ部
におけるワードデコーダの一例を示す回路図である。こ
れらS/A活性化回路,S/Aおよびワードデコーダ
は、従来の半導体記憶装置および本発明が適用される半
導体記憶装置において共通な構成となっている。Here, the delay time DT12 in the S / A control circuit 110 and the delay time DT11 in the precharge control circuit 105 are determined by the resistance of the resistor and the capacitor.
It is predetermined by the delay. FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of the S / A activation circuit in the memory cell array section of FIG. 5, and FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of a word decoder in the memory cell array section of FIG. The S / A activation circuit, S / A and word decoder have a common configuration in the conventional semiconductor memory device and the semiconductor memory device to which the present invention is applied.
【0019】図6に示されるように、S/A活性化回路
111(11)は、インバータI3,電源電圧発生器よ
り供給される電源電圧(VDD)をソースに受けるPチャ
ネル型MOSトランジスタQP3,および,Nチャネル
型MOSトランジスタQN31〜QN33を備えて構成
されている。また、S/A112(12)は、Pチャネ
ル型MOSトランジスタQP41,QP42およびNチ
ャネル型MOSトランジスタQN41,QN42を備え
て構成されている。As shown in FIG. 6, S / A activating circuit 111 (11) includes inverter I3, P-channel MOS transistor QP3 receiving at its source a power supply voltage (VDD) supplied from a power supply voltage generator. And N-channel MOS transistors QN31 to QN33. The S / A 112 (12) includes P-channel MOS transistors QP41 and QP42 and N-channel MOS transistors QN41 and QN42.
【0020】S/A活性化回路111は、S/A制御回
路110からの出力信号lezが低レベル“L”のと
き、トランジスタQP3およびQN33がスイッチオフ
でトランジスタQN31およびQN32がスイッチオン
となって信号psaおよびnsaがVDD/2となり、S
/A112をリセット状態(プリチャージ状態)とし、
また、信号lezが高レベル“H”のとき、トランジス
タQP3およびQN33がスイッチオンでトランジスタ
QN31およびQN32がスイッチオフとなって、信号
psaがVDDで信号nsaがVSS(GND)となり、S
/A112を動作状態(活性化状態)とするようになっ
ている。In the S / A activation circuit 111, when the output signal lez from the S / A control circuit 110 is at a low level "L", the transistors QP3 and QN33 are switched off and the transistors QN31 and QN32 are switched on. The signals psa and nsa become VDD / 2 and S
/ A112 to a reset state (precharge state),
When the signal lez is at the high level "H", the transistors QP3 and QN33 are switched on and the transistors QN31 and QN32 are switched off, the signal psa becomes VDD and the signal nsa becomes VSS (GND), and S
/ A112 is set to an operating state (activated state).
【0021】図7に示されるように、ワードデコーダ1
08(8)は、ナンドゲートNAND8,インバータI
8,昇圧レベル発生器からの昇圧レベル(VPP)をソー
スに受けるPチャネル型MOSトランジスタQP81〜
QP83およびNチャネル型MOSトランジスタQN8
1〜QN83を備えて構成されている。ワードデコーダ
108は、ナンドゲートNAND8に入力するワードデ
コーダ制御回路107からの信号pwlzおよびアドレ
ス信号が共に高レベル“H”のとき、対応するワード線
WLを選択(高レベル“H”)するようになっている。As shown in FIG. 7, the word decoder 1
08 (8) is a NAND gate NAND8, an inverter I
8. P-channel MOS transistors QP81 to QP81 receiving at their sources the boosted level (VPP) from the boosted level generator
QP83 and N-channel MOS transistor QN8
1 to QN83. When both the signal pwlz and the address signal from the word decoder control circuit 107 input to the NAND gate NAND8 are at the high level "H", the word decoder 108 selects the corresponding word line WL (high level "H"). ing.
【0022】[0022]
【発明が解決しようとする課題】上述したように、図1
に示す従来の半導体記憶装置は、複数のメモリセルアレ
イ部121〜124に対して共通の電源部(電源電圧発
生器103および昇圧レベル発生器104)を設け、通
常のアクセス時(読み出しまたは書き込み時)における
センスアンプ(S/A112)の消費電流に対応させる
構成とした場合、リフレッシュ動作時における消費電流
の増大により、電源部(電源電圧発生器103および昇
圧レベル発生器104)電流供給能力が不足して各電源
電圧が所定のレベルより降下し、動作タイミングがずれ
て正常なリフレッシュ動作が行えなくなってしまうこと
になる。As described above, FIG.
In the conventional semiconductor memory device shown in (1), a common power supply unit (power supply voltage generator 103 and boost level generator 104) is provided for a plurality of memory cell array units 121 to 124 during normal access (read or write). , The current supply capability of the power supply unit (the power supply voltage generator 103 and the boost level generator 104) is insufficient due to the increase in the current consumption during the refresh operation. As a result, each power supply voltage drops below a predetermined level, the operation timing is shifted, and a normal refresh operation cannot be performed.
【0023】すなわち、図6を参照して説明したよう
に、S/A制御回路110における遅延時間DT12お
よびプリチャージ制御回路105における遅延時間DT
11は、抵抗およびキャパシタのCRディレイにより予
め定められており、通常のアクセスに必要とされる消費
電流に適した電源回路を有する半導体記憶装置では、リ
フレッシュ動作時に電流供給能力が不足して各電源電圧
が所定のレベルよりも降下するため、タイミングをうま
く取ることができなかった。That is, as described with reference to FIG. 6, delay time DT12 in S / A control circuit 110 and delay time DT in precharge control circuit 105
Numeral 11 is predetermined by a CR delay of a resistor and a capacitor. In a semiconductor memory device having a power supply circuit suitable for a current consumption required for normal access, each power supply is insufficient due to a shortage of current supply capability during a refresh operation. Since the voltage dropped below a predetermined level, timing could not be taken well.
【0024】また、図2に示す従来の半導体記憶装置
は、リフレッシュ動作時におけるセンスアンプの消費電
流の増大に対応すべく、各メモリセルアレイ部121〜
124に対して、それぞれ電源電圧発生器131〜13
4および昇圧レベル発生器141〜144を設けるよう
になっているが、このように複数の電源電圧発生器13
1〜134および昇圧レベル発生器141〜144を設
けると、電源部が占有する面積が増加して集積化の妨げ
になるだけでなく、消費電力の増大を招くことにもなっ
ていた。In the conventional semiconductor memory device shown in FIG. 2, each of the memory cell array sections 121 to 121 is adapted to cope with an increase in the current consumption of the sense amplifier during the refresh operation.
