JPH1190359A - オーバーフロー式スクラブ洗浄方法及び装置 - Google Patents
オーバーフロー式スクラブ洗浄方法及び装置Info
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- JPH1190359A JPH1190359A JP9273971A JP27397197A JPH1190359A JP H1190359 A JPH1190359 A JP H1190359A JP 9273971 A JP9273971 A JP 9273971A JP 27397197 A JP27397197 A JP 27397197A JP H1190359 A JPH1190359 A JP H1190359A
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- liquid
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- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0402—Apparatus for fluid treatment
- H10P72/0406—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H10P72/0411—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H10P72/0416—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
- B08B1/32—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members
- B08B1/34—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members rotating about an axis parallel to the surface
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
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- B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
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- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 洗浄液を十分に供給しながらワークを確実に
洗浄することができる、洗浄効果の勝れたスクラブ洗浄
手段を得る。 【解決手段】 内槽２Ａ内に下方から上方に向けて洗浄
液３を連続的に供給して槽上部からオーバーフローさせ
ながら、この洗浄液中に板状のワークＷを液流と平行に
向けて全浸漬し、該ワークＷを洗浄液３の上昇流の中に
おいて洗浄ブラシ３９で洗浄する。
洗浄することができる、洗浄効果の勝れたスクラブ洗浄
手段を得る。 【解決手段】 内槽２Ａ内に下方から上方に向けて洗浄
液３を連続的に供給して槽上部からオーバーフローさせ
ながら、この洗浄液中に板状のワークＷを液流と平行に
向けて全浸漬し、該ワークＷを洗浄液３の上昇流の中に
おいて洗浄ブラシ３９で洗浄する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク基板
やガラス基板、その他のセラミック基板、各種の電子部
品や光学部品又は機械部品のような、実質的に平板形を
したワークをブラシで洗浄するためのスクラブ洗浄方法
及び装置に関するものである。
やガラス基板、その他のセラミック基板、各種の電子部
品や光学部品又は機械部品のような、実質的に平板形を
したワークをブラシで洗浄するためのスクラブ洗浄方法
及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク基板のような平板状をした
ワークを洗浄ブラシで洗浄するスクラブ洗浄装置は、例
えば特開昭６１−８７３４号公報や実公平４−２２４１
１号公報等に記載されているように、従来より公知であ
る。従来のこの種のスクラブ洗浄装置は、一般に、洗浄
液を噴射するためのノズルを有し、このノズルから洗浄
液をシャワー状に噴射しながらワークを洗浄ブラシで洗
浄するものであった。
ワークを洗浄ブラシで洗浄するスクラブ洗浄装置は、例
えば特開昭６１−８７３４号公報や実公平４−２２４１
１号公報等に記載されているように、従来より公知であ
る。従来のこの種のスクラブ洗浄装置は、一般に、洗浄
液を噴射するためのノズルを有し、このノズルから洗浄
液をシャワー状に噴射しながらワークを洗浄ブラシで洗
浄するものであった。
【０００３】ところが、このようにノズルから洗浄液を
噴射しながら洗浄する方法は、ワークの汚れが比較的軽
度で洗浄液をそれほど大量に供給する必要がない場合に
は適しているが、例えば加工直後で研磨剤やその他の汚
れが未だ付着しているワークを洗浄する場合のように、
付着した汚れを確実に落とすと同時に、落ちた汚れを確
実に洗い流してワークやブラシに再付着するのを防止す
るために、大量の洗浄液を供給しながら洗浄しなければ
ならないような場合には、上記ノズルを通じて供給し得
る洗浄液の量には限度があるため、必ずしも適している
とはいえなかった。また、ノズルから大量の洗浄液を高
速で噴射すると、この洗浄液がワークなどに当って周囲
に飛散するため、飛散防止のためにフードを設けるなど
の安全対策を講じる必要があった。
噴射しながら洗浄する方法は、ワークの汚れが比較的軽
度で洗浄液をそれほど大量に供給する必要がない場合に
は適しているが、例えば加工直後で研磨剤やその他の汚
れが未だ付着しているワークを洗浄する場合のように、
付着した汚れを確実に落とすと同時に、落ちた汚れを確
実に洗い流してワークやブラシに再付着するのを防止す
