JPH1178009A - インクジェット式記録ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 記録密度を向上させた状態でクロストークや
インク滴吐出不良を防止することができるインクジェッ
ト式記録ヘッドを提供する。 【解決手段】 一方面にノズル開口に連通すると共に複
数の隔壁１１で区画された圧力発生室１２の列１３を少
なくとも２列備え、他方面に前記圧力発生室１２の一部
を構成する振動板および前記圧力発生室１２に対向する
領域に形成された圧電体能動部からなる圧電振動子を備
えた流路形成基板１０を具備するインクジェット式記録
ヘッドにおいて、前記流路形成基板１０の前記一方面上
には、少なくとも前記圧力発生室１２の列１３と列１３
との間に対応する位置に、当該流路形成基板１０とは別
部材である補強部材２０を固着し、圧電振動子の駆動に
よる変位を補強部材２０に受けとめさせて流路形成基板
１０のたわみを抑制し、クロストークを防止する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、インク滴を吐出す
るノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構
成し、この振動板の表面の圧電体層を形成して、圧電体
層の変位によりインク滴を吐出させるインクジェット式
記録ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】インク滴を吐出するノズル開口と連通す
る圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧
電振動子により変形させて圧力発生室のインクを加圧し
てノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット
式記録ヘッドには、圧電振動子が軸方向に伸長、収縮す
る縦振動モードの圧電振動子を使用したものと、たわみ
振動モードの圧電振動子を使用したものの２種類が実用
化されている。

【０００３】前者は圧電振動子の端面を振動板に当接さ
せることにより圧力発生室の容積を変化させることがで
きて、高密度印刷に適したヘッドの製作が可能である反
面、圧電振動子をノズル開口の配列ピッチに一致させて
櫛歯状に切り分けるという困難な工程や、切り分けられ
た圧電振動子を圧力発生室に位置決めして固定する作業
が必要となり、製造工程が複雑であるという問題があ
る。

【０００４】これに対して後者は、圧電材料のグリーン
シートを圧力発生室の形状に合わせて貼付し、これを焼
成するという比較的簡単な工程で振動板に圧電振動子を
作り付けることができるものの、たわみ振動を利用する
関係上、ある程度の面積が必要となり、高密度配列が困
難であるという問題がある。

【０００５】一方、後者の記録ヘッドの不都合を解消す
べく、特開平５−２８６１３１号公報に見られるよう
に、振動板の表面全体に亙って成膜技術により均一な圧
電材料層を形成し、この圧電材料層をリソグラフィ法に
より圧力発生室に対応する形状に切り分けて各圧力発生
室毎に独立するように圧電振動子を形成したものが提案
させている。

【０００６】これによれば圧電振動子を振動板に貼付け
る作業が不要となって、リソグラフィ法という精密で、
かつ簡便な手法で圧電振動子を作り付けることができる
ばかりでなく、圧電振動子の厚みを薄くできて高速駆動
が可能になるという利点がある。

【０００７】また、この場合、基板として、例えばシリ
コン単結晶基板を用い、圧力発生室やリザーバ等の流路
を異方性エッチングにより形成し、圧力発生室の開口面
積を可及的に小さくして記録密度の向上を図ることが可
能である。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、記録密
度を上げようとすると、圧力発生室を区画する隔壁の肉
厚を薄くせざるを得ず、これにより圧力発生室を区画す
る隔壁の剛性が低下し、クロストークやインク滴の吐出
不良が生じる等の問題がある。

【０００９】本発明はこのような事情に鑑み、記録密度
を向上させた状態でクロストークやインク滴吐出不良を
防止することができるインクジェット式記録ヘッドを提
供することを課題とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本発
明の第１の態様は、一方面にノズル開口に連通すると共
に複数の隔壁で区画された圧力発生室の列を少なくとも
２列備え、他方面に前記圧力発生室の一部を構成する振
動板および前記圧力発生室に対向する領域に形成された
圧電体能動部からなる圧電振動子を備えた流路形成基板
を具備するインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記
流路形成基板の前記他方面上には、少なくとも前記圧力
発生室の列と列との間に対応する位置に、当該流路形成
基板とは別部材である補強部材が固着されていることを
特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。