124, power supply voltage generators 131 to 13 respectively.
4 and booster level generators 141 to 144 are provided.
When the power supply units 1 to 134 and the boost level generators 141 to 144 are provided, not only does the area occupied by the power supply unit increase, which hinders integration, but also increases power consumption.
【0025】本発明は、上述した従来の半導体記憶装置
が有する課題に鑑み、複数の電源発生回路を設けること
による電源部の占有面積の増加や消費電力の増大を伴う
ことなく、確実なリフレッシュ動作を行うことのできる
半導体記憶装置の提供を目的とする。In view of the above-mentioned problems of the conventional semiconductor memory device, the present invention provides a reliable refresh operation without increasing the area occupied by the power supply unit and power consumption by providing a plurality of power supply generation circuits. The purpose of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of performing the following.
【0026】[0026]
【課題を解決するための手段】本発明によれば、メモリ
セルのリフレッシュを伴う半導体記憶装置であって、前
記リフレッシュ時にだけ所定の信号を遅延させることに
より、該リフレッシュ時の電圧降下による動作タイミン
グの遅れに合わせてリフレッシュ動作を行わせるように
したことを特徴とする半導体記憶装置が提供される。According to the present invention, there is provided a semiconductor memory device which involves refreshing a memory cell, wherein a predetermined signal is delayed only at the time of refreshing to thereby reduce an operation timing due to a voltage drop at the time of refreshing. A semiconductor memory device characterized in that the refresh operation is performed in accordance with the delay of
【0027】本発明の半導体記憶装置によれば、リフレ
ッシュ時にだけ所定の信号が遅延され、リフレッシュ時
の電圧降下による動作タイミングの遅れに合わせてリフ
レッシュ動作が行われる。これにより、従来の半導体記
憶装置のように、複数の電源発生回路を設けることによ
る電源部の占有面積の増加や消費電力の増大を伴うこと
なく、確実なリフレッシュ動作を行うことが可能とな
る。According to the semiconductor memory device of the present invention, the predetermined signal is delayed only at the time of refresh, and the refresh operation is performed in accordance with the delay of the operation timing due to the voltage drop at the time of refresh. As a result, a reliable refresh operation can be performed without increasing the occupied area of the power supply unit and increasing power consumption due to the provision of a plurality of power generation circuits as in a conventional semiconductor memory device.
【0028】[0028]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明に係
る半導体記憶装置の実施例を説明する。図8は本発明が
適用される半導体記憶装置の一例におけるメモリセルア
レイ部および電源発生回路を概念的に示すブロック図で
ある。図8において、参照符号1は半導体記憶装置(メ
モリチップ),21〜24はメモリセルアレイ部,3は
電源電圧発生器,そして,4は昇圧レベル発生器を示し
ている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a semiconductor memory device according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 8 is a block diagram conceptually showing a memory cell array section and a power supply generation circuit in an example of a semiconductor memory device to which the present invention is applied. 8, reference numeral 1 denotes a semiconductor memory device (memory chip), 21 to 24 denote memory cell array units, 3 denotes a power supply voltage generator, and 4 denotes a boost level generator.
【0029】図8に示す本実施例の半導体記憶装置(例
えば、SDRAM)は、前述した図1に示す従来の半導
体記憶装置と同様に、共通の電源電圧発生器3および昇
圧レベル発生器4により複数(例えば、4つ)のメモリ
セルアレイ部21〜24に対して各電源電圧を供給する
ようになっている。図9は本発明に係る半導体記憶装置
の一実施例における要部構成を示すブロック回路図であ
り、図10は図9の半導体記憶装置のリフレッシュ動作
を説明するためのタイミング図であり、そして、図11
は本発明が適用される半導体記憶装置におけるメモリセ
ルアレイ部の要部の一構成例を示すブロック回路図であ
る。The semiconductor memory device (for example, SDRAM) of the present embodiment shown in FIG. 8 uses a common power supply voltage generator 3 and a boosted level generator 4 similarly to the conventional semiconductor memory device shown in FIG. Each power supply voltage is supplied to a plurality (for example, four) of the memory cell array units 21 to 24. FIG. 9 is a block circuit diagram showing a main part configuration in one embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention. FIG. 10 is a timing chart for explaining a refresh operation of the semiconductor memory device in FIG. FIG.
FIG. 2 is a block circuit diagram showing a configuration example of a main part of a memory cell array in a semiconductor memory device to which the present invention is applied.
【0030】図9および図11において、参照符号5は
プリチャージ制御回路,6はロウ系制御回路(row系
制御回路),7はワードデコーダ制御回路,そして,1
0はセンスアンプ制御回路(S/A制御回路)を示して
いる。また、図11において、参照符号8はワードデコ
ーダ,9はコラムデコーダ,11はセンスアンプ活性化
回路(S/A活性化回路),そして,12はセンスアン
プ(S/A)を示している。9 and 11, reference numeral 5 is a precharge control circuit, 6 is a row control circuit (row control circuit), 7 is a word decoder control circuit, and 1
0 indicates a sense amplifier control circuit (S / A control circuit). In FIG. 11, reference numeral 8 denotes a word decoder, 9 denotes a column decoder, 11 denotes a sense amplifier activating circuit (S / A activating circuit), and 12 denotes a sense amplifier (S / A).
【0031】図9および図11に示されるように、ro
w系制御回路6には、ロウアドレスストローブ信号/r
asが供給され、該row系制御回路6は、ワードデコ
ーダ制御回路7に対して信号braszを出力すると共
にプリチャージ制御回路5に対して信号prezを出力
する。ワードデコーダ制御回路7は、複数のワードデコ
ーダ8,S/A制御回路10およびプリチャージ制御回
路5に対して信号pwlzを出力し、また、プリチャー
ジ制御回路5は、row系制御回路6に対して信号pr
epzを帰還する。そして、S/A制御回路10は、複
数のS/A12に対して信号lezを出力する。As shown in FIGS. 9 and 11, ro
The w-system control circuit 6 has a row address strobe signal / r
As is supplied, the row control circuit 6 outputs a signal brasz to the word decoder control circuit 7 and outputs a signal prez to the precharge control circuit 5. The word decoder control circuit 7 outputs a signal pwlz to the plurality of word decoders 8, the S / A control circuit 10 and the precharge control circuit 5, and the precharge control circuit 5 transmits a signal pwlz to the row control circuit 6. Signal pr
Return epz. Then, the S / A control circuit 10 outputs a signal lez to the plurality of S / As 12.
