JPH1172577A - 外装部材の製造方法及び電子機器 - Google Patents
外装部材の製造方法及び電子機器Info
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- JPH1172577A JPH1172577A JP23492397A JP23492397A JPH1172577A JP H1172577 A JPH1172577 A JP H1172577A JP 23492397 A JP23492397 A JP 23492397A JP 23492397 A JP23492397 A JP 23492397A JP H1172577 A JPH1172577 A JP H1172577A
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Landscapes
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- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 時計の外装ケースなどの外装部材の表面に、
表面加工の種類を使い分けることによって細かな模様や
文字などを表すことの可能な外装部材の製造方法を提供
する。 【解決手段】 島状メッキ層２３ａ及び外装ケース１０
の表面上にホーニング処理を施して表面を粗面化する。
ホーニング処理が完了した後、エッチング液により島状
メッキ層２３ａを除去し、金装飾層２２ａの表面を露出
させる。このようにして、外装ケース１０の表面のうち
金装飾層２２ａの表面は鏡面のまま維持されており、金
装飾層２２ａが被覆していない外装ケース１０の表面は
粗面となるため、島状メッキ層２３ａのパターンに沿っ
た微細な模様や記号文字などを表すことができる。
表面加工の種類を使い分けることによって細かな模様や
文字などを表すことの可能な外装部材の製造方法を提供
する。 【解決手段】 島状メッキ層２３ａ及び外装ケース１０
の表面上にホーニング処理を施して表面を粗面化する。
ホーニング処理が完了した後、エッチング液により島状
メッキ層２３ａを除去し、金装飾層２２ａの表面を露出
させる。このようにして、外装ケース１０の表面のうち
金装飾層２２ａの表面は鏡面のまま維持されており、金
装飾層２２ａが被覆していない外装ケース１０の表面は
粗面となるため、島状メッキ層２３ａのパターンに沿っ
た微細な模様や記号文字などを表すことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は外装部材の製造方法
及び電子機器、時計に係り、特に、時計の外装ケースの
外面模様を形成する場合に好適な技術に関する。
及び電子機器、時計に係り、特に、時計の外装ケースの
外面模様を形成する場合に好適な技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、時計の外装ケースの所望の外観を
得るために、鏡面加工、スジ目加工、ホーニング加工な
どの種々の表面加工技術が用いられている。この場合、
鏡面加工とスジ目やホーニング加工とを組み合わせるこ
とによって、外装ケースの外観上のバリエーションを増
やすことができる。
得るために、鏡面加工、スジ目加工、ホーニング加工な
どの種々の表面加工技術が用いられている。この場合、
鏡面加工とスジ目やホーニング加工とを組み合わせるこ
とによって、外装ケースの外観上のバリエーションを増
やすことができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
な種々の表面加工を組み合わせることによって、外装ケ
ースの外観に高級感を持たせたり、斬新さを強調したり
することができるが、従来は、たとえば、外装ケースの
窓枠部を鏡面加工のままとし、窓枠部以外をスジ目加工
若しくはホーニング加工によって処理するなど、外装ケ
ースの外面を大きく分けて異なる加工方法で加工する程
度であった。これは、外装ケースの全外面を鏡面加工し
た後、部分的にスジ目加工やホーニング加工を施す場
合、外装ケースの表面上に剛性の高いマスクなどを高精
度に取り付けることが困難であり、従来の方法では細か
な模様や文字を外装ケースの表面に表すことができない
という問題点があったからである。
な種々の表面加工を組み合わせることによって、外装ケ
ースの外観に高級感を持たせたり、斬新さを強調したり
することができるが、従来は、たとえば、外装ケースの
窓枠部を鏡面加工のままとし、窓枠部以外をスジ目加工
若しくはホーニング加工によって処理するなど、外装ケ
ースの外面を大きく分けて異なる加工方法で加工する程
度であった。これは、外装ケースの全外面を鏡面加工し
た後、部分的にスジ目加工やホーニング加工を施す場
合、外装ケースの表面上に剛性の高いマスクなどを高精
度に取り付けることが困難であり、従来の方法では細か
な模様や文字を外装ケースの表面に表すことができない
という問題点があったからである。
【０００４】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、時計の外装ケースなどの外装部材
の表面に、表面加工の種類を使い分けることによって細
かな模様や文字などを表すことも可能な外装部材の製造
方法を提供することにある。
であり、その課題は、時計の外装ケースなどの外装部材
の表面に、表面加工の種類を使い分けることによって細
かな模様や文字などを表すことも可能な外装部材の製造
方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明が講じた手段は、外装部材の表面上に部分的に
金属マスクを形成する工程と、前記金属マスクの上から
前記外装部材の表面を粗面化するための粒子吹付処理を
施す工程と、前記金属マスクを除去する工程とを有する
ことを特徴とする外装部材の製造方法である。
