JPH1167800A - Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same - Google Patents
Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the sameInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 テープダムを用いたQFPにおいて、半田メ
ッキ工程におけるリード露出部からの半田異常析出を防
止する。また、選別歩留を向上する。
【解決手段】 タブ上に半導体チップを固着し、該半導
体チップの電極とリードとを電気的に接続し、樹脂で封
止した樹脂封止型半導体装置において、リードの所定位
置に補強材を含有する絶縁性フィルムからなるダム用絶
縁テープが配設され、前記補強材を含有する絶縁フィル
ムの一部が樹脂モールド後もリード上に残留(配置)さ
れている。
(57) [Problem] To prevent abnormal deposition of solder from a lead exposed portion in a solder plating step in a QFP using a tape dam. Also, the sorting yield is improved. SOLUTION: In a resin-sealed semiconductor device in which a semiconductor chip is fixed on a tab, an electrode of the semiconductor chip is electrically connected to a lead, and a resin is sealed, a reinforcing material is contained at a predetermined position of the lead. A dam insulating tape made of an insulating film is provided, and a part of the insulating film containing the reinforcing material remains (arranges) on the lead even after resin molding.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は樹脂封止型半導体装
置及びその製造方法に関し、特に、テープダムを用いた
QFP(Quat Flat Package)に適用して有効な技術
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin-encapsulated semiconductor device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a technology effective when applied to a QFP (Quat Flat Package) using a tape dam.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のQFP型半導体装置では、多ピン
化、小型化に対応してアウタリード0.3mmピッチの
QFPが用られている。このQFPではポリイミドテー
プを接着剤でリードフレームに貼付し、モールドレジン
(モールド樹脂)流出防止用のダムに使用するポリイミ
ドテープダムが採用されている(特開平6−37126
号公報参照)。2. Description of the Related Art In a conventional QFP semiconductor device, a QFP having an outer lead pitch of 0.3 mm is used in order to increase the number of pins and reduce the size. In this QFP, a polyimide tape dam is used in which a polyimide tape is attached to a lead frame with an adhesive and used as a dam for preventing mold resin (mold resin) from flowing out (Japanese Patent Laid-Open No. 6-37126).
Reference).
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】前記従来のテープダム
を用いたQFPでは、選別工程でリード間ショート不良
の選別歩留が低下することがある。このリード間ショー
ト不良の解析の結果、レジンモールドラインのポリイミ
ドテープダムが金型の型締め(クランプ)時に押し潰さ
れ、リード上残留したポリイミドテープの1部がヒビ割
れもしくは欠落してポリイミドテープ下にあるリードが
露出する。このためレジンモールド後の半田メッキ工程
でリード露出部から半田が異常析出し、リード間ショー
トに至ることが判明した。対策実験の結果、ポリイミド
テープダム部のリード露出がなければ、半田異常析出は
発生しないことが判った。現状のポリイミドテープ材で
は、リードを露出させないためには、半田メッキプロセ
スを変更する必要があった。In a conventional QFP using a tape dam, the selection yield of short-circuit defects between leads may be reduced in the selection process. As a result of the analysis of the short-circuit failure between the leads, the polyimide tape dam of the resin mold line was crushed during mold clamping (clamping), and a part of the polyimide tape remaining on the lead was cracked or missing, and the polyimide tape was damaged under the polyimide tape. The leads at are exposed. Therefore, it was found that in the solder plating process after the resin molding, the solder was abnormally deposited from the exposed portions of the leads, resulting in a short between the leads. As a result of the countermeasure experiment, it was found that the abnormal solder deposition did not occur unless the lead of the polyimide tape dam was exposed. In the current polyimide tape material, it was necessary to change the solder plating process in order not to expose the leads.
【0004】本発明の目的は、テープダムを用いたQF
Pにおいて、半田メッキ工程におけるリード露出部から
の半田異常析出を防止することが可能な技術を提供する
ことにある。An object of the present invention is to provide a QF using a tape dam.
An object of the present invention is to provide a technique capable of preventing abnormal deposition of solder from a lead exposed portion in a solder plating step.
【0005】本発明の他の目的は、テープダムを用いた
QFPにおいて、選別歩留を向上することが可能な技術
を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a technique capable of improving the sorting yield in a QFP using a tape dam.
【0006】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかにな
るであろう。The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば下
記の通りである。SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, typical ones are briefly described as follows.
【0008】(1)タブ上に半導体チップを固着し、該
半導体チップの電極とリードとを電気的に接続し、樹脂
で封止した樹脂封止型半導体装置において、リードの所
定位置に補強材を含有する絶縁性フィルムからなるダム
用絶縁テープが配設され、前記補強材を含有する絶縁フ
ィルムの一部が樹脂モールド後もリード上に配置されて
いる。(1) In a resin-sealed semiconductor device in which a semiconductor chip is fixed on a tab, electrodes of the semiconductor chip are electrically connected to leads, and the resin is sealed with a resin, reinforcing materials are provided at predetermined positions of the leads. Is provided, and a part of the insulating film containing the reinforcing material is disposed on the lead even after resin molding.
【0009】(2)前記ダム用絶縁テープは、アウター
リード間に埋め込まれる熱可塑性絶縁フィルムの上に、
補強材を含有する絶縁性フィルムを重ね合わせた2層構
造絶縁テープであり、前記補強材を含有する絶縁フィル
ムが樹脂モールド後もリード上に配置されている。(2) The dam insulating tape is provided on a thermoplastic insulating film embedded between outer leads,
This is a two-layer insulating tape in which an insulating film containing a reinforcing material is overlapped, and the insulating film containing the reinforcing material is arranged on the lead even after resin molding.