るために、大量の洗浄液を供給しながら洗浄しなければ
ならないような場合には、上記ノズルを通じて供給し得
る洗浄液の量には限度があるため、必ずしも適している
とはいえなかった。また、ノズルから大量の洗浄液を高
速で噴射すると、この洗浄液がワークなどに当って周囲
に飛散するため、飛散防止のためにフードを設けるなど
の安全対策を講じる必要があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の主要な技術的
課題は、洗浄液を十分に且つ万遍なく供給しながらワー
クを確実に洗浄することができる、洗浄効果の勝れたス
クラブ洗浄方法及び装置を提供することにある。
課題は、洗浄液を十分に且つ万遍なく供給しながらワー
クを確実に洗浄することができる、洗浄効果の勝れたス
クラブ洗浄方法及び装置を提供することにある。
【０００５】本発明の従属的な技術的課題は、ワークか
ら落とした汚れを洗浄液で直ちに洗い流すことができ
て、その汚れがワークや洗浄ブラシに再付着することの
ない、再付着防止効果の勝れたスクラブ洗浄方法及び装
置を提供することにある。
ら落とした汚れを洗浄液で直ちに洗い流すことができ
て、その汚れがワークや洗浄ブラシに再付着することの
ない、再付着防止効果の勝れたスクラブ洗浄方法及び装
置を提供することにある。
【０００６】本発明の他の従属的な技術的課題は、洗浄
液が周囲に飛散することのない、安全でクリーンなスク
ラブ洗浄方法及び装置を提供することにある。
液が周囲に飛散することのない、安全でクリーンなスク
ラブ洗浄方法及び装置を提供することにある。
【０００７】本発明の更に他の従属的な技術的課題は、
簡単なシール機構によって洗浄液の漏洩を確実に防止で
きるスクラブ洗浄装置を提供することにある。
簡単なシール機構によって洗浄液の漏洩を確実に防止で
きるスクラブ洗浄装置を提供することにある。
【０００８】本発明の更に他の従属的な技術的課題は、
構造が簡単で部品の加工が容易なスクラブ洗浄装置を提
供することにある。
構造が簡単で部品の加工が容易なスクラブ洗浄装置を提
供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、洗浄槽内に下方から上方に向けて洗浄液
を連続的に供給して槽上部からオーバーフローさせなが
ら、この洗浄液中に、トレーに支持された板状のワーク
を液流と平行に向けて浸漬し、該ワークを洗浄液の流れ
の中において洗浄ブラシで洗浄するものである。
め、本発明は、洗浄槽内に下方から上方に向けて洗浄液
を連続的に供給して槽上部からオーバーフローさせなが
ら、この洗浄液中に、トレーに支持された板状のワーク
を液流と平行に向けて浸漬し、該ワークを洗浄液の流れ
の中において洗浄ブラシで洗浄するものである。
【００１０】これにより本発明においては、ワークを洗
浄液中に浸漬した状態でブラシ洗浄しているため、洗浄
効果に非常に勝れ、付着した汚れを簡単且つ確実に落と
すことができる。しかも、洗浄槽内に単に溜めただけの
洗浄液でブラシ洗浄するのではなく、洗浄液を上昇流と
して洗浄槽からオーバーフローさせながら、その流れの
中で洗浄するようにしたので、ワークから落ちた汚れは
該洗浄液と共にオーバーフローして速やかに槽外に排出
され、ワークや洗浄ブラシに再付着することがない。特
に、ワークの上半部に洗浄ブラシを当てて、上昇する洗
浄液の流れの下流側において該ワークを洗浄することに
より、落ちた汚れが直ちにワークから離れて槽外にオー
バーフローするため、再付着防止効果が非常に高くな
る。
浄液中に浸漬した状態でブラシ洗浄しているため、洗浄
効果に非常に勝れ、付着した汚れを簡単且つ確実に落と
すことができる。しかも、洗浄槽内に単に溜めただけの
洗浄液でブラシ洗浄するのではなく、洗浄液を上昇流と
して洗浄槽からオーバーフローさせながら、その流れの
中で洗浄するようにしたので、ワークから落ちた汚れは
該洗浄液と共にオーバーフローして速やかに槽外に排出
され、ワークや洗浄ブラシに再付着することがない。特
に、ワークの上半部に洗浄ブラシを当てて、上昇する洗
浄液の流れの下流側において該ワークを洗浄することに
より、落ちた汚れが直ちにワークから離れて槽外にオー
バーフローするため、再付着防止効果が非常に高くな
る。
【００１１】本発明の１つの具体的な構成態様によれ
ば、上記洗浄槽が、洗浄液をオーバーフローさせる内槽
と、オーバーフローした洗浄液を受ける外槽とからなる
二重構造をしていて、上記外槽の底壁を昇降手段におけ
る昇降シャフトが昇降自在に貫通し、該昇降シャフトの
上部に上記トレーが取り付けられている。そして、上記
昇降シャフトの回りは、外槽の底壁上に下端部を液密に
固定されて立ち上がった防液用のパイプ部材で取り囲ま
れ、このパイプ部材の高さは、内槽から洗浄液がオーバ
ーフローする位置より高く形成されている。
ば、上記洗浄槽が、洗浄液をオーバーフローさせる内槽
と、オーバーフローした洗浄液を受ける外槽とからなる
二重構造をしていて、上記外槽の底壁を昇降手段におけ
る昇降シャフトが昇降自在に貫通し、該昇降シャフトの
上部に上記トレーが取り付けられている。そして、上記
昇降シャフトの回りは、外槽の底壁上に下端部を液密に
固定されて立ち上がった防液用のパイプ部材で取り囲ま
れ、このパイプ部材の高さは、内槽から洗浄液がオーバ
ーフローする位置より高く形成されている。
【００１２】このように構成することにより、内槽から
オーバーフローした洗浄液が外槽の底壁と昇降シャフト
との間の摺動部に流入するのを、上記パイプ部材で確実
に防止することができる。従って、上記摺動部には簡単
なシール機構を設けるだけで良く、シール機構の簡略化
に伴って装置の構造も簡略化され、部品の加工や組み立
ても容易になる。
オーバーフローした洗浄液が外槽の底壁と昇降シャフト
との間の摺動部に流入するのを、上記パイプ部材で確実
に防止することができる。従って、上記摺動部には簡単
なシール機構を設けるだけで良く、シール機構の簡略化
に伴って装置の構造も簡略化され、部品の加工や組み立
