JPH1167883A - 静電チャック - Google Patents
静電チャックInfo
- Publication number
- JPH1167883A JPH1167883A JP21952397A JP21952397A JPH1167883A JP H1167883 A JPH1167883 A JP H1167883A JP 21952397 A JP21952397 A JP 21952397A JP 21952397 A JP21952397 A JP 21952397A JP H1167883 A JPH1167883 A JP H1167883A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 絶縁体内の電極に電圧を印加して該絶縁体上
に被吸着体を吸着し、これを保持する静電チャックにお
いて、ウェーハ等の被吸着体の確実な吸着・保持の性能
を維持しつつ、被吸着体の離脱の際には、これを容易に
安定に短時間で行うことができる静電チャックを提供す
る。 【解決手段】 絶縁体１内の電極２に電圧を印加して該
絶縁体上にウェーハ等の被吸着体４を吸着し、これを保
持する静電チャックにおいて、印加電圧をパルス状に供
給可能にして、たとえば被吸着体を吸着する際に定電圧
を印加し、その後、パルス状の印加電圧を供給して被吸
着体を保持するようにする。
に被吸着体を吸着し、これを保持する静電チャックにお
いて、ウェーハ等の被吸着体の確実な吸着・保持の性能
を維持しつつ、被吸着体の離脱の際には、これを容易に
安定に短時間で行うことができる静電チャックを提供す
る。 【解決手段】 絶縁体１内の電極２に電圧を印加して該
絶縁体上にウェーハ等の被吸着体４を吸着し、これを保
持する静電チャックにおいて、印加電圧をパルス状に供
給可能にして、たとえば被吸着体を吸着する際に定電圧
を印加し、その後、パルス状の印加電圧を供給して被吸
着体を保持するようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は静電チャックに関
し、さらに詳しくは、絶縁体内の電極に電圧を印加して
該絶縁体上に被吸着体を吸着し、これを保持する静電チ
ャックに関する。本発明は特に、被吸着体の離脱に際し
この離脱を容易に行うことを可能ならしめた静電チャッ
クを提供するものである。本発明は絶縁体上に静電的に
被吸着体を吸着・保持する場合に汎用することができ、
特にたとえば半導体装置製造の際にウェーハ等を吸着支
持する場合の静電チャックとして好ましく適用すること
ができる。
し、さらに詳しくは、絶縁体内の電極に電圧を印加して
該絶縁体上に被吸着体を吸着し、これを保持する静電チ
ャックに関する。本発明は特に、被吸着体の離脱に際し
この離脱を容易に行うことを可能ならしめた静電チャッ
クを提供するものである。本発明は絶縁体上に静電的に
被吸着体を吸着・保持する場合に汎用することができ、
特にたとえば半導体装置製造の際にウェーハ等を吸着支
持する場合の静電チャックとして好ましく適用すること
ができる。
【０００２】
【従来の技術】従来、静電チャックにより被吸着体を吸
着・保持する場合、該被吸着体を離脱するときにその離
脱が安定に容易になされないことがある。この問題点に
ついて、静電チャックにウェーハを吸着支持する場合を
例にとって、以下説明する。たとえば半導体ウェーハ
は、たとえばエッチング（プラズマエッチング等のドラ
イエッチングなど）や成膜（プラズマＣＶＤなど）等の
加工を行う際にこれを静電チャックに吸着支持し、加工
後、その離脱が行われる。
着・保持する場合、該被吸着体を離脱するときにその離
脱が安定に容易になされないことがある。この問題点に
ついて、静電チャックにウェーハを吸着支持する場合を
例にとって、以下説明する。たとえば半導体ウェーハ
は、たとえばエッチング（プラズマエッチング等のドラ
イエッチングなど）や成膜（プラズマＣＶＤなど）等の
加工を行う際にこれを静電チャックに吸着支持し、加工
後、その離脱が行われる。
【０００３】従来より、絶縁体内の電極に電圧を印加し
て該絶縁体上に被吸着体を吸着する静電チャックを使用
してウェーハを吸着させるとき、その印加電圧として
は、ウェーハに対し充分な吸着力を得られる電圧を設定
する。ウェーハの吸着及び保持時は、上記のように設定
した印加電圧を維持する。ウェーハの離脱時は、印加電
圧を零にするか、または逆電圧を加えて、ウェーハの離
脱を行っている。具体的には、たとえば図３に示すよう
に、吸着・保持のために充分な高電圧として５００Ｖの
電圧を印加し、ウェーハ吸着・保持の間はこの一定の電