【0010】(3)前記ダム用絶縁テープは、補強材を
含有する熱可塑性絶縁フィルムの上に金属板を貼付した
ものからなり、樹脂モールド後も金属板とリードは前記
熱可塑性絶縁フィルムにより絶縁されている。(3) The dam insulating tape is formed by attaching a metal plate on a thermoplastic insulating film containing a reinforcing material. Even after resin molding, the metal plate and the lead are insulated by the thermoplastic insulating film. Have been.
【0011】(4)前記ダム用絶縁テープは、球形のフ
ィラーを含有する熱可塑性絶縁フィルムからなり、樹脂
モールド後も前記ダム用絶縁テープ内のフィラーがリー
ド上に残留していることを特徴とする請求項1に記載の
樹脂封止型半導体装置。(4) The dam insulating tape is made of a thermoplastic insulating film containing a spherical filler, and the filler in the dam insulating tape remains on the leads even after resin molding. The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 1.
【0012】(5)前記ダム用絶縁テープは、球形のフ
ィラーを含有する熱可塑性絶縁フィルムの上に金属板を
貼付したものからなり、樹脂モールド後も金属板とリー
ドは前記熱可塑性絶縁フィルムにより絶縁されている。(5) The dam insulating tape is formed by attaching a metal plate on a thermoplastic insulating film containing a spherical filler. Even after resin molding, the metal plate and the lead are formed by the thermoplastic insulating film. Insulated.
【0013】(6)リードフレームのタブ上に半導体チ
ップを固着し、該半導体チップの電極とリードとを電気
的に接続し、トランスファモールド法で樹脂封止する樹
脂封止型半導体装置製造方法において、リードフレーム
の所定位置に、補強材もしくは球形のフィラーを含有す
る絶縁性フィルムからなるダム用絶縁テープを貼付し、
この貼付されたダム用絶縁テープを樹脂モールド時に金
型の型締めによりリードフレームのリード間に押し込
み、補強材もしくは球形のフィラーを含有する絶縁フィ
ルムの1部をリードの上に残留し、その後樹脂モールド
し、アウターリードを成形して半田メッキする製造方法
である。(6) A method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device in which a semiconductor chip is fixed on a tab of a lead frame, electrodes of the semiconductor chip are electrically connected to leads, and resin is encapsulated by a transfer molding method. At a predetermined position of the lead frame, a dam insulating tape made of an insulating film containing a reinforcing material or a spherical filler is attached,
This affixed dam insulating tape is pressed between the leads of the lead frame by clamping the mold during resin molding, and a part of the insulating film containing a reinforcing material or a spherical filler remains on the leads. This is a manufacturing method in which molding is performed, outer leads are formed, and solder plating is performed.
【0014】(7)リードフレームのタブ上に半導体チ
ップを固着し、該半導体チップの電極とリードとを電気
的に接続し、トランスファモールド法で樹脂封止する樹
脂封止型半導体装置製造方法において、リードフレーム
の所定位置に、熱可塑性絶縁フィルムの上に補強材を含
有する絶縁フィルムを重ね合わせた2層構造絶縁テープ
を貼付し、この貼付された2層構造絶縁テープの熱可塑
性絶縁フィルムを樹脂モールド時に金型の型締めにより
リードフレームのリード間に押し込み、補強材を含有す
る絶縁フィルムをリードの上に配置し、その後樹脂モー
ルドし、アウターリードを成形して半田メッキする製造
方法である。(7) A method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device in which a semiconductor chip is fixed on a tab of a lead frame, electrodes of the semiconductor chip and leads are electrically connected, and the resin is sealed by a transfer molding method. At a predetermined position of the lead frame, a two-layer insulating tape in which an insulating film containing a reinforcing material is superimposed on a thermoplastic insulating film is attached, and the thermoplastic insulating film of the attached two-layer insulating tape is attached. This is a manufacturing method in which the resin is pressed between the leads of the lead frame by clamping the mold during resin molding, an insulating film containing a reinforcing material is placed on the leads, then resin-molded, and the outer leads are molded and solder-plated. .
【0015】(8)リードフレームのタブ上に半導体チ
ップを固着し、該半導体チップの電極とリードとを電気
的に接続し、トランスファモールド法で樹脂封止する樹
脂封止型半導体装置製造方法において、前記リードフレ
ームの所定位置に、補強材もしくは球形のフィラーを含
有する熱可塑性絶縁フィルムの上に金属板を貼付したダ
ム用絶縁テープを貼付し、この貼付されたダム用絶縁テ
ープの熱可塑性絶縁フィルムを樹脂モールド時に金型の
型締めによりリードフレームのリード間に押し込み、補
強材もしくは球形のフィラーを含有する熱可塑性絶縁フ
ィルムの一部及び金属板をリードの上に配置し、その後
樹脂モールドし、アウターリードを成形して半田メッキ
する製造方法である。(8) A method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device in which a semiconductor chip is fixed on a tab of a lead frame, electrodes of the semiconductor chip are electrically connected to leads, and the resin is encapsulated by a transfer molding method. At a predetermined position of the lead frame, a dam insulating tape in which a metal plate is stuck on a thermoplastic insulating film containing a reinforcing material or a spherical filler is stuck, and the thermoplastic insulating film of the stuck dam insulating tape is stuck. Press the film between the leads of the lead frame by clamping the mold at the time of resin molding, place a part of the thermoplastic insulating film containing the reinforcing material or spherical filler and the metal plate on the leads, and then perform resin molding. And a method of forming an outer lead and performing solder plating.
