JPH1187237A - アライメント装置 - Google Patents
アライメント装置Info
- Publication number
- JPH1187237A JPH1187237A JP9261156A JP26115697A JPH1187237A JP H1187237 A JPH1187237 A JP H1187237A JP 9261156 A JP9261156 A JP 9261156A JP 26115697 A JP26115697 A JP 26115697A JP H1187237 A JPH1187237 A JP H1187237A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alignment
- light source
- halogen lamp
- source component
- lamp
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ハロゲンランプ等の光源を簡易に交換できる
アライメント装置を提供すること。 【解決手段】 使用時間管理部91は、現在使用中のハ
ロゲンランプの通電時間を計測し記憶しておくことによ
り、使用中のハロゲンランプの累積使用時間を管理す
る。使用時間表示部92は、使用中のハロゲンランプの
累積使用時間を作業者が分かるように表示する。交換必
要性判断部95は、使用中のハロゲンランプの累積使用
時間と、光量センサ416からの光量検出出力とに基づ
いて、使用中のハロゲンランプが必要性能を維持してい
るかどうかの判断を行い、使用中のハロゲンランプの変
更が必要と判断した場合に、ランプホルダ411を回転
させて使用中のハロゲンランプを使用状態にない他のも
のと交換する。
アライメント装置を提供すること。 【解決手段】 使用時間管理部91は、現在使用中のハ
ロゲンランプの通電時間を計測し記憶しておくことによ
り、使用中のハロゲンランプの累積使用時間を管理す
る。使用時間表示部92は、使用中のハロゲンランプの
累積使用時間を作業者が分かるように表示する。交換必
要性判断部95は、使用中のハロゲンランプの累積使用
時間と、光量センサ416からの光量検出出力とに基づ
いて、使用中のハロゲンランプが必要性能を維持してい
るかどうかの判断を行い、使用中のハロゲンランプの変
更が必要と判断した場合に、ランプホルダ411を回転
させて使用中のハロゲンランプを使用状態にない他のも
のと交換する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光基板にマスク
のパターンを転写する露光装置の位置決め用のアライメ
ント装置に関し、さらに詳しくは、ハロゲンランプその
他の光源部品の交換機構を備えるアライメント装置に関
するものである。
のパターンを転写する露光装置の位置決め用のアライメ
ント装置に関し、さらに詳しくは、ハロゲンランプその
他の光源部品の交換機構を備えるアライメント装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】露光装置では、マスクと呼ばれる原画に
描かれた回路パターンを投影レンズを用いて半導体ウェ
ハのレジスト層に焼付け、それを現像することで所望の
回路のレジストパターンを形成している。
描かれた回路パターンを投影レンズを用いて半導体ウェ
ハのレジスト層に焼付け、それを現像することで所望の
回路のレジストパターンを形成している。
【0003】この際、ウェハ上に既に形成された回路パ
ターンとこれから露光すべき回路パターンの光像とを正
確に重ね合わせる必要がある。
ターンとこれから露光すべき回路パターンの光像とを正
確に重ね合わせる必要がある。
【0004】このような重ね合わせに必要な装置をアラ
イメント装置と呼んでおり、アライメント装置は、ウェ
ハ上に予め形成されたアライメント用のマークを光学的
に検出してマークのプロフィールに応じた光電信号を得
るアライメント光学系と、この光電信号を適当なアルゴ
リズムで電気的に処理してアライメントマークの本来の
位置に対するずれ量を求める信号処理系と、求めたずれ
量に応じてウェハ又はマスクの位置を精密に位置補正す
る位置決め機構とを備える。
イメント装置と呼んでおり、アライメント装置は、ウェ
ハ上に予め形成されたアライメント用のマークを光学的
に検出してマークのプロフィールに応じた光電信号を得
るアライメント光学系と、この光電信号を適当なアルゴ
リズムで電気的に処理してアライメントマークの本来の
位置に対するずれ量を求める信号処理系と、求めたずれ
量に応じてウェハ又はマスクの位置を精密に位置補正す
る位置決め機構とを備える。
【0005】このうちアライメント光学系と信号処理系
とからなるアライメントセンサには、投影レンズを介し
てアライメントマークを検出するオン・アクシス方式の
ものと、投影レンズから一定距離だけ離して別設した顕
微鏡対物レンズを介してウェハ上のアライメントマーク
を検出するオフ・アクシス方式のものがある。
とからなるアライメントセンサには、投影レンズを介し
てアライメントマークを検出するオン・アクシス方式の
ものと、投影レンズから一定距離だけ離して別設した顕
微鏡対物レンズを介してウェハ上のアライメントマーク
を検出するオフ・アクシス方式のものがある。
【0006】後者のオフ・アクシス方式のアライメント
センサとして、例えばFIA(フィールド・イメージ・
アライメント)と呼ばれるものがある。このようなアラ
イメントセンサでは、マーク照明光としてブロードな波
長分布を有する光を用い、この光で照明したアライメン
トマークを画像処理してアライメントマークの位置を計
測する。そして、計測したアライメントマークの位置を
マスクに描かれた回路パターンの位置との差に対応する
ベースライン量だけ補正することにより、マスクに描か
れた回路パターンをウェハ上の所望の位置に投影するこ
とができる。
センサとして、例えばFIA(フィールド・イメージ・
アライメント)と呼ばれるものがある。このようなアラ
イメントセンサでは、マーク照明光としてブロードな波
長分布を有する光を用い、この光で照明したアライメン
トマークを画像処理してアライメントマークの位置を計
測する。そして、計測したアライメントマークの位置を
マスクに描かれた回路パターンの位置との差に対応する
ベースライン量だけ補正することにより、マスクに描か
れた回路パターンをウェハ上の所望の位置に投影するこ
とができる。
【0007】上記のアライメント装置では、ブロードな
波長分布を有する光を発生する光源としてハロゲンラン
プを用いているが、ハロゲンランプには一定の寿命(一
般に2000時間前後)があるため、これを適当なタイ
ミングで交換する必要がある。この場合、作業者がアラ
イメント装置の動作状態をチェックして、ハロゲンラン
プの交換の必要性の有無を判断していた。そして、ハロ
ゲンランプの交換に際しては、露光装置の動作を一時的
に停止させ、手作業で使用済みのハロゲンランプを未使
用のものと交換していた。
波長分布を有する光を発生する光源としてハロゲンラン
プを用いているが、ハロゲンランプには一定の寿命(一
般に2000時間前後)があるため、これを適当なタイ
ミングで交換する必要がある。この場合、作業者がアラ
イメント装置の動作状態をチェックして、ハロゲンラン
プの交換の必要性の有無を判断していた。そして、ハロ
ゲンランプの交換に際しては、露光装置の動作を一時的
に停止させ、手作業で使用済みのハロゲンランプを未使
用のものと交換していた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかし、アライメント
装置の動作状態をチェックしたり、ハロゲンランプを交
換する作業は繁雑である。
装置の動作状態をチェックしたり、ハロゲンランプを交
換する作業は繁雑である。
【0009】また、通常この種の露光装置は量産工場に
おいては24時間連続稼動で使用されており、アライメ
ント装置のメンテナンスやトラブル等のために露光装置
が停止することは望ましくなく、停止の時間は短ければ
短いほど稼働率が上がって望ましい。
おいては24時間連続稼動で使用されており、アライメ
ント装置のメンテナンスやトラブル等のために露光装置
が停止することは望ましくなく、停止の時間は短ければ
短いほど稼働率が上がって望ましい。
【0010】そこで、この発明は、ハロゲンランプ等の
光源を簡易に交換できるアライメント装置を提供するこ
とを目的とする。
光源を簡易に交換できるアライメント装置を提供するこ
とを目的とする。
【0011】また、この発明は、露光装置の動作を停止
することなく光源を交換することができるアライメント
装置を提供することを目的とする。
することなく光源を交換することができるアライメント
装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明では、感光基板にマスクのパターンを転写す
る際にアライメントマークを観察するアライメント装置
において、前記アライメントマークを照明する第1及び
第2光源部品(20a〜20d)を設けるとともに、前
記第1又は第2光源部品(20a〜20d)を照明可能
状態と照明不可能状態とに交換可能に設置する設置装置
(411)と、照明可能状態に設置された前記第1又は
第2光源部品(20a)の使用時間を計測する計時装置
(91)と、照明可能状態に設置された前記第1又は第
