JPH117103A - ハロゲン化銀写真感光材料及び磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 現像前及び現像処理時及び現像処理後の支持
体との接着性及び耐傷性に優れたハロゲン化銀写真感光
材料を提供する。更に、磁気ヘッドの通過に対する耐傷
性に優れた磁気記録媒体及び磁気記録層を有するハロゲ
ン化銀写真感光材料を提供する。 【解決手段】 ポリエステル支持体上に少なくとも一層
の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真
感光材料において、該支持体の少なくとも一方の側の表
面に表面処理を施し、その表面処理を施した面に隣接す
る層に下記一般式（Ａ）で表される２−オキサゾリン基
を有する水溶性又は水分散性ポリマーを含有する層を塗
設することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 【化１】 （式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃，Ｒ₄はそれぞれ独立に水素、ハ
ロゲン、アルキル、アラルキル、フェニル又は置換フェ
ニル基を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン化銀写真
感光材料及び磁気記録媒体に関する。詳しくは、現像前
及び現像処理時及び現像処理後の支持体とその隣接層と
の接着性及び耐傷性に優れたハロゲン化銀写真感光材
料、更に、磁気ヘッドの通過に対する耐傷性に優れた磁
気記録媒体及び磁気記録層を有するハロゲン化銀写真感
光材料に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、一般に写真フィルムに擦り傷が入
ると、プリントされた写真画像に不必要な筋が入り商品
価値が失われる。そこで、フィルムを構成する各層の膜
強度を向上させ擦り傷を防止することが行われている。
しかしながら、各層の膜強度が強くても支持体とその隣
接層間及び各層間の接着力が不十分だと、その界面から
剥離を生じ、擦り傷状に膜はがれを起こすことがある。
特に、疎水的なポリエステル支持体とその隣接層との接
着性を達成することは難しい。

【０００３】支持体と隣接層との接着性を向上させる技
術としては支持体表面に予めコロナ放電処理、グロー放
電処理などの前処理を施す技術や支持体隣接層に架橋剤
を添加する技術、或いはこれらの技術を併用することが
知られている。架橋剤の具体例としては特開昭５１−１
０３４２２号公報記載のエポキシ系化合物、特開昭５１
−１１４１２０号公報記載のトリアジン系化合物などを
挙げることができる。

【０００４】しかし、最近のように製造工程、現像前準
備、現像処理、プリント処理がますます高速化するなか
で、ますます擦り傷が付きやすくなり、従来技術では支
持体と隣接層との接着力が不十分となってきた。

【０００５】また、磁気記録媒体においても、支持体と
その隣接層との接着力が不十分だと磁気の書き込みや読
み取りで磁気ヘッドが通過する際に擦り傷が入り、磁気
記録上致命的な欠陥となる。特に、近年は米国特許第
３，７８２，９４７号、同４，２７９，９４５号、同
４，３０２，５２３号の明細書に記載されているよう
に、感光材料の裏面に透明な磁気記録層を設けることが
提案されているが、こうしたハロゲン化銀感光層を有す
る磁気記録媒体は現像処理後にも同様の接着力を維持す
ることが必要であり従来技術では接着力が十分ではなか
った。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
よりなされたものであり、その目的は、現像前及び現像
処理時及び現像処理後の支持体とその隣接層との接着性
及び耐傷性に優れたハロゲン化銀写真感光材料を提供す
ること、更に、磁気ヘッドの通過に対する耐傷性に優れ
た磁気記録媒体及び磁気記録層を有するハロゲン化銀写
真感光材料を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成によって達成される。

【０００８】（１）ポリエステル支持体上に少なくとも
一層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀
写真感光材料において、該支持体の少なくとも一方の側
の表面に表面処理を施し、その表面処理を施した面に隣
接する層に下記一般式（Ａ）で表される２−オキサゾリ
ン基を有する水溶性又は水分散性ポリマーを含有する層
を塗設することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材
料。

【０００９】

【化３】

【００１０】（式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃，Ｒ₄はそれぞれ独
立に水素、ハロゲン、アルキル、アラルキル、フェニル
又は置換フェニル基を表す。） （２）前記支持体がポリエチレンテレフタレート又はポ
リエチレンナフタレートを主成分とすることを特徴とす
る前記（１）記載のハロゲン化銀写真感光材料。

【００１１】（３）前記表面処理がコロナ放電処理又は
グロー放電処理又は紫外線照射処理又は火炎処理である
ことを特徴とする前記（１）又は（２）記載のハロゲン
化銀写真感光材料。

【００１２】（４）２−オキサゾリン基を有するポリマ
ーを含有する層の５重量％以上が２−オキサゾリン基を
有する水溶性ポリマーであることを特徴とする前記
（３）記載のハロゲン化銀写真感光材料。

【００１３】（５）２−オキサゾリン基を有するポリマ
ーを含有する層の１５重量％以上が２−オキサゾリン基
を有する水分散性ポリマーであることを特徴とする前記
（３）記載のハロゲン化銀写真感光材料。

【００１４】（６）２−オキサゾリン基を有するポリマ
ーを含有する層の６０重量％以上が２−オキサゾリン基
を有する水分散性ポリマーであることを特徴とする前記
（５）記載のハロゲン化銀写真感光材料。

【００１５】（７）２−オキサゾリン基を有するポリマ
ーを含有する層を塗設した後、９０〜１５０℃で１分以
上熱処理をすることを特徴とする前記（１）〜（６）の
何れか１項記載のハロゲン化銀写真感光材料。

【００１６】（８）前記表面処理を施した支持体の表面
処理後の表層の酸素原子の原子数％（ａｔｏｍｉｃ％）
が表面処理前に比較して１．５〜１０ａｔｏｍｉｃ％上
昇していることを特徴とする前記（１）〜（７）の何れ
か１項記載のハロゲン化銀写真感光材料。

【００１７】（９）ポリエステル支持体上に少なくとも
一層の磁気記録層を有する磁気記録媒体において、該支
持体の少なくとも一方の側の表面に表面処理を施し、そ
の表面処理を施した面に隣接する層に下記一般式（Ａ）
で表される２−オキサゾリン基を有する水溶性又は水分
散性ポリマーを含有する層を塗設することを特徴とする
磁気記録媒体。

【００１８】

【化４】

【００１９】（式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃，Ｒ₄はそれぞれ独
立に水素、ハロゲン、アルキル、アラルキル、フェニル
又は置換フェニル基を表す。） （１０）前記支持体がポリエチレンテレフタレート又は
ポリエチレンナフタレートを主成分とすることを特徴と
する前記（９）記載の磁気記録媒体。

【００２０】（１１）前記表面処理がコロナ放電処理又
はグロー放電処理又は紫外線照射処理又は火炎処理であ
ることを特徴とする前記（９）又は（１０）記載の磁気
記録媒体。

【００２１】（１２）２−オキサゾリン基を有するポリ
マーを含有する層の５重量％以上が２−オキサゾリン基
を有する水溶性ポリマーであることを特徴とする前記
（１１）記載の磁気記録媒体。

【００２２】（１３）２−オキサゾリン基を有するポリ
マーを含有する層の１５重量％以上が２−オキサゾリン
基を有する水分散性ポリマーであることを特徴とする前
記（１１）記載の磁気記録媒体。

【００２３】（１４）２−オキサゾリン基を有するポリ
マーを含有する層の６０重量％以上が２−オキサゾリン
基を有する水分散性ポリマーであることを特徴とする前
記（１３）記載の磁気録媒体。

【００２４】（１５）２−オキサゾリン基を有するポリ
マーを含有する層を塗設した後、９０〜１５０℃で１分
以上熱処理をすることを特徴とする前記（９）〜（１
４）の何れか１項記載の磁気記録媒体。

【００２５】（１６）前記表面処理を施した支持体の表
面処理後の表層の酸素原子の原子数％（ａｔｏｍｉｃ
％）が表面処理前に比較して１．５〜１０ａｔｏｍｉｃ
％上昇していることを特徴とする前記（９）〜（１５）
記載の磁気記録媒体。

【００２６】以下に本発明について詳述する。

【００２７】なお、オキサゾリン化合物を支持体隣接層
に含有する例が、特開平４−１８１２４４号公報に開示
されている。しかし、ここで開示されている技術は隣接
層バインダー中のカルボキシル基とオキサゾリンの反応
による膜強度向上を狙った技術で、また、表面処理をし
ないことが前提であることから、本発明とは異なった技
術である。この技術では上記事情を満たす支持体と隣接
層との接着力は得られなかった。

