JPH1171336A - アミド誘導体 - Google Patents
アミド誘導体Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 抗ヘリコバクター・ピロリ活性を有し、消化
器疾患の治療のための医薬の有効成分として有用な化合
物を提供する。 【解決手段】 下記式(I)(R1 はC3 〜C8 のシク
ロアルキル基、置換基を有していてもよいC6 〜C14の
アリール基などを表わし;R2 及びR3 は水素原子若し
くはC1 〜C5 のアルキル基などを表わし;R4 及びR
5 は水素原子又はC1 〜C5 のアルキル基を表わし;R
6 は水素原子、水酸基で置換されていてもよいC1 〜C
5 のアルキル基、水酸基、又はC1 〜C5 のアルコキシ
基を表わす)で示される化合物又はその塩。 【化1】
器疾患の治療のための医薬の有効成分として有用な化合
物を提供する。 【解決手段】 下記式(I)(R1 はC3 〜C8 のシク
ロアルキル基、置換基を有していてもよいC6 〜C14の
アリール基などを表わし;R2 及びR3 は水素原子若し
くはC1 〜C5 のアルキル基などを表わし;R4 及びR
5 は水素原子又はC1 〜C5 のアルキル基を表わし;R
6 は水素原子、水酸基で置換されていてもよいC1 〜C
5 のアルキル基、水酸基、又はC1 〜C5 のアルコキシ
基を表わす)で示される化合物又はその塩。 【化1】
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はヘリコバクター・ピ
ロリに対して特異的な抗菌作用を有する新規なアミド誘
導体に関する。
ロリに対して特異的な抗菌作用を有する新規なアミド誘
導体に関する。
【0002】
【従来の技術】ヘリコバクター・ピロリは、近年人の胃
粘膜より分離されたグラム陰性の微好気性細菌であり、
消化管における炎症、潰瘍の形成及び再発、さらには胃
癌との関連が示唆される報告が数多く発表されている
(Molecular Medicine、31巻、1
304−1374ページ、1994年)。
粘膜より分離されたグラム陰性の微好気性細菌であり、
消化管における炎症、潰瘍の形成及び再発、さらには胃
癌との関連が示唆される報告が数多く発表されている
(Molecular Medicine、31巻、1
304−1374ページ、1994年)。
【0003】これまで、消化管の潰瘍の治療には、H2
ブロッカーやプロトンポンプインヒビターなどの薬剤が
用いられてきたが、上述のヘリコバクター・ピロリ感染
と胃潰瘍の関連が明らかになりつつあるため、特に再発
予防の観点からアモキシシリンなどの抗菌剤が併用され
るようになってきている。しかしながら、現在用いられ
ている抗菌剤で完全に除菌できた例は少なく、また、抗
菌スペクトルが広いために腸内細菌等にも影響を与え、
下痢などの副作用が頻発している。したがって、消化管
内での抗菌力が強く、かつヘリコバクター・ピロリに対
して特異的な抗菌剤の開発が望まれている。
ブロッカーやプロトンポンプインヒビターなどの薬剤が
用いられてきたが、上述のヘリコバクター・ピロリ感染
と胃潰瘍の関連が明らかになりつつあるため、特に再発
予防の観点からアモキシシリンなどの抗菌剤が併用され
るようになってきている。しかしながら、現在用いられ
ている抗菌剤で完全に除菌できた例は少なく、また、抗
菌スペクトルが広いために腸内細菌等にも影響を与え、
下痢などの副作用が頻発している。したがって、消化管
内での抗菌力が強く、かつヘリコバクター・ピロリに対
して特異的な抗菌剤の開発が望まれている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題及び課題を解決するため
の手段】そこで本発明らは、新規な抗ヘリコバクター・
ピロリ剤の研究を進めた結果、下記の一般式で表される
化合物がヘリコバクター・ピロリに対して優れた抗菌作
用を有しており、消化管内で強い抗菌作用を発揮するこ
とができることを見出した。本発明は上記の知見を基に
して完成されたものである。
の手段】そこで本発明らは、新規な抗ヘリコバクター・
ピロリ剤の研究を進めた結果、下記の一般式で表される
化合物がヘリコバクター・ピロリに対して優れた抗菌作
用を有しており、消化管内で強い抗菌作用を発揮するこ
とができることを見出した。本発明は上記の知見を基に
して完成されたものである。
【0005】すなわち、本発明は、下記一般式(I):
【化2】 (式中、R1 はC3 〜C8 のシクロアルキル基、置換基
を有していてもよいC6〜C14のアリール基、置換基を
有していてもよい複素環残基、置換基を有していてもよ
いC6 〜C14のアリールオキシ基、又は置換基を有して
いてもよいC7 〜C15のアリールメチル基を表わし;R
2 及びR3 はそれぞれ独立して水素原子若しくはC1 〜
C5 のアルキル基を表わすか、又はR2 とR3 はいっし
ょになってC2 〜C7 のアルキレン基を表わし;R4 及
びR5 はそれぞれ独立して水素原子又はC1 〜C5 のア
ルキル基を表わし;R6 は水素原子、水酸基で置換され
ていてもよいC1 〜C5 のアルキル基、水酸基、又はC
1 〜C5 のアルコキシ基を表わす)で示されるアミド誘
導体若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそ
れらの水和物を提供するものである。
を有していてもよいC6〜C14のアリール基、置換基を
有していてもよい複素環残基、置換基を有していてもよ
いC6 〜C14のアリールオキシ基、又は置換基を有して
いてもよいC7 〜C15のアリールメチル基を表わし;R
2 及びR3 はそれぞれ独立して水素原子若しくはC1 〜
C5 のアルキル基を表わすか、又はR2 とR3 はいっし
ょになってC2 〜C7 のアルキレン基を表わし;R4 及
びR5 はそれぞれ独立して水素原子又はC1 〜C5 のア
ルキル基を表わし;R6 は水素原子、水酸基で置換され
ていてもよいC1 〜C5 のアルキル基、水酸基、又はC
1 〜C5 のアルコキシ基を表わす)で示されるアミド誘
導体若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそ
れらの水和物を提供するものである。
【0006】別の観点からは、本発明により、上記のア
ミド誘導体及び薬学的に許容されるその塩、並びにそれ
らの溶媒和物及びそれらの水和物からなる群から選ばれ
る物質を有効成分として含む医薬、好ましくは胃疾患
(例えば胃炎、胃潰瘍、又は胃癌など)の治療のための
医薬が提供される。この医薬は、好ましくは、有効成分
である上記の物質と薬学的に許容される1又は2以上の
製剤用添加物とを含む医薬組成物として提供される。ま
た、この医薬は抗ヘリコバクター・ピロリ剤として、ヘ
リコバクター・ピロリの感染が関与する消化器疾患(例
えば、胃炎、胃潰瘍、胃癌、胃の悪性リンパ腫、MAL
Tリンパ腫、十二指腸潰瘍、十二指腸癌、又は腸炎な
ど)の治療及び/又は予防に使用することができる。
ミド誘導体及び薬学的に許容されるその塩、並びにそれ
らの溶媒和物及びそれらの水和物からなる群から選ばれ
る物質を有効成分として含む医薬、好ましくは胃疾患
(例えば胃炎、胃潰瘍、又は胃癌など)の治療のための
医薬が提供される。この医薬は、好ましくは、有効成分
である上記の物質と薬学的に許容される1又は2以上の
製剤用添加物とを含む医薬組成物として提供される。ま
た、この医薬は抗ヘリコバクター・ピロリ剤として、ヘ
リコバクター・ピロリの感染が関与する消化器疾患(例
えば、胃炎、胃潰瘍、胃癌、胃の悪性リンパ腫、MAL
Tリンパ腫、十二指腸潰瘍、十二指腸癌、又は腸炎な
ど)の治療及び/又は予防に使用することができる。
【0007】さらに別の観点からは、ヘリコバクター・
ピロリの感染が関与する消化器疾患の治療方法であっ
て、上記のアミド誘導体及び薬学的に許容されるその
塩、並びにそれらの溶媒和物及びそれらの水和物からな
る群から選ばれる物質の治療有効量をヒトを含む哺乳類
動物に投与する工程を含む方法;及び、上記の医薬の製
造のための上記のアミド誘導体及び薬学的に許容される
その塩、並びにそれらの溶媒和物及びそれらの水和物か
らなる群から選ばれる物質の使用が提供される。
ピロリの感染が関与する消化器疾患の治療方法であっ
て、上記のアミド誘導体及び薬学的に許容されるその
塩、並びにそれらの溶媒和物及びそれらの水和物からな
る群から選ばれる物質の治療有効量をヒトを含む哺乳類
動物に投与する工程を含む方法;及び、上記の医薬の製
造のための上記のアミド誘導体及び薬学的に許容される
その塩、並びにそれらの溶媒和物及びそれらの水和物か
らなる群から選ばれる物質の使用が提供される。
【0008】
【発明の実施の形態】上記一般式(I)において、R1
で表わされるC3 〜C8 のシクロアルキル基としては、
例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、又は
シクロオクチル基を挙げることができる。C6 〜C14の
アリール基としては、単環又は2〜3個程度の縮合環を
有する芳香族炭化水素基、例えば、フェニル基、ナフチ
ル基、又はアントリル基を挙げることができる。
で表わされるC3 〜C8 のシクロアルキル基としては、
例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、又は
シクロオクチル基を挙げることができる。C6 〜C14の
アリール基としては、単環又は2〜3個程度の縮合環を
有する芳香族炭化水素基、例えば、フェニル基、ナフチ
ル基、又はアントリル基を挙げることができる。
【0009】複素環残基としては、酸素原子、硫黄原
子、窒素原子から選ばれるヘテロ原子を1〜4個有し、
環を構成する総原子数が5〜10の複素環化合物の残基を
用いることができる。より具体的には、複素環残基とし
て、例えば、フラン環、ジヒドロフラン環、テトラヒド
ロフラン環、ピラン環、ジヒドロピラン環、テトラヒド
ロピラン環、ベンゾフラン環、ジヒドロベンゾフラン
環、イソベンゾフラン環、クロメン環、クロマン環、イ
ソクロマン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピ
ロール環、ピロリン環、ピロリジン環、イミダゾール
環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾール
環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、
テトラゾール環、ピリジン環、ピリジンオキシド環、ピ
ペリジン環、ピラジン環、ピペラジン環、ピリミジン
環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、イ
ンドリン環、イソインドール環、イソインドリン環、イ
ンダゾール環、ベンゾイミダゾール環、プリン環、キノ
リジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン
環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プ
テリジン環、オキサゾール環、オキサゾリジン環、イソ
キサゾール環、イソキサゾリジン環、チアゾール環、チ
アジリジン環、イソチアゾール環、イソチアゾリジン
環、ジオキサン環、ジチアン環、モルホリン環、又はチ
オモルホリン環を挙げることができる。C6 〜C14のア
リールオキシ基としては、例えば、フェニルオキシ基、
ナフチルオキシ基、又はアントリルオキシ基を挙げるこ
とができ、C7 〜C15のアリールメチル基としては、例
えば、ベンジル基、ナフチルメチル基、アントリルメチ
ル基を挙げることができる。
子、窒素原子から選ばれるヘテロ原子を1〜4個有し、
環を構成する総原子数が5〜10の複素環化合物の残基を
用いることができる。より具体的には、複素環残基とし
て、例えば、フラン環、ジヒドロフラン環、テトラヒド
ロフラン環、ピラン環、ジヒドロピラン環、テトラヒド
ロピラン環、ベンゾフラン環、ジヒドロベンゾフラン
環、イソベンゾフラン環、クロメン環、クロマン環、イ
ソクロマン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピ
ロール環、ピロリン環、ピロリジン環、イミダゾール
環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾール
環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、
テトラゾール環、ピリジン環、ピリジンオキシド環、ピ
ペリジン環、ピラジン環、ピペラジン環、ピリミジン
環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、イ
ンドリン環、イソインドール環、イソインドリン環、イ
ンダゾール環、ベンゾイミダゾール環、プリン環、キノ
リジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン
環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プ
テリジン環、オキサゾール環、オキサゾリジン環、イソ
キサゾール環、イソキサゾリジン環、チアゾール環、チ
アジリジン環、イソチアゾール環、イソチアゾリジン
環、ジオキサン環、ジチアン環、モルホリン環、又はチ
オモルホリン環を挙げることができる。C6 〜C14のア
リールオキシ基としては、例えば、フェニルオキシ基、
ナフチルオキシ基、又はアントリルオキシ基を挙げるこ
とができ、C7 〜C15のアリールメチル基としては、例
えば、ベンジル基、ナフチルメチル基、アントリルメチ
ル基を挙げることができる。
【0010】R2 及びR3 がそれぞれ独立に表わすC1
〜C5 のアルキル基は直鎖又は分枝鎖のいずれでもよ
く、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、又は
イソペンチル基を挙げることができる。R2 とR3 がい
っしょになって表わすC2 〜C7 のアルキレン基として
は、例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチ
レン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタ
メチレン基を挙げることができ、これらは分枝鎖を有し
ていてもよい。
〜C5 のアルキル基は直鎖又は分枝鎖のいずれでもよ
く、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、又は
イソペンチル基を挙げることができる。R2 とR3 がい
っしょになって表わすC2 〜C7 のアルキレン基として
は、例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチ
レン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタ
メチレン基を挙げることができ、これらは分枝鎖を有し
ていてもよい。
【0011】R4 及びR5 で表わされるC1 〜C5 のア
ルキル基としては、それぞれ独立にR2 及びR3 につい
て説明したものを用いることができる。R6 で表わされ