2光源部品(20a)が所定の性能を保持しているが否
かをモニタするモニタ装置(416)と、前記計時装置
及び前記モニタ装置からの情報に基づいて、照明可能状
態に設置された前記第1又は第2光源部品(20a)の
交換の必要性を判断する判断装置(95)と、前記判断
装置の判断結果に基づいて前記設置装置(411)を制
御して、照明可能状態に設置された前記第1又は第2光
源部品(20a)を前記第2又は第1光源部品(20b
〜20d)と交換させる制御装置(97)とを備えるこ
とを特徴とする。
め、本発明では、感光基板にマスクのパターンを転写す
る際にアライメントマークを観察するアライメント装置
において、前記アライメントマークを照明する第1及び
第2光源部品(20a〜20d)を設けるとともに、前
記第1又は第2光源部品(20a〜20d)を照明可能
状態と照明不可能状態とに交換可能に設置する設置装置
(411)と、照明可能状態に設置された前記第1又は
第2光源部品(20a)の使用時間を計測する計時装置
(91)と、照明可能状態に設置された前記第1又は第
2光源部品(20a)が所定の性能を保持しているが否
かをモニタするモニタ装置(416)と、前記計時装置
及び前記モニタ装置からの情報に基づいて、照明可能状
態に設置された前記第1又は第2光源部品(20a)の
交換の必要性を判断する判断装置(95)と、前記判断
装置の判断結果に基づいて前記設置装置(411)を制
御して、照明可能状態に設置された前記第1又は第2光
源部品(20a)を前記第2又は第1光源部品(20b
〜20d)と交換させる制御装置(97)とを備えるこ
とを特徴とする。
【0013】また、好ましい態様では、前記制御装置
(97)が、前記感光基板に前記マスクのパターンを転
写する露光動作を停止することなく前記光源部品(20
a)を交換する(ステップS31、S33)ことを特徴
とする。
(97)が、前記感光基板に前記マスクのパターンを転
写する露光動作を停止することなく前記光源部品(20
a)を交換する(ステップS31、S33)ことを特徴
とする。
【0014】また、好ましい態様では、前記アライメン
ト装置が、前記感光基板に前記マスクのパターンを転写
する投影レンズ(PL)に対し、前記光源部品からの照
明光を通さないオフ・アクシス系であり、前記制御装置
(97)が、前記アライメント装置がキヤリブレーショ
ン中(ステップS22)又は特定のアライメントマーク
の検出中(ステップS23)のいずれがである場合を回
避して、前記光源部品を交換することを特徴とする。
ト装置が、前記感光基板に前記マスクのパターンを転写
する投影レンズ(PL)に対し、前記光源部品からの照
明光を通さないオフ・アクシス系であり、前記制御装置
(97)が、前記アライメント装置がキヤリブレーショ
ン中(ステップS22)又は特定のアライメントマーク
の検出中(ステップS23)のいずれがである場合を回
避して、前記光源部品を交換することを特徴とする。
【0015】また、好ましい態様では、前記制御装置が
前記光源部品を交換した場合(ステップS31)、前記
アライメント装置のキャリブレーションをやり直す(ス
テップS22)ことを特徴とする。
前記光源部品を交換した場合(ステップS31)、前記
アライメント装置のキャリブレーションをやり直す(ス
テップS22)ことを特徴とする。
【0016】また、好ましい態様では、前記アライメン
ト装置による特定のアライメントマークの検出(ステッ
プS23)直後に前記制御装置が前記光源部品を交換し
た場合(ステップS33)、前記アライメント装置によ
る前記特定のアライメントマークの検出をやり直す(ス
テップS23)ことを特徴とする。
ト装置による特定のアライメントマークの検出(ステッ
プS23)直後に前記制御装置が前記光源部品を交換し
た場合(ステップS33)、前記アライメント装置によ
る前記特定のアライメントマークの検出をやり直す(ス
テップS23)ことを特徴とする。
【0017】また、好ましい態様では、前記設置装置に
取り付けられた前記光源部品のうち照明不可能状態の前
記第1又は第2光源部品(20b〜20d)が、前記感
光基板に前記マスクのパターンを転写する露光動作を停
止することなく、未便用の第3の光源部品と取り替え可
能であることを特徴とする。
取り付けられた前記光源部品のうち照明不可能状態の前
記第1又は第2光源部品(20b〜20d)が、前記感
光基板に前記マスクのパターンを転写する露光動作を停
止することなく、未便用の第3の光源部品と取り替え可
能であることを特徴とする。
【0018】また、好ましい態様では、前記アライメン
ト装置が、アライメントマークを画像情報として検出す
る光学センサ(34)を含み、前記光源部品は、前記ア
ライメントマークを照明する広波長帯域の光源ランプ
(20)を含むことを特徴とする。
ト装置が、アライメントマークを画像情報として検出す
る光学センサ(34)を含み、前記光源部品は、前記ア
ライメントマークを照明する広波長帯域の光源ランプ
(20)を含むことを特徴とする。
【0019】
〔第1実施形態〕図1は、第1実施形態のアライメント
装置を組み込んだ露光装置の全体構造を説明する図であ
る。露光用の照明光ILは、コンデンサレンズCLを介
して、マスクと総称されるレチクルRに設けたパターン
領域PAを均一な照度分布で照射する。パターン領域P
Aを通った照明光ILは、投影レンズPLに入射し、感
光基板であるウェハWに達する。ここで、投影レンズP
Lに関し、照明光ILの波長のもとでレチクルRとウェ
ハWとは互いに共役になっている。なお、照明光ILは
ケーラー照明であり、投影レンズPLの瞳EP内の中心
に光源像が結像されている。
装置を組み込んだ露光装置の全体構造を説明する図であ
る。露光用の照明光ILは、コンデンサレンズCLを介
して、マスクと総称されるレチクルRに設けたパターン
領域PAを均一な照度分布で照射する。パターン領域P
Aを通った照明光ILは、投影レンズPLに入射し、感
光基板であるウェハWに達する。ここで、投影レンズP
Lに関し、照明光ILの波長のもとでレチクルRとウェ
ハWとは互いに共役になっている。なお、照明光ILは
ケーラー照明であり、投影レンズPLの瞳EP内の中心
に光源像が結像されている。
【0020】レチクルRは、2次元に微動可能なレチク
ルステージRSに保持されている。このレチクルRは、
その周辺に形成されたレチクルアライメントマークがミ
ラー16、対物レンズ17、マーク検出系18からなる
レチクルアライメント系で検出されることによって、投
影レンズPLの光軸AXに関して位置決めされる。
ルステージRSに保持されている。このレチクルRは、
その周辺に形成されたレチクルアライメントマークがミ
ラー16、対物レンズ17、マーク検出系18からなる
レチクルアライメント系で検出されることによって、投
影レンズPLの光軸AXに関して位置決めされる。
【0021】ウェハWは、駆動系13によって2次元移
動するウェハステージST上に載置されている。このウ
ェハステージSTの座標値は干渉計12によって逐次計
測される。ステージコントローラ14は、干渉計12か
らの座標計算値等に基づいて駆動系13を制御してウェ
ハステージSTの移動や位置決めを制御する。ウェハス
テージST上には、後述するベースライン計測等で使用
する基準マークFMが設けられている。
動するウェハステージST上に載置されている。このウ
ェハステージSTの座標値は干渉計12によって逐次計
測される。ステージコントローラ14は、干渉計12か
らの座標計算値等に基づいて駆動系13を制御してウェ
ハステージSTの移動や位置決めを制御する。ウェハス
テージST上には、後述するベースライン計測等で使用
する基準マークFMが設けられている。
【0022】図1に示す露光装置は、TTL(Thro
ugh The Lens)方式の第1アライメント光
学系50と、オフ・アクシス方式の第2アライメント光
学系60を備え、検出精度、検出スピード等の条件状況
に応じてこれらを適宜使い分けている(TTL方式のア
ライメント光学系や、オフ・アクシス方式のアライメン
ト光学系の詳細な原理については、特開平2−5410
3号公報等参照)。
ugh The Lens)方式の第1アライメント光
学系50と、オフ・アクシス方式の第2アライメント光
学系60を備え、検出精度、検出スピード等の条件状況
に応じてこれらを適宜使い分けている(TTL方式のア
ライメント光学系や、オフ・アクシス方式のアライメン
ト光学系の詳細な原理については、特開平2−5410
3号公報等参照)。
【0023】まず、第1アライメント光学系50につい
て説明する。レーザ光源1から出力されるビームLB
は、レジストが感光性を有しないHe−Neレーザ等の
赤色光である。このビームLBは、シリンドリカルレン
ズ等を含むビーム整形光学系2を通り、ミラー3a、レ
ンズ系4、ミラー3b及びビームスプリッタ5を介して
対物レンズ6に入射する。対物レンズ6から出射したビ
ームLBは、レチクルR下方に45゜に斜設されたミラ
ー7で反射され、投影レンズPLの視野周辺に光軸AX
と平行に入射する。投影レンズPLに入射したビームL
Bは投影レンズPLの瞳EPの中心を通ってウェハWを
垂直に照射する。なお、投影レンズPLは、対物レンズ
6によって集光されたスリット状のスポット光SP0を
ウェハW上にスポット光SPとして再結像する。
て説明する。レーザ光源1から出力されるビームLB
は、レジストが感光性を有しないHe−Neレーザ等の