【0032】ここで、本実施例の半導体記憶装置におい
ては、プリチャージ制御回路5およびS/A制御回路1
0に対して制御信号refzが供給されるようになって
いる。なお、制御信号refzは、制御信号発生回路
(13)により生成されるが、この制御信号発生回路の
構成は後に詳述する。図9に示されるように、プリチャ
ージ制御回路5は、信号prezおよびpwlzが入力
されたナンドゲートNAND5,複数のインバータI5
1〜I58,複数の抵抗R51〜R56,複数のキャパ
シタC51〜C56,および,トランスファゲートTG
51,TG52を備えて構成されている。ここで、図3
に示す従来のプリチャージ制御回路105との比較から
明らかなように、本実施例のプリチャージ制御回路5に
おいては、インバータI56,I57,抵抗R55,R
56およびキャパシタC55,C56で構成される遅延
回路50を追加し、この遅延回路50の接続を制御信号
refzにより制御するようになっている。Here, in the semiconductor memory device of this embodiment, the precharge control circuit 5 and the S / A control circuit 1
A control signal refz is supplied for 0. The control signal refz is generated by the control signal generation circuit (13), and the configuration of the control signal generation circuit will be described later in detail. As shown in FIG. 9, the precharge control circuit 5 includes a NAND gate NAND5 to which signals prez and pwlz are input, and a plurality of inverters I5
1 to I58, a plurality of resistors R51 to R56, a plurality of capacitors C51 to C56, and a transfer gate TG
51 and TG52. Here, FIG.
As is clear from the comparison with the conventional precharge control circuit 105 shown in FIG. 5, in the precharge control circuit 5 of this embodiment, the inverters I56 and I57 and the resistors R55 and R55
A delay circuit 50 composed of a capacitor 56 and capacitors C55 and C56 is added, and the connection of the delay circuit 50 is controlled by a control signal refz.
【0033】通常のアクセス時(読み出しおよび書き込
み動作時)には、制御信号refzが低レベル“L”と
なってトランスファゲートTG51がスイッチオフでT
G52がスイッチオンし、遅延回路50は関与せずに従
来のプリチャージ制御回路105と同様の回路構成によ
り、本実施例のプリチャージ制御回路5の出力信号pr
epzには遅延時間DT11が与えられる。一方、リフ
レッシュ動作時には、制御信号refzが高レベル
“H”となってトランスファゲートTG51がスイッチ
オンでTG52がスイッチオフし、遅延回路50が直列
に挿入されて遅延時間が長くなり、プリチャージ制御回
路5の出力信号prepzには遅延時間DT1が与えら
れる。At the time of normal access (during read and write operations), the control signal refz becomes low level "L", and the transfer gate TG51 is switched off and T
G52 is switched on, and the output signal pr of the precharge control circuit 5 of the present embodiment is obtained by a circuit configuration similar to that of the conventional precharge control circuit 105 without involving the delay circuit 50.
The delay time DT11 is given to epz. On the other hand, at the time of refresh operation, the control signal refz becomes high level "H", the transfer gate TG51 is switched on, the TG 52 is switched off, the delay circuit 50 is inserted in series, the delay time becomes long, and the precharge control circuit 5 is given a delay time DT1.
【0034】すなわち、本実施例においては、複数のメ
モリセルアレイ部21〜24に対して共通の電源部(電
源電圧発生器3および昇圧レベル発生器4)を設けるよ
うになっているため、通常のアクセス時には、プリチャ
ージ制御回路5の出力信号prepzに遅延時間DT1
1を与える。そして、リフレッシュ動作時には、電源部
(電源電圧発生器3および昇圧レベル発生器4)の電流
供給能力の不足により、各電源電圧が所定のレベルより
降下して動作速度(信号のレベル変化)が低下するが、
この遅れに対応するように、プリチャージ制御回路5の
出力信号prepzに通常のアクセス時の遅延時間DT
11よりも大きい遅延時間DT1を与えて動作タイミン
グを一致(遅れ)させる。That is, in the present embodiment, a common power supply unit (power supply voltage generator 3 and boosted level generator 4) is provided for the plurality of memory cell array units 21 to 24. At the time of access, the output signal prepz of the precharge control circuit 5 has a delay time DT1
Give one. At the time of the refresh operation, each power supply voltage drops below a predetermined level due to the shortage of current supply capability of the power supply unit (the power supply voltage generator 3 and the boost level generator 4), and the operation speed (change in signal level) decreases. But
In order to cope with this delay, the output signal prepz of the precharge control circuit 5 is provided with a delay time DT during normal access.
A delay time DT1 greater than 11 is given to match (delay) the operation timing.
【0035】また、図9に示されるように、S/A制御
回路10は、複数のインバータI11〜I21,複数の
抵抗R11〜R17,複数のキャパシタC11〜C1
7,ノアゲートNOR1,および,トランスファゲート
TG11,TG12を備えて構成されている。ここで、
図3に示す従来のS/A制御回路110との比較から明
らかなように、本実施例のS/A制御回路10において
は、インバータI19,I20,抵抗R16,R17お
よびキャパシタC16,C17で構成される遅延回路1
00を追加し、この遅延回路100の接続を制御信号r
efzにより制御するようになっている。As shown in FIG. 9, the S / A control circuit 10 includes a plurality of inverters I11 to I21, a plurality of resistors R11 to R17, and a plurality of capacitors C11 to C1.
7, NOR gate NOR1, and transfer gates TG11, TG12. here,
As is apparent from a comparison with the conventional S / A control circuit 110 shown in FIG. 3, the S / A control circuit 10 of the present embodiment includes inverters I19 and I20, resistors R16 and R17, and capacitors C16 and C17. Delay circuit 1
00 and the connection of the delay circuit 100 is controlled by the control signal r.
efz.
