JPH116719A - 干渉測定装置 - Google Patents
干渉測定装置Info
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- JPH116719A JPH116719A JP10142727A JP14272798A JPH116719A JP H116719 A JPH116719 A JP H116719A JP 10142727 A JP10142727 A JP 10142727A JP 14272798 A JP14272798 A JP 14272798A JP H116719 A JPH116719 A JP H116719A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 短単色光源１、第１部分ビーム３が測定面７
に配向され、第２部分ビーム４が光路を周期的に変える
ための、反射エレメントを備えている装置に配向されて
る、第１ビームスプリッタＳＴ１、測定面と光路を変え
る装置とから到来するビームを干渉させる重畳エレメン
ト、ホト検出器１１を備えている。測定物体の粗面にお
ける形状を測定する干渉測定装置を、構成を簡単にし、
測定精度が高められるようにする。 【解決手段】 部分ビーム３のビーム路および／または
部分ビーム４のビーム路に、該２つの干渉する部分ビー
ム間の周波数をシフトする装置５；８，９が設けられて
いる。
に配向され、第２部分ビーム４が光路を周期的に変える
ための、反射エレメントを備えている装置に配向されて
る、第１ビームスプリッタＳＴ１、測定面と光路を変え
る装置とから到来するビームを干渉させる重畳エレメン
ト、ホト検出器１１を備えている。測定物体の粗面にお
ける形状を測定する干渉測定装置を、構成を簡単にし、
測定精度が高められるようにする。 【解決手段】 部分ビーム３のビーム路および／または
部分ビーム４のビーム路に、該２つの干渉する部分ビー
ム間の周波数をシフトする装置５；８，９が設けられて
いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、測定物体の粗面に
おける形状を測定するための干渉測定装置であって、短
コヒーレントビームを放射するためのビーム発生ユニッ
トを備え、第１の部分ビームおよび第２の部分ビームを
形成するための第１のビームスプリッタを備え、該２つ
の部分ビームのうち一方の部分ビームは前記測定すべき
面に配向されておりかつ他方の部分ビームは光路を周期
的に変えるための、反射エレメントを備えている装置に
配向されており、前記面から到来するビームと前記光路
を周期的に変えるための装置から到来するビームとを干
渉させる重畳エレメントを備え、かつ該干渉されたビー
ムを検出するホト検出器を備えている形式のものに関す
る。
おける形状を測定するための干渉測定装置であって、短
コヒーレントビームを放射するためのビーム発生ユニッ
トを備え、第１の部分ビームおよび第２の部分ビームを
形成するための第１のビームスプリッタを備え、該２つ
の部分ビームのうち一方の部分ビームは前記測定すべき
面に配向されておりかつ他方の部分ビームは光路を周期
的に変えるための、反射エレメントを備えている装置に
配向されており、前記面から到来するビームと前記光路
を周期的に変えるための装置から到来するビームとを干
渉させる重畳エレメントを備え、かつ該干渉されたビー
ムを検出するホト検出器を備えている形式のものに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】この形式の干渉測定装置は、T. Dresel,
G. Haeusler, H. Venzke 著の刊行物“Three-Dimensio
nal sensing of rough surfaces by coherence radar”
（Appl. Opt., Vol.3, No.7、１９９２年３月１日）に
おいて公知として示されている。この刊行物において、
粗面の形状を測定するために短単色光源と圧電式移動鏡
とを有する干渉計が提案されている。測定装置におい
て、測定物体から反射された光波の形の第１の部分ビー
ムと基準波の形の第２の部分ビームとが重畳される。２
つの光波は非常に短いコヒーレント長（数μｍ）を有し
ているので、光路差が零であるとき、干渉コントラスト
は最大値に達する。基準波の光路を変えるために、圧電
