JPH118070A

JPH118070A - 表示装置

Info

Publication number: JPH118070A
Application number: JP9175167A
Authority: JP
Inventors: Minoru Kumagai; 稔熊谷; Norihiko Kaneko; 紀彦金子
Original assignee: Casio Computer Co Ltd
Current assignee: Casio Computer Co Ltd
Priority date: 1997-06-17
Filing date: 1997-06-17
Publication date: 1999-01-12

Abstract

(57)【要約】【課題】隣接する画素への光もれを抑制して鮮明な表
示ができる表示装置を提供する。【解決手段】ガラス基板１２の背面にブラックマスク
１３をライン幅が小さくなるように形成し、ブラックマ
スク１３で区画される空隙に光拡散層１６を形成する。
ブラックマスク１３および光拡散層１６の背面に保護膜
１７を介して、順次前面電極１８、有機ＥＬ層１９、背
面電極２０を形成する。この有機ＥＬ層１９の発光部
（電極どうしが重なる領域）が光拡散層１６より小さく
設定されている。このように構成することにより、発光
部からの光がブラックマスク１３で隣接する画素領域へ
入射することが抑制できるため、光もれのない鮮明な表
示を可能にする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、表示装置に関
し、さらに詳しくは、エレクトロルミネッセンス（以
下、ＥＬという）発光を行う表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年では、ＥＬ発光を用いた表示装置と
して、特に有機ＥＬ材料を用いた有機ＥＬ表示装置が注
目されている。この有機ＥＬ表示装置は、例えば図１６
に示すように、ガラス基板１の背面に、複数の透明な前
面電極２が平行をなすように形成され、ガラス基板１お
よび前面電極２を覆うように有機ＥＬ層３が形成され、
この有機ＥＬ層３の背面に前面電極２と直交する方向に
平行をなす複数の背面電極４が形成されて構成されてい
る。有機ＥＬ層３としては、発光層やキャリア輸送層な
どを備えた２層構造や３層構造などのものがある。この
表示装置では、前面電極２と背面電極４との間に直流電
圧を印加することにより、有機ＥＬ層３中にキャリアを
注入して、ホールとエレクトロンとの再結合の作用によ
り発光を起こすよういなっている。

【０００３】また、カラー表示が行える有機ＥＬ表示装
置としては、例えば図１７に示すような構成が提案され
ている。この表示装置は、同図に示すように、ガラス基
板１の背面にカラーフィルタ５Ｒ、５Ｇ、５Ｂが配置さ
れ、これらカラーフィルタ５Ｒ（赤）、５Ｇ（緑）、５
Ｂ（青）を覆うように透明な保護膜６が形成され、この
保護膜６の背面に前面電極２、白色光を発生させる有機
ＥＬ層３、背面電極４が順次形成されている。なお、各
カラーフィルタ５Ｒ、５Ｇ、５Ｂは、前面電極２と背面
電極４とが交差する部分（発光部分）に対応するように
配置されている。

【０００４】さらに、カラーフィルタを用いずにカラー
表示を行う表示装置としては、例えば図１８に示すよう
な構成のものが提案されている。この表示装置は、同図
に示すように、ガラス基板１の背面に、入射光を吸収し
て前記入射光と異なる波長域の光を出射する光波長変換
層７Ｒ、７Ｇが配置されている。光波長変換層７Ｒは青
色光を吸収して赤色光を出射する作用をもち、光波長変
換層７Ｇは青色光を吸収して緑色光を出射する作用をも
つ。このため、光波長変換層７Ｒは赤表示を行うドット
部に配置され、光波長変換層７Ｇは緑表示を行うドット
部に配置されている。そして、ガラス基板１および光波
長変換層７Ｒ、７Ｇを覆うように保護膜６が形成されて
いる。この保護膜６の背面には、前面電極２、有機ＥＬ
層３および背面電極４が順次形成されている。なお、こ
の表示装置の有機ＥＬ層３は青色光を発生するように設
定されている。このため、光波長変換層が配置されてい
ないドット部では青色光が出射され、光波長変換層７Ｒ
に入射した青色光は吸収されてこの光波長変換層７Ｒか
ら赤色光が出射され、光波長変換層７Ｇに入射した青色
光は吸収されてこの光波長変換層７Ｇから緑色光が出射
される。このようにして、図１８に示す表示装置では、
カラー表示を行うことができる。