【0016】前述した手段によれば、ダム用絶縁テープ
ダムに使用する従来のテープ材を変えることにより、樹
脂モールド時の金型の型クランプで押し潰されても、リ
ード上に確実にテープ材全体に補強材が残留し、リード
を露出させることがないので、半田異常析出を防止する
ことができる。また、球形のフィラー等の補強材を含有
する熱可塑性絶縁フィルムの上に金属板を貼付すること
により、半田メッキ工程でメッキ液のテープ部への侵入
を防止するので、半田異常析出を防止することができ
る。According to the above-described means, even if the conventional tape material used for the dam insulating tape is changed, even if the tape material is crushed by the mold clamp at the time of resin molding, the entire tape material can be reliably placed on the lead. Since no reinforcing material remains on the lead and leads are not exposed, abnormal deposition of solder can be prevented. In addition, by attaching a metal plate on a thermoplastic insulating film containing a reinforcing material such as a spherical filler, the plating solution is prevented from entering the tape portion in the solder plating process, thereby preventing abnormal solder deposition. be able to.
【0017】以下、本発明について、図面を参照して実
施形態(実施例)とともに詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail together with embodiments (examples) with reference to the drawings.
【0018】なお、本実施形態を説明するための全図に
おいて、同一機能を有するものは同一符号を付け、その
繰り返しの説明は省略する。In all of the drawings for describing the present embodiment, components having the same function are denoted by the same reference numerals, and their repeated description will be omitted.
【0019】[0019]
(実施形態1)図1は本発明の実施形態1による樹脂封
止型半導体装置の概略構成を示す上から見た平面図であ
り、図2は図1のA−A’線で切った断面図である。図
1及び図2において、1は封止樹脂(以下、モールドレ
ジンと称する)、2はリード、2Aはインナーリード
部、2Bはアウターリード部、3は例えば熱可塑性絶縁
フィルムからなるダム用絶縁テープ、4はリードフレー
ム、5は半導体チップ、6はボンディングワイヤ、7は
タブ部である。(Embodiment 1) FIG. 1 is a top plan view showing a schematic configuration of a resin-sealed semiconductor device according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA 'of FIG. FIG. 1 and 2, reference numeral 1 denotes a sealing resin (hereinafter, referred to as a mold resin), 2 denotes a lead, 2A denotes an inner lead portion, 2B denotes an outer lead portion, and 3 denotes a dam insulating tape made of, for example, a thermoplastic insulating film. 4 is a lead frame, 5 is a semiconductor chip, 6 is a bonding wire, and 7 is a tab.
【0020】本実施形態1による樹脂封止型半導体装置
は、図1,図2及び図4に示すように、タブ吊りリード
のタブ部7の上に半導体チップ5を固着し、この半導体
チップ5の電極とリード2のインナーリード部2Aとを
電気的に接続し、モールドレジン1で封止した樹脂封止
型半導体装置において、リードの所定位置に、アウター
リード間に埋め込まれる熱可塑性絶縁フィルム3Aの上
に補強材を含有する絶縁性フィルム3Bを重ね合わせた
2層構造絶縁テープからなるダム用絶縁テープ3が配設
されている。そして、図4に示すように、前記熱可塑性
絶縁フィルム3Aの一部はリード2間に埋め込まれ、そ
の熱可塑性絶縁フィルム3Aの一部及び前記補強材を含
有する絶縁フィルム3Bが樹脂モールド後もリード2上
に配置されている。In the resin-encapsulated semiconductor device according to the first embodiment, as shown in FIGS. 1, 2 and 4, a semiconductor chip 5 is fixed on a tab portion 7 of a tab suspension lead. In the resin-encapsulated semiconductor device in which the electrode is electrically connected to the inner lead portion 2A of the lead 2 and sealed with the mold resin 1, a thermoplastic insulating film 3A embedded between outer leads at a predetermined position of the lead. There is provided a dam insulating tape 3 composed of a two-layer insulating tape in which an insulating film 3B containing a reinforcing material is superposed thereon. Then, as shown in FIG. 4, a part of the thermoplastic insulating film 3A is embedded between the leads 2, and a part of the thermoplastic insulating film 3A and the insulating film 3B containing the reinforcing material remain after the resin molding. It is arranged on the lead 2.
【0021】すなわち、図2に示すように、パッケージ
の外形を形成するモールドレジン1と外部接続用端子で
あるアウターリード2Bの境界にダム用絶縁テープ3を
配置した構造となる。That is, as shown in FIG. 2, the dam insulating tape 3 is arranged at the boundary between the mold resin 1 forming the outer shape of the package and the outer lead 2B as an external connection terminal.
【0022】図3に一例を示すように、一般に、リード
フレーム4は、半導体チップ5を固着(接着)させるタ
ブ部7と、このタブ部7を支持しているタブ吊りリード
部7Aと、タブ部7の周辺に複数配設されたインナーリ
ード2Aと、樹脂封止(モールド)後にパッケージ1か
ら外部に引き出しされるアウターリード部2Bとを備え
ている。As shown in FIG. 3, the lead frame 4 generally includes a tab 7 for fixing (adhering) the semiconductor chip 5, a tab suspension lead 7A supporting the tab 7, and a tab. A plurality of inner leads 2A are provided around the portion 7, and outer leads 2B are drawn out of the package 1 after resin sealing (molding).