圧をかけた状態とし、ウェーハを離脱するときには印加
電圧を０Ｖとしている。
て該絶縁体上に被吸着体を吸着する静電チャックを使用
してウェーハを吸着させるとき、その印加電圧として
は、ウェーハに対し充分な吸着力を得られる電圧を設定
する。ウェーハの吸着及び保持時は、上記のように設定
した印加電圧を維持する。ウェーハの離脱時は、印加電
圧を零にするか、または逆電圧を加えて、ウェーハの離
脱を行っている。具体的には、たとえば図３に示すよう
に、吸着・保持のために充分な高電圧として５００Ｖの
電圧を印加し、ウェーハ吸着・保持の間はこの一定の電
圧をかけた状態とし、ウェーハを離脱するときには印加
電圧を０Ｖとしている。
【０００４】しかしながら印加電圧を零にしても、絶縁
体及びウェーハに誘起された電荷が残留して、この残留
電荷がウェーハ離脱を困難にし、これにより脱離時間を
長く必要とするという問題点がある。
体及びウェーハに誘起された電荷が残留して、この残留
電荷がウェーハ離脱を困難にし、これにより脱離時間を
長く必要とするという問題点がある。
【０００５】また、離脱時に逆電圧を加えても、ウェー
ハの離脱が安定せず、これに伴うトラブルが発生するこ
とがある。
ハの離脱が安定せず、これに伴うトラブルが発生するこ
とがある。
【０００６】特開平８−６４６６４号公報には、ウェー
ハを最小の力で開放するため、ウェーハとチャック間の
ガスの漏れ率に基づいて（漏れ量が一定値を超える静電
位を得て）、残留電荷を打ち消す最適チャック開放電圧
を決定する手法が記載されているが、これは計算が煩雑
であり、簡単に具体化できる技術とは言いがたい。また
具体的には段階的にチャック電圧を低下させる手法をと
るようであり、これで離脱時間の短い、容易なウェーハ
離脱が実現できるかどうかは、必ずしも明らかではな
い。
ハを最小の力で開放するため、ウェーハとチャック間の
ガスの漏れ率に基づいて（漏れ量が一定値を超える静電
位を得て）、残留電荷を打ち消す最適チャック開放電圧
を決定する手法が記載されているが、これは計算が煩雑
であり、簡単に具体化できる技術とは言いがたい。また
具体的には段階的にチャック電圧を低下させる手法をと
るようであり、これで離脱時間の短い、容易なウェーハ
離脱が実現できるかどうかは、必ずしも明らかではな
い。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の問題点を解決して、ウェーハ等の被吸着体の確実な吸
着・保持の性能を維持しつつ、被吸着体の離脱の際に
は、これを容易に安定に短時間で行うことができる静電
チャックを提供することを目的とする。
の問題点を解決して、ウェーハ等の被吸着体の確実な吸
着・保持の性能を維持しつつ、被吸着体の離脱の際に
は、これを容易に安定に短時間で行うことができる静電
チャックを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ため、本発明の静電チャックは、絶縁体内の電極に電圧
を印加して該絶縁体上に被吸着体を吸着し、これを保持
する静電チャックにおいて、上記印加電圧をパルス状に
供給可能にしたことを特徴とする。
ため、本発明の静電チャックは、絶縁体内の電極に電圧
を印加して該絶縁体上に被吸着体を吸着し、これを保持
する静電チャックにおいて、上記印加電圧をパルス状に
供給可能にしたことを特徴とする。
【０００９】本発明はこのように、印加電圧をパルス状
に供給可能にしたので、ウェーハ等の被吸着体を離脱す
る際も、この離脱を容易に安定に行うことができる。離
脱の時間も短時間で済む。たとえば被吸着体を吸着する
際にたとえば高電圧の一定電圧を印加して吸着を行わ
せ、その後、たとえば残留電荷を勘案しつつパルス状の
印加電圧を供給して被吸着体を保持するようにすると、
ウェーハ等の被吸着体の充分な吸着・保持を維持しつ
つ、残留電荷を減らすことができて、ウェーハ等の被吸
着体の離脱を容易に安定に行えるようになる。なお、特
開昭６３−１３９６３４号公報に、印加電圧と基準電圧
とを比較してパルスを発生し、電源配線の良否をこのパ
ルス印加で確認する手法が記載されているが、これは印
加電圧の供給自体をパルス的にする本発明の方法とは異
なる。また、前記特開平８−６４６６４号公報には、ウ
ェーハとチャック間に発生するパルスの測定についての
言及があるが、これも印加電圧自体をパルス的にするこ
とを示すものではない。
に供給可能にしたので、ウェーハ等の被吸着体を離脱す
る際も、この離脱を容易に安定に行うことができる。離
脱の時間も短時間で済む。たとえば被吸着体を吸着する