に本発明が講じた手段は、外装部材の表面上に部分的に
金属マスクを形成する工程と、前記金属マスクの上から
前記外装部材の表面を粗面化するための粒子吹付処理を
施す工程と、前記金属マスクを除去する工程とを有する
ことを特徴とする外装部材の製造方法である。
【０００６】この手段によれば、外装部材の表面上に部
分的に金属マスクを形成した後に粒子吹付処理を施すこ
とによって、金属マスクの被覆しない領域においては外
装部材の表面が粗面化されるとともに、金属マスクが形
成された領域は粗面化されることないため元の表面状態
に保持される。したがって、外装部材の表面に、金属マ
スクの形成領域に対応した元の表面状態にある部分と、
粒子吹付処理により粗面化された部分とを識別可能に表
すことができる。
分的に金属マスクを形成した後に粒子吹付処理を施すこ
とによって、金属マスクの被覆しない領域においては外
装部材の表面が粗面化されるとともに、金属マスクが形
成された領域は粗面化されることないため元の表面状態
に保持される。したがって、外装部材の表面に、金属マ
スクの形成領域に対応した元の表面状態にある部分と、
粒子吹付処理により粗面化された部分とを識別可能に表
すことができる。
【０００７】金属マスクはメッキ処理やエッチング処理
などによって微細なパターンであっても所定の厚さに容
易に形成することができるので、粒子吹付処理時におい
て外装部材の表面を確実に保護することができるととも
に、細かな模様や記号文字などを表すことのできる所望
のパターンを容易に形成することができる。
などによって微細なパターンであっても所定の厚さに容
易に形成することができるので、粒子吹付処理時におい
て外装部材の表面を確実に保護することができるととも
に、細かな模様や記号文字などを表すことのできる所望
のパターンを容易に形成することができる。
【０００８】ここで、外装部材の表面上に部分的に装飾
層と金属マスクとを積層した状態に形成する工程と、前
記金属マスクの上から前記外装部材の表面を粗面化する
ための粒子吹付処理を施す工程と、前記金属マスクを除
去する工程とを有することが好ましい。
層と金属マスクとを積層した状態に形成する工程と、前
記金属マスクの上から前記外装部材の表面を粗面化する
ための粒子吹付処理を施す工程と、前記金属マスクを除
去する工程とを有することが好ましい。
【０００９】この手段によれば、粒子吹付処理後に金属
マスクを除去すると、金属マスクの被覆していた領域に
は装飾層が元の表面状態をほぼ反映した状態で残り、金
属マスク及び装飾層が被覆していない領域は粗面化され
た状態となる。したがって、金属マスクの形成パターン
によって、粒子吹付処理の有無による表面状態の相違と
ともに装飾層の有無による表面材質の相違によって識別
性の高い模様や記号文字などを表すことができる。
マスクを除去すると、金属マスクの被覆していた領域に
は装飾層が元の表面状態をほぼ反映した状態で残り、金
属マスク及び装飾層が被覆していない領域は粗面化され
た状態となる。したがって、金属マスクの形成パターン
によって、粒子吹付処理の有無による表面状態の相違と
ともに装飾層の有無による表面材質の相違によって識別
性の高い模様や記号文字などを表すことができる。
【００１０】この場合には、前記装飾層は、前記金属マ
スクと異なる材質の金属層であることが好ましい。
スクと異なる材質の金属層であることが好ましい。
【００１１】この手段によれば、装飾層が金属マスクと
異なる材質の金属層であることによって、装飾層に与え
る影響を低減して、金属マスクを容易に除去することが
できる。
異なる材質の金属層であることによって、装飾層に与え
る影響を低減して、金属マスクを容易に除去することが
できる。
【００１２】また、上記各手段においては、前記金属マ
スクを除去した後に、前記外装部材の表面に乾式成膜法
による処理を施すことが望ましい。
スクを除去した後に、前記外装部材の表面に乾式成膜法
による処理を施すことが望ましい。
【００１３】この手段によれば、乾式成膜法による表面
の処理を行うことにより、外装部材の表面状態を損なう
ことなくそのままとし、表面の硬度を高めたり、材質感
や色調を変えたりすることが可能になる。
の処理を行うことにより、外装部材の表面状態を損なう
ことなくそのままとし、表面の硬度を高めたり、材質感
や色調を変えたりすることが可能になる。
【００１４】本発明によれば、上記各手段に記載された
製造方法により形成された外装部材を備えた電子機器を
得ることができる。ここで、電子機器とは電子的機能部
分を備えた各種機器のことであり、腕時計、懐中時計な
どの携帯時計、その他の各種時計を含むものである。さ
らに本発明は、電子時計、機械時計にも適用出来る。
製造方法により形成された外装部材を備えた電子機器を
得ることができる。ここで、電子機器とは電子的機能部
分を備えた各種機器のことであり、腕時計、懐中時計な
どの携帯時計、その他の各種時計を含むものである。さ
らに本発明は、電子時計、機械時計にも適用出来る。
【００１５】
【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係る実施形態について説明する。
に係る実施形態について説明する。
【００１６】（第１実施形態）最初に、図１乃至図９を
参照して、本発明に係る第１実施形態について説明す
る。この実施形態においては、ＳＵＳ３０４などのオー
ステナイト系のステンレス鋼、純チタン、チタン合金な
どの金属を素材として、メタルインジェクションモール
ド（金属射出成形、以下、単に「ＭＩＭ」という。）法
などによって形成した外装ケース１０を用いている。図
１は、後述する本実施形態の製造方法によって形成した
外装ケースの外観を示す平面図である。
参照して、本発明に係る第１実施形態について説明す
る。この実施形態においては、ＳＵＳ３０４などのオー
ステナイト系のステンレス鋼、純チタン、チタン合金な