【０００５】なお、上記した従来の各表示装置において
は、前面電極２や背面電極４を形成する場合に、図１９
（ａ）に示すように予め配線形状に開口８Ａが形成され
たメタルマスク８をガラス基板１や保護膜６や有機ＥＬ
層３の背面に密着させた状態で、真空蒸着やスパッタな
どにより開口８Ａ内に配線メタルを成膜する方法が行わ
れている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記したメタルマスク
８を用いる場合、形成できる配線の最小ライン幅および
最小スペース幅は、メタルマスク８の厚みに依存する。
図１９（ｂ）に示すように、メタルマスク８のラインが
例えば背面電極４のスペースになるが、メタルマスク８
のライン幅はマスク強度を維持するために、マスク厚み
と１：１（アスペクト比１）が最小となる。現在、マス
クの最小厚みは０.１ｍｍが実用レベルである。マスク
を薄くすれば、そのライン幅を狭くすることは可能であ
るが、マスクの強度に問題が生じる。したがって、現状
の方法では、有機ＥＬ層の背面に形成する背面電極４の
最小スペースは０.１ｍｍ程度となる。このため、画素
どうしの間隔を０.１ｍｍ以下にすることが困難であっ
た。また、仮に有機ＥＬ層３の画素どうしの間隔を狭く
できたとしても所定の画素で発生した光が隣接する画素
領域へもれるため、光が滲むという問題が発生すると考
えられる。また、背面電極４のライン幅を細くすると、
発光領域自体が小さくなり見やすい表示が行えないとい
う問題があった。

【０００７】また、背面電極をキャラクタパターンや、
複雑に入り組んだ形状や、ドーナツ形状などに形成する
場合、メタルマスクに開口部としてそのような形状の加
工ができないため、実現が困難であった。また同様に、
数字表記などに用いる７セグメントパターンの実現も困
難であった。さらに、背面電極の形状として実現可能な
図形であっても、引き出し配線と対向する電極との間の
有機ＥＬ層に電界が生じ発光してしまう問題があり、ま
た前面電極と背面電極とのアライメントに高精度が要求
されるという問題があった。

【０００８】さらに、多色表示を行う表示装置の場合、
図１７に示したように、白色発光とカラーフィルタの組
み合わせでは、白色発光を起こすためのエネルギー効率
が悪いため、発光効率の低下を招くという問題があっ
た。さらに、図１８に示したように、光波長変換層７
Ｒ、７Ｇを用いた表示装置では、有機ＥＬ層３の発光色
が青色であるため発光効率は高いが、光波長変換層７
Ｒ、７Ｇの膜厚が薄い場合には、効率的な光の吸収、変
換が困難なため発光色の青色が透過してしまう問題があ
った。また、光波長変換層を厚くすれば単位面積当たり
の蛍光色素が増すために、光波長変換効率が向上し光波
長変換層からの出射光の色純度が上がるものの、エネル
ギー効率が低下するため、光波長変換後の輝度が低下す
るという問題があった。

【０００９】この発明が解決しようとする課題は、隣接
する画素への光もれを抑制して鮮明な表示を可能とする
表示装置を得るにはどのような手段を講じればよいかと
いう点にある。また、この発明が解決しようとする課題
は、複雑な形状の背面電極パターンやセグメント電極か
らの引き出し線の影響を最小限にすることのできる表示
装置を得るにはどのような手段を講じればよいかという
点にある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
ＥＬ層の前面に透明な前面電極が形成され、かつ前記Ｅ
Ｌ層の背面に背面電極が形成されると共に、前記前面電
極と前記背面電極とが前記ＥＬ層を介して重なり合う発
光部分に対応するように、前記前面電極の前方に光拡散
層が配置されていることを特徴としている。請求項１記
載の発明においては、光拡散層が、前面電極と背面電極
とが重なり合う発光部分に対応するように前面電極の前
方に配置されているため、発光部分から入射した光を拡
散させることができ、見やすい表示を可能にする。