式移動鏡の形の反射エレメントが設けられている。圧電
式移動鏡の位置と干渉最大値の発生時点との比較によっ
て、測定物体に対する距離が突き止められる。干渉最大
値の正確な検出および最大値を光路に対応付けることは
比較的煩雑である。
G. Haeusler, H. Venzke 著の刊行物“Three-Dimensio
nal sensing of rough surfaces by coherence radar”
（Appl. Opt., Vol.3, No.7、１９９２年３月１日）に
おいて公知として示されている。この刊行物において、
粗面の形状を測定するために短単色光源と圧電式移動鏡
とを有する干渉計が提案されている。測定装置におい
て、測定物体から反射された光波の形の第１の部分ビー
ムと基準波の形の第２の部分ビームとが重畳される。２
つの光波は非常に短いコヒーレント長（数μｍ）を有し
ているので、光路差が零であるとき、干渉コントラスト
は最大値に達する。基準波の光路を変えるために、圧電
式移動鏡の形の反射エレメントが設けられている。圧電
式移動鏡の位置と干渉最大値の発生時点との比較によっ
て、測定物体に対する距離が突き止められる。干渉最大
値の正確な検出および最大値を光路に対応付けることは
比較的煩雑である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、構造
が簡単化されかつ測定精度が高められた、冒頭に述べた
形式の干渉測定装置を提供することである。
が簡単化されかつ測定精度が高められた、冒頭に述べた
形式の干渉測定装置を提供することである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この課題は、冒頭に述
べた形式の干渉測定装置において、請求項１の特徴部分
に記載の構成によって解決される。即ちこれによれば、
第１の部分ビームのビーム路および／または第２の部分
ビームのビーム路に、２つの干渉する部分ビーム間で周
波数シフト作用をする装置が設けられている。
べた形式の干渉測定装置において、請求項１の特徴部分
に記載の構成によって解決される。即ちこれによれば、
第１の部分ビームのビーム路および／または第２の部分
ビームのビーム路に、２つの干渉する部分ビーム間で周
波数シフト作用をする装置が設けられている。
【０００５】２つの干渉する部分ビーム間で周波数シフ
ト作用をする装置によって、ヘテロダイン干渉法の手段
を用いた評価が実現される。これにより、干渉最大値の
発生時点を一層正確に調整することができる。従って簡
単な構成で、アクセスするのが難しい測定物体に対する
距離が比較的僅かなコストで正確に突き止められる。こ
の種のヘテロダイン干渉法による測定方法に関しては、
文献を参照されたい。
ト作用をする装置によって、ヘテロダイン干渉法の手段
を用いた評価が実現される。これにより、干渉最大値の
発生時点を一層正確に調整することができる。従って簡
単な構成で、アクセスするのが難しい測定物体に対する
距離が比較的僅かなコストで正確に突き止められる。こ
の種のヘテロダイン干渉法による測定方法に関しては、
文献を参照されたい。
【０００６】
【発明の実施の形態】測定装置の簡単な構成は例えば、
周波数シフト作用をする装置を、変調器ドライバによっ
て制御される音響光学変調器として構成し、該変調器を
第１の部分ビームのビーム路において第１のビームスプ
リッタと測定物体との間に配置することによって実現さ
れる。
周波数シフト作用をする装置を、変調器ドライバによっ
て制御される音響光学変調器として構成し、該変調器を
第１の部分ビームのビーム路において第１のビームスプ
リッタと測定物体との間に配置することによって実現さ
れる。
【０００７】光路を変えるための装置が、第２の部分ビ
ームのビーム路にその光路を変えるために配置されてい
る、少なくとも２つの音響光学偏向器を備えた音響光学
偏向器装置とその後ろに定置に配置された反射エレメン
トとを有しておりかつ偏向器が周波数変調制御されかつ
到来する第２の部分ビーム並びに反射エレメントに関連
して、重畳エレメントに導かれる第２の部分ビームが偏
向器での偏向によってその光路を変えるように配置され
ているようになっていれば、より簡単な評価が可能にな
りしかも評価精度が高められる。というのは、機械的に
移動される反射エレメントが回避されるからである。光
路は非常に正確に突き止められかつ干渉最大値に対応付
けられる。