どの金属を素材として、メタルインジェクションモール
ド（金属射出成形、以下、単に「ＭＩＭ」という。）法
などによって形成した外装ケース１０を用いている。図
１は、後述する本実施形態の製造方法によって形成した
外装ケースの外観を示す平面図である。
【００１７】この外装ケース１０の表面側には、中央部
に形成された表示窓１０ａの周囲にやや突出するように
帯状に形成された窓枠部１１が設けられている。この窓
枠部１１の表面は、時刻表示などのための数字、文字な
どを表す鏡面に加工された鏡面部１１ａと、この鏡面部
１１ａの周囲の粗面部１１ｂとから構成されている。外
装ケース１０における窓枠部１１以外の部分も、上記粗
面部１１ｂと同様に粗面に形成されている。また、鏡面
部１１ａの表面上には、後述するＡｕ合金からなる金装
飾層２２ａが形成されている。
に形成された表示窓１０ａの周囲にやや突出するように
帯状に形成された窓枠部１１が設けられている。この窓
枠部１１の表面は、時刻表示などのための数字、文字な
どを表す鏡面に加工された鏡面部１１ａと、この鏡面部
１１ａの周囲の粗面部１１ｂとから構成されている。外
装ケース１０における窓枠部１１以外の部分も、上記粗
面部１１ｂと同様に粗面に形成されている。また、鏡面
部１１ａの表面上には、後述するＡｕ合金からなる金装
飾層２２ａが形成されている。
【００１８】このため、外装ケース１０の外面は、ほと
んど梨地上の粗面となっており、光が粗面によって散乱
されることによってにぶく光り、その中に、鏡面加工さ
れた下地と金装飾層２２ａとによって輝く鏡面部１１ａ
が浮き立って見えるように構成されている。
んど梨地上の粗面となっており、光が粗面によって散乱
されることによってにぶく光り、その中に、鏡面加工さ
れた下地と金装飾層２２ａとによって輝く鏡面部１１ａ
が浮き立って見えるように構成されている。
【００１９】上記図１に示す外装ケース１０を製造する
方法を第１実施形態として図２乃至図９を参照して説明
する。
方法を第１実施形態として図２乃至図９を参照して説明
する。
【００２０】外装ケース１０がＭＩＭ法によって成形さ
れた後、その外面は予めバフ研磨などによって鏡面に仕
上げられる。この鏡面加工された外装ケース１０の表面
１０ｂ上には、図２に示すように、還元型の電解メッキ
により厚さ０．５μｍ程度若しくはそれ以下の薄い、Ａ
ｕ又はＡｕ合金からなるＡｕメッキ層２１が全面的に形
成される。
れた後、その外面は予めバフ研磨などによって鏡面に仕
上げられる。この鏡面加工された外装ケース１０の表面
１０ｂ上には、図２に示すように、還元型の電解メッキ
により厚さ０．５μｍ程度若しくはそれ以下の薄い、Ａ
ｕ又はＡｕ合金からなるＡｕメッキ層２１が全面的に形
成される。
【００２１】このＡｕメッキ層２１は、後述するＡｕメ
ッキ層２２の付着性及びメッキ性（（メッキ速度）を向
上させるために形成するものであり、０．１〜０．６μ
ｍの範囲が好ましい。この範囲内においても特に、０．
２〜０．４μｍ程度が上記付着性及びメッキ性と、経済
性との兼ね合いから最も望ましい。
ッキ層２２の付着性及びメッキ性（（メッキ速度）を向
上させるために形成するものであり、０．１〜０．６μ
ｍの範囲が好ましい。この範囲内においても特に、０．
２〜０．４μｍ程度が上記付着性及びメッキ性と、経済
性との兼ね合いから最も望ましい。
【００２２】上記Ａｕメッキ層２１の代わりに、種々の
金属若しくは合金製の層を用いることができ、これらの
層は、上記電解メッキに限らず、無電解メッキ、イオン
プレーティング、蒸着、スパッタリングなどの種々の方
法によって形成することができる。金属材料としては、
上層に形成する装飾層との親和性を有するものであるこ
とが好ましく、しかも、外装ケース１０の表面に付着し
やすいメッキ液が入手できるものがよい。但し、最終的
に外装ケース１０の表面から取り除くので、Ａｕメッキ
層２１のように外装ケース１０と色調の異なる材料であ
ることが、残留の有無を容易に判別できる点で好まし
い。また、Ａｕメッキ層２１のように、仮に外装ケース
１０の表面上に残留しても、腐蝕や変質などの経時変化
の発生しにくい材料であることが望ましい。
金属若しくは合金製の層を用いることができ、これらの
層は、上記電解メッキに限らず、無電解メッキ、イオン
プレーティング、蒸着、スパッタリングなどの種々の方
法によって形成することができる。金属材料としては、
上層に形成する装飾層との親和性を有するものであるこ
とが好ましく、しかも、外装ケース１０の表面に付着し
やすいメッキ液が入手できるものがよい。但し、最終的
に外装ケース１０の表面から取り除くので、Ａｕメッキ
層２１のように外装ケース１０と色調の異なる材料であ
ることが、残留の有無を容易に判別できる点で好まし
い。また、Ａｕメッキ層２１のように、仮に外装ケース
１０の表面上に残留しても、腐蝕や変質などの経時変化
の発生しにくい材料であることが望ましい。
【００２３】次に、図３に示すように、Ａｕメッキ層２
１の表面上にさらに、Ａｕ−Ｆｅ、Ａｕ−Ｉｎ、Ａｕ−
Ｎｉなどの金合金からなるＡｕメッキ層２２を電解メッ
キにより形成する。このＡｕメッキ層２２の厚さは３〜
２０μｍ程度であり、最終的な装飾性、外観などに応じ
て適宜に形成する。このＡｕメッキ層２２は、下地がＡ
ｕメッキ層２１となっているために、付着性などに制限
されることなく、種々の合金組成を有するメッキ液やメ
ッキ速度の早いメッキ液を用いて形成することができ
る。
１の表面上にさらに、Ａｕ−Ｆｅ、Ａｕ−Ｉｎ、Ａｕ−
Ｎｉなどの金合金からなるＡｕメッキ層２２を電解メッ
キにより形成する。このＡｕメッキ層２２の厚さは３〜
２０μｍ程度であり、最終的な装飾性、外観などに応じ
て適宜に形成する。このＡｕメッキ層２２は、下地がＡ
ｕメッキ層２１となっているために、付着性などに制限
されることなく、種々の合金組成を有するメッキ液やメ
ッキ速度の早いメッキ液を用いて形成することができ