【0036】通常のアクセス時(通常動作モード時:読
み出しおよび書き込み動作時)には、制御信号refz
が低レベル“L”となってトランスファゲートTG11
がスイッチオフでTG12がスイッチオンし、遅延回路
100は関与せずに従来のS/A制御回路110と同様
の回路構成により、本実施例のS/A制御回路10の出
力信号lezには遅延時間DT12が与えられる。一
方、リフレッシュ動作時(リフレッシュ動作モード時)
には、制御信号refzが高レベル“H”となってトラ
ンスファゲートTG11がスイッチオンでTG12がス
イッチオフし、遅延回路100が直列に挿入されて遅延
時間が長くなり、S/A制御回路10の出力信号lez
には遅延時間DT2が与えられる。At the time of normal access (during normal operation mode: read and write operations), the control signal refz
Becomes low level "L" and the transfer gate TG11
Is switched off, the TG 12 is switched on, and the output signal lez of the S / A control circuit 10 of the present embodiment is delayed by a circuit configuration similar to that of the conventional S / A control circuit 110 without involving the delay circuit 100. A time DT12 is given. On the other hand, during refresh operation (in refresh operation mode)
, The control signal refz becomes high level “H”, the transfer gate TG11 is switched on, the TG12 is switched off, the delay circuit 100 is inserted in series, the delay time becomes longer, and the S / A control circuit 10 Output signal lez
Is provided with a delay time DT2.
【0037】すなわち、本実施例においては、複数のメ
モリセルアレイ部21〜24に対して共通の電源部(電
源電圧発生器3および昇圧レベル発生器4)を設けるよ
うになっているため、通常のアクセス時には、S/A制
御回路10の出力信号lezに遅延時間DT12を与え
る。そして、リフレッシュ動作時には、電源部(電源電
圧発生器3および昇圧レベル発生器4)の電流供給能力
の不足により、各電源電圧が所定のレベルより降下して
動作速度(信号のレベル変化)が低下するが、この遅れ
に対応するように、S/A制御回路10の出力信号le
zに通常のアクセス時の遅延時間DT12よりも大きい
遅延時間DT2を与えて動作タイミングを一致(遅れ)
させる。That is, in the present embodiment, a common power supply unit (power supply voltage generator 3 and boosted level generator 4) is provided for the plurality of memory cell array units 21 to 24. At the time of access, a delay time DT12 is given to the output signal lez of the S / A control circuit 10. At the time of the refresh operation, each power supply voltage drops below a predetermined level due to the shortage of current supply capability of the power supply unit (the power supply voltage generator 3 and the boost level generator 4), and the operation speed (change in signal level) decreases. However, the output signal le of the S / A control circuit 10 is adjusted to correspond to this delay.
z is given a delay time DT2 longer than the delay time DT12 at the time of normal access to match the operation timing (delay)
Let it.
【0038】図11に示されるように、複数のワードデ
コーダ(ワードデコーダ列)8は、ワードデコーダ制御
回路7からの信号pwlzを受け取ると共に、ロウアド
レスを受け取って、所定のワード線WLを選択するよう
になっている。また、S/A活性化回路11は、S/A
制御回路10からの信号lezを受け取り、複数のS/
A(S/A列)12に対して信号nsa,psaを供給
する。As shown in FIG. 11, a plurality of word decoders (word decoder columns) 8 receive a signal pwlz from a word decoder control circuit 7 and a row address to select a predetermined word line WL. It has become. Further, the S / A activation circuit 11 outputs the S / A
The signal lez from the control circuit 10 is received, and a plurality of S /
Signals nsa and psa are supplied to A (S / A column) 12.
【0039】コラムデコーダ9はコラムアドレスを受け
取って対応するS/A12を選択する。各S/A12
は、S/A活性化回路11からの信号nsa,psaを
受け取って、それぞれ対応するビット線BL,/BL
と、ワードデコーダ8により選択されたワード線WLと
の交差個所に設けられたメモリセルMCの微少電位を増
幅する。なお、センスアンプ活性化回路(S/A活性化
回路)11,センスアンプ(S/A)12,およびワー
ドデコーダ8の構成は、図6および図7を参照して説明
した従来の半導体記憶装置におけるS/A活性化回路1
11,S/A112,およびワードデコーダ108と同
様であるのでその説明は省略する。The column decoder 9 receives the column address and selects a corresponding S / A 12. Each S / A12
Receives the signals nsa and psa from the S / A activation circuit 11, and receives the corresponding bit lines BL and / BL, respectively.
And a small potential of the memory cell MC provided at the intersection with the word line WL selected by the word decoder 8. The configurations of the sense amplifier activating circuit (S / A activating circuit) 11, the sense amplifier (S / A) 12, and the word decoder 8 are the same as those of the conventional semiconductor memory device described with reference to FIGS. S / A activation circuit 1 in
11, the S / A 112, and the word decoder 108, and the description thereof is omitted.
【0040】次に、本実施例の半導体記憶装置のリフレ
ッシュ動作を説明する。図10に示されるように、図9
の半導体記憶装置のリフレッシュ動作は、まず、ロウア
ドレスストローブ信号/rasが高レベル“H”から低
レベル“L”に変化すると、row系制御回路6の出力
信号brasz(row系のアクセス信号)および信号
prezがそれぞれ低レベル“L”から高レベル“H”
に立ち上がる。ここで、リシュレッシュ動作時におい
て、制御信号refzは、ロウアドレスストローブ信号
/rasと略同じタイミングで低レベル“L”から高レ
ベル“H”に変化する。Next, the refresh operation of the semiconductor memory device of this embodiment will be described. As shown in FIG.
First, when the row address strobe signal / ras changes from the high level “H” to the low level “L”, the output signal brasz (row access signal) of the row control circuit 6 Each of the signals prez is changed from a low level “L” to a high level “H”.
Stand up. Here, during the refresh operation, the control signal refz changes from the low level “L” to the high level “H” at substantially the same timing as the row address strobe signal / ras.
【0041】さらに、ワードデコーダ制御回路7の出力
信号pwlz(ワード線WLを立ち上げる基となる信
号)が発生され(低レベル“L”から高レベル“H”に
変化し)、S/A制御回路10から出力されるセンスア
ンプ動作を活性化する信号lezが、抵抗R11,R1
3〜R17およびキャパシタC11,C13〜C17等
による所定時間(遅延時間DT2)だけ遅延されて低レ
ベル“L”から高レベル“H”に立ち上がる。ここで、
遅延時間DT2には、遅延回路100による遅延も含ま
れており、この遅延時間DT2により電源部(電源電圧
発生器3および昇圧レベル発生器4)の出力電圧の低下
(電圧降下)による動作速度(信号のレベル変化)の遅
れにワード線WLの制御タイミングを同期させるように
なっている。なお、通常のアクセス時(読み出しおよび
書き込み時)には、制御信号refzは低レベル“L”
となっており、遅延回路100は関与せず、S/A制御
回路10の出力信号lezには遅延時間DT12が含ま
れることになる。Further, an output signal pwlz (a signal from which the word line WL is raised) of the word decoder control circuit 7 is generated (changes from low level "L" to high level "H"), and S / A control is performed. The signal lez for activating the sense amplifier operation output from the circuit 10 is connected to the resistors R11 and R1.