ームのビーム路にその光路を変えるために配置されてい
る、少なくとも２つの音響光学偏向器を備えた音響光学
偏向器装置とその後ろに定置に配置された反射エレメン
トとを有しておりかつ偏向器が周波数変調制御されかつ
到来する第２の部分ビーム並びに反射エレメントに関連
して、重畳エレメントに導かれる第２の部分ビームが偏
向器での偏向によってその光路を変えるように配置され
ているようになっていれば、より簡単な評価が可能にな
りしかも評価精度が高められる。というのは、機械的に
移動される反射エレメントが回避されるからである。光
路は非常に正確に突き止められかつ干渉最大値に対応付
けられる。
【０００８】２つの偏向器を、第２の部分ビームの周波
数がシフトされる程度に僅かに異なった搬送波周波数に
よって２つの偏向器ドライバにより制御する手法によっ
て、ヘテロダイン周波数を発生するための付加的な音響
光学変調器の使用が省かれる。ヘテロダイン周波数の形
成のためにむしろ、光路の変化のためにも用いられる既
存の音響光学偏向器が利用される。例えば数１０ＭＨｚ
の搬送波周波数の変調周波数では、搬送波周波数間の僅
かな周波数差は０．５ＭＨｚとすることができる。偏向
器ドライバは偏向器ドライバユニットの２つのドライバ
段によって形成することができる。
数がシフトされる程度に僅かに異なった搬送波周波数に
よって２つの偏向器ドライバにより制御する手法によっ
て、ヘテロダイン周波数を発生するための付加的な音響
光学変調器の使用が省かれる。ヘテロダイン周波数の形
成のためにむしろ、光路の変化のためにも用いられる既
存の音響光学偏向器が利用される。例えば数１０ＭＨｚ
の搬送波周波数の変調周波数では、搬送波周波数間の僅
かな周波数差は０．５ＭＨｚとすることができる。偏向
器ドライバは偏向器ドライバユニットの２つのドライバ
段によって形成することができる。
【０００９】搬送波周波数の変調周波数を発生するため
に、簡単な構成のためには、１つの共通の制御ユニット
が設けられており、それに２つの偏向器ドライバも接続
することができる。正確な評価のための簡単な構成は例
えば次のようになっている。即ち、第１の偏向器が到来
する部分ビームを周波数に依存して時間的に変化する角
度だけ偏向しかつ第２の偏向器がこの偏向を元に戻し、
その結果第２の部分ビームは再び入射方向において第１
の偏向器に関して平行移動して更に進むようになり、か
つ反射エレメントは回折格子として構成されており、該
回折格子は第２の偏向器から出射する部分ビームに関し
て、部分ビームが入射方向に戻されるように斜めに配向
されている。
に、簡単な構成のためには、１つの共通の制御ユニット
が設けられており、それに２つの偏向器ドライバも接続
することができる。正確な評価のための簡単な構成は例
えば次のようになっている。即ち、第１の偏向器が到来
する部分ビームを周波数に依存して時間的に変化する角
度だけ偏向しかつ第２の偏向器がこの偏向を元に戻し、
その結果第２の部分ビームは再び入射方向において第１
の偏向器に関して平行移動して更に進むようになり、か
つ反射エレメントは回折格子として構成されており、該
回折格子は第２の偏向器から出射する部分ビームに関し
て、部分ビームが入射方向に戻されるように斜めに配向
されている。
【００１０】信号処理および評価に関して特別有利な構
成によれば、制御ユニットは変調を制御する制御回路と
共に評価回路に一体構成されておりかつ搬送波周波数の
変調周波数に関する情報は評価回路に送出され、該評価
回路には、ホト検出器の出力信号も供給され、かつ評価
回路においてこの情報および出力信号に基づいて、測定
物体の測定点に対する距離を求めることができるように
なっている。
成によれば、制御ユニットは変調を制御する制御回路と
共に評価回路に一体構成されておりかつ搬送波周波数の
変調周波数に関する情報は評価回路に送出され、該評価
回路には、ホト検出器の出力信号も供給され、かつ評価
回路においてこの情報および出力信号に基づいて、測定
物体の測定点に対する距離を求めることができるように
なっている。
【００１１】好適な実施例によれば、ビーム発生装置と
第１のビームスプリッターとの間にコリメータが配置さ
れており、第１のビームスプリッターと測定物体との間
に、第１の部分ビームを集束レンズを介して測定物体に
導きかつ該測定物体から反射される第１の部分ビーム
を、別のビームスプリッタの形の重畳エレメントに導く