【００１１】かかる第１の態様では、圧電振動子の駆動
による変位を補強部材が受けとめるので、流路形成基板
のたわみが抑制され、クロストークが防止される。

【００１２】本発明の第２の態様は、第１の態様におい
て、前記補強部材が、前記圧力発生室の配列方向に沿っ
て延設される棒状部材であることを特徴とするインクジ
ェット式記録ヘッドにある。

【００１３】かかる第２の態様では、棒状部材により流
路形成基板のたわみが抑制される。

【００１４】本発明の第３の態様は、第１又は２の態様
において、前記ノズル開口が前記少なくとも２列の圧力
発生室のそれぞれの内側端部に対応する位置に２列に配
設され、前記補強部材は、前記２列のノズル列の間に設
けられていることを特徴とするインクジェット式記録ヘ
ッドにある。

【００１５】かかる第３の態様では、ノズル開口近傍に
対応する位置に補強部材があるので、クロストークが防
止される。

【００１６】本発明の第４の態様は、第３の態様におい
て、前記流路形成基板の前記少なくとも２列の圧力発生
室の前記ノズル開口に対応する位置とは反対側となる外
側端部に隣接する位置には、外部からのインク供給を受
けるリザーバが設けられ、当該リザーバと前記圧力発生
室の前記外側端部のそれぞれとはインク供給口を介して
連通されていることを特徴とするインクジェット式記録
ヘッドにある。

【００１７】かかる第４の態様では、流路形成基板内に
圧力発生室と共にリザーバが形成されているので、流路
形成基板の強度が低下するが、補強部材によりたわみが
抑制されてクロストークが防止される。

【００１８】本発明の第５の態様は、第１〜４の何れか
の態様において、前記圧力発生室がシリコン単結晶基板
に異方性エッチングにより形成され、前記圧電振動子の
各層が成膜及びリソグラフィ法により形成されたもので
あることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにあ
る。

【００１９】かかる第５の態様では、高密度のノズル開
口を有するインクジェット式記録ヘッドを大量に且つ比
較的容易に製造することができる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下に本発明を一実施形態に基づ
いて詳細に説明する。

【００２１】（実施形態１）図１は、本発明の一実施形
態に係るインクジェット式記録ヘッドを示す組立斜視図
であり、図２は、その１つの圧力発生室の長手方向にお
ける断面構造を示す図である。

【００２２】図示するように、流路形成基板１０は、本
実施形態では面方位（１１０）のシリコン単結晶基板か
らなる。流路形成基板１０としては、通常、１５０〜３
００μｍ程度の厚さのものが用いられ、望ましくは１８
０〜２８０μｍ程度、より望ましくは２２０μｍ程度の
厚さのものが好適である。これは、隣接する圧力発生室
間の隔壁の剛性を保ちつつ、配列密度を高くできるから
である。

【００２３】流路形成基板１０の一方の面は開口面とな
り、他方の面には予め熱酸化により形成した二酸化シリ
コンからなる、厚さ１〜２μｍの弾性膜５０が形成され
ている。

【００２４】一方、流路形成基板１０の開口面には、シ
リコン単結晶基板を異方性エッチングすることにより、
複数の隔壁１１により区画された圧力発生室１２の列１
３が２列と、２列の圧力発生室１２の三方を囲むように
略コ字状に配置されたリザーバ１４と、各圧力発生室１
２とリザーバ１４とを一定の流体抵抗で連通するインク
供給口１５がそれぞれ形成されている。なお、リザーバ
１４の略中央部には、外部から当該リザーバ１４にイン
クを供給するためのインク導入孔１６が形成されてい
る。

【００２５】ここで、異方性エッチングは、シリコン単
結晶基板をＫＯＨ等のアルカリ溶液に浸漬すると、徐々
に侵食されて（１１０）面に垂直な第１の（１１１）面
と、この第１の（１１１）面と約７０度の角度をなし且
つ上記（１１０）と約３５度の角度をなす第２の（１１
１）面とが出現し、（１１０）面のエッチングレートと
比較して（１１１）面のエッチングレートが約１／１８
０であるという性質を利用して行われるものである。か
かる異方性エッチングにより、二つの第１の（１１１）
面と斜めの二つの第２の（１１１）面とで形成される平
行四辺形状の深さ加工を基本として精密加工を行うこと
ができ、圧力発生室１２を高密度に配列することができ
る。