ても容易になる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るオーバーフロ
ー式スクラブ洗浄装置の一実施例について図面を参照し
ながら詳細に説明する。図１及び図２において、１は洗
浄装置の機体であって、一部のみが示されており、この
機体１の上部には、ワークＷを洗浄するための洗浄槽２
が設けられている。
ー式スクラブ洗浄装置の一実施例について図面を参照し
ながら詳細に説明する。図１及び図２において、１は洗
浄装置の機体であって、一部のみが示されており、この
機体１の上部には、ワークＷを洗浄するための洗浄槽２
が設けられている。
【００１４】上記洗浄槽２は、底部から洗浄液３を連続
的に供給して槽上部からオーバーフローさせるように構
成された高さの低い内槽２Ａと、該内槽２Ａの回りを取
り囲み、オーバーフローした洗浄液を受けるための高さ
の高い外槽２Ｂとを備えた、二重構造をしている。
的に供給して槽上部からオーバーフローさせるように構
成された高さの低い内槽２Ａと、該内槽２Ａの回りを取
り囲み、オーバーフローした洗浄液を受けるための高さ
の高い外槽２Ｂとを備えた、二重構造をしている。
【００１５】上記内槽２Ａの内底部には、洗浄液を供給
するための給液管４が吐出口４ａを下に向けて配設され
ている。この給液管４は、図示しない給液源に接続さ
れ、この給液源から水、純水、洗剤溶液、化学薬液等の
洗浄液が供給されるようになっている。該給液管４の吐
出口４ａから下向きに吐出された洗浄液３は、槽底に反
射して上方に向きを変え、上昇流として槽内を上昇した
あと、槽壁上端からオーバーフローする。
するための給液管４が吐出口４ａを下に向けて配設され
ている。この給液管４は、図示しない給液源に接続さ
れ、この給液源から水、純水、洗剤溶液、化学薬液等の
洗浄液が供給されるようになっている。該給液管４の吐
出口４ａから下向きに吐出された洗浄液３は、槽底に反
射して上方に向きを変え、上昇流として槽内を上昇した
あと、槽壁上端からオーバーフローする。
【００１６】上記洗浄液が内槽２Ａ内を上昇するときの
流速は、一般には３〜１５ｍｍ／ｓｅｃ程度であるが、
ワークの種類や汚染度、洗浄液の種類等によって好適な
流速は異なる。
流速は、一般には３〜１５ｍｍ／ｓｅｃ程度であるが、
ワークの種類や汚染度、洗浄液の種類等によって好適な
流速は異なる。
【００１７】上記洗浄液３の上昇流を一様な流れの平行
流とするため、上記内槽２Ａの内部における給液管４の
上方位置には、複数の通水孔５ａを備えた整流板５が設
けられている。この整流板５は、金属製又は合成樹脂製
のプレートに所望の開口率で上記通水孔を穿設したもの
で、図示の例ではこのような整流板５が１枚だけ設けら
れているが、それを適当な間隔で複数枚適当な間隔で設
けることもできる。複数枚設ける場合は、それらの開口
率は同じであっても違っていても良い。あるいは、上述
したような穿孔プレート製の整流板５に代えて、不織布
のような繊維プレート製の整流板を使用することもで
き、穿孔プレート製の整流板と繊維プレート製の整流板
を併用することもできる。
流とするため、上記内槽２Ａの内部における給液管４の
上方位置には、複数の通水孔５ａを備えた整流板５が設
けられている。この整流板５は、金属製又は合成樹脂製
のプレートに所望の開口率で上記通水孔を穿設したもの
で、図示の例ではこのような整流板５が１枚だけ設けら
れているが、それを適当な間隔で複数枚適当な間隔で設
けることもできる。複数枚設ける場合は、それらの開口
率は同じであっても違っていても良い。あるいは、上述
したような穿孔プレート製の整流板５に代えて、不織布
のような繊維プレート製の整流板を使用することもで
き、穿孔プレート製の整流板と繊維プレート製の整流板
を併用することもできる。
【００１８】上記外槽２Ｂの底壁には、内槽２Ａからオ
ーバーフローした洗浄液３を排出するための排出口８が
形成され、この排出口８が回収管９を介して回収タンク
１０に接続されている。この回収タンク１０に回収した
洗浄液は、それを浄化して循環的に再使用することもで
きる。
ーバーフローした洗浄液３を排出するための排出口８が
形成され、この排出口８が回収管９を介して回収タンク
１０に接続されている。この回収タンク１０に回収した
洗浄液は、それを浄化して循環的に再使用することもで
きる。
【００１９】上記洗浄槽２の内部には、円板状をした複
数のワークＷを平行且つ縦向きに支持するトレー１３が
設けられ、このトレー１３が、昇降手段１４により、洗
浄液３中にワークＷが実質的に全浸漬する洗浄位置（図
１，２の実線位置）と、洗浄液３からワークＷが実質的
に全体として露出する非洗浄位置（図２の鎖線位置）と
の間で昇降自在となっている。ここでいう「実質的に全
浸漬する」とは、ワークが必ずしも完全に洗浄液中に浸
漬していなくても、それに近い状態にあれば良いことを
意味する。
数のワークＷを平行且つ縦向きに支持するトレー１３が
設けられ、このトレー１３が、昇降手段１４により、洗
浄液３中にワークＷが実質的に全浸漬する洗浄位置（図
１，２の実線位置）と、洗浄液３からワークＷが実質的
に全体として露出する非洗浄位置（図２の鎖線位置）と
の間で昇降自在となっている。ここでいう「実質的に全
浸漬する」とは、ワークが必ずしも完全に洗浄液中に浸
漬していなくても、それに近い状態にあれば良いことを
意味する。
【００２０】上記トレー１３は、図３及び図４からも分
かるように、内槽２Ａ内に挿入可能な長さを有する基台
１６と、該基台１６上に間隔をおいて立設した左右一対
のフレーム１７，１７と、これらのフレーム１７，１７
間に、ワークＷの下半部を支持し得るように該ワークＷ
と同心の円周に沿って取り付けられた、回転自在の複数
の支持棒１８とからなっている。これらの各支持棒１８
には、ワークＷの外周部分が嵌合する複数の周溝１８ａ
が軸方向に一定間隔で形成され、これらの各周溝１８ａ
の位置でワークＷが縦向きに支持されるようになってい
る。上記基台１６は、洗浄液の上昇流の妨げとならない
よう、空隙の多い構造とすることが望ましい。
かるように、内槽２Ａ内に挿入可能な長さを有する基台