ための第２のビームスプリッタが配置されており、かつ
第１のビームスプリッタと第１の偏向器との間に、第３
のビームスプリッタが配置されており、該第３のビーム
スプリッタによって、第１の偏向器を介して戻された第
２の部分ビームが測定物体から反射された第１の部分ビ
ームと干渉されるように別のビームスプリッタに配向さ
れている。
第１のビームスプリッターとの間にコリメータが配置さ
れており、第１のビームスプリッターと測定物体との間
に、第１の部分ビームを集束レンズを介して測定物体に
導きかつ該測定物体から反射される第１の部分ビーム
を、別のビームスプリッタの形の重畳エレメントに導く
ための第２のビームスプリッタが配置されており、かつ
第１のビームスプリッタと第１の偏向器との間に、第３
のビームスプリッタが配置されており、該第３のビーム
スプリッタによって、第１の偏向器を介して戻された第
２の部分ビームが測定物体から反射された第１の部分ビ
ームと干渉されるように別のビームスプリッタに配向さ
れている。
【００１２】
【実施例】次に本発明を図示の実施例につき図面を用い
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【００１３】光源１、例えばレーザダイオードの形の短
コヒーレントビーム発生ユニットのコリメートされたビ
ームは、第１のビームスプリッタＳＴ１において第１の
部分ビーム３ないし第２の部分ビーム４に分割される。
第１の部分ビーム３は音響光学変調器５を介して第２の
ビームスプリッタＳＴ２および集束レンズ６を介して測
定物体７の表面に指向される。戻り反射後、第１の部分
ビーム３は第４のビームスプリッタＳＴ４に達する。
コヒーレントビーム発生ユニットのコリメートされたビ
ームは、第１のビームスプリッタＳＴ１において第１の
部分ビーム３ないし第２の部分ビーム４に分割される。
第１の部分ビーム３は音響光学変調器５を介して第２の
ビームスプリッタＳＴ２および集束レンズ６を介して測
定物体７の表面に指向される。戻り反射後、第１の部分
ビーム３は第４のビームスプリッタＳＴ４に達する。
【００１４】第１のビームスプリッタＳＴ１で分岐され
た第２の部分ビーム４は第３のビームスプリッタＳＴ３
および引き続いて２つの音響光学偏向器８，９を通過す
る。これら音響光学偏向器は１つの共通の偏向器ドライ
バ１２によって周波数変調されて制御される。周波数変
調によって、第２の部分ビーム４の偏向角度は第１の音
響光学偏向器８において角度αだけ変化される。第２の
音響光学偏向器９において第２の部分ビーム４は引き続
いて再び、それが第１の音響光学偏向器８に当たる方向
に偏向される。このようにして、第２の音響光学偏向器
９から出て行く第２の部分ビーム４の平行移動が生じ
る。この第２の部分ビームは引き続き回折格子の形の反
射エレメントを照射する。回折格子１０は、戻し回折さ
れた第２の部分ビーム４がこの平行移動に無関係に、干
渉装置において、ビームスプリッタＳＴ３を介して戻り
かつビームスプリッタＳＴ４において測定物体７から到
来する第１の部分ビーム３と重畳されるように、所定の
角度で傾けられている。２つの部分ビーム３および４が
同じ光学距離を通ってきたとき、干渉コントラストは最
大値に達している。
た第２の部分ビーム４は第３のビームスプリッタＳＴ３
および引き続いて２つの音響光学偏向器８，９を通過す
る。これら音響光学偏向器は１つの共通の偏向器ドライ
バ１２によって周波数変調されて制御される。周波数変
調によって、第２の部分ビーム４の偏向角度は第１の音
響光学偏向器８において角度αだけ変化される。第２の
音響光学偏向器９において第２の部分ビーム４は引き続
いて再び、それが第１の音響光学偏向器８に当たる方向
に偏向される。このようにして、第２の音響光学偏向器
９から出て行く第２の部分ビーム４の平行移動が生じ
る。この第２の部分ビームは引き続き回折格子の形の反
射エレメントを照射する。回折格子１０は、戻し回折さ
れた第２の部分ビーム４がこの平行移動に無関係に、干
渉装置において、ビームスプリッタＳＴ３を介して戻り
かつビームスプリッタＳＴ４において測定物体７から到
来する第１の部分ビーム３と重畳されるように、所定の
角度で傾けられている。２つの部分ビーム３および４が
同じ光学距離を通ってきたとき、干渉コントラストは最
大値に達している。
【００１５】２つの音響光学偏光器８，９は、第１の偏
向器８の偏向が第２の偏向器９において元に戻されかつ
