JPH117626A - 磁気記録媒体及びこれの記録・再生方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びこれの記録・再生方法Info
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- JPH117626A JPH117626A JP10069338A JP6933898A JPH117626A JP H117626 A JPH117626 A JP H117626A JP 10069338 A JP10069338 A JP 10069338A JP 6933898 A JP6933898 A JP 6933898A JP H117626 A JPH117626 A JP H117626A
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Abstract
少なく、また高密度でシャープな記録を行うことがで
き、記録及びその読み出し(再生)を繰り返し行うこと
ができる寿命の長い磁気記録媒体を提供する。また偏光
子としても用いることができ、光と磁場を与えることに
よって画像を目視できるためディスプレイとして応用す
ることができる磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 基板1、その基板表面に形成された該基
板面に垂直な側壁面2を有し側壁面2が互いに平行な多
数の溝3、および該溝の側壁面に形成された高さ0.1
μm乃至5μm、厚さ5nm乃至200nmの強磁性体
層4からなり、強磁性体層4は溝を横切る方向に0.2
μm乃至2.0μmの範囲で等間隔(L1=L2)とな
るように形成されていることを特徴とする磁気記録媒
体。
Description
し、更に詳しくは、磁気ヘッドやレーザ光によって記
録、読み出し(再生)、消去を繰り返し行うことができ
る高密度磁気記録媒体に関するものである。また、本発
明は、透明性に優れ偏光子としても使用でき、また磁場
と光を与えることによって目視することができるディス
プレイなどへの応用にも適した磁気記録媒体に関するも
のである。
情報を蓄積し、高速で入出力できる高密度情報記録媒体
の要求が高まり、その一つとして垂直磁気記録媒体が研
究されている。垂直磁気記録媒体の強磁性体層には、C
o−Cr膜、Baフェライト膜のような垂直磁気異方性
の大きい材料が開発されているが、さらに大きな垂直磁
気異方性を持つ材料の開発が必要であり、現状では強磁
性体層に用いる材料が制限されるという難点がある。ま
た、従来の垂直磁気記録媒体を強磁性体層面に対して垂
直に磁化して記録した場合、磁化部が強磁性体層面の平
行方向に広がるため、更に高密度記録が要求される場合
には、高密度でシャープな記録を行うことが困難である
という難点がある。さらに、垂直磁気記録媒体に高密度
な記録を行うには磁気ヘッドを強磁性体層面に強く圧着
する必要があり、そのため強磁性体層が削れ垂直磁気記
録媒体の寿命が短くなるという欠点があった。
直線偏光を入射させると、その直線偏光は磁性体を通過
することによって偏光面が回転し、これはファラデー効
果として知られている。そして、このファラデー効果を
有する材料を用いて磁気記録媒体、光変調素子などがつ
くられている。例えば、(1)特開昭56−15125
号にはイットリウムおよび希土類鉄ガーネットとその誘
導体を用いた磁気記録媒体、(2)特開昭61−896
05号には六方晶フェライトを用いた磁気記録媒体、
(3)特開昭62−119758号にはイットリウム鉄
ガーネット粒子を用いた塗布型磁気記録媒体、(4)特
開平4−132029号には希土類鉄ガーネット微粒子
を用いた塗布型磁気記録媒体、などが紹介されている。
これらの磁気記録媒体は、磁性体あるいは磁性体微粒子
を基板上に薄膜状に記録層として形成した構造を有して
いる。これらの磁気記録媒体によれば、記録、読み出し
(再生)、消去を良好に行うことができる。しかしその
反面、これらの磁気記録媒体は、上記の記録、読み出し
(再生)、消去の使用に限られてしまい、他の用途への
応用・転用には不向きであるといった欠点がある。
このような問題点を解決し、強磁性体層に用いる材料が
制限されることが少なく、且つ高密度でシャープな記録
を行うことができ、更に記録及びその読み出し(再生)
を繰り返し行うことができる寿命の長い磁気記録媒体を
提供することにある。また、本発明の課題は偏光子とし
ても用いることができ、また磁場と光を与えることによ
って画像を目視できディスプレイとして応用することが
できる磁気記録媒体を提供することにある。
に、基板、その基板表面に形成された該基板面に垂直な
側壁面を有し側壁面が互いに平行な多数の溝、および該
溝の側壁面に形成された高さ0.1μm乃至5μm、厚
さ5nm乃至200nmの強磁性体層からなり、強磁性
体層は溝を横切る方向に0.2μm乃至2.0μmの範
囲で等間隔となるように形成されていることを特徴とす
る磁気記録媒体が提供される。
おいて、溝内が無機または有機材料により埋められ、磁
気記録媒体表面が平滑面であることを特徴とする磁気記
録媒体が提供される。
記録媒体において、基板がレーザ光に対して透明である
ことを特徴とする磁気記録媒体が提供される。
記録媒体において、無機または有機材料がレーザ光に対
して透明であることを特徴とする磁気記録媒体が提供さ
れる。
載の磁気記録媒体において、強磁性体層がFe、Co、
Niまたはこれらの任意の組み合わせによる合金の平均
粒子径2nm乃至50nmの超微粒子を含むことを特徴
とする磁気記録媒体が提供される。
載の磁気記録媒体において、側壁面が互いに平行な多数
の溝が直線状の溝であることを特徴とする磁気記録媒体
が提供される。
えてレーザ光を照射することにより情報を記録する磁気
記録媒体の記録方法において、レーザ光に対して透明な
基板、その基板表面に形成された該基板面に垂直な側壁
面を有し側壁面が互いに平行な多数の溝、および該溝の
側壁面に形成された高さ0.1μm乃至5μm、厚さ5
nm乃至200nmの強磁性体層からなり、強磁性体層
は溝を横切る方向に0.2μm乃至2.0μmの範囲で
等間隔となるように形成されている磁気記録媒体の強磁
性体層を基板面に対し垂直方向に磁化して情報を記録す
ることを特徴とする磁気記録媒体の記録方法が提供され
る。
記録方法において、側壁面が互いに平行な多数の溝が直