１６と、該基台１６上に間隔をおいて立設した左右一対
のフレーム１７，１７と、これらのフレーム１７，１７
間に、ワークＷの下半部を支持し得るように該ワークＷ
と同心の円周に沿って取り付けられた、回転自在の複数
の支持棒１８とからなっている。これらの各支持棒１８
には、ワークＷの外周部分が嵌合する複数の周溝１８ａ
が軸方向に一定間隔で形成され、これらの各周溝１８ａ
の位置でワークＷが縦向きに支持されるようになってい
る。上記基台１６は、洗浄液の上昇流の妨げとならない
よう、空隙の多い構造とすることが望ましい。
【００２１】上記トレー１３を昇降させる昇降手段１４
は、内槽２Ａの外側において外槽２Ｂの底壁を昇降自在
に貫通する昇降シャフト２０を、内槽２Ａの両側に２本
ずつ備えている。これらの各昇降シャフト２０の上端に
それぞれ板状の部材２１が取り付けられ、該部材２１の
内槽２Ａ側の端部から下向きに延びる吊棒２２の下端
に、上記トレー１３の基台１６が固定されている。図中
２３は、上記昇降シャフト２０の昇降を案内するガイド
である。
は、内槽２Ａの外側において外槽２Ｂの底壁を昇降自在
に貫通する昇降シャフト２０を、内槽２Ａの両側に２本
ずつ備えている。これらの各昇降シャフト２０の上端に
それぞれ板状の部材２１が取り付けられ、該部材２１の
内槽２Ａ側の端部から下向きに延びる吊棒２２の下端
に、上記トレー１３の基台１６が固定されている。図中
２３は、上記昇降シャフト２０の昇降を案内するガイド
である。
【００２２】上記各昇降シャフト２０の下端は共通のプ
レート２４に固定され、該プレート２４の中央部にはナ
ット部材２５が取り付けられ、該ナット部材２５が螺子
棒２６に螺合している。この螺子棒２６は、その上下端
が洗浄槽２の底部と機体１とに回転自在に支持され、そ
の下端部に取り付けた歯車２７を介してモータ２８に連
結されており、該モータ２８により螺子棒２６が駆動回
転されると、上記ナット部材２５がこの螺子棒２６に沿
って上下動し、それによって上記トレー１３が洗浄位置
と非洗浄位置との間を昇降する。
レート２４に固定され、該プレート２４の中央部にはナ
ット部材２５が取り付けられ、該ナット部材２５が螺子
棒２６に螺合している。この螺子棒２６は、その上下端
が洗浄槽２の底部と機体１とに回転自在に支持され、そ
の下端部に取り付けた歯車２７を介してモータ２８に連
結されており、該モータ２８により螺子棒２６が駆動回
転されると、上記ナット部材２５がこの螺子棒２６に沿
って上下動し、それによって上記トレー１３が洗浄位置
と非洗浄位置との間を昇降する。
【００２３】内槽２Ａからオーバーフローした洗浄液が
上記昇降シャフト２０と外槽底壁との摺動部分に入り込
むのを防止するため、上記外槽２Ｂの底壁上には、防液
用のパイプ部材３０が上記昇降シャフト２０を取り囲む
ように立設されている。このパイプ部材３０の高さは、
洗浄液３が内槽２Ａからオーバーフローする位置（図示
の例では内槽の高さ）よりも高く形成され、且つ該パイ
プ部材３０の下端は、外槽２Ｂの底壁に熔接等の手段に
よって液密に固定されており、これにより、該パイプ部
材３０の上端からも下端からも洗浄液が内部に入り込ま
ないようになっている。
上記昇降シャフト２０と外槽底壁との摺動部分に入り込
むのを防止するため、上記外槽２Ｂの底壁上には、防液
用のパイプ部材３０が上記昇降シャフト２０を取り囲む
ように立設されている。このパイプ部材３０の高さは、
洗浄液３が内槽２Ａからオーバーフローする位置（図示
の例では内槽の高さ）よりも高く形成され、且つ該パイ
プ部材３０の下端は、外槽２Ｂの底壁に熔接等の手段に
よって液密に固定されており、これにより、該パイプ部
材３０の上端からも下端からも洗浄液が内部に入り込ま
ないようになっている。
【００２４】各昇降シャフト２０の上端に固定された上
記部材２１の下面には、上記パイプ部材３０を覆い隠す
ように伸縮自在のベローズ３１が取り付けられ、このベ
ローズ３１によって、パイプ部材３０の上端部から洗浄
液が侵入するのを防止している。この場合、ベローズ３
１の下端は外槽２Ｂの底壁に固定しても固定しなくても
良い。しかし、通常の使用状態ではパイプ部材３０の上
端部から洗浄液が流入することはないため、上記ベロー
ズ３１を必ずしも設ける必要はない。
記部材２１の下面には、上記パイプ部材３０を覆い隠す
ように伸縮自在のベローズ３１が取り付けられ、このベ
ローズ３１によって、パイプ部材３０の上端部から洗浄
液が侵入するのを防止している。この場合、ベローズ３
１の下端は外槽２Ｂの底壁に固定しても固定しなくても
良い。しかし、通常の使用状態ではパイプ部材３０の上
端部から洗浄液が流入することはないため、上記ベロー
ズ３１を必ずしも設ける必要はない。
【００２５】上記洗浄槽２内には、洗浄液中に浸漬した
上記ワークＷを洗浄するためのブラシ手段３５が設けら
れている。このブラシ手段３５は、内槽２Ａの上部にお
いて外槽２Ｂの内部を水平に横断する回転自在の第１軸
３６と、該第１軸３６上に一対の支持アーム３７ａ，３
７ｂを介して回転自在に支持された水平なブラシ軸３８
と、該ブラシ軸３８上に一定間隔で取り付けられた複数
の洗浄ブラシ３９とを備えている。
上記ワークＷを洗浄するためのブラシ手段３５が設けら
れている。このブラシ手段３５は、内槽２Ａの上部にお
いて外槽２Ｂの内部を水平に横断する回転自在の第１軸
３６と、該第１軸３６上に一対の支持アーム３７ａ，３
７ｂを介して回転自在に支持された水平なブラシ軸３８
と、該ブラシ軸３８上に一定間隔で取り付けられた複数
の洗浄ブラシ３９とを備えている。
【００２６】上記洗浄ブラシ３９は、図３及び図４から
明らかなように、アルミニウム等の金属やセラミックス
又は合成樹脂等からなる円板形をした基板４１の両面
に、スポンジ質や繊維質、あるいはその他の柔軟で洗浄
能力のある適宜の材質からなる洗浄部材４２を一体成形
により突設したもので、上記ブラシ軸３８上に、上記ト
レー１３に支持されたワークＷと同じ間隔で、且つ隣接
する洗浄ブラシ３９の丁度真ん中に該ワークＷが位置す
るような位置関係で、固定的に取り付けられている。
明らかなように、アルミニウム等の金属やセラミックス