る。
【００２４】続いて、Ａｕメッキ層２２の表面上にさら
にＣｕの厚付けメッキ（電解メッキ）を施して、Ｃｕ又
はＣｕ合金からなるＣｕメッキ層２３を形成する。Ｃｕ
メッキ層２３の厚さは約５〜１０μｍ程度とすることが
望ましい。このＣｕメッキ層２３は、後述するホーニン
グ加工時の金属マスクとなるものである。
にＣｕの厚付けメッキ（電解メッキ）を施して、Ｃｕ又
はＣｕ合金からなるＣｕメッキ層２３を形成する。Ｃｕ
メッキ層２３の厚さは約５〜１０μｍ程度とすることが
望ましい。このＣｕメッキ層２３は、後述するホーニン
グ加工時の金属マスクとなるものである。
【００２５】この金属マスクとしては、物性的には、種
々の金属、或いは、種々の金属の合金により形成するこ
とができる。金属材料としては、Ｃｕの他に、Ａｕ、Ｎ
ｉ、Ａｇなどの比較的柔らかな（硬度の低い）金属や合
金が好ましい。金属マスクの厚さは、材質によっても異
なるが、３〜５０μｍ程度が好ましい。これは、薄くな
るとマスクとして機能せず、厚くなると製造コストが増
大するからである。
々の金属、或いは、種々の金属の合金により形成するこ
とができる。金属材料としては、Ｃｕの他に、Ａｕ、Ｎ
ｉ、Ａｇなどの比較的柔らかな（硬度の低い）金属や合
金が好ましい。金属マスクの厚さは、材質によっても異
なるが、３〜５０μｍ程度が好ましい。これは、薄くな
るとマスクとして機能せず、厚くなると製造コストが増
大するからである。
【００２６】これらのＡｕメッキ層２２及びＣｕメッキ
層２３の形成方法も、それぞれ、電解メッキや無電解メ
ッキ以外に、イオンプレーティング、蒸着、スパッタリ
ングなどの種々の方法が採用できる。但し、この工程で
は金属若しくは合金を比較的厚く形成する必要があるこ
とから、材料が安価で、厚付けに時間のかからない方法
を選択することが製造コストを低減するために望まし
い。
層２３の形成方法も、それぞれ、電解メッキや無電解メ
ッキ以外に、イオンプレーティング、蒸着、スパッタリ
ングなどの種々の方法が採用できる。但し、この工程で
は金属若しくは合金を比較的厚く形成する必要があるこ
とから、材料が安価で、厚付けに時間のかからない方法
を選択することが製造コストを低減するために望まし
い。
【００２７】次に、図４に示すように、レジストなどの
合成樹脂からなるエッチングマスク２４を形成する。こ
のエッチングマスク２４は、レジスト塗布、露光、現像
などのフォトリソグラフィ技術によって形成してもよい
が、本実施形態では、製造コストを低減するために、レ
ジストをタコ印刷やスクリーン印刷などの方法によって
選択的に塗布している。この場合、２回以上の複数回の
塗布、印刷によってピンホールの発生などのマスク不良
を防止することが望ましい。
合成樹脂からなるエッチングマスク２４を形成する。こ
のエッチングマスク２４は、レジスト塗布、露光、現像
などのフォトリソグラフィ技術によって形成してもよい
が、本実施形態では、製造コストを低減するために、レ
ジストをタコ印刷やスクリーン印刷などの方法によって
選択的に塗布している。この場合、２回以上の複数回の
塗布、印刷によってピンホールの発生などのマスク不良
を防止することが望ましい。
【００２８】次に、図５に示すように、外装ケース１０
全体を所定のエッチング液の中に浸漬し、Ｃｕメッキ層
２３のエッチングを行い、エッチングマスク２４のパタ
ーンに一致したパターンの島状メッキ層２３ａを形成す
る。エッチング液は、本実施形態の場合、過酸化水素水
と硫酸の混合水溶液であり、数分程度でエッチングを完
了することができる。さらに、シアン系の還元剤を含む
エッチング液によってＡｕメッキ層２１及びＡｕメッキ
層２２をエッチング除去し、金下地層２１ａ及び金装飾
層２２ａを形成する。
全体を所定のエッチング液の中に浸漬し、Ｃｕメッキ層
２３のエッチングを行い、エッチングマスク２４のパタ
ーンに一致したパターンの島状メッキ層２３ａを形成す
る。エッチング液は、本実施形態の場合、過酸化水素水
と硫酸の混合水溶液であり、数分程度でエッチングを完
了することができる。さらに、シアン系の還元剤を含む
エッチング液によってＡｕメッキ層２１及びＡｕメッキ
層２２をエッチング除去し、金下地層２１ａ及び金装飾
層２２ａを形成する。
【００２９】この後、水酸化ナトリウムなどの強アルカ
リの水溶液を６０℃程度とし、１０分間ほど、外装ケー
ス１０をこの水溶液に浸漬することにより、図６に示す
ようにエッチングマスク２４を除去する。
リの水溶液を６０℃程度とし、１０分間ほど、外装ケー
ス１０をこの水溶液に浸漬することにより、図６に示す
ようにエッチングマスク２４を除去する。
【００３０】この状態で、島状メッキ層２３ａ及び外装
ケース１０の表面上にホーニング処理を施して、図７に
模式的に示すように表面を粗面化する。このホーニング
処理においては、メッシュ３２０番（約５〜５０μｍ程
度）のガラスビーズを１〜３ｋｇ／ｍｍ2 程度の圧力で
１０〜２０秒程度吹付けることによって、外装ケース１
０の表面側の外面をほぼ均一に粗面化した。このホーニ
ング処理は、ガラスビーズ以外のセラミック粒子などの
無機粒子その他の種々の硬質粒子を用いることができ、
いわゆる、サンドブラストやスクラブ研磨などにより処
理することも可能である。吹き付ける粒子の圧力はケー
ス素材によって適宜調節することが好ましく、吹き付け
る粒子の粒度は、得たい外観やケース素材によって適宜
に使い分けることが好ましい。
ケース１０の表面上にホーニング処理を施して、図７に
模式的に示すように表面を粗面化する。このホーニング
処理においては、メッシュ３２０番（約５〜５０μｍ程
度）のガラスビーズを１〜３ｋｇ／ｍｍ2 程度の圧力で
１０〜２０秒程度吹付けることによって、外装ケース１
０の表面側の外面をほぼ均一に粗面化した。このホーニ
ング処理は、ガラスビーズ以外のセラミック粒子などの
無機粒子その他の種々の硬質粒子を用いることができ、