線状の溝であり、記録方向に不連続で基板面に垂直な強
磁性体層を有している磁気記録媒体を用い、強磁性体層
を記録方向に1ビットとして基板面に対し垂直方向に磁
化して情報を記録することを特徴とする磁気記録媒体の
記録方法が提供される。
光の偏光面の回転を利用して記録された情報を再生する
磁気記録媒体の再生方法において、レーザ光に対して透
明な基板、その基板表面に形成された該基板面に垂直な
側壁面を有し側壁面が互いに平行な多数の溝、および該
溝の側壁面に形成された高さ0.1μm乃至5μm、厚
さ5nm乃至200nmの強磁性体層からなり、強磁性
体層は溝を横切る方向に0.2μm乃至2.0μmの範
囲で等間隔となるように形成されている磁気記録媒体の
強磁性体層を基板面に対し垂直方向に磁化して情報が記
録されていることを特徴とする磁気記録媒体の再生方法
が提供される。
基板の一方の表面に形成された該基板面に垂直な側壁面
を有し側壁面が互いに平行な多数の直線状の溝、および
該溝の側壁面に形成された高さ0.1μm乃至5μm、
厚さ5nm乃至200nmの強磁性体層からなり、強磁
性体層は溝を横切る方向に0.2μm乃至2.0μmの
範囲で等間隔となるように形成されていることを特徴と
する磁気記録媒体が提供される。
において、基板の溝のある面に光反射膜が形成されてい
ることを特徴とする磁気記録媒体が提供される。
において、基板の溝のある面と反対側の面に光反射膜が
形成されていることを特徴とする磁気記録媒体が提供さ
れる。
の磁気記録媒体において、光反射膜が設けられている面
とは反対側の面に反射防止膜が設けられていることを特
徴とする磁気記録媒体が提供される。
に記載の磁気記録媒体において、強磁性体が導電性を有
することを特徴とする磁気記録媒体が提供される。
に記載の磁気記録媒体において、強磁性体層がFe、C
o、Niまたはこれらの任意の組み合わせによる合金の
平均粒子径2nm乃至50nmの超微粒子を含むことを
特徴とする磁気記録媒体が提供される。
に記載の磁気記録媒体において、強磁性体層と接して同
じ高さで厚さ5nm乃至10nmの非磁性半導体層又は
非磁性金属層が設けられていることを特徴とする磁気記
録媒体が提供される。
に記載の磁気記録媒体において、基板がプラスチックフ
ィルムであることを特徴とする磁気記録媒体が提供され
る。
表面に形成された該基板面に垂直な側壁面を有し側壁面
が互いに平行な多数の溝、および該溝の側壁面に形成さ
れた高さ0.1μm乃至5μm、厚さ5nm乃至200
nmの強磁性体層からなり、強磁性体層は溝を横切る方
向に0.2μm乃至2.0μmの範囲で等間隔となるよ
うに形成されていることを特徴とするものであり、これ
により強磁性体層に基板面に垂直な方向に磁化して記録
することができるので、磁気ヘッドやレーザ光などを用
いて高密度でシャープな記録を行うことができ、また分
解能もよく、記録の読み出し(再生)を良好に行うこと
ができる。
及びその読み出し(再生)を繰り返し行うことができ、
長寿命化をはかることができる。
性体層は基板面に垂直(側壁面に平行)に形成されてお
り、基板面に垂直な方向に磁化して記録することができ
るので、基板面に垂直な方向(側壁面に平行な方向)に
磁気異方性を有する磁性体材料、すなわち面内磁気異方
性を有する磁性体材料を用いることができ、従来の垂直
磁気記録媒体に比べ多くの磁性体材料を用いることがで
きる。即ち、特に垂直磁気異方性の大きい磁性材料を用
いる必要はなく、強磁性体層に用いる材料が制限される
ことが少ないものである。
面が互いに平行な多数の溝は、直線状であっても、スパ
イラル状であっても、また同心円状であってもよい。
に対して透明な基板を用い、強磁性体層を、溝を横切る
方向に0.2μm乃至2.0μmの範囲で等間隔となる
ように形成することにより、偏光子としても用いること
ができ、また磁場と光を与えることによって画像を目視
できるためディスプレイとして応用することができる。
すなわち、可視光に対して透明な基板、その基板の一方
の表面に形成された該基板面に垂直な側壁面を有し側壁
面が互いに平行な多数の直線状の溝、および該溝の側壁
面に形成された高さ0.1μm乃至5μm、厚さ5nm
乃至200nmの強磁性体層からなり、強磁性体層は溝
を横切る方向に0.2μm乃至2.0μmの範囲で等間
隔となるように形成されていることを特徴とする磁気記
録媒体は、偏光子としても用いることができ、また磁場
と光を与えることによって画像を目視できるためディス
プレイとして応用することができる。
厚さ×高さの面積(同一材料、同一面積の場合)に依存
する。しかし、同一面積でもより厚さが薄くかつ高さが
高い方が、すなわちアスペクト比(高さ/厚さ)が大き
い方が偏光度が向上する。本発明では偏光度が70%以
上80%に近い値が得られるようになった。
して透明な基板上に強磁性体層が該基板に垂直に並んで
設けられていることから、高い光透過率と偏光機能が同
時に得られ、磁化部と非磁化部に高いコントラストがで
きて、大面積で画像等を記録・観察することが可能とな
る。
が好ましく、5nm未満または200nmを越えるよう
になると磁気光学効果が利用できないくらいに減少し、
また、200nmを越えるようになると可視光域での偏
光機能が低下する。更に強磁性体層の厚さが200nm
を越えるようになると透明性も低下し50%以上の光透
過率が得られなくなる。
である。この高さによって磁気光学効果による偏光面回
転角の増幅が制御できるため、画像のコントラスト設計
等が行いやすくなる。強磁性体層の高さが0.1μm未
満となると強磁性体の連続層を有する一般の磁気記録媒
体並の効果(偏光機能・磁性機能)しか発揮されず、5
μmを越えるようになると透明性が低下しディスプレイ
等としての利用が困難になる。
mが適当である。層間隔が0.2μm未満となると透明
性が低下し、偏光機能が低下してディスプレイなどとし
ての利用が困難になる。層間隔が2μmを越えるように
なると偏光機能が強磁性体層の連続ベタ膜と同じように
なってしまいディスプレイや偏光子として利用すること
がが困難である。
の垂直な側壁面に形成されることから、基板面に対して
垂直になるように形成されるが、若干の強磁性体層のた
おれ、曲がり、層間距離のバラツキは機能面に影響を与
えないので、この明細書中の垂直あるいは等間隔の用語
はこのような意味を含むものである。
に詳細に説明する。図1は本発明の磁気記録媒体の一例