The signal is delayed from the low level “L” to the high level “H” by being delayed by a predetermined time (delay time DT2) due to 3 to R17 and the capacitors C11 and C13 to C17. here,
The delay time DT2 includes a delay due to the delay circuit 100, and the operation time (voltage drop) of the output voltage of the power supply unit (the power supply voltage generator 3 and the boost level generator 4) is reduced by the delay time DT2. The control timing of the word line WL is synchronized with the delay of the signal level change). At the time of normal access (at the time of reading and writing), the control signal refz is at the low level “L”.
Therefore, the delay circuit 100 is not involved, and the output signal lez of the S / A control circuit 10 includes the delay time DT12.
【0042】また、プリチャージ制御回路5の出力信号
prepzは、信号pwlzが高レベル“H”の状態で
信号prezが高レベル“H”に変化するのを受けて、
抵抗R51〜R56およびキャパシタC51〜C56等
による所定時間(遅延時間DT1)だけ遅延して低レベ
ル“L”から高レベル“H”に立ち上がる。すなわち、
プリチャージ制御回路5は、所定のタイミングで信号p
repzを発生してrow系制御回路6に帰還し、プリ
チャージ動作を実行する。ここで、遅延時間DT1に
は、遅延回路50による遅延も含まれており、この遅延
時間DT1により電源部の出力電圧の低下による動作速
度の遅れに各信号(brasz,pwlz,lez等)
のタイミングを同期させるようになっている。なお、通
常のアクセス時には、制御信号refzは低レベル
“L”となっており、遅延回路50は関与せず、プリチ
ャージ制御回路5の出力信号prepzには遅延時間D
T11が含まれることになる。The output signal prepz of the precharge control circuit 5 receives the signal prez changing to a high level "H" while the signal pwlz is at a high level "H".
The signal rises from the low level “L” to the high level “H” after being delayed by a predetermined time (delay time DT1) by the resistors R51 to R56 and the capacitors C51 to C56. That is,
The precharge control circuit 5 outputs a signal p at a predetermined timing.
repz is generated and returned to the row control circuit 6 to execute a precharge operation. Here, the delay time DT1 includes a delay caused by the delay circuit 50, and the delay time DT1 causes each signal (brasz, pwlz, lez, etc.) to be delayed due to a decrease in the operation speed due to a decrease in the output voltage of the power supply unit.
The timing is synchronized. At the time of normal access, the control signal refz is at the low level “L”, the delay circuit 50 is not involved, and the output signal prepz of the precharge control circuit 5 has a delay time D
T11 will be included.
【0043】さらに、row系制御回路6は、信号pr
ezを受け取って、その出力信号braszを高レベル
“H”から低レベル“L”に変化させ、それに応じてワ
ードデコーダ制御回路7の出力信号pwlzも高レベル
“H”から低レベル“L”に変化する。また、信号pw
lzの変化を受けて、S/A制御回路10から出力され
る信号lezが、抵抗R11,R12,R16,R17
およびキャパシタC11,C12,C16,C17等に
よる所定時間だけ遅延されて高レベル“H”から低レベ
ル“L”に変化する。なお、通常のアクセス時には、制
御信号refzは低レベル“L”となっており、遅延回
路100は関与せず、信号lezは、抵抗R11,R1
2およびキャパシタC11,C12等による所定時間だ
け遅延されて高レベル“H”から低レベル“L”に変化
する。Further, the row control circuit 6 outputs the signal pr
ez, the output signal brasz is changed from the high level “H” to the low level “L”, and the output signal pwlz of the word decoder control circuit 7 is accordingly changed from the high level “H” to the low level “L”. Change. Also, the signal pw
In response to the change of lz, the signal lez output from the S / A control circuit 10 is connected to the resistors R11, R12, R16, R17.
The signal is delayed from the high level "H" to the low level "L" by being delayed for a predetermined time by the capacitors C11, C12, C16, C17 and the like. At the time of normal access, the control signal refz is at the low level “L”, the delay circuit 100 is not involved, and the signal lez is connected to the resistors R11 and R1.
2 and a delay from the high level "H" to the low level "L" after being delayed by a predetermined time by the capacitors C11 and C12.
【0044】上述したように、本実施例の半導体記憶装
置において、リフレッシュ時には、S/A制御回路10
における遅延時間をDT12からDT2へと長くし、ま
た、プリチャージ制御回路5における遅延時間をDT1
1からDT1へと長くすることによって、リフレッシュ
動作時における電源部の電流供給能力の不足(電圧降
下)に起因した動作タイミングの遅れにリフレッシュ動
作を合わせることができ、複数の電源発生回路を設けて
占有面積の増加や消費電力の増大を伴うことなく、確実
なリフレッシュ動作を行うことが可能になる。As described above, in the semiconductor memory device of the present embodiment, the S / A control circuit 10
Is increased from DT12 to DT2, and the delay time in the precharge control circuit 5 is increased by DT1.
By increasing the length from 1 to DT1, the refresh operation can be adjusted to a delay in operation timing due to insufficient current supply capability (voltage drop) of the power supply unit during the refresh operation, and a plurality of power supply generation circuits are provided. A reliable refresh operation can be performed without increasing the occupied area or power consumption.
【0045】すなわち、本実施例の半導体記憶装置によ
れば、リフレッシュ時において、信号lezを遅らせる
(センス動作を遅らせる)ことにより、電源の電圧降下
(バンプダウン)によりワード線(WL)の立ち上がり
が遅くなってメモリセルからのデータが出て来る前にセ
ンス動作が始まることを無くし、さらに、信号prep
zを遅らせることにより、ビット線(BL,/BL)間
のレベル差が十分でない状態でワード線が閉じてしまう
ことを無くすことができる。That is, according to the semiconductor memory device of the present embodiment, at the time of refreshing, by delaying the signal lez (delaying the sensing operation), the rising of the word line (WL) is caused by the voltage drop (bump down) of the power supply. The sense operation does not start before the data comes out from the memory cell at a later time, and the signal prep
By delaying z, it is possible to prevent the word line from closing when the level difference between the bit lines (BL, / BL) is not sufficient.