又は合成樹脂等からなる円板形をした基板４１の両面
に、スポンジ質や繊維質、あるいはその他の柔軟で洗浄
能力のある適宜の材質からなる洗浄部材４２を一体成形
により突設したもので、上記ブラシ軸３８上に、上記ト
レー１３に支持されたワークＷと同じ間隔で、且つ隣接
する洗浄ブラシ３９の丁度真ん中に該ワークＷが位置す
るような位置関係で、固定的に取り付けられている。
【００２７】上記第１軸３６の大径部３６ａ側の端部
は、洗浄槽２の外部において操作アーム４４を介してシ
リンダ４５のロッド４５ａに連結され、このロッド４５
ａの伸縮により、図３及び図４に示すように洗浄ブラシ
３９の一部がワークＷの上半部と交わる洗浄位置と、図
１及び図２に示すように洗浄ブラシ３９がワークＷから
離間する非洗浄位置との間を、回動するようになってい
る。
は、洗浄槽２の外部において操作アーム４４を介してシ
リンダ４５のロッド４５ａに連結され、このロッド４５
ａの伸縮により、図３及び図４に示すように洗浄ブラシ
３９の一部がワークＷの上半部と交わる洗浄位置と、図
１及び図２に示すように洗浄ブラシ３９がワークＷから
離間する非洗浄位置との間を、回動するようになってい
る。
【００２８】上記大径部３６ａ内には、ブラシ駆動用の
第２軸４７が回転自在に内蔵されている。この第２軸４
７の一端は、一方の支持アーム３７ａに内蔵された伝導
機構を介して上記ブラシ軸３８に連結され、第２軸４７
の他端は、洗浄槽２の外部において図示しない駆動源に
連結され、この駆動源で上記ブラシ軸３８を駆動回転で
きるように構成されている。
第２軸４７が回転自在に内蔵されている。この第２軸４
７の一端は、一方の支持アーム３７ａに内蔵された伝導
機構を介して上記ブラシ軸３８に連結され、第２軸４７
の他端は、洗浄槽２の外部において図示しない駆動源に
連結され、この駆動源で上記ブラシ軸３８を駆動回転で
きるように構成されている。
【００２９】上記洗浄ブラシ３９は、図３及び図４に示
すように、洗浄液３中に実質的に全浸漬するワークＷと
部分的に交わった状態で例えば矢印方向に回転すること
により、洗浄液３の流れの中で該ワークＷの両面を洗浄
するものである。このとき各ワークＷは、洗浄ブラシ３
９との摩擦力で矢印方向に従動的に回転し、その全面が
洗浄される。また、上記洗浄ブラシ３９は、下半部が洗
浄液３に半浸漬した状態にある。上記洗浄ブラシ３９の
洗浄時における好ましい回転速度は、ワークの種類や洗
浄液の種類、洗浄液の流速等の洗浄条件によっても異な
るが、一般的には５０〜１００ｒ．ｐ．ｍ．程度であ
る。
すように、洗浄液３中に実質的に全浸漬するワークＷと
部分的に交わった状態で例えば矢印方向に回転すること
により、洗浄液３の流れの中で該ワークＷの両面を洗浄
するものである。このとき各ワークＷは、洗浄ブラシ３
９との摩擦力で矢印方向に従動的に回転し、その全面が
洗浄される。また、上記洗浄ブラシ３９は、下半部が洗
浄液３に半浸漬した状態にある。上記洗浄ブラシ３９の
洗浄時における好ましい回転速度は、ワークの種類や洗
浄液の種類、洗浄液の流速等の洗浄条件によっても異な
るが、一般的には５０〜１００ｒ．ｐ．ｍ．程度であ
る。
【００３０】上記洗浄ブラシ３９による洗浄中にワーク
Ｗがトレー１３から脱落するのを防止するため、ワーク
押え手段４９が設けられている。この押え手段４９は、
外槽２Ｂを貫通する回転自在の支軸５０と、該支軸５０
に取り付けた一対の支持アーム５１，５１と、これらの
支持アーム５１，５１間に回転自在に取り付けられた押
えローラ５２とを有し、槽外において上記支軸５０に連
結した駆動手段（図示せず）で該支軸５０を一定角度往
復回転させることにより、上記押えローラ５２を、図２
及び図３から分かるように、ワークＷに当接する押え位
置と、ワークＷから離間する待機位置とに回動させるも
のである。
Ｗがトレー１３から脱落するのを防止するため、ワーク
押え手段４９が設けられている。この押え手段４９は、
外槽２Ｂを貫通する回転自在の支軸５０と、該支軸５０
に取り付けた一対の支持アーム５１，５１と、これらの
支持アーム５１，５１間に回転自在に取り付けられた押
えローラ５２とを有し、槽外において上記支軸５０に連
結した駆動手段（図示せず）で該支軸５０を一定角度往
復回転させることにより、上記押えローラ５２を、図２
及び図３から分かるように、ワークＷに当接する押え位
置と、ワークＷから離間する待機位置とに回動させるも
のである。
【００３１】上記洗浄槽２内にはまた、図２に示すよう
に、非洗浄位置に移動する洗浄ブラシ３９に洗浄液を噴
射するための第１シャワー手段５４と、洗浄が終了して
洗浄液３から引き上げられるワークＷに洗浄液を噴射す
るための第２シャワー手段５５とが設けられ、これらの
シャワー手段５４，５５により、上記洗浄ブラシ３９及
びワークＷに対する汚れの再付着防止と乾燥防止とが図
られるようになっている。
に、非洗浄位置に移動する洗浄ブラシ３９に洗浄液を噴
射するための第１シャワー手段５４と、洗浄が終了して
洗浄液３から引き上げられるワークＷに洗浄液を噴射す
るための第２シャワー手段５５とが設けられ、これらの
シャワー手段５４，５５により、上記洗浄ブラシ３９及
びワークＷに対する汚れの再付着防止と乾燥防止とが図
られるようになっている。
【００３２】上記構成を有する洗浄装置において、研磨
等の前工程から送られて来た複数のワークＷが、図示し
ないローディング機構により、図２の鎖線に示す非洗浄
位置に待機しているトレー１３に供給されると、該トレ
ー１３は昇降手段１４により実線の洗浄位置まで下降
し、支持したワークＷを内槽２Ａ内の洗浄液３中に実質
的に全浸漬させる。
等の前工程から送られて来た複数のワークＷが、図示し
ないローディング機構により、図２の鎖線に示す非洗浄
位置に待機しているトレー１３に供給されると、該トレ
ー１３は昇降手段１４により実線の洗浄位置まで下降
し、支持したワークＷを内槽２Ａ内の洗浄液３中に実質
的に全浸漬させる。
【００３３】上記内槽２Ａ内においては、底部に設けた
給液管４を通じて洗浄液３が連続的に供給されており、