を模式的に示す拡大断面図であり、基板1の表面に、該
基板面に垂直な側壁面2を有し側壁面が互いに平行な多
数の直線状の溝3、および該溝の側壁面に形成された高
さHが0.1μm乃至5μm、厚さMが5nm乃至20
0nmの強磁性体層4からなり、強磁性体層4は溝を直
角に横切る方向に0.2μm乃至2.0μmの範囲で等
間隔となるように形成されている、すなわち溝3の側壁
面2に形成された強磁性体層間の距離L1と溝と溝の間
の基板部の幅L2とが等しくなるように強磁性体層4が
形成され、L1およびL2は0.2μm乃至2.0μm
の範囲となっている。
のいずれで成形されたものでもよく、その材料として
は、例えばポリアクリル酸エステル、ポリメタアクリル
酸エステル、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド等の
アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレ
ン、ABS樹脂等のスチレン系樹脂、ポリサルフォン、
ポリエーテルサルフォン、ポリプロピレン樹脂、ポリア
リレート、エポキシ樹脂、ポリ−4−メチルペンテン−
1、フッ素化ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、フェノキシ
樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ジエチレングリコールビ
スアリルカーボネート、ナイロン樹脂、フルオレン系ポ
リマー、酢酸セルロース、ガラス、石英、アルミナ、ア
ルミニウム、ニッケル、ステンレス、セラミックスなど
が挙げられる。レーザ光によって記録、再生を行う磁気
記録媒体においては、レーザ光に対して透明である材料
からなる基板を用いればよい。
4の材料としては、強磁性体層に平行な磁気異方性(面
内磁気異方性)を有する磁性体材料が好ましいが、それ
に限定されない。強磁性体層4の材料としては、例え
ば、MnBi、γ−Fe2O3、Fe3O4、Baフェライ
ト、Pbフェライト、Coフェライト、希土類鉄ガーネ
ット、PtCo、あるいはFe、Co、Ni又はこれら
の任意の組み合わせによる合金などが挙げられる。
iまたはこれらの任意の組み合わせによる合金の平均粒
子径2nm乃至50nmの超微粒子を用いることが好ま
しい。これらを用いることにより、量子サイズ効果等新
たな光との相互作用が現れ大きな磁気光学効果が得ら
れ、S/Nの大きな高密度記録が容易に得られる。
は空間となっていても、また下記のような無機または有
機材料によって埋められていてもよい。無機材料として
は、例えばCaF2、NaF2、Na3AlF6、LiF、
MgF2、SiO2、LaF3、NdF3、Al2O3、Ce
F3、PdF2、MgO、ThO2、SnO2、La2O3、
SiO、In2O3、Nd2O3、Sb2O3、ZrO2、C
eO2、TiO2、ZnS、Bi2O3、ZnSe、Cd
S、Sb2S3、CdTe、Si、Ge、Te、PdTe
などが挙げられ、また有機材料としては、例えばアクリ
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、
ポリプロピレン樹脂、アセチルアセテート樹脂、フッ素
樹脂、スチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂などが挙げ
られる。
う磁気記録媒体においては、溝3は無機材料または有機
材料によって埋められ、且つ磁気記録媒体表面5が平滑
であることが好ましく、これにより磁気記録媒体表面が
磁気ヘッドの接触で削れるのを防止することができる。
また、レーザ光によって記録、再生を行う磁気記録媒体
においては、溝3は空間か、あるいはレーザ光に対して
透明であり基板と異なる屈折率の材料で埋められている
ことが必要である。
て記録を行うには、従来最も一般的に利用されているリ
ングヘッドでも、基板面に垂直な方向の磁束に感度の高
い、いわゆる垂直磁気ヘッドでもよく、また再生を行う
にはMR(磁気抵抗効果)ヘッドでもGMR(巨大磁気
抵抗効果)ヘッドでもよい。記録の消去を行うには、強
磁性体層に一様な磁界(強磁性体層に対して上向き、下
向き又は横向き)を印加してもよいし、交流磁界を印加
し且つゼロ磁界になるよう遠ざけてもよい。
よって記録を行うには、磁気記録媒体にバイアス磁界を
与えてレーザ光を照射し、強磁性体層を基板面に垂直方
向に磁化すればよく、これによって高密度でシャープな
記録を行うことができる。
再生レーザ光を照射し、レーザ光の偏光面の回転を利用
して再生することができる。また、レーザ光によって記
録された情報を再生する方法として、磁気ヘッドで磁束
の向きを読む方法などを用いることもできる。記録の消
去を行うには、強磁性体層に一様な磁界(強磁性体層に
対して上向き、下向き又は横向き)を印加してもよい
し、交流磁界を印加し且つゼロ磁界になるよう遠ざけて
もよく、また記録の際とはバイアス磁界の向きを逆にし
てレーザ光を照射する方法によって行ってもよい。
光を当て偏光面の回転を利用することにより行う方法で
は、磁化された強磁性体層の両側(溝部または溝を形成
する基板部)を通過するレーザ光や強磁性体層で反射さ
れるレーザ光の偏光面の回転を読むことにより記録の再
生を行うことができる。また、磁気記録媒体の基板のレ
ーザ光入射側と反対の面に光反射膜を設けることによ
り、反射されたレーザ光の偏光面が更に回転し回転角が
大きくなるのでそれを読むことにより記録の再生をより
良く行うことができる。
気テープや磁気ディスクとは異なり、基板面に垂直な強
磁性体層を有しているので、記録された磁化部の微小化
が可能となり高密度でシャープな記録を行うことができ
る。すなわち、従来の磁気テープや磁気ディスクなどの
磁気記録媒体では、磁化部が強磁性体層面に平行方向に
広がるが、本発明の磁気記録媒体によれば磁化部を強磁
性体層の基板面に垂直な方向に限定することができるの
で、磁化部の微小化が可能となり、高密度でシャープな
記録を行うことができる。
互いに平行な側壁面を有する多数の溝が直線状の溝であ
り、側壁面に形成された基板面に垂直な強磁性体層が記
録方向に不連続である磁気記録媒体を用いた場合には、
磁化部を不連続の強磁性体層の一つ一つに限定すること
ができるので、磁化部の微小化が可能となり、溝の側壁
面に形成された強磁性体層を記録方向に1ビットとして