際にたとえば高電圧の一定電圧を印加して吸着を行わ
せ、その後、たとえば残留電荷を勘案しつつパルス状の
印加電圧を供給して被吸着体を保持するようにすると、
ウェーハ等の被吸着体の充分な吸着・保持を維持しつ
つ、残留電荷を減らすことができて、ウェーハ等の被吸
着体の離脱を容易に安定に行えるようになる。なお、特
開昭６３−１３９６３４号公報に、印加電圧と基準電圧
とを比較してパルスを発生し、電源配線の良否をこのパ
ルス印加で確認する手法が記載されているが、これは印
加電圧の供給自体をパルス的にする本発明の方法とは異
なる。また、前記特開平８−６４６６４号公報には、ウ
ェーハとチャック間に発生するパルスの測定についての
言及があるが、これも印加電圧自体をパルス的にするこ
とを示すものではない。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態例について、図面を参照して説明する。ただし当然の
ことであるが、本発明は以下述べる実施の形態例により
限定を受けるものではない。
態例について、図面を参照して説明する。ただし当然の
ことであるが、本発明は以下述べる実施の形態例により
限定を受けるものではない。
【００１１】実施の形態例１ この実施の形態例は、一例として、半導体ウェーハの吸
着・支持に用いる単極静電チャックについて、本発明を
適用したものである。図１にその概要を示すように、本
例の静電チャックは、絶縁体１内の電極２に電圧を印加
して該絶縁体１上に被吸着体４（ここではウェーハ）を
吸着し、これを保持するものである。符号３で、印加電
圧を供給する電源を示す。本例では、印加電圧をパルス
状に供給可能にするとともに、このパルス状の印加電圧
について、そのインターバル及び電圧を任意に設定可能
にした。これにより、被吸着体４（ウェーハ）の保持力
を任意に得られるようにした。また、残留電荷を加味し
てパルス状の印加電圧のインターバル及び電圧を調整で
きるようにした。
着・支持に用いる単極静電チャックについて、本発明を
適用したものである。図１にその概要を示すように、本
例の静電チャックは、絶縁体１内の電極２に電圧を印加
して該絶縁体１上に被吸着体４（ここではウェーハ）を
吸着し、これを保持するものである。符号３で、印加電
圧を供給する電源を示す。本例では、印加電圧をパルス
状に供給可能にするとともに、このパルス状の印加電圧
について、そのインターバル及び電圧を任意に設定可能
にした。これにより、被吸着体４（ウェーハ）の保持力
を任意に得られるようにした。また、残留電荷を加味し
てパルス状の印加電圧のインターバル及び電圧を調整で
きるようにした。
【００１２】図２に、本実施の形態例における印加電圧
を示す。図２は、縦軸に印加電圧をとり、横軸に時間を
とって、電圧の印加状況を示したものである（図３も同
じ）。
を示す。図２は、縦軸に印加電圧をとり、横軸に時間を
とって、電圧の印加状況を示したものである（図３も同
じ）。
【００１３】図２に、示すように、本実施の形態例で
は、被吸着体４であるウェーハの吸着時には、高電圧
（図では５００Ｖ）を印加し、被吸着体４（ウェーハ）
を吸着させる。
は、被吸着体４であるウェーハの吸着時には、高電圧
（図では５００Ｖ）を印加し、被吸着体４（ウェーハ）
を吸着させる。
【００１４】その後、残留電荷を加味しパルス状の電圧
を印加し、被吸着体４（ウェーハ）を保持する。このよ
うにパルス状の電圧を印加することにより、被吸着体４
（ウェーハ）の確実な吸着・保持を維持しつつ、従来の
残留電荷が減る。よってこれにより、被吸着体４（ウェ
ーハ）の脱離（ここでは図２のように印加電圧０Ｖで行
う）が容易となる。本例ではこのように、残留電荷が小
さくなり、かつ、保持力を充分に維持できるようにパル
ス状の印加電圧のインターバルを調整したものであり、
場合によっては、印加電圧を調整して最適状態とするこ
ともできる。いずれにしても、残留電荷が小さく（好ま
しくは最小に）なるような最適値、またはそれに近い値
として、予測される残留電荷に対しこれが小さく（好ま
しくは最小に）なるように、残留電荷を加味した制御を
行う。
を印加し、被吸着体４（ウェーハ）を保持する。このよ
うにパルス状の電圧を印加することにより、被吸着体４
（ウェーハ）の確実な吸着・保持を維持しつつ、従来の
残留電荷が減る。よってこれにより、被吸着体４（ウェ
ーハ）の脱離（ここでは図２のように印加電圧０Ｖで行
う）が容易となる。本例ではこのように、残留電荷が小
さくなり、かつ、保持力を充分に維持できるようにパル
ス状の印加電圧のインターバルを調整したものであり、