【００１１】請求項２記載の発明は、前記光拡散層が、
対応する前記発光部分よりも広く形成されていることを
特徴としている。請求項２記載の発明においては、光拡
散層が発光部分よりも広く設定されているため、前面電
極や背面電極の幅が小さく、これら電極が重なり合う部
分（発光部分）が小さくても大きな表示画素面積を稼ぐ
ことができる。このため、従来のメタルマスクを用いて
ライン幅の小さい配線を形成してもよい。

【００１２】請求項３記載の発明は、前記光拡散層が、
フォトリソグラフィー法およびエッチング法を用いて形
成されたブラックマスクで囲まれていることを特徴とし
ている。請求項３記載の発明においては、光拡散層内で
散乱する光が隣接する画素領域へ入射するのをブラック
マスクで阻止することができる。このため、光もれや色
にじみのない鮮明な表示を行うことができる。また、ブ
ラックマスクがフォトリソグラフィー法およびエッチン
グ法を用いて形成されているため、ブラックマスクの線
幅を極めて小さくできるため、隣接する画素どうしを近
接させることができ、緻密な表示が可能となる。

【００１３】請求項４記載の発明は、前記光拡散層が、
透明性を有する樹脂バインダに光散乱性の微粒子を分散
させてなることを特徴としている。

【００１４】請求項５記載の発明は、前記光拡散層が、
入射光を吸収して前記入射光と異なる波長域の光を出射
する光波長変換層中に光散乱性の微粒子を分散させてな
ることを特徴としている。

【００１５】請求項６記載の発明は、前記エレクトロル
ミネッセンス層は、有機エレクトロルミネッセンス層で
あることを特徴としている。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、この発明に係る表示装置の
詳細を図面に示す実施形態に基づいて説明する。（実施形態１）図１〜図３は、本発明に係る表示装置の
実施形態１を示している。図１は表示装置の要部断面
図、図２は平面説明図、図３は要部断面説明図である。
図中１１は表示装置であり、ガラス基板１２の背面に各
画素を格子状にブラックマスク１３がフォトリソグラフ
ィー技術およびエッチング技術を用いて形成されてい
る。本実施形態では、例えば、ブラックマスク１３のラ
イン幅が０．０３ｍｍ、スペース幅が０．４７ｍｍに設
定されている。このブラックマスク１３で区画される空
隙には、図１および図３に示すように、透明な樹脂バイ
ンダ１４中に光散乱性をもつ光拡散粒子１５を分散させ
たものを充填してなる光拡散層１６が形成されている。
なお、この光拡散層１６もフォトリソグラフィー技術を
用いて形成することができる。そして、ガラス基板１２
に形成されたブラックマスク１３および光拡散層１６を
覆うように、透明性を有する合成樹脂でなる保護膜１７
が形成されている。保護膜１７の背面には、平面的に見
て列をなす光拡散層１６の幅方向の略中央を通るように
それぞれの光拡散層１６の列に対応する、複数の前面電
極１８が形成されている。また、保護膜１７および前面
電極１８の背面側には、有機ＥＬ層１９が表示領域全域
に亙って形成されている。さらに、有機ＥＬ層１９の背
面には、前面電極１８と直交する方向に、複数の背面電
極２０が形成されている。本実施形態では、例えば、背
面電極２０と前面電極１８のライン幅が０．３ｍｍ、ス
ペース幅が０．２ｍｍに設定されている。この背面電極
２０と前面電極１８とが交差する部分は、それぞれの光
拡散層１６の略中央に位置するようになっている。な
お、これら前面電極１８と背面電極２０とは、例えば図
１９に示すようなメタルマスク８を用いて形成すること
ができる。