【0046】図12は図11のメモリセルアレイ部にお
ける制御信号発生回路の一例を示す回路図であり、図1
3は本発明が適用される半導体記憶装置におけるメモリ
セルアレイ部および制御信号発生回路を示すブロック図
である。図12に示されるように、制御信号発生回路
(refz発生回路)13は、コマンド認識部30、複
数のレベル検出部31〜34、および、ノアゲートNO
R3並びにインバータI3を備えて構成され、コマンド
認識部30またはいずれかのレベル検出部31〜34の
出力が高レベル“H”になると、制御信号を低レベル
“L”から高レベル“H”へ立ち上げるようになってい
る。すなわち、リフレッシュ動作の認識を、各コマンド
信号(クロックイネーブル信号cke,チップセレクト
信号/CE,ロウアドレスストローブ信号/ras,コ
ラムアドレスストローブ信号/cas,および,ライト
イネーブル信号WE)の論理と、各電源電圧(昇圧レベ
ルVPP1〜VPP4)の電圧降下から認識するようになっ
ている。FIG. 12 is a circuit diagram showing an example of a control signal generating circuit in the memory cell array portion of FIG.
FIG. 3 is a block diagram showing a memory cell array section and a control signal generation circuit in a semiconductor memory device to which the present invention is applied. As shown in FIG. 12, the control signal generation circuit (refz generation circuit) 13 includes a command recognition unit 30, a plurality of level detection units 31 to 34, and a NOR gate NO.
When the output of the command recognition unit 30 or any of the level detection units 31 to 34 becomes a high level “H”, the control signal is changed from a low level “L” to a high level “H”. It is set up. That is, the logic of each command signal (clock enable signal cke, chip select signal / CE, row address strobe signal / ras, column address strobe signal / cas, and write enable signal WE) and each power supply Recognition is made based on the voltage drop of the voltage (the boost levels VPP1 to VPP4).
【0047】図12に示されるように、コマンド認識部
30は、インバータI31〜I33,ナンドゲートNA
ND30,および,ノアゲートNOR30を備えて構成
され、チップセレクト信号/CEが低レベル“L”,ロ
ウアドレスストローブ信号/rasが低レベル“L”,
コラムアドレスストローブ信号/casが低レベル
“L”,そして,ライトイネーブル信号WEが高レベル
“H”で、且つ、クロックイネーブル信号ckeが低レ
ベル“L”のときに、高レベル“H”の信号をノアゲー
トNOR3に出力するようになっている。各レベル検出
部31〜34は、図13に示されるように、各メモリセ
ルアレイ21〜24における昇圧レベルVPP1〜VPP4
を、電圧VPP(制御信号発生回路専用昇圧レベル発生器
14の出力電圧)を抵抗R311,R312で分圧した
基準電圧Vrと比較するようになっており、例えば、レ
ベル検出部31は、Pチャネル型MOSトランジスタQ
P311,QP312およびNチャネル型MOSトラン
ジスタQN311〜QN313で構成された差動増幅回
路により、メモリセルアレイ21の昇圧レベルVPP1と
基準電圧Vrを比較し、昇圧レベルVPP1が基準電圧V
rよりも低くなったときに、高レベル“H”をノアゲー
トNOR3に出力するようになっている。As shown in FIG. 12, the command recognition unit 30 includes inverters I31 to I33 and a NAND gate NA.
ND30 and NOR gate NOR30, chip select signal / CE is low level "L", row address strobe signal / ras is low level "L",
When the column address strobe signal / cas is at a low level "L", the write enable signal WE is at a high level "H", and the clock enable signal cke is at a low level "L", a high level "H" signal is output. Is output to the NOR gate NOR3. As shown in FIG. 13, each of the level detectors 31 to 34 includes a booster level VPP1 to VPP4 in each of the memory cell arrays 21 to 24.
Is compared with a reference voltage Vr obtained by dividing the voltage VPP (the output voltage of the boosting level generator 14 dedicated to the control signal generation circuit) by the resistors R311 and R312. For example, the level detection unit 31 Type MOS transistor Q
A differential amplifier circuit composed of P311 and QP312 and N-channel type MOS transistors QN311 to QN313 compares the boosted level VPP1 of the memory cell array 21 with the reference voltage Vr, and sets the boosted level VPP1 to the reference voltage Vr.
When it becomes lower than r, a high level "H" is output to the NOR gate NOR3.
【0048】従って、図12に示す制御信号発生回路1
3は、コマンド認識部30の出力が高レベル“H”のと
き、或いは、各レベル検出部31〜34のいずれかの出
力が高レベル“H”のときに、制御信号refzを高レ
ベル“H”として、上述したプリチャージ制御回路5の
出力信号prepzおよびS/A制御回路10の出力信
号lezの遅延時間の増大を行って動作タイミングを同
期させるようになっている。なお、図12に示す制御信
号発生回路13は、各メモリセルアレイ21〜24にお
ける昇圧レベルVPP1〜VPP4を検出するようになって
いるが、通常の電源電圧レベル等を検出してリフレッシ
ュ動作を認識するように構成してもよい。また、本発明
の半導体記憶装置としては、DRAMやSDRAMに限
定されずリフレッシュ動作を伴う不揮発性の半導体記憶
装置に対して適用することができる。Therefore, the control signal generating circuit 1 shown in FIG.
3 indicates that the control signal refz is set to the high level “H” when the output of the command recognition unit 30 is at the high level “H” or when the output of any of the level detection units 31 to 34 is at the high level “H” The operation timing is synchronized by increasing the delay time of the output signal prepz of the precharge control circuit 5 and the output signal lez of the S / A control circuit 10 described above. The control signal generation circuit 13 shown in FIG. 12 detects the boosted levels VPP1 to VPP4 in each of the memory cell arrays 21 to 24, but detects the normal power supply voltage level and the like to recognize the refresh operation. It may be configured as follows. Further, the semiconductor memory device of the present invention is not limited to a DRAM or an SDRAM, and can be applied to a nonvolatile semiconductor memory device with a refresh operation.
【0049】[0049]
【発明の効果】以上、詳述したように、本発明の半導体
記憶装置によれば、リフレッシュ時にだけ所定の信号を
遅延させることでリフレッシュ時の電圧降下による動作
タイミングの遅れに合わせてリフレッシュ動作を行わ
せ、これにより、複数の電源発生回路を設けることによ
る電源部の占有面積の増加や消費電力の増大を伴うこと
なく、確実なリフレッシュ動作を行うことができる。As described in detail above, according to the semiconductor memory device of the present invention, a predetermined signal is delayed only at the time of refresh, so that the refresh operation can be performed in accordance with the delay of the operation timing due to the voltage drop at the time of refresh. As a result, a reliable refresh operation can be performed without increasing the occupied area of the power supply unit and increasing power consumption due to the provision of the plurality of power supply generation circuits.