供給された洗浄液３は、上昇流となって内槽２Ａ内を上
昇したあと、槽壁上端からオーバーフローしている。
給液管４を通じて洗浄液３が連続的に供給されており、
供給された洗浄液３は、上昇流となって内槽２Ａ内を上
昇したあと、槽壁上端からオーバーフローしている。
【００３４】ワークＷが洗浄液３中に全浸漬されると、
図３及び図４に示すように、押え手段４９が作動して押
えローラ５２がワークＷの側面に当接し、そのあと引き
続いてブラシ手段３５が洗浄位置に移動し、各洗浄ブラ
シ３９がワークＷと部分的に交わった状態で例えば矢印
方向に回転することにより、洗浄液３の上昇流の中で該
ワークＷの両面が洗浄される。このとき各ワークＷは、
洗浄ブラシ３９との摩擦力で矢印方向に従動的に回転
し、その全面が洗浄される。また、上記洗浄ブラシ３９
は、下半部が洗浄液３中に半浸漬した状態にある。
図３及び図４に示すように、押え手段４９が作動して押
えローラ５２がワークＷの側面に当接し、そのあと引き
続いてブラシ手段３５が洗浄位置に移動し、各洗浄ブラ
シ３９がワークＷと部分的に交わった状態で例えば矢印
方向に回転することにより、洗浄液３の上昇流の中で該
ワークＷの両面が洗浄される。このとき各ワークＷは、
洗浄ブラシ３９との摩擦力で矢印方向に従動的に回転
し、その全面が洗浄される。また、上記洗浄ブラシ３９
は、下半部が洗浄液３中に半浸漬した状態にある。
【００３５】上記洗浄は、ワークＷ全体が常に洗浄液３
と接触した状態で行われるため、シャワーで限られた量
の洗浄液を噴射する従来の洗浄に比べ、ワークＷと洗浄
液３との接触がより確実になって付着した汚れが落ち易
く、洗浄液が外部に飛散することもない。しかも、洗浄
液をオーバーフローさせながらその流れの中でブラシ洗
浄するため、ワークＷから落ちた汚れが該洗浄液と共に
オーバーフローして速やかに槽外に排出され、ワークＷ
や洗浄ブラシ３９に再付着することがない。特に、ワー
クＷの上半部に洗浄ブラシ３９を当てることにより、槽
内を上向きに流れる洗浄液の下流側において該ワークＷ
を洗浄するようにしているため、落ちた汚れは直ちにワ
ークＷから離れて槽外に速やかに排出され、ワークＷの
上流側（下半部側）に回り込んで該ワークＷに再付着す
ることがない。
と接触した状態で行われるため、シャワーで限られた量
の洗浄液を噴射する従来の洗浄に比べ、ワークＷと洗浄
液３との接触がより確実になって付着した汚れが落ち易
く、洗浄液が外部に飛散することもない。しかも、洗浄
液をオーバーフローさせながらその流れの中でブラシ洗
浄するため、ワークＷから落ちた汚れが該洗浄液と共に
オーバーフローして速やかに槽外に排出され、ワークＷ
や洗浄ブラシ３９に再付着することがない。特に、ワー
クＷの上半部に洗浄ブラシ３９を当てることにより、槽
内を上向きに流れる洗浄液の下流側において該ワークＷ
を洗浄するようにしているため、落ちた汚れは直ちにワ
ークＷから離れて槽外に速やかに排出され、ワークＷの
上流側（下半部側）に回り込んで該ワークＷに再付着す
ることがない。
【００３６】また、上記洗浄ブラシ３９の回転によりそ
の位置で洗浄液の流れの方向が一部横向きに変えられる
が、該洗浄ブラシ３９が内槽２Ａの上端部即ち洗浄液流
の最も下流側に位置していることと、変えられる流れの
方向がほぼ横向きでオーバーフローする洗浄液の流れに
沿った方向であること等の理由により、却ってオーバー
フローに伴う汚れの排出が促進され、汚れの排出効率が
良くなる。
の位置で洗浄液の流れの方向が一部横向きに変えられる
が、該洗浄ブラシ３９が内槽２Ａの上端部即ち洗浄液流
の最も下流側に位置していることと、変えられる流れの
方向がほぼ横向きでオーバーフローする洗浄液の流れに
沿った方向であること等の理由により、却ってオーバー
フローに伴う汚れの排出が促進され、汚れの排出効率が
良くなる。
【００３７】上記洗浄が終了すると、洗浄ブラシ３９が
図１及び図２に示す非洗浄位置に回動すると共に、押え
ローラ５２も同様に待機位置に回動し、そのあと、昇降
手段１４によりトレー１３が図２に示す非洗浄位置に上
昇して、図示しないアンローディング機構によりワーク
Ｗが取り出される。
図１及び図２に示す非洗浄位置に回動すると共に、押え
ローラ５２も同様に待機位置に回動し、そのあと、昇降
手段１４によりトレー１３が図２に示す非洗浄位置に上
昇して、図示しないアンローディング機構によりワーク
Ｗが取り出される。
【００３８】非洗浄位置に移動する上記洗浄ブラシ３９
には、第１シャワー手段５４により洗浄液が噴射され、
また、洗浄液から引き上げられて非洗浄位置に向けて上
昇中のワークＷにも、第２シャワー手段５５から洗浄液
が噴射され、汚れの再付着防止と乾燥防止とが図られ
る。
には、第１シャワー手段５４により洗浄液が噴射され、
また、洗浄液から引き上げられて非洗浄位置に向けて上
昇中のワークＷにも、第２シャワー手段５５から洗浄液
が噴射され、汚れの再付着防止と乾燥防止とが図られ
る。
【００３９】ワークＷが取り出された後のトレー１３に
は、ローディング機構により未洗浄ワークＷが供給さ
れ、上記洗浄工程が繰り返される。
は、ローディング機構により未洗浄ワークＷが供給さ
れ、上記洗浄工程が繰り返される。
【００４０】なお、洗浄効果を高めるため上記洗浄槽２
には、内槽２Ａの底面又は側面あるいは上面の何れか
に、洗浄液３中に超音波を照射するための超音波照射手
段を設けることができる。あるいは、洗浄液３中に気体
又は蒸気等の気泡を吹き込むためのバブリング手段を設
けることもできる。これらの超音波照射手段とバブリン
グ手段は併用することも可能である。
には、内槽２Ａの底面又は側面あるいは上面の何れか
に、洗浄液３中に超音波を照射するための超音波照射手
段を設けることができる。あるいは、洗浄液３中に気体
又は蒸気等の気泡を吹き込むためのバブリング手段を設
けることもできる。これらの超音波照射手段とバブリン
グ手段は併用することも可能である。
【００４１】
【発明の効果】このように本発明によれば、洗浄槽内を
下方から上方に向けて連続的に流れる洗浄液の上昇流中
でワークをブラシ洗浄することにより、ワークに付着し