第２の部分ビーム４が平行移動しかしないように配置さ
れているので、第２の部分ビーム４の光路、ないし光学
距離（走行時間）は変調される。２つの部分ビーム３，
４の光路差が零であるとき、第４のビームスプリッタＳ
Ｔ４の後ろの光路に配置されているホト検出器１１も干
渉最大値を観測する。干渉最大値ないしホト検出器１１
の信号最大値の発生時点と偏向器ドライバ１２の瞬時の
周波数を評価回路１４において比較することによって、
測定物体７に対する距離が正確に突き止められる。その
際第１のビームスプリッタＳＴ１と第２のビームスプリ
ッタＳＴ２との間に配置されている音響光学変調器５が
第１の部分ビームの周波数をシフトするように制御され
るとき、ホト検出器１１は、音響光学変調器５を変調器
ドライバ１３を用いて制御する周波数を有する交流信号
の形の干渉最大値を検出する。
向器８の偏向が第２の偏向器９において元に戻されかつ
第２の部分ビーム４が平行移動しかしないように配置さ
れているので、第２の部分ビーム４の光路、ないし光学
距離（走行時間）は変調される。２つの部分ビーム３，
４の光路差が零であるとき、第４のビームスプリッタＳ
Ｔ４の後ろの光路に配置されているホト検出器１１も干
渉最大値を観測する。干渉最大値ないしホト検出器１１
の信号最大値の発生時点と偏向器ドライバ１２の瞬時の
周波数を評価回路１４において比較することによって、
測定物体７に対する距離が正確に突き止められる。その
際第１のビームスプリッタＳＴ１と第２のビームスプリ
ッタＳＴ２との間に配置されている音響光学変調器５が
第１の部分ビームの周波数をシフトするように制御され
るとき、ホト検出器１１は、音響光学変調器５を変調器
ドライバ１３を用いて制御する周波数を有する交流信号
の形の干渉最大値を検出する。
【００１６】図２には、ヘテロダイン干渉法による評価
部が接続されている、短コヒーレントビームを用いた粗
面の形状を測定するための測定装置の択一的な構成が略
示されている。ここでも、短単色光源１のコリメートさ
れたビームが第１のビームスプリッタＳＴ１において２
つの部分ビームに分割される。第１の部分ビーム３は、
集束レンズ６を介して測定物体７の表面に進む。第２の
部分ビーム４は２つの音響光学偏向器８，９を通って進
みかつ回折格子１０を照射する。ここでも、回折格子１
０は、戻し回折された第２の部分ビーム４が平行移動に
無関係に、干渉装置において、ビームスプリッタＳＴ３
を介して戻りかつビームスプリッタＳＴ４において測定
物体７から到来する第１の部分ビーム３と重畳されるよ
うに、所定の角度で傾けられている。重畳された部分ビ
ーム３，４は頬ホト出器１１を照射する。
部が接続されている、短コヒーレントビームを用いた粗
面の形状を測定するための測定装置の択一的な構成が略
示されている。ここでも、短単色光源１のコリメートさ
れたビームが第１のビームスプリッタＳＴ１において２
つの部分ビームに分割される。第１の部分ビーム３は、
集束レンズ６を介して測定物体７の表面に進む。第２の
部分ビーム４は２つの音響光学偏向器８，９を通って進
みかつ回折格子１０を照射する。ここでも、回折格子１
０は、戻し回折された第２の部分ビーム４が平行移動に
無関係に、干渉装置において、ビームスプリッタＳＴ３
を介して戻りかつビームスプリッタＳＴ４において測定
物体７から到来する第１の部分ビーム３と重畳されるよ
うに、所定の角度で傾けられている。重畳された部分ビ
ーム３，４は頬ホト出器１１を照射する。
【図１】測定物体の粗面の形状を測定するための干渉測
定装置の構成の概略図である。
定装置の構成の概略図である。
【図２】別の実施例の概略図である。
１ ビーム発生ユニット、 ２ コリメータ、 ３ 第
１の部分ビーム、 ４第２の部分ビーム、 ５ 音響光
学変調器、 ７ 測定物体、 ８，９ 音響光学偏向
器、 １０ 反射エレメント、 １１ ホト検出器、
１２ 偏向器ドライバ、 １３ 変調器ドライバ、 １
４ 評価回路、 ＳＴ１〜ＳＴ４ ビームスプリッタ
１の部分ビーム、 ４第２の部分ビーム、 ５ 音響光
学変調器、 ７ 測定物体、 ８，９ 音響光学偏向
器、 １０ 反射エレメント、 １１ ホト検出器、
１２ 偏向器ドライバ、 １３ 変調器ドライバ、 １
４ 評価回路、 ＳＴ１〜ＳＴ４ ビームスプリッタ
Claims (8)
- 【請求項１】 測定物体の粗面における形状を測定する
ための干渉測定装置であって、短コヒーレントビームを