るC1 〜C5 のアルキル基としては、R2 及びR3 につ
いて説明したものを用いることができ、このアルキル基
は1個又は2個以上、好ましくは1個の水酸基で置換さ
れていてもよい。R6 で表わされるC1 〜C5 のアルコ
キシ基は直鎖又は分枝鎖のいずれでもよく、例えば、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ブトキシ基、イソブトシキ基、tert- ブトキシ基、
ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基を挙げること
ができる。
ルキル基としては、それぞれ独立にR2 及びR3 につい
て説明したものを用いることができる。R6 で表わされ
るC1 〜C5 のアルキル基としては、R2 及びR3 につ
いて説明したものを用いることができ、このアルキル基
は1個又は2個以上、好ましくは1個の水酸基で置換さ
れていてもよい。R6 で表わされるC1 〜C5 のアルコ
キシ基は直鎖又は分枝鎖のいずれでもよく、例えば、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ブトキシ基、イソブトシキ基、tert- ブトキシ基、
ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基を挙げること
ができる。
【0012】上記のシクロアルキル基、アリール基、複
素環残基、アリールオキシ基、又はアリールメチル基
は、その環上の任意の位置に1個又は2個以上の置換基
を有していてもよい。このような置換基としては、例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子;メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert- ブ
チル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、tert- ペンチル基等のC1 〜C5 のアルキル基;ベ
ンジル基、フェニルエチル基、ナフチルメチル基等のC
7 〜C15のアラルキル基;トリフルオロメチル基;メト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ブトキシ基、イソブトシキ基、tert- ブトキシ基、
ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基等のC1 〜C
5 のアルコキシ基;ベンジルオキシ基、フェニルエチル
オキシ基、ナフチルメチルオキシ基等のC7 〜C15のア
ラルキルオキシ基;メチレンジオキシ基、エチレンジオ
キシ基、プロプレンジオキシ基等のC1 〜C5 のアルキ
レンジオキシ基;水酸基;ニトロ基;アセトキシ基、プ
ロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、バレリルオキ
シ基等のC2 〜C6 のアルキルカルボニルオキシ基;カ
ルボキシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカル
ボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボ
ニル基、tert- ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシ
カルボニル基等のC2 〜C6 のアルコキシカルボニル
基;ベンジルオキシカルボニル基、フェニルエチルオキ
シカルボニル基、ナフチルメチルオキシカルボニル基等
のC7 〜C15のアラルキルオキシカルボニル基;オキソ
基;アセチル基、プルピオニル基、ブチリル基、バレリ
ル基等のC2 〜C6 のアルキルカルボニル基;アミノ
基;メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ
基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチ
ルアミノ基、tert- ブチルアミノ基、ペンチルアミノ
基、イソペンチルアミノ基等のC1 〜C5 のモノアルキ
ルアミノ基;ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ
基、ジエチルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、ジイ
ソプロピルアミノ基等のC2 〜C10のジアルキルアミノ
基;アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、イソプ
ロピオニルアミノ基、ブチリルアミノ基、バレリルアミ
ノ基等のC2 〜C6 のアルキルカルボニルアミノ基;メ
トキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ
基、プロポキシカルボニルアミノ基、イソプロポキシカ
ルボニルアミノ基、ブトキシカルボニルアミノ基、イソ
ブトキシカルボニルアミノ基、tert- ブトキシカルボニ
ルアミノ基、ペンチルオキシカルボニルアミノ基等のC
2 〜C6 のアルコキシカルボニルアミノ基;ベンジルオ
キシカルボニルアミノ基、フェニルエチルオキシカルボ
ニルアミノ基、ナフチルメチルオキシカルボニルアミノ
基等のC7 〜C15のアラルキルオキシカルボニルアミノ
基;カルバモイル基;メチルカルバモイル基、エチルカ
ルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバ
モイル基、tert- ブチルカルバモイル基、ペンチルカル
バモイル基等のC2 〜C6 のアルキルカルバモイル基及
びフェニル基、ナフチル基等のC6 〜C12のアリール基
などを挙げることができる。
素環残基、アリールオキシ基、又はアリールメチル基
は、その環上の任意の位置に1個又は2個以上の置換基
を有していてもよい。このような置換基としては、例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子;メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert- ブ
チル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、tert- ペンチル基等のC1 〜C5 のアルキル基;ベ
ンジル基、フェニルエチル基、ナフチルメチル基等のC
7 〜C15のアラルキル基;トリフルオロメチル基;メト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ブトキシ基、イソブトシキ基、tert- ブトキシ基、
ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基等のC1 〜C
5 のアルコキシ基;ベンジルオキシ基、フェニルエチル
オキシ基、ナフチルメチルオキシ基等のC7 〜C15のア
ラルキルオキシ基;メチレンジオキシ基、エチレンジオ
キシ基、プロプレンジオキシ基等のC1 〜C5 のアルキ
レンジオキシ基;水酸基;ニトロ基;アセトキシ基、プ
ロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、バレリルオキ
シ基等のC2 〜C6 のアルキルカルボニルオキシ基;カ
ルボキシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカル
ボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボ
ニル基、tert- ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシ
カルボニル基等のC2 〜C6 のアルコキシカルボニル
基;ベンジルオキシカルボニル基、フェニルエチルオキ
シカルボニル基、ナフチルメチルオキシカルボニル基等
のC7 〜C15のアラルキルオキシカルボニル基;オキソ
基;アセチル基、プルピオニル基、ブチリル基、バレリ
ル基等のC2 〜C6 のアルキルカルボニル基;アミノ
基;メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ
基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチ
ルアミノ基、tert- ブチルアミノ基、ペンチルアミノ
基、イソペンチルアミノ基等のC1 〜C5 のモノアルキ
ルアミノ基;ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ
基、ジエチルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、ジイ
ソプロピルアミノ基等のC2 〜C10のジアルキルアミノ
基;アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、イソプ
ロピオニルアミノ基、ブチリルアミノ基、バレリルアミ
ノ基等のC2 〜C6 のアルキルカルボニルアミノ基;メ
トキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ
基、プロポキシカルボニルアミノ基、イソプロポキシカ
ルボニルアミノ基、ブトキシカルボニルアミノ基、イソ
ブトキシカルボニルアミノ基、tert- ブトキシカルボニ
ルアミノ基、ペンチルオキシカルボニルアミノ基等のC
2 〜C6 のアルコキシカルボニルアミノ基;ベンジルオ
キシカルボニルアミノ基、フェニルエチルオキシカルボ
ニルアミノ基、ナフチルメチルオキシカルボニルアミノ
基等のC7 〜C15のアラルキルオキシカルボニルアミノ
基;カルバモイル基;メチルカルバモイル基、エチルカ
ルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバ
モイル基、tert- ブチルカルバモイル基、ペンチルカル
バモイル基等のC2 〜C6 のアルキルカルバモイル基及
びフェニル基、ナフチル基等のC6 〜C12のアリール基
などを挙げることができる。
【0013】上記式(I)で表される本発明の化合物の
うち、好ましい化合物としては、R1 が置換基を有して
いてもよいC6 〜C14のアリール基、置換基を有してい
てもよい複素環残基、置換基を有していてもよいC6 〜
C14のアリールオキシ基、又は置換基を有していてもよ
いC7 〜C15のアリールメチル基であり、R2 、R3、
R4 、及びR5 が水素原子であり、R6 がC1 〜C5 の
アルキル基である化合物を挙げることができる。さらに
好ましい化合物としては、R1 が置換基を有していても
よいC6 〜C14のアリール基、置換基を有していてもよ
い複素環残基、置換基を有していてもよいC6 〜C14の
アリールオキシ基、又は置換基を有していてもよいC7
〜C15のアリールメチル基であり、R2 、R3 、R4 、
及びR5が水素原子であり、R6 がメチル基である化合
物を挙げることができる。
うち、好ましい化合物としては、R1 が置換基を有して
いてもよいC6 〜C14のアリール基、置換基を有してい
てもよい複素環残基、置換基を有していてもよいC6 〜
C14のアリールオキシ基、又は置換基を有していてもよ
いC7 〜C15のアリールメチル基であり、R2 、R3、
R4 、及びR5 が水素原子であり、R6 がC1 〜C5 の
アルキル基である化合物を挙げることができる。さらに
好ましい化合物としては、R1 が置換基を有していても
よいC6 〜C14のアリール基、置換基を有していてもよ
い複素環残基、置換基を有していてもよいC6 〜C14の
アリールオキシ基、又は置換基を有していてもよいC7
〜C15のアリールメチル基であり、R2 、R3 、R4 、
及びR5が水素原子であり、R6 がメチル基である化合
物を挙げることができる。
【0014】特に好ましい化合物としては、N−(3−
メチルカルバモイルフェニル)−3−クロロフェニルア
セトアミド;N−(3−メチルカルバモイルフェニル)
−4−クロロフェニルアセトアミド;N−(3−メチル
カルバモイルフェニル)−3−ブロモフェニルアセトア
ミド;N−(3−メチルカルバモイルフェニル)−4−
ブロモフェニルアセトアミド;N−(3−メチルカルバ
モイルフェニル)−3−メチルフェニルアセトアミド;
N−(3−メチルカルバモイルフェニル)−4−メチル
フェニルアセトアミド;N−(3−メチルカルバモイル
フェニル)−3−メトキシフェニルアセトアミド;N−
(3−メチルカルバモイルフェニル)−4−メトキシフ
ェニルアセトアミド;N−(3−メチルカルバモイルフ
ェニル)−3,4,5−トリメトキシフェニルアセトア
ミド;N−(3−メチルカルバモイルフェニル)−3−
ベンジルオキシフェニルアセトアミド;N−(3−メチ
ルカルバモイルフェニル)−1−ナフチルアセトアミ
ド;N−(3−メチルカルバモイルフェニル)−2−ナ
フチルアセトアミド;N−(3−メチルカルバモイルフ
ェニル)−3−インドリルアセトアミド;N−(3−メ
チルカルバモイルフェニル)−3−ベンゾチエニルアセ
トアミド;N−(3−メチルカルバモイルフェニル)−
4−ベンゾチエニルアセトアミド;N−(3−メチルカ
ルバモイルフェニル)−3,4−メチレンジオキシフェ
ニルアセトアミド;N−(3−メチルカルバモイルフェ
ニル)−2−クロロフェノキシアセトアミド;N−(3
−メチルカルバモイルフェニル)−2,3−ジクロロフ
ェノキシアセトアミド;N−(3−メチルカルバモイル
フェニル)−1−ナフチルオキシアセトアミド;N−
(3−メチルカルバモイルフェニル)−2−ナフチルオ
キシアセトアミド;及びN−(3−メチルカルバモイル
フェニル)−3−(2−メトキシフェニル)プロピオン
アミドを挙げることができる。
メチルカルバモイルフェニル)−3−クロロフェニルア
セトアミド;N−(3−メチルカルバモイルフェニル)
−4−クロロフェニルアセトアミド;N−(3−メチル
カルバモイルフェニル)−3−ブロモフェニルアセトア
ミド;N−(3−メチルカルバモイルフェニル)−4−
ブロモフェニルアセトアミド;N−(3−メチルカルバ
モイルフェニル)−3−メチルフェニルアセトアミド;
N−(3−メチルカルバモイルフェニル)−4−メチル
フェニルアセトアミド;N−(3−メチルカルバモイル
フェニル)−3−メトキシフェニルアセトアミド;N−
(3−メチルカルバモイルフェニル)−4−メトキシフ
ェニルアセトアミド;N−(3−メチルカルバモイルフ
ェニル)−3,4,5−トリメトキシフェニルアセトア
ミド;N−(3−メチルカルバモイルフェニル)−3−
ベンジルオキシフェニルアセトアミド;N−(3−メチ
ルカルバモイルフェニル)−1−ナフチルアセトアミ
ド;N−(3−メチルカルバモイルフェニル)−2−ナ
フチルアセトアミド;N−(3−メチルカルバモイルフ
ェニル)−3−インドリルアセトアミド;N−(3−メ
チルカルバモイルフェニル)−3−ベンゾチエニルアセ
トアミド;N−(3−メチルカルバモイルフェニル)−
4−ベンゾチエニルアセトアミド;N−(3−メチルカ
ルバモイルフェニル)−3,4−メチレンジオキシフェ
ニルアセトアミド;N−(3−メチルカルバモイルフェ
ニル)−2−クロロフェノキシアセトアミド;N−(3
−メチルカルバモイルフェニル)−2,3−ジクロロフ
ェノキシアセトアミド;N−(3−メチルカルバモイル