【図1】従来の半導体記憶装置の一例におけるメモリセ
ルアレイ部および電源発生回路を概念的に示すブロック
図である。FIG. 1 is a block diagram conceptually showing a memory cell array unit and a power generation circuit in an example of a conventional semiconductor memory device.
【図2】従来の半導体記憶装置の他の例におけるメモリ
セルアレイ部および電源発生回路を概念的に示すブロッ
ク図である。FIG. 2 is a block diagram conceptually showing a memory cell array section and a power supply generation circuit in another example of the conventional semiconductor memory device.
【図3】従来の半導体記憶装置の一例における要部構成
を示すブロック回路図である。FIG. 3 is a block circuit diagram illustrating a main configuration of an example of a conventional semiconductor memory device.
【図4】図3の半導体記憶装置のリフレッシュ動作を説
明するためのタイミング図である。FIG. 4 is a timing chart for explaining a refresh operation of the semiconductor memory device of FIG. 3;
【図5】従来の半導体記憶装置におけるメモリセルアレ
イ部の要部の一構成例を示すブロック回路図である。FIG. 5 is a block circuit diagram showing a configuration example of a main part of a memory cell array unit in a conventional semiconductor memory device.
【図6】図5のメモリセルアレイ部におけるS/A活性
化回路の一例を示す回路図である。6 is a circuit diagram showing an example of an S / A activation circuit in the memory cell array section of FIG.
【図7】図5のメモリセルアレイ部におけるワードデコ
ーダの一例を示す回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of a word decoder in the memory cell array section of FIG.
【図8】本発明が適用される半導体記憶装置の一例にお
けるメモリセルアレイ部および電源発生回路を概念的に
示すブロック図である。FIG. 8 is a block diagram conceptually showing a memory cell array section and a power generation circuit in an example of a semiconductor memory device to which the present invention is applied.
【図9】本発明に係る半導体記憶装置の一実施例におけ
る要部構成を示すブロック回路図である。FIG. 9 is a block circuit diagram showing a configuration of a main part in one embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention.
【図10】図9の半導体記憶装置のリフレッシュ動作を
説明するためのタイミング図である。FIG. 10 is a timing chart illustrating a refresh operation of the semiconductor memory device of FIG. 9;
【図11】本発明が適用される半導体記憶装置における
メモリセルアレイ部の要部の一構成例を示すブロック回
路図である。FIG. 11 is a block circuit diagram showing a configuration example of a main part of a memory cell array in a semiconductor memory device to which the present invention is applied;
【図12】図11のメモリセルアレイ部における制御信
号発生回路の一例を示す回路図である。FIG. 12 is a circuit diagram showing an example of a control signal generation circuit in the memory cell array section of FIG.
【図13】本発明が適用される半導体記憶装置における
メモリセルアレイ部および制御信号発生回路を示すブロ
ック図である。FIG. 13 is a block diagram showing a memory cell array section and a control signal generation circuit in a semiconductor memory device to which the present invention is applied;
1…半導体記憶装置(メモリチップ) 3…電源電圧発生器 4…昇圧レベル発生器 5…プリチャージ制御回路 6…ロウ系制御回路(row系制御回路) 7…ワードデコーダ制御回路 8…ワードデコーダ 9…コラムデコーダ 10…センスアンプ制御回路(S/A制御回路) 11…センスアンプ活性化回路(S/A活性化回路) 12…センスアンプ(S/A) 13…制御信号発生回路(refz発生回路) 14…制御信号発生回路専用昇圧レベル発生器 21〜24…メモリセルアレイ部 30…コマンド認識部 31〜34…レベル検出回路 50,100…遅延回路 REFERENCE SIGNS LIST 1 semiconductor memory device (memory chip) 3 power supply voltage generator 4 boosted level generator 5 precharge control circuit 6 row control circuit (row control circuit) 7 word decoder control circuit 8 word decoder 9 ... column decoder 10 ... sense amplifier control circuit (S / A control circuit) 11 ... sense amplifier activation circuit (S / A activation circuit) 12 ... sense amplifier (S / A) 13 ... control signal generation circuit (refz generation circuit) 14: boost level generator dedicated to control signal generation circuit 21-24: memory cell array unit 30: command recognition unit 31-34: level detection circuit 50, 100: delay circuit
Claims (13)
記憶装置であって、 前記リフレッシュ時にだけ所定の信号を遅延させること
により、該リフレッシュ時の電圧降下による動作タイミ
ングの遅れに合わせてリフレッシュ動作を行わせるよう
にしたことを特徴とする半導体記憶装置。1. A semiconductor memory device which involves refreshing a memory cell, wherein a predetermined signal is delayed only at the time of refreshing, so that a refresh operation is performed in accordance with a delay in operation timing due to a voltage drop at the time of refreshing. A semiconductor memory device characterized by doing so.
て、前記リフレッシュ時における電圧降下は、電源電圧
発生器の出力電圧および昇圧レベル発生器の出力電圧に
生じるようになっていることを特徴とする半導体記憶装
置。2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a voltage drop during said refresh occurs in an output voltage of a power supply voltage generator and an output voltage of a boost level generator. Semiconductor storage device.
て、前記電源電圧発生器および前記昇圧レベル発生器
は、通常のアクセス時およびリフレッシュ動作時で共通
の電流供給能力で動作しており、且つ、前記リフレッシ
ュ時に動作するセンスアンプの数は、通常のアクセス時
に動作するセンスアンプの数よりも多くなっていること
を特徴とする半導体記憶装置。3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein said power supply voltage generator and said boosted level generator operate with a common current supply capability during a normal access and a refresh operation. The number of sense amplifiers that operate at the time of refreshing is larger than the number of sense amplifiers that operate at the time of normal access.
て、該半導体記憶装置は、複数のメモリセルアレイ部を
有し、該各メモリセルアレイ部における昇圧レベルの電
位が基準レベル以下になったときに、前記所定の信号を
遅延させるようにしたことを特徴とする半導体記憶装
置。4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said semiconductor memory device has a plurality of memory cell array sections, and when a potential of a boosted level in each of said memory cell array sections becomes lower than a reference level. Wherein the predetermined signal is delayed.