【００１７】次に、本実施形態の表示装置１１の作用に
ついて説明する。前面電極１８と背面電極２０とが線順
次駆動された場合、所定の前面電極１８と背面電極２０
との間に電圧が印加され、前面電極１８と背面電極２０
との交差する部分の有機ＥＬ層１９にキャリアが注入さ
れてＥＬ発光が起こる。この発光領域は、これら電極の
交差領域であり、本実施形態では一辺が０．３ｍｍの正
方形の領域である。この発光領域に対応する光拡散層１
６は、一辺が０．４７ｍｍの正方形の領域である。発光
領域から出射された光は、光拡散層１６に入射し、光拡
散粒子１５で散乱される。このため、実際の発光領域よ
り大きい領域である光拡散層１６全体が発光するように
見える。また、隣接する光拡散層１６どうしの間隔は、
ブラックマスク１３のライン幅０．０３ｍｍであり、実
際の発光領域どうしの間隔（電極のスペース幅０．２ｍ
ｍ）に比較して非常に小さくなり、緻密な表示を行うこ
とができる。また、この発光領域で発生した光は、ブラ
ックマスク１３が在るため隣接する光拡散層１６へは入
射しにくい構造となっており、表示光が隣接画素にもれ
て滲みが発生するのを抑制することができる。このよう
に、本実施形態では、前面電極１８や背面電極２０をメ
タルマスクを用いて形成した場合に、これらの電極のス
ペース幅は０．１ｍｍ程度が現状では限界だが、これに
対してブラックマスク１３をフォトリソグラフィー技術
を用いて０．１ｍｍ未満のライン／スペースの加工が容
易に行えるため、従来よりも狭いスペースで表示エリア
を形成することができるという利点がある。

【００１８】（実施形態２）図４は、この発明に係る表
示装置の実施形態２を示す断面図である。本実施形態の
表示装置の構成は、同図に示すように、ガラス基板１２
の前面にブラックマスク１３が形成され、このブラック
マスク１３で区画される空隙に光拡散層１６が形成され
ている。また、ガラス基板１２の後面にＸ−Ｙマトリク
スを構成する前面電極１８と背面電極２０とに挟まれる
ように有機ＥＬ層１９が設けられている。なお、ブラッ
クマスク１３と光拡散層１６とを覆うように保護膜１７
が形成されている。本実施形態では、ガラス基板１２の
前面に光拡散層１６およびブラックマスク１３を形成
し、ガラス基板１２の背面に前面電極１８、有機ＥＬ層
１９、および背面電極２０を形成するため、それぞれの
加工が容易になる。本実施形態における他の作用および
効果は、上記した実施形態１と同様である。

【００１９】（実施形態３）図５は、この発明に係る表
示装置の実施形態３を示す断面図である。本実施形態で
は、同図に示すように、ガラス基板１２Ａの後面にブラ
ックマスク１３と光拡散層１６とが形成され、これらブ
ラックマスク１６および光拡散層１６を覆うように保護
膜１７が形成されている。また、別のガラス基板１２Ｂ
の後面に、前面電極１８と有機ＥＬ層１９と背面電極２
０とが形成されている。本実施形態の表示装置１１は、
光拡散層１６が形成されたガラス基板１２Ａの後方に有
機ＥＬ層１９が形成されたガラス基板１２Ｂを配置した
構成でなる。このように、ブラックマスク１３および光
拡散層１６と、有機ＥＬ層およびこれを挟む電極と、を
別々に製造することができるため、歩留まりを向上させ
ることができる。本実施形態における作用、効果は、上
記した実施形態１と同様である。