【００２６】本実施形態では、各圧力発生室１２の長辺
を第１の（１１１）面で、短辺を第２の（１１１）面で
形成している。この圧力発生室１２は、流路形成基板１
０をほぼ貫通して弾性膜５０に達するまでエッチングす
ることにより形成されている。ここで、弾性膜５０は、
シリコン単結晶基板をエッチングするアルカリ溶液に侵
される量がきわめて小さい。また、各圧力発生室１２の
一端に連通する各インク供給口１５は、圧力発生室１２
より浅く形成されている。すなわち、インク供給口１５
は、シリコン単結晶基板を厚さ方向に途中までエッチン
グ（ハーフエッチング）することにより形成されてい
る。なお、ハーフエッチングは、エッチング時間の調整
により行われる。

【００２７】また、流路形成基板１０の開口面側には、
各圧力発生室１２のインク供給口１５とは反対側で連通
するノズル開口１７が穿設されたノズルプレート１８が
接着剤や熱溶着フィルム等を介して固着されている。な
お、ノズルプレート１８は、厚さが例えば、０．１〜１
ｍｍで、線膨張係数が３００℃以下で、例えば、２．５
〜４．５［×１０^−６／℃］であるガラスセラミック
ス、又は不錆鋼などからなる。ノズルプレート１８は、
一方の面で流路形成基板１０の一面を全面的に覆い、シ
リコン単結晶基板を衝撃や外力から保護する補強板の役
目も果たす。

【００２８】ここで、インク滴吐出圧力をインクに与え
る圧力発生室１２の大きさと、インク滴を吐出するノズ
ル開口１７の大きさとは、吐出するインク滴の量、吐出
スピード、吐出周波数に応じて最適化される。例えば、
１インチ当たり３６０個のインク滴を記録する場合、ノ
ズル開口１７は数十μｍの溝幅で精度よく形成する必要
がある。

【００２９】一方、流路形成基板１０の開口面とは反対
側の弾性膜５０の上には、厚さが例えば、約０．５μｍ
の下電極膜６０と、厚さが例えば、約１μｍの圧電体膜
７０と、厚さが例えば、約０．１μｍの上電極膜８０と
が、後述するプロセスで積層形成されて、圧電振動子
（圧電素子）を構成している。このように、弾性膜５０
の各圧力発生室１２に対向する領域には、各圧力発生室
１２毎に独立して圧電振動子が設けられているが、本実
施形態では、下電極膜６０は圧電振動子の共通電極と
し、上電極膜８０を圧電振動子の個別電極としている
が、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障はな
い。何れの場合においても、各圧力発生室１２毎に圧電
体能動部が形成されていることになる。本実施形態で
は、詳細を後述するように、圧力発生室１２毎に圧電体
膜７０及び上電極膜８０を形成している。

【００３０】本実施形態では、流路形成基板１０の開口
面とは反対側の面には、圧力発生室１２の列１３の間に
対向する位置に、列１３の並び方向に沿って延びる補強
部材２０が固着されている。ここで、補強部材２０は、
流路形成基板１０の圧力発生室１２の列１３の並び方向
に沿った強度を補強するためのもので、接着剤や熱溶着
フィルム等を介して固着すればよい。また、補強部材２
０の材質も特に限定されず、金属などの剛性の高いもの
でもよく、温度変化による応力の発生を防止するため
に、線膨張係数が流路形成基板１０と同程度のものを用
いてもよい。

【００３１】ここで、シリコン単結晶基板からなる流路
形成基板１０上に、圧電体膜７０等を形成するプロセス
を図３及び図４を参照しながら説明する。

【００３２】図３（ａ）に示すように、まず、流路形成
基板１０となるシリコン単結晶基板のウェハを約１１０
０℃の拡散炉で熱酸化して二酸化シリコンからなる弾性
膜５０を形成する。