た汚れを簡単且つ確実に落とすことができるばかりでな
く、落とした汚れを洗浄液のオーバーフローと共に速や
かに槽外に排出させて、ワークや洗浄ブラシに再付着す
るのを確実に防止することができる。また、洗浄液をノ
ズルで洗浄部に吹き付ける従来方法のように洗浄液が周
囲に飛散することがなく、安全且つクリーンである。
下方から上方に向けて連続的に流れる洗浄液の上昇流中
でワークをブラシ洗浄することにより、ワークに付着し
た汚れを簡単且つ確実に落とすことができるばかりでな
く、落とした汚れを洗浄液のオーバーフローと共に速や
かに槽外に排出させて、ワークや洗浄ブラシに再付着す
るのを確実に防止することができる。また、洗浄液をノ
ズルで洗浄部に吹き付ける従来方法のように洗浄液が周
囲に飛散することがなく、安全且つクリーンである。
【図１】本発明に係る洗浄装置の一実施例を示す縦断正
面図である。
面図である。
【図２】図１の洗浄装置の縦断側面図である。
【図３】ワークの洗浄状態における図１の要部拡大図で
ある。
ある。
【図４】図３の側断面図である。
２ 洗浄槽 ２Ａ 内槽 ２Ｂ 外槽 ３ 洗浄液 ５ 整流板 １３ トレー １４ 昇降手段 ２０ 昇降シャフ
ト ２８ モータ ３０ パイプ部材 ３１ ベローズ ３５ ブラシ手段 ３９ 洗浄ブラシ ５４，５５ シャ
ワー手段
ト ２８ モータ ３０ パイプ部材 ３１ ベローズ ３５ ブラシ手段 ３９ 洗浄ブラシ ５４，５５ シャ
ワー手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１ Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１Ｔ
Claims (15)
- 【請求項１】洗浄槽内に下方から上方に向けて洗浄液を
連続的に供給して槽上部からオーバーフローさせなが
ら、この洗浄液中に板状のワークを液流と平行に浸漬
し、該ワークを洗浄液の流れの中において洗浄ブラシで
洗浄することを特徴とするオーバーフロー式スクラブ洗
浄方法。 - 【請求項２】請求項１に記載の洗浄方法において、ワー
クの上半部に洗浄ブラシを当てることにより、上昇する
洗浄液の流れの下流側において該ワークを洗浄すること
を特徴とするもの。 - 【請求項３】請求項１又は２に記載の洗浄方法におい
て、洗浄液中に気泡の吹き込み又は超音波照射の少なく
ともいずれか一方を行いながら洗浄するもの。 - 【請求項４】洗浄液を下方から上方に向けて連続的に供
給することにより槽上部からオーバーフローさせる洗浄
槽；板状のワークを縦向きに支持して、上記洗浄液中に
浸漬させる昇降自在のトレー；上記トレーを、ワークが
洗浄液中に浸漬する洗浄位置と洗浄液から露出する非洗
浄位置との間で昇降させる昇降手段；駆動回転自在の洗
浄ブラシを有していて、該洗浄ブラシにより、上記トレ
ーに支持されて洗浄液中に浸漬するワークを該洗浄液の
流れの中で洗浄するブラシ手段；を有することを特徴と
するオーバーフロー式スクラブ洗浄装置。 - 【請求項５】洗浄液を下方から上方に向けて連続的に供
給することにより槽上部からオーバーフローさせる洗浄
槽；板状をした複数のワークを縦向きに支持して、上記
洗浄液中に浸漬させる昇降自在のトレー；上記トレー
を、ワークが洗浄液中に浸漬する洗浄位置と洗浄液から
露出する非洗浄位置との間で昇降させる昇降手段；駆動
回転自在の複数の洗浄ブラシを備えていて、これらの洗
浄ブラシを上記トレーに支持されて洗浄液中に浸漬した
ワークの上半部に当てることにより、該ワークを洗浄液
の流れの中において下流側の位置で洗浄するブラシ手
段；を有することを特徴とするオーバーフロー式スクラ
ブ洗浄装置。 - 【請求項６】請求項４又は５に記載の洗浄装置におい
て、非洗浄位置に移動する洗浄ブラシ及びワークに対し
て洗浄液を噴射するためのシャワー手段を備えているも
の。 - 【請求項７】請求項４乃至６の何れかに記載の洗浄装置
において、洗浄ブラシによるワークの洗浄時に該ワーク
がトレーから外れるのを防止するため、該ワークを押さ
えるワーク押さえ手段を有するもの。 - 【請求項８】請求項４乃至７の何れかに記載の洗浄装置
において、洗浄液を平行流化するための整流手段を有す
るもの。 - 【請求項９】請求項４乃至８の何れかに記載の洗浄装置
において、洗浄液中に気泡を吹き込むためのバブリング
手段又は超音波を照射するための超音波照射手段の少な
くともいずれか一方を有するもの。 - 【請求項１０】洗浄液を下方から上方に向けて連続的に
供給して槽上部からオーバーフローさせる内槽と、該内
槽の回りを取り囲み、オーバーフローした洗浄液を受け
る外槽とからなる二重構造の洗浄槽；板状をした複数の
ワークを縦向きに支持して、上記洗浄液中に浸漬させる
昇降自在のトレー；上記内槽の外部において外槽の底壁
を昇降自在に貫通し、上部に上記トレーが取り付けられ
ている昇降シャフトと、該昇降シャフトを昇降させる駆
動源とを有し、上記トレーをワークが洗浄液中に浸漬す
る洗浄位置と、洗浄液から露出する非洗浄位置との間で
昇降させる昇降手段；外槽の底壁上に上記昇降シャフト
を取り囲むように立設されている、高さが洗浄液のオー
バーフロー位置より高く且つ下端部が外槽の底壁に液密
に固定された防液用のパイプ部材；駆動回転自在の洗浄
ブラシを有していて、該洗浄ブラシにより、上記トレー
に支持されて洗浄液中に浸漬したワークを該洗浄液の流
れの中で洗浄するブラシ手段；を有することを特徴とす
るオーバーフロー式スクラブ洗浄装置。 - 【請求項１１】請求項１０に記載の洗浄装置において、
上記パイプ部材の上端部分を覆うようにベローズが取り
付けられているもの。 - 【請求項１２】請求項１０又は１１に記載の洗浄装置に
おいて、非洗浄位置に移動する洗浄ブラシ及びワークに
洗浄液を噴射するためのシャワー手段を備えているも
の。 - 【請求項１３】請求項１０乃至１２の何れかに記載の洗
浄装置において、洗浄ブラシによるワークの洗浄時に該
ワークがトレーから外れるのを防止するため、該ワーク
を押さえるワーク押え手段を有するもの。 - 【請求項１４】請求項１０乃至１３の何れかに記載の洗