フェニル)−1−ナフチルオキシアセトアミド;N−
(3−メチルカルバモイルフェニル)−2−ナフチルオ
キシアセトアミド;及びN−(3−メチルカルバモイル
フェニル)−3−(2−メトキシフェニル)プロピオン
アミドを挙げることができる。
【0015】上記一般式(I)で表される本発明のアミ
ド誘導体は塩を形成することができる。塩の具体例とし
ては、酸性基が存在する場合には、例えば、リチウム
塩、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、カル
シウム塩等の金属塩、又はアンモニウム塩、メチルアン
モニウム塩、ジメチルアンモニウム塩、トリメチルアン
モニウム塩、ジシクロヘキシルアンモニウム塩等のアン
モニウム塩を挙げることができ、塩基性基が存在する場
合には、例えば、塩酸塩、臭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リ
ン酸塩等の鉱酸塩、あるいはメタンスルホン酸塩、ベン
ゼンスルホン酸塩、パラトルエンスルホン酸塩、酢酸
塩、プロピオン酸塩、酒石酸塩、フマール酸塩、マレイ
ン酸塩、リンゴ酸塩、シュウ酸塩、コハク酸塩、クエン
酸塩、安息香酸塩、マンデル酸塩、ケイ皮酸塩、乳酸塩
等の有機酸塩を挙げることができる。本発明の医薬の有
効成分としては、薬学的に許容される塩が好適である。
また、上記一般式(I)で表される本発明のアミド誘導
体又はその塩は、溶媒和物又は水和物として存在するこ
ともできる。遊離形態の化合物のほか、塩の形態、又は
水和物若しくは溶媒和物の形態の物質も本発明の範囲に
包含される。
ド誘導体は塩を形成することができる。塩の具体例とし
ては、酸性基が存在する場合には、例えば、リチウム
塩、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、カル
シウム塩等の金属塩、又はアンモニウム塩、メチルアン
モニウム塩、ジメチルアンモニウム塩、トリメチルアン
モニウム塩、ジシクロヘキシルアンモニウム塩等のアン
モニウム塩を挙げることができ、塩基性基が存在する場
合には、例えば、塩酸塩、臭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リ
ン酸塩等の鉱酸塩、あるいはメタンスルホン酸塩、ベン
ゼンスルホン酸塩、パラトルエンスルホン酸塩、酢酸
塩、プロピオン酸塩、酒石酸塩、フマール酸塩、マレイ
ン酸塩、リンゴ酸塩、シュウ酸塩、コハク酸塩、クエン
酸塩、安息香酸塩、マンデル酸塩、ケイ皮酸塩、乳酸塩
等の有機酸塩を挙げることができる。本発明の医薬の有
効成分としては、薬学的に許容される塩が好適である。
また、上記一般式(I)で表される本発明のアミド誘導
体又はその塩は、溶媒和物又は水和物として存在するこ
ともできる。遊離形態の化合物のほか、塩の形態、又は
水和物若しくは溶媒和物の形態の物質も本発明の範囲に
包含される。
【0016】上記一般式(I)で表される本発明のアミ
ド誘導体に存在する不斉炭素の立体化学については、そ
れぞれ独立して(R)体、(S)体、あるいは(RS)
体をとることができる。1個又は2個以上の不斉炭素に
基づく光学活性体又はジアステレオ異性体などの純粋な
形態の異性体、異性体の任意の混合物、又はラセミ体な
どはいずれも本発明の範囲に包含される。上記一般式
(I)で表される本発明のアミド誘導体の具体的例とし
ては、下記表−1に示す化合物を挙げることができる。
ド誘導体に存在する不斉炭素の立体化学については、そ
れぞれ独立して(R)体、(S)体、あるいは(RS)
体をとることができる。1個又は2個以上の不斉炭素に
基づく光学活性体又はジアステレオ異性体などの純粋な
形態の異性体、異性体の任意の混合物、又はラセミ体な
どはいずれも本発明の範囲に包含される。上記一般式
(I)で表される本発明のアミド誘導体の具体的例とし
ては、下記表−1に示す化合物を挙げることができる。
【0017】
【表1】
【0018】
【表2】
【0019】
【表3】
【0020】
【表4】
【0021】
【表5】
【0022】
【表6】
【0023】
【表7】
【0024】
【表8】
【0025】
【表9】
【0026】
【表10】
【0027】
【表11】
【0028】
【表12】
【0029】
【表13】
【0030】
【表14】
【0031】
【表15】
【0032】
【表16】
【0033】
【表17】
【0034】
【表18】
【0035】
【表19】
【0036】
【表20】
【0037】
【表21】
【0038】
【表22】
【0039】
【表23】
【0040】
【表24】
【0041】
【表25】
【0042】
【表26】
【0043】上記一般式(I)で表される本発明のアミ
ド誘導体は、例えば、以下の方法で製造することができ
る(スキーム中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、及び
R6は既に定義した通りである。)。
ド誘導体は、例えば、以下の方法で製造することができ
る(スキーム中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、及び
R6は既に定義した通りである。)。
【化3】
【0044】上記一般式(II)で示されるカルボン酸誘
導体を、必要に応じてトリエチルアミン、ピリジン等の
塩基の存在下、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジフ
ェニルホスホリルアジド、カルボニルジイミダゾール、
オキサリルクロリド、クロル蟻酸イソブチル、塩化チオ
ニル等の縮合剤と反応させてカルボン酸を活性化させ、
つぎに、必要に応じてトリエチルアミン、ピリジン等の
塩基の存在下、上記一般式(III )で示されるアニリン
誘導体を反応させると、上記一般式(I)で示される化
合物が得られる。この縮合反応に用いる溶媒は、各縮合
剤に適した溶媒を適宜選んで使用すればよく、また反応
条件等も各縮合剤に適した条件で行なえばよい。上記の
一連の操作において、官能基の保護及び脱保護が必要に
なる場合もあるが、その際の保護基はその官能基に適し
たものを選択し、実験操作も文献公知の方法を用いて行
なえばよい。
導体を、必要に応じてトリエチルアミン、ピリジン等の
塩基の存在下、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジフ
ェニルホスホリルアジド、カルボニルジイミダゾール、
オキサリルクロリド、クロル蟻酸イソブチル、塩化チオ
ニル等の縮合剤と反応させてカルボン酸を活性化させ、
つぎに、必要に応じてトリエチルアミン、ピリジン等の
塩基の存在下、上記一般式(III )で示されるアニリン
誘導体を反応させると、上記一般式(I)で示される化
合物が得られる。この縮合反応に用いる溶媒は、各縮合
剤に適した溶媒を適宜選んで使用すればよく、また反応
条件等も各縮合剤に適した条件で行なえばよい。上記の
一連の操作において、官能基の保護及び脱保護が必要に
なる場合もあるが、その際の保護基はその官能基に適し
たものを選択し、実験操作も文献公知の方法を用いて行
なえばよい。
【0045】上記一般式(I)で示される本発明の化合
物はヘリコバクター・ピロリに対して優れた抗菌作用を
有しており、胃内に存在するヘリコバクター・ピロリに
対して高い除菌効果を発揮できる。従って、本発明の医
薬は、ヘリコバクター・ピロリの感染が関与する各種消
化器疾患、例えば、胃炎、胃潰瘍、胃癌、胃の悪性リン
パ腫、MALTリンパ腫、十二指腸潰瘍、及び十二指腸
癌からなる群から選ばれる疾患の治療及び/又は予防に
有用である。より具体的には、胃炎、胃潰瘍、十二指腸
潰瘍、胃癌、十二指腸癌、又は胃の悪性リンパ腫の治療
薬、胃潰瘍、十二指腸潰瘍、胃癌、又は十二指腸癌の予
防薬、あるいは胃潰瘍や十二指腸潰瘍などの再発防止の
ための予防薬として好適に用いることができる。
物はヘリコバクター・ピロリに対して優れた抗菌作用を
有しており、胃内に存在するヘリコバクター・ピロリに
対して高い除菌効果を発揮できる。従って、本発明の医
薬は、ヘリコバクター・ピロリの感染が関与する各種消
化器疾患、例えば、胃炎、胃潰瘍、胃癌、胃の悪性リン
パ腫、MALTリンパ腫、十二指腸潰瘍、及び十二指腸
癌からなる群から選ばれる疾患の治療及び/又は予防に
有用である。より具体的には、胃炎、胃潰瘍、十二指腸
潰瘍、胃癌、十二指腸癌、又は胃の悪性リンパ腫の治療
薬、胃潰瘍、十二指腸潰瘍、胃癌、又は十二指腸癌の予
防薬、あるいは胃潰瘍や十二指腸潰瘍などの再発防止の
ための予防薬として好適に用いることができる。
【0046】本発明の医薬の有効成分としては、上記一
般式(I)で示される化合物及び薬学的に許容されるそ
の塩、並びにそれらの溶媒和物及びそれらの水和物から
なる群から選ばれる物質の1種又は2種以上を用いるこ
とができる。本発明の医薬は、好適には、有効成分であ
る上記の物質と1又は2以上の薬学的に許容される製剤
用添加物とを含む医薬組成物の形態で提供される。上記
医薬組成物において、製剤用添加物に対する有効成分の
割合は、1重量%から90重量%程度である。
般式(I)で示される化合物及び薬学的に許容されるそ
の塩、並びにそれらの溶媒和物及びそれらの水和物から
なる群から選ばれる物質の1種又は2種以上を用いるこ
とができる。本発明の医薬は、好適には、有効成分であ
る上記の物質と1又は2以上の薬学的に許容される製剤
用添加物とを含む医薬組成物の形態で提供される。上記
医薬組成物において、製剤用添加物に対する有効成分の
割合は、1重量%から90重量%程度である。
【0047】本発明の医薬は、例えば、顆粒剤、細粒
剤、散剤、硬カプセル剤、軟カプセル剤、シロップ剤、
乳剤、懸濁剤、又は液剤などの経口投与用の医薬組成物
として投与してもよいし、静脈内投与、筋肉内投与、若
しくは皮下投与用の注射剤、点滴剤、又は坐剤などの非
経口投与用の医薬組成物として投与することもできる。
粉末の形態の医薬組成物として調製された製剤を用時に
溶解して注射剤又は点滴剤として使用してもよい。
剤、散剤、硬カプセル剤、軟カプセル剤、シロップ剤、
乳剤、懸濁剤、又は液剤などの経口投与用の医薬組成物
として投与してもよいし、静脈内投与、筋肉内投与、若
しくは皮下投与用の注射剤、点滴剤、又は坐剤などの非
経口投与用の医薬組成物として投与することもできる。
粉末の形態の医薬組成物として調製された製剤を用時に
溶解して注射剤又は点滴剤として使用してもよい。
【0048】医薬用組成物の製造には、固体又は液体の
製剤用添加物を用いることができる。製剤用添加物は有
機又は無機のいずれであってもよい。固体製剤を製造す
る際に用いられる賦形剤としては、例えば、乳糖、蔗
糖、デンプン、タルク、セルロース、デキストリン、カ
オリン、炭酸カルシウムを挙げることができる。経口投
与のための液体製剤、例えば、乳剤、シロップ剤、懸濁
剤、液剤の製造には、一般的に用いられる不活性な希釈
剤、例えば水又は植物油を用いることができる。この製
剤には、不活性な希釈剤以外に、補助剤、例えば湿潤
剤、懸濁補助剤、甘味剤、芳香剤、着色剤又は保存剤を
配合することができる。液体製剤を調製した後、ゼラチ
ンのような吸収されうる物質のカプセル中に充填しても
よい。非経口投与用の製剤、例えば注射剤又は坐剤等の
製造に用いられる溶剤又は懸濁剤としては、例えば、
水、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、
ベンジルアルコール、オレイン酸エチル、レシチンを挙
げることができる。坐剤の製造に用いられる基剤として
は、例えば、カカオ脂、乳化カカオ脂、ラウリン脂、ウ
ィテップゾールを挙げることができる。製剤の調製方法
は特に限定されず、当業界で汎用されている方法はいず
れも利用可能である。
製剤用添加物を用いることができる。製剤用添加物は有
機又は無機のいずれであってもよい。固体製剤を製造す
る際に用いられる賦形剤としては、例えば、乳糖、蔗
糖、デンプン、タルク、セルロース、デキストリン、カ
オリン、炭酸カルシウムを挙げることができる。経口投
与のための液体製剤、例えば、乳剤、シロップ剤、懸濁
剤、液剤の製造には、一般的に用いられる不活性な希釈
剤、例えば水又は植物油を用いることができる。この製
剤には、不活性な希釈剤以外に、補助剤、例えば湿潤
剤、懸濁補助剤、甘味剤、芳香剤、着色剤又は保存剤を
配合することができる。液体製剤を調製した後、ゼラチ
ンのような吸収されうる物質のカプセル中に充填しても
よい。非経口投与用の製剤、例えば注射剤又は坐剤等の
製造に用いられる溶剤又は懸濁剤としては、例えば、
水、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、
ベンジルアルコール、オレイン酸エチル、レシチンを挙
げることができる。坐剤の製造に用いられる基剤として
は、例えば、カカオ脂、乳化カカオ脂、ラウリン脂、ウ
ィテップゾールを挙げることができる。製剤の調製方法
は特に限定されず、当業界で汎用されている方法はいず
れも利用可能である。
【0049】本発明医薬の投与量は、経口投与の場合に
は、成人一日あたり本発明化合物重量として一般的には
0.01〜5,000 mgであるが、患者の年令、病態、症状に応
じて適宜増減することが好ましい。前記一日量は一日に
一回、又は適当な間隔をおいて一日に2〜3回に分けて
投与してもよいし、数日おきに間欠投与してもよい。注
射剤として用いる場合には、成人一日あたり本発明化合
物重量として0.001 〜100mg 程度である。
は、成人一日あたり本発明化合物重量として一般的には
0.01〜5,000 mgであるが、患者の年令、病態、症状に応
じて適宜増減することが好ましい。前記一日量は一日に
一回、又は適当な間隔をおいて一日に2〜3回に分けて
投与してもよいし、数日おきに間欠投与してもよい。注
射剤として用いる場合には、成人一日あたり本発明化合
物重量として0.001 〜100mg 程度である。
【0050】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定され
ることはない。 実施例1:N−(3−メチルカルバモイルフェニル)−
3−クロロフェニルアセトアミド(表−1の化合物番号
17)の製造 3−クロロフェニル酢酸192mgを塩化メチレン8m
lに溶かし、オキサリルクロリド0.10ml及びジメ
チルホルムアミドを1滴加えた。室温で1時間撹拌した
後、3ーアミノベンゾイルメチルアミド167mg及び
ピリジン0.19mlを加え、室温で一晩撹拌した。溶
媒を減圧留去した後、水10ml及び2規定塩酸水1m
lを加え、生成した結晶を濾過して水で洗った。この結
晶を乾燥後、酢酸エチル6mlに加えて10分間加熱還
流した。これを室温まで冷却し、結晶を濾過して酢酸エ
チルで洗うと目的物233mgが得られた。収率68
%。 融点:165−166℃ IR(KBr,cm-1):3324,1642,159
3,1555. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.5Hz,3H),3.68(s,2H),7.25
−7.42(m,5H),7.48(d,J=7.8H
z,1H),7.74(d,J=7.8Hz,1H),
8.02(dd,J=1.8Hz,1.8Hz,1
H),8.36(d,J=4.5Hz,1H),10.
31(s,1H).