放射するためのビーム発生ユニットを備え、第１の部分
ビームおよび第２の部分ビームを形成するための第１の
ビームスプリッタを備え、該２つの部分ビームのうち一
方の部分ビームは前記測定すべき面に配向されておりか
つ他方の部分ビームは光路を周期的に変えるための、反
射エレメントを備えている装置に配向されており、前記
面から到来するビームと前記光路を周期的に変えるため
の装置とから到来するビームを干渉させる重畳エレメン
トを備え、かつ該干渉されたビームを検出するホト検出
器を備えている形式のものにおいて、前記第１の部分ビ
ーム（３）のビーム路および／または前記第２の部分ビ
ーム（４）のビーム路に、該２つの干渉する部分ビーム
（３，４）間の周波数シフト作用をする装置（５；８，
９）が設けられていることを特徴とする干渉測定装置。 - 【請求項２】 前記周波数シフト作用をする装置は、変
調器ドライバ（１３）によって制御される音響光学変調
器（５）として実現されており、該音響光学変調器は、
前記第１の部分ビーム（３）のビーム路に、前記第１の
ビームスプリッタ（ＳＴ１）と前記測定物体（７）との
間に配置されている請求項１記載の干渉測定装置。 - 【請求項３】 前記光路を変えるための装置は、前記第
２の部分ビーム（４）のビーム路に該第２の部分ビーム
の光路を変えるために配置されている音響光学偏向装置
と、その後ろに定置に配置されている反射エレメント
（１０）とを有しており、前記偏向装置は少なくとも２
つの音響光学偏向器（８，９）を備えており、かつ該偏
向器（８，９）は周波数変調制御されかつ前記到来する
第２の部分ビーム（４）並びに前記反射エレメント（１
０）に関連して、前記重畳エレメント（ＳＴ１；ＳＴ
４）に導かれる第２の部分ビーム（４）が前記偏向器
（８，９）での偏向（α）によって該第２の部分ビーム
の光路の変化が行われるように、配置されている請求項
１または２記載の干渉測定装置。 - 【請求項４】 前記２つの偏向器（８，９）は、前記第
２の部分ビーム（４）が周波数シフトを受けるように僅
かに異なった搬送波周波数によって２つの偏向器ドライ
バ（１２．１，１２．２）により制御される請求項３記
載の干渉測定装置。 - 【請求項５】 前記２つの偏向器（８，９）の搬送波周
波数は共通の制御ユニットによって変調される請求項４
記載の干渉測定装置。 - 【請求項６】 前記第１の偏向器（８）は到来する部分
ビームを周波数に依存して時間的に変化する角度だけ偏
向しかつ前記第２の偏向器（９）は該角度偏向を戻し、
その結果前記第２の部分ビーム（４）は再び、前記第１
の偏向器（８）に関する入射方向において平行にずらさ
れて更に延び、かつ前記反射エレメントは回折格子（１
０）として実現されており、該回折格子は、前記第２の
偏向器（９）から出射された部分ビームに関して、該部
分ビームが入射方向に戻されるように斜めに配向されて
いる請求項３から５までのいずれか１項記載の干渉測定
装置。 - 【請求項７】 前記制御ユニットは評価回路（１４）と
一体構成されておりかつ前記搬送波周波数の変調周波数
に関する情報は前記評価回路に送出され、該評価回路に
は、前記ホト検出器（１１）の出力信号も供給され、か
つ前記評価回路（１４）において前記情報および出力信
号に基づいて、前記測定物体（７）の測定点に対する距
離を求めることができる請求項６記載の干渉測定装置。 - 【請求項８】 前記ビーム発生装置（１）と前記第１の
ビームスプリッター（ＳＴ１）との間にコリメータ
（２）が配置されており、前記第１のビームスプリッタ
ー（ＳＴ１）と測定物体（７）との間に、前記第１の部
分ビーム（３）を集束レンズ（６）を介して測定物体
（７）に導きかつ該測定物体（７）から反射される第１
の部分ビーム（３）を、別のビームスプリッタ（ＳＴ
４）の形の重畳エレメントに導くための第２のビームス
プリッタ（ＳＴ２）が配置されており、かつ前記第１の
ビームスプリッタ（ＳＴ１）と前記第１の偏向器（８）
との間に、第３のビームスプリッタ（ＳＴ３）が配置さ
れており、該第３のビームスプリッタによって、前記第
１の偏向器（８）を介して戻された第２の部分ビーム
（４）が測定物体（７）から反射された第１の部分ビー
ム（３）と干渉されるように前記別のビームスプリッタ
（ＳＴ４）に配向されている請求項１から７までのいず
れか１項記載の干渉測定装置。
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