【００２０】（実施形態４）図６は、この発明に係る表
示装置の実施形態４を示す断面図である。本実施形態で
は、同図に示すように、ガラス基板１２Ａの前面にブラ
ックマスク１３、光拡散層１６並びに保護膜１７が形成
され、このガラス基板１２Ａの背面に各光拡散層１６に
対応する位置、または背面全面にホログラム２１が形成
されている。このガラス基板１２Ａの後方には、上記し
た実施形態３と同様な構成のガラス基板１２Ｂ側が配置
されている。本実施形態においては、ガラス基板１２Ａ
の背面に凹凸状のホログラム２１を形成したことによ
り、有機ＥＬ層１９側から出射された表示光をホログラ
ム２１が効率よく選択的に光拡散層１６へ入射させるこ
とができる。このため、ブラックマスク１３が隣接する
画素への光もれを防止すると共に、ホログラム２１が発
光部からの光が隣接する光拡散層１６へ入射しないよう
に入射方向を規制するため、効率よくより鮮明な表示を
可能にすることができる。

【００２１】（実施形態５）図７は、この発明に係る表
示装置の実施形態５を示す断面図である。本実施形態で
は、同図に示すように、ガラス基板１２Ａの前面にブラ
ックマスク１３、光拡散層１６並びに保護膜１７が形成
され、このガラス基板１２Ａの背面に各光拡散層１６に
対応する位置、または背面全面にマイクロレンズ２２が
形成されている。このガラス基板１２Ａの後方には、上
記した実施形態３と同様な構成のガラス基板１２Ｂ側が
配置されている。本実施形態においては、ガラス基板１
２Ａの背面にマイクロレンズ２２を形成したことによ
り、有機ＥＬ層１９側から出射された表示光をマイクロ
レンズ２２が効率よく選択的に光拡散層１６へ入射させ
ることができる。このため、ブラックマスク１３が隣接
する画素への光もれを防止すると共に、マイクロレンズ
２２が有機ＥＬ層１９における電極１８，２０の交差部
からなる発光部からの光が隣接する光拡散層１６へ入射
しないように入射方向を規制するため、より鮮明な表示
を可能にすることができる。

【００２２】（実施形態６）図８は、この発明に係る表
示装置の実施形態６を示す断面図である。本実施形態で
は、同図に示すように、ガラス基板１２Ａの前面にブラ
ックマスク１３、光拡散層１６並びに保護膜１７が形成
され、このガラス基板１２Ａの背面に各光拡散層１６に
対応する位置、または背面全面に微細格子２３が形成さ
れている。このガラス基板１２Ａの後方には、上記した
実施形態３と同様な構成のガラス基板１２Ｂ側が配置さ
れている。本実施形態においては、ガラス基板１２Ａの
背面に微細格子２３を形成したことにより、有機ＥＬ層
１９側から出射された表示光を微細格子２３が効率よく
選択的に光拡散層１６へ入射させることができる。この
ため、ブラックマスク１３が隣接する画素への光もれを
防止すると共に、微細格子２３が発光部からの光が隣接
する光拡散層１６へ入射しないように入射方向を規制す
るため、より鮮明な表示を可能にすることができる。