赤色光である。このビームLBは、シリンドリカルレン
ズ等を含むビーム整形光学系2を通り、ミラー3a、レ
ンズ系4、ミラー3b及びビームスプリッタ5を介して
対物レンズ6に入射する。対物レンズ6から出射したビ
ームLBは、レチクルR下方に45゜に斜設されたミラ
ー7で反射され、投影レンズPLの視野周辺に光軸AX
と平行に入射する。投影レンズPLに入射したビームL
Bは投影レンズPLの瞳EPの中心を通ってウェハWを
垂直に照射する。なお、投影レンズPLは、対物レンズ
6によって集光されたスリット状のスポット光SP0を
ウェハW上にスポット光SPとして再結像する。
【0024】スポット光SPによってウェハW上のアラ
イメントマークを検出するには、ウェハステージSTを
スポット光SPに対して水平移動させる。スポット光S
PがウェハW上のショット領域周辺に形成された周期パ
ターンのアライメントマークを相対走査すると、アライ
メントマークからは正反射光、散乱光、回折光等が生
じ、アライメントマークとスポット光SPの相対位置に
よって光量が変化していく。このような光情報は、ビー
ムLBの送光路に沿って逆進し、投影レンズPL、ミラ
ー7、及び対物レンズ6を通り、ビームスプリッタ5で
反射されて、受光素子8に達する。受光素子8の受光面
は、投影レンズPLの瞳EPとほぼ共役な面EP’に配
置され、アライメントマークからの散乱光や回折光のみ
を受光し、その強度に応じた信号を出力する。
イメントマークを検出するには、ウェハステージSTを
スポット光SPに対して水平移動させる。スポット光S
PがウェハW上のショット領域周辺に形成された周期パ
ターンのアライメントマークを相対走査すると、アライ
メントマークからは正反射光、散乱光、回折光等が生
じ、アライメントマークとスポット光SPの相対位置に
よって光量が変化していく。このような光情報は、ビー
ムLBの送光路に沿って逆進し、投影レンズPL、ミラ
ー7、及び対物レンズ6を通り、ビームスプリッタ5で
反射されて、受光素子8に達する。受光素子8の受光面
は、投影レンズPLの瞳EPとほぼ共役な面EP’に配
置され、アライメントマークからの散乱光や回折光のみ
を受光し、その強度に応じた信号を出力する。
【0025】この受光素子8からの光電信号は、干渉計
12からの位置計測信号PDSとともにLSA(レーザ
・ステップ・アライメント)演算ユニット9に入力す
る。LSA演算ユニット9は、スポット光SPに対して
受光素子8からの光電信号波形を位置計測信号PDSに
基づいてサンプリングして記憶し、その波形を解析する
ことによってアライメントマークの中心がスポット光S
Pの中心と一致したときのウェハステージSTの座標位
置として、マーク位置情報AP1を出力する。
12からの位置計測信号PDSとともにLSA(レーザ
・ステップ・アライメント)演算ユニット9に入力す
る。LSA演算ユニット9は、スポット光SPに対して
受光素子8からの光電信号波形を位置計測信号PDSに
基づいてサンプリングして記憶し、その波形を解析する
ことによってアライメントマークの中心がスポット光S
Pの中心と一致したときのウェハステージSTの座標位
置として、マーク位置情報AP1を出力する。
【0026】次に、第2アライメント光学系60につい
て説明する。光源装置40に内蔵されたハロゲンランプ
20から発生した光は、同様に光源装置40に内蔵され
たコンデンサレンズ21によってオプティカルファイバ
22の一端面に集光される。ファイバ22を通った光
は、レジスト層の感光波長(短波長)域と赤外波長域と
をカットするフィルタ23を通り、レンズ系24を介し
てハーフミラー25に達する。ここで反射された照明光
は、ミラー26でほぼ水平に反射された後、対物レンズ
に入射し、さらに投影レンズPLの鏡筒下部の周辺にこ
の投影レンズPLの視野を遮らないように固定されたプ
リズムミラー28で反射されてウェハWを垂直に照射す
る。なお、対物レンズ27は、テレセントリック系と
し、その開口絞り(瞳と同じ)の面27aには、ファイ
バ22の出射端の像が形成され、ケーラー照明が行われ
る。また、対物レンズ27の光軸はウェハW上で垂直に
なるように定められており、アライメントマークの検出
時に光軸の倒れによるマーク位置のずれが生じないよう
になっている。
て説明する。光源装置40に内蔵されたハロゲンランプ
20から発生した光は、同様に光源装置40に内蔵され
たコンデンサレンズ21によってオプティカルファイバ
22の一端面に集光される。ファイバ22を通った光
は、レジスト層の感光波長(短波長)域と赤外波長域と
をカットするフィルタ23を通り、レンズ系24を介し
てハーフミラー25に達する。ここで反射された照明光
は、ミラー26でほぼ水平に反射された後、対物レンズ
に入射し、さらに投影レンズPLの鏡筒下部の周辺にこ
の投影レンズPLの視野を遮らないように固定されたプ
リズムミラー28で反射されてウェハWを垂直に照射す
る。なお、対物レンズ27は、テレセントリック系と
し、その開口絞り(瞳と同じ)の面27aには、ファイ
バ22の出射端の像が形成され、ケーラー照明が行われ
る。また、対物レンズ27の光軸はウェハW上で垂直に
なるように定められており、アライメントマークの検出
時に光軸の倒れによるマーク位置のずれが生じないよう
になっている。
【0027】ウェハWからの反射光は、対物レンズ2
7、及びハーフミラー25を通り、レンズ系29によっ
て指標板30に結像される。この指標板30は、対物レ
ンズ27とレンズ系29とによってウェハWと共役に配
置され、矩形の透明窓内に直線状の指標マークを有す
る。ウェハW状のアライメントマークの像は、指標板3
0の透明窓内に結像される。このアライメントマーク像
と指標マークとは、リレー系31,32、ミラー32を
介してCCDカメラ等の撮像素子34に結像する。撮像
素子34からのビデオ信号は、FIA演算ユニット35
に、干渉計12からの位置計測信号PDSとともに入力
する。FIA演算ユニット35は、指標板30に形成さ
れた指標マークに対するアライメントマーク像のずれを
ビデオ信号の波形に基づいて求め、位置計測信号PDS
によって表されるウェハステージSTの停止位置から、
アライメントマーク像が指標マークの中心に正確に位置
したときのウェハステージSTのマーク中心検出位置に
関する情報AP2を出力する。以上において、フィルタ
23を通ったウェハWの照明光は、ウェハWのアライメ
ントマークを含む局所領域(ショット領域よりも小さ
い)をほぼ均一な照度で照明する。この際、照明光の波
長域は200nm程度の幅に定められている。
7、及びハーフミラー25を通り、レンズ系29によっ
て指標板30に結像される。この指標板30は、対物レ
ンズ27とレンズ系29とによってウェハWと共役に配
置され、矩形の透明窓内に直線状の指標マークを有す
る。ウェハW状のアライメントマークの像は、指標板3
0の透明窓内に結像される。このアライメントマーク像
と指標マークとは、リレー系31,32、ミラー32を
介してCCDカメラ等の撮像素子34に結像する。撮像
素子34からのビデオ信号は、FIA演算ユニット35
に、干渉計12からの位置計測信号PDSとともに入力
する。FIA演算ユニット35は、指標板30に形成さ
れた指標マークに対するアライメントマーク像のずれを
ビデオ信号の波形に基づいて求め、位置計測信号PDS
によって表されるウェハステージSTの停止位置から、
アライメントマーク像が指標マークの中心に正確に位置
したときのウェハステージSTのマーク中心検出位置に
関する情報AP2を出力する。以上において、フィルタ
23を通ったウェハWの照明光は、ウェハWのアライメ
ントマークを含む局所領域(ショット領域よりも小さ
い)をほぼ均一な照度で照明する。この際、照明光の波
長域は200nm程度の幅に定められている。
【0028】なお、図1では、第1アライメント光学系
50と第2アライメント光学系60とがそれぞれ1組し
か示されていないが、紙面と直交する方向に同一構造光
学系がそれぞれ1組ずつ設けられている。
50と第2アライメント光学系60とがそれぞれ1組し
か示されていないが、紙面と直交する方向に同一構造光
学系がそれぞれ1組ずつ設けられている。
【0029】主制御系80は、第1アライメント光学系
50、第2アライメント光学系60、ステージコントロ
ーラ14等を統括制御する。
50、第2アライメント光学系60、ステージコントロ
ーラ14等を統括制御する。
【0030】この主制御系80には、干渉計12からの
位置情報PDSが常時入力される。LSA演算ユニット
9からのマーク位置情報AP1とFIA演算ユニット3
5からのマーク位置情報AP2も、主制御系80に入力
され、アライメントデータとして記憶保持される。この
ようにして記憶されたアライメントデータは、統計的な
演算手法(EGA;エンハンスメント・グローバル・ア
ライメント)を用いてウェハW上の露光すべき設計上の
ショット配列座標値から実際のショット配列座標値を算
出する際に利用される。こうして算出されたショット配
列座標値は、ステージコントローラ14を介してウェハ
ステージSTのステッピング制御(すなわちショット露
光)する際に利用される。
位置情報PDSが常時入力される。LSA演算ユニット
9からのマーク位置情報AP1とFIA演算ユニット3
5からのマーク位置情報AP2も、主制御系80に入力
され、アライメントデータとして記憶保持される。この