説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定され
ることはない。 実施例1:N−(3−メチルカルバモイルフェニル)−
3−クロロフェニルアセトアミド(表−1の化合物番号
17)の製造 3−クロロフェニル酢酸192mgを塩化メチレン8m
lに溶かし、オキサリルクロリド0.10ml及びジメ
チルホルムアミドを1滴加えた。室温で1時間撹拌した
後、3ーアミノベンゾイルメチルアミド167mg及び
ピリジン0.19mlを加え、室温で一晩撹拌した。溶
媒を減圧留去した後、水10ml及び2規定塩酸水1m
lを加え、生成した結晶を濾過して水で洗った。この結
晶を乾燥後、酢酸エチル6mlに加えて10分間加熱還
流した。これを室温まで冷却し、結晶を濾過して酢酸エ
チルで洗うと目的物233mgが得られた。収率68
%。 融点:165−166℃ IR(KBr,cm-1):3324,1642,159
3,1555. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.5Hz,3H),3.68(s,2H),7.25
−7.42(m,5H),7.48(d,J=7.8H
z,1H),7.74(d,J=7.8Hz,1H),
8.02(dd,J=1.8Hz,1.8Hz,1
H),8.36(d,J=4.5Hz,1H),10.
31(s,1H).
【0051】実施例1と同様の方法により、実施例2〜
実施例50の化合物を合成した。以下、その物性値を記
す。 実施例2:N−(3−メチルカルバモイルフェニル)シ
クロヘキシルアセトアミド(表−1の化合物番号4)の
製造 融点:183℃ IR(KBr,cm-1):3293,1657,164
0,1588,1535. NMR(DMSO−d6 ,δ):0.99(m,2
H),1.03−1.38(m,3H),1.55−
1.90(m,6H),2.19(d,J=7.0H
z,2H),2.76(d,J=4.5Hz,3H),
7.34(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1
H),7.45(d,J=7.8Hz,1H),7.7
4(d,J=7.8Hz,1H),8.01(s,1
H),8.34(d,J=4.5Hz,1H),9.9
5(s,1H).
実施例50の化合物を合成した。以下、その物性値を記
す。 実施例2:N−(3−メチルカルバモイルフェニル)シ
クロヘキシルアセトアミド(表−1の化合物番号4)の
製造 融点:183℃ IR(KBr,cm-1):3293,1657,164
0,1588,1535. NMR(DMSO−d6 ,δ):0.99(m,2
H),1.03−1.38(m,3H),1.55−
1.90(m,6H),2.19(d,J=7.0H
z,2H),2.76(d,J=4.5Hz,3H),
7.34(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1
H),7.45(d,J=7.8Hz,1H),7.7
4(d,J=7.8Hz,1H),8.01(s,1
H),8.34(d,J=4.5Hz,1H),9.9
5(s,1H).
【0052】実施例3:N−(3−メチルカルバモイル
フェニル)フェニルアセトアミド(表−1の化合物番号
7)の製造 融点:140−142℃ NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.5Hz,3H),3.63(s,2H),7.22
−7.48(m,7H),7.74(m,1H),8.
01(s,1H),8.37(d,J=4.5Hz,1
H),10.30(s,1H).
フェニル)フェニルアセトアミド(表−1の化合物番号
7)の製造 融点:140−142℃ NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.5Hz,3H),3.63(s,2H),7.22
−7.48(m,7H),7.74(m,1H),8.
01(s,1H),8.37(d,J=4.5Hz,1
H),10.30(s,1H).
【0053】実施例4:N−(3−メチルカルバモイル
フェニル)−1−フェニルシクロペンタンカルボキサミ
ド(表−1の化合物番号11)の製造 融点:147℃ IR(KBr,cm-1):3339,3275,163
8,1586,1557,1528. NMR(DMSO−d6 ,δ):1.67(m,4
H),1.94(m,2H),2.65(m,2H),
2.75(d,J=4.5Hz,3H),7.20−
7.60(m,7H),7.76(d,J=7.2H
z,1H),7.98(s,1H),8.33(d,J
=4.5Hz,1H),9.32(s,1H).
フェニル)−1−フェニルシクロペンタンカルボキサミ
ド(表−1の化合物番号11)の製造 融点:147℃ IR(KBr,cm-1):3339,3275,163
8,1586,1557,1528. NMR(DMSO−d6 ,δ):1.67(m,4
H),1.94(m,2H),2.65(m,2H),
2.75(d,J=4.5Hz,3H),7.20−
7.60(m,7H),7.76(d,J=7.2H
z,1H),7.98(s,1H),8.33(d,J
=4.5Hz,1H),9.32(s,1H).
【0054】実施例5:N−(3−メチルカルバモイル
フェニル)−3−フルオロフェニルアセトアミド(表−
1の化合物番号14)の製造 融点:147−148℃ IR(KBr,cm-1):3314,1661,163
6,1587,1530. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.2Hz,3H),3.69(s,2H),7.08
(dd,J=5.7Hz,5.7Hz,1H),7.1
4(d,J=7.5Hz,2H),7.38(m,2
H),7.47(d,J=8.1Hz,1H),7.7
4(d,J=8.1Hz,1H),8.02(s,1
H),8.35(d,J=4.2Hz,1H),10.
30(s,1H).
フェニル)−3−フルオロフェニルアセトアミド(表−
1の化合物番号14)の製造 融点:147−148℃ IR(KBr,cm-1):3314,1661,163
6,1587,1530. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.2Hz,3H),3.69(s,2H),7.08
(dd,J=5.7Hz,5.7Hz,1H),7.1
4(d,J=7.5Hz,2H),7.38(m,2
H),7.47(d,J=8.1Hz,1H),7.7
4(d,J=8.1Hz,1H),8.02(s,1
H),8.35(d,J=4.2Hz,1H),10.
30(s,1H).
【0055】実施例6:N−(3−メチルカルバモイル
フェニル)−4−フルオロフェニルアセトアミド(表−
1の化合物番号15)の製造 融点:155−156℃ IR(KBr,cm-1):3293,1657,163
4,1588,1535,1512. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
3.9Hz,3H),3.65(s,2H),7.15
(dd,J=9.0Hz,9.0Hz,2H),7.2
5−7.41(m,3H),7.47(d,J=7.5
Hz,1H),7.75(d,J=8.1Hz,1
H),8.02(s,1H),8.35(d,J=3.
9Hz,1H),10.28(s,1H).
フェニル)−4−フルオロフェニルアセトアミド(表−
1の化合物番号15)の製造 融点:155−156℃ IR(KBr,cm-1):3293,1657,163
4,1588,1535,1512. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
3.9Hz,3H),3.65(s,2H),7.15
(dd,J=9.0Hz,9.0Hz,2H),7.2
5−7.41(m,3H),7.47(d,J=7.5
Hz,1H),7.75(d,J=8.1Hz,1
H),8.02(s,1H),8.35(d,J=3.
9Hz,1H),10.28(s,1H).
【0056】実施例7:N−(3−メチルカルバモイル
フェニル)−2−クロロフェニルアセトアミド(表−1
の化合物番号16)の製造 融点:211−212℃ IR(KBr,cm-1):3268,1659,164
2,1586,1535. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.77(d,J=
3.6Hz,3H),3.85(s,2H),7.25
−7.55(m,6H),7.74(d,J=7.5H
z,1H),8.04(s,1H),8.36(d,J
=3.6Hz,1H),10.34(s,1H).
フェニル)−2−クロロフェニルアセトアミド(表−1
の化合物番号16)の製造 融点:211−212℃ IR(KBr,cm-1):3268,1659,164
2,1586,1535. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.77(d,J=
3.6Hz,3H),3.85(s,2H),7.25
−7.55(m,6H),7.74(d,J=7.5H
z,1H),8.04(s,1H),8.36(d,J
=3.6Hz,1H),10.34(s,1H).
【0057】実施例8:N−(3−メチルカルバモイル
フェニル)−4−クロロフェニルアセトアミド(表−1
の化合物番号18)の製造 融点:163−164℃ IR(KBr,cm-1):3279,1663,164
0,1588,1535. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
3.9Hz,3H),3.66(s,2H),7.35
−7.42(m,5H),7.47(d,J=7.8H
z,1H),7.75(d,J=7.8Hz,1H),
8.02(dd,J=1.5Hz,1.5Hz,1
H),8.36(d,J=3.9Hz,1H),10.
30(s,1H).
フェニル)−4−クロロフェニルアセトアミド(表−1
の化合物番号18)の製造 融点:163−164℃ IR(KBr,cm-1):3279,1663,164
0,1588,1535. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
3.9Hz,3H),3.66(s,2H),7.35
−7.42(m,5H),7.47(d,J=7.8H
z,1H),7.75(d,J=7.8Hz,1H),
8.02(dd,J=1.5Hz,1.5Hz,1
H),8.36(d,J=3.9Hz,1H),10.
30(s,1H).
【0058】実施例9:N−(3−カルバモイルフェニ
ル)−3−ブロモフェニルアセトアミド(表−1の化合
物番号20)の製造 融点:202℃ IR(KBr,cm-1):3378,3295,165
9,1624,1586.1534. NMR(DMSO−d6 ,δ):3.67(s,2
H),7.20−7.60(m,7H),7.76
(d,J=9.3Hz,1H),7.94(s,1
H),8.03(s,1H),10.33(s,1
H).
ル)−3−ブロモフェニルアセトアミド(表−1の化合
物番号20)の製造 融点:202℃ IR(KBr,cm-1):3378,3295,165
9,1624,1586.1534. NMR(DMSO−d6 ,δ):3.67(s,2
H),7.20−7.60(m,7H),7.76
(d,J=9.3Hz,1H),7.94(s,1
H),8.03(s,1H),10.33(s,1
H).
【0059】実施例10:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−3−ブロモフェニルアセトアミド(表−
1の化合物番号22)の製造 融点:176−178℃ IR(KBr,cm-1):3324,3254,164
2,1591.1554. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.5Hz,3H),3.68(s,2H),77.2
7−7.41(m,3H),7.45−7.50(m,
2H),7.56(s,1H),7.75(d,J=
8.0Hz,1H),8.03(s,1H),8.42
(d,J=4.5Hz,1H),10.35(s,1
H).
ルフェニル)−3−ブロモフェニルアセトアミド(表−
1の化合物番号22)の製造 融点:176−178℃ IR(KBr,cm-1):3324,3254,164
2,1591.1554. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.5Hz,3H),3.68(s,2H),77.2
7−7.41(m,3H),7.45−7.50(m,
2H),7.56(s,1H),7.75(d,J=
8.0Hz,1H),8.03(s,1H),8.42
(d,J=4.5Hz,1H),10.35(s,1
H).
【0060】実施例11:N−(3−ジメチルカルバモ
イルフェニル)−3−ブロモフェニルアセトアミド(表
−1の化合物番号23)の製造 融点:119−120℃ IR(KBr,cm-1):1678,1613,158
8.1557. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.90(s,3
H),2.96(s,3H),3.68(s,2H),
7.06(d,J=7.8Hz,1H),7.25−
7.41(m,3H),7.47(m,1H),7.5
3−7.60(m,2H),7.68(s,1H),1
0.30(s,1H).
イルフェニル)−3−ブロモフェニルアセトアミド(表
−1の化合物番号23)の製造 融点:119−120℃ IR(KBr,cm-1):1678,1613,158
8.1557. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.90(s,3
H),2.96(s,3H),3.68(s,2H),
7.06(d,J=7.8Hz,1H),7.25−
7.41(m,3H),7.47(m,1H),7.5
3−7.60(m,2H),7.68(s,1H),1
0.30(s,1H).
【0061】実施例12:N−(3−エチルカルバモイ
ルフェニル)−3−ブロモフェニルアセトアミド(表−
1の化合物番号24)の製造 融点:155℃ IR(KBr,cm-1):3329,3268,166
5,1640,1549. NMR(DMSO−d6 ,δ):1.11(t,J=
6.9Hz,3H),3.29(m,2H),3.67
(s,2H),7.20−7.40(m,3H),7.
47(d,J=8.1Hz,1H),7.49(d,J
=8.1Hz,1H),7.56(s,1H),7.7
5(d,J=8.4Hz,1H),8.00(s,1
H),8.41(t,J=5.1Hz,1H),10.
32(s,1H).
ルフェニル)−3−ブロモフェニルアセトアミド(表−
1の化合物番号24)の製造 融点:155℃ IR(KBr,cm-1):3329,3268,166
5,1640,1549. NMR(DMSO−d6 ,δ):1.11(t,J=
6.9Hz,3H),3.29(m,2H),3.67
(s,2H),7.20−7.40(m,3H),7.
47(d,J=8.1Hz,1H),7.49(d,J
=8.1Hz,1H),7.56(s,1H),7.7
5(d,J=8.4Hz,1H),8.00(s,1
H),8.41(t,J=5.1Hz,1H),10.
32(s,1H).
【0062】実施例13:N−(3−(2−ヒドロキシ
エチル)カルバモイルフェニル)−3−ブロモフェニル
アセトアミド(表−1の化合物番号28)の製造 融点:202℃ IR(KBr,cm-1):3407,3358,327
9,1671,1640,1589,1539. NMR(DMSO−d6 ,δ):3.26(m,2
H),3.47(m,2H),3.65(s,2H),
4.67(t,J=5.7Hz,1H),7.20−
7.60(m,6H),7.73(d,J=7.2H
z,1H),7.99(s,1H),8.32(m,1
H),10.28(s,1H).
エチル)カルバモイルフェニル)−3−ブロモフェニル
アセトアミド(表−1の化合物番号28)の製造 融点:202℃ IR(KBr,cm-1):3407,3358,327
9,1671,1640,1589,1539. NMR(DMSO−d6 ,δ):3.26(m,2
H),3.47(m,2H),3.65(s,2H),
4.67(t,J=5.7Hz,1H),7.20−
7.60(m,6H),7.73(d,J=7.2H
z,1H),7.99(s,1H),8.32(m,1
H),10.28(s,1H).