【００２８】本発明ではオキサゾリン化合物と表面処理
を組み合わせることで予想以上の接着力が得られ、上記
要求を満たす接着力が得られることを見いだした。詳細
なメカニズムは不明だが、表面処理で支持体表層に生じ
た酸素を含有する基と２−オキサゾリン基との反応性が
非常に高く、支持体と直接架橋することで接着力が得ら
れているのではないかと推察している。

【００２９】本発明の２−オキサゾリン基を有する水溶
性ポリマーは下記一般式（Ａ）で表される２−オキサゾ
リン基をペンダントに有する水溶性ポリマーである。

【００３０】

【化５】

【００３１】式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄はそれぞれ独立
に水素、ハロゲン、アルキル、アラルキル、フェニル又
は置換フェニルを表すが、好ましくは、水素又は低級ア
ルキル基が挙げられる。具体的には、 などが挙げられる。

【００３２】水溶性ポリマーとして特開平５−２９５２
７５号記載の重合体（Ｂ）が挙げられる。具体的には、
２−オキサゾリン基を持つモノマーとして、２−ビニル
−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オ
キサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリ
ン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソ
プロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソ
プロペニル−５−エチル−２−オキサゾリン等と必要に
応じて少なくとも一種の他のモノマーを従来公知の重合
法によって水性媒体中で溶液重合を行うことで合成でき
る。

【００３３】２−オキサゾリン基を持つモノマーの使用
量は特に限定されるものではないが、構成モノマーの３
重量％以上が２−オキサゾリン基を有するモノマーであ
ることが好ましく、５重量％以上１００重量％以下であ
ることがより好ましい。

【００３４】他のモノマーとしては例えばメチルアクリ
レート、エチルアクリレート、ｎ−又はｉ−プロピルア
クリレート、ｎ−，ｉ−又はｔ−ブチルアクリレート、
２−ヒドロキシエチルアクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、ベンジルアクリレート、エチレングリコー
ルジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールアクリレート、α−クロロ
−メチルアクリレート、α−クロロ−エチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ
−又はｉ−プロピルメタクリレート、ｎ−，ｉ−又はｔ
−ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタク
リレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメ
タクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、
プロピレングリコールジメタクリレート、ポリエチレン
グリコールメタクリレート等のアクリレート、メタクリ
レート類、或いはα−クロロ−アクリレート類、メチル
ビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ベンジルビニ
ルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等のビニル
エーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香
酸ビニル等のビニルエステル類、エチルビニルケトン、
シクロヘキシルビニルケトン等のビニルケトン類、スチ
レン、メチルスチレン、クロロスチレン、ジビニルベン
ゼン等のスチレン類、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミ
ド、ｎ−又はｉ−ジプロピルアクリルアミド、ｎ−，ｉ
−又はｔ−ジブチルアクリルアミド等のアクリルアミド
類、塩化ビニル、塩化ビニリデン等のクロロオレフィン
類等を挙げることができる。

【００３５】ただし、ポリマーに水溶性を付与するため
には構成モノマーの５０％以上が親水性モノマーである
ことが必要である。親水性モノマーとしては上記２−オ
キサゾリン基を持つモノマー、および他のモノマーとし
て２−ヒドロキシエチルアクリレート、メトキシポリエ
チレングリコールアクリレート、２−アミノエチルアク
リレートおよびその塩、アクリルアミド、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−ア
クリルアミド、アクリルニトリル、２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメ
タクリレート、アミノエチルメタクリレートおよびその
塩、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミ
ド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−メタクリルアミ
ド、メタクリルニトリル、スチレンスルホン酸ナトリウ
ム等が挙げられる。

【００３６】具体例としては（数値はモル比）、 Ｗ−１：２−イソプロペニル−２−オキサゾリン（１０
０） Ｗ−２：２−ビニル−２−オキサゾリン／エチルアクリ
レート（７０／３０） Ｗ−３：２−イソプロペニル−２−オキサゾリン／２−
ヒドロキシエチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリ
レート（６０／２０／２０） Ｗ−４：２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン／
アクリルアミド（８０／２０） 等を挙げることができるが、これらに限定されるもので
はない。また、市販の水溶性ポリマーも使用することが
でき、例えばエポクロスＷＳ−５００、ＷＳ−３００
（何れも（株）日本触媒）を挙げることができる。

【００３７】本発明の２−オキサゾリン基を有する水分
散性ポリマーは上記一般式（Ａ）で表される２−オキサ
ゾリン基を有する水分散性ポリマーであり、具体的には
特開平２−９９５３７号記載の重合体（Ｂ）が挙げられ
る。

【００３８】具体的には例えば上記のような２−オキサ
ゾリン基を持つモノマーと必要に応じて少なくとも一種
の上記のような他のモノマーを従来公知の乳化重合法や
コア／シェル構造を形成させる乳化重合法等を行うこと
で合成できる。

【００３９】２−オキサゾリン基を持つモノマーの使用
量は特に限定されるものではないが、構成モノマーの３
重量％以上が２−オキサゾリン基を有するモノマーであ
ることが好ましく、５重量％以上１００重量％以下であ
ることがより好ましい。

【００４０】合成方法は例えばＷ．Ｒ．Ｓｏｒｅｎｓｏ
ｎ，Ｔ．Ｗ．Ｃａｍｂｅｌｌ共著（星野敏雄、依田直也
共訳）「高分子合成実験法」１４４，１５２頁（東京化
学同人）に記載の方法によって合成することができる。
また、コア／シェル構造を形成させる乳化重合について
は特開平８−２８６３０１号公報に記載されているよう
な方法で合成できる。

【００４１】具体例としては（数値はモル比）、 Ｐ−１：２−イソプロペニル−２−オキサゾリン／スチ
レン／エチルアクリレート（３０／４０／３０）、 Ｐ−２：２−ビニル−２−オキサゾリン／メチルメタク
リレート／シクロヘキシルメタクリレート（４０／４０
／２０）、 Ｐ−３：２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサ
ゾリン／ｎ−ブチルアクリレート／スチレン（３０／３
５／３５）、 Ｐ−４：２−イソプロペニル−２−オキサゾリン／ｎ−
ブチルアクリレート／スチレン／ジビニルベンゼン（３
０／３０／３０／１０）、 等を挙げることができるが、これらに限定されるもので
はない。また、市販の水分散性ポリマーも使用すること
ができ、エポクロスＫ−１０１０Ｅ、Ｋ−１０２０Ｅ、
Ｋ−１０３０Ｅ、Ｋ−２０１０Ｅ、Ｋ−２０２０Ｅ、Ｋ
−２０３０Ｅ（何れも（株）日本触媒）を挙げることが
できる。

【００４２】次に、本発明に用いられるポリエステル支
持体について説明する。本発明に用いられるポリエステ
ル支持体はジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構
成成分とするポリエステルである。

【００４３】主要な構成成分のジカルボン酸成分として
は、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６−
ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボ
ン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエ
ーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、
シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン
酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニル
ケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸な
どを挙げることができる。また、ジオール成分として
は、エチレングリコール、プロピレングリコール、テト
ラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）プロ
パン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、９，
９−ビス（４，４′−ジ−β−ヒドロキシエチル）フル
オレン、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコー
ル、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙
げることができる。

【００４４】これらを主要な構成成分とするポリエステ
ルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点か
ら、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸及び／又は
２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分とし
て、エチレングリコール及び／又は１，４−シクロヘキ
サンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステル
が好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートユニ
ット、ポリエチレン−２，６−ナフタレートユニットを
含有するポリエステルが好ましい。ポリエステルに対し
てエチレンテレフタレートユニット又はエチレン−２，
６−ナフタレートユニットが７０重量％以上含有されて
いると、透明性、機械的強度、寸法安定性などに高度に
優れたフィルムが得られる。

【００４５】本発明に用いられるポリエステルフィルム
を構成するポリエステルは、本発明の効果を阻害しない
範囲であれば、更に他の共重合成分が共重合されていて
も良いし、他のポリエステルが混合されていても良い。
これらの例としては、先に挙げたジカルボン酸成分やジ
オール成分、又はポリエステルを挙げることができる。

【００４６】本発明に用いられるポリエステルには、ラ
イトパイピング現象を防止する目的で、染料を含有させ
ることが好ましい。このような目的で配合される染料と
しては、その種類に特に限定があるわけではないが、フ
ィルムの製造上、耐熱性に優れていることが必要であ
り、アンスラキノン系やペリノン系の染料が挙げられ
る。また、色調としては、一般の写真感光材料に見られ
るようにグレー染色が好ましい。