【0023】前記ダム用絶縁テープ3は、図4(図1の
B−B’線で切った要部の拡大断面図)に示すように、
熱可塑性絶縁フィルム3Aとガラスクロス等の補強材を
含有する絶縁フィルム3Bとが積層された2層構造絶縁
テープである。そして、レジンモールド時に熱可塑性絶
縁フィルム3Aの一部がアウターリード2Bのリード間
に圧入され、かつ、熱可塑性絶縁フィルム3Aの一部及
び補強材含有フィルム3Bはリード2(インナーリード
2A及びアウターリード2B)の上に残留(配置)され
た構造となる。その残留層の厚さは、約10μmであ
る。The dam insulating tape 3 is, as shown in FIG. 4 (an enlarged sectional view of a main part taken along line BB ′ in FIG. 1),
This is a two-layer insulating tape in which a thermoplastic insulating film 3A and an insulating film 3B containing a reinforcing material such as glass cloth are laminated. Then, at the time of resin molding, part of the thermoplastic insulating film 3A is press-fitted between the leads of the outer leads 2B, and part of the thermoplastic insulating film 3A and the reinforcing material-containing film 3B are connected to the leads 2 (the inner leads 2A and the outer leads 2B). 2B). The thickness of the residual layer is about 10 μm.
【0024】かかるリードフレーム4を用いた半導体装
置の組立は、一般に、リードフレーム4のタブ部7に半
導体チップ5を固着した後、半導体チップ5のボンディ
ングパッド部(電極)とインナーリード部2Aとをコネ
クタワイヤ6によりワイヤボンディングして電気的に接
続した後に、モールド金型8のキャビティの中に入れて
閉塞する。この時、モールドライン上に貼付したダム用
絶縁性テープ3は、図5に示すように、その1部がモー
ルド金型8の上金型8Aにより、ダム用絶縁性テープ3
の熱可塑性絶縁フィルム3Aの一部がアウターリード2
Bのリード間に圧入され、かつ、熱可塑性絶縁フィルム
3Aの一部及び補強材含有フィルム3Bはリード2(イ
ンナーリード2A及びアウターリード2B)の上に残留
する。そして、前記モールド金型8の上金型8Aと下金
型8Bとで閉塞されたキャビティ中には、加熱して粘度
の下がったレジンを流入してモールドを行う。次に、ア
ウターリード部2Bを折曲成形して完成する。In assembling a semiconductor device using such a lead frame 4, generally, after a semiconductor chip 5 is fixed to a tab portion 7 of the lead frame 4, a bonding pad portion (electrode) of the semiconductor chip 5 and an inner lead portion 2A are connected. Are electrically connected by wire bonding with a connector wire 6 and then closed in a cavity of a mold 8. At this time, as shown in FIG. 5, a part of the dam insulating tape 3 attached on the mold line is formed by the upper mold 8A of the mold 8 by the dam insulating tape 3.
Part of the thermoplastic insulating film 3A is the outer lead 2
B, and a part of the thermoplastic insulating film 3A and the reinforcing material-containing film 3B remain on the leads 2 (the inner leads 2A and the outer leads 2B). Then, a resin that has been heated and has a reduced viscosity flows into the cavity closed by the upper mold 8A and the lower mold 8B of the mold 8 to perform molding. Next, the outer lead portion 2B is bent and completed.
【0025】その際に、従来のダムバーに代って、アウ
タリード部2Bへのレジンの流出を前記ダム用絶縁性テ
ープ3の熱可塑性絶縁フィルム3Aによって防止するこ
とができる。前記レジンは、一定時間経過すると、硬化
してパッケージ外形が完成するが、本実施形態1では、
ダム用絶縁性テープ3は絶縁体であるから前記硬化した
モールドレジン1中に入る構造となる。At this time, the resin can be prevented from flowing out to the outer lead portion 2B by the thermoplastic insulating film 3A of the dam insulating tape 3 instead of the conventional dam bar. The resin cures after a certain period of time to complete the package outer shape. In the first embodiment, however,
Since the dam insulating tape 3 is an insulator, it has a structure to enter the cured mold resin 1.
【0026】本実施形態1によれば、レジンモールド時
に、ダム用絶縁性テープ3の補強材含有フィルム3Bが
リード2の上に必ず残留することにより、リード2ダム
用絶縁性テープ3の熱可塑性絶縁フィルム3Aの下のリ
ード2(インナーリード2A及びアウターリード2B)
が露出しないので、半田メッキ工程における半田異常析
出によるリード間ショート不良を防止することができ
る。これによりテープダムを用いたQFPにおいて、リ
ード間ショート不良の選別歩留を向上することができ
る。According to the first embodiment, when the resin is molded, the reinforcing material-containing film 3B of the insulating tape for dams 3 always remains on the leads 2, so that the thermoplastic tape of the insulating tape for leads 2 dam 3 is formed. Lead 2 under insulating film 3A (inner lead 2A and outer lead 2B)
Is not exposed, it is possible to prevent short-circuit defects between leads due to abnormal deposition of solder in the solder plating process. As a result, in a QFP using a tape dam, the selection yield of short-circuit defects between leads can be improved.
【0027】また、本実施形態1では、前記ダム用絶縁
性テープ3が絶縁体であるから、レジンモールド後のア
ウタリード部2Aの成形工程でリード間を切り離す必要
がなく、従来のようにダムバー切断工程が不要となる。
これにより製造コストを低減することができる。Further, in the first embodiment, since the dam insulating tape 3 is an insulator, it is not necessary to separate the leads in the molding process of the outer lead portion 2A after the resin molding. No process is required.
As a result, manufacturing costs can be reduced.
【0028】(実施形態2)図6は本発明の実施形態2
の樹脂封止型半導体装置におけるダム用絶縁性テープと
リードの概略構成を示す要部断面図であり、10は熱可
塑性絶縁フィルム、11はガラスクロス等の補強材であ
る。(Embodiment 2) FIG. 6 shows Embodiment 2 of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a principal part showing a schematic configuration of an insulating tape for a dam and leads in a resin-sealed semiconductor device of the present invention, wherein 10 is a thermoplastic insulating film, and 11 is a reinforcing material such as a glass cloth.