ようにして記憶されたアライメントデータは、統計的な
演算手法(EGA;エンハンスメント・グローバル・ア
ライメント)を用いてウェハW上の露光すべき設計上の
ショット配列座標値から実際のショット配列座標値を算
出する際に利用される。こうして算出されたショット配
列座標値は、ステージコントローラ14を介してウェハ
ステージSTのステッピング制御(すなわちショット露
光)する際に利用される。
【0031】主制御系80には、上述のような機能の
他、ウェハW上の露光すべきショット配列座標値(設計
値)を格納するショット・マップ・データ機能、ウェハ
W上のアライメントすべきショット配列座標値(設計
値)を格納するアライメント・マップ・データ機能、ア
ライメント時やステップ・アンド・リピート方式のショ
ット露光時のウェハステージSTの移動を制御するため
シーケンス・コントローラ機能等も備わっている。
他、ウェハW上の露光すべきショット配列座標値(設計
値)を格納するショット・マップ・データ機能、ウェハ
W上のアライメントすべきショット配列座標値(設計
値)を格納するアライメント・マップ・データ機能、ア
ライメント時やステップ・アンド・リピート方式のショ
ット露光時のウェハステージSTの移動を制御するため
シーケンス・コントローラ機能等も備わっている。
【0032】ランプ制御処理部90は、主制御系80と
連携して動作し、後に詳述するように、ハロゲンランプ
20の状態を管理したり、ハロゲンランプ20を適当な
タイミングで交換する。
連携して動作し、後に詳述するように、ハロゲンランプ
20の状態を管理したり、ハロゲンランプ20を適当な
タイミングで交換する。
【0033】なお、ウェハステージST上に形成された
基準マークFMは、第2アライメント光学系60のキャ
リブレーションに際して必要となるベースライン計測に
利用されるものである。ここで、ベースライン計測と
は、露光光によるレチクルの像の中心位置と、第1アラ
イメント光学系50のスポット光SPの検出中心又は第
2アライメント光学系60の検出中心(指標板30の中
心)とのウェハW面内での相対距離(ベースライン量)
を計算するものである。
基準マークFMは、第2アライメント光学系60のキャ
リブレーションに際して必要となるベースライン計測に
利用されるものである。ここで、ベースライン計測と
は、露光光によるレチクルの像の中心位置と、第1アラ
イメント光学系50のスポット光SPの検出中心又は第
2アライメント光学系60の検出中心(指標板30の中
心)とのウェハW面内での相対距離(ベースライン量)
を計算するものである。
【0034】図2は、第2アライメント光学系60の光
源装置40の要部を説明する図である。図2(a)は、
光源装置40の要部外観を示し、図2(b)は、その内
部構造を示す図である。
源装置40の要部を説明する図である。図2(a)は、
光源装置40の要部外観を示し、図2(b)は、その内
部構造を示す図である。
【0035】動作に使用するハロゲンランプ20aは1
つであるのに対し、このハロゲンランプ20aを保持す
るランプホルダ411は、使用していない3つのハロゲ
ンランプ20b、20c、20dも取り付け得る構造と
なっている。
つであるのに対し、このハロゲンランプ20aを保持す
るランプホルダ411は、使用していない3つのハロゲ
ンランプ20b、20c、20dも取り付け得る構造と
なっている。
【0036】このランプホルダ411は、ターレット型
の装置で、ホルダ回転軸412を中心として回転するこ
とによって、使用可能状態に設置されたハロゲンランプ
20aをその他の使用可能状態以外のハロゲンランプ2
0b、20c、20dと交換することができるようにな
っている。使用可能状態のハロゲンランプ20aは、図
示のようにランプハウス413、414の中に格納され
る状態になる。
の装置で、ホルダ回転軸412を中心として回転するこ
とによって、使用可能状態に設置されたハロゲンランプ
20aをその他の使用可能状態以外のハロゲンランプ2
0b、20c、20dと交換することができるようにな
っている。使用可能状態のハロゲンランプ20aは、図
示のようにランプハウス413、414の中に格納され
る状態になる。
【0037】ランプハウス413、414の内壁には、
光量センサ416が取り付けられており、使用中のハロ
ゲンランプ20aの光量に対応する電気信号を検出す
る。ランプ制御処理部90は、光量センサ416の検出
信号に基づいて使用中のハロゲンランプ20aが必要性
能を維持しているかどうかを判断する。
光量センサ416が取り付けられており、使用中のハロ
ゲンランプ20aの光量に対応する電気信号を検出す
る。ランプ制御処理部90は、光量センサ416の検出
信号に基づいて使用中のハロゲンランプ20aが必要性
能を維持しているかどうかを判断する。
【0038】なお、ハロゲンランプ20aを使用してい
る最中であっても、他の使用可能状態以外のハロゲンラ
ンプ20b、20c、20dは、ランプハウス413、
414の外側に出た状態になっている。このため、ハロ
ゲンランプ20b、20c、20dのうち寿命によって
使用済みのものは、適宜のタイミングで未使用のハロゲ
ンランプと交換することが可能となっている。
る最中であっても、他の使用可能状態以外のハロゲンラ
ンプ20b、20c、20dは、ランプハウス413、
414の外側に出た状態になっている。このため、ハロ
ゲンランプ20b、20c、20dのうち寿命によって
使用済みのものは、適宜のタイミングで未使用のハロゲ
ンランプと交換することが可能となっている。
【0039】図3は、 使用可能状態のハロゲンランプ
20aをハロゲンランプ20b、20c、20dのうち
使用済みのものと交換する機構を説明する図である。図
3(a)は、外観を示し、図3(b)は、内部のようす
を示す図である。
20aをハロゲンランプ20b、20c、20dのうち
使用済みのものと交換する機構を説明する図である。図
3(a)は、外観を示し、図3(b)は、内部のようす
を示す図である。
【0040】ランプハウス413、414の可動部41
4は、光軸に沿ってスライド可能となっており、ハロゲ
ンランプの交換時には、図示のようにランプハウスの可
動部14がスライドして使用可能状態のハロゲンランプ
20aを露出させる。次に、ランプホルダ411をこれ
に設けた回転軸412を中心として90゜又は180゜
回転させることにより、使用可能状態のハロゲンランプ
20aを他のハロゲンランプ20b、20c、20dと
交換することが可能となる。
4は、光軸に沿ってスライド可能となっており、ハロゲ
ンランプの交換時には、図示のようにランプハウスの可
動部14がスライドして使用可能状態のハロゲンランプ
20aを露出させる。次に、ランプホルダ411をこれ
に設けた回転軸412を中心として90゜又は180゜
回転させることにより、使用可能状態のハロゲンランプ
20aを他のハロゲンランプ20b、20c、20dと
交換することが可能となる。
【0041】以上のように、ランプホルダ411に取り
つけておけるハロゲンランプを4つにした場合には、実
際に使用するハロゲンランプ20aの他、3つのハロゲ
ンランプ20b、20c、20dが予備部品となるた
め、使用中以外のハロゲンランプ20b、20c、20
dがすべて使用済みになってから、使用済みの部品を一
度に交換すればよくなる。これにより、交換作業自体を
減らすことが可能になる。また、このような消耗品の交
換作業を行うタイミングは、使用中のハロゲンランプ2
0aが使用不能になったタイミングや、露光装置の処理
シーケンスの合間のタイミングに合わせる必要がなく、
使用済みのハロゲンランプの交換時に露光装置を停止す
る必要もないため、定期的に全露光装置の消耗部品の交
換を行うような運用方法も可能になる。
つけておけるハロゲンランプを4つにした場合には、実
際に使用するハロゲンランプ20aの他、3つのハロゲ
ンランプ20b、20c、20dが予備部品となるた
め、使用中以外のハロゲンランプ20b、20c、20
dがすべて使用済みになってから、使用済みの部品を一
度に交換すればよくなる。これにより、交換作業自体を
減らすことが可能になる。また、このような消耗品の交
換作業を行うタイミングは、使用中のハロゲンランプ2
0aが使用不能になったタイミングや、露光装置の処理
シーケンスの合間のタイミングに合わせる必要がなく、
使用済みのハロゲンランプの交換時に露光装置を停止す
る必要もないため、定期的に全露光装置の消耗部品の交
換を行うような運用方法も可能になる。
【0042】近年、半導体の微細化が進むにつれ、半導
体の製造を行うクリーンルームには、より高いクリーン
度が要求されるようになってきており、できる限り人間
がクリーンルーム内に入らないで済むようにすることが
望ましい状況となっている。前述のようにこの露光装置
ではアライメントセンサ用の光源部品の交換作業の頻度
を減らすことが可能となり、一度の交換作業で全露光装
置の要所の部品交換を済ませることが可能となれば、結
果として人間がクリーンルームに入る頻度を減らすこと
ができる。
体の製造を行うクリーンルームには、より高いクリーン
度が要求されるようになってきており、できる限り人間
がクリーンルーム内に入らないで済むようにすることが
望ましい状況となっている。前述のようにこの露光装置
ではアライメントセンサ用の光源部品の交換作業の頻度
を減らすことが可能となり、一度の交換作業で全露光装