記録することにより高密度でシャープな記録を行うこと
ができる。そして、このような高密度な記録を上記のよ
うな方法によって再生すると、強磁性体層と再生レーザ
光との相互作用による大きな磁気光学効果(偏光面の回
転)によってS/Nの良い再生信号を得ることができ
る。
平行に磁気異方性(面内磁気異方性)が強くなるので、
本発明の磁気記録媒体における強磁性体層のように基板
表面に設けられた溝の側壁面に形成された薄い強磁性体
層では、基板面に垂直方向に磁気異方性が極めて強くな
る。従って本発明の磁気記録媒体によれば、記録された
部分の磁束は磁気記録媒体表面に出やすくなり、従来の
垂直磁気記録媒体におけるような磁束が弱いという欠点
がなく、高密度記録を行うことができる。
磁気ヘッドを磁気記録媒体表面から少し離しても記録・
再生ができ、磁気記録媒体表面の削れを防止することが
できる。また、磁気ヘッドを磁気記録媒体表面に密着し
て繰り返し記録及び再生を行うことにより磁気記録媒体
表面が摩耗しても、強磁性体層が基板面に垂直に深く形
成されているため、再生出力に影響を与えることが少な
く、高密度でシャープな記録及び再生を長期間にわたっ
て繰り返し行うことができる。
1として可視光に対して透明な基板を用いることによ
り、これを偏光子としても使用することもできる。
する本発明の磁気記録媒体の代表的なものの一例を模式
的に示す拡大断面図である。図2において、磁気記録媒
体は可視光に対して透明な基板1A、その基板の一方の
表面に形成され基板面に垂直な側壁面2を有し側壁面が
互いに平行な多数の直線状の溝3、および該溝の側壁面
に形成された高さHが0.1μm乃至5μm、厚さMが
5nm乃至200nmの強磁性体層4Aからなり、強磁
性体層4Aは溝を直角に横切る方向に0.2μm乃至
2.0μmの範囲で等間隔となるように形成されてい
る、すなわち溝3の側壁面2に形成された強磁性体層間
の距離L1と溝と溝の間の基板部の幅L2とが等しくな
るように強磁性体層4Aが形成され、L1およびL2は
0.2μm乃至2.0μmの範囲となっている。そし
て、基板1Aの強磁性体層4Aが形成されている面に光
反射膜6が設けられ、光反射膜6が設けられている面と
は反対側の面に反射防止膜7が設けられている。光反射
膜6は、別の基板1B上に形成された光反射膜6を基板
1Aの強磁性体層4Aが形成されいる面に張り合わせて
形成することができる。
MMA樹脂、PMMA樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポ
リプロピレン樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、
ABS樹脂、ポリアリレート、ポリスチレン、ポリサル
フォン、ポリエーテルサルフォン、エポキシ樹脂、ポリ
−4−メチルペンテン−1、フッ素化ポリイミド樹脂、
フッ素樹脂、フェノキシ樹脂、ポリオレフィン系樹脂、
ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ナイロ
ン樹脂、フルオレン系ポリマー等の透明プラスチックに
代表される有機透明材料や、ガラス、石英、アルミナ等
の無機透明材料が用いられる。基板1Aの厚さは50〜
500μmが適当であり、薄いほど強磁性体層4Aと磁
気ヘッドとの距離が近くなり好ましい。500μmより
厚くなるようであれば、光反射膜6側から磁気ヘッドに
よって記録することも可能である。
効果が大きく、膜面内に磁気異方性を有し、保磁力が3
00〜2000エルステッドと磁気記録に適しており、
また磁気記録媒体に偏光子としての機能を持たせるため
には、光の電界によって電子が強磁性体層を移動できる
導電性を有する材料、半導体材料または金属材料などを
用いることが好ましい。
は、平均粒子径が2nm乃至50nmの大きさのFe、
Co、Niまたはこれらの任意の組み合わせによる合金
の超微粒子を含む層が特に好ましい。
み合わせによる合金は最も大きなファラデー回転角を有
し、かつ金属であるため良好な導電体であり、また、こ
れらの金属又は合金はそれを微粒子化(好ましくは平均
粒子径2nm乃至50nm)させることにより、強磁性
体層の膜面内に磁気異方性をもたせ、且つ保磁力を高め
ることができる。このことは、Fe、Co、Ni又はこ
れらの合金の粒径をコントロールすることによって保磁
力を任意に変化させることができることを意味する。す
なわち、Fe、Co、Niまたはこれらの合金の超微粒
子を用い、その粒径をコントロールすることにより、情
報の記録及びその消去がしやすく、またディスプレイ等
に応用した場合に高いコントラストを有する画像の表示
が可能な磁気記録媒体を得ることができる。
み合わせによる合金の超微粒子を含む強磁性体層は、ガ
ス中蒸着法を用いて形成することができるが、蒸着の
際、ガス中に僅かに(数100mtorr)空気を導入
することが好ましい。
(例えばFe2O3、CoFe2O4、Bi2DyFe3.8A
l1.2O12など)を用いるときは、その酸化物強磁性体
層に非磁性半導体層あるいは非磁性金属層を酸化物強磁
性体層に接して重ねるように設けて電子移動層を形成す
ることが必要である。この電子移動層が厚くなると光の
吸収が大きくなるので薄いほうが好ましい。なお、上記
Fe、Co、Niまたはこれらの任意の組み合わせによ
る合金のように導電性を有する強磁性体層を用いれば、
強磁性体層と電子移動層を兼用させることができ、より
好ましい。
属層を設けた強磁性体層を有する磁気記録媒体の一例を
模式的に示す拡大断面図である。非磁性半導体層あるい
は非磁性金属層8を酸化物強磁性体層4Bに接して重ね
て設けるには、図3(a)のように溝の側壁面に形成さ
れた酸化物強磁性体層4B上に非磁性半導体層あるいは
非磁性金属層8を設けても、また図3(b)のように溝
の側壁面に形成された非磁性半導体層あるいは非磁性金
属層8上に酸化物強磁性体層4Bを設けてもよい。
録媒体においては、溝3は空間であるか、或いは可視光
に対して透明であり基板と異なる屈折率の材料で埋めら
れていることが必要である。
反射率を有する材料、例えばCu、Al、Ag、Au、
Pt、Rh、TeOx、TeC、SeAs、TeAs、
TiN、TaN、CrN等を用い、真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンプレーティング法などにより形成す