【0029】本実施形態2の樹脂封止型半導体装置は、
図6に示すように、前記ダム用絶縁テープ3の代りに、
ガラスクロス等の補強材11を含有する熱可塑性絶縁フ
ィルム10を用いたものである。このように、ガラスク
ロス等の補強材11を含有する熱可塑性絶縁フィルム1
0を用いことにより、モールド金型8の上金型により、
補強材11を含有する熱可塑性絶縁フィルム10の1部
がアウターリード2Bのリード間に圧入され、かつ、そ
の1部はリード2(インナーリード2A及びアウターリ
ード2B)の上に残留(配置)する。その残留層の厚さ
は、約10μmである。The resin-sealed semiconductor device of the second embodiment is
As shown in FIG. 6, instead of the dam insulating tape 3,
This uses a thermoplastic insulating film 10 containing a reinforcing material 11 such as a glass cloth. Thus, the thermoplastic insulating film 1 containing the reinforcing material 11 such as a glass cloth
0, the upper mold 8
A part of the thermoplastic insulating film 10 containing the reinforcing material 11 is press-fitted between the leads of the outer leads 2B, and the part remains (disposed) on the leads 2 (the inner leads 2A and the outer leads 2B). . The thickness of the residual layer is about 10 μm.
【0030】これにより、熱可塑性絶縁フィルム10の
下のリード2(インナーリード2A及びアウターリード
2B)が露出しないので、半田メッキ工程における半田
異常析出によるリード間ショート不良を防止することが
できる。これによりテープダムを用いたQFPにおい
て、リード間ショート不良の選別歩留を向上することが
できる。As a result, the leads 2 (the inner leads 2A and the outer leads 2B) under the thermoplastic insulating film 10 are not exposed, so that a short circuit between leads due to abnormal deposition of solder in the solder plating step can be prevented. As a result, in a QFP using a tape dam, the selection yield of short-circuit defects between leads can be improved.
【0031】(実施形態3)図7は本発明の実施形態3
の樹脂封止型半導体装置におけるダム用絶縁性テープと
リードの概略構成を示す要部断面図であり、20は熱可
塑性絶縁フィルム、21は球状のフィラーである。(Embodiment 3) FIG. 7 shows Embodiment 3 of the present invention.
3 is a cross-sectional view of a principal part showing a schematic configuration of an insulating tape for a dam and leads in a resin-sealed semiconductor device of the present invention, wherein 20 is a thermoplastic insulating film, and 21 is a spherical filler.
【0032】本実施形態3の樹脂封止型半導体装置は、
図7に示すように、前記ダム用絶縁テープ3の代りに、
球形のフィラー21を含有する熱可塑性絶縁フィルム2
0を用いたものである。レジンモールド後の前記熱可塑
性絶縁フィルム20内のリード2上に残留する球形のフ
ィラー21の残留層の厚さは、約10μmである。The resin-encapsulated semiconductor device of the third embodiment is
As shown in FIG. 7, instead of the dam insulating tape 3,
Thermoplastic insulating film 2 containing spherical filler 21
0 is used. The thickness of the residual layer of the spherical filler 21 remaining on the leads 2 in the thermoplastic insulating film 20 after the resin molding is about 10 μm.
【0033】このように、球形のフィラー21を含有す
る熱可塑性絶縁フィルム20を用いることにより、レジ
ンモールド後も前記熱可塑性絶縁フィルム20内の球形
のフィラー21をリード2上に残留させ、熱可塑性絶縁
フィルム20の下のリード2(インナーリード2A及び
アウターリード2B)が露出しないので、半田メッキ工
程における半田異常析出によるリード間ショート不良を
防止することができる。これによりテープダムを用いた
QFPにおいて、リード間ショート不良の選別歩留を向
上することができる。As described above, by using the thermoplastic insulating film 20 containing the spherical filler 21, the spherical filler 21 in the thermoplastic insulating film 20 remains on the leads 2 even after the resin molding, and Since the leads 2 (the inner leads 2A and the outer leads 2B) under the insulating film 20 are not exposed, it is possible to prevent short-circuit defects between leads due to abnormal deposition of solder in the solder plating step. As a result, in a QFP using a tape dam, the selection yield of short-circuit defects between leads can be improved.
【0034】(実施形態4)図8は本発明の実施形態4
の樹脂封止型半導体装置におけるダム用絶縁性テープと
リードの概略構成を示す要部断面図であり、10は熱可
塑性絶縁フィルム、11はガラスクロス等の補強材、3
0は金属板である。(Embodiment 4) FIG. 8 shows Embodiment 4 of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a principal part showing a schematic configuration of an insulating tape for a dam and leads in a resin-sealed semiconductor device of (1), 10 is a thermoplastic insulating film, 11 is a reinforcing material such as glass cloth, 3
0 is a metal plate.
【0035】本実施形態4の樹脂封止型半導体装置は、
図8に示すように、前記ダム用絶縁テープ3の代りに、
ガラスクロス等の補強材11を含有する熱可塑性絶縁フ
ィルム10上に金属板30を積層したものを用い、レジ
ンモールド後も前記熱可塑性絶縁フィルム10の一部と
金属板30がリード2上に配置されるようにしたもので
ある。そして、レジンモールド後も金属板30とリード
2は前記熱可塑性絶縁フィルム10により絶縁されてい
る。前記リード2上に配置される熱可塑性絶縁フィルム
10の一部と金属板30の2層の厚さは、約10μmで
ある。The resin-encapsulated semiconductor device of the fourth embodiment is
As shown in FIG. 8, instead of the dam insulating tape 3,
A material obtained by laminating a metal plate 30 on a thermoplastic insulating film 10 containing a reinforcing material 11 such as a glass cloth is used. A part of the thermoplastic insulating film 10 and the metal plate 30 are arranged on the leads 2 even after resin molding. It is made to be done. Then, even after the resin molding, the metal plate 30 and the leads 2 are insulated by the thermoplastic insulating film 10. The thickness of the two layers of the part of the thermoplastic insulating film 10 and the metal plate 30 disposed on the lead 2 is about 10 μm.