置の要所の部品交換を済ませることが可能となれば、結
果として人間がクリーンルームに入る頻度を減らすこと
ができる。
【0043】図4は、ランプ制御処理部15の構成を説
明するブロック図である。使用時間管理部91は、現在
使用中のハロゲンランプ20aの通電時間を計測し、記
憶しておくことによりハロゲンランプ20aの累積使用
時間を管理する。使用時間表示部92は、ハロゲンラン
プ20aの累積使用時間を作業者が分かるように表示す
る。交換必要性判断部95は、ハロゲンランプ20aの
累積使用時間と、光量センサ416からの光量検出出力
とに基づいて、ハロゲンランプ20aが必要性能を維持
しているかどうかの判断を行い、使用中のハロゲンラン
プ20aの変更が必要と判断した場合に、ランプホルダ
411を回転させて使用中のハロゲンランプ20aを他
のものと交換する。
明するブロック図である。使用時間管理部91は、現在
使用中のハロゲンランプ20aの通電時間を計測し、記
憶しておくことによりハロゲンランプ20aの累積使用
時間を管理する。使用時間表示部92は、ハロゲンラン
プ20aの累積使用時間を作業者が分かるように表示す
る。交換必要性判断部95は、ハロゲンランプ20aの
累積使用時間と、光量センサ416からの光量検出出力
とに基づいて、ハロゲンランプ20aが必要性能を維持
しているかどうかの判断を行い、使用中のハロゲンラン
プ20aの変更が必要と判断した場合に、ランプホルダ
411を回転させて使用中のハロゲンランプ20aを他
のものと交換する。
【0044】図5は、図1の露光装置のウェハ露光処理
のシーケンスを説明するフローチャートである。
のシーケンスを説明するフローチャートである。
【0045】ウェハ露光処理は、通常、複数枚のウェハ
Wに対して連続的に行われ、各々のウェハWに対してア
ライメントセンサを用いてウェハW上の各アライメント
マークに対して位置計測処理を行った後、ウェハW上の
各露光領域に対してショット露光処理を行う。なお、以
下の説明では、オフ・アクシス方式の第2アライメント
光学系60を用いてアライメントを行う場合のウェハ露
光処理について説明する。
Wに対して連続的に行われ、各々のウェハWに対してア
ライメントセンサを用いてウェハW上の各アライメント
マークに対して位置計測処理を行った後、ウェハW上の
各露光領域に対してショット露光処理を行う。なお、以
下の説明では、オフ・アクシス方式の第2アライメント
光学系60を用いてアライメントを行う場合のウェハ露
光処理について説明する。
【0046】まず、ステップS20で、ウェハステージ
ST上に未露光のウェハWをセットする。次に、ステッ
プS21で、アライメントセンサのキャリブレーション
が必要か否かを判断する。例えば、最後にキャリブレー
ションを行ってから露光処理したウェハWの枚数や最後
のキャリブレーションからの経過時間が所定の上限値を
超えた場合は、キャリブレーションが必要と判断され
る。
ST上に未露光のウェハWをセットする。次に、ステッ
プS21で、アライメントセンサのキャリブレーション
が必要か否かを判断する。例えば、最後にキャリブレー
ションを行ってから露光処理したウェハWの枚数や最後
のキャリブレーションからの経過時間が所定の上限値を
超えた場合は、キャリブレーションが必要と判断され
る。
【0047】ステップS21でアライメントセンサのキ
ャリブレーションが必要と判断された場合、ステップS
22で、アライメントセンサのキャリブレーションを実
行する。具体的には、露光光によるレチクルの像の中心
位置と第2アライメント光学系60の検出位置との差に
対応するベースライン量の計測が行われる。
ャリブレーションが必要と判断された場合、ステップS
22で、アライメントセンサのキャリブレーションを実
行する。具体的には、露光光によるレチクルの像の中心
位置と第2アライメント光学系60の検出位置との差に
対応するベースライン量の計測が行われる。
【0048】次に、ステップS30で、現在使用してい
るハロゲンランプ20aを交換する必要があるか否かを
判断する。例えば、現在使用可能状態に設置されている
ハロゲンランプ20aの累積使用時間が所定の上限値を
超えた場合は、ハロゲンランプの交換が必要と判断され
る。また、ハロゲンランプ20aの光量の減少等の判断
基準により、ハロゲンランプ20aが完全に性能を失っ
てはいないものの交換時期であると判断された場合も、
ランプの交換が必要と判断される。さらに、ランプ切れ
等により突然ハロゲンランプ20aが性能を失ってしま
った場合も、ランプの交換が必要と判断される。
るハロゲンランプ20aを交換する必要があるか否かを
判断する。例えば、現在使用可能状態に設置されている
ハロゲンランプ20aの累積使用時間が所定の上限値を
超えた場合は、ハロゲンランプの交換が必要と判断され
る。また、ハロゲンランプ20aの光量の減少等の判断
基準により、ハロゲンランプ20aが完全に性能を失っ
てはいないものの交換時期であると判断された場合も、
ランプの交換が必要と判断される。さらに、ランプ切れ
等により突然ハロゲンランプ20aが性能を失ってしま
った場合も、ランプの交換が必要と判断される。
【0049】ステップS30でランプ交換が必要と判断
された場合、ステップS31で、現在使用可能状態に設
置されたハロゲンランプ20aを他の使用可能状態にな
いハロゲンランプ20b、20c、20dのうち未使用
のものと交換する。この場合、ステップS22に戻っ
て、アライメントセンサのキャリブレーションを再度実
行することになる。このように、ランプ交換が必要と判
断された直前のキャリブレーション処理を再度実行する
のは、ランプ交換の直前にハロゲンランプ20aを用い
て行った処理は、正常な結果が得られていない可能性が
あるためであり、正常でない可能性のある結果を取り直
して、適切な処理を継続することができるようにしたも
のである。
された場合、ステップS31で、現在使用可能状態に設
置されたハロゲンランプ20aを他の使用可能状態にな
いハロゲンランプ20b、20c、20dのうち未使用
のものと交換する。この場合、ステップS22に戻っ
て、アライメントセンサのキャリブレーションを再度実
行することになる。このように、ランプ交換が必要と判
断された直前のキャリブレーション処理を再度実行する
のは、ランプ交換の直前にハロゲンランプ20aを用い
て行った処理は、正常な結果が得られていない可能性が
あるためであり、正常でない可能性のある結果を取り直
して、適切な処理を継続することができるようにしたも
のである。
【0050】ステップS32でランプ交換の必要がない
と判断された場合、ステップS23で、第n番目(n=
1,2,3…)のアライメントマークの位置計測を行
う。具体的には、第2アライメント光学系60を用いて
複数のアライメントマークのうち特定の画像を検出し、
このアライメントマークの位置を計測する。
と判断された場合、ステップS23で、第n番目(n=
1,2,3…)のアライメントマークの位置計測を行
う。具体的には、第2アライメント光学系60を用いて
複数のアライメントマークのうち特定の画像を検出し、
このアライメントマークの位置を計測する。
【0051】次に、ステップS32で、現在使用中のハ
ロゲンランプ20aを交換する必要があるか否かを判断
する。その基準は、ステップS30の場合と同様であ
る。そして、ステップS32でランプ交換が必要と判断
された場合、ステップS33で、現在使用可能状態に設
置されたハロゲンランプ20aを他の使用可能状態にな
いハロゲンランプ20b、20c、20dのうち未使用
のものと交換する。この場合も、ステップS23に戻っ
て、直前に行ったアライメントマークの位置計測を再度
実行することになる。
ロゲンランプ20aを交換する必要があるか否かを判断
する。その基準は、ステップS30の場合と同様であ
る。そして、ステップS32でランプ交換が必要と判断
された場合、ステップS33で、現在使用可能状態に設
置されたハロゲンランプ20aを他の使用可能状態にな
いハロゲンランプ20b、20c、20dのうち未使用
のものと交換する。この場合も、ステップS23に戻っ
て、直前に行ったアライメントマークの位置計測を再度
実行することになる。
【0052】ステップS30でランプ交換の必要がない
と判断された場合、直前に位置計測を行ったアライメン
トマークが最終マークであるか否かを判断し、最終マー
クでなければステップS23に戻って次のアライメント
マークの位置計測を行い、最終マークであればステップ
S24に進んで、ウェハW上の所定位置に第m番目(m
=1,2,3…)のショット露光を行う。
と判断された場合、直前に位置計測を行ったアライメン
トマークが最終マークであるか否かを判断し、最終マー
クでなければステップS23に戻って次のアライメント
マークの位置計測を行い、最終マークであればステップ
S24に進んで、ウェハW上の所定位置に第m番目(m
=1,2,3…)のショット露光を行う。
【0053】以上のようなショット露光を繰返して、ス
テップS35で、直前に行ったショット露光が最終ショ
ットであると判断された場合、ステップS36に進ん
で、現在露光中のウェハWが最終ウェハであるか否かを
判断する。最終ウェハでなければ、ステップS20に戻
ってウェハWを交換し、以上説明した処理を繰返す。最
終ウェハであれば、処理を終了する。
テップS35で、直前に行ったショット露光が最終ショ
ットであると判断された場合、ステップS36に進ん