いわゆる、サンドブラストやスクラブ研磨などにより処
理することも可能である。吹き付ける粒子の圧力はケー
ス素材によって適宜調節することが好ましく、吹き付け
る粒子の粒度は、得たい外観やケース素材によって適宜
に使い分けることが好ましい。
【００３１】次に、ホーニング処理が完了した後、上述
の図５に示すエッチング工程において用いたエッチング
液と同様のエッチング液により図８に示すように島状メ
ッキ層２３ａを除去することによって、金装飾層２２ａ
の表面を露出させる。このとき、表面のうち、島状メッ
キ層２３ａが被覆していた場所においては表面が鏡面の
まま維持されており、島状メッキ層２３ａが被覆してい
ない場所においては表面が粗面となっている。
の図５に示すエッチング工程において用いたエッチング
液と同様のエッチング液により図８に示すように島状メ
ッキ層２３ａを除去することによって、金装飾層２２ａ
の表面を露出させる。このとき、表面のうち、島状メッ
キ層２３ａが被覆していた場所においては表面が鏡面の
まま維持されており、島状メッキ層２３ａが被覆してい
ない場所においては表面が粗面となっている。
【００３２】最後に、必要に応じて、外装ケース１０の
外面にイオンプレーティングによる処理を施す。この処
理は、外装ケース１０の外面の耐擦傷性や磨耗性を向上
させるために硬度を高めたり、所望の色調を得たりする
必要がある場合に行われる。本実施形態においては、金
装飾層２２ａの表面上にレジストなどのマスクを形成し
た状態で、粗面化された外装ケース１０の表面に処理を
行う。
外面にイオンプレーティングによる処理を施す。この処
理は、外装ケース１０の外面の耐擦傷性や磨耗性を向上
させるために硬度を高めたり、所望の色調を得たりする
必要がある場合に行われる。本実施形態においては、金
装飾層２２ａの表面上にレジストなどのマスクを形成し
た状態で、粗面化された外装ケース１０の表面に処理を
行う。
【００３３】このイオンプレーティング処理は、以下の
ようにして実施した。まず、外装ケース１０を真空排気
されたイオンプレーティング装置のチャンバー中に配置
し、装置内にアルゴンガスを導入して２．５〜１０Ｐａ
の圧力に保持し、外装ケース１０に負の電圧０．５ｋＶ
程度を印加して５分間イオンボンバードメントを行っ
て、外装ケース１０の表面のクリーニングを行った。
ようにして実施した。まず、外装ケース１０を真空排気
されたイオンプレーティング装置のチャンバー中に配置
し、装置内にアルゴンガスを導入して２．５〜１０Ｐａ
の圧力に保持し、外装ケース１０に負の電圧０．５ｋＶ
程度を印加して５分間イオンボンバードメントを行っ
て、外装ケース１０の表面のクリーニングを行った。
【００３４】次に、チャンバー内からアルゴンガスを排
出し、チャンバー圧力を１〜３×１０-2Ｐａ程度に低下
させた後、電子ビーム加熱により純Ｔｉ又は純Ｃｒを蒸
発させ、反応性ガスとしてＮ2 ガス、Ｃ2 Ｈ2 ガス、Ｏ
2 ガスのうちの少なくとも一種のガスを一定量導入し、
最終的に５〜１０×１０-2Ｐａ程度の圧力にて、０．１
ｋＶ程度の電圧を外装ケース１０に印加してプラズマを
発生させ、外装ケース１０の表面上に図９に示すＴｉ化
合物又はＣｒ化合物の被膜２５を１μｍ程度の厚さに形
成した。
出し、チャンバー圧力を１〜３×１０-2Ｐａ程度に低下
させた後、電子ビーム加熱により純Ｔｉ又は純Ｃｒを蒸
発させ、反応性ガスとしてＮ2 ガス、Ｃ2 Ｈ2 ガス、Ｏ
2 ガスのうちの少なくとも一種のガスを一定量導入し、
最終的に５〜１０×１０-2Ｐａ程度の圧力にて、０．１
ｋＶ程度の電圧を外装ケース１０に印加してプラズマを
発生させ、外装ケース１０の表面上に図９に示すＴｉ化
合物又はＣｒ化合物の被膜２５を１μｍ程度の厚さに形
成した。
【００３５】この被膜２５の厚さは、純Ｔｉ又は純Ｃｒ
の蒸発時間を調節することにより制御した。硬度は被膜
の組成と成膜条件によってほぼ決定されるが、耐久性や
色調は被膜の厚さによっても変わるからである。通常、
０．５〜２μｍ程度の厚さが望ましい。被膜の色調は、
以下の表１に示すように、蒸発源の素材と成膜条件とに
よって、金色、グレー、ブラウン、金属色（ステンレス
鋼とほぼ同様の色調）、ブルーなどの種々の色調を得る
ことが可能である。なお、上記被膜を異なる条件や異な
る材料にて２層以上重ねて形成してもよい。
の蒸発時間を調節することにより制御した。硬度は被膜
の組成と成膜条件によってほぼ決定されるが、耐久性や
色調は被膜の厚さによっても変わるからである。通常、
０．５〜２μｍ程度の厚さが望ましい。被膜の色調は、
以下の表１に示すように、蒸発源の素材と成膜条件とに
よって、金色、グレー、ブラウン、金属色（ステンレス
鋼とほぼ同様の色調）、ブルーなどの種々の色調を得る
ことが可能である。なお、上記被膜を異なる条件や異な
る材料にて２層以上重ねて形成してもよい。
【００３６】
【表１】
【００３７】上記のようなイオンプレーティング法を用
いた成膜法では、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，
Ｗ等と、これらを主成分とするＣ，Ｎ，Ｏの少なくとも
１成分以上との化合物、又は、Ａｕ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ａｇ
等の貴金属及び合金を用いることによって、種々の有色
被膜を得ることができる。また、有色被膜の形成方法と
しては、イオンプレーティング法以外に、真空蒸着法、
スパッタリング法その他の種々の乾式成膜法を用いるこ
とができる。これらの乾式成膜法を用いることによっ
て、ホーニング処理を施して粗面化された表面状態を大
きく損なうことなく、表面硬化や色調の付与を行うこと
ができる。
いた成膜法では、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，
Ｗ等と、これらを主成分とするＣ，Ｎ，Ｏの少なくとも