【0063】実施例14:N−(3−ヒドロキシカルバ
モイルフェニル)−3−ブロモフェニルアセトアミド
(表−1の化合物番号29)の製造 融点:184−186℃(分解) IR(KBr,cm-1):3314,3231,166
3,1632,1582,1535. NMR(DMSO−d6 ,δ):3.68(s,2
H),7.25−7.60(m,6H),7.75
(d,J=6.9Hz,1H),7.98(s,1
H),9.01(s,1H),10.33(s,1
H),11.12(s,1H).
モイルフェニル)−3−ブロモフェニルアセトアミド
(表−1の化合物番号29)の製造 融点:184−186℃(分解) IR(KBr,cm-1):3314,3231,166
3,1632,1582,1535. NMR(DMSO−d6 ,δ):3.68(s,2
H),7.25−7.60(m,6H),7.75
(d,J=6.9Hz,1H),7.98(s,1
H),9.01(s,1H),10.33(s,1
H),11.12(s,1H).
【0064】実施例15:N−(メトキシカルバモイル
フェニル)−3−ブロモフェニルアセトアミド(表−1
の化合物番号30)の製造 融点:166℃ IR(KBr,cm-1):3299,3187,165
9,1611,1595,1560. NMR(DMSO−d6 ,δ):3.69(s,5
H),7.22−7.60(m,6H),7.77
(s,1H),8.00(s,1H),10.37
(s,1H),11.69(s,1H).
フェニル)−3−ブロモフェニルアセトアミド(表−1
の化合物番号30)の製造 融点:166℃ IR(KBr,cm-1):3299,3187,165
9,1611,1595,1560. NMR(DMSO−d6 ,δ):3.69(s,5
H),7.22−7.60(m,6H),7.77
(s,1H),8.00(s,1H),10.37
(s,1H),11.69(s,1H).
【0065】実施例16:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−4−ブロモフェニルアセトアミド(表−
1の化合物番号33)の製造 融点:165−166℃ IR(KBr,cm-1):3283,1665,164
2,1588,1534. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.77(d,J=
4.5Hz,3H),3.64(s,2H),7.23
−7.40(m,3H),7.40−7.58(m,3
H),7.75(d,J=7.8Hz,1H),8.0
1(s,1H),8.37(d,J=4.5Hz,1
H),10.30(s,1H).
ルフェニル)−4−ブロモフェニルアセトアミド(表−
1の化合物番号33)の製造 融点:165−166℃ IR(KBr,cm-1):3283,1665,164
2,1588,1534. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.77(d,J=
4.5Hz,3H),3.64(s,2H),7.23
−7.40(m,3H),7.40−7.58(m,3
H),7.75(d,J=7.8Hz,1H),8.0
1(s,1H),8.37(d,J=4.5Hz,1
H),10.30(s,1H).
【0066】実施例17:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−3−メチルフェニルアセトアミド(表−
1の化合物番号42)の製造 融点:131℃ IR(KBr,cm-1):3299,1659,163
4,1586,1530. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.29(s,3
H),2.76(d,J=4.5Hz,3H),3.6
0(s,2H),7.06(d,J=6.9Hz,1
H),7.09−7.22(m,3H),7.36(d
d,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.47
(d,J=7.8Hz,1H),7.75(d,J=
7.8Hz,1H),8.02(s,1H),8.35
(d,J=4.5Hz,1H),10.26(s,1
H).
ルフェニル)−3−メチルフェニルアセトアミド(表−
1の化合物番号42)の製造 融点:131℃ IR(KBr,cm-1):3299,1659,163
4,1586,1530. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.29(s,3
H),2.76(d,J=4.5Hz,3H),3.6
0(s,2H),7.06(d,J=6.9Hz,1
H),7.09−7.22(m,3H),7.36(d
d,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.47
(d,J=7.8Hz,1H),7.75(d,J=
7.8Hz,1H),8.02(s,1H),8.35
(d,J=4.5Hz,1H),10.26(s,1
H).
【0067】実施例18:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−4−メチルフェニルアセトアミド(表−
1の化合物番号43)の製造 融点:174−175℃ IR(KBr,cm-1):3339,3295,165
9,1639,1586,1528. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.27(s,3
H),2.76(d,J=4.5Hz,3H),3.5
9(s,2H),7.12(d,J=8.1Hz,2
H),7.22(d,J=8.1Hz,2H),7.3
6(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.
47(d,J=7.8Hz,1H),7.75(d,J
=7.8Hz,1H),8.01(s,1H),8.3
5(d,J=4.5Hz,1H),10.24(s,1
H).
ルフェニル)−4−メチルフェニルアセトアミド(表−
1の化合物番号43)の製造 融点:174−175℃ IR(KBr,cm-1):3339,3295,165
9,1639,1586,1528. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.27(s,3
H),2.76(d,J=4.5Hz,3H),3.5
9(s,2H),7.12(d,J=8.1Hz,2
H),7.22(d,J=8.1Hz,2H),7.3
6(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.
47(d,J=7.8Hz,1H),7.75(d,J
=7.8Hz,1H),8.01(s,1H),8.3
5(d,J=4.5Hz,1H),10.24(s,1
H).
【0068】実施例19:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−3−メトキシフェニルアセトアミド(表
−1の化合物番号59)の製造 融点:104−106℃ NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.5Hz,3H),3.60(s,2H),3.73
(s,3H),6.81(m,1H),6.89−6.
92(m,2H),7.23(m,2H),7.35
(m,1H),7.47(m,1H),7.76(m,
1H),8.02(s,1H),8.38(m,1
H),10.28(s,1H).
ルフェニル)−3−メトキシフェニルアセトアミド(表
−1の化合物番号59)の製造 融点:104−106℃ NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.5Hz,3H),3.60(s,2H),3.73
(s,3H),6.81(m,1H),6.89−6.
92(m,2H),7.23(m,2H),7.35
(m,1H),7.47(m,1H),7.76(m,
1H),8.02(s,1H),8.38(m,1
H),10.28(s,1H).
【0069】実施例20:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−4−メトキシフェニルアセトアミド(表
−1の化合物番号60)の製造 融点:155−157℃ NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.5Hz,3H),3.55(s,2H),3.71
(s,3H),6.88(d,J=8.8Hz,2
H),7.24(d,J=8.8Hz,2H),7.3
5(m,1H),7.45(d,J=7.8Hz,1
H),7.74(d,J=7.8Hz,1H),8.0
0(s,1H),8.37(m,1H),10.24
(s,1H).
ルフェニル)−4−メトキシフェニルアセトアミド(表
−1の化合物番号60)の製造 融点:155−157℃ NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.5Hz,3H),3.55(s,2H),3.71
(s,3H),6.88(d,J=8.8Hz,2
H),7.24(d,J=8.8Hz,2H),7.3
5(m,1H),7.45(d,J=7.8Hz,1
H),7.74(d,J=7.8Hz,1H),8.0
0(s,1H),8.37(m,1H),10.24
(s,1H).
【0070】実施例21:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−3、4−ジメトキシフェニルアセトアミ
ド(表−1の化合物番号61)の製造 NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.5Hz,3H),3.55(s,2H),3.71
(s,3H),3.73(s,3H),6.82−6.
94(m,3H),7.35(m,1H),7.46
(d,J=7.8Hz,1H),7.75(d,J=
7.8Hz,1H),8.00(s,1H),8.37
(m,1H),10.22(s,1H).
ルフェニル)−3、4−ジメトキシフェニルアセトアミ
ド(表−1の化合物番号61)の製造 NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.5Hz,3H),3.55(s,2H),3.71
(s,3H),3.73(s,3H),6.82−6.
94(m,3H),7.35(m,1H),7.46
(d,J=7.8Hz,1H),7.75(d,J=
7.8Hz,1H),8.00(s,1H),8.37
(m,1H),10.22(s,1H).
【0071】実施例22:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−3,5−ジメトキシフェニルアセトアミ
ド(表−1の化合物番号62)の製造 融点;146−147℃ IR(KBr,cm-1):3341,3246,166
7,1638,1589,1547. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.2Hz,3H),3.56(s,2H),3.73
(s,6H),6.39(s,1H),6.51(s,
2H),7.36(dd,J=7.8Hz,7.8H
z,1H),7.47(d,J=7.8Hz,1H),
7.75(d,J=7.8Hz,1H),8.01
(s,1H),8.35(d,J=4.2Hz,1
H),10.23(s,1H).
ルフェニル)−3,5−ジメトキシフェニルアセトアミ
ド(表−1の化合物番号62)の製造 融点;146−147℃ IR(KBr,cm-1):3341,3246,166
7,1638,1589,1547. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.2Hz,3H),3.56(s,2H),3.73
(s,6H),6.39(s,1H),6.51(s,
2H),7.36(dd,J=7.8Hz,7.8H
z,1H),7.47(d,J=7.8Hz,1H),
7.75(d,J=7.8Hz,1H),8.01
(s,1H),8.35(d,J=4.2Hz,1
H),10.23(s,1H).
【0072】実施例23:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−3,4,5−トリメトキシフェニルアセ
トアミド(表−1の化合物番号63)の製造 融点;81−82℃ IR(KBr,cm-1):3304,1642,158
9,1554,1508. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.5Hz,3H),3.57(s,2H),3.63
(s,3H),3.77(s,6H),6.66(s,
2H),7.39(dd,J=7.8Hz,7.8H
z,1H),7.47(d,J=7.8Hz,1H),
7.76(d,J=7.8Hz,1H),8.03
(s,1H),8.37(d,J=4.5Hz,1
H),10.23(s,1H).
ルフェニル)−3,4,5−トリメトキシフェニルアセ
トアミド(表−1の化合物番号63)の製造 融点;81−82℃ IR(KBr,cm-1):3304,1642,158
9,1554,1508. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.5Hz,3H),3.57(s,2H),3.63
(s,3H),3.77(s,6H),6.66(s,
2H),7.39(dd,J=7.8Hz,7.8H
z,1H),7.47(d,J=7.8Hz,1H),
7.76(d,J=7.8Hz,1H),8.03
(s,1H),8.37(d,J=4.5Hz,1
H),10.23(s,1H).
【0073】実施例24:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−3−ベンジルオキシフェニルアセトアミ
ド(表−1の化合物番号68)の製造 融点;150℃ IR(KBr,cm-1):3302,1661,163
4,1586,1530. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.5Hz,3H),3.61(s,2H),5.09
(s,2H),6.91(dd,J=7.8Hz,7.
8Hz,2H),7.01(s,1H),7.27(d
d,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.25−
7.52(m,7H),7.74(d,J=7.8H
z,1H),8.02(s,1H),8.36(d,J
=4.5Hz,1H),10.27(s,1H).
ルフェニル)−3−ベンジルオキシフェニルアセトアミ
ド(表−1の化合物番号68)の製造 融点;150℃ IR(KBr,cm-1):3302,1661,163
4,1586,1530. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.5Hz,3H),3.61(s,2H),5.09
(s,2H),6.91(dd,J=7.8Hz,7.
8Hz,2H),7.01(s,1H),7.27(d
d,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.25−
7.52(m,7H),7.74(d,J=7.8H
z,1H),8.02(s,1H),8.36(d,J
=4.5Hz,1H),10.27(s,1H).
【0074】実施例25:N−(3−カルバモイルフェ
ニル)−3−ヒドロキシフェニルアセトアミド(表−1
の化合物番号71)の製造 融点;188−189℃ NMR(DMSO−d6 ,δ):3.52(s,2
H),6.62(m,1H),6.72−6.75
(m,2H),7.08(m,1H),7.32−7.
37(m,2H),7.51(d,J=6.9Hz,1
H),7.76(d,J=7.8Hz,1H),7.9
2(s,1H),8.02(s,1H),9.34
(s,1H),10.25(s,1H).
ニル)−3−ヒドロキシフェニルアセトアミド(表−1
の化合物番号71)の製造 融点;188−189℃ NMR(DMSO−d6 ,δ):3.52(s,2
H),6.62(m,1H),6.72−6.75
(m,2H),7.08(m,1H),7.32−7.
37(m,2H),7.51(d,J=6.9Hz,1
H),7.76(d,J=7.8Hz,1H),7.9
2(s,1H),8.02(s,1H),9.34
(s,1H),10.25(s,1H).
【0075】実施例26:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−3−ヒドロキシフェニルアセトアミド
(表−1の化合物番号72)の製造 融点;163℃ IR(KBr,cm-1):3333,3293,167
6,1640,1588,1562. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.74(d,J=
4.2Hz,3H),3.53(s,2H),6.61
(d,J=7.2Hz,1H),6.72(d,J=
7.2Hz,1H),6.74(s,1H),7.08
(dd,J=7.2Hz,7.2Hz,1H),7.3
4(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.
45(d,J=7.8Hz,1H),7.73(d,J
=7.8Hz,1H),7.80(s,1H),8.3
4(d,J=4.2Hz,1H),9.30(s,1
H),10.22(s,1H).
ルフェニル)−3−ヒドロキシフェニルアセトアミド
(表−1の化合物番号72)の製造 融点;163℃ IR(KBr,cm-1):3333,3293,167
6,1640,1588,1562. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.74(d,J=
4.2Hz,3H),3.53(s,2H),6.61
(d,J=7.2Hz,1H),6.72(d,J=
7.2Hz,1H),6.74(s,1H),7.08
(dd,J=7.2Hz,7.2Hz,1H),7.3
4(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.
45(d,J=7.8Hz,1H),7.73(d,J
=7.8Hz,1H),7.80(s,1H),8.3
4(d,J=4.2Hz,1H),9.30(s,1
H),10.22(s,1H).
【0076】実施例27:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−4−ヒドロキシフェニルアセトアミド
(表−1の化合物番号73)の製造 融点;195−196℃ IR(KBr,cm-1):3393,3283,166
1,1638,1541,1518. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.73(d,J=
4.5Hz,3H),3.48(s,2H),6.68
(d,J=8.4Hz,2H),7.10(d,J=
8.4Hz,2H),7.33(dd,J=7.8H
z,7.8Hz,1H),7.43(d,J=8.7H
z,1H),7.72(d,J=7.8Hz,1H),
7.98(s,1H),8.32(d,J=4.5H
z,1H),9.20(s,1H),10.14(s,
1H).