【００２３】（実施形態７）図９は、この発明に係る表
示装置の実施形態７を示す断面図である。本実施形態の
表示装置１１は、上記した実施形態１における光拡散層
１６がそれぞれ光拡散粒子を含む光波長変換層１６Ｒ、
１６Ｇ、および透明層１６Ｂで置き換えられたものであ
る。光波長変換層１６Ｒは、青色光を吸収して赤色光に
相当する波長域の光を出射する機能がある。また、光波
長変換層１６Ｇは、青色光を吸収して緑色光に相当する
波長域の光を出射、拡散する機能をもつ。さらに、透明
層１６Ｂは、例えば透明な合成樹脂材料に光で形成され
ており光透過機能と拡散機能をもつ。光波長変換層１６
Ｒ、１６Ｇは、光波長変換材料に光散乱性をもつ光拡散
粒子を分散させて構成されている。なお、光波長変換材
料は、樹脂バインダ中に蛍光色素が分子レベルで分散さ
れたものであり、短波長側の光を吸収して長波長側の光
を蛍光させて発光させる性質をもつ。そして、本実施形
態においてもブラックマスク１３および光拡散層１３を
覆うように、例えば透明性を有する合成樹脂でなる保護
膜１７が形成されている。また、保護膜１７の背面に
は、前面電極１８、有機ＥＬ層１９、背面電極２０が形
成されている。特に、本実施形態では、有機ＥＬ層１９
で青色光が発生するように設定されている。青色発光を
起こす有機ＥＬ層の構成としては、例えばＡｌｑ３でな
る電子輸送層と、ジスチリルアーリレン誘導体という一
群の青色発光材料（ＤＴＶＢｉなど）でなる発光層と、
α−ＮＰＤでなる正孔輸送層と、を積層した構成を挙げ
ることができる。なお、本実施形態における他の構成
は、上記した実施形態１と同様である。

【００２４】本実施形態では、光波長変換層１６Ｒ、１
６Ｇを構成する波長変換材料の光変換効率が高いため、
発光効率の高いカラー表示を行うことができる。なお、
光波長変換層１６Ｒ、１６Ｇおよび透明層１６Ｂには、
光拡散粒子が含まれているため、入射光の行路長を増す
ことが可能になり、蛍光色素への吸収確率を高め、蛍光
強度を増すことが可能になる。このため、光波長変換層
１６Ｒ、１６Ｇの膜厚を薄くすることが可能となる。な
お、本実施形態でも、上記した実施形態１と同様に狭い
スペースでも発光エリアを確保することが可能である。
なお、本実施形態では、青色光を赤色と緑色の光となる
ように波長変換を行う構成としたが、青よりも長波長側
の色であれば、黄色、オレンジなどの他の色の波長域に
波長変換するようにしてもよい。また、有機ＥＬ層１９
での発光が青色以外の色の発光としてもよく、例えば緑
色発光するも有機ＥＬ層を用いて、緑から黄、オレン
ジ、赤などの、緑よりも長波長側に波長変換する蛍光色
素と光拡散粒子を分散させた光波長変換層を設けても勿
論よい。さらに、本実施形態では、光波長変換層を蛍光
色素と光拡散粒子とを樹脂バインダに配合した構成とし
たが、光散乱性をもつ蛍光顔料を配合する構成としても
よい。この場合、蛍光顔料としては、無機物の微粒子ま
たは蛍光色素をバインダに溶解して固化させたものを粉
砕したものを用いることができる。そして、蛍光顔料か
らの蛍光波長のピークは光波長変換層に分散されている
蛍光材料と同程度になるようなものを用いる。また、蛍
光顔料は入射光を吸収しやすい特性を有しているので、
入射光のうち光波長変換層を励起する波長域の光の吸収
率も向上させることができるため光波長変換層の蛍光特
性が向上し、さらに蛍光顔料からの蛍光が加わることに
より光波長変換効率を向上させることができる。

【００２５】（実施形態８）図１０は、本発明に係る表
示装置の実施形態８を示す断面図である。本実施形態の
構成は、上記した実施形態７の構成において、同図に示
すように、ガラス基板１２と、光波長変換層１６Ｒ、１
６Ｇおよび透明層１６と、の間にそれぞれ赤色フィルタ
層２４Ｒ、緑色フィルタ層２４Ｇ、青色フィルタ層２４
Ｂを介在させた構成である。赤色フィルタ層２４Ｒは、
赤色の波長域を含む光が入射されると実質的に赤色の波
長域の光を出射し、その他の波長域の可視光を吸収する
特性を有し、緑色フィルタ層２４Ｇは、緑色の波長域を
含む光が入射されると実質的に緑色の波長域の光を出射
し、その他の波長域の可視光を吸収する特性を有し、青
色フィルタ層２４Ｂは、色の波長域を含む光が入射され
ると実質的に赤色の波長域の光を出射し、その他の波長
域の可視光を吸収する特性を有する。本実施形態では、
光波長変換層１６Ｒ、１６Ｇおよび透明層１６Ｂから出
射されるＲ、Ｇ、Ｂの光を各色フィルタ層で色純度を高
めることができる。