１成分以上との化合物、又は、Ａｕ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ａｇ
等の貴金属及び合金を用いることによって、種々の有色
被膜を得ることができる。また、有色被膜の形成方法と
しては、イオンプレーティング法以外に、真空蒸着法、
スパッタリング法その他の種々の乾式成膜法を用いるこ
とができる。これらの乾式成膜法を用いることによっ
て、ホーニング処理を施して粗面化された表面状態を大
きく損なうことなく、表面硬化や色調の付与を行うこと
ができる。
【００３８】なお、本実施形態において使用した外装ケ
ースはステンレス鋼、純チタン、チタン合金製などであ
るが、同様の処理に対して、黄銅、洋白などの他の金属
材料により構成した外装ケースを用いることもできる。
また、金属材料の他に、合成樹脂によって形成した外装
ケースに適用することも可能である。但し、これらの素
地と上述の各種被膜との間の密着性に問題がある場合に
は、素地の表面上に下地層を形成した上で、上述のよう
な工程を施す必要がある。
ースはステンレス鋼、純チタン、チタン合金製などであ
るが、同様の処理に対して、黄銅、洋白などの他の金属
材料により構成した外装ケースを用いることもできる。
また、金属材料の他に、合成樹脂によって形成した外装
ケースに適用することも可能である。但し、これらの素
地と上述の各種被膜との間の密着性に問題がある場合に
は、素地の表面上に下地層を形成した上で、上述のよう
な工程を施す必要がある。
【００３９】（第２実施形態）次に、図１０乃至図１３
を参照して、本発明に係る外装部材の製造方法の第２実
施形態について説明する。この実施形態では、外装ケー
ス１０の表面上に直接に金属マスクを形成するのではな
く、予め別に所定のパターン形状に形成しておいた金属
マスクを外装ケース１０の表面上に貼着するようにした
ものである。
を参照して、本発明に係る外装部材の製造方法の第２実
施形態について説明する。この実施形態では、外装ケー
ス１０の表面上に直接に金属マスクを形成するのではな
く、予め別に所定のパターン形状に形成しておいた金属
マスクを外装ケース１０の表面上に貼着するようにした
ものである。
【００４０】この金属マスクは、時計の文字板上に貼着
されるオーナメントと同様の形成工程を経て以下のよう
にして形成される。まず、図１０に示すように、所定の
金属製の基板３０にレジストを塗布し、所定のパターン
にて露光した後、現像して所定のマスクパターン３１を
形成する。その後、基板３０の裏面保護を施した後にＮ
ｉメッキ、仕上げメッキなどを行い、メッキマスク３２
を形成する。このメッキマスク３２は、必要に応じて、
Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕなどの種々のメッキで形成することが
できる。通常は厚付けのＮｉメッキの表面上に仕上げ用
の薄いＡｕメッキを行う。
されるオーナメントと同様の形成工程を経て以下のよう
にして形成される。まず、図１０に示すように、所定の
金属製の基板３０にレジストを塗布し、所定のパターン
にて露光した後、現像して所定のマスクパターン３１を
形成する。その後、基板３０の裏面保護を施した後にＮ
ｉメッキ、仕上げメッキなどを行い、メッキマスク３２
を形成する。このメッキマスク３２は、必要に応じて、
Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕなどの種々のメッキで形成することが
できる。通常は厚付けのＮｉメッキの表面上に仕上げ用
の薄いＡｕメッキを行う。
【００４１】この基板３０上に形成されたメッキマスク
３２は、一面に粘着層を備えた合成樹脂製の転写フィル
ム３３に転写され、基板３０及びマスクパターン３１か
ら剥離される。その後、メッキマスク３２の裏面（剥離
面）に接着剤３４（図１１参照）を塗布し、図示しない
剥離紙を裏面側に貼り付けた状態で保管される。
３２は、一面に粘着層を備えた合成樹脂製の転写フィル
ム３３に転写され、基板３０及びマスクパターン３１か
ら剥離される。その後、メッキマスク３２の裏面（剥離
面）に接着剤３４（図１１参照）を塗布し、図示しない
剥離紙を裏面側に貼り付けた状態で保管される。
【００４２】外装ケース１０の表面上には、第１実施形
態と同様に外装ケース１０の表面上にＡｕメッキ層２
１、Ａｕメッキ層２２を形成し、その後、レジストを形
成してからエッチング処理を施すことによって、図１１
に示す金下地層２１ａと金装飾層２２ａが積層した状態
に形成されている。この金装飾層２２ａの表面上に、上
述の転写フィルム３３に転写されたメッキマスク３２を
接着層３４によって接着配置する。その後は、転写フィ
ルム３３を剥離した後、上記第１実施形態と同様にホー
ニング処理を施し、図１２に示すようにメッキマスク３
２及び外装ケース１０の表面が粗面化される。ホーニン
グ処理が終了した後に、図１３に示すようにメッキマス
ク３２を剥離し、金装飾層２２ａの表面上に残った接着
層３４を溶剤などで除去する。この後には、第１実施形
態と同様にイオンプレーティング処理などを行ってもよ
い。
態と同様に外装ケース１０の表面上にＡｕメッキ層２
１、Ａｕメッキ層２２を形成し、その後、レジストを形
成してからエッチング処理を施すことによって、図１１
に示す金下地層２１ａと金装飾層２２ａが積層した状態
に形成されている。この金装飾層２２ａの表面上に、上
述の転写フィルム３３に転写されたメッキマスク３２を
接着層３４によって接着配置する。その後は、転写フィ
ルム３３を剥離した後、上記第１実施形態と同様にホー
ニング処理を施し、図１２に示すようにメッキマスク３
２及び外装ケース１０の表面が粗面化される。ホーニン
グ処理が終了した後に、図１３に示すようにメッキマス
ク３２を剥離し、金装飾層２２ａの表面上に残った接着
層３４を溶剤などで除去する。この後には、第１実施形
態と同様にイオンプレーティング処理などを行ってもよ