【００３３】次に、図３（ｂ）に示すように、スパッタ
リングで下電極膜６０を形成する。下電極膜６０の材料
としては、Ｐｔ等が好適である。これは、スパッタリン
グやゾル−ゲル法で成膜する後述の圧電体膜７０は、成
膜後に大気雰囲気下又は酸素雰囲気下で６００〜１００
０℃程度の温度で焼成して結晶化させる必要があるから
である。すなわち、下電極膜７０の材料は、このような
高温、酸化雰囲気下で導電性を保持できなければなら
ず、殊に、圧電体膜７０としてＰＺＴを用いた場合に
は、ＰｂＯの拡散による導電性の変化が少ないことが望
ましく、これらの理由からＰｔが好適である。

【００３４】次に、図３（ｃ）に示すように、圧電体膜
７０を成膜する。この圧電体膜７０の成膜にはスパッタ
リングを用いることもできるが、本実施形態では、金属
有機物を溶媒に溶解・分散したいわゆるゾルを塗布乾燥
してゲル化し、さらに高温で焼成することで金属酸化物
からなる圧電体膜７０を得る、いわゆるゾル−ゲル法を
用いている。圧電体膜７０の材料としては、チタン酸ジ
ルコン酸鉛（ＰＺＴ）系の材料がインクジェット式記録
ヘッドに使用する場合には好適である。

【００３５】次に、図３（ｄ）に示すように、上電極膜
８０を成膜する。上電極膜８０は、導電性の高い材料で
あればよく、Ａｌ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｐｔ等の多くの金属
や、導電性酸化物等を使用できる。本実施形態では、Ｐ
ｔをスパッタリングにより成膜している。

【００３６】次に、図３（ｅ）に示すように、各圧力発
生室１２それぞれに対して圧電振動子を配設するよう
に、上電極膜８０および圧電体膜７０のパターニングを
行う。図３（ｅ）では圧電体膜７０を上電極膜８０と同
一のパターンでパターニングを行った場合を示している
が、上述したように、圧電体膜７０は必ずしもパターニ
ングを行う必要はない。これは、上電極膜８０のパター
ンを個別電極として電圧を印加した場合、電界はそれぞ
れの上電極膜８０と、共通電極である下電極膜６０との
間にかかるのみで、その他の部位には何ら影響を与えな
いためである。しかしながら、この場合には、同一の排
除体積を得るためには大きな電圧印加が必要となるた
め、圧電体膜７０もパターニングするのが好ましい。ま
た、この後、下電極膜６０をパターニングして不要な部
分を除去する。

【００３７】ここで、パターニングには、レジストパタ
ーンを形成した後、エッチング等を行うことにより実施
する。

【００３８】レジストパターンは、例えば、ネガレジス
トをスピンコートなどにより塗布し、所定形状のマスク
を用いて露光・現像・ベークを行うことにより形成す
る。なお、勿論、ネガレジストの代わりにポジレジスト
を用いてもよい。

【００３９】また、エッチングは、ドライエッチング装
置、例えば、イオンミリング装置を用いて二酸化シリコ
ン膜が露出するまで行う。なお、エッチング後には、レ
ジストパターンをアッシング装置等を用いて除去する。

【００４０】また、ドライエッチング法としては、イオ
ンミリング法以外に、反応性エッチング法等を用いても
よい。また、ドライエッチングの代わりにウェットエッ
チングを用いることも可能であるが、ドライエッチング
法と比較してパターニング精度が多少劣り、上電極膜８
０の材料も制限されるので、ドライエッチングを用いる
のが好ましい。

【００４１】次いで、図４（ａ）に示すように、上電極
膜８０の周縁部および圧電体膜７０の側面を覆うように
絶縁体層９０を形成する。この絶縁体層９０の好適な材
料は上述した通りであるが、本実施形態ではネガ型の感
光性ポリイミドを用いている。

【００４２】次に、図４（ｂ）に示すように、絶縁体層
９０をパターニングすることにより、各連通部１４に対
向する部分に窓９０ａを形成する。この窓９０ａは、後
述する導電体パターン１００と上電極膜８０との接続を
するためのものである。