【００２６】（実施形態９）図１１は、本発明に係る表
示装置の実施形態９を示す断面図である。本実施形態で
は、同図に示すように、ブラックマスク１３で区画され
る空隙内にそれぞれ赤色フィルタ層２４Ｒ、緑色フィル
タ層２４Ｇ、青色フィルタ層２４Ｂを形成したものであ
り、有機ＥＬ層１９では白色光が発生するように設定さ
れている。そして、各色フィルタ層２４Ｒ、２４Ｇ、２
４Ｂには、光拡散粒子が分散されたものであり、これら
各色フィルタ層２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂが光拡散層とし
ての機能をもつ。なお、本実施形態における他の構成
は、上記した実施形態１と同様である。

【００２７】本実施形態では、有機ＥＬ層１９のそれぞ
れのドット部で発生する白色光を、各色フィルタ層を通
過させることでＲ、Ｇ、Ｂの色の光にすることができ
る。本実施形態の作用、効果は、上記した実施形態１と
同様である。

【００２８】（実施形態１０）図１２は、本発明に係る
表示装置の実施形態１０の要部を示す平面説明図であ
る。本実施形態では、同図に示すように、ブラックマス
ク１３に光が透過する表示用開口部１３Ａ、１３Ｂを形
成したものである。この表示用開口部１３Ａ、１３Ｂ内
には、樹脂バインダ中に光拡散粒子が分散されてなる光
拡散層１６が形成されている。本実施形態では、表示用
開口部１３Ａ、１３Ｂが同心の円とドーナツ形状のもの
であり、前面電極１８と背面電極２０とが交差する領域
内にこれら表示用開口部１３Ａ、１３Ｂが収まるように
形成されている。このように、ブラックマスク１３およ
び光拡散層１６の形状を加工することにより、様々な形
状の発光表示を可能にすることができるため、従来にお
いて形成できなかったキャラクタパターン表示を実現す
ることができる。

【００２９】（実施形態１１）図１３は、本発明に係る
表示装置の実施形態１１のブラックマスクおよび光拡散
層を示す平面図である。本実施形態は、ブラックマスク
１３の開口部の形状を７セグメントの形状に形成したも
のであり、これらの開口部内に光拡散層１６が形成され
ている。なお、ブラックマスク１３の開口部に対する前
面電極（セグメント）１８と背面電極（コモン）の形状
は、図１４に示すように、前面電極１８と背面電極２０
とが重なる部分は、開口部よりも小さく形成してもよ
い。これにより、メタルマスクを用いて形成することが
困難であった７セグメントパターンの形成が可能にな
る。すなわち、前面電極１８と背面電極２０とが重なる
部分が開口部より小さくてよいため、各セグメントから
の引き出し線を形成する領域の自由度が増し、パターン
ルールを緩和することができる。

【００３０】（実施形態１２）図１５は、本発明に係る
表示装置の実施形態１２を示す分解斜視図である。本実
施形態は、同図に示すように、ガラス基板１２上に画素
毎に背面電極としての画素電極２５が形成され、それぞ
れの画素電極２５に、スイッチング素子としての薄膜ト
ランジスタ（ＴＦＴ）２６が接続され、アクティブ駆動
を可能にしたものである。また、前面電極１８は、表示
領域全域に亙り形成された共通の電極であり、この前面
電極１８の上にブラックマスク１３と光拡散層１６が形
成されている。なお、本実施形態における他の構成は、
上記した実施形態１と同様である。本実施形態では、ブ
ラックマスク１３のライン幅をフォトリソグラフィー技
術により小さく設定することができるため、画素電極２
５の大きさに拘わらず開口率を大きくすることが可能と
なる。