【００４７】ポリエステルフィルムの厚みは特に限定が
ある訳ではないが、２０〜１２５μｍ、特に４０〜９０
μｍであることが好ましい。

【００４８】また、ポリエステルフィルムは、ヘーズが
３％以下であることが好ましい。更に好ましくは１％以
下である。ヘーズが３％より大きいとフィルムを写真感
光材料用支持体として用いた場合、写真用印画紙に焼付
けた画像がぼけてしまい不鮮明になる。上記ヘーズは、
ＡＳＴＭ−Ｄ１００３−５２に従って測定したものであ
る。

【００４９】本発明に用いられるポリエステルフィルム
のガラス転移点Ｔｇは、６０℃以上が好ましく、更に７
０℃以上１５０℃以下が好ましい。Ｔｇは示差走査熱量
計で測定することによって求められる。Ｔｇがこの範囲
にあることで、現像処理機の乾燥工程でのフィルムの変
形がなく、現像処理後の巻きぐせカールの小さい感光材
料が得られる。

【００５０】次に、本発明に用いられるポリエステルフ
ィルムの製造方法について説明するが、特に限定される
訳ではない。未延伸シートを得る方法及び縦方向に一軸
延伸する方法は、従来公知の方法で行うことができる。
例えば、原料のポリエステルをペレット状に成型し、熱
風乾燥又は真空乾燥した後、溶融押出し、Ｔダイよりシ
ート状に押出して、静電印加法などにより冷却ドラムに
密着させ、冷却固化させ、未延伸シートを得る。次い
で、得られた未延伸シートを複数のロール群及び／又は
赤外線ヒーターなどの加熱装置を介してポリエステルの
ＴｇからＴｇ＋１００℃の範囲内に加熱し、一段又は多
段縦延伸する方法である。延伸倍率は、通常２．５倍〜
６倍の範囲で、続く横延伸が可能な範囲とする必要があ
る。

【００５１】上記の様にして得られた縦方向に一軸延伸
されたポリエステルフィルムを、Ｔｇ〜Ｔｍ（融点）−
２０℃の温度範囲内で、横延伸し、次いで熱固定する。
横延伸倍率は通常３〜６倍であり、また、縦、横延伸倍
率の比は、得られた二軸延伸フィルムの物性を測定し、
好ましい特性を有するように適宜調整する。一般には巾
方向と長手方向の物性をバランスさせることが好ましい
が、使用目的に応じて変化させても良い。この時、２つ
以上に分割された延伸領域で温度差を１〜５０℃の範囲
で順次昇温しながら横延伸すると巾方向の物性の分布が
低減でき好ましい。更に横延伸後、フィルムを、その最
終横延伸温度以下でＴｇ−４０℃以上の範囲に０．０１
〜５分間保持すると巾方向の物性の分布が更に低減でき
好ましい。

【００５２】熱固定は、その最終横延伸温度より高温
で、Ｔｍ−２０℃以下の温度範囲内で通常０．５〜３０
０秒間熱固定する。この際、２つ以上に分割された領域
で温度差を１〜１００℃の範囲で順次昇温しながら熱固
定することが好ましい。

【００５３】熱固定されたフィルムは通常Ｔｇ以下まで
冷却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし
巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、Ｔｇ以上
の温度範囲内で、巾方向及び／又は長手方向に０．１〜
１０％弛緩処理することが好ましい。また、冷却は、最
終熱固定温度からＴｇまでを、毎秒１００℃以下の冷却
速度で徐冷することが好ましい。

【００５４】これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件の
より最適な条件は、フィルムを構成するポリエステルに
より異なるので、得られた二軸延伸フィルムの物性を測
定し、好ましい特性を有するように適宜調整することに
より決定すればよい。

【００５５】ポリエステルフィルムについては、巻癖を
低減するため種々の方法がとられる。例えば特開昭５１
−１６３５８号に記載されている様に、ポリエステルフ
ィルムのガラス転移点Ｔｇを３０℃乃至５℃下回る温度
で熱処理する方法がある。又、特開平１−１３１５５０
号には、逐次２軸延伸工程において、縦延伸と横延伸の
間でフィルム表裏に温度勾配をつけることで結晶性、配
向性の差を持たせて永久カールをつける方法が記載され
ている。又、製品として巻き取るときにカールと逆向き
に巻き取り製品貯蔵時につく経時カールと相殺する方法
や、延伸時に温度差を持たせて製膜したポリエステルフ
ィルムをガラス転移点以下５０℃以上の温度で熱処理す
る方法も知られている。熱処理で効果的に巻癖が付きに
くくなる支持体は、ガラス転移点が９０℃以上２００℃
以下のポリエステルが好ましい。これは、この熱処理の
効果がガラス転移点を越える温度にさらされると消失す
るため、一般ユーザーが使用する際にさらされる最も高
温（夏季の車中の温度は、８０℃を越える場合もある）
を基準として、９０℃以上のガラス転移点を有すること
が好ましいからである。又、透明性を有しガラス転移点
２００℃を越える汎用ポリエステルフィルムは今のとこ
ろ存在しない。

【００５６】ポリエステルとして特に好ましいものはポ
リエチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレー
トを主成分とする支持体である。該支持体は、ポリエチ
レンテレフタレート又はポリエチレンナフタレート若し
くはその共重合物からなるフィルム又はこれらを原料と
する組成物からなるフィルムである。該支持体は、２軸
延伸後、熱固定処理して用いるのが好ましく、必要によ
り熱弛緩させてもよい。

【００５７】この場合、熱処理は、５０℃以上、ガラス
転移点温度以下の温度で０．１時間以上１５００時間以
下行うことが必要である。このうち特に好ましい熱処理
方法は、例えば、ポリエチレンナフタレートの場合はＴ
ｇが約１２０℃であり、従って１１９℃以下の温度で
０．２〜７２時間熱処理することが好ましく、更に好ま
しいのは１１５℃以下で２４時間程度熱処理することで
ある。特に短時間で熱処理をするために、Ｔｇ以上に一
度昇温し、Ｔｇ近辺で徐々に冷却することが非常に効率
的で好ましい。ポリエチレンナフタレートの場合、一例
として、一度１３０℃以上２００℃の間の温度に保った
後１２５℃まで冷却し、その後１００℃まで４０分間で
徐冷することで熱処理時間を著しく短縮できる。このよ
うな熱処理を行った支持体を示差熱分析計で測定する
と、Ｔｇ近傍に吸熱ピークが出現し、この吸熱ピークが
大きいほど巻癖は付きにくい。又、１００ｍｃａｌ／ｇ
以上、更には２００ｍｃａｌ／ｇ以上となるように熱処
理するのが好ましい。

【００５８】本発明の支持体の表面処理について説明す
る。本発明の表面処理としてはコロナ放電処理、グロー
放電処理、紫外線照射処理、火炎処理、高周波処理、活
性プラズマ処理、レーザー処理などを挙げることができ
るが、なかでもコロナ放電処理、グロー放電処理、紫外
線照射処理、火炎処理が好ましい。

【００５９】表面処理のなかでコロナ放電処理は、最も
よく知られている方法であり、例えば特公昭４８−５０
４３号、同４７−５１９０５号、特開昭４７−２８０６
７号、同４９−８３７６９号、同５１−４１７７０号、
同５１−１３１５７６号等に開示された方法により行う
ことができる。

【００６０】放電周波数は５０Ｈｚ〜５０００ｋＨｚ、
好ましくは５ｋＨｚ〜数１００ｋＨｚが適当である。放
電周波数が小さすぎると、安定な放電が得られずかつ被
処理物にピンホールが生じ、好ましくない。また周波数
が高すぎると、インピーダンスマッチングのための特別
な装置が必要となり、装置の価格が大となり、好ましく
ない。被処理物の処理強度に関しては、０．００１ｋＶ
・Ａ・分／ｍ²〜５ｋＶ・Ａ・分／ｍ²、好ましくは０．
０１ｋＶ・Ａ・分／ｍ²〜１ｋＶ・Ａ・分／ｍ²、が適当
である。電極と誘電体ロールのギャップクリアランスは
０．５〜２．５ｍｍ、好ましくは１．０〜２．０ｍｍが
適当である。