【００４３】次に、例えば、Ｃｒ−Ａｕなどの導電体を
全面に成膜した後、パターニングすることにより、導電
体パターン１００を形成する。

【００４４】以上が膜形成プロセスである。このように
して膜形成を行った後、図４（ｃ）に示すように、前述
したアルカリ溶液によるシリコン単結晶基板の異方性エ
ッチングを行い、圧力発生室１２等を形成する。なお、
以上説明した一連の膜形成および異方性エッチングは、
一枚のウェハ上に多数のチップを同時に形成し、プロセ
ス終了後、図１に示すような一つのチップサイズの流路
形成基板１０毎に分割する。また、分割した流路形成基
板１０を、ノズルプレート１８および補強部材２０と順
次接着して一体化し、インクジェット式記録ヘッドとす
る。

【００４５】このように構成したインクジェットヘッド
は、図示しない外部インク供給手段と接続したインク導
入口１６からインクを取り込み、リザーバ１４からノズ
ル開口１７に至るまで内部をインクで満たし後、図示し
ない外部の駆動回路からの記録信号に従い、導電パター
ン１００を介して下電極膜６０と上電極膜８０との間に
電圧を印加し、弾性膜５０と圧電体膜６０とをたわみ変
形させることにより、圧力発生室１２内の圧力が高まり
ノズル開口１７からインク滴が吐出する。

【００４６】この際、本実施形態では、補強部材２０
が、弾性膜５０および下電極膜６０からなる振動板と、
圧電体膜７０とのたわみ変位を受け止め、流路形成基板
１０のたわみを抑制し、クロストークを防止する。

【００４７】なお、補強部材２０は、圧力発生室２０の
列１３と列１３との間だけではなく、列１３の外側にも
設けてもよい。

【００４８】（実施形態２）実施形態２に係るインクジ
ェット式記録ヘッドの組立斜視を図５に示す。

【００４９】本実施形態は、補強部材２０を列１３と列
１３との間に固着した点は上述した実施形態と同様であ
るが、本実施形態では、補強部材２０を固着した複数個
の流路形成基板１０を固定部材２５に固定したものであ
る。固定部材２５は、流路形成基板１０が嵌合する凹部
２５ａを有するもので、図示したものは３個の流路形成
基板１０を嵌合可能な形状の固定部材２５である。

【００５０】（他の実施形態）以上、本発明の一実施形
態を説明したが、インクジェット式記録ヘッドの基本的
構成は上述したものに限定されるものではない。

【００５１】また、上述した実施形態では、流路形成基
板１０に圧力発生室１２と共にリザーバ１４を形成して
いるが、共通インク室を形成する部材を流路形成基板に
重ねて設けてもよい。

【００５２】このように構成した実施形態の分解斜視図
を図６に示す。この実施形態では、ノズル開口１７Ａが
穿設されたノズル基板１８Ａと流路形成基板１０Ａとの
間に、封止板１１０、共通インク室形成板１２０、薄肉
板１３０及びインク室側板１４０が挟持され、これらを
貫通するように、圧力発生室１２Ａとノズル開口１７Ａ
とを連通するノズル連通口３１が配されている。すなわ
ち、封止板１１０、共通インク室形成板１２０および薄
肉板１３０とで共通インク室３２が画成され、各圧力発
生室１２Ａと共通インク室３２とは、封止板１１０に穿
設されたインク連通孔３３を介して連通されている。ま
た、封止板１１０には供給インク室３２に外部からイン
クを導入するためのインク導入孔３４も穿設されてい
る。また、薄肉板１３０とノズル基板１８Ａとの間に位
置するインク室側板１４０には各供給インク室３２に対
向する位置に貫通部３５が形成されており、インク滴吐
出の際に発生するノズル開口１１Ａと反対側へ向かう圧
力を、薄肉壁１３０が吸収するのを許容するようになっ
ており、これにより、他の圧力発生室１２Ａに、共通イ
ンク室３２を経由して不要な正又は負の圧力が加わるの
を防止することができる。なお、薄肉板１３０とインク
室側板１４０とは一体に形成されてもよい。

【００５３】このような実施形態においても、流路形成
基板１０Ａの開口面とは反対側の、圧力発生室１２Ａの
列１３と列１３との間に対向する位置に、補強部材２０
を固着することにより、クロストークを防止することが
できる。