【0036】このようにレジンモールド後も前記可塑性
絶縁フィルム10の一部と金属板30がリード上に配置
されることにより、熱可塑性絶縁フィルム10の下のリ
ード2(インナーリード2A及びアウターリード2B)
が露出しないので、半田メッキ工程における半田異常析
出によるリード間ショート不良を防止することができ
る。As described above, even after the resin molding, a part of the plastic insulating film 10 and the metal plate 30 are disposed on the leads, so that the leads 2 (the inner leads 2A and the outer leads 2B) under the thermoplastic insulating film 10 are formed. )
Is not exposed, it is possible to prevent short-circuit defects between leads due to abnormal deposition of solder in the solder plating process.
【0037】また、補強材を含有する熱可塑性絶縁フィ
ルム10の上に金属板30を貼付することにより、半田
メッキ工程でメッキ液のテープ部への侵入を防止するの
で、半田異常析出を防止することができる。これにより
テープダムを用いたQFPにおいて、リード間ショート
不良の選別歩留を向上することができる。Further, by adhering the metal plate 30 on the thermoplastic insulating film 10 containing the reinforcing material, the plating solution is prevented from entering the tape portion in the solder plating step, so that abnormal deposition of solder is prevented. be able to. As a result, in a QFP using a tape dam, the selection yield of short-circuit defects between leads can be improved.
【0038】(実施形態5)図9は本発明の実施形態5
の樹脂封止型半導体装置におけるダム用絶縁性テープと
リードの概略構成を示す要部断面図であり、20は熱可
塑性絶縁フィルム、21は球状のフィラー、30は金属
板である。(Embodiment 5) FIG. 9 shows Embodiment 5 of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a principal part showing a schematic configuration of an insulating tape for a dam and leads in a resin-sealed semiconductor device of the present invention, wherein 20 is a thermoplastic insulating film, 21 is a spherical filler, and 30 is a metal plate.
【0039】本実施形態5の樹脂封止型半導体装置は、
図9に示すように、前記ダム用絶縁テープ3の代りに、
球状のフィラー21を含有する熱可塑性絶縁フィルム2
0上に金属板30を積層したもの用い、レジンモールド
後も前記熱可塑性絶縁フィルム20の一部と金属板30
がリード上に配置されるようにしたものである。そし
て、レジンモールド後も金属板30とリード2は前記熱
可塑性絶縁フィルム10により絶縁されている。前記リ
ード2上に配置される熱可塑性絶縁フィルム10の一部
と金属板30の2層の厚さは、約10μmである。The resin-encapsulated semiconductor device of the fifth embodiment is
As shown in FIG. 9, instead of the dam insulating tape 3,
Thermoplastic insulating film 2 containing spherical filler 21
A part of the thermoplastic insulating film 20 and the metal plate 30 are also used after resin molding.
Are arranged on the lead. Then, even after the resin molding, the metal plate 30 and the leads 2 are insulated by the thermoplastic insulating film 10. The thickness of the two layers of the part of the thermoplastic insulating film 10 and the metal plate 30 arranged on the lead 2 is about 10 μm.
【0040】このようにレジンモールド後も前記可塑性
絶縁フィルム20の一部と金属板30がリード上に配置
されることにより、熱可塑性絶縁フィルム20の下のリ
ード2(インナーリード2A及びアウターリード2B)
が露出しないので、半田メッキ工程における半田異常析
出によるリード間ショート不良を防止することができ
る。As described above, even after the resin molding, a part of the plastic insulating film 20 and the metal plate 30 are arranged on the leads, so that the leads 2 (the inner leads 2A and the outer leads 2B) under the thermoplastic insulating film 20 are formed. )
Is not exposed, it is possible to prevent short-circuit defects between leads due to abnormal deposition of solder in the solder plating process.
【0041】また、補強材を含有する熱可塑性絶縁フィ
ルム20の上に金属板30を貼付することにより、半田
メッキ工程でメッキ液のテープ部への侵入を防止するの
で、半田異常析出を防止することができる。これにより
テープダムを用いたQFPにおいて、リード間ショート
不良の選別歩留を向上することができる。Further, by adhering the metal plate 30 on the thermoplastic insulating film 20 containing the reinforcing material, it is possible to prevent the plating solution from entering the tape portion in the solder plating process, thereby preventing abnormal solder deposition. be able to. As a result, in a QFP using a tape dam, the selection yield of short-circuit defects between leads can be improved.
【0042】以上、本発明者によってなされた発明を、
前記実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、
前記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸
脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論で
ある。As described above, the invention made by the present inventor is:
Although specifically described based on the embodiment, the present invention
It is needless to say that the present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be variously modified without departing from the scope of the invention.
【0043】[0043]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
【0044】ダム用絶縁テープダムに使用する従来のテ
ープ材を変えることにより、樹脂モールド時の金型の型
クランプで押し潰されても、リード上に確実にテープ材
全体に補強材が残留し、リードを露出させることがない
ので、半田異常析出を防止することができる。Insulating tape for dam By changing the conventional tape material used for the dam, even if the tape is crushed by a mold clamp during resin molding, the reinforcing material remains on the entire lead material without fail, Since the leads are not exposed, abnormal deposition of solder can be prevented.