で、現在露光中のウェハWが最終ウェハであるか否かを
判断する。最終ウェハでなければ、ステップS20に戻
ってウェハWを交換し、以上説明した処理を繰返す。最
終ウェハであれば、処理を終了する。
【0054】なお、ハロゲンランプ20aの交換は、露
光装置が停止中或いはショット露光中である場合のよう
に、アライメントセンサが使用されていないタイミング
で通常の動作と並行して実行することも可能である。
光装置が停止中或いはショット露光中である場合のよう
に、アライメントセンサが使用されていないタイミング
で通常の動作と並行して実行することも可能である。
【0055】さらに、使用可能状態にないハロゲンラン
プ20b、20c、20dのうち寿命を超えたもの、具
体的にはランプ切れや性能劣化を生じたものを、露光装
置の動作中に未使用のハロゲンランプと取り替えること
もできる。
プ20b、20c、20dのうち寿命を超えたもの、具
体的にはランプ切れや性能劣化を生じたものを、露光装
置の動作中に未使用のハロゲンランプと取り替えること
もできる。
【0056】図6は、図5に示す露光処理のシーケンス
の変形例を説明するフローチャートである。このシーケ
ンスは、ハロゲンランプ20aを交換することによって
アライメントセンサの位置検出の特性に変化が生じてし
まうような場合に対応したものである。
の変形例を説明するフローチャートである。このシーケ
ンスは、ハロゲンランプ20aを交換することによって
アライメントセンサの位置検出の特性に変化が生じてし
まうような場合に対応したものである。
【0057】このシーケンスでは、アライメントマーク
の位置計測処理中にステップS32でランプ交換が必要
と判断された場合、ステップS31でランプ交換を行っ
た後、さらにステップS22に戻ってアライメントセン
サのキャリブレーション処理を再度実行する。そして、
ステップS23に示すアライメントマークの位置検出を
第1マークからやり直す。これにより、ランプ交換によ
って生じたセンサの特性変化を補正し、適正な処理を継
続することができる。
の位置計測処理中にステップS32でランプ交換が必要
と判断された場合、ステップS31でランプ交換を行っ
た後、さらにステップS22に戻ってアライメントセン
サのキャリブレーション処理を再度実行する。そして、
ステップS23に示すアライメントマークの位置検出を
第1マークからやり直す。これにより、ランプ交換によ
って生じたセンサの特性変化を補正し、適正な処理を継
続することができる。
【0058】この場合、露光装置の停止中やショット露
光処理(ステップS24)等の間に通常の動作と平行し
てランプ交換を行った場合にも、次のウェハWでアライ
メントセンサを使用することから、アライメントセンサ
のキャリブレーションが必要となる。このため、ステッ
プS121では、アライメントセンサのキャリブレーシ
ョンの必要性の判断基準として、図5のステップS21
の場合の判断基準に加えて、最後にキャリブレーション
を行ってからランプ交換が行われたかどうかという事項
が加わっており、このようなランプ交換が行われている
場合にはキャリブレーションを実行するという判断がな
される。
光処理(ステップS24)等の間に通常の動作と平行し
てランプ交換を行った場合にも、次のウェハWでアライ
メントセンサを使用することから、アライメントセンサ
のキャリブレーションが必要となる。このため、ステッ
プS121では、アライメントセンサのキャリブレーシ
ョンの必要性の判断基準として、図5のステップS21
の場合の判断基準に加えて、最後にキャリブレーション
を行ってからランプ交換が行われたかどうかという事項
が加わっており、このようなランプ交換が行われている
場合にはキャリブレーションを実行するという判断がな
される。
【0059】図7は、図2及び図3に示すランプホルダ
411の変形例を説明する図である。図示のランプホル
ダ411では、ハロゲンランプ20a、20b、20
c、20dの近傍に各ハロゲンランプが未使用であるか
使用済みであるかを示す状態インジケータ413a、4
13b、413c、413dを付加している。状態イン
ジケータ413a、413b、413c、413dは、
それぞれがランプ20a、20b、20c、20dの状
態を示している。この場合、ランプ制御処理部90が各
ハロゲンランプ20a、20b、20c、20dの状態
も管理し、例えば未使用の場合は青で、使用済みになる
と赤になる等のように状態インジケータを変化させるこ
とによって作業者に各ハロゲンランプの状態を認識させ
ることができ、ランプ交換の作業性を高めることができ
る。
411の変形例を説明する図である。図示のランプホル
ダ411では、ハロゲンランプ20a、20b、20
c、20dの近傍に各ハロゲンランプが未使用であるか
使用済みであるかを示す状態インジケータ413a、4
13b、413c、413dを付加している。状態イン
ジケータ413a、413b、413c、413dは、
それぞれがランプ20a、20b、20c、20dの状
態を示している。この場合、ランプ制御処理部90が各
ハロゲンランプ20a、20b、20c、20dの状態
も管理し、例えば未使用の場合は青で、使用済みになる
と赤になる等のように状態インジケータを変化させるこ
とによって作業者に各ハロゲンランプの状態を認識させ
ることができ、ランプ交換の作業性を高めることができ
る。
【0060】〔第2実施形態〕図8は、第2実施形態の
アライメント装置を組み込んだ露光装置の要部を説明す
る図である。この露光装置は、第1実施形態のアライメ
ント装置でFIA方式とした第2アライメント光学系6
0を、レーザ光をアライメントマークに照射して回折・
散乱光を検出するLSA方式の第2アライメント光学系
160に変更したもので、他の共通部分については重複
説明を省略する。この第2アライメント系はオフ・アク
シス方式の配置となっている。
アライメント装置を組み込んだ露光装置の要部を説明す
る図である。この露光装置は、第1実施形態のアライメ
ント装置でFIA方式とした第2アライメント光学系6
0を、レーザ光をアライメントマークに照射して回折・
散乱光を検出するLSA方式の第2アライメント光学系
160に変更したもので、他の共通部分については重複
説明を省略する。この第2アライメント系はオフ・アク
シス方式の配置となっている。
【0061】レーザ光源161aからのビームLB2
は、レジストが感光性を有しないHe−Neレーザ等の
赤色光である。このビームLB2は、ビーム整形光学系
162を通り、一対のビームスプリッタ165,169
を介して対物レンズ166に入射する。対物レンズ16
6から出射したビームLB2は、投影レンズPLの鏡筒
下方に45゜に斜設されたミラー167で反射され、投
影レンズPLの外側に光軸AXと平行に入射し、ウェハ
W上にスリット状のスポット光SPを結像する。
は、レジストが感光性を有しないHe−Neレーザ等の
赤色光である。このビームLB2は、ビーム整形光学系
162を通り、一対のビームスプリッタ165,169
を介して対物レンズ166に入射する。対物レンズ16
6から出射したビームLB2は、投影レンズPLの鏡筒
下方に45゜に斜設されたミラー167で反射され、投
影レンズPLの外側に光軸AXと平行に入射し、ウェハ
W上にスリット状のスポット光SPを結像する。
【0062】スポット光SPによってウェハW上のアラ
イメントマークを検出するには、ウェハステージSTを
スポット光SPに対して水平移動させる。スポット光S
PがウェハW上のアライメントマークを相対走査する
と、アライメントマークからは散乱光、回折光等が生
じ、アライメントマークとスポット光SPの相対位置に
よって光量が変化していく。このような光情報は、ビー
ムLB2の送光路に沿って逆進し、ミラー167、及び
対物レンズ166を通り、ビームスプリッタ165で反
射されて、受光素子168に達する。受光素子168の
受光面はアライメントマークからの散乱光や回折光のみ
を受光する。
イメントマークを検出するには、ウェハステージSTを
スポット光SPに対して水平移動させる。スポット光S
PがウェハW上のアライメントマークを相対走査する
と、アライメントマークからは散乱光、回折光等が生
じ、アライメントマークとスポット光SPの相対位置に
よって光量が変化していく。このような光情報は、ビー
ムLB2の送光路に沿って逆進し、ミラー167、及び
対物レンズ166を通り、ビームスプリッタ165で反
射されて、受光素子168に達する。受光素子168の
受光面はアライメントマークからの散乱光や回折光のみ
を受光する。
【0063】この受光素子8からの各光電信号は、第1
実施形態で説明した第1アライメント光学系50の場合
と同様の処理により、アライメントマークの中心がスポ
ット光SPの中心と一致したときのウェハステージST
の座標位置として、マーク位置情報AP2を出力する。
実施形態で説明した第1アライメント光学系50の場合
と同様の処理により、アライメントマークの中心がスポ
ット光SPの中心と一致したときのウェハステージST
の座標位置として、マーク位置情報AP2を出力する。
【0064】レーザ光源161aから出力されるビーム
LB2の強度は、ビームスプリッタ169で反射され
て、光量センサ416’で監視されている。光量センサ
416’の出力がレーザ光源161aの性能劣化等の消
耗を検出した場合、或いはレーザ光源161aの使用時