浄装置において、洗浄液を平行流化するための整流手段
を有するもの。 - 【請求項１５】請求項１０乃至１４の何れかに記載の洗
浄装置において、洗浄液中に気泡を吹き込むためのバブ
リング手段又は超音波を照射するための超音波照射手段
の少なくともいずれか一方を有するもの。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9273971A JPH1190359A (ja) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | オーバーフロー式スクラブ洗浄方法及び装置 |
| US09/136,516 US6112355A (en) | 1997-09-19 | 1998-08-19 | Overflow scrub-washing method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9273971A JPH1190359A (ja) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | オーバーフロー式スクラブ洗浄方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1190359A true JPH1190359A (ja) | 1999-04-06 |
Family
ID=17535137
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9273971A Pending JPH1190359A (ja) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | オーバーフロー式スクラブ洗浄方法及び装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6112355A (ja) |
| JP (1) | JPH1190359A (ja) |
Cited By (8)
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|---|---|---|---|---|
| JP2007105624A (ja) * | 2005-10-13 | 2007-04-26 | Hitachi High-Technologies Corp | ディスク洗浄装置 |
| JP2007117897A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-17 | Hitachi High-Technologies Corp | ディスク洗浄装置 |
| JP2010166043A (ja) * | 2008-12-17 | 2010-07-29 | Toho Kasei Kk | ウェハ端部処理装置 |
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| JP2011140007A (ja) * | 2010-01-08 | 2011-07-21 | Omron Healthcare Co Ltd | 薄板部材洗浄装置 |
| KR20180104282A (ko) * | 2015-09-16 | 2018-09-20 | 타이코 일렉트로닉스 (상하이) 컴퍼니 리미티드 | 세정 시스템 |
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| US6457199B1 (en) * | 2000-10-12 | 2002-10-01 | Lam Research Corporation | Substrate processing in an immersion, scrub and dry system |
| JP5535687B2 (ja) * | 2010-03-01 | 2014-07-02 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄方法及び基板洗浄装置 |
| CN106040628A (zh) * | 2016-05-06 | 2016-10-26 | 常州市大备智能物联网科技有限公司 | 一种方便实用的密封件清洗装置 |
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| CN115458439B (zh) * | 2022-08-26 | 2024-05-28 | 曲靖阳光新能源股份有限公司 | 一种带喷淋功能的清洗机用慢提拉槽体 |
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| US5723019A (en) * | 1994-07-15 | 1998-03-03 | Ontrak Systems, Incorporated | Drip chemical delivery method and apparatus |
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| JP3050524B2 (ja) * | 1996-05-09 | 2000-06-12 | スピードファムクリーンシステム株式会社 | ワーク搬送用キャリヤ装置 |
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-
1997
- 1997-09-19 JP JP9273971A patent/JPH1190359A/ja active Pending
-
1998
- 1998-08-19 US US09/136,516 patent/US6112355A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6112355A (en) | 2000-09-05 |
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