【００６１】多くの場合、最も効果的な表面処理である
グロー放電処理は、従来知られている何れの方法、例え
ば特公昭３５−７５７８号、同３６−１０３３６号、同
４５−２２００４号、同４５−２２００５号、同４５−
２４０４０号、同４６−４３４８０号、米国特許３，０
５７，７９２号、同３，０５７，７９５号、同３，１７
９，４８２号、同３，２８８，６３８号、同３，３０
９，２９９号、同３，４２４，７３５号、同３，４６
２，３３５号、同３，４７５，３０７号、同３，７６
１，２９９号、英国特許９９７，０９３号、特開昭５３
−１２９２６２号等を用いることができる。

【００６２】グロー放電処理条件は、一般に圧力は０．
００５〜２０Ｔｏｒｒ、好ましくは０．０２〜２Ｔｏｒ
ｒが適当である。圧力が低すぎると表面処理効果が低下
し、また圧力が高すぎると過大電流が流れ、スパークが
起こりやすく、危険でもあるし、被処理物を破壊する恐
れもある。放電は、真空タンク中で１対以上の空間を置
いて配置された金属板或いは金属棒間に高電圧を印加す
ることにより生じる。この電圧は、雰囲気気体の組成、
圧力により色々な値をとり得るものであるが、通常上記
圧力範囲内では、５００〜５０００Ｖの間で安定な定常
グロー放電が起こる。接着性を向上せしめるのに特に好
適な電圧範囲は、２０００〜４０００Ｖである。また、
放電周波数として、従来技術に見られるように、直流か
ら数１０００ＭＨｚ、好ましくは５０Ｈｚ〜２０ＭＨｚ
が適当である。放電処理強度に関しては、所望の接着性
能が得られることから０．０１ｋＶ・Ａ・分／ｍ²〜５
ｋＶ・Ａ・分／ｍ²、好ましくは０．１５ｋＶ・Ａ・分
／ｍ²〜１ｋＶ・Ａ・分／ｍ²、が適当である。

【００６３】紫外線照射処理は、例えば特公昭４３−２
６０３号、同４３−２６０４号、同４５−３８２８号記
載の方法により行うことができる。

【００６４】紫外線照射の方法については、光源は被支
持体の表面温度が１５０℃前後にまで上昇することが支
持体性能上問題なければ、主波長が３６５ｎｍの高圧水
銀灯ランプを使用することができる。低温処理が必要と
される場合には主波長が２５４ｎｍの低圧水銀灯が好ま
しい。またオゾンレスタイプの高圧水銀ランプ、及び低
圧水銀ランプを使用する事も可能である。処理光量に関
しては処理光量が多いほど支持体とその隣接層との接着
力は向上するが、光量の増加に伴い支持体が着色し、ま
た支持体が脆くなるという問題が発生する。従って、通
常のポリエステルフィルムには、３６５ｎｍを主波長と
する高圧水銀ランプで、照射光量２０〜１００００（ｍ
Ｊ／ｃｍ²）がよく、より好ましくは５０〜２０００
（ｍＪ／ｃｍ²）である。２５４ｎｍを主波長とする低
圧水銀ランプの場合には、照射光量１００〜１００００
（ｍＪ／ｃｍ²）がよく、より好ましくは３００〜１５
００（ｍＪ／ｃｍ²）である。

【００６５】火災処理について説明する。火災処理に用
いるガスは天然ガス、液化プロパンガス、都市ガスの何
れでも構わないが、空気との混合比が重要である。何故
なら、火災処理による表面処理の効果は活性な酸素を含
むプラズマによって、もたらされると考えられるからで
あり、火災の重要な性質であるプラズマの活性（温度）
と酸素がどれだけ多くあるかがポイントである。このふ
たつを決めているのはガス／酸素比であり、過不足なく
反応する場合がエネルギー密度が最も高くなりプラズマ
の活性が高くなる。具体的には、天然ガス／空気の好ま
しい混合比は容積比で１／６〜１／１０、好ましくは１
／７〜１／９である。また、液化プロパンガス／空気の
場合は１／１４〜１／２２、好ましくは１／１６〜／１
９、都市ガス／空気の場合は１／２〜１／８、好ましく
は１／３〜１／７である。

【００６６】また、火災処理量は１〜５０ｋｃａｌ／ｍ
²、より好ましくは３〜２０ｋｃａｌ／ｍ²の範囲で行う
とよい。またバーナーの内炎の先端と支持体の距離は３
〜７ｃｍ、より好ましくは４〜６ｃｍにするとよい。バ
ーナーのノズル形状は、フリンバーナー社（米国）のリ
ボン式、ワイズ社（米国）の多穴式、エアロジェン（英
国）のリボン式、春日電機（日本）の千鳥型多穴式、小
池酸素（日本）の千鳥型多穴式が好ましい。火災処理に
支持体を支えるバックアップロールは中空型ロールであ
り、冷却水を通して水冷し、常に２０〜５０℃の一定で
処理するのがよい。

【００６７】表面処理前後の支持体表層の酸素原子の原
子数％（ａｔｏｍｉｃ％）はＸＰＳ（Ｘ線光電子分光）
表面分析装置により測定した。以下にその方法を説明す
る。

【００６８】まず、ＸＰＳ表面分析装置を以下の条件に
セットする。

【００６９】 Ｘ線アノード ：Ｍｇ Ｘ線出力 ：６００Ｗ 光電子取り込み角：３０〜６０度 分解能 ：１．５〜１．７ｅＶ （分解能は清浄なＡｇの３ｄ５／２ピークの半値巾で規
定する） なお、試料の固定には、いわゆる粘着テープは使用しな
い。ＸＰＳ表面分析装置の機種としては特に限定はな
く、種々の装置を使用することができるが、本願におい
ては、ＶＧ社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いた。

【００７０】測定は、まずワイドスキャンで元素の定性
を行い、検出された元素について更にナロースキャンを
行い各元素のスペクトルを測定した。この時、データの
取り込み間隔は０．２ｅＶとした。次に、各元素につい
てＣｏｕｎｔ Ｓｃａｌｅのキャリブレーションを行
い、５ポイントのスムージング処理を行う。更に、各元
素についてピークエリア強度（ｃｐｓ＊ｅＶ）を求め、
感度係数で補正し、各元素の原子数％を求めた。

【００７１】なお、Ｘ線光電子分光の測定については、
例えばＤ．ブリックス、Ｍ．Ｐ．シーア編（合志陽一、
志水隆一監訳、表面分析研究会訳）「表面分析−基礎と
応用−」（アグネ承風社）等を参考にできる。

【００７２】本発明の下引層（支持体に隣接する層）に
ついて説明する。

【００７３】本発明で使用できる下引素材は造膜性の良
い素材であれば特に限定されるものではないが、例え
ば、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ビニル
系共重合体、ブタジエン系共重合体、アクリル系共重合
体、ビニリデン系共重合体、エポキシ系共重合体、ゼラ
チンなどを挙げることができ、これらを単独或いは混合
して用いても良い。

【００７４】更に、上記素材に本発明の２−オキサゾリ
ン基を有する水溶性又は水分散性ポリマーを混合させ
る。添加量は水溶性オキサゾリン基含有ポリマーの場合
は５重量％以上が好ましく、水分散性オキサゾリン基含
有ポリマーは１５重量％以上が好ましい。更に、水分散
性オキサゾリン含有ポリマーは６０重量％以上がより好
ましく、また、上記素材とは併用せず、水分散性オキサ
ゾリン含有ポリマー単独で使用しても良い。

【００７５】また、必要に応じて、上記素材に加えてマ
ット剤、界面活性剤、無機微粒子、ｐＨ調整剤等を加え
てもよく、更に、導電性素材を併用して導電性層を兼ね
ても良い。

【００７６】本発明の下引層を塗設する手段について
は、特に制限はなく公知の方法を用いることができる。
また、下引層を塗設するタイミングは支持体製膜中延伸
前或いは延伸後に施されるのが一般的である。

【００７７】また、本発明においては、２−オキサゾリ
ン基を有するポリマーを含有する層塗設後に９０℃〜１
５０℃で１分以上熱処理をすることが好ましい。熱処理
を施すタイミングに特に制限はないが、例えば、該層塗
布乾燥後連続して行うことができる。また、先に述べた
巻ぐせ低減のための熱処理と兼ねて行うこともできる。