い。
【００４３】この実施形態では、メッキマスク３２を予
め基板３０上に形成しておき、これを外装ケース１０の
表面上の金装飾層２２ａの上に転写して用いるので、外
装ケース１０の形状によらず、メッキマスク３２の形成
が容易になるという利点がある。すなわち、基板３０上
においてメッキマスク３２を形成するためのフォトリソ
グラフィ工程を実施し、メッキマスク３２の形状や配置
を予め高精度に形成しておくため、外装ケース１０上に
島状メッキ層２３ａを形成するためのメッキ工程やエッ
チング工程を行う場合と較べて、生産設備の構築、維
持、管理が容易であり、低コストで製造することができ
る。
め基板３０上に形成しておき、これを外装ケース１０の
表面上の金装飾層２２ａの上に転写して用いるので、外
装ケース１０の形状によらず、メッキマスク３２の形成
が容易になるという利点がある。すなわち、基板３０上
においてメッキマスク３２を形成するためのフォトリソ
グラフィ工程を実施し、メッキマスク３２の形状や配置
を予め高精度に形成しておくため、外装ケース１０上に
島状メッキ層２３ａを形成するためのメッキ工程やエッ
チング工程を行う場合と較べて、生産設備の構築、維
持、管理が容易であり、低コストで製造することができ
る。
【００４４】上記各実施形態では、金属マスクによって
鏡面状態を維持した領域と、粗面化した領域とを微細な
パターンで形成することができるため、模様や記号文字
などを自由にデザインすることができ、外装ケースの装
飾性を高めることができる。また、鏡面状態に維持した
部分に金合金のメッキ層（金装飾層２２ａ）が付着する
ことにより、表面状態の差異のみならず、材質や色調の
差によっても模様や記号文字などを引き立たせることが
でき、さらに外装部材の装飾性を高めることができる。
なお、鏡面状態の領域には金合金に限らず、種々の金属
層を形成することができる。
鏡面状態を維持した領域と、粗面化した領域とを微細な
パターンで形成することができるため、模様や記号文字
などを自由にデザインすることができ、外装ケースの装
飾性を高めることができる。また、鏡面状態に維持した
部分に金合金のメッキ層（金装飾層２２ａ）が付着する
ことにより、表面状態の差異のみならず、材質や色調の
差によっても模様や記号文字などを引き立たせることが
でき、さらに外装部材の装飾性を高めることができる。
なお、鏡面状態の領域には金合金に限らず、種々の金属
層を形成することができる。
【００４５】以上説明した各実施形態においては、基本
的に時計用の外装ケースについて本発明を適用した例を
示しているが、本発明を適用することの可能な外装部材
としては、時計用文字盤、時計用バンド、時計用りゅう
ず、指輪、ライター、ブレスレット、イアリング（ピア
ス）、ペンダント、ブローチ、ネクタイピン、カフスボ
タンなど、種々の物品の外装材、装飾材を対象とするこ
とができる。また本発明は、その外装部材を使用した電
卓、電子手帳、ページャー等電子機器に適用出来、電子
駆動時計、機械駆動時計等時計にも適用出来る。
的に時計用の外装ケースについて本発明を適用した例を
示しているが、本発明を適用することの可能な外装部材
としては、時計用文字盤、時計用バンド、時計用りゅう
ず、指輪、ライター、ブレスレット、イアリング（ピア
ス）、ペンダント、ブローチ、ネクタイピン、カフスボ
タンなど、種々の物品の外装材、装飾材を対象とするこ
とができる。また本発明は、その外装部材を使用した電
卓、電子手帳、ページャー等電子機器に適用出来、電子
駆動時計、機械駆動時計等時計にも適用出来る。
【００４６】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば以下
の効果を奏する。
の効果を奏する。
【００４７】請求項１によれば、金属マスクはメッキ処
理やエッチング処理などによって微細なパターンであっ
ても所定の厚さに容易に形成することができるので、粒
子吹付処理時において外装部材の表面を確実に保護する
ことができるとともに、細かな模様や記号文字などを表
すことのできる所望のパターンを容易に形成することが
できる。
理やエッチング処理などによって微細なパターンであっ
ても所定の厚さに容易に形成することができるので、粒
子吹付処理時において外装部材の表面を確実に保護する
ことができるとともに、細かな模様や記号文字などを表
すことのできる所望のパターンを容易に形成することが
できる。
【００４８】請求項２によれば、粒子吹付処理後に金属
マスクを除去すると、金属マスクの被覆していた領域に
は装飾層が元の表面状態をほぼ反映した状態で残り、金
属マスク及び装飾層が被覆していない領域は粗面化され
た状態となる。したがって、金属マスクの形成パターン
によって、粒子吹付処理の有無による表面状態の相違と
ともに装飾層の有無による表面材質の相違によって識別
性の高い模様や記号文字などを表すことができる。
マスクを除去すると、金属マスクの被覆していた領域に
は装飾層が元の表面状態をほぼ反映した状態で残り、金
属マスク及び装飾層が被覆していない領域は粗面化され
た状態となる。したがって、金属マスクの形成パターン
によって、粒子吹付処理の有無による表面状態の相違と
ともに装飾層の有無による表面材質の相違によって識別
性の高い模様や記号文字などを表すことができる。
【００４９】請求項３によれば、装飾層が金属マスクと
異なる材質の金属層であることによって、装飾層に与え
る影響を低減して、金属マスクを容易に除去することが
できる。
異なる材質の金属層であることによって、装飾層に与え
る影響を低減して、金属マスクを容易に除去することが
できる。
【００５０】請求項４によれば、乾式成膜法による表面
の処理を行うことにより、外装部材の表面状態を損なう
ことなくそのままとし、表面の硬度を高めたり、材質感
や色調を変えたりすることが可能になる。
の処理を行うことにより、外装部材の表面状態を損なう