間が上限値に達した場合は、使用中のレーザ光源161
aの交換が必要と判断される。このように光源の交換が
必要とされた場合、ランプホルダ411を回転させて使
用中のレーザ光源161aを他のレーザ光源161b、
161c、161dと交換する。
LB2の強度は、ビームスプリッタ169で反射され
て、光量センサ416’で監視されている。光量センサ
416’の出力がレーザ光源161aの性能劣化等の消
耗を検出した場合、或いはレーザ光源161aの使用時
間が上限値に達した場合は、使用中のレーザ光源161
aの交換が必要と判断される。このように光源の交換が
必要とされた場合、ランプホルダ411を回転させて使
用中のレーザ光源161aを他のレーザ光源161b、
161c、161dと交換する。
【0065】以上、実施形態に即してこの発明を説明し
たがこの発明は上記実施形態に限定されるものではな
い。例えば、第1実施形態のアライメント露光装置で
は、第2アライメント光学系60として、FIA方式の
ものを用いているが、ウェハW上に形成された回折格子
状のアライメントマークに周波数を僅かに変えたレーザ
光を2方向から照射し、発生した2つの回折光を干渉さ
せてその位相からアライメントマークの位置情報を検出
するLIA(レーザ・インタフェロメトリック・アライ
メント)方式(特開昭61−215905号公報参照)
のものとしてよい。なお、以上の説明では、オフ・アク
シス方式の第2アライメント光学系としてFIA方式、
LIS方式、及びLIA方式のものを用いているが、こ
れらは、アライメント処理に要求される検出精度、検出
スピード等の種々のアライメント特性に応じて適宜使い
分けられる。
たがこの発明は上記実施形態に限定されるものではな
い。例えば、第1実施形態のアライメント露光装置で
は、第2アライメント光学系60として、FIA方式の
ものを用いているが、ウェハW上に形成された回折格子
状のアライメントマークに周波数を僅かに変えたレーザ
光を2方向から照射し、発生した2つの回折光を干渉さ
せてその位相からアライメントマークの位置情報を検出
するLIA(レーザ・インタフェロメトリック・アライ
メント)方式(特開昭61−215905号公報参照)
のものとしてよい。なお、以上の説明では、オフ・アク
シス方式の第2アライメント光学系としてFIA方式、
LIS方式、及びLIA方式のものを用いているが、こ
れらは、アライメント処理に要求される検出精度、検出
スピード等の種々のアライメント特性に応じて適宜使い
分けられる。
【0066】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のアライメント装置によれば、制御装置が判断装置の判
断結果に基づいて設置装置を制御して照明可能状態に設
置された第1又は第2光源部品を第2又は第1光源部品
と交換させるので、光源部品の交換の作業性が高まる。
また、人が交換作業を行う場合に比較して露光装置の停
止時間を短く抑えることも可能になる。
のアライメント装置によれば、制御装置が判断装置の判
断結果に基づいて設置装置を制御して照明可能状態に設
置された第1又は第2光源部品を第2又は第1光源部品
と交換させるので、光源部品の交換の作業性が高まる。
また、人が交換作業を行う場合に比較して露光装置の停
止時間を短く抑えることも可能になる。
【0067】また、好ましい態様によれば、光源部品の
交換に際して露光装置の動作が停止しないので、露光装
置の稼働効率が高まる。つまり、アライメント装置の光
源部品は露光装置の露光処理シーケンスの中の一部分で
のみ使用されるものであり、このような光源部品の場
合、シーケンス中でその光源部品が使用されていない時
間内に収まるように光源部品を交換することとすれば、
露光装置を停止することなく光源部品を交換することが
可能である。
交換に際して露光装置の動作が停止しないので、露光装
置の稼働効率が高まる。つまり、アライメント装置の光
源部品は露光装置の露光処理シーケンスの中の一部分で
のみ使用されるものであり、このような光源部品の場
合、シーケンス中でその光源部品が使用されていない時
間内に収まるように光源部品を交換することとすれば、
露光装置を停止することなく光源部品を交換することが
可能である。
【0068】また、好ましい態様によれば、制御装置が
アライメント装置がキャリブレーション中又は特定のア
ライメントマークの検出中のいずれかである場合を回避
して光源部品を交換するので、光源部品を使用していな
い間に光源部品を自動的に交換することができる。
アライメント装置がキャリブレーション中又は特定のア
ライメントマークの検出中のいずれかである場合を回避
して光源部品を交換するので、光源部品を使用していな
い間に光源部品を自動的に交換することができる。
【0069】また、好ましい態様によれば、光源部品の
交換後にアライメント装置のキャリブレーションをやり
直すので、光源部品の交換によってアライメント装置の
特性が変わった場合にも、キャリブレーションの精度を
維持することができる。
交換後にアライメント装置のキャリブレーションをやり
直すので、光源部品の交換によってアライメント装置の
特性が変わった場合にも、キャリブレーションの精度を
維持することができる。
【0070】また、好ましい態様によれば、特定のアラ
イメントマークの検出直後に制御装置が光源部品を交換
した場合、特定のアライメントマークの検出をやり直す
ので、光源部品の交換によってアライメント装置の特性
が変わった場合にも、位置検出の精度を維持することが
できる。
イメントマークの検出直後に制御装置が光源部品を交換
した場合、特定のアライメントマークの検出をやり直す
ので、光源部品の交換によってアライメント装置の特性
が変わった場合にも、位置検出の精度を維持することが
できる。
【0071】また、好ましい態様によれば、照明不可能
状態の第1又は第2光源部品が露光動作を停止すること
なく未使用の第3の光源部品と取り替え可能であるの
で、アライメント装置が連続して動作する時間をより長
くすることができる。
状態の第1又は第2光源部品が露光動作を停止すること
なく未使用の第3の光源部品と取り替え可能であるの
で、アライメント装置が連続して動作する時間をより長
くすることができる。
【0072】また、好ましい態様によれば、アライメン
ト装置がアライメントマークを画像情報として検出する
光学センサを含み、光源部品がアライメントマークを照
明する広波長帯域の光源ランプを含むので、画像処理に
よって位置検出を行うタイプのアライメント装置の光源
ランプの交換が容易となる。
ト装置がアライメントマークを画像情報として検出する
光学センサを含み、光源部品がアライメントマークを照
明する広波長帯域の光源ランプを含むので、画像処理に
よって位置検出を行うタイプのアライメント装置の光源
ランプの交換が容易となる。
【図1】第1実施形態の露光装置の全体構造を示した図
である。
である。
【図2】図1の露光装置の要部を説明する図である。
【図3】図2に示す部分の動作を説明する図である。
【図4】図3のランプ制御処理部の構成を説明するブロ
ック図である。
ック図である。
【図5】図1の露光装置の露光動作を説明するフローチ
ャートである。
ャートである。
【図6】図5のフローチャートを変形したフローチャー
トである。
トである。
【図7】図2及び図3に示すランプホルダに状態インジ
ケータを付加した変形例を説明する図である。
ケータを付加した変形例を説明する図である。
投影レンズPL レチクルR ウェハW 第1アライメント光学系50 第2アライメント光学系60 LSA演算ユニット9 FIA演算ユニット35 80 主制御系 90 ランプ制御処理装置 91 使用時間管理部 92 使用時間表示部 93 部品交換警告表示部 95 効果必要性判断部 97 ランプホルダ制御部 411 ランプホルダ 413 ランプハウス 414 ランプハウス(可動部) 416 光量センサ
Claims (7)
- 【請求項1】 感光基板にマスクのパターンを転写する
際にアライメントマークを観察するアライメント装置に
おいて、 前記アライメントマークを照明する第1及び第2光源部
品を設けるとともに、前記第1又は第2光源部品を照明
可能状態と照明不可能状態とに交換可能に設置する設置
装置と、 照明可能状態に設置された前記第1又は第2光源部品の
使用時間を計測する計時装置と、 照明可能状態に設置された前記第1又は第2光源部品が
所定の性能を保持しているが否かをモニタするモニタ装
置と、 前記計時装置及び前記モニタ装置からの情報に基づい
て、照明可能状態に設置された前記第1又は第2光源部
品の交換の必要性を判断する判断装置と、 前記判断装置の判断結果に基づいて前記設置装置を制御
して、照明可能状態に設置された前記第1又は第2光源
部品を前記第2又は第1光源部品と交換させる制御装置
とを備えることを特徴とするアライメント装置。 - 【請求項2】 前記制御装置は、前記感光基板に前記マ
スクのパターンを転写する露光動作を停止することなく
前記光源部品を交換することを特徴とする請求項1記載
のアライメント装置。 - 【請求項3】 前記アライメント装置は、前記感光基板
に前記マスクのパターンを転写する投影レンズに対し、
前記光源部品からの照明光を通さないオフ・アクシス系
であり、前記制御装置は、前記アライメント装置がキヤ
リブレーション中又は特定のアライメントマークの検出
中のいずれがである場合を回避して、前記光源部品を交