【００５４】また、以上説明した各実施形態は、成膜及
びリソグラフィプロセスを応用することにより製造でき
る薄膜型のインクジェット式記録ヘッドを例にしたが、
勿論これに限定されるものではなく、例えば、基板を積
層して圧力発生室を形成するもの、あるいはグリーンシ
ートを貼付もしくはスクリーン印刷等により圧電体膜を
形成するもの、又は結晶成長により圧電体膜を形成する
もの等、各種の構造のインクジェット式記録ヘッドに本
発明を採用することができる。

【００５５】さらに、上述した各実施形態では、上電極
膜とリード電極との接続部は、何れの場所に設けてもよ
く、圧力発生室の何れの端部でも又は中央部であっても
よい。

【００５６】また、圧電振動子とリード電極との間に絶
縁体層を設けた例を説明したが、これに限定されず、例
えば、絶縁体層を設けないで、各上電極に異方性導電膜
を熱溶着し、この異方性導電膜をリード電極と接続した
り、その他、ワイヤボンディング等の各種ボンディング
技術を用いて接続したりする構成としてもよい。

【００５７】このように、本発明は、その趣旨に反しな
い限り、種々の構造のインクジェット式記録ヘッドに応
用することができる。

【００５８】

【発明の効果】以上説明したように本発明においては、
流路形成基板の圧力発生室形成面とは反対側の圧力発生
室の列と列との間に対向する位置に補強部材を固着する
ことにより、流路形成基板のたわみを抑制し、クロスト
ークを防止することができるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係るインクジェット式記
録ヘッドの分解斜視図である。

【図２】本発明の実施形態１に係るインクジェット式記
録ヘッドの断面図である。

【図３】本発明の実施形態１の薄膜製造工程を示す図で
ある。

【図４】本発明の実施形態１の薄膜製造工程を示す図で
ある。

【図５】本発明の実施形態２に係るインクジェット式記
録ヘッドの組立斜視図である。

【図６】本発明の他の実施形態に係るインクジェット式
記録ヘッドの分解斜視図である。

【符号の説明】

１０ 流路形成基板 １２ 圧力発生室 １４ リザーバ １５ インク供給口 １６ インク導入口 １７ ノズル開口 １８ ノズルプレート ５０ 弾性膜 ６０ 下電極膜 ７０ 圧電体膜 ８０ 上電極膜 ９０ 絶縁体層 ９０ａ コンタクトホール １００ 導電体パターン

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一方面にノズル開口に連通すると共に複
   数の隔壁で区画された圧力発生室の列を少なくとも２列
   備え、他方面に前記圧力発生室の一部を構成する振動板
   および前記圧力発生室に対向する領域に形成された圧電
   体能動部からなる圧電振動子を備えた流路形成基板を具
   備するインクジェット式記録ヘッドにおいて、 前記流路形成基板の前記他方面上には、少なくとも前記
   圧力発生室の列と列との間に対応する位置に、当該流路
   形成基板とは別部材である補強部材が固着されているこ
   とを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
2. 【請求項２】 請求項１において、前記補強部材が、前
   記圧力発生室の配列方向に沿って延設される棒状部材で
   あることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
3. 【請求項３】 請求項１又は２において、前記ノズル開
   口が前記少なくとも２列の圧力発生室のそれぞれの内側
   端部に対応する位置に２列に配設され、前記補強部材
   は、前記２列のノズル列の間に設けられていることを特
   徴とするインクジェット式記録ヘッド。
4. 【請求項４】 請求項３において、前記流路形成基板の
   前記少なくとも２列の圧力発生室の前記ノズル開口に対
   応する位置とは反対側となる外側端部に隣接する位置に
   は、外部からのインク供給を受けるリザーバが設けら
   れ、当該リザーバと前記圧力発生室の前記外側端部のそ
   れぞれとはインク供給口を介して連通されていることを
   特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
5. 【請求項５】 請求項１〜４の何れかにおいて、前記圧
   力発生室がシリコン単結晶基板に異方性エッチングによ
   り形成され、前記圧電振動子の各層が成膜及びリソグラ
   フィ法により形成されたものであることを特徴とするイ
   ンクジェット式記録ヘッド。