ることができる。膜厚としては50〜500nmが好ま
しい。この他にも、SiO2、TiO2などの交互多層
膜、金属と誘電体の交互多層膜、傾斜型反射板、ホログ
ラム反射板(日本ポラロイド社製「ホロブライト」等)
なども使用できる。
よる記録や再生、或いはディスプレイとして使用する場
合には、光の透過率を向上させ、また化学的腐食や光に
よる化学的変化から磁気記録媒体を保護するうえから、
光反射膜が設けられている面とは反対側の面に反射防止
膜を設けることが望まいしい。反射防止膜は、下記表1
にあげた材料などを用い、真空蒸着法などによって形成
することができる。
イとして使用する場合において、コントラストが発現す
る様子を模式的に示す説明図である。図4の磁気記録媒
体は、可視光に対して透明な基板1A、その基板の一方
の表面に設けられた溝の側壁面に形成された強磁性体層
の磁化部4X、非磁化部4Yを有しており、基板の他方
の面に光反射膜6が設けられている。
化部4Xを有する部分(強磁性体層やその周りの基板部
や空間部など)を通り抜けてきた光11Bは偏光面が回
転している直線偏光である。光11Bは光反射層6で反
射され、この反射された光11Cは再び強磁性体層の磁
化部4Xを有する部分を通過する。ここで、光11Cは
偏光面が回転しているので、強磁性体層の磁化部4Xを
有する部分(検光子となる)を通過することができな
い。
層の非磁化部4Yを有する部分を通り抜けてきた光12
Bは直線偏光であるが、光反射層6で反射された光12
Cは偏光面が回転していない。直線偏光は強磁性体層の
非磁化部4Yを有する部分では偏光面が合っているので
通過できる。なお、光の通過の程度は強磁性体層の磁化
の程度に依存している。
く見え、非磁化部は明るく見える。この現象を有する磁
気記録媒体は偏光子を兼ねることができ、また、所望の
磁化部を形成しこれに光をあてて色々な可視像をつく
り、変化させ、消去させることができるため、バックラ
イトを必要としないディスプレイにも応用することがで
きる。
面と反対側の面に市販の偏光子を合わせることによって
も、または光反射膜6を設けずに溝の側壁面に強磁性体
層を有する基板1Aを一対の偏光子で挟むことによって
もディスプレイとすることができる。
により作製することができる。すなわち、(1)基板の
表面に、フォトリソグラフィー技術を用いて、直線状に
かつ互いに平行になるように凹形の溝を多数列形成する
工程、(2)上記溝が形成された基板上に強磁性体より
なる薄膜(強磁性体層)を形成する工程、(3)形成さ
れた強磁性体薄膜(強磁性体層)のうち凹形の溝の側壁
の表面に形成された部分のみが残存するようにエッチン
グ処理を行う工程、(4)、上記(3)の工程の次に必
要により凹形の溝が埋まるようにスパッタリングなどに
より基板上に無機材料の皮膜を形成し、基板表面が平滑
になるように研磨する工程、(5)、上記(3)または
(4)の工程の次に必要により磁気記録媒体の基板の一
面に光反射膜を形成する工程、または別の基板上に形成
した光反射層を磁気記録媒体の基板に張り合わせる工
程、により作製することができる。
工程の一例を示す説明図である。まず、基板1にレジス
ト膜9を積層し(a)、レジスト膜9上に等間隔の互い
に平行な多数の直線状の細線パターンを有するフォトマ
スクを配置してUV光を露光し、ついでウェットエッチ
ングしてレジスト膜9を一定の等しい幅m1及び間隔m2
になるようにパタン化し(b)、基板1を特定の深さに
エッチングして溝3を形成し(c)、次いでレジスト膜
9を剥離する(d)。このようにして溝3は比較的容易
に加工面に対して垂直に深く(10μmくらいまで)形
成することができる。また、リソグラフィー法を使用す
れば、直線性のきれいな細線状の溝を形成することがで
きる。
は、プラスチック板上に例えばSiO2薄膜をPVD法
で製膜し、このSiO2薄膜表面に溝を形成するように
してもよい。
体よりなる薄膜(強磁性体層)4を形成する(e)。こ
の薄膜(強磁性体層)の形成方法としては、PVD法も
しくはCVD法や、メッキ法が好適に採用されるが、特
に製法が制限されるものではない。
のうち基板表面に平行な部分をArイオン10によるエ
ッチング(湿式、乾式を問わないが、基板側に逆バイア
ス電圧を印加して逆スパッタ法によるのが好ましい)で
除去する(f)ことにより、溝の側壁面に薄膜(強磁性
体層)4を形成することができる(g)。次に、別の基
板1Bの片面に光反射層を形成し、この光反射層付き基
板の光反射層側と基板1の強磁性体薄膜(強磁性体層)
4が形成されている面とを張り合わせ、本発明の磁気記
録媒体を得ることができる(h)。また、基板としてプ
ラスチックフィルムを用いることにより、変形自在の磁
気記録媒体を得ることができる。
説明する。
なるようにCr2O3膜、ついでCr膜の2層を設け、更
にその上にポジ型レジスト膜を設けた。このレジスト膜
の上に、互いに平行な多数の直線状の細線パターンを有
するフォトマスクを配置し、UV光を用いてレジスト膜
上に図1においてL1=L2=0.5μmとなるように
多数の直線状の細線パターンを露光し、ついでウェット
エッチング手法を用いて上記レジスト膜をエッチング
し、更にフッ素系ガスを用いてガラス基板表面をエッチ
ングして、深さ0.4μm(図1においてH=0.4μ
m)の溝を形成した。ついでCr2O3膜、Cr膜の2層
およびレジスト層を剥離した。
基板の上記加工面上に、基板を加熱しないで、鉄を蒸着
し鉄超微粒子膜(強磁性体層)を形成した。使用したガ
スはArと空気の混合ガスで、Arガスを50CCM、
乾燥空気を2CCMの流量で流し、全圧力で1.3Pa
とした。このようにして形成された鉄超微粒子膜(強磁
性体層)の平均膜厚は81nmであった。
型電子顕微鏡(TEM)で観察したところ、鉄超微粒子
の平均粒子径は6nmで、各微粒子は非磁性相で隔離さ
れていた。X線光電子分光法(XPS)で測定した鉄超
微粒子膜の組成は、鉄が53%で、その他はO、C、N
であった。また、平坦部(上記鉄超微粒子膜の形成時に
ガラス基板の加工表面と同一平面に置いたガラス板上に
形成された鉄超微粒子膜)で測定した保磁力は450エ
ルステッドであり、面内方向の角型比は0.80で、大
きな面内磁気異方性を有していた。
を施し、基板表面に平行な部分(図1における2a面、
2b面)の鉄超微粒子膜(強磁性体層)を除去し、溝の
側壁面(図1における側壁面2)のみに鉄超微粒子膜