換することを特徴とする請求項2記載のアライメント装
置。 - 【請求項4】 前記制御装置が前記光源部品を交換した
場合、前記アライメント装置のキャリブレーションをや
り直すことを特徴とする請求項3記載のアライメント装
置。 - 【請求項5】 前記アライメント装置による特定のアラ
イメントマークの検出直後に前記制御装置が前記光源部
品を交換した場合、前記アライメント装置による前記特
定のアライメントマークの検出をやり直すことを特徴と
する請求項3記載のアライメント装置。 - 【請求項6】 前記設置装置に取り付けられた前記光源
部品のうち照明不可能状態の前記第1又は第2光源部品
は、前記感光基板に前記マスクのパターンを転写する露
光動作を停止することなく、未便用の第3の光源部品と
取り替え可能であることを特徴とする請求項1記載のア
ライメント装置。 - 【請求項7】 前記アライメント装置は、アライメント
マークを画像情報として検出する光学センサを含み、前
記光源部品は、前記アライメントマークを照明する広波
長帯域の光源ランプを含むことを特徴とする請求項1記
載のアライメント装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9261156A JPH1187237A (ja) | 1997-09-10 | 1997-09-10 | アライメント装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9261156A JPH1187237A (ja) | 1997-09-10 | 1997-09-10 | アライメント装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1187237A true JPH1187237A (ja) | 1999-03-30 |
Family
ID=17357896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9261156A Withdrawn JPH1187237A (ja) | 1997-09-10 | 1997-09-10 | アライメント装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1187237A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005093792A1 (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Nikon Corporation | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| WO2007007746A1 (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-18 | Nikon Corporation | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
-
1997
- 1997-09-10 JP JP9261156A patent/JPH1187237A/ja not_active Withdrawn
Cited By (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9885959B2 (en) | 2003-04-09 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9760014B2 (en) | 2003-10-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US10281632B2 (en) | 2003-11-20 | 2019-05-07 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10007194B2 (en) | 2004-02-06 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10234770B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| WO2005093792A1 (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Nikon Corporation | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| JP4671051B2 (ja) * | 2004-03-25 | 2011-04-13 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| JPWO2005093792A1 (ja) * | 2004-03-25 | 2008-02-14 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| JP5353005B2 (ja) * | 2005-07-11 | 2013-11-27 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
| WO2007007746A1 (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-18 | Nikon Corporation | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101247898B1 (ko) | 위치 검출 장치, 노광 장치, 디바이스 제조 방법, 위치 검출 방법 및 노광 방법 | |
| US7551262B2 (en) | Exposure apparatus having a position detecting system and a wavelength detector | |
| TWI729380B (zh) | 測量設備、曝光設備和製造物品的方法 | |
| EP1589792B1 (en) | Light source apparatus and exposure apparatus having the same | |
| JP2013511825A (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
| JPS62183522A (ja) | 投影露光方法及び装置 | |
| TWI771783B (zh) | 微影裝置、圖案形成方法以及物品的製造方法 | |
| EP1564593A2 (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
| JPH06204113A (ja) | 投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法 | |
| US8345221B2 (en) | Aberration measurement method, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| JPH10170399A (ja) | 収差測定方法及び収差測定装置並びにそれを備えた露光装置及びデバイス製造方法 | |
| JP5346985B2 (ja) | 計測装置、露光装置、デバイスの製造方法及び計測方法 | |
| JP2000260698A (ja) | 投影露光装置およびそれを用いた半導体デバイスの製造方法 | |
| JP3900601B2 (ja) | 露光条件選択方法、及び該方法で使用される検査装置 | |
| US20100134775A1 (en) | Exposure apparatus and device manufacturing method | |
| JP2010016317A (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
| JPH10141915A (ja) | 投影露光装置及び方法 | |
| JP2006041046A (ja) | 光電計測装置及び露光装置 | |
| JP2002025880A (ja) | 投影露光装置、投影露光方法、光洗浄方法および半導体デバイスの製造方法 | |
| JP2006078283A (ja) | 位置計測装置、該位置計測装置を備えた露光装置及び該位置計測装置を使用する露光方法 | |
| US8411250B2 (en) | Exposure apparatus and device manufacturing method | |
| JPH11251230A (ja) | 位置検出装置、露光装置及び位置検出方法 | |
| JPH11251233A (ja) | 投影露光装置、アライメント装置およびアライメント方法 | |
| KR101521193B1 (ko) | 광학 특성의 계측 방법 및 광학 특성의 계측 장치, 광학 특성의 조정 방법, 노광 장치, 노광 방법 및 노광 장치의 제조 방법 | |
| JP2011129653A (ja) | 計測方法及び露光装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20041207 |