【００７８】また、本発明においては、支持体の何れか
の側に少なくとも一層の帯電防止層を有することが好ま
しい。

【００７９】本発明に用いられる導電性層は一般にハロ
ゲン化銀写真感光材料に有用な帯電防止剤、帯電防止組
成物のほとんどを用いることができる。例えば、特公昭
４７−２８９３７号或いは特公昭４９−２３８２８号記
載のスチレン−マレイン酸ナトリウム共重合体、特開昭
５３−８２８７６号記載のビニルベンジルスルホン酸ナ
トリウム共重合体、特公昭４８−２３４５１号記載のス
チレンスルホン酸ナトリウムの重合体或いは共重合体等
のアニオン系帯電防止剤、特開昭５１−４２５３５号、
特開昭５４−１５９２２２号、特開昭５５−７７６３号
記載のアイオネン重合物（例えば、トリエチレンジアミ
ンとキシリデンジクロライドとの重合物）、特許米国特
許第２，８８２，１５７号記載の例えば、ポリメタクロ
イルエチルジエチルメチルアンモニウムメチルスルホネ
ート、特公昭６０−５１６９３号、特開昭６１−２２３
７３６号及び特開昭６２−９３４６号記載の第４級アン
モニウム基を側鎖に持つ架橋型共重合体粒子（例えば、
コポリマー〔Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−Ｎ−ビニルベン
ジルアンモニウムクロライド−コ−ジビニルベンゼ
ン〕）、特開平７−２８１９４号記載のアイオネン重合
体架橋型或いはアイオネン重合体を側鎖に持つ共重合体
粒子等のカチオン帯電防止剤（例えば、ポリビニルベン
ジルクロライドと末端Ｎ−（トリエチレンジアミンとキ
シリデンジクロライドとの重合物）との架橋反応物）、
特公昭５７−１２９７９号に記載のアルミナゾルを主成
分とするもの、特開昭５７−１０４９３１号記載のＺｎ
Ｏ、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｓｉ
Ｏ₂、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ₃、ＺｉＯ₂等の微粒子金
属酸化物、特公昭５５−５９８２号記載のＶ₂Ｏ₅等の金
属酸化物帯電防止剤、特公昭５２−３２５７２号記載の
高級脂肪アルコールリン酸エステル帯電防止剤、特開平
２−２５２７２６号記載のポリ（イソチアナフテン）
系、特開平２−２５５７７０号或いは特開平２−３０８
２４６号記載のポリ（チオフェン）系等の共役二重結合
導電性高分子等が挙げられる。

【００８０】特に、上記記載帯電防止剤のうちスチレン
スルホン酸ナトリウムの共重合体や金属酸化物を主成分
とすることが好ましい。

【００８１】次に、磁気記録層について説明する。磁気
記録層に用いられる磁性体微粉末としては、金属磁性体
粉末、酸化鉄磁性体粉末、Ｃｏドープ酸化鉄磁性体粉
末、二酸化クロム磁性体粉末、バリウムフェライト磁性
体粉末などが使用できる。これらの磁性体粉末の製法は
既知であり、本発明で用いられる磁性体粉末についても
公知の方法に従って製造することができる。

【００８２】磁性体粉末の形状・サイズは特に制限はな
く、広く用いることができる。形状としては針状、米粒
状、球状、立方体状、板状など何れの形状を有するもの
であってもよいが、針状、板状であることが電磁変換特
性上好ましい。結晶子サイズ、比表面積ともに特に制限
はない。磁性体粉末は表面処理されたものであってもよ
い。例えば、チタン、珪素、アルミニウムなどの元素を
含む物質で表面処理されたものでもよいし、カルボン
酸、スルホン酸、硫酸エステル、ホスホン酸、燐酸エス
テル、ベンゾトリアゾールなどの含チッ素複素環をもつ
吸着性化合物のような有機化合物で処理されていてもよ
い。磁性体粉末のｐＨも特に制限はないが、５〜１０の
範囲にあることが好ましい。

【００８３】磁性体粒子のサイズについては、そのサイ
ズと透明性との間に相関があることが「テレビジョン」
第２０巻、第２号「超微粒子半透明磁気記録媒体の特性
とその応用」に記載されている。例えば、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃
の針状粉末においては粒子サイズを小さくすると光透過
率が向上する。

【００８４】米国特許第２，９５０，９７１号明細書に
は、バインダー中に分散された磁性酸化鉄からなる磁気
層が赤外線を透過させることが記載されており、米国特
許第４，２７９，９４５号明細書には、磁気層中におけ
る磁性体粒子の濃度が比較的多い場合にも粒子サイズを
小さくすると波長６３２．８ｎｍのヘリウム・ネオンレ
ーザー光の透過性がよくなることが記載されている。

【００８５】しかしながら、ハロゲン化銀カラー写真感
光材料の画像形成領域に磁気記録層を設ける場合、赤色
領域だけでなく、緑色領域及び青色領域の光透過率も高
くなければならない。

【００８６】このため磁性体粒子の粒径を小さくすると
共に、磁性体粒子の塗設量も制限される。

【００８７】磁性体粒子は、ある程度以上に粒径を小さ
くすると必要な磁気特性が得られなくなる。従って、磁
性体粉末の粒径は必要な磁気特性が得られる範囲で小さ
くすることが好ましい。また、磁性体粒子の塗設量も、
ある程度以上に少なくすると必要な磁気特性が得られな
くなるので、必要な磁気特性が得られる範囲で少なくす
ることが好ましい。

【００８８】実用的には、磁性体粉末の塗設量は０．０
０１〜３ｇ／ｍ²であり、より好ましくは０．０１〜１
ｇ／ｍ²である。

【００８９】磁気記録層に用いるバインダーとしては、
従来、磁気記録媒体用として使用されている公知の熱可
塑性樹脂，放射線硬化性樹脂，熱硬化性樹脂，その他の
反応型樹脂及びこれらの混合物を使用することができ
る。

【００９０】熱可塑性樹脂は、ガラス転移点Ｔｇが−４
０℃〜１５０℃、好ましくは６０℃〜１２０℃であるも
のであり、重量平均分子量は１００００〜３０００００
であるものが好ましく、更に好ましくは、重量平均分子
量が５００００〜２０００００のものである。

【００９１】本発明における磁気記録層のバインダーは
セルロースエステルを主成分とすることが好ましく、具
体的には、セルロースジアセテート、セルロースアセテ
ートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート
等のセルロースアセテート系；硝酸セルロース系；硫酸
セルロース系、及びそれらの混合エステル系等があり、
好ましくはセルロースジアセテート、セルロースアセテ
ートブチレート、セルロースアセテートプロピオネー
ト、特にはセルロースジアセテートである。

【００９２】バインダーは硬膜してもよい。使用できる
硬膜剤としては、アルデヒド化合物類、ケトン化合物
類、反応性のハロゲンを有する化合物類、反応性のオレ
フィンを持つ化合物類、Ｎ−ヒドロキシメチルフタルイ
ミド、Ｎ−メチロール化合物、イソシアナート類、アジ
リジン化合物類、酸誘導体類、エポキシ化合物類、ハロ
ゲンカルボキシアルデヒド類及び無機化合物系硬膜剤を
挙げることができる。

【００９３】硬膜剤は、通常、バインダーに対して０．
０１〜３０重量％用いられ、好ましくは０．０５〜２０
重量％である。

【００９４】磁性体粉末は、必要に応じ溶剤を用いて結
合剤中に分散され、塗布液が形成される。磁性体粉末の
分散にはボールミル、ホモミキサー、サンドミルなどを
用いることができる。この場合、磁性体粒子を破損する
ことなく、できるだけ磁性体粒子一個一個をバラバラに
して分散することが好ましい。

【００９５】光学的に透明な磁気記録層を形成する場合
には、結合剤は、磁性体粉末１重量部に対して１〜２０
重量部用いるのが好ましい。更に好ましくは、磁性体粉
末１重量部に対して２〜１５重量部である。また、溶剤
は塗布が容易に行えるような量で用いられる。

【００９６】磁気記録層の厚みは、０．１〜１０μｍが
好ましく、より好ましくは０．２〜５μｍ、更に好まし
くは０．５〜３μｍである。

【００９７】磁気記録層を形成する塗布液には、磁気記
録層に、潤滑性の付与，帯電防止，接着防止，摩擦・磨
粍特性向上などの機能を持たせるために、潤滑剤，帯電
防止剤など種々の添加剤を添加することができる。ま
た、塗布液には他に、例えば、磁気記録層に柔軟性を与
えるために可塑剤を、塗布液中での磁性体の分散を助け
るために分散剤を、磁気ヘッドの目づまりを防止するた
めの研磨剤を添加することができる。