(強磁性体層)を残した。ドライエッチングは、Arガ
ス流量6CCM、真空度1.5Pa、投入電力450
W、印加電圧−500Vで25分間行った。
をSiO2とし、Arガス、O2ガスを導入して、上記ガ
ラス基板面(図1における2a面、2b面および強磁性
体層が形成されている側壁面2)がSiO2膜で覆わ
れ、溝が埋まるようにした後、化学研磨と機械研磨とを
併用してSiO2膜表面が平滑になるように研磨して磁
気記録媒体を得た。
備えた磁気記録装置を作製し、上記のようにして得られ
た磁気記録媒体を用い、図1に示すような各強磁性体層
に幅10μmでデジタル磁気記録(基板面に垂直に上向
き、または下向きの磁化)を行った。また、記録後の磁
気記録媒体について、上記磁気記録装置で強磁性体層か
らの磁化による信号強度が最大になるように磁気ヘッド
の位置を決めて用いることにより、明瞭な再生信号を得
ることができた。また、磁気記録媒体の表面を400Å
程度研磨したのちでも再生出力はほとんど変化しなかっ
た。
100nmのZnO膜を形成した。ついでスパッタ装置
を用いてZnO膜上に、Baフェライト(BaCo0.5
Ti0.5Fe11O19)の垂直磁化膜(垂直磁気異方性磁
界Hk=4.5KOe)を、基板を650℃に加熱し
て、300nmの膜厚で形成して磁気記録媒体を得た。
この磁気記録媒体について、実施例1における磁気記録
装置を用いて記録および再生をおこなったところ、記録
単位が81nmと小さくなると再生出力は実施例1の3
分の1となり、また磁気記録媒体の表面を400Å程度
研磨した後ではほとんど再生できなかった。
てH=0.4μm)の溝を有するガラス基板を用い、厚
さ50μmのポリカーボネートフィルムにそのガラス基
板の表面レプリカをとることによって、ポリカーボネー
トフィルム表面に図1においてL1=L2=0.5μ
m、H=0.4μmの周期的な凹凸を形成した。これを
実施例1で作製したガラス基板に代えて用いた以外は実
施例1と同様にして磁気記録媒体を得た。この磁気記録
媒体について、実施例1における磁気記録装置を用いて
記録および再生をおこなったところ、明瞭な再生信号を
得ることができた。また、磁気記録媒体の表面を400
Å程度研磨したのちでも再生出力はほとんど変化しなか
った。
の垂直磁化膜を有する磁気記録媒体の作製を試みたが、
ポリカーボネートフィルムは650℃の加熱ができない
ためBaフェライトが結晶化せず、磁気記録媒体を作製
することができなかった。
に磁界(0.5KG)を印加し、波長633nmのHe
−Neレーザ光を基板面に垂直に入射させて図1におけ
る各強磁性体層を加熱して幅1μmでデジタル磁気記録
(基板面に垂直に上向き、または下向きの磁化)を行っ
た。この磁気記録媒体について、実施例1における磁気
記録装置を用いて実施例1と同様にして再生をおこなっ
たところ、明瞭な再生信号を得ることができた。また、
磁気記録媒体の表面を400Å程度研磨したのちでも再
生出力はほとんど変化しなかった。
界(0.5KG)を印加して、波長633nmのHe−
Neレーザ光を入射させてBaフェライト垂直磁化膜を
加熱して幅1μmでデジタル磁気記録(基板面に垂直に
上向き、または下向きの磁化)を行ったところ、Baフ
ェライトは透過性が良すぎてレーザ光の吸収が少なく熱
感度低下が生じ、更に熱の膜面への拡散が大きいため、
記録ができなかった。
に磁界(0.5KG)を印加し、波長633nmのHe
−Neレーザ光を基板面に垂直に入射させて図1におけ
る各強磁性体層を加熱して幅1μmでデジタル磁気記録
(基板面に垂直に上向き、または下向きの磁化)を行っ
た。この磁気記録媒体に波長633nmのHe−Neレ
ーザ光を照射し強磁性体層を通過させ、レーザ光の偏光
面の回転方向(磁化部における回転角は3.6度であっ
た)を検光子で検知する光磁気ヘッドにより再生したと
ころ高密度記録の再生が可能であった。
子を用いてコバルト超微粒子膜(強磁性体層)を形成し
た以外は実施例1と同様にして磁気記録媒体を作製し
た。コバルト超微粒子膜におけるコバルト超微粒子の平
均粒子径は75Åであり、コバルト含有量は78%であ
った。この磁気記録媒体について、実施例4におけると
同様にして記録および再生をおこなったところ、回転角
は2.0度であり、高密度記録及びその再生が可能であ
った。
わりに、コバルト連続膜を真空蒸着法(真空度2×10
-4Pa)によりガラス基板表面に設けて磁気記録媒体を
作製した。この磁気記録媒体について、実施例4におけ
ると同様にしてレーザ光で記録したところ、回転角は
0.5度であり、記録及びその再生を行うことができな
かった。
mとなるようにCr2O3膜ついでCr膜の2層を設け、
更に、その上にポジ型レジスト膜を設けた。このレジス
ト膜上に、互いに平行な多数の直線状の細線パターンを
有するフォトマスクを配置し、UV光を用いてレジスト
膜上に図2においてL1=L2=1μmとなるように多
数の直線状の細線パターンを露光し、ついでウェットエ
ッチング手法を用いて上記レジスト膜をエッチングし、
更にフッ素系ガスを用いて石英表面をエッチングして、
深さ0.4μm(図2においてH=0.4μm)の溝を
形成した。ついでCr2O3膜、Cr膜の2層およびレジ
スト膜を剥離した。
混合ガスで、空気/Ar=200mtorr/50mt
orr)を用いて、上記石英基板の加工面上に基板加熱
を行わないで鉄を蒸着した。このようにして形成された
膜は平均粒径55Åの鉄超微粒子と酸化鉄、炭化物を含
んでおり、平均膜厚は76nmであった。この鉄超微粒
子膜は平坦部(上記鉄超微粒子膜の形成時に石英基板表
面と同一平面に置いたガラス板上に形成された鉄超微粒
子膜)で測定した保磁力が630エルステッドであり、
面内磁気異方性をもった膜であった。
0Vを印加し、Arガスを導入して逆スパッタ法により
基板表面に平行な部分(図2における2a面、2b面)
の鉄超微粒子膜(強磁性体層)を除去し、溝の側壁面
(図2における側壁面2)のみに鉄超微粒子膜(強磁性
体層)を残した。この石英基板の溝を有する面と反対側
の表面に反射防止膜としてMgF2(n=1.38)の
層を真空蒸着法によって100nmの厚さになるように
設けた。この反射防止膜によって可視光域の反射率は3
%程低下した。
線に対して電気ベクトルの方向が垂直な場合をS偏光、
平行な場合をP偏光とすると、以上のようにして作製し
た磁気記録媒体のS偏光透過率(T1)は波長550n