【0045】また、補強材を含有する熱可塑性絶縁フィ
ルムの上に金属板を貼付することにより、半田メッキ工
程でメッキ液のテープ部への侵入を防止するので、半田
異常析出を防止することができる。In addition, since a metal plate is stuck on a thermoplastic insulating film containing a reinforcing material to prevent a plating solution from entering a tape portion in a solder plating process, abnormal deposition of solder can be prevented. it can.
【0046】これらにより、テープダムを用いたQFP
において、リード間ショート不良の選別歩留を向上する
ことができる。Thus, the QFP using the tape dam
In this case, it is possible to improve the selection yield of short-circuit defects between leads.
【図1】本発明の実施形態1による樹脂封止型半導体装
置の概略構成を示す上から見た平面図である。FIG. 1 is a top plan view showing a schematic configuration of a resin-sealed semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】図1のA−A’線で切った断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line A-A 'of FIG.
【図3】本発明の実施形態におけるリードフレーム概略
構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of a lead frame according to the embodiment of the present invention.
【図4】図1のB−B’線で切った要部の拡大断面図で
ある。FIG. 4 is an enlarged sectional view of a main part taken along line BB ′ of FIG. 1;
【図5】本実施形態1の樹脂封止型半導体装置を製造方
法を説明するための図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a method for manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to the first embodiment.
【図6】本発明の実施形態2の樹脂封止型半導体装置に
おけるダム用絶縁性テープとリードの概略構成を示す要
部断面図である。FIG. 6 is a sectional view of a principal part showing a schematic configuration of a dam insulating tape and leads in a resin-sealed semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.
【図7】本発明の実施形態3の樹脂封止型半導体装置に
おけるダム用絶縁性テープとリードの概略構成を示す要
部断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a principal part showing a schematic configuration of an insulating tape for a dam and leads in a resin-sealed semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.
【図8】本発明の実施形態4の樹脂封止型半導体装置に
おけるダム用絶縁性テープとリードの概略構成を示す要
部断面図である。FIG. 8 is a sectional view of a principal part showing a schematic configuration of a dam insulating tape and leads in a resin-sealed semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention.
【図9】本発明の実施形態5の樹脂封止型半導体装置に
おけるダム用絶縁性テープとリードの概略構成を示す要
部断面図である。FIG. 9 is a sectional view of a principal part showing a schematic configuration of a dam insulating tape and leads in a resin-sealed semiconductor device according to a fifth embodiment of the present invention.
1…封止樹脂、2…リード、2A…インナーリード部、
2B…アウターリード部、3…ダム用絶縁テープ、3
A,10,20…熱可塑性絶縁フィルム、3B,11…
補強材、4…リードフレーム、5…半導体チップ、6…
ボンディングワイヤ、7…タブ部、7A…タブ吊りリー
ド、8…モールド金型、8A…上金型、8B…下金型、
21…球状のフィラー、30…金属板。1 ... sealing resin, 2 ... lead, 2A ... inner lead part,
2B ... Outer lead part, 3 ... Insulating tape for dam, 3
A, 10, 20 ... thermoplastic insulating film, 3B, 11 ...
Reinforcing material, 4 ... lead frame, 5 ... semiconductor chip, 6 ...
Bonding wire, 7: tab portion, 7A: tab suspension lead, 8: mold die, 8A: upper die, 8B: lower die,
21: spherical filler, 30: metal plate.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坪井 敏宏 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 舘 宏 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 三輪 孝志 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Toshihiro Tsuboi 5-20-1, Josuihonmachi, Kodaira-shi, Tokyo Inside Hitachi RLS Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Hiroshi Tachi Kodaira, Tokyo 5-20-1 Honcho, Ichimizu-shi Hitachi RLS Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Takashi Miwa 2326 Imai, Ome-shi, Tokyo Inside Device Development Center, Hitachi, Ltd.
Claims (8)
体チップの電極とリードとを電気的に接続し、樹脂で封
止した樹脂封止型半導体装置において、リードの所定位
置に補強材を含有する絶縁性フィルムからなるダム用絶
縁テープが配設され、前記補強材を含有する絶縁フィル
ムの一部が樹脂モールド後もリード上に配置されている
ことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。In a resin-sealed semiconductor device in which a semiconductor chip is fixed on a tab, electrodes of the semiconductor chip are electrically connected to leads, and a resin is sealed, a reinforcing material is provided at a predetermined position of the lead. A resin-encapsulated semiconductor device, wherein a dam insulating tape made of an insulating film is provided, and a part of the insulating film containing the reinforcing material is disposed on the lead even after resin molding. .
ド間に埋め込まれる熱可塑性絶縁フィルムの上に、補強
材を含有する絶縁性フィルムを重ね合わせた2層構造絶
縁テープであり、前記補強材を含有する絶縁フィルムが
樹脂モールド後もリード上に配置されていることを特徴
とする請求項1に記載の樹脂封止型半導体装置。2. The dam insulating tape is a two-layer insulating tape in which an insulating film containing a reinforcing material is superposed on a thermoplastic insulating film embedded between outer leads. 2. The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 1, wherein the insulating film to be contained is disposed on the lead even after the resin molding.
する熱可塑性絶縁フィルムの上に金属板を貼付したもの
からなり、樹脂モールド後も金属板とリードは前記熱可
塑性絶縁フィルムにより絶縁されていることを特徴とす
る請求項1に記載の樹脂封止型半導体装置。3. The dam insulating tape comprises a thermoplastic insulating film containing a reinforcing material and a metal plate attached to a thermoplastic insulating film, and the metal plate and the leads are insulated by the thermoplastic insulating film even after resin molding. The resin-sealed semiconductor device according to claim 1, wherein:
ーを含有する熱可塑性絶縁フィルムからなり、樹脂モー
ルド後も前記ダム用絶縁テープ内のフィラーがリード上
に残留していることを特徴とする請求項1に記載の樹脂
封止型半導体装置。4. The dam insulating tape is made of a thermoplastic insulating film containing a spherical filler, and the filler in the dam insulating tape remains on the leads after resin molding. The resin-sealed semiconductor device according to claim 1.