ことなくそのままとし、表面の硬度を高めたり、材質感
や色調を変えたりすることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る製造方法によって形成された時計
の外装ケースの外観を示す概略平面図である。
の外装ケースの外観を示す概略平面図である。
【図２】本発明に係る外装部材の製造方法の第１実施形
態の１工程を示す模式断面図である。
態の１工程を示す模式断面図である。
【図３】本発明に係る外装部材の製造方法の第１実施形
態の１工程を示す模式断面図である。
態の１工程を示す模式断面図である。
【図４】本発明に係る外装部材の製造方法の第１実施形
態の１工程を示す模式断面図である。
態の１工程を示す模式断面図である。
【図５】本発明に係る外装部材の製造方法の第１実施形
態の１工程を示す模式断面図である。
態の１工程を示す模式断面図である。
【図６】本発明に係る外装部材の製造方法の第１実施形
態の１工程を示す模式断面図である。
態の１工程を示す模式断面図である。
【図７】本発明に係る外装部材の製造方法の第１実施形
態の１工程を示す模式断面図である。
態の１工程を示す模式断面図である。
【図８】本発明に係る外装部材の製造方法の第１実施形
態の１工程を示す模式断面図である。
態の１工程を示す模式断面図である。
【図９】本発明に係る外装部材の製造方法の第１実施形
態の１工程を示す模式断面図である。
態の１工程を示す模式断面図である。
【図１０】本発明に係る外装部材の製造方法の第２実施
形態の１工程を示す模式断面図である。
形態の１工程を示す模式断面図である。
【図１１】本発明に係る外装部材の製造方法の第２実施
形態の１工程を示す模式断面図である。
形態の１工程を示す模式断面図である。
【図１２】本発明に係る外装部材の製造方法の第２実施
形態の１工程を示す模式断面図である。
形態の１工程を示す模式断面図である。
【図１３】本発明に係る外装部材の製造方法の第２実施
形態の１工程を示す模式断面図である。
形態の１工程を示す模式断面図である。
１０ 外装ケース １０ａ 表示窓 １１ 窓枠部 １１ａ 鏡面部 １１ｂ 粗面部 ２１，２２ Ａｕメッキ層 ２１ａ 金下地層 ２２ａ 金装飾層 ２３ Ｃｕメッキ層 ２３ａ 島状メッキ層 ２４ レジスト ２５ 被膜 ３０ 基板 ３１ マスクパターン ３２ 金属マスク ３３ 転写フィルム ３４ 接着層
Claims (6)
- 【請求項１】 外装部材の表面上に部分的に金属マスク
を形成する工程と、前記金属マスクの上から前記外装部
材の表面を粗面化するための粒子吹付処理を施す工程
と、前記金属マスクを除去する工程とを有することを特
徴とする外装部材の製造方法。 - 【請求項２】 外装部材の表面上に部分的に装飾層と金
属マスクとを積層した状態に形成する工程と、前記金属
マスクの上から前記外装部材の表面を粗面化するための
粒子吹付処理を施す工程と、前記金属マスクを除去する
工程とを有することを特徴とする外装部材の製造方法。 - 【請求項３】 請求項２において、前記装飾層は、前記
金属マスクと異なる材質の金属層であることを特徴とす
る外装部材の製造方法。 - 【請求項４】 請求項１乃至請求項３のいずれか１項に
おいて、前記金属マスクを除去した後に、前記外装部材
の表面に乾式成膜法による処理を施すことを特徴とする
外装部材の製造方法。 - 【請求項５】 請求項１乃至請求項４のいずれか１項に
記載された製造方法により形成された外装部材を備えた
電子機器 - 【請求項６】 請求項１乃至請求項４のいずれか１項に
記載された製造方法により形成された外装部材を備えた
時計
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23492397A JPH1172577A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | 外装部材の製造方法及び電子機器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23492397A JPH1172577A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | 外装部材の製造方法及び電子機器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1172577A true JPH1172577A (ja) | 1999-03-16 |
Family
ID=16978410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23492397A Pending JPH1172577A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | 外装部材の製造方法及び電子機器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1172577A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101463541B1 (ko) * | 2013-06-10 | 2014-11-19 | 주식회사 화진 | 복수 개의 금속층을 구비한 장식 부재 및 장식 부재 제조 방법 |
-
1997
- 1997-08-29 JP JP23492397A patent/JPH1172577A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101463541B1 (ko) * | 2013-06-10 | 2014-11-19 | 주식회사 화진 | 복수 개의 금속층을 구비한 장식 부재 및 장식 부재 제조 방법 |
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