ルフェニル)−4−ヒドロキシフェニルアセトアミド
(表−1の化合物番号73)の製造 融点;195−196℃ IR(KBr,cm-1):3393,3283,166
1,1638,1541,1518. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.73(d,J=
4.5Hz,3H),3.48(s,2H),6.68
(d,J=8.4Hz,2H),7.10(d,J=
8.4Hz,2H),7.33(dd,J=7.8H
z,7.8Hz,1H),7.43(d,J=8.7H
z,1H),7.72(d,J=7.8Hz,1H),
7.98(s,1H),8.32(d,J=4.5H
z,1H),9.20(s,1H),10.14(s,
1H).
【0077】実施例28:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)3−ニトロフェニルアセトアミド(表−1
の化合物番号74)の製造 融点:139℃ IR(KBr,cm-1):3322,3250,166
5,1640,1555,1524. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.5Hz,3H),3.86(s,2H),7.37
(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.4
9(d,J=7.8Hz,1H),7.64(dd,J
=8.1Hz,8.1Hz,1H),7.75(d,J
=8.1Hz,1H),7.80(d,J=8.1H
z,1H),8.03(s,1H),8.13(d,J
=8.1Hz,1H),8.24(s,1H),8.3
7(d,J=4.5Hz,1H),10.39(s,1
H).
ルフェニル)3−ニトロフェニルアセトアミド(表−1
の化合物番号74)の製造 融点:139℃ IR(KBr,cm-1):3322,3250,166
5,1640,1555,1524. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.5Hz,3H),3.86(s,2H),7.37
(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.4
9(d,J=7.8Hz,1H),7.64(dd,J
=8.1Hz,8.1Hz,1H),7.75(d,J
=8.1Hz,1H),7.80(d,J=8.1H
z,1H),8.03(s,1H),8.13(d,J
=8.1Hz,1H),8.24(s,1H),8.3
7(d,J=4.5Hz,1H),10.39(s,1
H).
【0078】実施例29:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−4−ニトロフェニルアセトアミド(表−
1の化合物番号75)の製造 融点:148−151℃ IR(KBr,cm-1):3277,1663,164
0,1588,1522. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.74(d,J=
4.2Hz,3H),3.83(s,2H),7.35
(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.4
5(m,1H),7.60(d,J=8.7Hz,2
H),7.72(d,J=8.4Hz,1H),8.0
0(s,1H),8.19(d,J=8.7Hz,2
H),8.33(d,J=4.2Hz,1H),10.
36(s,1H).
ルフェニル)−4−ニトロフェニルアセトアミド(表−
1の化合物番号75)の製造 融点:148−151℃ IR(KBr,cm-1):3277,1663,164
0,1588,1522. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.74(d,J=
4.2Hz,3H),3.83(s,2H),7.35
(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.4
5(m,1H),7.60(d,J=8.7Hz,2
H),7.72(d,J=8.4Hz,1H),8.0
0(s,1H),8.19(d,J=8.7Hz,2
H),8.33(d,J=4.2Hz,1H),10.
36(s,1H).
【0079】実施例30:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−1−ナフチルアセトアミド(表−1の化
合物番号113)の製造 融点:201−202℃ IR(KBr,cm-1):3274,1657,164
0,1588,1532. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.5Hz,3H),4.16(s,2H),7.36
(dd,J=8.1Hz,8.1Hz,1H),7.4
0−7.60(m,5H),7.74(d,J=7.8
Hz,1H),7.84(d,J=7.8Hz,1
H),7.97(d,J=7.8Hz,1H),8.0
3(s,1H),8.35(d,J=7.8Hz,1
H),8.37(d,J=4.5Hz,1H),10.
44(s,1H).
ルフェニル)−1−ナフチルアセトアミド(表−1の化
合物番号113)の製造 融点:201−202℃ IR(KBr,cm-1):3274,1657,164
0,1588,1532. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.5Hz,3H),4.16(s,2H),7.36
(dd,J=8.1Hz,8.1Hz,1H),7.4
0−7.60(m,5H),7.74(d,J=7.8
Hz,1H),7.84(d,J=7.8Hz,1
H),7.97(d,J=7.8Hz,1H),8.0
3(s,1H),8.35(d,J=7.8Hz,1
H),8.37(d,J=4.5Hz,1H),10.
44(s,1H).
【0080】実施例31:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−2−ナフチルアセトアミド(表−1の化
合物番号114)の製造 融点:175−176℃ IR(KBr,cm-1):3393,1655,163
4,1588,1530. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.5Hz,3H),3.83(s,2H),7.37
(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.4
0−7.55(m,4H),7.77(d,J=8.4
Hz,1H),7.81−7.96(m,4H),8.
04(s,1H),8.36(d,J=4.5Hz,1
H),10.37(s,1H).
ルフェニル)−2−ナフチルアセトアミド(表−1の化
合物番号114)の製造 融点:175−176℃ IR(KBr,cm-1):3393,1655,163
4,1588,1530. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.5Hz,3H),3.83(s,2H),7.37
(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.4
0−7.55(m,4H),7.77(d,J=8.4
Hz,1H),7.81−7.96(m,4H),8.
04(s,1H),8.36(d,J=4.5Hz,1
H),10.37(s,1H).
【0081】実施例32:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−3−インドリルアセトアミド(表−1の
化合物番号140)の製造 融点:168−169℃ IR(KBr,cm-1):3382,3287,165
5,1636,1588,1555,1528. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.73(d,J=
4.5Hz,3H),3.72(s,2H),6.96
(dd,J=7.5Hz,7.5Hz,1H),7.0
5(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.
24(s,1H),7.27−7.38(m,2H),
7.43(d,J=7.8Hz,1H),7.59
(d,J=7.8Hz,1H),7.75(d,J=
8.7Hz,1H),8.00(s,1H),8.32
(d,J=4.5Hz,1H),10.18(s,1
H),10.88(s,1H).
ルフェニル)−3−インドリルアセトアミド(表−1の
化合物番号140)の製造 融点:168−169℃ IR(KBr,cm-1):3382,3287,165
5,1636,1588,1555,1528. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.73(d,J=
4.5Hz,3H),3.72(s,2H),6.96
(dd,J=7.5Hz,7.5Hz,1H),7.0
5(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.
24(s,1H),7.27−7.38(m,2H),
7.43(d,J=7.8Hz,1H),7.59
(d,J=7.8Hz,1H),7.75(d,J=
8.7Hz,1H),8.00(s,1H),8.32
(d,J=4.5Hz,1H),10.18(s,1
H),10.88(s,1H).
【0082】実施例33:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−3−ベンゾチエニルアセトアミド(表−
1の化合物番号146)の製造 融点;194℃ IR(KBr,cm-1):3285,1663,163
6,1588,1532. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.2Hz,3H),3.94(s,2H),7.32
−7.53(m,4H),7.61(s,1H),7.
76(d,J=6.9Hz,1H),7.91(d,J
=7.2Hz,1H),7.98(d,J=7.2H
z,1H),8.04(s,1H),8.35(d,J
=4.2Hz,1H),10.40(s,1H).
ルフェニル)−3−ベンゾチエニルアセトアミド(表−
1の化合物番号146)の製造 融点;194℃ IR(KBr,cm-1):3285,1663,163
6,1588,1532. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.2Hz,3H),3.94(s,2H),7.32
−7.53(m,4H),7.61(s,1H),7.
76(d,J=6.9Hz,1H),7.91(d,J
=7.2Hz,1H),7.98(d,J=7.2H
z,1H),8.04(s,1H),8.35(d,J
=4.2Hz,1H),10.40(s,1H).
【0083】実施例34:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−4−ベンゾチエニルアセトアミド(表−
1の化合物番号148)の製造 融点:192℃ IR(KBr,cm-1):3295,1676,163
2,1595,1559. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.2Hz,3H),4.03(s,2H),7.30
−7.41(m,3H),7.47(d,J=7.8H
z,1H),7.65(d,J=5.4Hz,1H),
7.75(d,J=6.3Hz,1H),7.77
(d,J=5.4Hz,1H),7.91(m,1
H),8.02(s,1H),8.35(d,J=4.
2Hz,1H),10.39(s,1H).
ルフェニル)−4−ベンゾチエニルアセトアミド(表−
1の化合物番号148)の製造 融点:192℃ IR(KBr,cm-1):3295,1676,163
2,1595,1559. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.2Hz,3H),4.03(s,2H),7.30
−7.41(m,3H),7.47(d,J=7.8H
z,1H),7.65(d,J=5.4Hz,1H),
7.75(d,J=6.3Hz,1H),7.77
(d,J=5.4Hz,1H),7.91(m,1
H),8.02(s,1H),8.35(d,J=4.
2Hz,1H),10.39(s,1H).
【0084】実施例35:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−2,2−ジメチルー2、3ージヒドロー
5ーベンゾフラニルアセトアミド(表−1の化合物番号
157)の製造 融点;92−93℃ IR(KBr,cm-1):3289,1665,161
1,1589,1555. NMR(DMSO−d6 ,δ):1.39(s,6
H),1.53(s,6H),2.75(d,J=4.
5Hz,3H),2.99(s,2H),6.65
(d,J=8.4Hz,1H),7.05(d,J=
8.1Hz,1H),7.18(s,1H),7.34
(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.4
5(d,J=7.5Hz,1H),7.80(d,J=
7.8Hz,1H),8.02(s,1H),8.33
(d,J=4.5Hz,1H),9.18(s,1
H).
ルフェニル)−2,2−ジメチルー2、3ージヒドロー
5ーベンゾフラニルアセトアミド(表−1の化合物番号
157)の製造 融点;92−93℃ IR(KBr,cm-1):3289,1665,161
1,1589,1555. NMR(DMSO−d6 ,δ):1.39(s,6
H),1.53(s,6H),2.75(d,J=4.
5Hz,3H),2.99(s,2H),6.65
(d,J=8.4Hz,1H),7.05(d,J=
8.1Hz,1H),7.18(s,1H),7.34
(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.4
5(d,J=7.5Hz,1H),7.80(d,J=
7.8Hz,1H),8.02(s,1H),8.33
(d,J=4.5Hz,1H),9.18(s,1
H).
【0085】実施例36:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−3,4−メチレンジオキシフェニルアセ
トアミド(表−1の化合物番号159)の製造 融点:174−175℃ IR(KBr,cm-1):3337,3291,165
9,1634,1586,1530,1505. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.5Hz,3H),3.55(s,2H),5.98
(s,2H),6.74−6.93(m,3H),7.
36(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),
7.47(d,J=7.8Hz,1H),7.75
(d,J=7.8Hz,1H),8.01(s,1
H),8.35(d,J=4.5Hz,1H),10.
20(s,1H).
ルフェニル)−3,4−メチレンジオキシフェニルアセ
トアミド(表−1の化合物番号159)の製造 融点:174−175℃ IR(KBr,cm-1):3337,3291,165
9,1634,1586,1530,1505. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.76(d,J=
4.5Hz,3H),3.55(s,2H),5.98
(s,2H),6.74−6.93(m,3H),7.
36(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),
7.47(d,J=7.8Hz,1H),7.75
(d,J=7.8Hz,1H),8.01(s,1
H),8.35(d,J=4.5Hz,1H),10.
20(s,1H).
【0086】実施例37:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)フェノキシアセトアミド(表−1の化合物
番号176)の製造 融点:131℃ IR(KBr,cm-1):3378、3283,166
9,1640,1588,1535. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.5Hz,3H),4.69(s,2H),6.63
ー7.01(m,3H),7.22−7.40(m,3
H),7.50(d,J=7.8Hz,1H),7.7
7(d,J=7.8Hz,1H),8.05(s,1
H),8.36(d,J=4.5Hz,1H),10.
18(s,1H).
ルフェニル)フェノキシアセトアミド(表−1の化合物
番号176)の製造 融点:131℃ IR(KBr,cm-1):3378、3283,166
9,1640,1588,1535. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.5Hz,3H),4.69(s,2H),6.63
ー7.01(m,3H),7.22−7.40(m,3
H),7.50(d,J=7.8Hz,1H),7.7
7(d,J=7.8Hz,1H),8.05(s,1
H),8.36(d,J=4.5Hz,1H),10.
18(s,1H).
【0087】実施例38:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−2−クロロフェノキシアセトアミド(表
−1の化合物番号177)の製造 融点:172〜173℃ IR(KBr,cm-1):3385,3297,168
8,1640,1591,1549. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.77(d,J=
4.5Hz,3H),4.85(s,2H),6.99
(dd,J=7.5Hz,7.5Hz,1H),7.0
8(d,J=8.1Hz,1H),7.30(dd,J
=7.5Hz,7.5Hz,1H),7.38ー7.6
0(m,3H),7.76(d,J=8.4Hz,1
H),8.06(s,1H),8.42(d,J=4.
5Hz,1H),10.31(s,1H).
ルフェニル)−2−クロロフェノキシアセトアミド(表
−1の化合物番号177)の製造 融点:172〜173℃ IR(KBr,cm-1):3385,3297,168
8,1640,1591,1549. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.77(d,J=
4.5Hz,3H),4.85(s,2H),6.99
(dd,J=7.5Hz,7.5Hz,1H),7.0
8(d,J=8.1Hz,1H),7.30(dd,J
=7.5Hz,7.5Hz,1H),7.38ー7.6
0(m,3H),7.76(d,J=8.4Hz,1
H),8.06(s,1H),8.42(d,J=4.
5Hz,1H),10.31(s,1H).