mにおいて60%以上であり、P偏光透過率(T2)は
波長550nmにおいて2%以下であった。また、偏光
度[(T1−T2)/(T1+T2)]は波長550nmに
おいて80%以上であった。この数値は得られた磁気記
録媒体が偏光子としても有用であることを裏付けるもの
である。
から直径1mmのサイズの円筒状棒磁石で文字を描いて
磁化部を形成した。この磁気記録媒体を一対のフィルム
偏光板で挟み可視化を試みたところ、磁化部はファラデ
ー回転した直線偏光がフィルム偏光板を通過することが
できずに黒く見え、一方非磁化部は偏光面の回転がない
ため明るく見えコントラストの明確な文字を読むことが
できた。
膜(厚さ200nm)を真空蒸着法で設け、上記一対の
フィルム偏光板のうちの石英基板の溝を有する面のフィ
ルム偏光板に代えて、そのAl膜側を上記石英基板の溝
を有する面に張り合わせて光反射膜を設け、上記と同様
に棒磁石で文字を描くことにより、コントラストの良い
文字を読むことができた。
てターゲットをBi2Gd1Fe4Al1O12とし、基板温
度を300℃とした以外は実施例6と同様にして、酸化
物磁性体膜(強磁性体層)を溝の側壁に厚さ57nmと
なるように設けた。ついで650℃で3時間加熱した
後、平坦部で測定した保磁力は540エルステッドであ
った。ついでGe層をスパッタ法で基板加熱なしで厚さ
80Åとなるように形成(スパッタ圧力6.7×10-3
torr、投入電力200W)した後、実施例6と同様
な方法の逆スパッタ法によりGe層を壁面の上記酸化物
磁性体膜上にのみに残して磁気記録媒体を作製した。こ
の磁気記録媒体を実施例6と同様にして用い、棒磁石で
文字を描くことにより、コントラストの良い文字を読む
ことができた。Ge層を設けない場合には文字を読むこ
とができなかった。
着法と同様にして、鉄超微粒子膜を厚さ67nmに蒸着
して磁気記録媒体を作製した。磁気記録媒体を実施例6
と同様に用い、棒磁石画像を描いても、この鉄超微粒子
膜における可視光の透過率は40%以下で、目視では黒
い膜であり、画像を見ることはできなかった。
表面が平滑な石英基板上に、酸化物磁性体膜を100n
mと900nmの厚さで形成して磁気記録媒体を作製し
た。両方の磁気記録媒体とも酸化物磁性体膜は黄色の膜
で赤色光で80%程度の透過率が得られたが、波長50
0nm以下の波長の短い光は30%以下の透過率であっ
た。実施例7と同様に棒磁石で磁化した後、市販のフィ
ルム偏光板2枚ではさんで可視化を試みた。酸化物磁性
体膜の厚さが100nmでは像が見えず、900nmで
は像は観察できたが、光透過率が低いため、反射タイプ
の場合(磁気記録媒体の一方の面に光反射膜を設けた場
合)には像は観察できなかった。
基板面に垂直に超薄膜として設けたので、基板面に平行
な方向への記録のボヤケ(ニジミ)がなく、高密度でシ
ャープな記録を行うことができる。また、繰り返し記録
及び再生により磁気記録媒体表面が摩耗しても、強磁性
体層が基板面に垂直に深く形成されているため、再生出
力に影響を与えることが少なく、長期間にわたって記録
及び再生を繰り返し行うことができる。さらに、強磁性
体層を基板面に垂直に設けているので、強磁性体層は面
内磁気異方性を有していればよく、強磁性体層に用いる
材料が制限されることが少なく、製造も容易である。
び再生を行っても磁気記録媒体表面の摩耗が少なく、記
録及び再生を長期間にわたって繰り返し行うことができ
る。請求項3または4の発明によれば、レーザ光による
記録および再生を行うことができる。請求項5の発明に
よれば、強磁性体層にFe、Co、Niまたはこれらの
任意の組み合わせによる合金の粒径500Å以下の超微
粒子を用いているので、量子サイズ効果等新たな光との
相互作用が現れ大きな磁気光学効果が得られ、S/Nの
大きな高密度記録が容易に得られる。
方向への記録のボヤケ(ニジミ)がなく、高密度でシャ
ープな記録を行うことができる。請求項7の発明によれ
ば、基板面に垂直に超薄膜として設けた強磁性体層を基
板面に対し垂直方向に磁化して情報を記録することによ
り、磁化部の微小化が可能となり、高密度でシャープな
記録を行うことができる。また、レーザ光による非接触
の記録を行うことができる。請求項8の発明によれば、
記録方向に不連続で基板面に垂直な強磁性体層を記録方
向に1ビットとして基板面に対し垂直方向に磁化して情
報を記録することにより、磁化部を不連続の強磁性体層
の一つ一つに限定することができるので、磁化部の微小
化が可能となり、高密度でシャープな記録を行うことが
できる。
成された厚さ5nm乃至200nmの強磁性体層を基板
表面に対して垂直方向に磁化して情報記録することによ
り、強磁性体層と再生レーザ光との相互作用による大き
な磁気光学効果によってS/Nの良い再生信号を得るこ
とができる。また、レーザ光による非接触の再生を行う
ことができる。請求項10の発明によれば、可視光に対
して透明な基板に強磁性体層を該基板面に対し垂直に並
べて設けたことにより、高い光透過率と偏光機能が同時
に得られ、磁化部と非磁化部に高いコントラストができ
て、大面積で画像等を記録し、ディスプレイとして画像
等を観察することができる。
反射膜を設けたことにより高いコントラストが得られ、
反射型ディスプレイとして使用することができる。請求
項13の発明によれば、反射防止膜を設けたことにより
光の透過率が向上し、よりコントラストの高い画像等を
観察することができる。請求項14の発明によれば、導
電性を有する強磁性体層を用いたため、この強磁性体層
を強磁性体層及び/又は偏光子層として利用することが
できる。請求項15の発明によれば、強磁性体層が大き
なファラデー効果を有するFe、Co、Niまたはこれ
らの任意の組み合わせによる合金の超微粒子を含むた
め、大きなファラデー効果と合わせて偏光機能を有し、
さらにコントラストの高い画像等を観察することができ
る。
絶縁性の場合に、非磁性半導体層又は非磁性金属層を重
ねて設けたので、偏光機能が付与され、コントラストの
高い画像等を観察することができる。請求項17の発明
によれば、基板がプラスチックフィルムであるので、変
形自在の磁気記録媒体を得ることができる。
大断面図である。
磁気記録媒体の代表的なものの一例を模式的に示す拡大
断面図である。
強磁性体層を有する本発明の磁気記録媒体の一例を模式
的に示す拡大断面図である。
用する場合において、コントラストが発現する様子を模