ーを含有する熱可塑性絶縁フィルムの上に金属板を貼付
したものからなり、樹脂モールド後も金属板とリードは
前記熱可塑性絶縁フィルムにより絶縁されていることを
特徴とする請求項4に記載の樹脂封止型半導体装置。5. The dam insulating tape comprises a thermoplastic insulating film containing a spherical filler and a metal plate adhered on the thermoplastic insulating film. Even after resin molding, the metal plate and the lead are insulated by the thermoplastic insulating film. The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 4, wherein:
を固着し、該半導体チップの電極とリードとを電気的に
接続し、トランスファモールド法で樹脂封止する樹脂封
止型半導体装置製造方法において、リードフレームの所
定位置に、補強材もしくは球形のフィラーを含有する絶
縁性フィルムからなるダム用絶縁テープを貼付し、この
貼付されたダム用絶縁テープを樹脂モールド時に金型の
型締めによりリードフレームのリード間に押し込み、補
強材もしくは球形のフィラーを含有する絶縁フィルムの
1部をリードの上に残留し、その後樹脂モールドし、ア
ウターリードを成形して半田メッキすることを特徴とす
る樹脂封止型半導体装置製造方法。6. A method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, comprising fixing a semiconductor chip on a tab of a lead frame, electrically connecting electrodes of the semiconductor chip to leads, and encapsulating the resin by transfer molding. At a predetermined position of the lead frame, a dam insulating tape made of an insulating film containing a reinforcing material or a spherical filler is attached, and the attached dam insulating tape is sealed with a metal mold at the time of resin molding. A resin-sealed mold characterized by being pushed between leads, leaving a part of an insulating film containing a reinforcing material or a spherical filler on the leads, then resin-molding, forming outer leads and solder-plating. Semiconductor device manufacturing method.
を固着し、該半導体チップの電極とリードとを電気的に
接続し、トランスファモールド法で樹脂封止する樹脂封
止型半導体装置製造方法において、リードフレームの所
定位置に、熱可塑性絶縁フィルムの上に補強材を含有す
る絶縁フィルムを重ね合わせた2層構造絶縁テープを貼
付し、この貼付された2層構造絶縁テープの熱可塑性絶
縁フィルムを樹脂モールド時に金型の型締めによりリー
ドフレームのリード間に押し込み、補強材を含有する絶
縁フィルムをリードの上に配置し、その後樹脂モールド
し、アウターリードを成形して半田メッキすることを特
徴とする樹脂封止型半導体装置製造方法。7. A method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device in which a semiconductor chip is fixed on a tab of a lead frame, electrodes of the semiconductor chip are electrically connected to leads, and resin is encapsulated by a transfer molding method. At a predetermined position of the lead frame, a two-layer insulating tape obtained by laminating an insulating film containing a reinforcing material on a thermoplastic insulating film is attached, and the thermoplastic insulating film of the attached two-layer insulating tape is made of resin. It is characterized in that it is pressed between the leads of the lead frame by clamping the mold at the time of molding, the insulating film containing the reinforcing material is placed on the leads, then resin molded, the outer leads are molded and solder plated. A method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device.
を固着し、該半導体チップの電極とリードとを電気的に
接続し、トランスファモールド法で樹脂封止する樹脂封
止型半導体装置製造方法において、前記リードフレーム
の所定位置に、補強材もしくは球形のフィラーを含有す
る熱可塑性絶縁フィルムの上に金属板を貼付したダム用
絶縁テープを貼付し、この貼付されたダム用絶縁テープ
の熱可塑性絶縁フィルムを樹脂モールド時に金型の型締
めによりリードフレームのリード間に押し込み、補強材
を含有する熱可塑性絶縁フィルムの一部及び金属板をリ
ードの上に配置し、その後樹脂モールドし、アウターリ
ードを成形して半田メッキすることを特徴とする樹脂封
止型半導体装置製造方法。8. A method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, comprising: fixing a semiconductor chip on a tab of a lead frame, electrically connecting electrodes of the semiconductor chip to leads, and encapsulating the resin by a transfer molding method. At a predetermined position of the lead frame, a dam insulating tape in which a metal plate is stuck on a thermoplastic insulating film containing a reinforcing material or a spherical filler is stuck, and a thermoplastic insulating film of the stuck dam insulating tape is stuck. Is pressed between the leads of the lead frame by clamping the mold during resin molding, a part of the thermoplastic insulating film containing the reinforcing material and the metal plate are placed on the leads, and then resin-molded to form outer leads And manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device by solder plating.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9222151A JPH1167800A (en) | 1997-08-19 | 1997-08-19 | Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9222151A JPH1167800A (en) | 1997-08-19 | 1997-08-19 | Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1167800A true JPH1167800A (en) | 1999-03-09 |
Family
ID=16777990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9222151A Withdrawn JPH1167800A (en) | 1997-08-19 | 1997-08-19 | Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1167800A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005039242A (en) * | 2003-06-26 | 2005-02-10 | Toshiba Corp | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| JP2008218949A (en) * | 2007-03-08 | 2008-09-18 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
-
1997
- 1997-08-19 JP JP9222151A patent/JPH1167800A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005039242A (en) * | 2003-06-26 | 2005-02-10 | Toshiba Corp | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| JP2008218949A (en) * | 2007-03-08 | 2008-09-18 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
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