場合によっては、印加電圧を調整して最適状態とするこ
ともできる。いずれにしても、残留電荷が小さく（好ま
しくは最小に）なるような最適値、またはそれに近い値
として、予測される残留電荷に対しこれが小さく（好ま
しくは最小に）なるように、残留電荷を加味した制御を
行う。
【００１５】本実施の形態例によれば、被吸着体４であ
るウェーハを確実に吸着・保持でき、かつ容易にウェー
ハを離脱できてウェーハ離脱の時間が短縮できた。すな
わち、従来例では図３のように、印加電圧をウェーハ吸
着・保持の間、一定の電圧を加え、ウェーハ脱離の際電
圧を０Ｖとしていたが、これでも絶縁体及びウェーハに
誘起された電荷が残留してウェーハ脱離を困難にし脱離
時間を長く必要としていたのに対し、本例では、絶縁体
１内の電極２に電圧を印加し、絶縁体２上に被吸着体４
であるウェーハを吸着させる場合に、パルス状に電圧を
印加したことにより被吸着体４（ウェーハ）を確実に吸
着・保持するとともに、容易に被吸着体４（ウェーハ）
を離脱させることができて、これにより被吸着体４（ウ
ェーハ）離脱の時間短縮を可能とした。
るウェーハを確実に吸着・保持でき、かつ容易にウェー
ハを離脱できてウェーハ離脱の時間が短縮できた。すな
わち、従来例では図３のように、印加電圧をウェーハ吸
着・保持の間、一定の電圧を加え、ウェーハ脱離の際電
圧を０Ｖとしていたが、これでも絶縁体及びウェーハに
誘起された電荷が残留してウェーハ脱離を困難にし脱離
時間を長く必要としていたのに対し、本例では、絶縁体
１内の電極２に電圧を印加し、絶縁体２上に被吸着体４
であるウェーハを吸着させる場合に、パルス状に電圧を
印加したことにより被吸着体４（ウェーハ）を確実に吸
着・保持するとともに、容易に被吸着体４（ウェーハ）
を離脱させることができて、これにより被吸着体４（ウ
ェーハ）離脱の時間短縮を可能とした。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
絶縁体内の電極に電圧を印加して該絶縁体上に被吸着体
を吸着し、これを保持する静電チャックにおいて、ウェ
ーハ等の被吸着体の確実な吸着・保持の性能を維持しつ
つ、被吸着体の離脱の際には、これを容易に安定に短時
間で行うことができるという効果が発揮される。
絶縁体内の電極に電圧を印加して該絶縁体上に被吸着体
を吸着し、これを保持する静電チャックにおいて、ウェ
ーハ等の被吸着体の確実な吸着・保持の性能を維持しつ
つ、被吸着体の離脱の際には、これを容易に安定に短時
間で行うことができるという効果が発揮される。
【図１】 本発明の実施の形態例で使用した静電チャッ
ク（単電極静電チャック）の概要を示す構成図である。
ク（単電極静電チャック）の概要を示す構成図である。
【図２】 本発明の実施の形態例１における印加電圧の
状況を示す図である。
状況を示す図である。
【図３】 従来技術における印加電圧の状況を示す図で
ある。
ある。
１・・・絶縁体、２・・・電極、３・・・電源（印加電
圧のパルス状供給が可能）、４・・・被吸着体（ウェー
ハ）。
圧のパルス状供給が可能）、４・・・被吸着体（ウェー
ハ）。
Claims (3)
- 【請求項１】 絶縁体内の電極に電圧を印加して該絶縁
体上に被吸着体を吸着し、これを保持する静電チャック
において、 上記印加電圧をパルス状に供給可能にしたことを特徴と
する静電チャック。 - 【請求項２】 被吸着体を吸着する際に定電圧を印加
し、その後、パルス状の印加電圧を供給して被吸着体を
保持することを特徴とする請求項１に記載の静電チャッ
ク。 - 【請求項３】 上記パルス状の印加電圧について、その
インターバル及び電圧を任意に設定可能としたことを特
徴とする請求項１に記載の静電チャック。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21952397A JPH1167883A (ja) | 1997-08-14 | 1997-08-14 | 静電チャック |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21952397A JPH1167883A (ja) | 1997-08-14 | 1997-08-14 | 静電チャック |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1167883A true JPH1167883A (ja) | 1999-03-09 |
Family