【００９８】必要に応じて磁気記録層に隣接する最外層
に保護層を設けて耐傷性を向上させてもよい。耐傷性の
付与のためには、一般的に滑り剤として知られる化合物
を用いることができるが、好ましくは高級脂肪酸エステ
ルが挙げられる。また、磁気記録層をストライプ状に設
ける場合、この上に磁性体を含有しない透明なポリマー
層を設けて、磁気記録層による段差をなくしてもよい。
この場合、この透明なポリマー層に上記の各種の機能を
持たせてもよい。

【００９９】本発明の感光材料のハロゲン化銀乳剤は、
例えばリサーチ・ディスクロージャー（以下「ＲＤ」と
略記する）Ｎｏ．１７６４３、２２〜２３頁（１９７８
年１２月）“Ｉ．乳剤製造（Ｅｍｕｌｓｉｏｎ ｐｒｅ
ｐａｒａ−ｔｉｏｎ ａｎｄｔｙｐｅｓ）”及び同Ｎ
ｏ．１８７１６、６４８頁、グラフキデ著『写真の物理
と化学』ポールモンテル社刊（Ｐ．Ｇｌａｆｋｉｄｅ
ｓ，Ｃｈｅｍｉｃ ｅｔＰｈｉｓｉｑｕｅ Ｐｈｏｔｏ
ｇｒａｐｈｉｑｕｅ，Ｐａｕｌ Ｍｏｎｔｅｌ，１９６
７）、ダフィン著『写真乳剤化学』フォーカルプレス社
刊（Ｇ．Ｆ．Ｄｕｆｆｉｎ，Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ
Ｅｍｕｌｓｉｏｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｆｏｃａｌ
Ｐｒｅｓｓ １９６６）、ゼリクマンら著『写真乳剤
製造と塗布』フォーカルプレス社刊（Ｖ．Ｌ．Ｚｅｌｉ
ｋｍａｎ ｅｔ ａｌ，Ｍａｋｉｎｇ ａｎｄ Ｃｏａ
ｔｉｎｇ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｅｍｕｌｓｉｏ
ｎ，Ｆｏｃａｌ Ｐｒｅｓｓ，１９６４）などに記載さ
れた方法を用いて調製することができる。

【０１００】乳剤は米国特許３，５７４，６２８号明細
書、同３，６６５，３９４号明細書及び英国特許１，４
１３，７４８号明細書に記載された単分散乳剤も好まし
い。

【０１０１】ハロゲン化銀乳剤には、物理熟成、化学熟
成及び分光増感を行うことができる。このような工程で
使用される添加剤は、ＲＤＮｏ．１７６４３，同Ｎｏ．
１８７１６及び同Ｎｏ．３０８１１９（それぞれ、以下
ＲＤ１７６４３、ＲＤ１８７１６及びＲＤ３０８１１９
と略す）に記載されている。

【０１０２】本発明の感光材料がカラー写真感光材料で
ある場合、使用することができる写真用添加剤も上記Ｒ
Ｄに記載されている。また、種々のカプラーを使用する
ことができ、その具体例もＲＤ１７６４３及びＲＤ３０
８１１９に記載されている。

【０１０３】また、これら添加剤は、ＲＤ３０８１１９
１００７頁 XIV項に記載されている分散法などによ
り、写真感光層に添加することができる。

【０１０４】カラー写真感光材料には、前述のＲＤ３０
８１１９ II−Ｋ項に記載されているフィルター層や中
間層などの補助層を設けることができる。

【０１０５】カラー写真感光材料を構成する場合、前述
のＲＤ３０８１１９ VII−Ｋ項に記載されている順
層、逆層、ユニット構成などの様々な層構成をとること
ができる。

【０１０６】この発明のハロゲン化銀写真感光材料を現
像処理するには、例えばＴ．Ｈ．ジェームズ著、セオリ
イオブザホトグラフィックプロセス第４版（Ｔｈｅ Ｔ
ｈｅｏｒｙ ｏｆ Ｔｈｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｆｉｃ
Ｐｒｏｃｅｓｓ ＦｏｒｔｈＥｄｉｔｉｏｎ）第２９１
頁〜第３３４頁及びジャーナルオブザアメリカンケミカ
ルソサエティ（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅ
ｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ）第７
３巻、第３，１００頁（１９５１）に記載されている、
それ自体公知の現像剤を使用することができる。また、
カラー写真感光材料は前述のＲＤ１７６４３ ２８〜２
９頁，ＲＤ１８７１６ ６１５頁及びＲＤ３０８１１９
XIXに記載された通常の方法によって、現像処理する
ことができる。

【０１０７】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。

【０１０８】実施例１ 〈支持体の作製〉２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメ
チル１００重量部、エチレングリコール６０重量部にエ
ステル交換触媒として酢酸カルシウム水和物０．１重量
部を添加し、常法に従ってエステル交換反応を行った。
得られた生成物に、三酸化アンチモン０．０５重量部、
リン酸トリメチルエステル０．０３重量部を添加した。
次いで徐々に昇温、減圧にし、２９０℃、０．０５ｍｍ
Ｈｇの条件で重合を行ない固有粘度０．６０のポリエチ
レン−２，６−ナフタレートを得た。

【０１０９】これを、１５０℃で８時間真空乾燥した
後、３００℃でＴダイから層状に溶融押出し、５０℃の
冷却ドラム上に静電印加しながら密着させ、冷却固化さ
せ、未延伸シートを得た。この未延伸シートをロール式
縦延伸機を用いて、１３５℃で縦方向に３．３倍延伸し
た。

【０１１０】得られた一軸延伸フィルムをテンター式横
延伸機を用いて、第一延伸ゾーン１４５℃で総横延伸倍
率の５０％延伸し、更に第二延伸ゾーン１５５℃で総横
延伸倍率３．３倍となるように延伸した。次いで、１０
０℃で２秒間熱処理し、更に第一熱固定ゾーン２００℃
で５秒間熱固定し、第二熱固定ゾーン２４０℃で１５秒
間熱固定した。次いで、横方向に５％弛緩処理しながら
室温まで３０秒かけて徐冷して、厚さ８５μｍのポリエ
チレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルムを得た。

【０１１１】これをステンレス製のコアに巻き付け、１
１０℃で４８時間熱処理して支持体を作製した。

【０１１２】更に、厚さ９０μｍのポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）フィルムを用意した。

【０１１３】こうして得られた支持体の片面に表１記載
の強度でコロナ放電処理等の表面処理を行う。その下引
き層上に、本発明の２−オキサゾリン基含有ポリマーを
含有する下引き層として、下記下引素材、架橋剤を表１
記載の比率になるように混合し、更に化合物ＵＬ−１
（後述）を固形分の１ｗｔ％になるよう添加した液を乾
燥膜厚０．２μｍになるように塗布、乾燥した。

【０１１４】更に、その下引き層上にコロナ放電処理
（１２Ｗ／ｍ²／ｍｉｎ）を施し、記録材料構成層とし
て導電層塗布液Ａ−１を乾燥膜厚０．２μｍになるよう
塗布、乾燥し、引き続き表１記載の条件で熱処理を行い
試料Ｎｏ．１０１〜１１９を得た。なお、乾燥は何れも
９０℃で１０秒間行った。

【０１１５】次に、０．１Ｔｏｒｒ，Ｏ₂分圧７０％、
放電周波数２０ｋＨｚ、出力２５００Ｗ、処理強度０．
５ｋＶ・Ａ・分／ｍ²で５秒間、グロー放電処理を行
い、以下は同様にして試料Ｎｏ．１２０を得た。

【０１１６】また、支持体から１０ｃｍの距離に平行に
備え付けられた巾５０ｃｍ、アーク長３０ｃｍの３６５
ｎｍを主波長とする円筒状１ｋＷの石英製高圧水銀ラン
プを用いて２分間空気中１１０℃で紫外線照射処理を行
い、以下は同様にして試料Ｎｏ．１２１を得た。