【0088】実施例39:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−2−メチルフェノキシアセトアミド(表
−1の化合物番号183)の製造 融点:148℃ IR(KBr,cm-1):3399,3285,169
6,1640,1547. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.24(s,3
H),2.75(d,J=4.5Hz,3H),4.7
0(s,2H),6.80−6.90(m,2H),
7.07−7.19(m,2H),7.37(dd,J
=8.1Hz,7.8Hz,1H),7.49(d,J
=7.8Hz,1H),7.75(d,J=8.1H
z,1H),8.05(s,1H),8.35(d,J
=4.5Hz,1H),10.14(s,1H).
ルフェニル)−2−メチルフェノキシアセトアミド(表
−1の化合物番号183)の製造 融点:148℃ IR(KBr,cm-1):3399,3285,169
6,1640,1547. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.24(s,3
H),2.75(d,J=4.5Hz,3H),4.7
0(s,2H),6.80−6.90(m,2H),
7.07−7.19(m,2H),7.37(dd,J
=8.1Hz,7.8Hz,1H),7.49(d,J
=7.8Hz,1H),7.75(d,J=8.1H
z,1H),8.05(s,1H),8.35(d,J
=4.5Hz,1H),10.14(s,1H).
【0089】実施例40:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−2−メトキシフェノキシアセトアミド
(表−1の化合物番号187)の製造 融点:133℃ IR(KBr,cm-1):3385,3268,169
0,1638,1591,1547. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.5Hz,3H),3,79(s,3H),4.66
(s,2H),6.82−7.02(m,4H),7,
38(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),
7.49(d,J=7.8Hz,1H),7.75
(d,J=7.8Hz,1H),8.05(s,1
H),8.38(d,J=4.5Hz,1H),10.
18(s,1H).
ルフェニル)−2−メトキシフェノキシアセトアミド
(表−1の化合物番号187)の製造 融点:133℃ IR(KBr,cm-1):3385,3268,169
0,1638,1591,1547. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.5Hz,3H),3,79(s,3H),4.66
(s,2H),6.82−7.02(m,4H),7,
38(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),
7.49(d,J=7.8Hz,1H),7.75
(d,J=7.8Hz,1H),8.05(s,1
H),8.38(d,J=4.5Hz,1H),10.
18(s,1H).
【0090】実施例41:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−1−ナフチルオキシアセトアミド(表−
1の化合物番号191)の製造 融点:194℃ IR(KBr,cm−1):3405,3304,16
96,1638,1541. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.2Hz,3H),4.92(s,2H),6.92
(d,J=7.8Hz,1H),7.33−7.62
(m,6H),7.79(d,J=8.1Hz,1
H),7.88(m,1H),8.08(s,1H),
8.31(m,1H),8.41(d,J=4.2H
z,1H),10.36(s,1H).
ルフェニル)−1−ナフチルオキシアセトアミド(表−
1の化合物番号191)の製造 融点:194℃ IR(KBr,cm−1):3405,3304,16
96,1638,1541. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.2Hz,3H),4.92(s,2H),6.92
(d,J=7.8Hz,1H),7.33−7.62
(m,6H),7.79(d,J=8.1Hz,1
H),7.88(m,1H),8.08(s,1H),
8.31(m,1H),8.41(d,J=4.2H
z,1H),10.36(s,1H).
【0091】実施例42:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−2−ナフチルオキシアセトアミド(表−
1の化合物番号192)の製造 融点:174℃ IR(KBr,cm-1):3382,3275,167
2,1638,1588,1557,1534. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.5Hz,3H),4.82(s,2H),7.22
−7.58(m,6H),7.78−7.95(m,4
H),8.09(s,1H),8.40(d,J=4.
5Hz,1H),10.28(s,1H).
ルフェニル)−2−ナフチルオキシアセトアミド(表−
1の化合物番号192)の製造 融点:174℃ IR(KBr,cm-1):3382,3275,167
2,1638,1588,1557,1534. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.5Hz,3H),4.82(s,2H),7.22
−7.58(m,6H),7.78−7.95(m,4
H),8.09(s,1H),8.40(d,J=4.
5Hz,1H),10.28(s,1H).
【0092】実施例43:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−2,3−ジクロロフェノキシアセトアミ
ド(表−1の化合物番号204)の製造 融点:192〜193℃ IR(KBr,cm-1):3385,3291,169
2,1644,1547. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.77(d,J=
4.5Hz,3H),4.91(s,2H),7.08
(d,J=8.1Hz,1H),7.20ー7.45
(m,3H),7.52(d,J=7.8Hz,1
H),7.74(d,J=8.7Hz,1H),8.0
5(s,1H),8.42(d,J=4.5Hz,1
H),10.34(s,1H).
ルフェニル)−2,3−ジクロロフェノキシアセトアミ
ド(表−1の化合物番号204)の製造 融点:192〜193℃ IR(KBr,cm-1):3385,3291,169
2,1644,1547. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.77(d,J=
4.5Hz,3H),4.91(s,2H),7.08
(d,J=8.1Hz,1H),7.20ー7.45
(m,3H),7.52(d,J=7.8Hz,1
H),7.74(d,J=8.7Hz,1H),8.0
5(s,1H),8.42(d,J=4.5Hz,1
H),10.34(s,1H).
【0093】実施例44:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−2−メチルー1−ナフチルアセトアミド
(表−1の化合物番号216)の製造 融点:230−231℃ IR(KBr,cm-1):3299,3071,168
4,1638,1589、1560. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.50(s,3
H),2.73(d,J=4.5Hz,3H),4.2
1(s,2H),7.22−7.55(m,5H),
7.65−7.78(m,2H),7.85(d,J=
7.8Hz,1H),8.01−8.15(m,2
H),8.36(d,J=4.5Hz,1H),10.
50(s,1H).
ルフェニル)−2−メチルー1−ナフチルアセトアミド
(表−1の化合物番号216)の製造 融点:230−231℃ IR(KBr,cm-1):3299,3071,168
4,1638,1589、1560. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.50(s,3
H),2.73(d,J=4.5Hz,3H),4.2
1(s,2H),7.22−7.55(m,5H),
7.65−7.78(m,2H),7.85(d,J=
7.8Hz,1H),8.01−8.15(m,2
H),8.36(d,J=4.5Hz,1H),10.
50(s,1H).
【0094】実施例45:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−2−ヒドロキシー1−ナフチルアセトア
ミド(表−1の化合物番号219)の製造 融点:229−230℃ IR(KBr,cm-1):3310,1686,161
3,1582、1561. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.2Hz,3H),4.11(s,2H),7.19
(d,J=9.0Hz,1H),7.20−7.50
(m,4H),7.66−7.82(m,3H),7.
87(d,J=8.4Hz,1H),8.04(s,1
H),8.37(d,J=4.5Hz,1H),9.7
9(s,1H),10.32(s,1H).
ルフェニル)−2−ヒドロキシー1−ナフチルアセトア
ミド(表−1の化合物番号219)の製造 融点:229−230℃ IR(KBr,cm-1):3310,1686,161
3,1582、1561. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.75(d,J=
4.2Hz,3H),4.11(s,2H),7.19
(d,J=9.0Hz,1H),7.20−7.50
(m,4H),7.66−7.82(m,3H),7.
87(d,J=8.4Hz,1H),8.04(s,1
H),8.37(d,J=4.5Hz,1H),9.7
9(s,1H),10.32(s,1H).
【0095】実施例46:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−3−フェニルプロピオンアミド(表−1
の化合物番号233)の製造 融点:142〜143℃ IR(KBr,cm-1):3295,1657,161
3,1593,1545. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.62(t,J=
7.8Hz,2H),2.75(d,J=4.5Hz,
3H),2.90(t,J=7.8Hz,2H),7.
10ー7.40(m,6H),7.44(d,J=7.
5Hz,1H),7.72(d,J=7.5Hz,1
H),7.99(s,1H),8.33(d,J=4.
5Hz,1H),10.00(s,1H).
ルフェニル)−3−フェニルプロピオンアミド(表−1
の化合物番号233)の製造 融点:142〜143℃ IR(KBr,cm-1):3295,1657,161
3,1593,1545. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.62(t,J=
7.8Hz,2H),2.75(d,J=4.5Hz,
3H),2.90(t,J=7.8Hz,2H),7.
10ー7.40(m,6H),7.44(d,J=7.
5Hz,1H),7.72(d,J=7.5Hz,1
H),7.99(s,1H),8.33(d,J=4.
5Hz,1H),10.00(s,1H).
【0096】実施例47:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−3−(2−メチルフェニル)プロピオン
アミド(表−1の化合物番号240)の製造 融点:131℃ IR(KBr,cm-1):3289,1674,164
0,1555. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.29(s,3
H),2.57(t,J=7.8Hz,2H),2.7
5(d,J=4.2Hz,3H),2.88(t,J=
7.8Hz,2H),7.02ー7.18(m,4
H),7.34(dd,J=7.8Hz,7.2Hz,
1H),7.44(d,J=7.2Hz,1H),7.
73(d,J=7.8Hz,1H),7.98(s,1
H),8.33(d,J=4.2Hz,1H),10.
01(s,1H).
ルフェニル)−3−(2−メチルフェニル)プロピオン
アミド(表−1の化合物番号240)の製造 融点:131℃ IR(KBr,cm-1):3289,1674,164
0,1555. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.29(s,3
H),2.57(t,J=7.8Hz,2H),2.7
5(d,J=4.2Hz,3H),2.88(t,J=
7.8Hz,2H),7.02ー7.18(m,4
H),7.34(dd,J=7.8Hz,7.2Hz,
1H),7.44(d,J=7.2Hz,1H),7.
73(d,J=7.8Hz,1H),7.98(s,1
H),8.33(d,J=4.2Hz,1H),10.
01(s,1H).
【0097】実施例48:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−3−(4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オンアミド(表−1の化合物番号245)の製造 融点:158℃ IR(KBr,cm-1):3424,3285,164
7,1553. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.54(t,J=
7.8Hz,2H),2.74(d,J=4.2Hz,
3H),2.78(t,J=7.8Hz,2H),6.
64(d,J=8.1Hz,2H),7.01(d,J
=8.1Hz,2H),7.33(dd,J=8.1H
z,7.5Hz,1H),7.43(d,J=7.5H
z,1H),7.71(d,J=8.1Hz,1H),
7.98(s,1H),8.32(d,J=4.2H
z,1H),9.10(s,1H),9.97(s,1
H).
ルフェニル)−3−(4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オンアミド(表−1の化合物番号245)の製造 融点:158℃ IR(KBr,cm-1):3424,3285,164
7,1553. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.54(t,J=
7.8Hz,2H),2.74(d,J=4.2Hz,
3H),2.78(t,J=7.8Hz,2H),6.
64(d,J=8.1Hz,2H),7.01(d,J
=8.1Hz,2H),7.33(dd,J=8.1H
z,7.5Hz,1H),7.43(d,J=7.5H
z,1H),7.71(d,J=8.1Hz,1H),
7.98(s,1H),8.32(d,J=4.2H
z,1H),9.10(s,1H),9.97(s,1
H).
【0098】実施例49:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−3−(2−メトキシフェニル)プロピオ
ンアミド(表−1の化合物番号246)の製造 融点:150℃ IR(KBr,cm-1):3297,1658,164
4,1550. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.56(t,J=
7.2Hz,2H),2.75(d,J=3.9Hz,
3H),2.85(t,J=7.2Hz,2H),3.
78(s,3H),6.84(dd,J=7.5Hz,
7.5Hz,1H),6.93(d,J=7.5Hz,
1H),7.05−7.20(m,2H),7.26
(dd,J=8.1Hz,8.1Hz,1H),7.3
4(d,J=8.1Hz,1H),7.72(d,J=
8.1Hz,1H),7.99(s,1H),8.38
(d,J=3.9Hz,1H),9.67(s,1
H).
ルフェニル)−3−(2−メトキシフェニル)プロピオ
ンアミド(表−1の化合物番号246)の製造 融点:150℃ IR(KBr,cm-1):3297,1658,164
4,1550. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.56(t,J=
7.2Hz,2H),2.75(d,J=3.9Hz,
3H),2.85(t,J=7.2Hz,2H),3.
78(s,3H),6.84(dd,J=7.5Hz,
7.5Hz,1H),6.93(d,J=7.5Hz,
1H),7.05−7.20(m,2H),7.26
(dd,J=8.1Hz,8.1Hz,1H),7.3
4(d,J=8.1Hz,1H),7.72(d,J=
8.1Hz,1H),7.99(s,1H),8.38
(d,J=3.9Hz,1H),9.67(s,1
H).
【0099】実施例50:N−(3−メチルカルバモイ
ルフェニル)−3−(4−メトキシフェニル)プロピオ
ンアミド(表−1の化合物番号248)の製造 融点:151−152℃ IR(KBr,cm-1):3289,1669,163
4,1613,1557,1514. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.57(t,J=
7.5Hz,2H),2.77(d,J=4.2Hz,
3H),2.85(t,J=7.5Hz,2H),3.
71(s,3H),6.84(d,J=8.1Hz,2
H),7.16(d,J=8.1Hz,2H),7.3
5(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.
45(d,J=7.8Hz,1H),7.74(d,J
=7.5Hz,1H),8.01(s,1H),8.3
4(d,J=4.2Hz,1H),10.00(s,1
H).
ルフェニル)−3−(4−メトキシフェニル)プロピオ
ンアミド(表−1の化合物番号248)の製造 融点:151−152℃ IR(KBr,cm-1):3289,1669,163
4,1613,1557,1514. NMR(DMSO−d6 ,δ):2.57(t,J=
7.5Hz,2H),2.77(d,J=4.2Hz,
3H),2.85(t,J=7.5Hz,2H),3.
71(s,3H),6.84(d,J=8.1Hz,2
H),7.16(d,J=8.1Hz,2H),7.3
5(dd,J=7.8Hz,7.8Hz,1H),7.
45(d,J=7.8Hz,1H),7.74(d,J
=7.5Hz,1H),8.01(s,1H),8.3
4(d,J=4.2Hz,1H),10.00(s,1
H).