ID=16736822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21952397A Pending JPH1167883A (ja) | 1997-08-14 | 1997-08-14 | 静電チャック |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1167883A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6252758B1 (en) * | 1998-07-06 | 2001-06-26 | Ngk Insulators, Ltd. | Method for reducing particles from an electrostatic chuck and an equipment for manufacturing a semiconductor |
| JP2006060212A (ja) * | 2004-08-16 | 2006-03-02 | Applied Materials Inc | 基板を開放する方法及び装置 |
| EP2352141A1 (en) | 2009-12-09 | 2011-08-03 | Roland Corporation | Key speed sensor of electronic musical instrument |
| WO2013027584A1 (ja) * | 2011-08-19 | 2013-02-28 | 株式会社アルバック | 真空処理装置及び真空処理方法 |
| WO2017182216A1 (en) * | 2016-04-20 | 2017-10-26 | Asml Netherlands B.V. | Substrate support, lithographic apparatus and loading method |
| CN108551713A (zh) * | 2018-03-30 | 2018-09-18 | 成都同明新材料技术有限公司 | 一种静电吸附面板 |
-
1997
- 1997-08-14 JP JP21952397A patent/JPH1167883A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6252758B1 (en) * | 1998-07-06 | 2001-06-26 | Ngk Insulators, Ltd. | Method for reducing particles from an electrostatic chuck and an equipment for manufacturing a semiconductor |
| US6975497B2 (en) | 1998-07-06 | 2005-12-13 | Ngk Insulators, Ltd. | Method for reducing particles from an electrostatic chuck and an equipment for manufacturing a semiconductor |
| JP2006060212A (ja) * | 2004-08-16 | 2006-03-02 | Applied Materials Inc | 基板を開放する方法及び装置 |
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| WO2017182216A1 (en) * | 2016-04-20 | 2017-10-26 | Asml Netherlands B.V. | Substrate support, lithographic apparatus and loading method |
| US11556063B2 (en) | 2016-04-20 | 2023-01-17 | Asml Netherlands B.V. | Substrate support, lithographic apparatus and loading method |
| US12032301B2 (en) | 2016-04-20 | 2024-07-09 | Asml Netherlands B.V. | Substrate support, lithographic apparatus and loading method |
| CN108551713A (zh) * | 2018-03-30 | 2018-09-18 | 成都同明新材料技术有限公司 | 一种静电吸附面板 |
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