【００３１】以上、実施形態１〜実施形態１２について
説明したが、本発明はこれらに限定されるものではな
く、構成の要旨に付随する各種の変更が可能である。例
えば、上記した各実施形態では、有機ＥＬ層１９を２層
構造のものや３層構造のものなど各種の構造に適宜設定
することが可能であり、電子輸送層、発光層、正孔輸送
層などの材料の選択も適宜可能である。

【００３２】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、この発
明によれば、隣接する画素への光もれを抑制して鮮明な
表示ができる表示装置を実現することができる。また、
複雑な形状の電極パターンやセグメント電極からの引き
出し線の影響を最小限に留める表示装置を得ることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る表示装置の実施形態１を示す断面
図。

【図２】実施形態１の要部平面説明図。

【図３】実施形態１の要部拡大断面図。

【図４】本発明に係る表示装置の実施形態２を示す断面
図。

【図５】本発明に係る表示装置の実施形態３を示す断面
図。

【図６】本発明に係る表示装置の実施形態４を示す断面
図。

【図７】本発明に係る表示装置の実施形態５を示す断面
図。

【図８】本発明に係る表示装置の実施形態６を示す断面
図。

【図９】本発明に係る表示装置の実施形態７を示す断面
図。

【図１０】本発明に係る表示装置の実施形態８を示す断
面図。

【図１１】本発明に係る表示装置の実施形態９を示す断
面図。

【図１２】本発明に係る表示装置の実施形態１０を示す
平面説明図。

【図１３】本発明に係る表示装置の実施形態１１を示す
ブラックマスクおよび光拡散層の平面説明図。

【図１４】実施形態１１の電極構成を示す平面説明図。

【図１５】本発明に係る表示装置の実施形態１２を示す
分解斜視図。

【図１６】従来の表示装置を示す断面図。

【図１７】従来のカラー表示装置を示す断面図。

【図１８】従来の他のカラー表示装置を示す断面図。

【図１９】（ａ）はメタルマスクを示す平面図、（ｂ）
は（ａ）のＡ−Ａ断面図。

【符号の説明】

１１表示装置１２ガラス基板１３ブラックマスク１３Ａ、１３Ｂ表示用開口部１４樹脂バインダ１５光拡散粒子１６光拡散層１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂ光波長変換層１８前面電極１９有機ＥＬ層２０背面電極２１ホログラム２２マイクロレンズ２３微細格子２４Ｒ赤色フィルタ層２４Ｇ緑色フィルタ層２４Ｂ青色フィルタ層２５画素電極２６薄膜トランジスタ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】エレクトロルミネッセンス層の前面に透
明な前面電極が形成され、かつ前記エレクトロルミネッ
センス層の背面に背面電極が形成されると共に、前記前
面電極と前記背面電極とが前記エレクトロルミネッセン
ス層を介して重なり合う発光部分に対応するように、前
記前面電極の前方に光拡散層が配置されていることを特
徴とする表示装置。
【請求項２】前記光拡散層は、対応する前記発光部分
よりも広く形成されていることを特徴とする請求項１に
記載の表示装置。
【請求項３】前記光拡散層は、フォトリソグラフィー
法およびエッチング法を用いて形成されたブラックマス
クで囲まれていることを特徴とする請求項１または請求
項２に記載の表示装置。
【請求項４】前記光拡散層は、透明性を有する樹脂バ
インダに光散乱性の微粒子を分散させてなることを特徴
とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の表示装
置。
【請求項５】前記光拡散層は、入射光を吸収して前記
入射光と異なる波長域の光を出射する光波長変換層中に
光散乱性の微粒子を分散させてなることを特徴とする請
求項１〜請求項３のいずれかに記載の表示装置。
【請求項６】前記エレクトロルミネッセンス層は、有
機エレクトロルミネッセンス層であることを特徴とする
請求項１〜請求項５のいずれかに記載の表示装置。