て、各信号の論理からリフレッシュ動作を認識して、前
記所定の信号を遅延させるようにしたことを特徴とする
半導体記憶装置。5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said predetermined signal is delayed by recognizing a refresh operation from the logic of each signal.
て、前記リフレッシュ時にだけ遅延させる所定の信号
は、センスアンプ制御回路の出力信号およびプリチャー
ジ制御回路の出力信号であることを特徴とする半導体記
憶装置。6. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the predetermined signals delayed only at the time of refreshing are an output signal of a sense amplifier control circuit and an output signal of a precharge control circuit. Storage device.
給されるメモリセルアレイ部とを有し、該メモリセルア
レイ部におけるメモリセルのリフレッシュ時には、読み
出しおよび書き込み時よりも多くのセンスアンプが動作
して該電源部からの出力電圧が低下する半導体記憶装置
であって、 前記リフレッシュ動作を検出して制御信号を発生する制
御信号発生回路と、 前記制御信号を受けてセンスアンプの駆動を遅延させる
センスアンプ制御回路と、 前記制御信号を受けてワードデコーダの駆動を遅延させ
るプリチャージ制御回路とを具備することを特徴とする
半導体記憶装置。7. A power supply unit, and a memory cell array unit to which an output voltage from the power supply unit is supplied. When refreshing memory cells in the memory cell array unit, more sense amplifiers are required than when reading and writing. A semiconductor memory device that operates to reduce an output voltage from the power supply unit, comprising: a control signal generation circuit that detects the refresh operation and generates a control signal; and delays driving of a sense amplifier in response to the control signal. A semiconductor memory device, comprising: a sense amplifier control circuit for causing the word line decoder to receive the control signal and delaying the driving of the word decoder.
て、前記制御信号発生回路は、前記メモリセルアレイ部
における電圧を基準電圧と比較してリフレッシュ動作を
検出するようになっていることを特徴とする半導体記憶
装置。8. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein said control signal generation circuit detects a refresh operation by comparing a voltage in said memory cell array section with a reference voltage. Semiconductor storage device.
て、前記リフレッシュ動作を検出する前記メモリセルア
レイ部における電圧は、昇圧レベルの電圧であることを
特徴とする半導体記憶装置。9. The semiconductor memory device according to claim 8, wherein a voltage in said memory cell array unit for detecting said refresh operation is a voltage of a boosted level.
いて、前記制御信号発生回路は、各信号の論理からリフ
レッシュ動作を検出するようになっていることを特徴と
する半導体記憶装置。10. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein said control signal generation circuit detects a refresh operation from the logic of each signal.
ードを有し、該リフレッシュ動作モード時に選択される
ワード線の数が該通常動作モード時よりも多い半導体記
憶装置であって、 前記リフレッシュ動作モードにおいて活性化信号が活性
状態に遷移してからセンスアンプ駆動信号の出力を開始
するまでの第1の時間が、前記通常動作モードにおいて
前記活性化信号が活性状態に遷移してから前記センスア
ンプ駆動信号の出力を開始するまでの第2の時間よりも
長くなるように構成されていることを特徴とする半導体
記憶装置。11. A semiconductor memory device having a normal operation mode and a refresh operation mode, wherein the number of word lines selected in the refresh operation mode is larger than that in the normal operation mode. The first time from the transition of the activation signal to the active state to the start of output of the sense amplifier drive signal is equal to the first time from the transition of the activation signal to the active state in the normal operation mode. A semiconductor memory device configured to be longer than a second time until output starts.
ードを有し、該リフレッシュ動作モード時に活性化され
るセンスアンプの数が該通常動作モード時よりも多い半
導体記憶装置であって、 前記リフレッシュ動作モードにおける第1のセンスアン
プ活性化期間が、前記通常動作モードにおける第2のセ
ンスアンプ活性化期間よりも長くなるように構成されて
いることを特徴とする半導体記憶装置。12. A semiconductor memory device having a normal operation mode and a refresh operation mode, wherein the number of sense amplifiers activated in the refresh operation mode is larger than in the normal operation mode. A semiconductor memory device, wherein a first sense amplifier activation period is configured to be longer than a second sense amplifier activation period in the normal operation mode.
の半導体記憶装置において、前記半導体記憶装置は、D
RAM或いはシンクロナスDRAMであることを特徴と
する半導体記憶装置。13. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said semiconductor memory device is
A semiconductor memory device, which is a RAM or a synchronous DRAM.
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|---|---|---|---|
| JP22146097A JP4007644B2 (en) | 1997-08-18 | 1997-08-18 | Semiconductor memory device |
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|---|---|
| JPH1166844A true JPH1166844A (en) | 1999-03-09 |
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010002121A (en) * | 1999-06-11 | 2001-01-05 | 김영환 | Semiconductor memory apparatus |
| KR20030047023A (en) * | 2001-12-07 | 2003-06-18 | 주식회사 하이닉스반도체 | Memory device |
| KR100418578B1 (en) * | 2000-12-30 | 2004-02-11 | 주식회사 하이닉스반도체 | Bit-line sense amp control circuit in semiconductor memory device |
| KR100431289B1 (en) * | 2001-06-27 | 2004-05-12 | 주식회사 하이닉스반도체 | Bit line sense amplifier control circuit of semiconductor memory device |
| KR100719363B1 (en) * | 2005-05-20 | 2007-05-17 | 삼성전자주식회사 | Memory and Indicator Circuits |
| JP2009048771A (en) * | 2008-12-01 | 2009-03-05 | Fujitsu Microelectronics Ltd | Semiconductor device |
-
1997
- 1997-08-18 JP JP22146097A patent/JP4007644B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010002121A (en) * | 1999-06-11 | 2001-01-05 | 김영환 | Semiconductor memory apparatus |
| KR100418578B1 (en) * | 2000-12-30 | 2004-02-11 | 주식회사 하이닉스반도체 | Bit-line sense amp control circuit in semiconductor memory device |
| KR100431289B1 (en) * | 2001-06-27 | 2004-05-12 | 주식회사 하이닉스반도체 | Bit line sense amplifier control circuit of semiconductor memory device |
| KR20030047023A (en) * | 2001-12-07 | 2003-06-18 | 주식회사 하이닉스반도체 | Memory device |
| KR100719363B1 (en) * | 2005-05-20 | 2007-05-17 | 삼성전자주식회사 | Memory and Indicator Circuits |
| JP2009048771A (en) * | 2008-12-01 | 2009-03-05 | Fujitsu Microelectronics Ltd | Semiconductor device |
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