【０１１７】更に、液化プロパンガス／空気の混合比１
／１７、火炎処理量１５ｋｃａｌ／ｍ²で火炎処理を行
い、以下は同様にして試料Ｎｏ．１２２を得た。

【０１１８】〈下引素材〉 Ｂ−１：ブチルアクリレート６０重量％、スチレン３０
重量％、アクリル酸１０重量％の共重合ラテックス液
（固形分３０％） Ｂ−２：ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０
重量％、グリシジルメタクリレート４０重量％の共重合
ラテックス液（固形分３０％） Ｂ−３：ゼラチン Ｂ−４：水分散液Ａ （ジカルボン酸成分としてテレフタル酸ジメチル６０モ
ル％、イソフタル酸ジメチル３０モル％、５−スルホイ
ソフタル酸ジメチルのナトリウム塩１０モル％、グリコ
ール成分としてエチレングリコール５０モル％、ジエチ
レングリコール５０モル％を常法により共重合した。こ
の共重合体Ａを９５℃の熱水中で３時間撹拌し、１５重
量％の水分散液Ａとした。） 〈架橋剤〉 Ｈ−１：（下記構造を有する比較用化合物） Ｈ−２：エポクロスＫ２０２０Ｅ（（株）日本触媒）
（前述本発明に係る化合物） Ｈ−３：エポクロスＷＳ３００（（株）日本触媒）（前
述本発明に係る化合物） Ｈ−４：エポクロスＷＳ５００（（株）日本触媒）（前
述本発明に係る化合物）

【０１１９】

【化６】

【０１２０】 〈導電層塗布液Ａ−１〉 酸化スズ−酸化アンチモン複合微粒子（平均粒径０．２μｍ） ４４ｇ 水分散液Ａ（上記記載） １０９ｇ 上記化合物（ＵＬ−１） ０．４ｇ 水で仕上げる １０００ｍｌ 得られたサンプルを以下の評価法で評価した。その結果
を表１に示す。

【０１２１】（支持体とその隣接層との接着性）サンプ
ル３枚を切り出し、１枚はそのままで２３℃５５％ＲＨ
で１２時間放置した。もう１枚は３８℃に調整した下記
の発色現像液に３分１５秒間処理し、流水で３分間水洗
し、乾燥後、２３℃５５％ＲＨで１２時間放置した。そ
の後、各サンプルについて塗布面に先端の直径が１５０
μｍのサファイア針を垂直にあて、連続荷重で２０〜１
２０ｇをかけて１０ｍｍ／秒の速度で引っかいた。更に
もう１枚は同様に３分１５秒間発色現像液で処理した後
すぐに、ｗｅｔな状態で上記と同様にサファイア針で引
っかいた。引っかき後の各サンプルを１００倍の光学顕
微鏡で観察し、支持体と下引層の間で剥離が始まった荷
重を支持体とその隣接層との接着性とした。数値が大き
いほど接着は良好で７０以上あれば実用に耐えるが、好
ましくは１００以上である。

【０１２２】 〈発色現像液〉 水 ８００ｍｌ 炭酸カリウム ３０ｇ 炭酸水素ナトリウム ２．５ｇ 亜硫酸カリウム ３．０ｇ 臭化ナトリウム １．３ｇ 沃化カリウム １．２ｍｇ ヒドロキシルアミン硫酸塩 ２．５ｇ 塩化ナトリウム ０．６ｇ ４−アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−（β−ヒドロキシルエチル） アニリン硫酸塩 ４．５ｇ ジエチレントリアミン五酢酸 ３．０ｇ 水酸化カリウム １．２ｇ 水を加えて１リットルとし、水酸化カリウム又は２０％
硫酸を用いて発色現像液はｐＨ１０．０６に、補充液は
ｐＨ１０．１８に調整する。

【０１２３】

【表１】

【０１２４】表１の結果から従来の架橋剤に比べ、２−
オキサゾリン基を有するポリマーを含有した層は、表面
処理により支持体との接着力が大きく向上していること
がわかった。本発明内の試料は、処理前、処理中、処理
後何れにおいても支持体とその隣接層との接着が優れて
いた。特に、２−オキサゾリン基を有する水溶性ポリマ
ーを５ｗｔ％以上含有する試料、２−オキサゾリン基を
有する水分散性ポリマーを６０ｗｔ％以上有する試料、
９０℃、１分以上熱処理を施された試料、表面処理後に
表層の酸素原子の原子数％（ａｔ％）が１．５ａｔ％以
上増加している試料は良好であった。

【０１２５】実施例２ 実施例１の各試料の導電性層上に磁気記録層（塗布液Ｍ
−１、乾燥膜厚０．８μｍ）、滑り層（塗布液Ｏ−１、
乾燥膜厚０．２μｍ）をこの順に設け、試料Ｎｏ．２０
１〜２２２を得た。

【０１２６】 〈塗布液Ｍ−１〉 磁性体（Ｃｏ−被着γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、抗磁力９００ Ｏｅ、 表面積４０ｍ²／ｇ、短軸０．０３μｍ） ４．８重量部 結合剤 セルロースジアセテート （酢化度５５％、重量平均分子量１８０，０００） １００重量部 トリレンジイソシアネート １７．０重量部 研磨粒子Ａ（ｒ₂／ｒ₁＝１．１、Ａｌ₂Ｏ₃、中心粒径０．８μｍ） １．２重量部 アセトン １１３０．０重量部 シクロヘキサノン ２８０．０重量部 を混合し、デイゾルバーで１時間混和し、その後サンド
ミルで２時間分散して分散液とした。

【０１２７】 〈塗布液Ｏ−１〉 カルナウバワックス ７ｇ トルエン ７００ｇ メチルエチルケトン ３００ｇ 得られた試料の磁気ヘッド通過に対する耐傷性（磁気ヘ
ッド耐傷性と略す）を以下の方法で評価し、結果を表２
に示す。

【０１２８】（磁気ヘッド耐傷性）ＨＥＩＤＯＮＮ−１
４ＤＲ（新東科学（株）製）を用いてヘッド荷重３００
ｇ、速度１００ｍｍ／秒でフィルム上を１００パスさせ
る。その後、傷の状態を下記の３段階で評価し、表２に
示す。

【０１２９】Ａ：傷なし Ｂ：弱い傷 Ｃ：強い傷

【０１３０】

【表２】

【０１３１】なお、傷が生じた試料について傷跡を走査
型電子顕微鏡で観察したところ、傷は何れも支持体とそ
の隣接層との剥離により生じていた。

【０１３２】表２の結果から本発明内の試料は、磁気ヘ
ッド耐傷性に優れていた。特に、２−オキサゾリン基を
有する水溶性ポリマーを５ｗｔ％以上含有する試料、２
−オキサゾリン基を有する水分散性ポリマーを６０ｗｔ
％以上有する試料、９０℃、１分以上熱処理を施された
試料、表面処理後に表層の酸素原子の原子数％（ａｔ
％）が１．５ａｔ％以上増加している試料は良好であっ
た。

【０１３３】実施例３ 支持体の両面に実施例１の各試料と同様の下引き層を設
ける。さらに、片方の面には記録材料構成層として実施
例１と同様に導電性層を、他方の面には記録材料構成層
として、下引き層上に１２Ｗ／ｍ²／ｍｉｎのコロナ放
電処理を施した後、下記加工液Ａ−２を乾燥膜厚０．１
μｍになるように塗設、その後、実施例１と同様の熱処
理を施す。更に、導電性層を設けた側に実施例２と同じ
磁性層、滑り層を設け、逆の面には市販されているコニ
カ（株）製カラーネガフィルムコニカカラーＬＶ４００
と同一の写真乳剤層を設け、試料Ｎｏ．３０１〜３２２
を得た。

【０１３４】 加工液Ａ−２ ゼラチン １０ｇ 前記化合物（ＵＬ−１） ０．２ｇ 下記化合物（ＵＬ−２） ０．２ｇ シリカ粒子（平均粒径３μｍ） ０．１ｇ 下記架橋剤 Ｈ−５ １ｇ 水で仕上げる １０００ｍｌ

【０１３５】

【化７】

【０１３６】各試料について下記の方法で現像処理を施
し、その後、実施例２と同様の方法で磁性層を設けた面
の現像処理後の磁気ヘッド耐傷性を評価した。

【０１３７】 〈現像処理〉 １． カラー現像 ・・・・ ３分１５秒 ３８．０±０．１℃ ２． 漂 白 ・・・・ ６分３０秒 ３８．０±３．０℃ ３． 水 洗 ・・・・ ３分１５秒 ２４〜４１℃ ４． 定 着 ・・・・ ６分３０秒 ３８．０±３．０℃ ５． 水 洗 ・・・・ ３分１５秒 ２４〜４１℃ ６． 安 定 ・・・・ ３分１５秒 ３８．０±３．０℃ ７． 乾 燥 ・・・・ ５０℃以下 各工程に用いる処理液組成を以下に示す。