【0100】試験例1:抗ヘリコバクター・ピロリ活性
の測定 牛胎児血清10%を含むブレインハートインフューショ
ン培地(Difco社製)5mlを試験管に分注し、ヒ
トより分離されたヘリコバクター・ピロリ31A株(都
立衛生研究所 微生物部 細菌第一研究科より入手)を
接種して、微好気条件下(酸素5%、二酸化炭素10
%、窒素85%)に37℃で48時間振とう培養した。
次にこの培養液を牛胎児血清10%を含むブレインハー
トインフューション培地に5%接種し、10%ジメチル
スルホキシドにて溶解した被験化合物を添加して、微好
気条件下に37℃で48時間振とう培養したのち、ヘリ
コバクター・ピロリの成育状況を調べた。活性は成育阻
害がみられた最も低い濃度(最小生育阻止濃度:MI
C)で記述した。その結果を表−2に示す。表−2に示
された結果から、本発明の化合物はヘリコバクター・ピ
ロリに対して強い阻害活性を有することがわかる。
の測定 牛胎児血清10%を含むブレインハートインフューショ
ン培地(Difco社製)5mlを試験管に分注し、ヒ
トより分離されたヘリコバクター・ピロリ31A株(都
立衛生研究所 微生物部 細菌第一研究科より入手)を
接種して、微好気条件下(酸素5%、二酸化炭素10
%、窒素85%)に37℃で48時間振とう培養した。
次にこの培養液を牛胎児血清10%を含むブレインハー
トインフューション培地に5%接種し、10%ジメチル
スルホキシドにて溶解した被験化合物を添加して、微好
気条件下に37℃で48時間振とう培養したのち、ヘリ
コバクター・ピロリの成育状況を調べた。活性は成育阻
害がみられた最も低い濃度(最小生育阻止濃度:MI
C)で記述した。その結果を表−2に示す。表−2に示
された結果から、本発明の化合物はヘリコバクター・ピ
ロリに対して強い阻害活性を有することがわかる。
【0101】
【表27】
【0102】試験例2:抗カンピロバクター・ジェジュ
ニ活性の測定 試験例1と同様の方法により、カンピロバクター・ジェ
ジュニに対する本発明化合物の阻害活性を測定した。そ
の結果、実施例31の化合物のMICは0.008μg
/mlであった。この結果から、本発明の化合物はカン
ピロバクター・ジェジュニに対して強い阻害活性を有す
ることがわかる。
ニ活性の測定 試験例1と同様の方法により、カンピロバクター・ジェ
ジュニに対する本発明化合物の阻害活性を測定した。そ
の結果、実施例31の化合物のMICは0.008μg
/mlであった。この結果から、本発明の化合物はカン
ピロバクター・ジェジュニに対して強い阻害活性を有す
ることがわかる。
【0103】試験例3:急性毒性試験 SD雌雄ラットに本発明の化合物を0.5%CMC−N
a水溶液に懸濁させたものを強制経口投与し、7日間症
状観察を行った。その結果、実施例30及び31の化合
物のLD50値はいずれも2,000mg/kg以上であっ
た。
a水溶液に懸濁させたものを強制経口投与し、7日間症
状観察を行った。その結果、実施例30及び31の化合
物のLD50値はいずれも2,000mg/kg以上であっ
た。
【0104】製剤例 (1)錠剤 下記の成分を常法に従って混合し、慣用の装置により打
錠した。 実施例31の化合物 100mg 結晶セルロース 180mg コーンスターチ 300mg 乳糖 600mg ステアリン酸マグネシウム 15mg
錠した。 実施例31の化合物 100mg 結晶セルロース 180mg コーンスターチ 300mg 乳糖 600mg ステアリン酸マグネシウム 15mg
【0105】(2)軟カプセル剤 下記の成分を常法に従って混合し、軟カプセルに充填し
た。 実施例41の化合物 100mg オリーブ油 900mg レシチン 60mg
た。 実施例41の化合物 100mg オリーブ油 900mg レシチン 60mg
【0106】
【発明の効果】本発明のアミド誘導体はヘリコバクター
・ピロリ菌に対して強い抗菌活性を示すので、医薬の有
効成分として有用である。
・ピロリ菌に対して強い抗菌活性を示すので、医薬の有
効成分として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI A61K 31/335 A61K 31/335 31/34 31/34 31/40 ACJ 31/40 ACJ 31/405 31/405 31/47 31/47 C07C 271/28 C07C 271/28 323/62 323/62 C07D 207/337 C07D 207/337 209/18 209/18 213/56 213/56 213/61 213/61 213/89 213/89 215/14 215/14 217/02 217/02 217/16 217/16 307/54 307/54 307/80 307/80 317/60 317/60 319/18 319/18 333/24 333/24 (72)発明者 渡辺 和俊 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内
Claims (24)
- 【請求項1】 下記一般式(I): 【化1】 (式中、R1 はC3 〜C8 のシクロアルキル基、置換基
を有していてもよいC6〜C14のアリール基、置換基を
有していてもよい複素環残基、置換基を有していてもよ
いC6 〜C14のアリールオキシ基、又は置換基を有して
いてもよいC7 〜C15のアリールメチル基を表わし;R
2 及びR3 はそれぞれ独立して水素原子若しくはC1 〜
C5 のアルキル基を表わすか、又はR2 とR3 はいっし
ょになってC2 〜C7 のアルキレン基を表わし;R4 及
びR5 はそれぞれ独立して水素原子又はC1 〜C5 のア
ルキル基を表わし;R6 は水素原子、水酸基で置換され
ていてもよいC1 〜C5 のアルキル基、水酸基、又はC
1 〜C5 のアルコキシ基を表わす)で示される化合物若
しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそれらの
水和物。 - 【請求項2】 R4 が水素原子である請求項1記載の化
合物若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそ
れらの水和物。 - 【請求項3】 R2 及びR3 が水素原子である請求項2
記載の化合物若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若
しくはそれらの水和物。 - 【請求項4】 R5 が水素原子である請求項3記載の化
合物若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそ
れらの水和物。 - 【請求項5】 R6 がC1 〜C5 のアルキル基である請
求項4記載の化合物若しくはその塩、又はそれらの溶媒
和物若しくはそれらの水和物。 - 【請求項6】 R6 がメチル基である請求項4記載の化
合物若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそ
れらの水和物。 - 【請求項7】 R1 が置換基を有していてもよいC6 〜
C14のアリール基である請求項6記載の化合物若しくは
その塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそれらの水和
物。 - 【請求項8】 R1 が置換基を有していてもよい複素環
残基である請求項6記載の化合物若しくはその塩、又は
それらの溶媒和物若しくはそれらの水和物。 - 【請求項9】 R1 が置換基を有していてもよいC6 〜
C14のアリールオキシ基である請求項6記載の化合物若
しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそれらの
水和物。 - 【請求項10】 R1 が置換基を有していてもよいC7
〜C15のアリールメチル基である請求項6記載の化合物
若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそれら
の水和物。 - 【請求項11】 N−(3−メチルカルバモイルフェニ
ル)−3−クロロフェニルアセトアミド;N−(3−メ
チルカルバモイルフェニル)−4−クロロフェニルアセ
トアミド;N−(3−メチルカルバモイルフェニル)−
3−ブロモフェニルアセトアミド;N−(3−メチルカ
ルバモイルフェニル)−4−ブロモフェニルアセトアミ
ド;N−(3−メチルカルバモイルフェニル)−3−メ
チルフェニルアセトアミド;N−(3−メチルカルバモ
イルフェニル)−4−メチルフェニルアセトアミド;N
−(3−メチルカルバモイルフェニル)−3−メトキシ
フェニルアセトアミド;N−(3−メチルカルバモイル
フェニル)−4−メトキシフェニルアセトアミド;N−
(3−メチルカルバモイルフェニル)−3,4,5−ト
リメトキシフェニルアセトアミド;N−(3−メチルカ
ルバモイルフェニル)−3−ベンジルオキシフェニルア
セトアミド;N−(3−メチルカルバモイルフェニル)
−1−ナフチルアセトアミド;N−(3−メチルカルバ
モイルフェニル)−2−ナフチルアセトアミド;N−
(3−メチルカルバモイルフェニル)−3−インドリル
アセトアミド;N−(3−メチルカルバモイルフェニ
ル)−3−ベンゾチエニルアセトアミド;N−(3−メ
チルカルバモイルフェニル)−4−ベンゾチエニルアセ
トアミド;N−(3−メチルカルバモイルフェニル)−
3,4−メチレンジオキシフェニルアセトアミド;N−
(3−メチルカルバモイルフェニル)−2−クロロフェ
ノキシアセトアミド;N−(3−メチルカルバモイルフ
ェニル)−2,3−ジクロロフェノキシアセトアミド;
N−(3−メチルカルバモイルフェニル)−1−ナフチ
ルオキシアセトアミド;N−(3−メチルカルバモイル
フェニル)−2−ナフチルオキシアセトアミド;及びN
−(3−メチルカルバモイルフェニル)−3−(2−メ
トキシフェニル)プロピオンアミドからなる群から選ば
れる化合物若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若し
くはそれらの水和物。 - 【請求項12】 N−(3−メチルカルバモイルフェニ
ル)−1−ナフチルアセトアミド若しくはその塩、又は
それらの溶媒和物若しくはそれらの水和物。 - 【請求項13】 N−(3−メチルカルバモイルフェニ
ル)−2−ナフチルアセトアミド若しくはその塩、又は
それらの溶媒和物若しくはそれらの水和物。 - 【請求項14】 N−(3−メチルカルバモイルフェニ
ル)−3−ベンゾチエニルアセトアミド若しくはその
塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそれらの水和物。 - 【請求項15】 N−(3−メチルカルバモイルフェニ
ル)−4−ベンゾチエニルアセトアミド若しくはその
塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそれらの水和物。 - 【請求項16】 N−(3−メチルカルバモイルフェニ
ル)−1−ナフチルオキシアセトアミド若しくはその
塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそれらの水和物。 - 【請求項17】 請求項1ないし16のいずれか1項に記
載の化合物及びその塩、並びにそれらの溶媒和物及びそ
れらの水和物からなる群から選ばれる物質を有効成分と
して含む医薬。 - 【請求項18】 有効成分である上記物質と1又は2以
上の製剤用添加物とを含む医薬組成物の形態の請求項17
に記載の医薬。 - 【請求項19】 抗菌活性を有する請求項17又は18に記
載の医薬。 - 【請求項20】 ヘリコバクター属及び/又はカンピロ
バクター属に属する微生物に対して抗菌活性を有する請
求項17ないし19のいずれか1項に記載の医薬。 - 【請求項21】 抗ヘリコバクター・ピロリ活性及び/
又は抗カンピロバクター・ジェジュニ活性を有する請求
項20に記載の医薬。 - 【請求項22】 消化器疾患の治療及び/又は予防のた
めの請求項17ないし21のいずれか1項に記載の医薬。 - 【請求項23】 消化器疾患が、胃炎、胃潰瘍、胃癌、
胃の悪性リンパ腫、MALTリンパ腫、十二指腸潰瘍、
十二指腸癌、及び腸炎からなる群から選ばれる1又は2
以上の疾患である請求項22に記載の医薬。 - 【請求項24】 消化器疾患の再発予防に用いる請求項
22又は23に記載の医薬。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10165165A JPH1171336A (ja) | 1997-06-25 | 1998-06-12 | アミド誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16848497 | 1997-06-25 | ||
| JP9-168484 | 1997-06-25 | ||
| JP10165165A JPH1171336A (ja) | 1997-06-25 | 1998-06-12 | アミド誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1171336A true JPH1171336A (ja) | 1999-03-16 |
Family
ID=26490004
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10165165A Pending JPH1171336A (ja) | 1997-06-25 | 1998-06-12 | アミド誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1171336A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002098401A1 (fr) * | 2001-06-01 | 2002-12-12 | Mitsubishi Pharma Corporation | Composition medicinale comprenant de la mucine |
| JP2003500399A (ja) * | 1999-05-25 | 2003-01-07 | アストラゼネカ・アクチエボラーグ | 免疫抑制活性を有する置換フェニル化合物および医薬組成物 |
| JP2003519676A (ja) * | 2000-01-13 | 2003-06-24 | トゥラリック インコーポレイテッド | 抗菌剤 |
| JP2004517098A (ja) * | 2000-12-21 | 2004-06-10 | グラクソ グループ リミテッド | インドール誘導体 |
| KR20180008408A (ko) * | 2015-04-17 | 2018-01-24 | 다우 아그로사이언시즈 엘엘씨 | 살충 유용성을 갖는 분자, 및 그와 관련된 중간체, 조성물 및 방법 |
-
1998
- 1998-06-12 JP JP10165165A patent/JPH1171336A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003500399A (ja) * | 1999-05-25 | 2003-01-07 | アストラゼネカ・アクチエボラーグ | 免疫抑制活性を有する置換フェニル化合物および医薬組成物 |
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| KR20180008408A (ko) * | 2015-04-17 | 2018-01-24 | 다우 아그로사이언시즈 엘엘씨 | 살충 유용성을 갖는 분자, 및 그와 관련된 중간체, 조성물 및 방법 |
| JP2018516242A (ja) * | 2015-04-17 | 2018-06-21 | ダウ アグロサイエンシィズ エルエルシー | 農薬の効用を有する分子ならびに関連する中間体、組成物及びプロセス |
| JP2018516241A (ja) * | 2015-04-17 | 2018-06-21 | ダウ アグロサイエンシィズ エルエルシー | 農薬の効用を有する分子ならびに関連する中間体、組成物及びプロセス |
| US12256738B2 (en) | 2015-04-17 | 2025-03-25 | Corteva Agriscience Llc | Molecules having pesticidal utility, and intermediates, compositions, and processes, related thereto |
| US12490741B2 (en) | 2015-04-17 | 2025-12-09 | Corteva Agriscience Llc | Molecules having pesticidal utility, and intermediates, compositions, and processes, related thereto |
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