式的に示す説明図である。
示す説明図である。
きた光 11C 光反射層で反射された光 12A 円偏光 12B 強磁性体層の非磁化部を有する部分を通り抜け
てきた光 12C 光反射層で反射された光
Claims (17)
- 【請求項1】 基板、その基板表面に形成された該基板
面に垂直な側壁面を有し側壁面が互いに平行な多数の
溝、および該溝の側壁面に形成された高さ0.1μm乃
至5μm、厚さ5nm乃至200nmの強磁性体層から
なり、強磁性体層は溝を横切る方向に0.2μm乃至
2.0μmの範囲で等間隔となるように形成されている
ことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項2】 溝内が無機または有機材料により埋めら
れ、磁気記録媒体表面が平滑面であることを特徴とする
請求項1記載の磁気記録媒体。 - 【請求項3】 基板がレーザ光に対して透明であること
を特徴とする請求項1または2記載の磁気記録媒体。 - 【請求項4】 無機または有機材料がレーザ光に対して
透明であることを特徴とする請求項2または3記載の磁
気記録媒体。 - 【請求項5】 強磁性体層がFe、Co、Niまたはこ
れらの任意の組み合わせによる合金の平均粒子径2nm
乃至50nmの超微粒子を含むことを特徴とする請求項
1乃至4のいずれかに記載の磁気記録媒体。 - 【請求項6】 側壁面が互いに平行な多数の溝が直線状
の溝であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか
に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項7】 磁気記録媒体にバイアス磁界を与えてレ
ーザ光を照射することにより情報を記録する磁気記録媒
体の記録方法において、レーザ光に対して透明な基板、
その基板表面に形成された該基板面に垂直な側壁面を有
し側壁面が互いに平行な多数の溝、および該溝の側壁面
に形成された高さ0.1μm乃至5μm、厚さ5nm乃
至200nmの強磁性体層からなり、強磁性体層は溝を
横切る方向に0.2μm乃至2.0μmの範囲で等間隔
となるように形成されている磁気記録媒体の強磁性体層
を基板面に対し垂直方向に磁化して情報を記録すること
を特徴とする磁気記録媒体の記録方法。 - 【請求項8】 側壁面が互いに平行な多数の溝が直線状
の溝であり、記録方向に不連続で基板面に垂直な強磁性
体層を有している磁気記録媒体を用い、強磁性体層を記
録方向に1ビットとして基板面に対し垂直方向に磁化し
て情報を記録することを特徴とする請求項7記載の磁気
記録媒体の記録方法。 - 【請求項9】 磁気記録媒体に照射されたレーザ光の偏
光面の回転を利用して記録された情報を再生する磁気記
録媒体の再生方法において、レーザ光に対して透明な基
板、その基板表面に形成された該基板面に垂直な側壁面
を有し側壁面が互いに平行な多数の溝、および該溝の側
壁面に形成された高さ0.1μm乃至5μm、厚さ5n
m乃至200nmの強磁性体層からなり、強磁性体層は
溝を横切る方向に0.2μm乃至2.0μmの範囲で等
間隔となるように形成されている磁気記録媒体の強磁性
体層を基板面に対して垂直方向に磁化して情報が記録さ
れていることを特徴とする磁気記録媒体の再生方法。 - 【請求項10】 可視光に対して透明な基板、その基板
の一方の表面に形成された該基板面に垂直な側壁面を有
し側壁面が互いに平行な多数の直線状の溝、および該溝
の側壁面に形成された高さ0.1μm乃至5μm、厚さ
5nm乃至200nmの強磁性体層からなり、強磁性体
層は溝を横切る方向に0.2μm乃至2.0μmの範囲
で等間隔となるように形成されていることを特徴とする
磁気記録媒体。 - 【請求項11】 基板の溝のある面に光反射膜が形成さ
れていることを特徴とする請求項10記載の磁気記録媒
体。 - 【請求項12】 基板の溝のある面と反対側の面に光反
射膜が形成されていることを特徴とする請求項10記載
の磁気記録媒体。 - 【請求項13】 光反射膜が設けられている面とは反対
側の面に反射防止膜が設けられていることを特徴とする
請求項11または12記載の磁気記録媒体。 - 【請求項14】 強磁性体が導電性を有することを特徴
とする請求項10乃至13のいずれかに記載の磁気記録
媒体。 - 【請求項15】 強磁性体層がFe、Co、Niまたは
これらの任意の組み合わせによる合金の平均粒子径2n
m乃至50nmの超微粒子を含むことを特徴とする請求
項10乃至14のいずれかに記載の磁気記録媒体。 - 【請求項16】 強磁性体層と接して同じ高さで厚さ5
nm乃至10nmの非磁性半導体層又は非磁性金属層が
設けられていることを特徴とする請求項10乃至15の
いずれかに記載の磁気記録媒体。 - 【請求項17】 基板がプラスチックフィルムであるこ
とを特徴とする請求1乃至16のいずれかに記載の磁気
記録媒体。
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|---|---|---|---|
| JP06933898A JP3833813B2 (ja) | 1997-04-21 | 1998-03-04 | 磁気記録媒体及びこれの記録・再生方法 |
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| JP11762697 | 1997-04-21 | ||
| JP06933898A JP3833813B2 (ja) | 1997-04-21 | 1998-03-04 | 磁気記録媒体及びこれの記録・再生方法 |
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ID=26410532
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| JP06933898A Expired - Fee Related JP3833813B2 (ja) | 1997-04-21 | 1998-03-04 | 磁気記録媒体及びこれの記録・再生方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3833813B2 (ja) |
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