【０１３８】 〈発色現像液〉 ４−アミノ・３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−（β−ヒドロキシエチル） アニリン・硫酸塩 ４．７５ｇ 無水亜硫酸ナトリウム ４．２５ｇ ヒドロキシルアミン・１／２硫酸塩 ２．０ｇ 無水炭酸カリウム ３７．５ｇ 臭化ナトリウム １．３ｇ ニトリロ三酢酸・ナトリウム塩（１水塩） ２．５ｇ 水酸化カリウム １．０ｇ 水を加えて１リットルとする（ｐＨ＝１０．１） 〈漂白液〉 エチレンジアミン四酢酸鉄（III）アンモニウム塩 １００．０ｇ エチレンジアミン四酢酸２アンモニウム塩 １０．０ｇ 臭化アンモニウム １５０．０ｇ 氷酢酸 １０．０ｇ 水を加えて１リットルとし、アンモニア水を用いてｐＨ６．０に調整する。

【０１３９】 〈定着液〉 チオ硫酸アンモニウム １７５．０ｇ 無水亜硫酸ナトリウム ８．５ｇ メタ亜硫酸ナトリウム ２．３ｇ 水を加えて１リットルとし、酢酸を用いてｐＨ６．０に調整する。

【０１４０】 〈安定液〉 ホルマリン（３７％水溶液） １．５ｍｌ コニダックス（コニカ株式会社製） ７．５ｍｌ 水を加えて１リットルとする。

【０１４１】更に、各サンプルの乳剤層側の現像前、現
像中、現像後の支持体と下引の接着性を下記の方法で評
価した。評価結果を表３に示す。

【０１４２】（ハロゲン化銀感光材料の支持体とその隣
接層との接着性）サンプル３枚を切り出し、１枚はその
ままで２３℃５５％ＲＨで１２時間放置した。もう１枚
は上記方法で現像処理を施し、その後に２３℃５５％Ｒ
Ｈで１２時間放置した。その後、各サンプルについて塗
布面に先端の直径が２５μｍのサファイア針を垂直にあ
て、連続荷重で０〜１００ｇをかけて１０ｍｍ／秒の速
度で引っかいた。更にもう１枚は同様に３分１５秒間発
色現像液で処理した後すぐに、ｗｅｔな状態で上記と同
様にサファイア針で引っかいた。引っかき後の各サンプ
ルを１００倍の光学顕微鏡で観察し、支持体と下引層の
間で剥離が始まった荷重を支持体とその隣接層との接着
性とした。数値が大きいほど接着は良好である。

【０１４３】

【表３】

【０１４４】表３の結果から本発明のサンプルは、処理
前、処理中、処理後何れにおいても支持体とその隣接層
との接着が優れており、また、現像処理後にも磁気ヘッ
ド耐傷性に優れていた。特に、２−オキサゾリン基を有
する水溶性ポリマーを５ｗｔ％以上含有するサンプル、
２−オキサゾリン基を有する水分散性ポリマーを６０ｗ
ｔ％以上有するサンプル、９０℃、１分以上熱処理を施
されたサンプル、表面処理後に表層の酸素原子の原子数
％（ａｔ％）が１．５ａｔ％以上増加しているサンプル
は良好であった。

【０１４５】

【発明の効果】本発明により、現像前及び現像処理時及
び現像処理後の支持体との接着性及び耐傷性に優れたハ
ロゲン化銀写真感光材料を提供することが出来る。更
に、磁気ヘッドの通過に対する耐傷性に優れた磁気記録
媒体及び磁気記録層を有するハロゲン化銀写真感光材料
を提供することが出来る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ１１Ｂ 5/704 Ｇ１１Ｂ 5/704 // Ｃ０８Ｊ 7/00 ３０１ Ｃ０８Ｊ 7/00 ３０１ ３０２ ３０２ 7/04 ＣＦＤ 7/04 ＣＦＤＧ

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポリエステル支持体上に少なくとも一層
   の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真
   感光材料において、該支持体の少なくとも一方の側の表
   面に表面処理を施し、その表面処理を施した面に隣接す
   る層に下記一般式（Ａ）で表される２−オキサゾリン基
   を有する水溶性又は水分散性ポリマーを含有する層を塗
   設することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 【化１】 （式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃，Ｒ₄はそれぞれ独立に水素、ハ
   ロゲン、アルキル、アラルキル、フェニル又は置換フェ
   ニル基を表す。）
2. 【請求項２】 前記支持体がポリエチレンテレフタレー
   ト又はポリエチレンナフタレートを主成分とすることを
   特徴とする請求項１記載のハロゲン化銀写真感光材料。
3. 【請求項３】 前記表面処理がコロナ放電処理又はグロ
   ー放電処理又は紫外線照射処理又は火炎処理であること
   を特徴とする請求項１又は２記載のハロゲン化銀写真感
   光材料。
4. 【請求項４】 ２−オキサゾリン基を有するポリマーを
   含有する層の５重量％以上が２−オキサゾリン基を有す
   る水溶性ポリマーであることを特徴とする請求項３記載
   のハロゲン化銀写真感光材料。
5. 【請求項５】 ２−オキサゾリン基を有するポリマーを
   含有する層の１５重量％以上が２−オキサゾリン基を有
   する水分散性ポリマーであることを特徴とする請求項３
   記載のハロゲン化銀写真感光材料。
6. 【請求項６】 ２−オキサゾリン基を有するポリマーを
   含有する層の６０重量％以上が２−オキサゾリン基を有
   する水分散性ポリマーであることを特徴とする請求項５
   記載のハロゲン化銀写真感光材料。
7. 【請求項７】 ２−オキサゾリン基を有するポリマーを
   含有する層を塗設した後、９０〜１５０℃で１分以上熱
   処理をすることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項
   記載のハロゲン化銀写真感光材料。
8. 【請求項８】 前記表面処理を施した支持体の表面処理
   後の表層の酸素原子の原子数％（ａｔｏｍｉｃ％）が表
   面処理前に比較して１．５〜１０ａｔｏｍｉｃ％上昇し
   ていることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項記載
   のハロゲン化銀写真感光材料。
9. 【請求項９】 ポリエステル支持体上に少なくとも一層
   の磁気記録層を有する磁気記録媒体において、該支持体
   の少なくとも一方の側の表面に表面処理を施し、その表
   面処理を施した面に隣接する層に下記一般式（Ａ）で表
   される２−オキサゾリン基を有する水溶性又は水分散性
   ポリマーを含有する層を塗設することを特徴とする磁気
   記録媒体。 【化２】 （式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃，Ｒ₄はそれぞれ独立に水素、ハ
   ロゲン、アルキル、アラルキル、フェニル又は置換フェ
   ニル基を表す。）
10. 【請求項１０】 前記支持体がポリエチレンテレフタレ
    ート又はポリエチレンナフタレートを主成分とすること
    を特徴とする請求項９記載の磁気記録媒体。
11. 【請求項１１】 前記表面処理がコロナ放電処理又はグ
    ロー放電処理又は紫外線照射処理又は火炎処理であるこ
    とを特徴とする請求項９又は１０記載の磁気記録媒体。
12. 【請求項１２】 ２−オキサゾリン基を有するポリマー
    を含有する層の５重量％以上が２−オキサゾリン基を有
    する水溶性ポリマーであることを特徴とする請求項１１
    記載の磁気記録媒体。
13. 【請求項１３】 ２−オキサゾリン基を有するポリマー
    を含有する層の１５重量％以上が２−オキサゾリン基を
    有する水分散性ポリマーであることを特徴とする請求項
    １１記載の磁気記録媒体。
14. 【請求項１４】 ２−オキサゾリン基を有するポリマー
    を含有する層の６０重量％以上が２−オキサゾリン基を
    有する水分散性ポリマーであることを特徴とする請求項
    １３記載の磁気録媒体。
15. 【請求項１５】 ２−オキサゾリン基を有するポリマー
    を含有する層を塗設した後、９０〜１５０℃で１分以上
    熱処理をすることを特徴とする請求項９〜１４の何れか
    １項記載の磁気記録媒体。
16. 【請求項１６】 前記表面処理を施した支持体の表面処
    理後の表層の酸素原子の原子数％（ａｔｏｍｉｃ％）が
    表面処理前に比較して１．５〜１０ａｔｏｍｉｃ％上昇
    していることを特徴とする請求項９〜１５の何れか１項
    記載の磁気記録媒体。